EA035428B1 - Способ изготовления жидкокристаллической панели - Google Patents

Способ изготовления жидкокристаллической панели Download PDF

Info

Publication number
EA035428B1
EA035428B1 EA201791399A EA201791399A EA035428B1 EA 035428 B1 EA035428 B1 EA 035428B1 EA 201791399 A EA201791399 A EA 201791399A EA 201791399 A EA201791399 A EA 201791399A EA 035428 B1 EA035428 B1 EA 035428B1
Authority
EA
Eurasian Patent Office
Prior art keywords
substrate
matrix
filter
smoothing layer
liquid crystal
Prior art date
Application number
EA201791399A
Other languages
English (en)
Other versions
EA201791399A1 (ru
Inventor
Яньси Е
Original Assignee
Шэньчжэнь Чайна Стар Оптоэлектроникс Текнолоджи Ко., Лтд.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Шэньчжэнь Чайна Стар Оптоэлектроникс Текнолоджи Ко., Лтд. filed Critical Шэньчжэнь Чайна Стар Оптоэлектроникс Текнолоджи Ко., Лтд.
Publication of EA201791399A1 publication Critical patent/EA201791399A1/ru
Publication of EA035428B1 publication Critical patent/EA035428B1/ru

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1345—Conductors connecting electrodes to cell terminals
    • G02F1/13454—Drivers integrated on the active matrix substrate
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133357—Planarisation layers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133388—Constructional arrangements; Manufacturing methods with constructional differences between the display region and the peripheral region
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1341—Filling or closing of cells
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

Предоставлен способ изготовления жидкокристаллической панели, включающий формирование подложки матрицы; формирование подложки светофильтра; размещение сглаживающего слоя светофильтра на подложке светофильтра и размещение углубления на сглаживающем слое светофильтра на подложке светофильтра; создание жидкокристаллической ячейки путем использования подложки матрицы и подложки светофильтра и заполнение жидкокристаллической ячейки молекулами жидких кристаллов; и формирование выступа на подложке матрицы в первой области деформации подложки матрицы. Предотвращено появление неравномерных зазоров в жидкокристаллической ячейке.

Description

Область техники, к которой относится изобретение
Настоящее изобретение относится к области жидкокристаллических дисплеев, и в частности к способу изготовления жидкокристаллической панели.
Предпосылки изобретения
Развитие технологий и появление смартфонов и планшетов выдвинуло высокие технические требования к жидкокристаллическим панелям средних или малых размеров. Одним из аспектов является жидкокристаллическая панель с тонкой рамкой.
При одинаковой отображающей площади неотображающая область по краям жидкокристаллической панели может быть уменьшена путем использования конструкции с тонкой рамкой, с тем, чтобы жидкокристаллическая панель имела небольшой размер. Однако жидкокристаллическая панель обладает большой сложностью конструкции. Например, необходимо увеличить использование пространства схем драйвера. Рамка снаружи стороны, содержащей схему драйвера, традиционных жидкокристаллических панелей среднего класса и высокого класса составляет приблизительно 5 мм.
Тем не менее, рамка на стороне, содержащей схему драйвера, расположена вблизи эффективной отображающей площади (АА площади) жидкокристаллической панели, так что стеклянная подложка АА площади расширяется под воздействием тепла из-за того, что местная температура слишком высока при соединении микросхем драйвера, и она выступает к внутренней стороне жидкокристаллической панели. Таким образом, зазор жидкокристаллической ячейки в области, где происходит расширение за счет тепла, становится меньше и образуются дефекты, связанные с неравномерной яркостью.
Следовательно, для решения вышеописанных технических проблем необходимо предоставить способ изготовления жидкокристаллической панели.
Сущность изобретения
Цель настоящего изобретения заключается в предоставлении способа изготовления жидкокристаллической панели, при котором можно предотвратить появление неравномерных зазоров в жидкокристаллической ячейке с тем, чтобы решить техническую проблему, вызванную уменьшением отдельных зазоров жидкокристаллической ячейки, что приводит к появлению дефектов, связанных с неравномерной яркостью, при соединении микросхем драйвера в традиционном способе изготовления жидкокристаллической панели.
Для решения вышеупомянутой проблемы техническое решение настоящего изобретения имеет следующий вид:
настоящее изобретение предоставляет способ изготовления жидкокристаллической панели, включающий создание элемента матрицы на первой основе подложки с формированием подложки матрицы;
нанесение первого выравнивающего слоя на отображающей области подложки матрицы;
создание черной матрицы и светофильтра на второй основе подложки с формированием подложки светофильтра;
нанесение сглаживающего слоя светофильтра на подложку светофильтра и формирование углубления на сглаживающем слое светофильтра во второй области деформации подложки светофильтра;
нанесение второго выравнивающего слоя на сглаживающем слое светофильтра подложки светофильтра;
создание жидкокристаллической ячейки путем использования подложки матрицы и подложки светофильтра и заполнение жидкокристаллической ячейки молекулами жидких кристаллов; и соединение микросхемы драйвера на неотображающей области подложки матрицы и формирование выступа на подложке матрицы в первой области деформации подложки матрицы, причем положение первой области деформации подложки матрицы соответствует положению второй области деформации подложки светофильтра; и глубина углубления примерно равна высоте выступа.
Способ изготовления жидкокристаллической панели согласно настоящему изобретению после этапа создания элемента матрицы на первой основе подложки с формированием подложки матрицы дополнительно включает нанесение сглаживающего слоя матрицы на подложку матрицы; и нанесение первого выравнивающего слоя на сглаживающем слое матрицы отображающей области подложки матрицы.
В способе изготовления жидкокристаллической панели согласно настоящему изобретению этап размещения сглаживающего слоя светофильтра на подложке светофильтра и размещения углубления на сглаживающем слое светофильтра во второй области деформации подложки светофильтра дополнительно включает нанесение сглаживающего слоя светофильтра на подложку светофильтра;
структурирование сглаживающего слоя светофильтра путем использования полутоновой маски, таким образом, чтобы углубление сглаживающего слоя светофильтра было сформировано на второй области деформации подложки светофильтра.
В способе изготовления жидкокристаллической панели согласно настоящему изобретению этап размещения сглаживающего слоя светофильтра на подложке светофильтра и размещения углубления на
- 1 035428 сглаживающем слое светофильтра во второй области деформации подложки светофильтра дополнительно включает нанесение первого сглаживающего слоя светофильтра на подложку светофильтра путем использования процесса структурирования, причем первый сглаживающий слой светофильтра не размещают на второй области деформации подложки светофильтра; и нанесение второго сглаживающего слоя светофильтра на подложку светофильтра, оснащенную первым сглаживающим слоем светофильтра, таким образом, чтобы углубление второго сглаживающего слоя светофильтра было сформировано на второй области деформации подложки светофильтра.
Настоящее изобретение дополнительно предоставляет способ изготовления жидкокристаллической панели, включающий создание элемента матрицы на первой основе подложки с формированием подложки матрицы;
создание черной матрицы и светофильтра на второй основе подложки с формированием подложки светофильтра;
нанесение сглаживающего слоя светофильтра на подложку светофильтра и формирование углубления на сглаживающем слое светофильтра во второй области деформации подложки светофильтра;
создание жидкокристаллической ячейки путем использования подложки матрицы и подложки светофильтра и заполнение жидкокристаллической ячейки молекулами жидких кристаллов; и соединение микросхемы драйвера на неотображающей области подложки матрицы и формирование выступа на подложке матрицы в первой области деформации подложки матрицы, причем положение первой области деформации подложки матрицы соответствует положению второй области деформации подложки светофильтра; и глубина углубления примерно равна высоте выступа.
Способ изготовления жидкокристаллической панели согласно настоящему изобретению после этапа создания элемента матрицы на первой основе подложки с формированием подложки матрицы дополнительно включает нанесение первого выравнивающего слоя на отображающей области подложки матрицы.
Способ изготовления жидкокристаллической панели согласно настоящему изобретению после этапа формирования элемента матрицы на первой основе подложки с формированием подложки матрицы дополнительно включает нанесение сглаживающего слоя матрицы на подложку матрицы; и нанесение первого выравнивающего слоя на сглаживающем слое матрицы отображающей области подложки матрицы.
Способ изготовления жидкокристаллической панели согласно настоящему изобретению после этапа размещения сглаживающего слоя светофильтра на подложке светофильтра и размещения углубления на сглаживающем слое светофильтра во второй области деформации подложки светофильтра дополнительно включает нанесение второго выравнивающего слоя на сглаживающем слое светофильтра подложки светофильтра.
В способе изготовления жидкокристаллической панели согласно настоящему изобретению этап размещения сглаживающего слоя светофильтра на подложке светофильтра и размещения углубления на сглаживающем слое светофильтра во второй области деформации подложки светофильтра дополнительно включает нанесение сглаживающего слоя светофильтра на подложку светофильтра;
структурирование сглаживающего слоя светофильтра путем использования полутоновой маски таким образом, чтобы углубление сглаживающего слоя светофильтра было сформировано на второй области деформации подложки светофильтра.
В способе изготовления жидкокристаллической панели согласно настоящему изобретению этап размещения сглаживающего слоя светофильтра на подложке светофильтра и размещения углубления на сглаживающем слое светофильтра во второй области деформации подложки светофильтра дополнительно включает нанесение первого сглаживающего слоя светофильтра на подложку светофильтра путем использования процесса структурирования, причем первый сглаживающий слой светофильтра не размещают на второй области деформации подложки светофильтра; и нанесение второго сглаживающего слоя светофильтра на подложку светофильтра, оснащенную первым сглаживающим слоем светофильтра, таким образом, чтобы углубление второго сглаживающего слоя светофильтра было сформировано на второй области деформации подложки светофильтра.
Настоящее изобретение дополнительно предоставляет способ изготовления жидкокристаллической панели, включающий создание отображающего элемента на первой основе подложки с формированием подложки матрицы;
нанесение сглаживающего слоя матрицы на подложку матрицы и формирование углубления на сглаживающем слое матрицы в первой области деформации подложки матрицы путем использования процесса структурирования;
создание черной матрицы и светофильтра на второй основе подложки с формированием подложки
- 2 035428 светофильтра;
нанесение сглаживающего слоя светофильтра на подложку светофильтра;
создание жидкокристаллической ячейки путем использования подложки матрицы и подложки светофильтра и заполнение жидкокристаллической ячейки молекулами жидких кристаллов; и соединение микросхемы драйвера на неотображающей области подложки матрицы и формирование выступа на подложке матрицы в первой области деформации подложки матрицы, причем глубина углубления примерно равна высоте выступа.
Способ изготовления жидкокристаллической панели согласно настоящему изобретению после этапа размещения сглаживающего слоя матрицы на подложке матрицы и формирования углубления на сглаживающем слое матрицы в первой области деформации подложки матрицы путем использования процесса структурирования дополнительно включает нанесение первого выравнивающего слоя на сглаживающем слое матрицы отображающей области подложки матрицы.
Способ изготовления жидкокристаллической панели согласно настоящему изобретению после этапа размещения сглаживающего слоя светофильтра на подложке светофильтра дополнительно включает нанесение второго выравнивающего слоя на сглаживающем слое светофильтра подложки светофильтра.
Способ изготовления жидкокристаллической панели согласно настоящему изобретению после этапа размещения сглаживающего слоя матрицы на подложке матрицы и формирования углубления на сглаживающем слое матрицы в первой области деформации подложки матрицы путем использования процесса структурирования дополнительно включает нанесение сглаживающего слоя матрицы на подложку матрицы; и структурирование сглаживающего слоя матрицы путем использования полутоновой маски таким образом, чтобы углубление сглаживающего слоя матрицы было сформировано на первой области деформации подложки матрицы.
В способе изготовления жидкокристаллической панели согласно настоящему изобретению этап размещения сглаживающего слоя матрицы на подложке матрицы и формирования углубления на сглаживающем слое матрицы в первой области деформации подложки матрицы путем использования процесса структурирования дополнительно включает нанесение первого сглаживающего слоя светофильтра на подложку матрицы путем использования процесса структурирования, причем первый сглаживающий слой светофильтра подложки матрицы не размещают на первом сглаживающем слое матрицы; и нанесение второго сглаживающего слоя светофильтра на подложку матрицы, оснащенную первым сглаживающим слоем матрицы, таким образом, чтобы углубление сглаживающего слоя матрицы было сформировано на первой области деформации подложки матрицы.
По сравнению с традиционным способом изготовления жидкокристаллической панели, выступ подложки матрицы, образующийся при соединении микросхемы драйвера, сглаживается с помощью сглаживающего слоя светофильтра подложки светофильтра и сглаживающего слоя матрицы подложки матрицы в способе изготовления жидкокристаллической панели согласно настоящему изобретению с тем, чтобы предотвратить появление неравномерных зазоров в жидкокристаллической ячейке и решить техническую проблему, вызванную уменьшением отдельных зазоров жидкокристаллической ячейки, что приводит к появлению дефектов, связанных с неравномерной яркостью, при соединении микросхем драйвера в традиционном способе изготовления жидкокристаллической панели.
Для более ясного представления настоящего изобретения предпочтительные варианты осуществления и графические материалы, изображающие их, подробно описаны ниже.
Краткое описание графических материалов
На фиг. 1 показана блок-схема способа изготовления жидкокристаллической панели согласно первому предпочтительному варианту осуществления настоящего изобретения.
На фиг. 2 показано схематическое изображение, изображающее структуру, сформированную после этапа S105 способа изготовления жидкокристаллической панели, согласно первому предпочтительному варианту осуществления настоящего изобретения.
На фиг. 3 показана первая блок-схема этапа S103 способа изготовления жидкокристаллической панели согласно первому предпочтительному варианту осуществления настоящего изобретения.
На фиг. 4А показана структурная схема, изображающая подложку светофильтра, сформированную после этапа S1O31A способа изготовления жидкокристаллической панели, согласно первому предпочтительному варианту осуществления настоящего изобретения.
На фиг. 4В показана структурная схема, изображающая подложку светофильтра, сформированную перед этапом S1032A способа изготовления жидкокристаллической панели, согласно первому предпочтительному варианту осуществления настоящего изобретения.
На фиг. 5 показана вторая блок-схема этапа S103 способа изготовления жидкокристаллической панели согласно первому предпочтительному варианту осуществления настоящего изобретения.
На фиг. 6 показана структурная схема, изображающая подложку светофильтра, сформированную
- 3 035428 после этапа S1032B способа изготовления жидкокристаллической панели, согласно первому предпочтительному варианту осуществления настоящего изобретения.
На фиг. 7 показана блок-схема способа изготовления жидкокристаллической панели согласно второму предпочтительному варианту осуществления настоящего изобретения.
На фиг. 8 показано схематическое изображение, изображающее структуру, сформированную после этапа S706 способа изготовления жидкокристаллической панели, согласно второму предпочтительному варианту осуществления настоящего изобретения.
На фиг. 9 показана первая блок-схема этапа S702 способа изготовления жидкокристаллической панели согласно второму предпочтительному варианту осуществления настоящего изобретения.
На фиг. 10А показана структурная схема, изображающая подложку светофильтра, сформированную после этапа S7021A способа изготовления жидкокристаллической панели, согласно второму предпочтительному варианту осуществления настоящего изобретения.
На фиг. 10В показана структурная схема, изображающая подложку светофильтра, сформированную перед этапом S7022A способа изготовления жидкокристаллической панели, согласно второму предпочтительному варианту осуществления настоящего изобретения.
На фиг. 11 показана вторая блок-схема этапа S702 способа изготовления жидкокристаллической панели согласно второму предпочтительному варианту осуществления настоящего изобретения.
На фиг. 12 показана структурная схема, изображающая подложку светофильтра, сформированную после этапа S7022B способа изготовления жидкокристаллической панели, согласно второму предпочтительному варианту осуществления настоящего изобретения.
Подробное описание изобретения
Следующие варианты осуществления относятся к сопроводительным графическим материалам для наглядного представления конкретных реализуемых вариантов осуществления настоящего изобретения. Кроме того, термины, обозначающие направление, описанные в настоящем изобретении, такие как верхний, нижний, передний, задний, левый, правый, внутренний, внешний, боковой и т.д., означают направления только при ссылке на сопроводительные графические материалы, и, таким образом, применяемые термины, обозначающие направление, применяются для описания и понимания настоящего изобретения, но настоящее изобретение не ограничено ими.
На графических материалах одинаковые условные обозначения относятся к одинаковым или подобным компонентам.
Рассмотрим фиг. 1 и 2, где на фиг. 1 показана блок-схема способа изготовления жидкокристаллической панели согласно первому предпочтительному варианту осуществления настоящего изобретения, а на фиг. 2 показано схематическое изображение, изображающее структуру, сформированную после этапа S105 способа изготовления жидкокристаллической панели, согласно первому предпочтительному варианту осуществления настоящего изобретения. В этом предпочтительном варианте осуществления способ изготовления жидкокристаллической панели содержит следующее.
На этапе S101 элемент матрицы создают на первой основе подложки с формированием подложки матрицы.
На этапе S102 черную матрицу и светофильтр создают на второй основе подложки с формированием подложки светофильтра.
На этапе S103 сглаживающий слой светофильтра размещают на подложке светофильтра и углубление размещают на сглаживающем слое светофильтра во второй области деформации подложки светофильтра.
На этапе S104 жидкокристаллическую ячейку создают путем использования подложки матрицы и подложки светофильтра и жидкокристаллическую ячейку заполняют молекулами жидких кристаллов.
На этапе S105 микросхему драйвера размещают на неотображающей области подложки матрицы и формируют выступ на подложке матрицы в первой области деформации подложки матрицы.
Конкретные процессы этапов способа изготовления жидкокристаллической панели данного предпочтительного варианта осуществления подробнее описаны ниже.
На этапе S101 элемент матрицы создают на первой основе подложки. Элемент матрицы может представлять собой линию данных, линию развертки, тонкопленочный транзистор, электрод пикселя и т.д. Множество металлических слоев и изолирующих слоев размещают на первой основе подложки. Элемент матрицы создают на первой основе подложки посредством многократных процессов структурирования, тем самым формируя подложку 11 матрицы.
Предпочтительно сглаживающий слой матрицы 13 дополнительно размещают на отображающей области подложки 11 матрицы, первый выравнивающий слой 14 размещают на сглаживающем слое матрицы 13 подложки 11 матрицы, тем самым выравнивая молекулы жидких кристаллов жидкокристаллического слоя под предварительно заданным углом и улучшая скорость отклика жидкокристаллической панели.
На этапе S102 черную матрицу и светофильтр создают на второй основе подложки. Слой черной матрицы и слой светофильтра размещают на второй основе подложки. Черную матрицу 16 и светофильтр создают на второй основе подложки посредством многократных процессов структурирования, тем са- 4 035428 мым формируя подложку 15 светофильтра.
На этапе S103 сглаживающий слой 17 светофильтра размещают на подложке 15 светофильтра, выполненной на этапе S102. Углубление размещают на сглаживающем слое 17 светофильтра во второй области 113 деформации подложки 15 светофильтра. Глубина углубления сглаживающего слоя 17 светофильтра составляет приблизительно 2 мкм.
Предпочтительно второй выравнивающий слой 18 дополнительно размещают на сглаживающем слое 17 светофильтра подложки 15 светофильтра, тем самым выравнивая молекулы жидких кристаллов жидкокристаллического слоя под предварительно заданным углом и улучшая скорость отклика жидкокристаллической панели.
На этапе S104 подложку 11 матрицы, выполненную на этапе S101, и подложку 15 светофильтра, выполненную на этапе S103, собирают в единый узел для создания жидкокристаллической ячейки и затем жидкокристаллическую ячейку заполняют молекулами 19 жидких кристаллов.
На этапе S105 подложка 11 матрицы содержит отображающую область для отображения изображения и содержит неотображающую область 111 для размещения других элементов. Микросхему 12 драйвера размещают на неотображающей области 111 подложки 11 матрицы. Другими словами, микросхему 12 драйвера присоединяют на неотображающей области 111 подложки 11 матрицы. Таким образом, выступ на первой области 112 деформации формируют из отображающей области вблизи микросхемы 12 драйвера подложки 11 матрицы. Положение первой области 112 деформации подложки 11 матрицы соответствует положению второй области 113 деформации подложки 15 светофильтра. Глубина углубления примерно равна высоте выступа.
Согласно фиг. 2 толщина жидкокристаллической ячейки, соответствующей положению выступа на подложке 11 матрицы, сопоставима с толщиной жидкокристаллической ячейки в другой области. Следовательно, выступ на подложке 11 матрицы не приведет к появлению неравномерных зазоров в жидкокристаллической ячейке, и таким образом предотвращается возникновение дефектов, связанных с неравномерной яркостью.
В этом предпочтительном варианте осуществления способ изготовления жидкокристаллической панели завершает этап S105.
В способе изготовления жидкокристаллической панели согласно этому предпочтительному варианту осуществления углубление на подложке светофильтра соответствует выступу на подложке матрицы, тем самым предотвращая отрицательное воздействие выступа подложки матрицы.
Процесс размещения сглаживающего слоя светофильтра, содержащего углубление на подложке светофильтра, подробно описан ниже. Рассмотрим фиг. 3, где показана первая блок-схема этапа S103 способа изготовления жидкокристаллической панели согласно первому предпочтительному варианту осуществления настоящего изобретения. Этап S103 включает следующее.
На этапе S1O31A первый сглаживающий слой 171 светофильтра размещают на подложке 15 светофильтра путем выполнения структурирования с помощью маски, причем первый сглаживающий слой 171 светофильтра не размещают на второй области 113 деформации подложки 15 светофильтра. Рассмотрим фиг. 4А, где показана структурная схема, изображающая подложку светофильтра, сформированную перед этапом S1032A способа изготовления жидкокристаллической панели согласно первому предпочтительному варианту осуществления настоящего изобретения.
На этапе S1032A второй сглаживающий слой 172 светофильтра размещают на подложке 15 светофильтра, оснащенной первым сглаживающим слоем 171 светофильтра. На этапе S1041A, поскольку первый сглаживающий слой 171 светофильтра не размещают на второй области 113 деформации подложки 15 светофильтра, углубление второго сглаживающего слоя 172 светофильтра будет сформировано на второй области 113 деформации подложки 15 светофильтра во время размещения второго сглаживающего слоя 172 светофильтра. Углубление второго сглаживающего слоя 172 светофильтра представляет собой углубление сглаживающего слоя 17 светофильтра на этапе S103. Рассмотрим фиг. 4В, где показана структурная схема, изображающая подложку светофильтра, сформированную перед этапом S1032A способа изготовления жидкокристаллической панели согласно первому предпочтительному варианту осуществления настоящего изобретения.
Другой процесс размещения сглаживающего слоя светофильтра, содержащего углубление на подложке светофильтра, подробно описан ниже. Рассмотрим фиг. 5, где показана вторая блок-схема этапа S103 способа изготовления жидкокристаллической панели согласно первому предпочтительному варианту осуществления настоящего изобретения. Этап S103 включает следующее.
На этапе S1031В сглаживающий слой 17 светофильтра размещают на подложке 15 светофильтра.
На этапе S1O32B сглаживающий слой светофильтра 17 структурируют путем использования полутоновой маски таким образом, чтобы углубление сглаживающего слоя 17 светофильтра было сформировано на второй области 113 деформации подложки 15 светофильтра. Рассмотрим фиг. 6, где показана структурная схема, изображающая подложку светофильтра, сформированную после этапа S1O32B способа изготовления жидкокристаллической панели согласно первому предпочтительному варианту осуществления настоящего изобретения.
В способе изготовления жидкокристаллической панели согласно этому предпочтительному вариан- 5 035428 ту осуществления выступ подложки матрицы, образованный соединением микросхемы драйвера, сглаживают путем использования сглаживающего слоя светофильтра подложки светофильтра с тем, чтобы предотвратить появление неравномерных зазоров в жидкокристаллической ячейке.
Рассмотрим фиг. 7 и 8, где на фиг. 7 показана блок-схема способа изготовления жидкокристаллической панели согласно второму предпочтительному варианту осуществления настоящего изобретения и на фиг. 8 показано схематическое изображение, изображающее структуру, сформированную после этапа S706 способа изготовления жидкокристаллической панели, согласно второму предпочтительному варианту осуществления настоящего изобретения. В этом предпочтительном варианте осуществления способ изготовления жидкокристаллической панели включает следующее.
На этапе S701 элемент матрицы создают на первой основе подложки для того, чтобы сформировать подложку матрицы.
На этапе S702 сглаживающий слой матрицы размещают на подложке матрицы и формируют углубление на сглаживающем слое матрицы в первой области деформации подложки матрицы путем использования процесса структурирования.
На этапе S703 черную матрицу и светофильтр создают на второй основе подложки с формированием подложки светофильтра.
На этапе S704 сглаживающий слой светофильтра размещают на подложке светофильтра.
На этапе S705 жидкокристаллическую ячейку создают путем использования подложки матрицы и подложки светофильтра и жидкокристаллическую ячейку заполняют молекулами жидких кристаллов.
На этапе S706 микросхему драйвера размещают на неотображающей области подложки матрицы для того, чтобы сформировать выступ на подложке матрицы в первой области деформации подложки матрицы. Г лубина углубления примерно равна высоте выступа.
Конкретные процессы этапов способа изготовления жидкокристаллической панели данного предпочтительного варианта осуществления подробнее описаны ниже.
На этапе S701 элемент матрицы создают на первой основе подложки. Элемент матрицы может представлять собой линию данных, линию развертки, тонкопленочный транзистор, электрод пикселя и т.д. Множество металлических слоев и изолирующих слоев размещают на первой основе подложки. Элемент матрицы создают на первой основе подложки посредством многократных процессов структурирования, тем самым формируя подложку 21 матрицы.
На этапе S702 сглаживающий слой 23 матрицы размещают на подложке 21 матрицы и формируют углубление на сглаживающем слое 23 матрицы в первой области 212 деформации подложки 21 матрицы путем использования процесса структурирования.
Предпочтительно первый выравнивающий слой 24 размещают на сглаживающем слое 23 матрицы подложки 21 матрицы, тем самым выравнивая молекулы жидких кристаллов жидкокристаллического слоя под предварительно заданным углом и улучшая скорость отклика жидкокристаллической панели.
На этапе S703 черную матрицу и светофильтр создают на второй основе подложки. Черную матрицу и светофильтр размещают на второй основе подложки и черную матрицу 26 и светофильтр (не показаны на фигурах) создают на второй основе подложки посредством многократных процессов структурирования, тем самым формируя подложку 25 светофильтра.
На этапе S704 сглаживающий слой светофильтра 27 размещают на подложке 25 светофильтра, выполненной на этапе S102.
Предпочтительно второй выравнивающий слой 28 дополнительно размещают на сглаживающем слое светофильтра 27 подложки 25 светофильтра, тем самым выравнивая молекулы жидких кристаллов жидкокристаллического слоя под предварительно заданным углом и улучшая скорость отклика жидкокристаллической панели.
На этапе S705 подложку 21 матрицы, выполненную на этапе S702, и подложку 25 светофильтра, выполненную на этапе S704, собирают в единый узел для создания жидкокристаллической ячейки и затем жидкокристаллическую ячейку заполняют молекулами 29 жидких кристаллов.
На этапе S706 подложка 21 матрицы содержит отображающую область для отображения изображения и содержит неотображающую область 211 для размещения других элементов. Микросхему 22 драйвера размещают на неотображающей области 211 подложки 21 матрицы. Другими словами, микросхему 22 драйвера присоединяют на неотображающей области 211 подложки 21 матрицы. Таким образом, выступ формируется на первой области 212 деформации в отображающей области вблизи микросхемы 22 драйвера подложки 21 матрицы. Высота выступа в общем равна глубине углубления сглаживающего слоя 23 матрицы, выполненного на этапе S702.
Согласно фиг. 8 толщина жидкокристаллической ячейки, соответствующей положению выступа на подложке 21 матрицы, сопоставима с толщиной жидкокристаллической ячейки в другой области. Следовательно, выступ на подложке 21 матрицы не приведет к появлению неравномерных зазоров в жидкокристаллической ячейке, и таким образом предотвращается возникновение дефектов, связанных с неравномерной яркостью.
В этом предпочтительном варианте осуществления способ изготовления жидкокристаллической панели завершают этапом S706.
- 6 035428
В способе изготовления жидкокристаллической панели согласно этому предпочтительному варианту осуществления сглаживающий слой матрицы размещают на подложке матрицы для сглаживания выступа подложки матрицы, тем самым предотвращая отрицательное воздействие выступа подложки матрицы.
Процесс размещения сглаживающего слоя матрицы на подложке матрицы подробно описан ниже. Рассмотрим фиг. 9, где показана первая блок-схема этапа S702 способа изготовления жидкокристаллической панели согласно второму предпочтительному варианту осуществления настоящего изобретения. Этап S702 включает следующее.
На этапе S7021A первый сглаживающий слой 231 матрицы размещают на подложке 21 матрицы путем выполнения структурирования с помощью маски, причем первый сглаживающий слой 231 матрицы не размещают на первой области 212 деформации подложки 21 матрицы. Рассмотрим фиг. 10А, где показана структурная схема, изображающая подложку матрицы, сформированную перед этапом S7021A способа изготовления жидкокристаллической панели, согласно второму предпочтительному варианту осуществления настоящего изобретения.
На этапе S7022A второй сглаживающий слой 232 матрицы размещают на подложке 21 матрицы, оснащенной первым сглаживающим слоем 231 матрицы. На этапе S7021A, поскольку первый сглаживающий слой 231 матрицы не размещают на первой области 212 деформации подложки 21 матрицы, углубление второго сглаживающего слоя 232 матрицы формируют на первой области деформации 212 подложки 21 матрицы во время размещения второго сглаживающего слоя 232 матрицы. Углубление второго сглаживающего слоя 232 матрицы представляет собой углубление сглаживающего слоя 23 матрицы на этапе S702. Рассмотрим фиг. 10В, где показана структурная схема, изображающая подложку матрицы, сформированную перед этапом S7022A способа изготовления жидкокристаллической панели, согласно второму предпочтительному варианту осуществления настоящего изобретения.
Другой процесс размещения сглаживающего слоя матрицы на подложке матрицы подробно описан ниже. Рассмотрим фиг. 11, где показана вторая блок-схема этапа S702 способа изготовления жидкокристаллической панели согласно второму предпочтительному варианту осуществления настоящего изобретения. Этап S702 включает следующее.
На этапе S7O21B сглаживающий слой 23 матрицы размещают на подложке 21 матрицы.
На этапе S7022B сглаживающий слой 23 матрицы структурируют путем использования полутоновой маски таким образом, чтобы углубление сглаживающего слоя 23 матрицы было сформировано на первой области 212 деформации подложки 21 матрицы. Рассмотрим фиг. 12, где показана структурная схема, изображающая подложку матрицы, сформированную после этапа S7022B способа изготовления жидкокристаллической панели, согласно второму предпочтительному варианту осуществления настоящего изобретения.
В способе изготовления жидкокристаллической панели согласно этому предпочтительному варианту осуществления выступ подложки матрицы, образованный соединением микросхемы драйвера, сглаживают путем использования сглаживающего слоя матрицы подложки матрицы с тем, чтобы предотвратить появление неравномерных зазоров в жидкокристаллической ячейке.
В способе изготовления жидкокристаллической панели согласно настоящему изобретению выступ подложки матрицы, образующийся при соединении микросхемы драйвера, сглаживают с помощью сглаживающего слоя светофильтра подложки светофильтра и сглаживающего слоя матрицы подложки матрицы с тем, чтобы предотвратить появление неравномерных зазоров в жидкокристаллической ячейке и решить техническую проблему, вызванную уменьшением отдельных зазоров жидкокристаллической ячейки, что приводит к появлению дефектов, связанных с неравномерной яркостью, при соединении микросхем драйвера в традиционном способе изготовления жидкокристаллической панели.
Вышеприведенные описания представляют собой лишь предпочтительные варианты осуществления настоящего изобретения и не предназначены для ограничения объема настоящего изобретения. Любая модификация или замена, выполняемая специалистами в данной области техники без отступления от сущности и идеи настоящего изобретения, должна подпадать под объем защиты настоящего изобретения. Следовательно, объем защиты настоящего изобретения определен прилагаемой формулой изобретения.

Claims (11)

  1. ФОРМУЛА ИЗОБРЕТЕНИЯ
    1. Способ изготовления жидкокристаллической панели, включающий создание элементов матрицы на первой основе подложки посредством многократных процессов структурирования с формированием подложки матрицы;
    нанесение сглаживающего слоя матрицы на подложку матрицы;
    создание черной матрицы и светофильтра на второй основе подложки с формированием подложки светофильтра;
    определение первой области деформации подложки матрицы и определение второй области деформации подложки светофильтра, при этом первая область деформации расположена в отображающей области и рядом с неотображающей областью;
    нанесение сглаживающего слоя светофильтра на подложку светофильтра и формирование углубле- 7 035428 ния на сглаживающем слое светофильтра во второй области деформации подложки светофильтра;
    создание жидкокристаллических ячеек путем соединения подложки матрицы и подложки светофильтра и заполнение жидкокристаллической ячейки молекулами жидких кристаллов таким образом, что подложка матрицы выступает с формированием выступа, сформированного в первой области деформации подложки матрицы, причем положение первой области деформации подложки матрицы соответствует положению второй области деформации подложки светофильтра; и глубина углубления примерно равна высоте выступа; и соединение микросхемы драйвера, выполненной с возможностью поляризации молекул жидких кристаллов, на неотображающей области подложки матрицы.
  2. 2. Способ по п.1, отличающийся тем, что после этапа создания элементов матрицы на первой основе подложки с формированием подложки матрицы способ дополнительно включает нанесение первого выравнивающего слоя на отображающую область подложки матрицы.
  3. 3. Способ по п.2, отличающийся тем, что после этапа создания элементов матрицы на первой основе подложки с формированием подложки матрицы способ дополнительно включает нанесение первого выравнивающего слоя на сглаживающий слой матрицы отображающей области подложки матрицы.
  4. 4. Способ по п.1, отличающийся тем, что после этапа нанесения сглаживающего слоя светофильтра на подложку светофильтра и формирования углубления на сглаживающем слое светофильтра во второй области деформации подложки светофильтра способ дополнительно включает нанесение второго выравнивающего слоя на сглаживающий слой светофильтра подложки светофильтра.
  5. 5. Способ по пп.1 и 4, отличающийся тем, что этап нанесения сглаживающего слоя светофильтра на подложку светофильтра и формирования углубления на сглаживающем слое светофильтра во второй области деформации подложки светофильтра дополнительно включает нанесение сглаживающего слоя светофильтра на подложку светофильтра;
    структурирование сглаживающего слоя светофильтра путем использования полутоновой маски таким образом, чтобы углубление сглаживающего слоя светофильтра было сформировано на второй области деформации подложки светофильтра.
  6. 6. Способ по пп.1 и 4, отличающийся тем, что этап нанесения сглаживающего слоя светофильтра на подложку светофильтра и формирования углубления на сглаживающем слое светофильтра во второй области деформации подложки светофильтра дополнительно включает нанесение первого сглаживающего слоя светофильтра на подложу светофильтра путем использования процесса структурирования, причем первый сглаживающий слой светофильтра не наносят на вторую область деформации подложки светофильтра; и нанесение второго сглаживающего слоя светофильтра на подложку светофильтра, покрытую первым сглаживающим слоем светофильтра, таким образом, чтобы углубление второго сглаживающего слоя светофильтра было сформировано на второй области деформации подложки светофильтра.
  7. 7. Способ изготовления жидкокристаллической панели, включающий создание отображающих элементов на первой основе подложки посредством многократных процессов структурирования с формированием подложки матрицы;
    определение первой области деформации подложки матрицы, при этом первая область деформации расположена в отображающей области и рядом с неотображающей областью;
    нанесение сглаживающего слоя матрицы на подложку матрицы и формирование углубления на сглаживающем слое матрицы в первой области деформации подложки матрицы путем использования процесса структурирования;
    создание черной матрицы и светофильтра на второй основе подложки с формированием подложки светофильтра;
    нанесение сглаживающего слоя светофильтра на подложку светофильтра;
    создание жидкокристаллических ячеек путем соединения подложки матрицы и подложки светофильтра и заполнение жидкокристаллических ячеек молекулами жидких кристаллов таким образом, что подложка матрицы выступает с формированием выступа, сформированного в первой области деформации подложки матрицы, причем глубина углубления примерно равна высоте выступа; и соединение микросхемы драйвера, выполненной с возможностью поляризации молекул жидких кристаллов, на неотображающей области подложки матрицы.
  8. 8. Способ по п.7, отличающийся тем, что после этапа нанесения сглаживающего слоя матрицы подложки матрицы и формирования углубления на сглаживающем слое матрицы в первой области деформации подложки матрицы путем использования процесса структурирования способ дополнительно включает нанесение первого выравнивающего слоя на сглаживающий слой матрицы отображающей области подложки матрицы.
  9. 9. Способ по п.7, отличающийся тем, что после этапа нанесения сглаживающего слоя светофильтра на подложку светофильтра способ дополнительно включает нанесение второго выравнивающего слоя на сглаживающий слой светофильтра подложки светофильтра.
  10. 10. Способ по п.7, отличающийся тем, что после этапа нанесения сглаживающего слоя матрицы на подложку матрицы и формирования углубления на сглаживающем слое матрицы в первой области де-
    - 8 035428 формации подложки матрицы путем использования процесса структурирования способ дополнительно включает нанесение сглаживающего слоя матрицы на подложку матрицы; и структурирование сглаживающего слоя матрицы путем использования полутоновой маски таким образом, чтобы углубление сглаживающего слоя матрицы было сформировано на первой области деформации подложки матрицы.
  11. 11. Способ по п.7, отличающийся тем, что этап нанесения сглаживающего слоя матрицы на подложку матрицы и формирования углубления на сглаживающем слое матрицы в первой области деформации подложки матрицы путем использования процесса структурирования дополнительно включает нанесение первого сглаживающего слоя светофильтра на подложку матрицы путем использования процесса структурирования, причем первый сглаживающий слой светофильтра подложки матрицы не размещают на первом сглаживающем слое матрицы; и нанесение второго сглаживающего слоя светофильтра на подложку матрицы, оснащенную первым сглаживающим слоем матрицы, таким образом, чтобы углубление сглаживающего слоя матрицы было сформировано на первой области деформации на подложке матрицы.
EA201791399A 2014-12-19 2014-12-25 Способ изготовления жидкокристаллической панели EA035428B1 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410803262.1A CN104570455B (zh) 2014-12-19 2014-12-19 一种液晶显示面板的制作方法
PCT/CN2014/094905 WO2016095251A1 (zh) 2014-12-19 2014-12-25 一种液晶显示面板的制作方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
EA201791399A1 EA201791399A1 (ru) 2017-11-30
EA035428B1 true EA035428B1 (ru) 2020-06-15

Family

ID=53086915

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EA201791399A EA035428B1 (ru) 2014-12-19 2014-12-25 Способ изготовления жидкокристаллической панели

Country Status (8)

Country Link
US (1) US9436050B2 (ru)
JP (1) JP6405471B2 (ru)
KR (1) KR101889873B1 (ru)
CN (1) CN104570455B (ru)
DE (1) DE112014007262B4 (ru)
EA (1) EA035428B1 (ru)
GB (1) GB2550073B (ru)
WO (1) WO2016095251A1 (ru)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106707392B (zh) * 2016-12-07 2019-02-01 友达光电（昆山）有限公司 彩色滤光片及其膜层厚度测量方法
CN106773265B (zh) 2017-02-15 2020-06-12 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及其制备方法、显示装置和涂胶系统
CN107170749B (zh) * 2017-04-27 2020-03-24 上海天马微电子有限公司 一种阵列基板及其制作方法
CN109116619A (zh) 2018-09-26 2019-01-01 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板、显示面板、掩膜板
CN109326614B (zh) * 2018-10-15 2022-07-05 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制造方法、显示装置
KR102661467B1 (ko) 2018-11-26 2024-04-29 삼성디스플레이 주식회사 디스플레이 장치 및 이의 제조 방법
CN111665665A (zh) * 2020-07-17 2020-09-15 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板及其制作方法、显示面板及显示装置

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005037466A (ja) * 2003-07-16 2005-02-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd フィルム液晶装置およびその製造方法
JP2005123405A (ja) * 2003-10-16 2005-05-12 Seiko Epson Corp 電気光学装置用基板、半導体装置用基板、素子チップの実装方法、電気光学装置及び電子機器
US20080224310A1 (en) * 2007-03-16 2008-09-18 Seiko Epson Corporation Method for manufacturing semiconductor device and semiconductor device
CN101349823A (zh) * 2007-07-19 2009-01-21 北京京东方光电科技有限公司 垂直取向模式液晶显示装置及其制造方法
CN102213877A (zh) * 2010-04-06 2011-10-12 北京京东方光电科技有限公司 阵列基板、液晶面板及其制造方法
CN103941462A (zh) * 2013-12-31 2014-07-23 厦门天马微电子有限公司 一种彩膜基板及其制造方法、显示装置
CN104199220A (zh) * 2014-07-10 2014-12-10 合肥鑫晟光电科技有限公司 一种显示面板和显示装置

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2643296B2 (ja) * 1988-05-24 1997-08-20 旭硝子株式会社 カラー液晶表示素子
JP2001284342A (ja) * 2000-01-25 2001-10-12 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 電気光学装置の作製方法
JP2001264791A (ja) * 2000-03-17 2001-09-26 Sharp Corp 液晶表示装置
JP2005292224A (ja) * 2004-03-31 2005-10-20 Seiko Epson Corp 電気光学装置及び電子機器
JP2006201312A (ja) * 2005-01-18 2006-08-03 Nec Corp 液晶表示パネル及び液晶表示装置
JP2008020836A (ja) * 2006-07-14 2008-01-31 Nec Lcd Technologies Ltd 表示装置及びその製造方法
KR101371014B1 (ko) * 2006-10-12 2014-03-11 삼성디스플레이 주식회사 오버코트막 형성 방법, 컬러 필터 기판 제조 방법,이로부터 제조된 컬러 필터 기판 및 액정 표시 장치
JP5230384B2 (ja) * 2007-12-07 2013-07-10 株式会社ジャパンディスプレイウェスト 表示装置および電子機器
JP2010014996A (ja) * 2008-07-04 2010-01-21 Nec Lcd Technologies Ltd 表示装置
JP4983872B2 (ja) * 2009-07-31 2012-07-25 カシオ計算機株式会社 ボンディング装置およびそれを用いたボンディング方法
WO2011155133A1 (ja) * 2010-06-10 2011-12-15 シャープ株式会社 液晶表示装置及びその製造方法
CN202102196U (zh) * 2011-06-06 2012-01-04 深圳市华星光电技术有限公司 用于液晶面板的软板上芯片构造
KR20140132173A (ko) * 2013-05-07 2014-11-17 삼성디스플레이 주식회사 표시장치 및 이의 제조방법
JP2014238464A (ja) * 2013-06-06 2014-12-18 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示パネル用多面取り回路基板及び液晶表示パネルの製造方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005037466A (ja) * 2003-07-16 2005-02-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd フィルム液晶装置およびその製造方法
JP2005123405A (ja) * 2003-10-16 2005-05-12 Seiko Epson Corp 電気光学装置用基板、半導体装置用基板、素子チップの実装方法、電気光学装置及び電子機器
US20080224310A1 (en) * 2007-03-16 2008-09-18 Seiko Epson Corporation Method for manufacturing semiconductor device and semiconductor device
CN101349823A (zh) * 2007-07-19 2009-01-21 北京京东方光电科技有限公司 垂直取向模式液晶显示装置及其制造方法
CN102213877A (zh) * 2010-04-06 2011-10-12 北京京东方光电科技有限公司 阵列基板、液晶面板及其制造方法
CN103941462A (zh) * 2013-12-31 2014-07-23 厦门天马微电子有限公司 一种彩膜基板及其制造方法、显示装置
CN104199220A (zh) * 2014-07-10 2014-12-10 合肥鑫晟光电科技有限公司 一种显示面板和显示装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR101889873B1 (ko) 2018-08-20
US9436050B2 (en) 2016-09-06
GB201710933D0 (en) 2017-08-23
WO2016095251A1 (zh) 2016-06-23
GB2550073B (en) 2021-04-07
CN104570455B (zh) 2017-06-27
DE112014007262T5 (de) 2017-08-31
CN104570455A (zh) 2015-04-29
EA201791399A1 (ru) 2017-11-30
JP2018503118A (ja) 2018-02-01
KR20170094280A (ko) 2017-08-17
JP6405471B2 (ja) 2018-10-17
DE112014007262B4 (de) 2021-02-11
GB2550073A (en) 2017-11-08
US20160178953A1 (en) 2016-06-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EA035428B1 (ru) Способ изготовления жидкокристаллической панели
US9823522B2 (en) COA type liquid crystal display panel and method for manufacturing the same
US20200387018A1 (en) Liquid crystal display panel, fabrication method therefor and display device
US9638969B2 (en) Liquid crystal display (LCD) panel, manufacturing method thereof and display device
US10718970B2 (en) Display substrate, manufacturing method thereof, display panel, and display device
US20190384096A1 (en) Display panel and the manufacturing method thereof, and display device
US20130169569A1 (en) Touch display panel
TWI447477B (zh) 顯示裝置及其製造方法
JP2013045101A (ja) 表示装置および表示装置製造方法
CN109239984B (zh) 一种液晶显示面板及液晶显示装置
TW201303428A (zh) 顯示面板及顯示面板之母板的切割方法
WO2016074413A1 (zh) 显示基板及其制作方法、显示面板及显示装置
CN104238213A (zh) 一种阵列基板、显示面板及显示装置
US10649268B2 (en) Display panel and display device
WO2018120646A1 (zh) 显示面板及其应用的液晶显示面板及液晶显示装置
TW200528883A (en) Liquid crystal display apparatus and method for manufacturing the same
US9214598B2 (en) Pixel structure of a liquid crystal display panel and pixel forming method thereof
JP2007179051A (ja) 液晶ディスプレイデバイス
US20160202530A1 (en) Pixel structure of liquid crystal display panel and pixel forming method
US20150311222A1 (en) Array Substrate, Its Manufacturing Method, and Display Device
TWI395043B (zh) 電泳顯示薄膜、電泳顯示面板及其製造方法
JP2008233720A (ja) 液晶表示装置及びその製造方法
KR101082906B1 (ko) 표시패널 및 이의 제조방법
US9785015B1 (en) Display apparatus, and method of forming post spacer in display apparatus
JP5673995B2 (ja) 液晶ディスプレイパネル及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Lapse of a eurasian patent due to non-payment of renewal fees within the time limit in the following designated state(s)

Designated state(s): AM AZ BY KZ KG TJ TM