CN104245154A - 涂布装置以及涂布方法 - Google Patents

Abstract

提供能够高精度地向涂布对象的排列发生歪曲的基板喷出液滴的涂布装置以及涂布方法。具体而言，在涂布装置(1)中，在基板保持部(7)保持住基板(W)的状态下，进行使涂布单元(21)和基板保持部(7)沿特定的扫描方向进行相对移动，同时使涂布单元(21)向基板(W)上的涂布对象(G)涂布涂布液的扫描动作，基板保持部(7)的把持单元把持基板(W)的同时使该基板移动，从而将基板(W)拉伸变形，在进行了基板(W)上的涂布对象(G)的排列的矫正后，进行扫描动作，在涂布对象(G)的排列的矫正中，连接规定的喷嘴(22)在1次扫描动作的涂布开始点进行涂布的涂布对象(G)的位置与该喷嘴(22)在涂布结束点进行涂布的涂布对象(G)的位置的线段的方向与涂布单元(21)的扫描方向平行。

Description

涂布装置以及涂布方法

技术领域

本发明涉及从喷嘴向在基板上形成的多个涂布对象喷出涂布液来进行涂布的涂布装置。

背景技术

在例如液晶电视那样的图像显示设备中使用了彩色滤光片，作为该彩色滤光片的制造方法，通常的方法是，向在玻璃上形成的多个细微的像素部进行墨的全面薄膜涂布，利用光刻技术保留所需部分，从而制造彩色滤光片。与此相对，作为进一步提高生产性的制造方法，例如，提出了专利文献1所示的基于喷墨涂布装置的喷墨法。

专利文献1所示的涂布装置是例如图13所示的涂布装置90，使设置有多个头部92的支架91沿箭头方向进行扫描的同时从各个头部92中设置的多个喷嘴93喷出墨，在基板上的矩阵状地设置的各涂布对象G上形成液滴94。此外，具有使头部92倾斜的机构，对头部92的倾斜角进行调节，使得涂布对象G的排列方向的喷嘴93的间隔与涂布对象G的尺寸吻合，并维持该倾斜角，从多个喷嘴93同时进行喷墨，由此，同时对多个涂布对象G进行液滴的形成。

另一方面，具有如下背景：近年来，在所述图像显示设备中，要求提高轻量化、薄型化以及耐冲击性，在电子纸或柔性液晶显示器等中，采用了玻璃以外的材质来作为用于得到彩色滤光片的基板的材质。例如，在电子纸中，存在由树脂构成的基板，在该基板上设置有UV硬化树脂，并实施在此形成作为涂布对象G的凹部的处理。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2002-273868号公报

发明内容

发明要解决的问题

但是，在上述专利文献1所述的涂布装置中，有可能不能正常地涂布到在上述基板上形成的涂布对象G。具体而言，多个涂布对象G被设计为在1个矩阵内等间隔地排列，但在基板是树脂等那样的容易受到热或压力的影响的材质的情况下，由于形成涂布对象G时的热或压力等，基板有时会发生变形，其结果是，涂布对象G的配置有时会发生歪曲，从而在一部分处，排列间隔形成为发生变化。在该情况下，在涂布对象G的实际位置与设计上的位置之间产生偏差，因此，如图14所示，在朝设计上的涂布对象G的位置喷出墨时，墨有可能没有到达各涂布对象G的中央这样的规定的部位，或者有可能到达相邻的涂布对象G与涂布对象G之间而形成液滴94，使得在这些涂布对象G之间产生混色，成为不能作为产品的不良品。

不过，在上述专利文献1所述的涂布装置中，也考虑对涂布对象G的配置发生歪曲的部位另外进行涂布，由此应对上述问题。但是，在该运用方法中，在涂布对象G的配置发生歪曲的部位处，涂布对象G之间的间隔与喷嘴93之间的间隔变为不同，不能同时向全部像素部93喷出墨，因此效率差。具体而言，首先，沿扫描方向实施涂布动作，仅对能够喷出到中央的涂布对象G进行涂布，进而，使支架91的位置朝与扫描方向垂直的方向偏移例如数微米，再次沿扫描方向实施涂布动作，仅对通过错开数微米即可喷出到中央的像素进行涂布。由于反复多次才能够最终完成1列的涂布，因此，不能够连续地涂布墨，效率较差。

本发明是鉴于上述那样的现有技术的问题点而完成的，目的在于提供一种能够高精度地向涂布对象的排列发生歪曲的基板喷出液滴的涂布装置。

用于解决问题的手段

为了解决上述问题，本发明的涂布装置具有：涂布单元，其具有直线状地排列的喷嘴，从所述喷嘴向涂布对象喷出涂布液；以及基板保持部，其具有多个把持单元，该把持单元将基板载置在对基板的一部分进行载置的基板载置面上而进行把持，通过各个所述把持单元把持基板，由此保持基板，在所述基板保持部保持住基板的状态下，进行使所述涂布单元和所述基板保持部沿特定的扫描方向进行相对移动，同时使所述涂布单元向基板上的所述涂布对象涂布涂布液的扫描动作，所述涂布装置的特征在于，所述基板保持部具有多个把持单元移动部件，所述多个把持单元移动部件使一部分或全部所述把持单元沿与所述基板载置面平行的方向移动，所述把持单元在把持基板的同时进行移动，从而使基板拉伸变形而进行基板上的所述涂布对象的排列的矫正，之后进行所述扫描动作，在所述涂布对象的排列的矫正中，使得连接规定的所述喷嘴在1次所述扫描动作的涂布开始点进行涂布的所述涂布对象的位置与该喷嘴在涂布结束点进行涂布的所述涂布对象的位置的线段的方向变为与所述涂布单元的所述扫描方向平行。

根据上述涂布装置，在涂布对象的排列的矫正中，连接规定的喷嘴在1次扫描动作的涂布开始点进行涂布的涂布对象的位置与该喷嘴在涂布结束点进行涂布的涂布对象的位置的线段的方向与涂布单元的扫描方向平行，由此，能够使涂布对象的排列或涂布对象的方向与扫描方向平行地进行涂布，因此，能够向沿扫描方向排列的涂布对象的规定位置连续涂布涂布液。

此外，具体而言，可以是，在所述涂布对象的排列的矫正中，使配置在基板上的4个校准对象形成的四边形的1组对边成为与所述扫描方向平行的状态，由此，连接规定的所述喷嘴在1次所述扫描动作的涂布开始点进行涂布的所述涂布对象的位置与该喷嘴在涂布结束点进行涂布的所述涂布对象的位置的线段的方向变为与所述涂布单元的所述扫描方向平行。

此外，可以是，所述涂布装置还具有涂布单元旋转部件，该涂布单元旋转部件在与所述基板载置面垂直的方向上具有旋转轴，使所述涂布单元旋转。

通过这样还具有涂布单元旋转部件，能够使喷嘴的排列间隔与和扫描方向垂直的方向的涂布对象的排列间隔吻合地进行涂布。

此外，可以是，多个所述把持单元移动部件是将一对所述把持单元移动部件组合多对而成的，成对的所述把持单元移动部件分别使同一所述把持单元朝同一方向移动。

由此，能够利用少量的把持单元移动部件，使基板朝各种方向发生变形。即，通过使由一对把持单元移动部件实现的把持单元的移动距离具有差异，能够使把持单元沿旋转方向移动，能够使基板不仅在直线方向上而且在旋转方向上发生变形。此外，成对的把持单元移动部件的设置间隔越大，则越能够细化把持单元的旋转的分辨率，从而能够进行精密的旋转动作。

此外，为了解决上述问题，本发明的涂布方法利用涂布装置向基板上的涂布对象涂布涂布液，该涂布装置具有：涂布单元，其具有直线状地排列的喷嘴，从所述喷嘴向涂布对象喷出涂布液；基板保持部，其具有多个把持单元，通过各个把持单元把持基板的一部分，由此保持基板；以及驱动装置，其使所述涂布单元与所述基板保持部在作为水平方向的一个方向的扫描方向上进行相对移动，所述涂布方法的特征在于具有如下工序：矫正工序，所述基板保持部对基板进行矫正；以及涂布工序，针对在所述矫正工序中矫正后的基板，使所述涂布单元和所述基板保持部在所述扫描方向上进行相对移动的同时使所述涂布单元向所述涂布对象涂布涂布液，在所述矫正工序中，所述把持单元把持基板的同时拉伸基板，从而使该基板发生变形，由此矫正为配置在基板上的4个校准对象所形成的四边形的1组对边与所述扫描方向平行的状态。

根据上述涂布方法，在矫正工序中，把持单元把持基板的同时拉伸基板，从而使该基板发生变形，由此矫正为配置在基板上的4个校准对象形成的四边形的1组对边与扫描方向平行的状态，由此，与上述同样，能够与扫描方向平行地排列涂布对象而进行涂布，因而能够向沿扫描方向排列的涂布对象的规定位置连续地涂布涂布液。

发明效果

根据本发明的涂布装置以及涂布方法，即使针对涂布对象的排列发生歪曲的基板也能够高精度地喷出液滴。

附图说明

图1是本发明的一个实施方式的涂布装置的概略图。

图2是本实施方式的涂布单元的概略图。

图3是本实施方式的基板保持部的概略图。

图4是示出基板上的涂布对象的排列的概略图。

图5是示出涂布对象的排列的矫正过程的一部分的概略图。

图6是示出涂布对象的排列的矫正过程的一部分的概略图。

图7是示出涂布对象的排列的矫正过程的一部分的概略图。

图8是是示出矫正后的涂布对象的排列的概略图。

图9是另一实施方式的基板保持部的概略图。

图10是对涂布方法进行说明的流程图。

图11是示出另一实施方式的涂布对象的排列的概略图。

图12是另一实施方式的涂布单元的概略图。

图13是示出现有的涂布装置的概略图。

图14是示出基于现有的涂布装置的涂布动作的概略图。

具体实施方式

使用附图，对本发明的实施方式进行说明。

图1示出了本发明的一个实施方式的涂布装置。图1(a)是涂布装置1的俯视图，图1(b)是涂布装置1的正视图。

涂布装置1具有送出装置2、卷绕装置3、识别部4、涂布部5、基板保持部6以及基板保持部7，针对从送出装置2送出并由卷绕装置3卷绕的带状的基板W，在固定在基板保持部7上的基板W上，涂布部5所具有的涂布单元21直线状地进行扫描的同时喷出涂布液，由此对在基板W上形成的多个涂布对象G涂布涂布液。此外，在通过涂布部5进行涂布之前，由识别部4对包含歪曲的涂布对象G的排列进行识别，根据其结果，基板保持部6使基板W发生变形，从而对涂布对象G的排列进行矫正，在基板保持部7进行了与该矫正相同的矫正的状态下，通过涂布部5进行涂布。

此外，涂布装置1具有由具有存储计算机程序的存储装置等的计算机构成的控制部8，通过该控制部8，进行各种计算以及针对涂布装置1所具有的驱动机构的动作的控制等。

此外，在以下的说明中，设在涂布中涂布单元21进行扫描的方向为X轴方向。此外，设在水平面上与X轴方向垂直的方向为Y轴方向，此外，设与X轴方向和Y轴方向垂直的方向为Z轴方向。

在基板W上，沿X轴方向和Y轴方向，分别并配地形成有多个涂布对象G，形成四边形状的各涂布区域S。此外，在图1中，为了容易进行说明，将涂布对象G放大而进行记载。

涂布对象G为凹部，涂布液被涂布到该凹部。在本实施方式中，基板W为树脂制，并利用压印法等形成有涂布对象G。此外，在基于涂布装置1的涂布工序之后的工序中，该带状的基板W按每一涂布区域S进行切断，成为例如彩色滤光片。

送出装置2具有能够卸下带状的基板W被卷绕而成的筒状体的机构，此外，卷绕装置3具有能够卸下卷绕基板W而成的筒状体的机构。利用未图示的驱动机构，使这些筒状体旋转，由此，将基板W从送出装置2送出到卷绕装置3。其间，利用涂布部5，向基板W进行涂布液的涂布，并将完成了涂布液的涂布处理后的基板W卷绕到卷绕装置3中。

识别部4具有搭载在照相机支架12上的照相机11和使照相机11沿X轴方向和Y轴方向移动的驱动装置13。

照相机11例如为CCD照相机，其拍摄基板W的涂布对象G以及校准标记AM1～校准标记AM4。驱动装置13例如由线性导轨以及电机等构成，并具有使照相机支架12在X轴方向上移动的功能以及使照相机11沿着照相机支架12而在Y轴方向上移动的功能。此外，在识别部4的下方，设置有后述的基板保持部6，在由该基板保持部6保持住基板W的状态下，进行涂布对象G以及校准标记AM1～校准标记AM4的拍摄。

此外，识别部4具有与驱动装置13以及照相机11协作地发挥功能的未图示的坐标取得部，该坐标取得部具有对照相机11拍摄的图像进行处理的功能，并对通过驱动装置13进行移动的照相机11的X轴方向和Y轴方向的位置(坐标)进行控制(管理)。因此，坐标取得部能够根据由照相机11取得的图像，取得涂布对象G以及校准标记AM1～校准标记AM4的坐标，基于该坐标值，能够后述的那样，通过基板保持部6来进行涂布对象G的排列的矫正。此外，能够通过执行所述控制部8的计算机程序来发挥坐标取得部的功能。

涂布部5具有涂布单元21、涂布支架23和使涂布单元21沿X轴方向和Y轴方向移动的涂布用的驱动装置24。在涂布支架23上安装有旋转部件25，该旋转部件25在与后述的涂布单元所具有的基板载置面垂直的方向(Z轴方向)上具有旋转轴，将涂布单元21安装在该旋转部件25的旋转轴上，使得涂布单元21能够以该旋转轴为中心转动。

在涂布单元21上，沿一个方向等间隔地排列设置有多个喷嘴22，该喷嘴22向涂布对象G喷出涂布液，涂布单元21能够利用旋转部件25进行转动，由此改变喷嘴22的排列方向。

这样，如图2所示，通过改变喷嘴22的排列方向，能够使喷嘴22的Y轴方向的间隔与涂布对象G的Y轴方向的间隔相等，因此，能够使各个喷嘴22通过各个涂布对象G的例如中心这样的规定位置的上方。

进而，在涂布动作中，在涂布单元21沿X轴方向进行扫描时，来到作为喷出目标的涂布对象G的规定位置的上方时，各个喷嘴22喷出涂布液，由此，能够在各个涂布对象G的规定位置处形成液滴26。此外，关于喷嘴22来到各个涂布对象G的规定位置的上方的时间，可以通过控制部8管理各个涂布对象G的坐标和各个喷嘴22的位置来进行计算。

此外，图1的驱动装置24例如由线性导轨以及电机等构成，具有使涂布支架23沿X轴方向移动的功能以及使涂布单元21和旋转部件25沿Y轴方向移动的功能。由此，在涂布动作中，能够使涂布单元21相对于基板W而沿X轴方向移动，此外，能够使涂布单元21沿Y轴方向移动，以使涂布喷嘴22与涂布对象G对准位置。

此外，在涂布部5的下方，设置有后述的基板保持部7，在该基板保持部7保持住基板W的状态下，从涂布单元21向涂布对象G进行涂布液的涂布。

此外，在该涂布部5中，可以与识别部4同样地，在例如涂布支架23上设置有照相机，在该情况下，使用该照相机，对基板保持部7中保持的基板W进行涂布对象G以及校准标记AM1～校准标记AM4的拍摄，并根据其结果，适当地通过基板保持部7来进行涂布对象G的排列的矫正。

涂布部5具有涂布动作控制部，其对从涂布单元21的喷嘴22向基板保持部7中保持的基板W的涂布对象G分别喷出涂布液来进行涂布的各种动作进行控制。此外，涂布动作控制部能够控制(管理)各喷嘴22在X轴方向和Y轴方向上的位置(坐标)。通过执行所述控制部8的计算机程序，发挥该涂布动作控制部的功能。

此外，在涂布区域S中，沿X轴方向排列有多列沿Y轴方向排列的多个涂布对象G的列，因此，涂布动作控制部在通过驱动装置24使涂布单元21沿X轴方向对基板W进行1次扫描的期间，从多个喷嘴22连续地喷出涂布液。以后，将在该涂布单元21沿X轴方向进行扫描的期间内从喷嘴22连续地喷出涂布液的动作称作“扫描动作”。

此处，在Y轴方向的涂布对象G的排列的数量多于涂布单元21的喷嘴22的数量的情况下，在1次扫描动作中，不能在Y轴方向上对全部涂布对象G进行涂布液的涂布。因此，涂布动作控制部具有如下功能：每当对X轴方向的各列的涂布对象G进行涂布动作的扫描动作结束时，进行使涂布单元21相对于基板W，沿Y轴方向移动的偏移移动，来执行下一扫描动作。利用该功能，通过反复进行扫描动作，能够向涂布区域S的全部涂布对象G涂布涂布液。

基板保持部6具有多个把持单元和把持单元移动部件，该把持单元移动部件使这些把持单元的一部分或全部沿与把持单元的基板载置面平行的方向移动，在这些把持单元把持住基板W的状态下保持基板W，并利用把持单元移动部件使把持单元移动，由此，拉伸基板W，使该基板W发生变形。

图3示出了本实施方式的基板保持部6。图3(a)是基板保持部6的俯视图，图3(b)是正视图，图3(c)是侧视图。

在本实施方式中，作为多个把持单元，具有：矩形平板状的中央把持单元31；矩形平板状的X1把持单元33和X2把持单元35，它们在沿X轴方向彼此相对的位置，靠近该中央把持单元31而进行设置；以及矩形平板状的Y1把持单元32和Y2把持单元34，它们在沿Y轴方向彼此相对的位置，靠近中央把持单元31而进行设置。此外，在本实施方式中，中央把持单元31与X1把持单元33连接。

中央把持单元31形成为与基板W相对，且作为载置基板W的面的基板载置面的面积与涂布区域S的面积大致相等。因此，在将基板W载置到基板保持部6上时，涂布区域S被载置于中央把持单元31，形成涂布区域S的各边的附近部被载置于Y1把持单元32、X1把持单元33、Y2把持单元34以及X2把持单元35上。

此外，在中央把持单元31、Y1把持单元32、X1把持单元33、Y2把持单元34以及X2把持单元35中，设置有吸附部。即，在这些基板载置面上，分别设置有多个未图示的吸引孔，这些吸引孔通过配管与未图示的真空源连接。因此，通过使真空源工作，会在各个基板载置面中产生吸引力，在中央把持单元31、Y1把持单元32、X1把持单元33、Y2把持单元34以及X2把持单元35上吸附基板W而把持该基板W。此外，通过未图示的阀门等的控制，能够单独地切换中央把持单元31、Y1把持单元32、X1把持单元33、Y2把持单元34以及X2把持单元35的吸引的有效/无效。

此外，为了能够平坦地把持住基板W，中央把持单元31、Y1把持单元32、X1把持单元33、Y2把持单元34以及X2把持单元35的上表面成为同一平面。

此处，在本实施方式中，为了能够使中央把持单元31沿X轴方向移动，在中央把持单元31的下表面设置有把持单元移动部件36以及把持单元移动部件37，此外，为了能够使Y1把持单元32沿Y轴方向移动，在Y1把持单元32的下表面设置有把持单元移动部件38以及把持单元移动部件39。

把持单元移动部件36以及把持单元移动部件37例如由线性导轨以及电机等构成，它们分别能够控制中央把持单元31以及与中央把持单元31连接的X1把持单元33的X轴方向的移动量。

此外，在把持单元移动部件36以及把持单元移动部件37与中央把持单元31之间，设置有在Z轴方向上具有旋转轴的轴承40，从而允许中央把持单元31相对于把持单元移动部件36以及把持单元移动部件37，以各个轴承40的旋转轴为中心进行旋转动作。

此外，在中央把持单元31和把持单元移动部件37之间，设置有能够使载置物沿Y轴方向移动的滑块41，从而允许中央把持单元31相对于把持单元移动部件37，沿Y轴方向移动。

此处，在把持单元移动部件36以及把持单元移动部件37的移动量相等的情况下，中央把持单元31以及X1把持单元33仅沿X轴方向移动，但在把持单元移动部件36以及把持单元移动部件37的移动量不同的情况下，中央把持单元31以及X1把持单元33会根据该移动量之差而伴随有以Z轴为旋转轴的旋转方向的移动。

这样，由于设置有使同一把持单元(中央把持单元31)沿同一方向(X轴方向)移动的一对把持单元移动部件(把持单元移动部件36以及把持单元移动部件37)，因此，利用少量的把持单元移动部件，即可使基板W朝各种方向变形。此外，把持单元移动部件36与把持单元移动部件37之间的间隔越大，则越能够细化中央把持单元31以及X1把持单元33的旋转的分辨率，从而能够进行精密的旋转动作。

此处，即使在中央把持单元31沿旋转方向移动的情况下，由于设置有上述那样的轴承40，因此，不会在中央把持单元31与把持单元移动部件36以及把持单元移动部件37之间施加扭动的负荷。

此外，连接针对中央把持单元31中的把持单元移动部件36的安装位置和针对把持单元移动部件37的安装位置的线段随着中央把持单元31沿旋转方向移动而发生倾斜。因此，把持单元移动部件36与把持单元移动部件37之间的间隔不变，与此相对，中央把持单元31中的两个安装位置的Y轴方向的间隔会随着中央把持单元31沿旋转方向移动而发生变化。对此，如上所述，在单侧的把持单元移动部件(在本实施方式中，为把持单元移动部件37)中设置有滑块41，随着中央把持单元31的旋转方向的移动，滑块41发生作用，允许上述安装位置的Y轴方向的坐标发生变化。

把持单元移动部件38以及把持单元移动部件39例如由线性导轨以及电机等构成，它们分别能够控制Y1把持单元32的Y轴方向的移动量。

此外，在把持单元移动部件38以及把持单元移动部件39与Y1把持单元32之间，设置有在Z轴方向上具有旋转轴的轴承40，允许Y1把持单元32相对于把持单元移动部件38以及把持单元移动部件39进行以各个轴承40的旋转轴为中心的旋转动作。

此外，在Y1把持单元32与把持单元移动部件39之间，设置有能够使载置物沿X轴方向移动的滑块41，允许Y1把持单元32相对于把持单元移动部件39而沿X轴方向移动。

此处，在把持单元移动部件38以及把持单元移动部件39的移动量相等的情况下，Y1把持单元32仅沿Y轴方向移动，但在把持单元移动部件38以及把持单元移动部件39的移动量不同的情况下，Y1把持单元32会根据该移动量之差而伴随有以Z轴为旋转轴的旋转方向的移动。

此处，即使在Y1把持单元32沿旋转方向移动的情况下，由于设置有如上所述的轴承40，因此，不会在Y1把持单元32与把持单元移动部件38以及把持单元移动部件39之间施加扭动的负荷。

此外，连接针对Y1把持单元32中的把持单元移动部件38的安装位置与针对把持单元移动部件39的安装位置的线段会随着Y1把持单元32沿旋转方向移动而发生倾斜。因此，把持单元移动部件38与把持单元移动部件39之间的间隔不变，与此相对，Y1把持单元32中的两个安装位置的X轴方向的间隔会随着Y1把持单元32沿旋转方向移动而发生变化。对此，如上述那样，在单侧的把持单元移动部件(在本实施方式中，为把持单元移动部件39)中设置有滑块41，随着Y1把持单元32的旋转方向的移动，滑块41发生作用，允许上述安装位置的X轴方向的坐标发生变化。

通过利用这样的基板保持部6来使基板W变形，能够对基板W上的涂布区域G的排列进行矫正。而且，通过识别部4确认校准标记AM1～校准标记AM4的坐标的同时由基板保持部6使基板W发生变形，由此，能够将歪曲倾斜的涂布区域G的排列矫正为适合于涂布的排列。例如，当在设计上以校准标记AM1和校准标记AM2的排列以及校准标记AM3和校准标记AM4与涂布对象G的排列平行的方式来配置校准标记AM1～校准标记AM4的情况下，如后述那样，通过使基板W变形为连接校准标记AM1和校准标记AM2的线段以及连接校准标记AM3和校准标记AM4的线段平行于涂布单元21进行扫描的方向(X轴方向)，由此，能够使涂布对象G的排列与该扫描方向平行。

基板保持部7把持并拉伸基板W，从而使其变形，基板保持部7具有与基板保持部6相同的结构。即，图3也示出了基板保持部7的结构。

此处，在吸附把持住基板W的状态下，通过使中央把持单元31、X1把持单元33以及Y1把持单元32移动，基板保持部6由此进行基板W的拉伸变形，同样，在基板保持部7中，通过使中央把持单元31、X1把持单元33以及Y1把持单元32移动，能够对基板W施加与基板保持部6进行的基板W的变形相同的变形。即，对于通过识别部4确认校准标记AM1～校准标记AM4的坐标的同时由基板保持部6进行的涂布对象G的排列的矫正状态，在利用涂布部5进行涂布时，基板保持部7使基板W变形，由此，能够设为相同的矫正状态。

如本实施方式这样，在比涂布部5以及基板保持部7靠上游侧设置有识别部4以及基板保持部6，由此，在涂布部5对前一涂布区域S进行涂布动作的期间内，能够通过识别部4掌握下一涂布区域S的涂布对象G的排列的歪曲，确认出成为适合于涂布的排列那样的基板W的变形条件(即，中央把持单元31、X1把持单元33以及Y1把持单元32的移动量)。因此，在对下一涂布区域S进行涂布时，能够立刻将涂布对象G的排列矫正为适合于涂布的排列，与基板保持部7在把持基板W时才掌握涂布对象G的排列的歪曲的情况相比，能够缩短节奏。

接下来，使用图4～图7，对通过具有上述结构的基板保持部6实现的涂布对象G的排列的矫正的过程进行说明。

图4示出了基板W上的涂布对象G的排列。图4(a)是设计上的涂布对象G的排列。此处，为了易于进行图示，使涂布对象G比实际放大地示出。本说明中所示的涂布对象G沿X轴方向和Y轴方向排列，如图4(a)中虚线所示，作为这些涂布对象G的集合的涂布区域S是两组对边分别朝向X轴方向和Y轴方向的长方形。

但是，如图4(b)所示，树脂等基板W上实际设置的涂布对象G有可能因形成涂布对象G时的热或压力等的影响而使其配置发生歪曲，在一部分处，排列间隔形成为发生变化。在该情况下，涂布区域S所形成的四边形已经不是长方形。

这样，当涂布对象G的排列发生歪曲而如图4(b)中的距离l所示那样在涂布对象G的Y轴方向的位置中产生偏差时，在扫描动作中，当涂布单元21沿X轴方向进行扫描的同时连续地对涂布对象G进行涂布时，不能向全部涂布对象G的规定位置喷出涂布液。进而，在该偏差增大时，涂布液有可能被喷到偏离涂布对象G的位置，与喷到相邻的涂布对象的涂布液发生混合。

因此，在本发明中，经过以下过程，基板保持部6进行涂布对象G的排列的矫正，从而能够向全部涂布对象G的规定位置喷出涂布液。此外，矫正的条件是由配置在基板W上的校准对象的坐标决定的。

在本实施方式中，在涂布区域S的四角附近设置校准标记AM1～校准标记AM4来作为该校准对象。在这些校准标记中，校准标记AM1和校准标记AM2在设计上被配置为与涂布对象G的排列方向平行，此外，校准标记AM3和校准标记AM4在设计上被配置为与校准标记AM1和校准标记AM2的排列方向平行。

根据由识别部4的照相机11拍摄到的图像来确认这些校准标记AM1～校准标记AM4的坐标，由此实施涂布对象G的排列的矫正。

此外，也可以不另外设置校准标记，例如，可以以将涂布区域S内的四角的涂布对象G作为校准对象的方式，以涂布对象G自身为校准对象。

在进行涂布对象G的排列、即涂布区域S的形状的矫正时，首先，求出图5所示的连接校准标记AM1和校准标记AM2的线段的边L1与X轴之间的角度。

具体而言，在基板W上的涂布区域S位于基板保持部6的上方的状态下，首先，将中央把持单元31、Y1把持单元32、X1把持单元33、Y2把持单元34以及X2把持单元35的吸附切换为有效，来固定基板W。接下来，由识别部4的照相机11取得校准标记AM1以及校准标记AM2的图像，识别部4的图像取得部据此计算出各个坐标。

此处，设校准标记AM1的坐标为(X1、Y1)，设校准标记AM2的坐标为(X2、Y2)。此时，连接校准标记AM1和校准标记AM2的线段与X轴之间的角度θ1满足下式(1)。

tanθ1＝(Y1-Y2)/(X1-X2)···(1)

接下来，使边L1的方向与X轴方向平行。具体而言，通过驱动把持单元移动部件36(以后，称作TX1轴36)以及把持单元移动部件37(以后，称作TX2轴37)，使相对于X轴具有式(1)所示的角度θ1的边L1沿旋转方向移动而与X轴方向平行。

此时，将Y2把持单元34的吸附切换为无效，解除边L1的固定。在本实施方式中，将中央把持单元31以外的把持单元的吸附切换为无效，仅利用中央把持单元31把持住基板W。由此，在使涂布区域S维持形状的状态下进行旋转。

此外，在Y1和Y2相等的情况下，认为边L1已经与X轴方向平行，因此不需要该动作。

此处，在设TX1轴36与TX2轴37之间的间隔为dTX时，用于使涂布区域S仅旋转θ1所需的TX1轴36的移动量与TX2轴37的移动量之差d1由下式(2)表示。

d1＝dTX×tanθ1···(2)

将式(1)代入式(2)，由此，根据校准标记AM1以及校准标记AM2的坐标，由下式(3)求出d1。

d1＝dTX×{(Y1-Y2)/(X1-X2)}···(3)

图6示出了根据由式(3)求出的d1的值，以使移动量具有差异的方式使TX1轴36以及TX2轴37移动之后的情况。校准标记AM1以及校准标记AM2的Y坐标相等，边L1的方向与X轴平行。由此，边L1附近的涂布对象G的排列与X轴平行。

此处，在使TX1轴36与TX2轴37的移动量具有d1的差时，可以仅移动单侧的TX轴，此外，也可以移动两个TX轴。

此外，在上述式(2)中，在d1为同一值的情况下，dTX的值、即TX1轴36与TX2轴37之间的间隔越大，则所得到的角度θ1的值较小。即，如上述那样，根据TX1轴36与TX2轴37的移动量之差而得到的旋转移动的分辨率变精细。此处，例如，在将TX1轴36与TX2轴37分别设置在中央把持单元31的Y轴方向的两端的情况下，dTX变大，旋转移动的分辨率变精细，因此能够进行精密的旋转控制。在该情况下，能够进行比通常使用的旋转台更精密的旋转控制。

接下来，求出作为连接校准标记AM3和校准标记AM4的线段的边L2与X轴之间的角度。

具体而言，首先，将中央把持单元31、Y1把持单元32、X1把持单元33、Y2把持单元34以及X2把持单元35的吸附全部切换为有效，来固定基板W。接下来，由识别部4的照相机11取得校准标记AM3以及校准标记AM4的图像，识别部4的图像取得部据此计算出各个坐标。

此时，通过之前的矫正动作来调节校准标记AM1以及校准标记AM2的坐标，由此，校准标记AM3以及校准标记AM4的位置也发生变动。如果该移动量较大，在不使基板W变形的情况下，校准标记AM3以及校准标记AM4会大幅偏离应该存在的位置，各校准标记有可能离开照相机11的视野。

因此，在本实施方式中，在进行边L1的矫正时，在取得校准标记AM1以及校准标记AM2的坐标时也预先取得此时的校准标记AM3以及校准标记AM4的坐标。进而，在进行了边L1的矫正后，根据上述式(3)的基板W的变形，计算出校准标记AM3以及校准标记AM4的坐标发生了什么程度的变化，考虑该坐标的变化部分而使照相机11移动，重新取得校准标记AM3以及校准标记AM4坐标。此外，此时，不仅取得校准标记AM3以及校准标记AM4，还可以取得校准标记AM1以及校准标记AM2的坐标，并确认边L1的方向是否与X轴方向平行。

设由此得到的边L1的矫正后的校准标记AM3的坐标为(X3、Y3)，校准标记AM4的坐标为(X4、Y4)。此时，连接校准标记AM3和校准标记AM4的线段与X轴之间的角度θ2满足下式(4)。

tanθ2＝(Y3-Y4)/(X3-X4)···(4)

接下来，使边L2的方向与X轴方向平行。具体而言，通过驱动把持单元移动部件38(以后，称作TY1轴38)以及把持单元移动部件39(以后，称作TY2轴39)，使具有式(4)所示的角度θ2的边L2相对于X轴沿旋转方向移动，从而与X轴方向平行。

此时，Y2把持单元34的吸附维持有效的状态，使边L1的方向固定不变。在本实施方式中，仅将Y1把持单元32以及Y2把持单元34的吸附切换为有效，而将其它吸附切换为无效。由此，在使边L1的方向保持固定不变的状态下，对边L2的方向以及涂布区域S的形状进行矫正。

此外，在Y3与Y4相等的情况下，认为边L2已经与X轴方向平行，因此不需要该动作。

此处，在设TY1轴38与TY2轴39之间的间隔为dTY时，为了使边L2只旋转θ2所需的TY1轴38的移动量与TY2轴39的移动量之差d2由下式(5)表示。

d2＝dTY×tanθ2···(5)

将式(4)代入式(5)，由此，根据校准标记AM3以及校准标记AM4的坐标，利用下式(6)求出d2。

d2＝dTY×{(Y3-Y4)/(X3-X4)}···(6)

此处，在图6中，作为校准标记AM3的X坐标的X3大于作为校准标记AM4的X坐标的X4，式(6)中的(X3-X4)的值为正。因此，如果作为校准标记AM3的Y坐标的Y3大于作为校准标记AM4的Y坐标的Y4，则d2的值为正，此时，与TY2轴39相比，TY1轴38朝Y轴的正方向多移动d2的值，由此，校准标记AM3以及校准标记AM4的Y坐标变为相等。相反，如果Y3小于Y4，则d2的值为负，此时，与TY1轴38相比，TY2轴39朝Y轴的正方向多移动(-d2)的值，由此，校准标记AM3以及校准标记AM4的Y坐标变为相等。

此处，在使TY1轴38与TY2轴39的移动量具有d2的差时，如果假定仅移动单侧的TY轴，则校准标记AM3以及校准标记AM4以不移动的TY轴为旋转中心进行偏转(枢動)，因此，一个校准标记会朝Y轴的负方向移动。此时，基板W发生挠曲，不能保持平坦。因此，为了使校准标记AM3以及校准标记AM4均不朝Y轴的负方向移动，需要使TY1轴38和TY2轴39朝Y轴的正的方向偏移而伸展。

求出校准标记因上述偏转而朝Y轴的负方向移动的距离。此处，将TY1轴38和TY2轴39的中央的X坐标表示为Xc，将TY1轴38的X坐标表示为(Xc-dTY/2)，将TY2轴39的X坐标表示为(Xc+dTY/2)。

首先，在Y3＜Y4的情况下，以TY1轴38为中心偏转，校准标记AM4朝Y轴的负方向移动。此时的校准标记AM4的Y轴方向上的移动量d2’可使用上述式(4)的角度θ2而由式(7)表示。

d2’＝{(Xc-dTY/2)-X4}×tanθ2···(7)

通过使TY1轴38和TY2轴39朝Y轴的正方向仅偏移该d2’的距离，由此，能够防止基板W的挠曲。因此，将Y轴的正方向的TY1轴38的移动量设为d2’，将TY2轴39的移动量设为(d2+d2’)来进行移动，由此，边L2的方向被矫正为与X轴平行，而基板W不会发生挠曲。此外，关于该移动量，能够利用上述式(4)～式(7)，根据校准标记AM3以及校准标记AM4的坐标而计算出。

接下来，在Y3＞Y4的情况下，以TY2轴39为中心偏转，校准标记AM3朝Y轴的负方向移动。此时的校准标记AM3的Y轴方向的移动量d2”可使用上述式(4)的角度θ2表示为式(8)。

d2”＝{X3-(Xc+dTY/2)}×tanθ2···(8)

通过使TY1轴38和TY2轴39朝Y轴的正方向仅偏移该d2”的距离，由此，能够防止基板W的挠曲。因此，通过将Y轴的正方向的TY1轴38的移动量设为(d2+d2”)，将TY2轴39的移动量设为d2”来进行移动，由此，边L2的方向被矫正为与X轴平行，而基板W不会发生挠曲。此外，关于该移动量，能够利用上述式(4)、式(5)、式(6)以及式(8)，根据校准标记AM3以及校准标记AM4的坐标而计算出。

图7示出了仅使TY1轴38以及TY2轴39移动上述移动量之后的情况。作为对边L1以及边L2的方向进行矫正的结果，跟随边L1，边L2也变为与X轴方向平行，连接校准标记AM1～校准标记AM4而成的四边形以及涂布区域S的形状成为梯形的形状。进而，不仅在上述的边L1附近，边L2附近的涂布对象G的排列也变为与X轴平行。通过设为该状态，完成基板保持部6的矫正。

图8示出了经过以上的过程，由基板保持部6对连接校准标记AM1～校准标记AM4而成的四边形以及涂布区域S的形状进行矫正后的涂布对象G的排列。边L1与边L2变为平行，并且，它们的方向变为与X轴方向平行，由此，连接规定的喷嘴22在1次扫描动作的涂布开始点进行涂布的涂布对象G的位置与该喷嘴22在涂布结束点进行涂布的涂布对象G的位置的线段的方向与涂布单元21的扫描方向平行。即，沿扫描方向(X轴方向)排列涂布对象G，且Y轴方向的间隔也一致。

进而，在基板保持部7中，也将基板W设为与该矫正状态相同的矫正状态，此外，如图2所示，调节涂布单元21的旋转角，使得喷嘴22的Y轴方向的间隔与该涂布对象G的Y轴方向的间隔ΔY相等，由此，在扫描动作中，能够向全部涂布对象G的规定位置喷出涂布液。

另一方面，作为使涂布对象G的Y轴方向的间隔与喷嘴22的Y轴方向的间隔相等的另外的方法，可以使涂布单元21不转动，而仅沿Y轴方向进一步拉伸基板W而使其变形，使得涂布区域G的Y轴方向的间隔与喷嘴22的Y轴方向的间隔吻合。具体而言，可以在仅将Y1把持单元32以及Y2把持单元34的吸附切换为有效的状态下，朝Y轴的正方向，以相同的移动量拉伸TY1轴38以及TY2轴39，使涂布区域G的间隔扩大而与喷嘴22的Y轴方向的间隔吻合。

此外，在利用基板保持部7使基板W变形时，不是必须确认校准标记AM1～校准标记AM4的坐标，也可以直接沿用由上游的基板保持部6进行的矫正的条件来使基板W发生变形。此外，也可以沿用由基板保持部6进行的矫正的条件，利用基板保持部7使基板W发生变形，在该状态下，根据安装在涂布部5上的未图示的照相机的图像，确认校准标记AM1～校准标记AM4的坐标，实施矫正的微调。

此处，在本实施方式的矫正中，以仅调节边L1以及边L2的方向的方式进行矫正，没有对其它两个边的边L3以及边L4进行任何处理。因此，如图8所示的ΔX那样，在涂布对象G彼此之间的X坐标中产生偏差。不过，如果调节各喷嘴22的喷出时间，则可应对该现象，从而不会减慢扫描动作的速度、或者增加扫描动作的次数而能够涂布到各涂布对象G的规定位置。此外，虽然耗费时间，但是也可以对边L3以及边L4进行矫正，使连接校准标记AM1～校准标记AM4而成的四边形以及涂布区域S的形状成为平行四边形或长方形，使在X轴方向上相邻的涂布对象G彼此的间隔变为均匀。

图9是另一实施方式的基板保持部6，图9(a)是基板保持部6的俯视图，图9(b)是正视图，图9(c)是侧视图。在图3所示的基板保持部6中，设置有TX1轴36与TX2轴37，在使其移动量具有差异时，涂布区域S发生旋转，但也可以将其置换为旋转台42。此外，如果仅对边L1以及边L2的角度进行矫正，而不进行边L3以及边L4的角度的矫正，则位于中央把持单元31的X轴方向的两侧的X1把持单元33以及X2把持单元35不需要与中央把持单元31独立地进行吸附有效/无效的切换，可以汇集这些而仅设置中央把持单元31。

在图9那样的简化的结构中，也可以在将中央把持单元31的吸附切换为有效的状态下，利用旋转单元42使基板W旋转，使边L1与X轴方向平行，进而，将Y2把持单元34的吸附切换为有效，在将边L1固定的状态下，利用TY1轴38和TY2轴39，对边L2的角度进行矫正，由此，能够与上述同样地使边L1以及边L2的角度与X轴方向平行，能够使涂布对象G沿X轴方向排列。

接下来，图10示出了在本发明中的涂布装置1中进行涂布时的动作流程。

首先，利用送出装置2送出基板W，利用卷绕装置3进行卷绕，由此，将涂布区域S输送到基板保持部6的上方(步骤S1)。接着，基板保持部6把持住包含涂布区域S的基板W(步骤S2)。此时，中央把持单元31、Y1把持单元32、X1把持单元33、Y2把持单元34以及X2把持单元35的吸附全部为有效。

接下来，取得校准标记AM1～校准标记AM4的坐标(步骤S3)。具体而言，使识别部4的照相机11移动到各校准标记应该存在的位置并进行拍摄。利用该图像，坐标取得部取得各校准标记的坐标。

接下来，根据在步骤S3中得到的校准标记AM1以及校准标记AM2的坐标，进行边L1的角度的矫正(步骤S4)。此时，将Y1把持单元32、X1把持单元33、Y2把持单元34以及X2把持单元35的吸附切换为无效，成为仅由中央把持单元31吸附把持住基板W的状态。进而，使TX1轴36以及TX2轴37移动，由此，使涂布区域S旋转，使边L1的方向变为与X轴方向(扫描方向)平行。

接下来，重新取得校准标记AM1～校准标记AM4的坐标(步骤S5)。具体而言，在步骤S4中进行了矫正之后，使识别部4的照相机11移动到各校准标记应该存在的位置而进行拍摄。利用该图像，坐标取得部取得各校准标记的坐标。此时，再次将Y1把持单元32、X1把持单元33、Y2把持单元34以及X2把持单元35的吸附切换为有效，成为由全部把持单元吸附把持基板W的状态。

接下来，根据在步骤S5中得到的校准标记AM3以及校准标记AM4的坐标，进行边L2的角度的矫正(步骤S6)。此时，将中央把持单元31、X1把持单元33以及X2把持单元35的吸附切换为无效。Y2把持单元34成为吸附把持住基板W的状态，边L1被固定。进而，在由Y1把持单元32吸附把持住边L2的一部分的状态下，使TY1轴38以及TY2轴39移动，由此，边L2的方向变为与X轴方向(扫描方向)平行。

通过该步骤S2～步骤S6的工序，边L1以及边L2的方向变为与X轴方向平行，涂布对象G彼此的Y轴方向的间隔变为一致。

接下来，控制部8确认各涂布对象G的坐标(步骤S7)，确认在涂布时涂布单元21的各喷嘴22喷出涂布液的时间。关于各涂布对象G的坐标的确认，与取得各校准标记的坐标的情况同样地，由坐标取得部基于通过照相机11拍摄的图像而进行。此时，可以拍摄全部涂布对象G的图像，分别取得坐标，但是，下述方法能够降低拍摄和计算的负荷，因而是优选的：仅拍摄涂布区域的四角等设定为代表的涂布对象G的图像，来取得坐标，并根据该设定为代表的涂布对象G的坐标估计出其它涂布对象G的坐标。另外，此时，全部把持单元的吸附切换为有效。

接下来，在将全部把持单元的吸附切换为无效后，利用送出装置2送出基板W，并利用卷绕装置3进行卷绕，由此，将涂布区域S输送到基板保持部7的上方(步骤S8)。接着，将基板保持部7的中央把持单元31～X2把持单元35的吸附全部切换为有效，使基板保持部7把持住包含涂布区域S的基板W(步骤S9)。

接下来，使基板保持部7的TX1轴36、TX2轴37、TY1轴38以及TY2轴39移动与在步骤S4以及步骤S6中基板保持部6的TX1轴36、TX2轴37、TY1轴38以及TY2轴39移动的移动量相同的移动量，由此，在基板保持部7中也进行与基板保持部6进行的矫正相同的矫正(步骤S10)。

接下来，利用旋转部件25来调节涂布单元21的角度，使得排列矫正后的涂布对象G的Y轴方向的间隔与喷嘴22的Y轴方向的间隔相等(步骤S11)。

接下来，涂布单元21对各涂布对象G实施涂布动作(步骤S12)。具体而言，通过扫描动作，对沿X轴方向排列的涂布对象G实施1次或多次连续地涂布涂布液的作业。

这样，从在步骤S1中输送涂布区域起，经过步骤S2～步骤S10的矫正工序以及步骤S11～步骤S12的涂布工序，完成了针对在排列中具有歪曲的涂布对象G的涂布液的涂布。

通过以上的涂布装置以及涂布方法，能够高精度地向涂布对象的排列发生歪曲的基板喷出液滴。

此外，上述说明是假定为设涂布对象G为凹部、通过将墨涂布到该凹部来制造彩色滤光片的涂布装置而进行的，但不限于彩色滤光片的制造，也可以应用于通过涂布涂布液来制造TFT等有机半导体的电路图案的装置或在基板上形成电容器、电阻体、布线等的装置。

此外，在上述说明中，基于利用辊状的基板W送出送出装置2并利用卷绕装置3进行卷绕的同时进行涂布处理的辊到辊的涂布装置进行了说明，但也可以应用于对页状的基板W进行涂布的涂布装置。在该情况下，由于不存在识别部4以及基板保持部6，因此，将照相机11设置于涂布部5，在由涂布部5的下方的基板保持部7把持住基板W的状态下，取得校准标记AM1～校准标记AM4的坐标。根据其结果，求出用于使边L1以及边L2变为与扫描方向平行的矫正条件，由基板保持部7实施该矫正。

此外，在辊到辊的涂布装置中，也可以省略识别部4以及基板保持部6。不过，如上所述，通过设置识别部4以及基板保持部6，能够在涂布部5的涂布工序之前求出基板W的变形的条件，因此，能够缩短节奏。

此外，在上述说明中，基于涂布对象G集合为四边形状的例子进行了说明，但如图11(a)和图11(b)所示那样，涂布对象G的集合也可以不是四边形。对于这样的涂布对象G的集合，如果存在与涂布对象G的排列方向平行配置的校准标记AM1和校准标记AM2的组合以及校准标记AM3和校准标记AM4的组合，则通过将连接校准标记AM1和校准标记AM2的线段以及连接校准标记AM3和校准标记AM4的线段矫正为与X轴方向平行，能够与上述同样地使涂布对象G沿X轴方向排列，因此，能够以扫描动作进行涂布。

此外，如图11(c)所示，在直线状的涂布对象G排成一列的情况下，如果存在与涂布对象G的方向平行地配置的校准标记AM1和校准标记AM2的组合以及校准标记AM3和校准标记AM4的组合，则通过将连接校准标记AM1和校准标记AM2的线段以及连接校准标记AM3和校准标记AM4的线段矫正为与X轴方向平行，可使得涂布对象G的方向变为与X轴方向平行(在该情况下可以说为如下：1个涂布对象G的两端对应于在规定的喷嘴22在1次扫描动作的涂布开始点进行涂布的涂布对象G以及该喷嘴22在涂布结束点进行涂布的涂布对象G，因而涂布对象G的方向与X轴方向平行，因此，连接规定的喷嘴22在1次扫描动作的涂布开始点进行涂布的涂布对象G的位置与该喷嘴22在涂布结束点进行涂布的涂布对象G的位置的线段的方向与涂布单元21的扫描方向平行)。在对这样的涂布对象G进行涂布的情况下，不仅可以利用喷墨涂布，也可以利用描绘出线状的涂布膜的条纹涂布等方法。

此外，在上述说明中，在涂布单元21中，仅等间隔地排列有1列喷嘴22，但也可以如图12所示那样，涂布单元21具有多列等间隔地排列为直线状的喷嘴22的列。在该情况下，通过在直线状的排列上使相邻的喷嘴22的间隔d与涂布对象的间隔吻合，能够向全部涂布对象的规定位置喷出涂布液。

标号说明

1  涂布装置

2  送出装置

3  卷绕装置

4  识别部

5  涂布部

6  基板保持部

7  基板保持部

8  控制部

11  照相机

12  照相机支架

13  驱动装置

21  涂布单元

22  喷嘴

23  涂布支架

24  驱动装置

25  旋转部件

26  液滴

31  中央把持单元(把持单元)

32 Y1把持单元(把持单元)

33 X1把持单元(把持单元)

34 Y2把持单元(把持单元)

35 X2把持单元(把持单元)

36  把持单元移动部件(TX1轴)

37  把持单元移动部件(TX2轴)

38  把持单元移动部件(TY1轴)

39  把持单元移动部件(TY2轴)

40  轴承

41  滑块

42  旋转台

90  涂布装置

91  支架

92  头部

93  喷嘴

94  液滴

AM1～AM4  校准标记(校准对象)

G  涂布对象

L1～L4  边

S  涂布区域

W  基板

Claims (5)

1.一种涂布装置，其具有：

涂布单元，其具有直线状地排列的喷嘴，从所述喷嘴向涂布对象喷出涂布液；以及

基板保持部，其具有多个把持单元，该把持单元将基板载置在对基板的一部分进行载置的基板载置面上而进行把持，通过各个所述把持单元把持基板，由此保持基板，

在所述基板保持部保持住基板的状态下，进行使所述涂布单元和所述基板保持部沿特定的扫描方向进行相对移动，同时使所述涂布单元向基板上的所述涂布对象涂布涂布液的扫描动作，

所述涂布装置的特征在于，

所述基板保持部具有多个把持单元移动部件，所述多个把持单元移动部件使一部分或全部所述把持单元沿与所述基板载置面平行的方向移动，

所述把持单元在把持基板的同时进行移动，从而使基板拉伸变形而进行基板上的所述涂布对象的排列的矫正，之后进行所述扫描动作，

在所述涂布对象的排列的矫正中，使得连接规定的所述喷嘴在1次所述扫描动作的涂布开始点进行涂布的所述涂布对象的位置与该喷嘴在涂布结束点进行涂布的所述涂布对象的位置的线段的方向变为与所述涂布单元的所述扫描方向平行。

2.根据权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，

在所述涂布对象的排列的矫正中，使配置在基板上的4个校准对象所形成的四边形的1组对边成为与所述扫描方向平行的状态，由此，连接规定的所述喷嘴在1次所述扫描动作的涂布开始点进行涂布的所述涂布对象的位置与该喷嘴在涂布结束点进行涂布的所述涂布对象的位置的线段的方向变为与所述涂布单元的所述扫描方向平行。

3.根据权利要求1或2中的任意一项所述的涂布装置，其特征在于，

所述涂布装置还具有涂布单元旋转部件，该涂布单元旋转部件在与所述基板载置面垂直的方向上具有旋转轴，使所述涂布单元旋转。

4.根据权利要求1～3中的任意一项所述的涂布装置，其特征在于，

多个所述把持单元移动部件是将一对所述把持单元移动部件组合多对而成的，成对的所述把持单元移动部件分别使同一所述把持单元朝同一方向移动。

5.一种涂布方法，利用涂布装置向基板上的涂布对象涂布涂布液，该涂布装置具有：

涂布单元，其具有直线状地排列的喷嘴，从所述喷嘴向涂布对象喷出涂布液；以及

基板保持部，其具有多个把持单元，该把持单元将基板载置在对基板的一部分进行载置的基板载置面上而进行把持，通过各个所述把持单元把持基板，由此保持基板，

在所述基板保持部保持住基板的状态下，进行使所述涂布单元和所述基板保持部沿特定的扫描方向进行相对移动，同时使所述涂布单元向基板上的所述涂布对象涂布涂布液的扫描动作，

所述涂布方法的特征在于具有如下工序：

矫正工序，通过所述基板保持部使基板进行变形，由此进行基板上的所述涂布对象的排列的矫正；以及

涂布工序，针对在所述矫正工序中矫正后的基板，所述涂布单元通过所述扫描动作向所述涂布对象涂布涂布液，

在所述矫正工序中，连接规定的所述喷嘴在1次所述扫描动作的涂布开始点进行涂布的所述涂布对象的位置与该喷嘴在涂布结束点进行涂布的所述涂布对象的位置的线段的方向变为与所述涂布单元的所述扫描方向平行。