JP5482417B2 - インクジェット装置 - Google Patents

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Description

本発明は、インクジェット装置に関するものである。
従来のインクジェット装置としては、移動体の両端位置に沿って敷設されたリニアスケールによりヨーイング補正を行い、レーザー測長器により移動体中央の位置を測ることで高精度にインクを塗布するものが知られる(例えば、特許文献1参照。)。
図10および図11は、上記特許文献1に記載のインクジェット装置を示すものある。但し、本発明に関係しない部分は、一部省略して図示している。図10は、従来のインクジェット装置の要部構成を示し、図11は同装置の斜視図である。
図10および図11において、基板101を保持する基板保持部102は、基板搬送部103によりベース構造体104の上面両端に設置された2本の走査軸105(それぞれ105aと105bとして表記している)に沿って、X軸方向に移動することができる。また、ヘッドユニット106はガントリー107に設置され、ガントリー107はベース構造体104に設置されている。そして、走査軸105の近傍には2本のリニアスケール108(それぞれ108aと108bとして表記している)が設置されており、基板保持部102に設置された2台の位置測定ユニット109(それぞれ109aと109bとして表記している)がリニアスケール108を読むことで基板保持部102の両端におけるX軸方向の位置を検出する。更に、位置演算部110が位置データを走査制御部111に送り2本のリニアスケールの読みの偏差がゼロになるように走行を制御することで、ヨーイング補正を行う。
一方、反射板112は、基板保持部102のY軸方向の中心に設置され、ベース構造体104に設置されたレーザー測長器113により基板保持部102の移動距離が測定される。そして、測定された距離データをインクジェット制御部114に送り、このデータに基づきインクジェット制御部114はヘッドユニット106のインクの吐出タイミングを制御している。なお、基板101とヘッドユニット106の相対位置関係を決めるための2個のアライメントマーク115(それぞれ115aと115bとして表記している)が基板101の平面上に予め形成されており、アライメントマーク115の位置を検出するためのアライメントカメラ116が、ヘッドユニット106が設置されているガントリー107に設置されている。そして図示されていないY軸方向の基板搬送部とZ軸周りの回転軸方向の基板搬送部により、基板が所定の位置に位置決めされる。
特開2009−128830号公報
しかしながら、上記従来のインクジェット装置では、以下の5つの問題を有することになる。
第1の問題点:ヘッドユニット106から、ガントリー107、ベース構造体104、及び、リニアスケール108に至る構造体において温度変化による歪みが生じやすくなる。特にG8(2200mm×2500mm)やG10(2880mm×3130mm)などの大基板にインクジェット法で微細なインク塗布を行う用途(例えば、液晶のカラーフィルタや有機ELディスプレイなど)では、ヘッドユニット106とリニアスケール108の相対位置が変化することで赤色、緑色、青色のインクの各着弾位置がずれやすく、混色と呼ばれる不良が生じやすくなる。加えて、インクが所定の各着弾位置に供給されないと、インク塗布量が不足し、輝度ムラと呼ばれる不良をも発生しやすくなるという課題を有することになる。
なお、4K2Kと呼ばれる超高精細ディスプレイとなると、各画素の塗布領域の大きさは50μm×200μm程度となり、インクの着弾精度は総合で±10μm以下が必要とされる。これはインクジェット装置のノズルから吐出されるインク液滴の吐出角ばらつき等も含まれる。従って、基板とヘッドユニット間の相対運動精度としては、±3〜±6μmが要求される。一方、ヘッドユニット106からリニアスケール108に至る主要構造体の長さが3mとし、材質を鉄とすると、温度が1℃変化したときの構造体の伸びは、鉄の線熱膨張係数は11.5×10-6/℃のため、3m×11.5×10-6/℃=34.5μm/℃となる。実際にはこれに構造体のねじれ等が加わるため、ヘッドユニット106とリニアスケール108間の相対位置変化は要求精度に対して、無視できない誤差要因となる。
第2の問題点:ヘッドユニット106からガントリー107、ベース構造体104、及び、レーザー測長器113に至る構造体においても、上記第1の問題点と同様に、温度変化による歪が生じやすく、X方向にインクの着弾位置がずれるという課題を有している。
第3の問題点:基板101そのものも温度変化による伸縮が発生し、インクの着弾位置のずれを生じる。例えば、G8基板で基材であるガラスの線熱膨張係数が3.4×10―6/℃の場合、その伸び量は3130mm×3.4×10―6/℃=10.6μm/℃となる。従って、±5μm以内に押さえ込むには基板温度を±0.5℃に保つ必要があるが、実際に±0.5℃以内に環境を含めて温度制御することは難易度が高く、仮に温度制御を可能とした場合でも、維持に大きなランニングコストが発生するという課題を有する。
第4の問題点:リニアスケール108そのものも温度変化による伸縮が発生し、例えば温度差や温度ムラ等により、2本のリニアスケール108a,108bが同じ挙動を示す保証はない。リニアスケール108が線熱膨張係数10.4×10―6/℃のステンレス鋼の場合、2本のリニアスケールにおいて温度が1℃違うとすると、3000mmストロークでは3000mm×10.4×10―6/℃=31.2μmの差が生じることになる。これがヨーイング補正の誤差となる。その結果、特に基板の左右両端でインクの着弾位置がずれるという課題を有する。
第5の問題点:走査軸105が温度変化や残留応力による経時変化により撓みが生じた場合、基板搬送部103の走査の移動真直度が変化することになる。しかしながら、前述の従来のインクジェット装置では、これを補正する機能はなく、真直度方向、すなわち、Y軸方向にインクの着弾位置がずれるという課題を有する。
本発明は、上記従来の課題を解決するもので、温度変化の影響を受けずに、長期間にわたってインクを基板上の所定の位置に正確に着弾させることが可能な、インクジェット装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明のインクジェット装置は、複数のノズルを有するヘッドユニットと、基板を保持する基板保持部とを具備するインクジェット装置において、前記ヘッドユニットと前記基板保持部とを第1方向に相対的に移動可能とする搬送機構を備え、前記ヘッドユニットにおいて、前記複数のノズルの外側に第1及び第2センサをそれぞれ一対設けると共に、前記第1センサは前記第2センサに対して外側に配設され、かつ、前記第1センサは受光素子であり、前記第2センサは透過式のエッジセンサで構成されることを特徴とする。
上記構成によって、走査方向のヨーイング方向においては、基板上のスケールパターンをヘッドユニットから見て補正をかけるため、ガントリーなどの装置を構成する構造部材の温度変化による歪みの影響を受けることなくインクを基板上の所定の位置に常に正確に着弾させることができる。
このとき、前記基板保持部のうち前記基板の外周部に光源が配置されてなると好適である。また、前記基板保持部は前記光源の上方にガラスが嵌め込まれてなると良い。
また、前記基板の前記ヘッドユニットと対向する表面のうち回路層が形成される領域の外側に、前記第1方向に沿って直線パターンと、前記直線パターンの外側かつ前記第1方向に垂直な第2方向に沿ってスケールパターンとが形成されることが好適である。
このとき、前記第1センサによって前記スケールパターンを検出し、一対の第1センサからの信号を受けて前記第1センサ間の信号ずれをゼロまたは所定値になるように、前記搬送機構にヨーイング補正信号を送る位置演算部を設けると好適である。
また、前記第2センサは、前記第1方向に延びる直線パターンのエッジを検出すると共に、前記第2センサからの信号を受けて、前記第2センサからの信号が一定値または前記第1方向の座標値で決まる指定値となるように、前記搬送機構に真直度補正信号を送る位置演算部を設けると良い。更に、前記位置演算部は、前記第1センサからの信号をさらにインクジェット制御部に送り、前記インクジェット制御部は、前記第1センサからの信号によりノズルから吐出されるインクの吐出タイミングを補正することが望ましい。
以上のように、本発明のインクジェット装置によれば、基板およびインクジェット装置を構成する部材が環境温度変化により膨張または収縮した場合でも、塗布すべき基板上の所定の位置に常に精度良くインク液滴を着弾させることができ、混色や塗布量不足による輝度ムラなどの不良を低減することができる。
本発明の実施の形態1におけるインクジェット装置の要部構成図 本発明の実施の形態1におけるインクジェット装置の斜視図 本発明の実施の形態1におけるインクジェット装置の検出部平面図 本発明の実施の形態1におけるインクジェット装置の検出部断面図 本発明の実施の形態1におけるインクジェット装置の吐出タイミングを補正しない場合のインクの着弾位置を示す平面図 本発明の実施の形態1におけるインクジェット装置の吐出タイミングをくぼみ単位で補正した場合のインクの着弾位置を示す平面図 本発明の実施の形態1におけるインクジェット装置の第1および第2センサを各4個とした場合のセンサの平面配置図 本発明の実施の形態2におけるインクジェット装置の要部構成図 本発明の実施の形態2におけるインクジェット装置の検出部断面図 特許文献1に記載された従来のインクジェット装置の要部構成図 特許文献1に記載された従来のインクジェット装置の斜視図
以下本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1におけるインクジェット装置の要部構成図、図2は同インクジェット装置の斜視図、図3は同インクジェット装置の検出部の平面図、図4は同検出部の断面図である。なお、図1〜図4において、図10、図11と同じ構成要素については同じ符号を用い、説明を省略する。
図1および図2において、基板201は、走査方向(図1及び図2に示す座標系のX方向)に対して、両側に一定ピッチの横線列からなるスケールパターン202と、縦の直線からなる直線パターン203とを有し、基板保持部102に保持される。基板保持部102は、走査軸105に沿って走査方向(図1及び図2に示す座標系のX方向)に移動する機能を持つX軸搬送部204と、X軸搬送部204の上部にあって、走査軸と垂直方向(Y軸方向)に移動する機能を持つY軸搬送部205と、Y軸搬送部205の上部にあって鉛直軸(Z軸)を中心に回転する機能を持つθ軸搬送部206とからなる搬送機構の上に設置されている。X軸搬送部204、Y軸搬送部205、及び、θ軸搬送部206は、搬送制御部207により駆動制御される。一方、ガントリー107に設置されY軸方向に並んだ複数のノズル208を有するヘッドユニット209の下部には、スケールパターン202を検出する第1センサ210と直線パターン203を検出する第2センサ211が、ノズル列と同じ直線上の両端に設置されている。ノズル208によるインクの吐出はインクジェット制御部212により制御される。
位置演算部213は、位置測定ユニット109からの入力信号(現在値)と予め設定されているX軸方向(走査)の目標値との差分である偏差を算出し、搬送制御部207に与えると共に、第1センサ210と第2センサ211からの入力信号に基づいて走査時のヨーイングと真直度のずれを計算し、搬送制御部207に偏差として与える。搬送制御部207は、各偏差がゼロになるようにX軸搬送部204とY軸搬送部205とθ軸搬送部206を駆動制御する。また位置演算部213は、位置測定ユニット109からの入力信号に基づき、インクジェットの吐出タイミング信号を生成し、インクジェット制御部212に与えるが、必要に応じて第1センサ210からの入力信号に基づき、インクジェットの吐出タイミングを補正するよう構成されている。
図3および図4において、基板201の基材は通常、透明ガラスであり、有機ELディスプレイの場合は、その上面にディスプレイとしての表示面214の範囲にトランジスタなどの回路層215が形成されている。回路層215の上にインクジェット装置により、インクを塗布し乾燥させることで有機ELの発光層が形成されるが、そのまま回路層215の上面にインクを塗布しても、インクが散逸してしまうため、回路層215の上面にバンク層216と呼ばれる層が形成されている。バンク層216が無い部分であるくぼみ217にインクを塗布することで、インクを乾燥するまでその位置に留めることができる。
バンク層216は、基板201上のスケールパターン202と直線パターン203を回路層215が存在しない両端に形成している。特にスケールパターン202は、表示面214のくぼみ217と同じピッチで形成されている。基板保持部102は、図4に示す通り光源218が設置され、光源218の上方にはカバーガラス219がはめ込まれ、光源218の光がカバーガラス219と、基板201の透明ガラス部分を透過して第1センサ210および第2センサ211に到達するよう構成されている。
本実施の形態では、第1センサ210はフォトセルと呼ばれる受光素子、第2センサ211は透過式のエッジセンサ、光源218は、CCFLと呼ばれる冷極陰線管を一例として考えている。なお、エッジセンサは通常テープの巻き取り機などにおいて、テープのエッジ位置を検出し、テープが蛇行しないように制御するために用いられ、CCFLは例えば液晶ディスプレイのバックライトとして用いられる。
かかる構成によれば、基板201をX軸方向に走査すると、第1センサ210よりスケールパターン202を形成するバンク層216の層がある場所は暗レベルの信号が、バンク層216の層が無い場所は明レベルの信号が出力される。スケールパターンのうち、図面の左側のスケールパターン202aと、くぼみ217の横列のパターンと、右側のスケールパターン202bとは横方向に一直線に並ぶようバンク層216が形成されている。そのため、基板201がヘッドユニット209のノズル列に対して傾き(ヨーイング方向のずれ)が生じない限り、左側の第1センサ210aと右側の第1センサ210bの出力信号の波形は同一となる。
インクジェット装置の周囲温度が変化し、熱膨張により走査軸105やガントリー107などの構成部材が変形し、ヘッドユニット209のノズル列と、くぼみ217の横列に相対的な角度ずれ、すなわち、ヨーイング方向に変化が生じた場合には、基板201の両端部でX軸方向に着弾位置がずれ、くぼみ217にインクが塗布されなくなると共に右側の第1センサ210aと、左側の第1センサ210bの出力信号に位相ずれが生じる。位置演算部213はこの位相ずれを検出し、ずれ量とずれの方向をリアルタイムで搬送制御部207に送り、搬送制御部207はこのずれ量がゼロになるよう、θ軸搬送部206のZ軸周りの回転運動をフィードバック制御する。
その結果、ヘッドユニット209のノズル列と基板201上のくぼみ217の横列に相対的な角度ずれが生じず、ノズル208から吐出されたインクは、常に正確にくぼみ217に着弾することができる。
また、インクジェット装置は、通常、リニアスケール108の位置情報を読み取る位置測定ユニット109からの信号によりノズル208のインクの吐出タイミングを生成しているため、基板201、若しくは、リニアスケール108が周囲の温度変化により熱膨張若しくは熱収縮した場合、走査方向すなわちX軸方向に吐出タイミングがずれ、結果としてインクの着弾位置がずれる。反面、本実施の形態では、位置演算部213が第1センサ210からの信号と、位置測定ユニット109からの信号とを常時に比較し、両者のずれが予め設定された許容値を超えると、次の吐出タイミング以降はその差分をオフセットすることにより、温度変化による収縮分が補正され、正確にくぼみ217に着弾することができる。
具体的には、ずれの許容値が1μmで、ステンレス製のリニアスケールのみが1℃温度が上昇した場合、ステンレスの線熱膨張係数は10.4×10-6/℃なので、1μm/10.4×10-6=96.15mm、すなわち、走査時、約96.15mmX軸方向に移動する毎にインクジェットの吐出タイミングは1μmの補正されることになる。若しくは、第1センサ210から得られた信号の明部の数をカウントし、予め決められたカウント数で、位置測定ユニット109の本来あるべき位置と、実際の位置とのずれ量を算出することで吐出タイミングの補正を行っても良い。
更には、図3に示す通り、スケールパターン202の明部がくぼみ217とY軸方向に同一線上に形成されている場合は、スケールパターン202が暗から明に変わるタイミングで毎回インクの吐出タイミングを補正することで、インクの吐出ピッチを最大化できる。以下、前述する効果を図5および図6を参照しながら説明する。
図5は、本実施の形態における、インクの吐出タイミングを補正しない場合のインク着弾位置を示す平面図であり、図6は、インクの吐出タイミングをくぼみ単位で補正した場合のインク着弾位置を示す平面図である。
通常のインクジェット装置は、走査方向に対して垂直、すなわちY方向にある一定のピッチで複数個設置されるノズル208から、一定周期の吐出信号に同期してインクが吐出される。図5において、ノズル208の中心を通るX軸方向の直線と、Y軸方向にP1のピッチで並ぶ直線の交点がインクが塗布可能な位置となり、それ以外の位置には塗布することができない。例えば、くぼみ217の巾がWで1ノズルあたり2点塗布する必要がある場合、くぼみ217のピッチPWは塗布ピッチP1の整数倍である保証はない。したがって、確実に2点塗布させようとするとP1は1/3W以下とする必要がある(但し、インク液滴の中心がくぼみ217のエッジの内側にあれば、くぼみ内にインクが塗布されると仮定した場合に限る)。
一方、図6において、スケールパターン202のエッジ、すなわち、くぼみ217のエッジを検出した後(図6における「a」の時)に、毎回、吐出信号の補正を行うとすると、塗布ピッチP2は最大1Wでよい(a=0の場合)。すなわち、P2=3×P1となり、これは、吐出周波数が同じであれば、走査速度を3倍に向上でき、走査速度が同じであれば吐出周波数を1/3に低減できることを意味する。前者は生産性の向上が図られ、後者はインク吐出の安定性向上や低性能低コストと言ったインクジェットが使用できるというメリットを有する。
次に、基板201をX軸方向に走査すると、第2センサ211aより、直線パターン203のバンク層216がある場所と、バンク層216が無い場所のX軸方向のエッジラインのY軸方向の位置に応じたレベルの信号が出力される。直線パターン203のエッジラインは、くぼみ217の縦列のラインと平行になるようバンク層216が形成されているため、基板201がヘッドユニット209に対して正確に真直に移動する限り、第2センサ211aからの信号レベルは一定のまま推移し、インクはくぼみ217に着弾する。
インクジェット装置の周囲温度が変化し、熱膨張により走査軸105やガントリー107などの構成部材が変形し、基板201がヘッドユニット209に対し真直に移動しなくなると、Y軸方向に着弾位置がずれると共に、第2センサ211aの信号レベルが変化する。位置演算部213は、第2センサ211aの信号レベルの初期値からの変化量をリアルタイムで搬送制御部207に送り、搬送制御部207はこの変化量がゼロになるよう、Y軸搬送部205のY軸方向の運動をフィードバック制御する。前述のようなフィードバック制御により、ヘッドユニット209と基板201とは、Y軸方向のずれが生じず、ノズル208から吐出されたインクは常に正確にくぼみ217に着弾することができる。
更に、本実施の形態では、基板201の右側にも直線パターン203bと第2センサ211bがあり、第2センサ211a,211bの2個のセンサの平均値を初期値からの変化量として算出することで、真直度の検出精度を向上させることができる。また、基板201が周囲の温度変化によりY軸方向に熱膨張、若しくは熱収縮した場合、2個の第2センサ211a,211bのピッチ間距離が変化し、その変化量を位置演算部213が算出し、インクジェット制御部212へ送り、インクジェット制御部212は、その変化量に基づき、当初のノズルがくぼみからはずれた場合はくぼみ内にある他のノズルに変更することで、基板201がY軸方向に伸び縮みしてもくぼみ217に所定の数のインク液滴を着弾させることができる。
なお、本実施の形態では、検出の信頼性を向上させる目的で、スケールパターン202、直線パターン203の直下の基板保持部102に光源218を設け、第1センサ210を受光素子、第2センサ211を透過式のエッジセンサとしたが、第1センサ210を反射式の光電管、第2センサ211を反射式のエッジセンサとして、光源218を無くす構成としてもよい。また、本実施の形態では、スケールパターン202および直線パターン203は、くぼみ217と同じバンク層216で形成されるとしたが、相関位置精度が保てれば、バンク層216とは別個の層で形成してもよい。また、スケールパターン202と直線パターン203の明部と暗部とは、図4に示す形態と逆でも良い。
なお、本実施の形態では、第1センサ210および第2センサ211を各2個としたが、各4個とすることで、平均化効果により検出精度を高め、さらに着弾精度を高めることができる。その場合の各センサの配置の例を図7に示す。なお、本実施の形態では、ノズル208は第2方向、すなわち、Y軸方向にすべて一直線に並んで配置されるとしたが、結果的にインクの着弾点がY軸方向に定ピッチであればよく、ノズル208はY軸方向に複数列に千鳥で配置されていても、斜めに配置されていても良い。
また、本実施の形態では、走査方向のヨーイング、すなわち、Z軸周りの回転方向の補正をθ軸搬送部206で行う一例を示した。しかし、事前に基板をアライメントすることで補正量を微少にできれば、図1に示すような、移動体の両端に2系統のリニアスケールと駆動源をを有するX軸搬送部において、走査軸が空気軸受けであれば、空気軸受けのクリアランスを利用して、X軸搬送部の左右の移動量をわずかに変えることでヨーイングの補正を行える。
(実施の形態2)
図8は、本発明の実施の形態2のインクジェット装置の要部構成図であり、図9はインクジェット装置の検出部の断面図である。図8および図9において、図1、図3及び図4と同じ構成要素については同じ符号を用い、説明を省略する。
図8および図9において、基板301は、くぼみ217と、くぼみ217と常に同じ位置関係にあるように形成された2個のアライメントマーク302a,302bとを有しており、基板保持部303の上面に保持されている。ここで、アライメントマーク302a,302bは、基板301の走査軸線上、すなわち、図8に示す座標系のX軸方向の基板301の一辺の近傍で、X軸方向に一直線になるよう構成されている。
基板保持部303は、θ軸搬送部304上に設置されており、θ軸方向(Z軸まわり)に回転可能となっている。θ軸搬送部304は、ベース構造体104に設置されている。ベース構造体104上には、ほぼ真直な面を有するストレートエッジ305が、X軸方向に、基板301のアライメントマーク302が付与された辺の近傍に基板保持部303と重ならない位置に設置されている。一方、ノズル208を有するヘッドユニット306は、Y軸搬送部307を介してガントリー308に設置されており、Y軸方向に移動可能となっている。ガントリー308の下部は、X軸搬送部309となっている。ガントリー308は、走査軸105に沿ってX軸方向に移動可能となっている。また、ヘッドユニット306には、アライメントマーク302を検出するためのアライメントカメラ310と、基板301の両端にある2列のくぼみ217を検出するための2個の第1センサ311と、ストレートエッジ305を検出するための第2センサ312が設置されている。なお、図9においては、第1センサ311を反射式の光電管、第2センサ312を反射式のレーザーマイクロとしている。
位置演算部313は、位置測定ユニット109からの入力信号(現在値)と予め設定されているX軸方向(走査)の目標値との差分である偏差を算出し、搬送制御部314に与えると共に、第1センサ311と第2センサ312からの入力信号に基づき、走査時のヨーイングと真直度のずれを計算する。そしてX軸の座標値における各ずれ量を記憶部315に送り、記憶部315はそのずれ量を一時的に記憶する。また、位置演算部313は、位置測定ユニット109からの入力信号(現在値)と、予め設定されているX軸方向(走査)の目標値との差分である偏差を算出し、その偏差に記憶部315に記憶されていたヨーイングのずれ量を補正値として加算した後、搬送制御部314に最終偏差として与え、真直度のずれ量を偏差として与える。搬送制御部314は、各偏差がゼロになるようにX軸搬送部309a、309bとY軸搬送部307を駆動制御する。
また、位置演算部313は、アライメントカメラ310からの入力信号に基づき、基板301の傾きを計算し、それを搬送制御部314に送り、搬送制御部314は、傾きがゼロになるように、θ軸搬送部304を駆動制御できるよう構成されている。
かかる構成によれば、ヘッドユニット306は、X軸搬送部309によりX軸方向に移動されるが、このとき、第2センサ312の出力信号が一定になるように、Y軸搬送部307を補正制御することにより、ヘッドユニット306はX軸方向に真直に移動可能となる。走査軸105は、ガントリー308、ヘッドユニット306の負荷を受けながら、X軸搬送部309を摺動させる機能を有するため、材質と精度に制限があるのに対し、なんら負荷を受けず摺動する機能を持たせる必要がないストレートエッジ305は、例えばインバー材やセラミックなど、温度変化による変形の小さい材料を使用することができ、常に真直度が保たれる。
それゆえ、走査軸105が温度変化や軌道面の磨耗や異物付着等で軌道が経時変化した場合でも、ストレートエッジ305の真直な平面に倣うように、Y軸搬送部307を動かすことで、ヘッドユニット306は真直に移動することができる。その結果、真直度方向にインクの着弾位置がずれることなく、所定の位置に正確に塗布することができる。
なお、ストレートエッジ305は、ほぼ真直な面を持つ長方形またはI型断面を持つビームで、ベース構造体104に設置されている。そのため、インク塗布前に基板301のくぼみ217の列方向を、ストレートエッジ305に平行に、すなわち、くぼみ217の行(ぎょう)方向をストレートエッジ305に垂直になるように、基板301のθ方向の角度を予めアライメントしておく必要がある。これはヘッドユニット306が、第2センサ312の出力信号が一定になるように、Y軸搬送部307を補正制御しながらX軸方向に移動したときの、アライメントカメラ310上のアライメントマーク302a,302bの位置がX軸方向に一直線に並ぶように、θ軸搬送部304を位置決め制御することで実現できる。
前述の通り、Y軸搬送部307を補正制御しながら、インクを吐出させずにX軸搬送部309にてヘッドユニット306をX軸方向に走査すると、第1センサ311よりバンク層216の層がある場所は暗レベルの信号が、層が無い場所は明レベルの信号が出力される。これは回路層215の反射率がバンク層216より高いことによる。くぼみ217のパターンは横方向に一直線に並ぶようバンク層216が形成されているため、基板301がヘッドユニット306のノズル列に対して傾き、すなわち、ヨーイング方向にずれが生じない限り、左側の第1センサ311aと右側の第1センサ311bの出力信号の波形は同一となる。
インクジェット装置の周囲温度が変化し、熱膨張により走査軸105やガントリー308などの構成部材が変形し、ヘッドユニット306のノズル列とくぼみ217の横列に相対的な角度ずれ(ヨーイング方向に変化)が生じた場合、右側の第1センサ311aと左側の第1センサ311bの出力信号に位相ずれが生じる。位置演算部313は、X軸方向の各位置における前記位相ずれを検出し、ずれ量とずれの方向を記憶部315に送り、記憶部315は一旦そのデータを記憶する。
次に、ヘッドユニット306を、インクを吐出させてX軸方向に走査させるが、その前に搬送制御部314は記憶部315より、位相ずれのデータを受領し、搬送制御部314はこのずれ量がゼロになるよう、ストレートエッジ305と反対側にあるX軸搬送部309bを補正制御する。その結果、ヘッドユニット306のノズル列と基板301上のくぼみ217の横列に相対的な角度ずれが生じず、ノズル208から吐出されたインクは常に正確にくぼみ217に着弾することができる。ここで、X軸搬送部309は、その軸受けに僅かに動く場合、たとえばエア軸受けの場合はギャップがあり、わずかながらヨーイング方向に可動できる。したがって、ストレートエッジ305側にあるX軸搬送部309aをマスターにし、反対側に遠く離れたX軸搬送部309bをスレーブ側とすることで、このギャップの範囲内でヨーイング補正できる。
なお、本実施形態において、ストレートエッジ305はベース構造体104に固定設置としたが、ストレートエッジ305をX軸周りに反転できる機構を付加すれば、いわゆる真直度測定における反転法を利用することができ、より高い精度の真直度補正を行うことができる。
以上のように、本実施の形態2はディスプレイとしての制約から、基板にスケールパターンや直線パターンを付与するスペースを準備できない場合に、有効である。
本発明のインクジェット装置は、周囲環境の温度変化により生じるインク塗布走査時の真直度ずれやヨーイングの誤差を補正する機能を有し、大型の基板等を搬送しつつ基板にインクを所望のパターンで安定して高精度に塗布するインクジェット装置として好適に用いることができる。また、インクジェット用のノズルの代わりにラインセンサを装備すると基板を撮像して欠陥を検査する欠陥検査装置として使用できるなど、インクジェット装置以外のさまざまな装置にも適用できる。
201 基板
202 スケールパターン
203 直線パターン
204 X軸搬送部
205 Y軸搬送部
206 θ軸搬送部
207 搬送制御部
208 ノズル
209 ヘッドユニット
210 第1センサ
211 第2センサ
212 インクジェット制御部
213 位置演算部

Claims (7)

  1. 複数のノズルを有するヘッドユニットと、基板を保持する基板保持部とを具備するインクジェット装置において、
    前記ヘッドユニットと前記基板保持部とを第1方向に相対的に移動可能とする搬送機構を備え、前記ヘッドユニットにおいて、前記複数のノズルの外側に第1及び第2センサをそれぞれ一対設けると共に、前記第1センサは前記第2センサに対して外側に配設され、かつ、前記第1センサは受光素子であり、前記第2センサは透過式のエッジセンサで構成されることを特徴とするインクジェット装置。
  2. 前記基板保持部のうち前記基板の外周部に光源が配置されてなる、請求項1記載のインクジェット装置。
  3. 前記基板保持部は前記光源の上方にガラスが嵌め込まれてなる、請求項2記載のインクジェット装置。
  4. 前記基板の前記ヘッドユニットと対向する表面のうち回路層が形成される領域の外側に、前記第1方向に沿って直線パターンと、前記直線パターンの外側かつ前記第1方向に垂直な第2方向に沿ってスケールパターンとが形成される、請求項1〜の何れか一項に記載のインクジェット装置。
  5. 前記第1センサによって前記スケールパターンを検出し、一対の第1センサからの信号を受けて前記第1センサ間の信号ずれをゼロまたは所定値になるように、前記搬送機構にヨーイング補正信号を送る位置演算部を設ける、請求項4記載のインクジェット装置。
  6. 前記第2センサは、前記第1方向に延びる直線パターンのエッジを検出すると共に、前記第2センサからの信号を受けて、前記第2センサからの信号が一定値または前記第1方向の座標値で決まる指定値となるように、前記搬送機構に真直度補正信号を送る位置演算部を設ける、請求項4記載のインクジェット装置。
  7. 前記位置演算部は、前記第1センサからの信号をさらにインクジェット制御部に送り、
    前記インクジェット制御部は、前記第1センサからの信号によりノズルから吐出されるインクの吐出タイミングを補正する、請求項又はに記載のインクジェット装置。
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