JP2013193010A - 塗布装置および塗布方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板Wを基板保持部7が保持した状態において、塗布ユニット21と基板保持部7とを特定の走査方向に相対移動させながら塗布ユニット21が基板W上の塗布対象Gに塗布液を塗布するスキャン動作を行う塗布装置1であって、基板保持部7の把持ユニットが基板Wを把持しながら移動することにより基板Wを引っ張り変形させて基板W上の塗布対象Gの配列の矯正を行った後、スキャン動作を行い、塗布対象Gの配列の矯正では、1回のスキャン動作の塗布開始点において所定の吐出ノズル22が塗布する塗布対象Gの位置と塗布終了点において当該吐出ノズル22が塗布する塗布対象Gの位置とを結ぶ線分の方向が塗布ユニット21の走査方向と平行となるようにする。
【選択図】図10
Description
tanθ1=(Y1−Y2)/(X1−X2) ・・・(1)
d1=dTX×tanθ1 ・・・(2)
式(1)を式(2)に代入することで、d1は、アライメントマークAM1およびアライメントマークAM2の座標から次の式(3)により求められる。
d1=dTX×{(Y1−Y2)/(X1−X2)} ・・・(3)
tanθ2=(Y3−Y4)/(X3−X4) ・・・(4)
d2=dTY×tanθ2 ・・・(5)
式(4)を式(5)に代入することで、d2は、アライメントマークAM3およびアライメントマークAM4の座標から次の式(6)により求められる。
d2=dTY×{(Y3−Y4)/(X3−X4)} ・・・(6)
d2’={(Xc−dTY/2)−X4}×tanθ2 ・・・(7)
このd2’の距離だけTY1軸38とTY2軸39とをY軸の正の方向にシフトさせることにより、基板Wのたわみを防ぐことができる。したがって、Y軸の正の方向のTY1軸38の移動量をd2’、TY2軸39の移動量を(d2+d2’)として移動させることにより、基板Wがたわむことなく、辺L2の向きがX軸と平行になるよう矯正される。なお、この移動量は、上記式(4)乃至式(7)より、アライメントマークAM3およびアライメントマークAM4の座標より計算することが可能である。
d2’’={X3−(Xc+dTY/2)}×tanθ2 ・・・(8)
このd2’’の距離だけTY1軸38とTY2軸39とをY軸の正の方向にシフトさせることにより、基板Wのたわみを防ぐことができる。したがって、Y軸の正の方向のTY1軸38の移動量を(d2+d2’’)、TY2軸39の移動量をd2’’として移動させることにより、基板Wがたわむことなく、辺L2の向きがX軸と平行になるよう矯正される。なお、この移動量は、上記式(4)、式(5)、式(6)、および式(8)より、アライメントマークAM3およびアライメントマークAM4の座標より計算することが可能である。
2 送り出し装置
3 巻き取り装置
4 認識部
5 塗布部
6 基板保持部
7 基板保持部
8 制御部
11 カメラ
12 カメラガントリ
13 駆動装置
21 塗布ユニット
22 吐出ノズル
23 塗布ガントリ
24 駆動装置
25 回転手段
26 液滴
31 中央把持ユニット(把持ユニット)
32 Y1把持ユニット(把持ユニット)
33 X1把持ユニット(把持ユニット)
34 Y2把持ユニット(把持ユニット)
35 X2把持ユニット(把持ユニット)
36 把持ユニット移動手段(TX1軸)
37 把持ユニット移動手段(TX2軸)
38 把持ユニット移動手段(TY1軸)
39 把持ユニット移動手段(TY2軸)
40 ベアリング
41 スライダ
42 回転ステージ
90 塗布装置
91 キャリッジ
92 ヘッド部
93 ノズル
94 液滴
AM1〜AM4 アライメントマーク(アライメント対象)
G 塗布対象
L1〜L4 辺
S 塗布領域
W 基板
Claims (5)
- 直線状に配列された吐出ノズルを有し、前記吐出ノズルから塗布対象へ塗布液を吐出する塗布ユニットと、
基板の一部を載置する基板載置面に基板を載置して把持する把持ユニットを複数有し、それぞれの前記把持ユニットが基板を把持することで基板を保持する基板保持部と、
を備え、
基板を前記基板保持部が保持した状態において、前記塗布ユニットと前記基板保持部とを特定の走査方向に相対移動させながら前記塗布ユニットが基板上の前記塗布対象に塗布液を塗布するスキャン動作を行う塗布装置であって、
前記基板保持部は、一部もしくは全ての前記把持ユニットを前記基板載置面と平行な方向に移動させる複数の把持ユニット移動手段を有し、
前記把持ユニットが基板を把持しながら移動することにより基板を引っ張り変形させて基板上の前記塗布対象の配列の矯正を行った後、前記スキャン動作を行い、
前記塗布対象の配列の矯正では、1回の前記スキャン動作の塗布開始点において所定の前記吐出ノズルが塗布する前記塗布対象の位置と塗布終了点において当該吐出ノズルが塗布する前記塗布対象の位置とを結ぶ線分の方向が前記塗布ユニットの前記走査方向と平行となるようにすることを特徴とする、塗布装置。 - 前記塗布対象の配列の矯正では、基板上に配置された4つのアライメント対象が形成する四辺形の1組の対辺が前記走査方向と平行となる状態にすることにより、1回の前記スキャン動作の塗布開始点において所定の前記吐出ノズルが塗布する前記塗布対象の位置と塗布終了点において当該吐出ノズルが塗布する前記塗布対象の位置とを結ぶ線分の方向が前記塗布ユニットの前記走査方向と平行となるようにすることを特徴とする、請求項1に記載の塗布装置。
- 前記基板載置面と直交する方向に回転軸を有し、前記塗布ユニットを回転させる塗布ユニット回転手段をさらに有することを特徴とする、請求項1または2のいずれかに記載の塗布装置。
- 複数の前記把持ユニット移動手段は、一対の前記把持ユニット移動手段を複数対組み合わせたものであり、対となる前記把持ユニット移動手段は、それぞれ同一の前記把持ユニットを同一の方向に移動させることを特徴とする、請求項1から3のいずれかに記載の塗布装置。
- 直線状に配列された吐出ノズルを有し、前記吐出ノズルから塗布対象へ塗布液を吐出する塗布ユニットと、
基板の一部を載置する基板載置面に基板を載置して把持する把持ユニットを複数有し、それぞれの前記把持ユニットが基板を把持することで基板を保持する基板保持部と、
を備え、
基板を前記基板保持部が保持した状態において、前記塗布ユニットと前記基板保持部とを特定の走査方向に相対移動させながら前記塗布ユニットが基板上の前記塗布対象に塗布液を塗布するスキャン動作を行う塗布装置により、基板上の前記塗布対象に塗布液を塗布する塗布方法であって、
前記基板保持部が基板を変形させることにより基板上の前記塗布対象の配列の矯正を行う矯正工程と、
前記矯正工程で矯正された基板に対し、前記スキャン動作によって前記塗布ユニットが前記塗布対象に塗布液を塗布する塗布工程と、
を有し、
前記矯正工程では、1回の前記スキャン動作の塗布開始点において所定の前記吐出ノズルが塗布する前記塗布対象の位置と塗布終了点において当該吐出ノズルが塗布する前記塗布対象の位置とを結ぶ線分の方向が前記塗布ユニットの前記走査方向と平行となるようにすることを特徴とする、塗布方法。
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