CN104220905A - 太阳光反射板 - Google Patents

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Abstract

本发明的目的在于提供一种维持反射层的优异反射率、耐砂性及耐气候性优异的太阳光反射板。本发明的太阳光反射板具有基板、设置在上述基板上的反射层、和设置在上述反射层上的保护层，其中，上述保护层含有硅及有机物，以换算为SiO2计，含有10～60质量％的硅，与硅化学键合的氧的数量平均为1.5～3.2。

Description

太阳光反射板
技术领域
本发明涉及适合用于太阳能发电的太阳光反射板。
背景技术
一直以来，作为光学的反射镜，使用在平滑性优异的玻璃基板的表面或背面蒸镀铝、银等金属薄膜而成的产物。
在玻璃基板的表面蒸镀金属薄膜时，可得到较高的反射率，但用作太阳能发电的反射板(太阳光反射板)时，由于必然在室外使用，因此存在耐砂性、耐气候性、耐冲击性、轻质化等诸多课题。
针对上述课题，例如，专利文献1提出了下述方案：一种反射型集热板，在金属板(铝、不锈钢等)的表面设置具有反射性的金属(铝、银等)蒸镀膜，将金属蒸镀膜的外表面用透明的无机物质(SiO、SiO2等)的保护膜被覆(权利要求1、第3页左栏第4～23行)。
另外，专利文献2提出了下述方案：包含下述构成而形成的反射板：由铝、钢板、不锈钢等金属、合金或塑料等适宜的材料形成的基材4，由粘附在该基材4上的铝、银等形成的金属反射膜5，由粘附在该金属反射膜5的表面的例如SiO、SiO2之类的玻璃质膜形成的透明性无机质保护膜6(参见2页右上栏)。
进而，专利文献3提出了下述方案：在具有反射性表面的金属基材上设置层合状保护被膜而成的反射体，所述层合状保护被膜以由脱碱金属硅酸盐形成的被膜和直接重叠并粘附在该被膜上的树脂被膜作为形成要素(权利要求1)。
【专利文献1】日本特公昭62－57904号公报
【专利文献2】日本特开昭57－4003号公报
【专利文献3】日本特开昭57－125901号公报
发明内容
本发明人等研究了专利文献1～3中记载的反射板，结果发现存在以下课题。
即，可知专利文献1及2中记载的反射板由于具有无机主体的被膜，因此耐气候性优异，但若用作多置于沙漠地带等沙尘飞来的地带的太阳光反射板，则针对飞来的砂的耐砂性不充分。
另外，可知专利文献3中记载的反射板由于最表层为树脂被膜，因此耐砂性明显较差。
因此，本发明的课题在于，提供一种维持反射层的优异反射率、耐砂性及耐气候性优异的太阳光反射板。
本发明人等为了达成上述课题进行了潜心研究，结果发现通过设置含有硅及有机物的特定保护层，可维持反射层的优异反射率、且耐砂性及耐气候性优异，从而完成了本发明。
即，本发明提供以下的(1)～(5)。
(1)一种太阳光反射板，具有基板、设置在上述基板上的反射层、和设置在上述反射层上的保护层，其中，
上述保护层含有硅及有机物，以换算为SiO2计，含有10～60质量％的硅，与硅化学键合的氧的数量平均为1.5～3.2。
(2)如上述(1)所述的太阳光反射板，其中，上述保护层的弹性模量为0.1～15GPa。
(3)如上述(1)或(2)所述的太阳光反射板，其中，上述反射层含有铝及/或银。
(4)如上述(1)～(3)中任一项所述的太阳光反射板，其中，在上述反射层和上述保护层之间具有中间层，所述中间层含有选自硅烷偶联剂、钛偶联剂、锆偶联剂及有机树脂中的至少一种。
(5)如上述(1)～(4)中任一项所述的太阳光反射板，其中，在上述基板和上述反射层之间，具有至少一层由有机材料及/或无机材料构成的基底层。
根据本发明，能够提供维持反射层的优异反射率、且耐砂性及耐气候性优异的太阳光反射板。
附图说明
【图1】为表示太阳光反射板的实施方式之一例的示意性剖面图。
具体实施方式
本发明的太阳光反射板具有基板、设置在上述基板上的反射层、和设置在上述反射层上的保护层，其中，上述保护层含有硅及有机物，以换算为SiO2计，含有10～60质量％的硅，与硅化学键合的氧的数量平均为1.5～3.2。
接下来，使用附图说明本发明的太阳光反射板的整体结构。
如图1(A)～(C)所示，本发明的太阳光反射板10具有基板1、设置在基板1上的反射层2、和设置在反射层2上的保护层3。
另外，如图1(B)所示，本发明的太阳光反射板10在反射层2和保护层3之间可以具有中间层4。
进而，如图1(C)所示，在基板1和反射层2之间可以具有基底层5。
需要说明的是，图1所示的太阳光反射板10为平面形状，但本发明的太阳光反射板不限于平面形状，也可以为弯曲成沟状(槽状)、抛物线状的形状。
接着，对于本发明的太阳光反射板的各结构，对材料、形成方法等进行说明。
＜基板＞
本发明的太阳光反射板具备的基板没有特别限定，例如，可使用钢板、塑料板、陶瓷板、玻璃板等基板。
上述物质中，作为可适合使用的钢板，只要为通常的钢板则没有特别限定，考虑到背面、切割面的耐蚀性优异的理由优选不锈钢钢板，考虑到经济性的观点、通过涂布等能够改善耐蚀性的理由，优选冷轧钢板、镀锌等的钢板。
本发明中，从降低后述反射层及保护层的表面粗糙度的观点考虑，上述基板的表面优选为平滑的表面。
对于上述基板表面的平滑化来说，可以利用压延、表皮光轧、砂纸抛光、电解抛光、电解复合抛光等抛光进行平滑化，利用在上述基板表面实施有机物及/或无机物的涂布的方法、用粘合剂等层压平滑膜的方法、用热层压贴合平滑膜的方法等进行平滑化。
另外，本发明中，对于上述基板的板厚，从容易进行弯曲加工的观点考虑，优选为10mm以下，特别是从弯曲加工的施工性的观点考虑，较优选为6mm以下。
＜反射层＞
本发明的太阳光反射板具备的反射层只要为含有金属的反射层则没有特别限定。
作为上述金属，具体可举出例如反射率高的铝(Al)、银(Ag)等，从经济的观点考虑，优选Al。
对于上述反射层中金属的含量，从反射率提高的观点考虑，优选为50质量％以上，较优选为80质量％以上，更优选为90质量％以上。
本发明中，将上述反射层粘附在上述基板(具有后述的基底层时为基底层)上的方法没有特别限定，例如，可应用蒸镀法、溅射法、电镀法、热浸镀法、非电解镀法等方法。
此处，应用了蒸镀法或溅射法时，上述反射层的膜厚从反射率提高及均匀性的观点考虑，优选为0.001～0.5μm，较优选为0.01～0.2μm。
另外，应用了电镀法或热浸镀法时，上述反射层的膜厚成为5～200μm左右，从反射率提高的观点考虑，优选通过压延、表皮光轧、抛光等降低镀覆的表面粗糙度。
另外，本发明中，作为上述反射层，可使用将Al、Ag等金属蒸镀或溅射而成的膜、玻璃片材。需要说明的是，在所述方案中，上述反射层可以利用粘合剂、热层压贴合于上述基板。
作为上述膜，具体可举出例如PET膜、聚酯膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚烯烃膜、聚氯乙烯膜、聚偏氯乙烯膜、丙烯酸树脂膜、聚乙烯醇膜、聚碳酸酯膜、聚苯乙烯膜、聚丙烯腈膜、乙烯乙酸乙烯酯共聚物膜、乙烯－乙烯醇共聚物膜、乙烯－甲基丙烯酸共聚物膜、尼龙膜、离子交联聚合物膜、有机硅膜等树脂主体的膜等。
此处，上述膜的表面粗糙度没有特别限定，从反射率提高的观点考虑期望较小，具体而言，以算术平均粗糙度(Ra)计，优选为0.2μm以下，较优选为0.02μm以下。
另外，上述膜的厚度没有特别限定，从抑制上述基板的表面粗糙度的影响、提高反射率的观点考虑，优选为1μm以上，较优选为5μm以上。同样地，对于上述膜的厚度，从经济观点考虑，优选为5000μm以下，较优选为500μm以下。
另一方面，玻璃片材没有特别限定，作为其表面粗糙度，以Ra计，优选为0.2μm以下，较优选为0.02μm以下。
另外，玻璃片材的厚度也没有特别限定，从容易进行弯曲加工的观点考虑，优选为50～1000μm，较优选为100～500μm。
＜保护层＞
本发明的太阳光反射板具备的保护层为含有硅(Si)及有机物的特定保护层。
此处，考虑若作为保护层使用无机物主体的玻璃质被膜，则由于为硬的素材，因此不易划伤，但由于作为材料来说较脆，因此可知反而不耐受由飞沙引起的微小划痕、透明性易降低。
另外，若作为保护层使用有机硅橡胶、有机硅树脂，则由于为柔软的素材，因此容易引入划痕，耐砂性差。
因此，本发明人等经过潜心研究，结果发现含有Si和有机物、Si的含量(以下也称作“Si含量”。)成为特定值，并且与Si键合的氧(O)的数量(以下也称作“Si键合氧数”。)成为特定值的保护层能够维持上述反射层的优异反射率、且能够大幅改善耐砂性及耐气候性。
(Si含量)
上述保护层中的Si的含量以换算为SiO2计为10～60质量％，优选为15～50质量％，较优选为20～40质量％。
若Si含量为上述范围，则耐砂性及耐气候性变得良好。认为其原因是，来自Si的硬度与来自有机物的柔软性的均衡性优异。
此处，保护层中的Si含量可利用X射线荧光分析法、ICP－AES法进行定量。需要说明的是，对于ICP－AES法来说，可采用剥离或磨削保护层进行分析的方法，但也可以对从表层直至厚度的50％左右以上为止的部位进行分析作为代表。另外，保护层为薄膜时，有时反射层、基板混入分析试样中，将它们(混入了的反射层、基板)进行分析定量，并扣除，由此可将保护层的Si含量定量。
本发明中，Si及有机物的分散(混合)状态可能形成海岛结构，Si及有机物中的任一种可以形成相当于岛的部分。
另外，考虑到耐砂性变得更加良好的理由，Si及有机物的分散状态，优选相当于岛的部分较小，具体而言该部分的直径优选为100nm以下，较优选为50nm以下。
进而，考虑到透明性变高的理由，Si及有机物优选为以分子水平进行化学键合而成的复合体、混合体。
(Si键合氧数)
上述保护层中的Si键合氧数平均为1.5～3.2，优选为1.7～2.7。
若Si键合氧数在上述范围，则耐砂性及耐气候性变得良好。认为其原因是，交联良好地进行，形成适度的分子结构。
此处，与一个Si原子化学键合的氧的平均数是指利用固体NMR(偶极去耦(Dipolar Decoupling)法)确认到的值，例如，可使用日本电子制JNM－ECA系列进行测定。
作为所述保护层，例如，可使用使含有烷氧基甲硅烷基、硅烷醇基等的硅烷化合物交联(固化)，生成硅氧烷键而成的有机硅系化合物(有机硅系树脂)。
作为上述硅烷化合物，例如，可举出1官能性的R3Si(OR)1、2官能性的R2Si(OR)2、3官能性的R1Si(OR)3、4官能性的Si(OR)4(各式中，R表示氢原子或有机基团)，通过适当组合使用各官能团数的硅烷化合物，可调整上述Si键合氧数。
作为用作上述保护层的有机硅系树脂的原料(硅烷化合物)，具体可举出，例如，
四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷等四烷氧基硅烷类；
甲基三甲氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、正丙基三甲氧基硅烷、正丙基三乙氧基硅烷、己基三甲氧基硅烷、己基三乙氧基硅烷、癸基三甲氧基硅烷、三氟丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、2－(3，4－环氧基环己基)乙基三甲氧基硅烷、3－环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3－环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、对苯乙烯基三甲氧基硅烷、3－丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、N－2－(氨基乙基)－3－氨基丙基三甲氧基硅烷、3－氨基丙基三甲氧基硅烷、3－脲基丙基三乙氧基硅烷、3－巯基丙基三甲氧基硅烷、双(三乙氧基甲硅烷基丙基)四硫醚、3－异氰酸酯丙基三乙氧基硅烷等三烷氧基硅烷类；
二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、3－环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、3－环氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、3－甲基丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、N－2－(氨基乙基)－3－氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、3－巯基丙基甲基二甲氧基硅烷等二烷氧基硅烷类；
甲基三氯硅烷、二甲基二氯硅烷、三甲基氯硅烷、苯基三氯硅烷、三甲基氯甲硅烷、三乙基氯甲硅烷等氯硅烷类；
六甲基二硅氮烷等硅氮烷类；等，上述物质可单独使用一种，也可以合用两种以上。
上述保护层中的有机物没有特别限定，例如，可来自上述硅烷化合物所具有的官能团(例如，烷基、苯基、环氧基、乙烯基、甲基丙烯酰基、丙烯酰基等)，但从调整Si含量的观点考虑，也可以为与交联前的硅烷化合物或交联后的有机硅系树脂一并混合或复合化的环氧树脂、丙烯酸树脂、聚酯树脂、烯烃系树脂等。
需要说明的是，作为有机物，使用上述树脂时，根据需要可以通过加热或紫外线使其固化。
作为上述保护层中的有机物的其他例子，从滑移性等操作性能提高、被膜硬度提高的观点考虑，可举出有机填料、树脂稳定剂等。
作为上述有机填料，具体而言可举出例如聚苯乙烯、聚丙烯酸酯等，上述物质可以单独使用一种，也可以合用两种以上。
作为上述树脂稳定剂，具体可举出例如受阻胺系光稳定剂；苯并三唑系紫外线吸收剂；苯酚系、磷系、硫系抗氧化剂；等，上述物质可以单独使用一种，也可以合用两种以上。
上述保护层可以含有除Si及有机物以外的其他成分，例如，从滑移性等操作性能提高、被膜硬度提高的观点考虑，也可以含有无机填料。
作为上述无机填料，具体可举出例如氧化钛、碳酸钙、氧化锆、氧化铝、氧化镁、氧化锌、硫酸钡、磷酸钙等，上述物质可以单独使用一种，也可以合用两种以上。
需要说明的是，含有除Si及有机物以外的其他成分时，其含量只要在不损害本发明的效果的范围内即可，没有特别限定，优选在保护层中为15质量％左右以下。
本发明中，对于上述保护层的弹性模量，从使耐砂性更加良好的理由考虑，优选为0.10～15GPa，较优选为0.5～10GPa。
此处，弹性模量例如可使用Fischer Instruments K.K制的Picodenter HM500测定。
另外，本发明中，上述保护层的表面形状没有特别限定，从集光率的观点考虑，优选为平滑。
关于上述保护层的表面粗糙度，从扩散的反射成分减少、能够将正反射率维持在更高水平的理由考虑，算术平均粗糙度(Ra)优选为0.10μm以下。需要说明的是，Ra可基于JIS B0601(2001)进行测定。
此处，由于上述保护层的表面粗糙度可通过控制上述基板、上述反射层的表面形状从而一定程度地进行调整，因此为了降低上述保护层的表面粗糙度，预先降低上述基板、上述反射层的表面粗糙度是有效的。
另外，上述保护层的表面粗糙度也可以通过使形成上述保护层的涂布液为低粘度、或延长直至固化为止的时间等方法来调整。
进而，利用丙酮、甲苯、乙醚、甲基溶纤剂、溶纤剂、丁基溶纤剂(乙二醇单丁基醚)、乙醇、异丙醇、丙二醇1－单甲基醚2－乙酸酯(propylene glycol 1-monomethyl ether 2-acetate)、水这样的溶剂进行稀释涂布的方法也有效。需要说明的是，作为此时的固态成分浓度，优选为0.5～50质量％左右。
进而，本发明中，上述保护层的厚度没有特别限定，但从反射率与保护的均衡的观点考虑，优选为0.01～20μm，较优选为0.01～10μm，特别优选为0.1～5μm。
＜中间层＞
对于本发明的太阳光反射板，考虑到改善上述保护层的密合性、使耐气候性更加良好的理由，优选在上述反射层与上述保护层之间设置中间层。
上述中间层含有选自硅烷偶联剂、钛偶联剂、锆偶联剂及有机树脂中的至少一种。
另外，对于上述中间层的膜厚，在使用了硅烷偶联剂、钛偶联剂、锆偶联剂时，优选单分子层水平(数埃)～0.5μm左右，使用了有机树脂时优选0.1～5μm左右。
作为上述硅烷偶联剂，例如，可举出具有乙烯基、环氧基、苯乙烯基、甲基丙烯酰基、丙烯酰基、氨基、脲基、巯基、硫醚基、异氰酸酯基等官能团的烷氧基硅烷。
作为上述钛偶联剂，例如，可举出四异丙醇钛、四正丁醇钛、丁醇钛二聚体、四(2-乙基己醇)钛(titanium tetra-2-ethylhexoxide)等。
作为上述锆偶联剂，例如，可举出乙酸锆、碳酸锆铵、氟化锆等。
上述物质中，考虑到能够使与上述保护层的相容性变得良好、改善耐气候性、将上述反射层的优异反射率维持在更高水平的理由，优选为硅烷偶联剂。
需要说明的是，作为上述中间层使用了硅烷偶联剂时，上述中间层可看作是上述保护层的一部分，可以将硅烷偶联剂的换算为SiO2的量加入到上述保护层的Si含量中。
另一方面，作为有机树脂，例如，可适用透明性及耐光性优异的氯乙烯树脂、氯醋树脂、丙烯酸树脂、改性烯烃树脂、聚酯树脂、聚碳酸酯树脂等。
＜基底层＞
对于本发明的太阳光反射板，从改善反射层的平滑性、提高反射率的理由考虑，优选在上述基板与上述反射层之间设置至少一层由有机材料及/或无机材料构成的基底层。
作为上述由有机材料构成的基底层，具体可举出例如PET膜、聚酯膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚烯烃膜、聚氯乙烯膜、聚偏氯乙烯膜、丙烯酸树脂膜、聚乙烯醇膜、聚碳酸酯膜、聚苯乙烯膜、聚丙烯腈膜、乙烯乙酸乙烯酯共聚物膜、乙烯－乙烯醇共聚物膜、乙烯－甲基丙烯酸共聚物膜、尼龙膜、离子交联聚合物膜、有机硅膜等树脂主体的膜等。
作为上述由无机材料构成的基底层，具体可举出例如玻璃片材、玻璃涂层；镍、锌等金属镀层；等。
【实施例】
以下举出实施例具体说明本发明。但是，本发明不限于所述实施例。
〔实施例1～71、比较例1～16〕
针对下述表1～表3所示的基板，通过以下所示的方法形成下述表1～表3所示的基底层、反射层、中间层及保护层，制作太阳光反射板。
需要说明的是，下述表1～表3中用“－”表示的地方表示未设置该项目(未处理)。另外，下述表1～表3中所示的基板具体可使用以下的基板，作为基板使用不锈钢钢板、冷轧钢板、热浸镀锌的钢板、电镀锌的钢板中的任一种时，在形成反射层的基板表面实施表皮光轧加工。
(基板)
·不锈钢钢板：SUS430(板厚0.1mm)
·冷轧钢板：SPCC(板厚0.35mm)
·塑料基板：氯乙烯(板厚5mm)
·陶瓷基板：纤维增强水泥板〔柔性板(板厚5mm、MitsubishiMaterials Corporation制)〕
·玻璃基板：浮法玻璃(float sheet glass)(板厚5mm、旭硝子公司制)
·热浸镀锌的钢板(板厚0.30mm、两面镀覆、每一面镀覆附着量：100g/m2)
·电镀锌的钢板(板厚0.45mm、两面镀覆、每一面镀覆附着量：20g/m2)
(基底层)
对于基底层，针对基板使用粘合剂进行贴合而形成。
此处，作为基底层的PET膜，使用算术平均粗糙度(Ra)为0.1μm且具有下述表1～表3所示的厚度(下述表1～表3中未记载时厚度为50μm)的PET膜。
另外，作为实施例50中使用的基底层的玻璃片材，使用旭硝子公司制的AN100(板厚0.5mm)。
另外，作为实施例54中使用的基底层的玻璃涂层，使用将低温密封用粉末玻璃(BAS115、旭硝子公司制)在500℃下烧成30分钟，制成100μm厚度的玻璃涂层。
(反射层)
反射层通过在基底层上蒸镀下述表1～表3所示的Al或Ag而形成。需要说明的是，对于实施例60，将熔融了的Al镀覆在基底层上使形成100μm厚，之后，实施镜面抛光，形成80μm厚，由此形成。
此处，反射层的厚度在下述表1～表3中未记载时为0.1μm。
(中间层)
中间层如下形成，在反射层上按照10g/m2涂布溶解有下述表1～表3所示的硅烷偶联剂等的0.5质量％水溶液，在110℃下干燥5分钟而形成。需要说明的是，各中间层的厚度如下述表1～表3所示。
此处，作为硅烷偶联剂，使用3－环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷，作为钛偶联剂使用四异丙醇钛，作为锆偶联剂使用碳酸锆铵。
需要说明的是，对于带有#的硅烷偶联剂，使用3－氨基丙基三甲氧基硅烷。
(保护层)
保护层如下形成，将下述表4所示的配合剂及下述表5所示的固化剂混合在溶剂(乙二醇单丁基醚)中，使得成为下述表1～表3所示的质量比例，得到涂布液(固态成分浓度10质量％)，将该涂布液使用棒涂器涂布在反射层(设置了中间层时为中间层)上，在下述表1～表3所示的固化条件下加热干燥而形成。需要说明的是，对于比较例10～14，不使用下述表4所示的配合剂及下述表5所示的固化剂，使用下述表1所示的有机硅橡胶(RTV橡胶KE－1842、固化条件：120℃×1hr、厚度1μm、信越化学工业公司制)、有机硅树脂(KR－300、固化条件：250℃×1hr、厚度1μm、信越化学工业公司制)、SiO2蒸镀膜、硼硅酸盐玻璃、金属硅酸盐(硅酸锂LSS45、日产化学工业制)，形成保护层。
此处，关于形成的保护层，Si含量(换算为SiO2)通过剥离保护层或从表层削取保护层，利用碱熔化/ICP－AES法进行定量。Si键合氧数由固体NMR(JNM－ECA系列、日本电子制)的化学位移算出。将这些结果与弹性模量、厚度及算术平均粗糙度(Ra)的测定结果一并示于下述表1～表3。
对于制作的各太阳光反射板，通过以下所示的评价方法评价反射率、耐砂性及耐气候性。将它们的结果示于下述表1～表3。
＜反射率＞
使用分光光度计(UV－3100PC、岛津制作所公司制)，测定波长300～2500nm下的正反射率，作为乘以基于JIS K5602(2008)的权重系数所得的日照反射率进行评价。将70％以上视为合格。
＜耐砂性＞
基于JIS H8503(1989)，以向试验面落下2kg碳化硅时的正反射率的减少率进行评价。
(判定基准)
◎：5％以下(合格)
○：大于5％～10％以下(合格)
△：大于10～30％以下(不合格)
×：大于30％(不合格)
＜耐气候性＞
基于JIS D0205(1987)，以进行了1000小时sunshine weather test时的正反射率的减少率进行评价。
(判定基准)
◎：5％以下(合格)
○：大于5％～10％以下(合格)
△：大于10～30％以下(不合格)
×：大于30％(不合格)
【表1】
【表4】
配合剂
A 四甲氧基硅烷
B 3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷
C 甲基三甲氧基硅烷
D 3-环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷
E 二甲基二甲氧基硅烷
F 三甲基氯甲硅烷
G 1,4-丁二醇二缩水甘油醚
X 氧化钛(金红石型、粒径10nm)
Y 碳酸钙(粒子径0.2μm)
Z 氧化锆(粒子径0.6μm)
【表5】
由表1～表3中所示的结果可知，若使用Si含量(换算成SiO2)及Si键合氧数中的任一方或两方在规定的范围外的保护层，则虽然能够维持高反射率，但是耐砂性及耐气候性差(比较例1～14)。
另一方面，可知若使用Si含量(换算成SiO2)及Si键合氧数均在规定范围内的保护层，则维持反射层的优异反射率，且耐砂性及耐气候性也变得良好(实施例1～71)。
特别是，可知作为基板使用不锈钢钢板、冷轧钢板、热浸镀锌的钢板或电镀锌的钢板，在反射层和保护层之间设置了中间层的实施例14～21、24～31、33～47、49～50、61～71中制作的太阳光反射板，存在耐砂性及耐气候性(特别是耐气候性)进一步提高的倾向。
符号说明
1  基板
2  反射层
3  保护层
4  中间层
5  基底层
10  太阳光反射板。

Claims (5)

1.一种太阳光反射板，具有基板、设置在上述基板上的反射层、和设置在上述反射层上的保护层，其中，
上述保护层含有硅及有机物，以换算为SiO2计，含有10～60质量％的硅，与硅化学键合的氧的数量平均为1.5～3.2。
2.如权利要求1所述的太阳光反射板，其中，上述保护层的弹性模量为0.1～15GPa。
3.如权利要求1或2所述的太阳光反射板，其中，上述反射层含有铝及/或银。
4.如权利要求1～3中任一项所述的太阳光反射板，其中，在上述反射层和上述保护层之间具有中间层，所述中间层含有选自硅烷偶联剂、钛偶联剂、锆偶联剂及有机树脂中的至少一种。
5.如权利要求1～4中任一项所述的太阳光反射板，其中，在上述基板和上述反射层之间，具有至少一层由有机材料及/或无机材料构成的基底层。
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