WO2012008498A1

WO2012008498A1 - 太陽熱集熱用反射板の表面塗布用塗料組成物および太陽熱集熱用反射板の製造方法

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Publication number: WO2012008498A1
Application number: PCT/JP2011/066005
Authority: WO
Inventors: 俊齋藤; 将崇相川; 増田　祥
Original assignee: 旭硝子株式会社
Priority date: 2010-07-14
Filing date: 2011-07-13
Publication date: 2012-01-19
Also published as: JP2013199507A

Abstract

　耐熱性、耐水性等の耐久性に優れ、かつ密着性、耐候性、耐酸性、耐擦傷性および耐衝撃性に優れた塗膜を表面に形成できる太陽熱集熱用反射板の表面塗布用塗料組成物、および該塗料組成物を使用した太陽熱集熱用反射板の製造方法の提供を目的とする。　フルオロオレフィンに基づく重合単位（α１）と、オキセタニル基または置換基を有するオキセタニル基を有する単量体に基づく重合単位（α２）とを有する含フッ素重合体（Ａ）、および光反応開始剤（Ｂ）を含有する塗料組成物。また、該塗料組成物を、反射基板の表面に塗布して塗布層を形成した後、光照射により硬化させて塗膜を形成させる太陽熱集熱用反射板の製造方法。

Description

太陽熱集熱用反射板の表面塗布用塗料組成物および太陽熱集熱用反射板の製造方法

　本発明は、太陽熱集熱用反射板の表面塗布用塗料組成物および太陽熱集熱用反射板の製造方法に関する。

　近年、地球環境問題の観点から、化石燃料の使用量を抑える試みが多くなされており、その一つとして太陽熱を利用する太陽熱集熱システムが知られている。太陽熱集熱システムとしては、例えば、水、無機塩等の熱媒を備えた集熱管と、太陽光を反射して前記集熱管に集める反射板とを有する太陽熱集熱システムが挙げられる。該太陽熱集熱システムでは、反射板で太陽光を反射して集熱管に集め、その太陽光の熱で集熱管の熱媒を加熱することで熱エネルギーを得る。

　太陽熱集熱システムに使用される反射板としては、ガラス基板と、該ガラス基板上に形成された金属反射層とからなる反射基板の金属反射層上に、塗膜（裏止め塗膜）が形成された鏡が広く用いられている。該鏡では、裏止め塗膜によって、金属反射層の腐食および変質が抑制される。具体的には、透明なガラス基板に、金属反射層として銀膜を形成する。しかし、銀膜は、非常に酸化されやすい。そのため、銀膜上に、防錆塗料を塗布し、乾燥、硬化させて裏止め塗膜を形成する。また、銀膜上に該銀膜の保護のための銅膜を形成した後、該銅膜上にさらに前記防錆塗料による塗膜を形成する場合もある。
　前記防錆塗料としては、アルキッド樹脂系塗料、エポキシ樹脂系塗料、アクリル樹脂系塗料、ポリエステル樹脂系塗料等が使用される。しかし、前記防錆塗料を使用した場合、塗料の乾燥、硬化に時間を要するため、鏡の生産性が低い。また、塗料の乾燥、硬化に大量の熱エネルギーを必要とするため、生産コストが高騰する。そこで、以下に示す鏡の製造方法が示されている。
　（ｉ）紫外線硬化型塗料を利用して裏止め塗膜を形成する鏡の製造方法（特許文献１）。
　（ii）電子線硬化型塗料を利用して裏止め塗膜を形成する鏡の製造方法（特許文献２）。
　製造方法（ｉ）および（ii）ではいずれも、塗料の主成分として、アクリル系モノマーおよびアクリル系オリゴマーを使用しており、硬化速度が速く生産性の面で有利である。

　しかし、製造方法（ｉ）および（ii）で使用されるアクリル系モノマーおよびアクリル系オリゴマーは、硬化の際に、空気中の酸素による硬化阻害を受けやすい。そのため、窒素雰囲気中で硬化させる等の対応が必要であり、製造工程の管理が難しい。また、製造方法（ｉ）および（ii）により製造する鏡は、屋内で使用することを想定している。そのため、形成される塗膜は、太陽熱集熱用反射板のように、砂漠等の屋外に長期間曝される苛酷な使用環境は考慮されていない。太陽熱集熱用反射板では、長期間、砂漠等の屋外で使用されることにより、以下の問題が生じる。
　（１）塗膜の熱による膨張、収縮によって、塗膜が反射基板から剥離する。
　（２）塗膜の吸湿、吸水によって金属反射層や反射基板が酸化され、反射板の反射率が低下する。
　（３）太陽熱集熱用反射板の塗膜は露出している場合が多いため、砂等の衝突や太陽光、酸性雨によって塗膜が劣化する。
　以上のように、太陽熱集熱用反射板には、生産性に優れ、製造工程の管理が容易であることに加え、形成される塗膜が、前記問題（１）、（２）を解決するために耐熱性、防湿性、耐水性等の耐久性が優れていること、および問題（３）を解決するために耐候性、耐酸性、耐擦傷性、および耐衝撃性が優れていることが求められる。

　一方、太陽熱集熱システムには、太陽光を反射させる反射板として、アルミニウム、アルミニウム合金、ステンレス等の金属からなる反射基板の表面に、鏡面仕上げ面（反射面）を形成した太陽熱集熱用反射板も広く用いられている。該太陽熱集熱用反射板は、屋外で使用されるため、高い反射率を長期間維持する目的で反射面を保護する試みがなされている。例えば、以下の太陽熱集熱用反射板が示されている。
　（iii）アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる反射基板上に、４フッ化エチレン－６フッ化プロピレン共重合体樹脂を被覆して保護層を形成した太陽熱集熱用反射板（特許文献３）。
　（iv）アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる反射基板上に、ポリシロキサンのゾル－ゲルラッカーからなる保護層を形成した太陽熱集熱用反射板（特許文献４）。

　しかし、太陽熱集熱用反射板（iii）および（iv）は、耐候性が充分とは言えず、また塗膜の機能と生産性の両立の面でも充分とは言えない。

特開昭５４－１００４１４号公報特開昭５９－１７４５４６号公報特開昭５８－６４４５２号公報特表２００３－５３２９２５号公報

　本発明は、耐熱性、耐水性等の耐久性に優れ、かつ密着性、耐候性、耐酸性、耐擦傷性および耐衝撃性に優れた塗膜を、表面に有する太陽熱集熱用反射板を高い生産性で製造できる、太陽熱集熱用反射板の表面塗布用塗料組成物、および該塗料組成物を使用した太陽熱集熱用反射板の製造方法の提供を目的とする。

　本発明は、前記課題を解決するために以下の構成を採用した。
［１］フルオロオレフィンに基づく重合単位（α１）と、オキセタニル基または置換基を有するオキセタニル基を有する単量体に基づく重合単位（α２）とを有する含フッ素重合体（Ａ）、および光反応開始剤（Ｂ）を含有する太陽熱集熱用反射板の表面塗布用塗料組成物。［２］前記含フッ素重合体（Ａ）中の全重合単位における重合単位（α１）および重合単位（α２）を合計した含有割合が３０モル％以上であり、重合単位（α１）と重合単位（α２）のモル比（α１／α２）が２０／８０～８０／２０である［１］に記載の太陽熱集熱用反射板の表面塗布用塗料組成物。［３］前記含フッ素重合体（Ａ）が、アルキルビニルエーテル類、アルキルビニルエステル類、アルキルアリルエーテル類、α－不飽和環状エーテル類および（メタ）アクリル酸エステル類からなる群から選ばれる少なくとも１種の単量体に基づく重合単位（α３）を有する含フッ素重合体である［１］または［２］に記載の太陽熱集熱用反射板の表面塗布用塗料組成物。［４］前記含フッ素重合体（Ａ）中の全重合単位における重合単位（α３）の含有割合が５～５０モル％である［３］に記載の太陽熱集熱用反射板の表面塗布用塗料組成物。［５］前記含フッ素重合体（Ａ）が、架橋性基（オキセタニル基、および置換基を有するオキセタニル基を除く。）を有する単量体に基づく重合単位（α４）を有する含フッ素重合体である［１］～［４］のいずれかに記載の太陽熱集熱用反射板の表面塗布用塗料組成物。［６］前記含フッ素重合体（Ａ）中の全重合単位における重合単位（α４）の含有割合が１～２０モル％である［５］に記載の太陽熱集熱用反射板の表面塗布用塗料組成物。［７］前記含フッ素重合体（Ａ）が、アルキルビニルエーテル類、アルキルビニルエステル類、アルキルアリルエーテル類、α－不飽和環状エーテル類、および（メタ）アクリル酸エステル類からなる群から選ばれる少なくとも１種の単量体に基づく重合単位（α３）、ならびに架橋性基（オキセタニル基、および置換基を有するオキセタニル基を除く。）を有する単量体に基づく重合単位（α４）を含有し、かつ重合単位（α３）と重合単位（α４）のモル比（α３／α４）が、５／２０～５０／１である［１］～［６］のいずれか一項に記載の太陽熱集熱用反射板の表面塗布用塗料組成物。［８］前記含フッ素重合体（Ａ）中のオキセタニル基、または置換基を有するオキセタニル基との反応により化学結合を形成する反応性官能基を１分子中に２個以上有する化合物（Ｃ）を含有する［１］～［７］のいずれかに記載の太陽熱集熱用反射板の表面塗布用塗料組成物。［９］顔料成分（Ｄ）を含有する［１］～［８］のいずれかに記載の太陽熱集熱用反射板の表面塗布用塗料組成物。［１０］反射基板の表面に、［１］～［９］のいずれかに記載の太陽熱集熱用反射板の表面塗布用塗料組成物を塗布して塗布層を形成した後、光照射により硬化させて塗膜を形成させる太陽熱集熱用反射板の製造方法。［１１］反射基板が、一方の面に金属および金属酸化物の少なくとも一方からなる反射層を有するガラス基板からなる反射基板（Ｉ）である［１０］に記載の太陽熱集熱用反射板の製造方法。［１２］反射基板が、金属からなる基板の反射面側が鏡面仕上げになっている反射基板（II）である［１０］に記載の太陽熱集熱用反射板の製造方法。［１３］反射基板が、金属からなる基板の反射面側に金属および金属酸化物の少なくとも一方からなる反射層が形成された反射基板（III）である［１０］に記載の太陽熱集熱用反射板の製造方法。［１４］金属からなる基板が、アルミニウム、アルミニウム合金およびステンレスからなる群から選ばれる少なくとも１種からなる基板である［１２］または［１３］に記載の太陽熱集熱用反射板の製造方法。

　本発明の太陽熱集熱用反射板の表面塗布用塗料組成物を使用すれば、耐熱性、耐水性等の耐久性に優れ、かつ密着性、耐候性、耐酸性、耐擦傷性および耐衝撃性に優れた塗膜を表面に有する太陽熱集熱用反射板を高い生産性で簡便に製造できる。
　また、本発明の製造方法によれば、耐熱性、耐水性等の耐久性に優れ、かつ密着性、耐候性、耐酸性、耐擦傷性および耐衝撃性に優れた塗膜を表面に有する太陽熱集熱用反射板を高い生産性で簡便に製造できる。

本発明の太陽熱集熱用反射板の製造工程を示した断面図である。本発明の太陽熱集熱用反射板の製造工程を示した断面図である。本発明の太陽熱集熱用反射板の製造工程を示した断面図である。

　本発明においては、単量体が重合することで形成される重合単位を「単位」という。また、本明細書においては、（メタ）アクリル酸との記載は、アクリル酸とメタクリル酸の少なくとも一方を示す。

＜太陽熱集熱用反射板の表面塗布用塗料組成物＞
　本発明の太陽熱集熱用反射板の表面塗布用塗料組成物（以下、単に「塗料組成物」ともいう。）は、フルオロオレフィンに基づく重合単位（α１）と、オキセタニル基または置換基を有するオキセタニル基を有する単量体に基づく重合単位（α２）とを有する含フッ素重合体（Ａ）、および光反応開始剤（Ｂ）を必須成分として含む組成物である。

［含フッ素重合体（Ａ）］
　本発明における含フッ素重合体（Ａ）は、後述する光反応開始剤（Ｂ）の存在下、硬化して塗膜を形成できる含フッ素重合体である。含フッ素重合体（Ａ）は、フルオロオレフィンに基づく単位（α１）と、オキセタニル基または置換基を有するオキセタニル基を有する単量体に基づく単位（α２）とを有する。

（単位（α１））
　単位（α１）は、フルオロオレフィンに基づく単位である。
　フルオロオレフィンは、オレフィン炭化水素（一般式Ｃ_ｎＨ_２ｎ）の水素原子の１個以上がフッ素原子で置換された化合物である。
　フルオロオレフィンの炭素数は、２～８が好ましく、２～６がより好ましい。
　フルオロオレフィンにおけるフッ素原子の数（以下、「フッ素付加数」という。）は、２以上が好ましく、３～４がより好ましい。フッ素付加数が２以上であれば、塗膜の耐候性が向上する。フルオロオレフィンにおいては、フッ素原子で置換されていない水素原子の１個以上が塩素原子で置換されていてもよい。

　フルオロオレフィンとしては、テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、フッ化ビニリデンおよびフッ化ビニルからなる群から選ばれる１種以上が好ましく、テトラフルオロエチレン、またはクロロトリフルオロエチレンがより好ましい。
　含フッ素重合体（Ａ）に含まれる単位（α１）は、１種のみであってもよく、２種以上の組み合わせであってもよい。
　単位（α１）としては、フルオロオレフィンを重合することで直接形成される繰り返し単位が好ましい。

（単位（α２））
　単位（α２）は、オキセタニル基を有する単量体（以下、「単量体（ａ２１）」という。）または置換基を有するオキセタニル基を有する単量体（以下、「単量体（ａ２２）」という。）に基づく単位である。
　単量体（ａ２１）としては、オキセタニル基を有するビニルエーテル、オキセタニル基を有するアリルエーテル、オキセタニル基を有するイソプロペニルエーテル、またはオキセタニル基を有する（メタ）アクリル酸エステルが挙げられる。具体的には、３－エチル－３－ビニロキシメチルオキセタン、３－エチル－３－（４－ビニロキシシクロへキシルオキシメチル）オキセタン、３－エチル－３－アリロキシメチルオキセタン、３－メタクリロキシメチル－３－エチルオキセタン、３－アクリロイルオキシメチル－３－エチルオキセタン等が挙げられる。なかでも、オキセタニル基を有するビニルエーテルが好ましく、３－エチル－３－ビニロキシメチルオキセタンがより好ましい。

　単量体（ａ２２）は、オキセタニル基のオキセタン環に含まれる炭素原子のいずれか１個以上の炭素原子に置換基を有する単量体である。置換基としては、炭素数１～６のアルキル基、または炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数１～６のアルキル基が好ましい。
　単量体（ａ２２）としては、前記したオキセタニル基を有する単量体におけるオキセタン環の３位に置換基を有する単量体が好ましい。

　単位（α２）を形成する単量体としては、入手性およびフルオロオレフィンとの交互共重合性の点から、単量体（ａ２１）が好ましく、３－エチル－３－ビニロキシメチルオキセタンが特に好ましい。
　含フッ素重合体（Ａ）に含まれる単位（α２）は、１種のみであってもよく、２種以上の組み合わせであってもよい。
　オキセタニル基および置換基を有するオキセタニル基（以下、オキセタニル基と置換基を有するオキセタニル基を合せて、「（置換）オキセタニル基」ということがある。）は反応性が高く、硬化速度が速い。また、塗布、硬化の際に作業環境（特に、酸素）の影響を受けない。そのため、塗布から硬化完了までの時間を短縮し、生産性を向上させることができる。

（単位（α３））
　本発明における含フッ素重合体（Ａ）は、太陽熱集熱用反射板における塗膜と、該塗膜が形成される基材との密着性をより一層向上させる点から、単位（α１）と単位（α２）に加えて、アルキルビニルエーテル類、アルキルビニルエステル類、アルキルアリルエーテル類、α－不飽和環状エーテル類、および（メタ）アクリル酸エステル類からなる群から選ばれる少なくとも１種の単量体（以下、「単量体（ａ３）」という。）に基づく単位（α３）を有することが好ましい。

　アルキルビニルエーテル類としては、エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、２－エチルヘキシルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル等が挙げられる。
　アルキルビニルエステル類としては、酢酸ビニル、ピバリン酸ビニル、安息香酸ビニル等が挙げられる。
　アルキルアリルエーテル類としては、エチルアリルエーテル、ブチルアリルエーテル、シクロヘキシルアリルエーテル等が挙げられる。
　α－不飽和環状エーテル類としては、２，３－ジヒドロフラン、４－メチル－２，３－ジヒドロフラン、３，４－ジヒドロ－２Ｈ－ピラン等が挙げられる。
　（メタ）アクリル酸エステル類としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル等が挙げられる。

　単量体（ａ３）のなかでも、塗膜の耐擦傷性、耐チッピング性、および柔軟性の点から、炭素数１～１０のアルキル基を有する単量体が好ましく、エチル基、シクロヘキシル基、または２－エチルヘキシル基を有する単量体が好ましく、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、または２－エチルヘキシルビニルエーテルがさらに好ましく、エチルビニルエーテル、またはシクロヘキシルビニルエーテルが特に好ましい。
　含フッ素重合体（Ａ）に含まれる他の単位（α３）は、１種のみであってもよく、２種以上の組み合わせであってもよい。

（単位（α４））
　また、本発明における含フッ素重合体（Ａ）は、単位（α１）と単位（α２）に加えて、架橋性基（オキセタニル基、および置換基を有するオキセタニル基を除く。）を有する単量体（以下、「単量体（ａ４）」という。）に基づく単位（α４）を有することが好ましい。前記架橋性基とは、互いに、もしくは硬化剤と反応し、または（置換）オキセタニル基と反応し、化学結合（架橋）を形成する官能基であって、（置換）オキセタニル基以外の官能基である。架橋性基は、重合体間等において化学結合を形成することにより、塗膜の強靭性、および耐溶剤性を高める役割を果たす。

　一方、太陽熱集熱用反射板は、太陽光を集めるという目的から、太陽光照射面が凹状となるように湾曲している場合が多い。本発明の太陽熱集熱用反射板の製造方法においては、塗料組成物からなる塗膜層に光照射することによって塗膜層を硬化させるが、光照射の際に反射板の形状のために場所によっては光の照射強度にばらつきが生じ、局所的に硬化不良等の問題が生じる場合がある。その場合には、光照射以外の方法で単位（α４）中の架橋性基を、互いに、もしくは別途添加する硬化剤と反応させることにより、化学結合（架橋）を形成することにより塗膜層を硬化させて、硬化不良を改善することが好ましい。化学結合（架橋）の形成は、光照射と同時または光照射後に行うことが好ましい。
　前記架橋性基としては、水酸基、アルコキシシリル基、エポキシ基、カルボキシル基、イソシアネート基、またはアミノ基が好ましく、光照射以外で最も簡便な熱、湿気による架橋反応を採用できることから、水酸基、またはアルコシキシリル基がより好ましい。
　水酸基、アルコキシシリル基は、架橋性基として作用するだけでなく、基材（反射層、もしくは、本発明の塗料組成物により形成する塗膜と反射層の間に形成された塗膜層）との密着性を向上する効果をももたらす。

　架橋性基が水酸基の場合、水酸基を有する単量体としては、例えば、２－ヒドロキシエチルビニルエーテル、３－ヒドロキシプロピルビニルエーテル、２－ヒドロキシプロピルビニルエーテル、２－ヒドロキシ－２－メチルプロピルビニルエーテル、４－ヒドロキシブチルビニルエーテル、４－ヒドロキシ－２－メチルブチルビニルエーテル、５－ヒドロキシペンチルビニルエーテル、６－ヒドロキシヘキシルビニルエーテル等のヒドロキシアルキルビニルエーテル類；ジエチレングリコールモノビニルエーテル、トリエチレングリコールモノビニルエーテル、テトラエチレングリコールモノビニルエーテル等のエチレングリコールモノビニルエーテル類；ヒドロキシエチルアリルエーテル、ヒドロキシブチルアリルエーテル、２－ヒドロキシエチルアリルエーテル、４－ヒドロキシブチルアリルエーテル、グリセロールモノアリルエーテル等のヒドロキシアルキルアリルエーテル類；ヒドロキシエチルビニルエステル、ヒドロキシブチルビニルエステル等のヒドロキシアルキルビニルエステル類；ヒドロキシエチルアリルエステル、ヒドロキシブチルアリルエステル等のヒドロキシアルキルアリルエステル類；ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル類等が挙げられる。
　なかでも、水酸基を有する単量体としては、ヒドロキシアルキルビニルエーテル類が好ましく、２－ヒドロキシエチルビニルエーテル、３－ヒドロキシプロピルビニルエーテル、または４－ヒドロキシブチルビニルエーテルがより好ましく、２－ヒドロキシエチルビニルエーテル、または４－ヒドロキシブチルビニルエーテルがさらに好ましい。

　架橋性基がカルボキシル基の場合、カルボキシル基を有する単量体としては、例えば、１０－ウンデセン酸、アクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、クロトン酸、桂皮酸等の不飽和カルボン酸類；ビニルオキシ吉草酸、３－ビニルオキシプロピオン酸、３－（２－ビニルオキシブトキシカルボニル）プロピオン酸、３－（２－ビニルオキシエトキシカルボニル）プロピオン酸等の飽和カルボン酸ビニルエーテル類；アリルオキシ吉草酸、３－アリルオキシプロピオン酸、３－（２－アリロキシブトキシカルボニル）プロピオン酸、３－（２－アリロキシエトキシカルボニル）プロピオン酸等の飽和カルボン酸アリルエーテル類；３－（２－ビニロキシエトキシカルボニル）プロピオン酸、３－（２－ビニロキシブトキシカルボニル）プロピオン酸等のカルボン酸ビニルエーテル類；アジピン酸モノビニル、こはく酸モノビニル、フタル酸ビニル、ピロメリット酸ビニル等の飽和多価カルボン酸モノビニルエステル類；イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、マレイン酸無水物、イタコン酸無水物等の不飽和ジカルボン酸類またはその分子内酸無水物；イタコン酸モノエステル、マレイン酸モノエステル、フマル酸モノエステル等の不飽和カルボン酸モノエステル類等が挙げられる。また、酸無水物基を有する化合物と、水酸基を有する単量体とを反応させることで得られる単量体も挙げられる。
　なかでも、カルボキシル基を有する単量体としては、不飽和カルボン酸、または酸無水物基を有する化合物と水酸基を有する単量体とを反応させることで得られる単量体が好ましく、酸無水物基を有する化合物と水酸基を有する単量体とを反応させることで得られる単量体がより好ましい。

　架橋性基がアルコキシシリル基の場合、アルコキシシリル基を有する単量体としては、３－（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３－（メタ）アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、トリメトキシシリルプロピルビニルエーテル、トリエトキシシリルプロピルビニルエーテル、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン等が挙げられる。また、イソシアネート基と、アルコキシシリル基を有する化合物を、前記水酸基を有する単量体と反応させることで得られる単量体も挙げられる。
　なかでも、アルコキシシリル基を有する単量体としては、ビニルトリエトキシシラン、トリエトキシシリルプロピルビニルエーテル、またはイソシアネート基とアルコキシシリル基を有する化合物を、前記水酸基を有する単量体と反応させることで得られる単量体が好ましく、イソシアネート基とアルコキシシリル基を有する化合物を、前記水酸基を有する単量体と反応させることで得られる単量体がより好ましい。

　架橋性基がアミノ基の場合、アミノ基を有する単量体としては、アリルアミン類、アミノメチルスチレン、ビニルアミン、アクリルアミド、ビニルアセトアミド、ビニルホルムアミド、アミノプロピルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、１－ビニルイミダゾール、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシエチルアクリルアミド、１－ビニル－２－ピロリドン等が挙げられる。
　なかでも、アミノ基を有する単量体としては、アミノプロピルビニルエーテル、またはジエチルアミノエチルビニルエーテルが好ましく、ジエチルアミノエチルビニルエーテルがより好ましい。

　架橋性基がイソシアネート基の場合、イソシアネート基を有する単量体としては、２－イソシアネートエチルメタクリレート、２－イソシアネートエチルアクリレート、２－イソシアネートエチルエトキシメタクリレート、２－イソシアネートエチルビニルエーテル等が挙げられる。
　なかでも、イソシアネート基を有する単量体としては、２－イソシアネートエチルメタクリレート、または２－イソシアネートエチルアクリレートが好ましく、２－イソシアネートエチルアクリレートがより好ましい。

　架橋性基がエポキシ基の場合、エポキシ基を有する単量体としては、グリシジルビニルエーテル、グリシジルメタクリレート、３，４－エポキシシクロへキシルメチルメタクリレート、３，４－エポキシシクロへキシルメチルビニルエーテル、４－ビニロキシメチルシクロへキシルグリシジルエーテル等が挙げられる。
　なかでも、エポキシ基を有する単量体としては、３，４－エポキシシクロへキシルメチルビニルエーテル、または４－ビニロキシメチルシクロへキシルグリシジルエーテルが好ましく、４－ビニロキシメチルシクロへキシルグリシジルエーテルがより好ましい。

　単量体（ａ４）としては、フルオロオレフィンとの交互共重合性に優れ、一般的な架橋反応が採用でき、形成される塗膜の耐久性、耐候性、耐擦傷性および耐衝撃性が向上する点から、水酸基を有する単量体がより好ましく、２－ヒドロキシエチルビニルエーテル、３－ヒドロキシプロピルビニルエーテル、または４－ヒドロキシブチルビニルエーテルがさらに好ましく、２－ヒドロキシエチルビニルエーテル、または４－ヒドロキシブチルビニルエーテルが特に好ましい。
　含フッ素重合体（Ａ）に含まれる他の単位（α４）は、１種のみであってもよく、２種以上の組み合わせであってもよい。

　さらに、含フッ素重合体（Ａ）は、単位（α１）～単位（α４）以外の単位を有してもよい。例えば、形成される塗膜の柔軟性を向上させる目的で、エチレン、イソブチレン等のオレフィン類に基づく単位を有してもよい。また、塗膜の難燃性を付与する目的で、ビニルリン酸、ビニルリン酸ジメチルエステル等のリン原子を有する単量体に基づく単位を有してもよい。

　含フッ素重合体（Ａ）は、単位（α１）および単位（α２）を必須の単位として有する重合体であり、単位（α１）および単位（α２）に加えて、単位（α３）および単位（α４）の少なくとも一方を有する重合体が好ましく、単位（α１）～単位（α４）を有する重合体がより好ましい。

　好ましい含フッ素重合体（Ａ）は、以下の組み合わせを有する含フッ素重合体（Ａ１）である。
　（Ａ１）単位（α１）として、テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、フッ化ビニリデンおよびフッ化ビニルからなる群から選ばれる１種以上に基づく単位を有し、
　単位（α２）として、単量体（ａ２１）であるオキセタニル基を有するビニルエーテルの１種以上に基づく単位を有し、
　単位（α３）として、アルキルビニルエーテル類に基づく単位を有し、
　単位（α４）として、水酸基を有する単量体に基づく単位を有する重合体。

　より好ましい含フッ素重合体（Ａ）は、以下の組み合わせを有する含フッ素重合体（Ａ１１）である。
　（Ａ１１）単位（α１）として、テトラフルオロエチレンおよびクロロトリフルオロエチレンの少なくとも一方に基づく単位を有し、
　単位（α２）として、単量体（ａ２１）である３－エチル－３－ビニロキシメチルオキセタンに基づく単位を有し、
　単位（α３）として、エチルビニルエーテルおよびシクロヘキシルビニルエーテルの少なくとも一方に基づく単位を有し、
　単位（α４）として、２－ヒドロキシエチルビニルエーテルおよび４－ヒドロキシブチルビニルエーテルの少なくとも一方に基づく単位を有する重合体。

　含フッ素重合体（Ａ）において、単位（α１）と単位（α２）のモル比（α１／α２）は、２０／８０～８０／２０が好ましく、３０／７０～７０／３０モル％がより好ましく、４０／６０～６０／４０モル％がより好ましい。モル比（α１／α２）の前記含有量が下限値以上であれば、形成される塗膜の耐候性が向上する。また、含フッ素重合体（Ａ）の安定性が向上し、塗料組成物のポットライフが向上する。モル比（α１／α２）の前記含有量が上限値以下であれば、光硬化性がより良好となり、未反応物が塗膜に残存して塗膜の耐久性が低下することを抑制しやすい。
　含フッ素重合体（Ａ）において、単位（α１）と単位（α２）を合計した含有割合は、含フッ素重合体（Ａ）における全単位の合計に対して、３０モル％以上が好ましく、４０～９０モル％がより好ましく、５０～８０モル％がさらに好ましい。前記単位（α１）と単位（α２）を合計した含有割合が前記範囲内であれば、耐候性が向上し、かつ架橋密度を高くなることで、塗膜の耐熱性、耐湿性、耐擦傷性、および耐衝撃性が向上する。なお、前記単位（α１）と単位（α２）を合計した含有割合が１００モル％とは、含フッ素重合体（Ａ）が単位（α１）と単位（α２）からなる重合体であることを意味する。

　含フッ素重合体（Ａ）中の単位（α３）の含有量は、含フッ素重合体（Ａ）における全単位の合計に対して、５～５０モル％が好ましく、１０～４０モル％がより好ましい。単位（α３）の含有量が下限値以上であれば、形成した塗膜と基材との密着性が向上する。単位（α３）の含有量が上限値以下であれば、塗膜の耐候性の低下を抑制しつつ、基材との密着性が向上する等の効果が得られる。

　含フッ素重合体（Ａ）中の単位（α４）の含有量は、含フッ素重合体（Ａ）における全単位の合計に対して、１～２０モル％が好ましく、３～１５モル％がより好ましい。単位（α４）の含有量が下限値以上であれば、塗膜の強靭性、および耐溶剤性が向上する。単位（α４）の含有量が上限値以下であれば、塗膜の耐候性の低下を抑制しつつ、塗膜の強靭性、および耐溶剤性が向上する等の効果が得られる。

　また、含フッ素重合体（Ａ）が単位（α３）および単位（α４）を有する場合、単位（α３）と単位（α４）のモル比（α３／α４）は、５／２０～５０／１が好ましい。モル比（α３／α４）が下限値以上であれば、ゲル化等による貯蔵安定性の低下を抑制しやすい。モル比（α３／α４）が上限値以下であれば、後述する化合物（Ｃ）との相溶性に優れ、均一な硬化膜が得られやすい。また、顔料成分の分散性にも優れる。
　含フッ素重合体（Ａ）における各単位の含有量は、含フッ素重合体（Ａ）を得るための重合反応における、各単量体の仕込み量および反応条件により制御できる。

　含フッ素重合体（Ａ）としては、単位（α１）を３０～７０モル％有し、単位（α２）を３～３０モル％有し、単位（α３）を５～５０モル％有し、単位（α４）を１～２０モル％有し（ただし、単位（α１）～（α４）の合計が１００モル％である。）、モル比（α１／α２）が２０／８０～８０／２０であり、モル比（α３／α４）が５／２０～５０／１の重合体が好ましい。

　また、含フッ素重合体（Ａ）としては、テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、フッ化ビニリデンおよびフッ化ビニルからなる群から選ばれる１種以上に基づく単位（α１）を３０～７０モル％有し、単量体（ａ２１）であるオキセタニル基を有するビニルエーテルの１種以上に基づく単位（α２）を３～３０モル％有し、単量体（ａ３）であるアルキルビニルエーテル類に基づく単位（α３）を５～５０モル％有し、単量体（ａ４）である水酸基を有する単量体に基づく単位（α４）を１～２０モル％有し、モル比（α１／α２）が２０／８０～８０／２０であり、モル比（α３／α４）が５／２０～５０／１の重合体がより好ましい。

　また、含フッ素重合体（Ａ）としては、テトラフルオロエチレンおよびクロロトリフルオロエチレンの少なくとも一方に基づく単位（α１）を３０～７０モル％有し、単量体（ａ２１）である３－エチル－３－ビニロキシメチルオキセタンに基づく単位（α２）を３～３０モル％有し、単量体（ａ３）であるエチルビニルエーテルおよびシクロヘキシルビニルエーテルの少なくとも一方に基づく単位（α３）を５～５０モル％有し、単量体（ａ４）である２－ヒドロキシエチルビニルエーテルおよび４－ヒドロキシブチルビニルエーテルの少なくとも一方に基づく単位（α４）を１～２０モル％有し、モル比（α１／α２）が２０／８０～８０／２０であり、モル比（α３／α４）が５／２０～５０／１の重合体が特に好ましい。

　含フッ素重合体（Ａ）は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
　本発明の塗料組成物における含フッ素重合体（Ａ）の含有量は、１０～９０質量％が好ましく、２０～８０質量％がより好ましい。含フッ素重合体（Ａ）の含有量が前記下限値以上であれば、塗膜の耐熱性、耐水性、耐酸性、耐候性、耐衝撃性、耐擦傷性が向上する。含フッ素重合体（Ａ）の含有量が前記上限値以下であれば、塗料組成物の粘度がより低くなり、塗布作業が容易になる。

（含フッ素重合体（Ａ）の製造方法）
　含フッ素重合体（Ａ）の製造方法としては、公知のラジカル重合法が採用できる。重合形態としては、溶液重合、懸濁重合、乳化重合等が採用できる。
　重合時の反応温度は、使用するラジカル重合開始剤によっても異なるが、０～１３０℃が好ましい。反応時間は１～５０時間が好ましい。
　重合に使用する溶媒としては、例えば、イオン交換水；エタノール、ブタノール、プロパノール等のアルコール系溶剤；ｎ－へキサン、ｎ－ヘプタン等の飽和炭化水素系溶剤；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶剤；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤等が使用できる。

　ラジカル重合開始剤としては、例えば、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ－ｎ－プロピルパーオキシジカーボネート等のパーオキシジカーボネート類；ｔ－ヘキシルパーオキシピバレート、ｔ－ブチルパーオキシピバレート等のパーオキシエステル類；シクロヘキサノンパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド等のケトンパーオキサイド類；１，１－ビス（ｔ－ヘキシルパーオキシ）シクロへキサン、１，１－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）シクロへキサン等のパーオキシケタール類；ｔ－ヘキシルパーオキシ－ｎ－ブチルカーボネート、ｔ－ブチルパーオキシ－ｎ－プロピルカーボネート等のパーオキシカーボネートエステル類；イソブチリルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド等のジアシルパーオキサイド類；ジクミルパーオキサイド、ジ－ｔ－ブチルパーオキサイド等のジアルキルパーオキサイド類等が使用できる。

［光反応開始剤（Ｂ）］
　光反応開始剤（Ｂ）としては、光照射により硬化反応を開始できるものであればよく、紫外線によりカチオンを発生させることにより硬化反応を開始する光反応開始剤が好ましい。光反応開始剤（Ｂ）としては、スルホニウム塩系、ヨードニウム塩系、ホスホニウム塩系、ジアゾニウム塩系、アンモニウム塩系またはフェロセン類系の光反応開始剤がより好ましい。

　スルホニウム塩系の光反応開始剤としては、例えば、ビス［４－（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロホスフェート、ビス［４－（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネート、ビス［４－（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィドビステトラフルオロボレート、ビス［４－（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィドテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジフェニル－４－（フェニルチオ）フェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニル－４－（フェニルチオ）フェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル－４－（フェニルチオ）フェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、ジフェニル－４－（フェニルチオ）フェニルスルホニウム　テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス［４－（ジ（４－（２－ヒドロキシエトキシ））フェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド　ビスヘキサフルオロホスフェート、ビス［４－（ジ（４－（２－ヒドロキシエトキシ））フェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド　ビスヘキサフルオロアンチモネート、ビス［４－（ジ（４－（２－ヒドロキシエトキシ））フェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド　ビステトラフルオロボレート、ビス［４－（ジ（４－（２－ヒドロキシエトキシ））フェニルスルホニオ）フェニル］スルフィドテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、等が挙げられる。

　ヨードニウム塩系の光反応開始剤としては、ジフェニルヨードニウム　ヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウム　ヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウム　テトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウム　テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム　ヘキサフルオロホスフェート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム　ヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム　テトラフルオロボレート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム　テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４－メチルフェニル－４－（１－メチルエチル）フェニルヨードニウム　ヘキサフルオロホスフェート、４－メチルフェニル－４－（１－メチルエチル）フェニルヨードニウム　ヘキサフルオロアンチモネート、４－メチルフェニル－４－（１－メチルエチル）フェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、または４－メチルフェニル－４－（１－メチルエチル）フェニルヨードニウム　テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートが好ましい。

　ホスホニウム塩系の光反応開始剤としては、エチルトリフェニルホスホニウムテトラフルオロボレート、エチルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、エチルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート、テトラブチルホスホニウムテトラフルオロボレート、テトラブチルホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、またはテトラブチルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネートが好ましい。

　ジアゾニウム塩系の光反応開始剤としては、フェニルジアゾニウム　ヘキサフルオロホスフェート、フェニルジアゾニウム　ヘキサフルオロアンチモネート、フェニルジアゾニウム　テトラフルオロボレート、またはフェニルジアゾニウム　テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートが好ましい。

　アンモニウム塩系の光反応開始剤としては、１－ベンジル－２－シアノピリジニウム　ヘキサフルオロホスフェート、１－ベンジル－２－シアノピリジニウム　ヘキサフルオロアンチモネート、１－ベンジル－２－シアノピリジニウム　テトラフルオロボレート、１－ベンジル－２－シアノピリジニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、１－（ナフチルメチル）－２－シアノピリジニウムヘキサフルオロホスフェート、１－（ナフチルメチル）－２－シアノピリジニウム　ヘキサフルオロアンチモネート、１－（ナフチルメチル）－２－シアノピリジニウム　テトラフルオロボレート、または１－（ナフチルメチル）－２－シアノピリジニウム　テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートが好ましい。

　フェロセン系の光反応開始剤としては、（２，４－シクロペンタジエン－１－イル）［（１－メチルエチル）ベンゼン］－Ｆｅ（II）ヘキサフルオロホスフェート、（２，４－シクロペンタジエン－１－イル）［（１－メチルエチル）ベンゼン］－Ｆｅ（II）ヘキサフルオロアンチモネート、２，４－シクロペンタジエン－１－イル）［（１－メチルエチル）ベンゼン］－Ｆｅ（II）テトラフルオロボレート、または２，４－シクロペンタジエン－１－イル）［（１－メチルエチル）ベンゼン］－Ｆｅ（II）テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートが好ましい。

　光反応開始剤（Ｂ）の市販品としては、製品名「ＳＰ－１５０」、「ＳＰ－１５２」、「ＳＰ－１７０」、「ＳＰ－１７２」、「ＣＰ－６６」、「ＣＰ－７７」（以上、旭電化工業社製）；製品名「ＣＹＲＡＣＵＲＥ－ＵＶＩ－６９９０」、［ＣＹＲＡＣＵＲＥ－ＵＶＩ－６９７４］、「ＣＹＲＡＣＵＲＥ－ＵＶＩ－６９９２」（以上、ユニオンカーバイド社製）；製品名「ＣＩ－２８５５」、「ＣＩ－２６３９」、「ＣＩ－２７５８」（以上、日本曹達社製）；製品名「サンエイドＳＩ－６０」、「サンエイドＳＩ－８０」、「サンエイドＳＩ－１００」（以上、三新化学工業社製）；製品名「イルガキュア２６１」、「イルガキュア２５０」（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）；製品名「ロードシル（ＲＨＯＤＯＲＳＩＬ）２０７４」（ローディアジャパン社製）；製品名「ビス（４－ｔ－ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート」（みどり化学社製）；製品名「ＣＰＩ－１００Ｐ」、「ＣＰＩ－１０１Ａ」、「ＣＰＩ－２００Ｋ」（以上、サンアプロ社製）；製品名「エサキュア（ＥＳＡＣＵＲＥ）－１０６４」、「エサキュア（ＥＳＡＣＵＲＥ）－１１８７」（以上、Ｌａｍｂｅｒｔｉ社製）；製品名「カヤキュアーＰＣＩ－２２０」（日本化薬社製）等が挙げられる。

　光反応開始剤（Ｂ）としては、硬化速度、安定性、および経済性の点から、スルホニウム塩系またはヨードニウム塩系の開始剤が好ましい。
　光反応開始剤（Ｂ）の市販品としては、製品名「イルガキュア２５０」（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）；製品名「ＣＰＩ－１００Ｐ」、「ＣＰＩ－１０１Ａ」、「ＣＰＩ－２００Ｋ」（以上、サンアプロ社製）が好ましい。
　光反応開始剤（Ｂ）は、１種を単独で使用してもよく、２種類以上を併用してもよい。

　光反応開始剤（Ｂ）の含有量は、含フッ素重合体（Ａ）と後述の化合物（Ｃ）の合計量１００質量部に対して０．０５～２５質量部が好ましく、０．５～２０質量部がより好ましい。前記合計量は、化合物（Ｃ）を使用しない場合は、含フッ素重合体（Ａ）のみの量である。
　光反応開始剤（Ｂ）の前記含有量が下限値以上であれば、光反応開始剤（Ｂ）の感度を確保しやすく、塗布層の硬化を少ない光照射エネルギーかつ短時間で充分に進行させることが容易になる。また、光反応開始剤（Ｂ）の前記含有量が上限値以下であれば、塗膜中に未反応の光反応開始剤（Ｂ）が残存しにくくなり、塗膜の物性低下や、塗膜の着色を抑制しやすい。また、光反応開始剤（Ｂ）の使用量が少なくて済むので、経済的にも好ましい。

［化合物（Ｃ）］
　本発明の塗料組成物は、前記含フッ素重合体（Ａ）、光反応開始剤（Ｂ）に加えて、塗膜の耐薬品性、耐衝撃性、防湿性、破断強度および伸び率等を調整する目的で化合物（Ｃ）を含有することが好ましい。特に、防湿性については、化合物（Ｃ）を含有することで、塗膜の架橋密度が増し、水分の浸入をより一層低減することができる。化合物（Ｃ）は、前記含フッ素重合体（Ａ）以外の、含フッ素重合体（Ａ）中のオキセタニル基、または置換基を有するオキセタニル基との反応により化学結合を形成する反応性官能基を１分子中に２個以上有する化合物である。化合物（Ｃ）は、フッ素原子を有していてもよい（ただし、含フッ素重合体（Ａ）は除く。）が、入手の容易性からフッ素原子を有さない非フッ素系の化合物であることが好ましい。
　化合物（Ｃ）の反応性官能基としては、含フッ素重合体（Ａ）中の（置換）オキセタニル基と反応して化学結合を形成する性質を有するものであればよく、エポキシ基、（置換）オキセタニル基、ビニルエーテル基、またはビニルチオエーテル基が好ましく、エポキシ基、またはオキセタニル基がより好ましい。化合物（Ｃ）が有する前記反応性官能基は、１種であってもよく、２種以上であってもよい。
　化合物（Ｃ）としては、例えば、下記化合物（Ｃ－１）～化合物（Ｃ－３）が挙げられる。
　化合物（Ｃ－１）：１分子中にエポキシ基を２個以上有する化合物。
　化合物（Ｃ－２）：１分子中に（置換）オキセタニル基を２個以上有する化合物。
　化合物（Ｃ－３）：１分子中にビニルエーテル基またはビニルチオエーテル基を２個以上有する化合物。

　化合物（Ｃ－１）としては、硬化時の樹脂強度、塗膜の密着性の点から、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、水素添加ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、水素添加ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、水素添加ノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、テルペン型エポキシ樹脂、ビスアリールフルオレン型エポキシ樹脂、エポキシ基を有するオルガノポリシロキサン、またはエチレン性不飽和結合とエポキシ基を有する単量体（以下、「エポキシ基を有する単量体（ｃ１）」という。）に基づく単位を有するエポキシ基を有する重合体が好ましい。

　ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂としては、商品名「エピコート８２８」、「エピコート１００１」、「エピコート１００２」、「エピコート１００４」（以上、ジャパンエポキシレジン社製）等が挙げられる。水素添加ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂としては、商品名「エピコートＹＸ－８０００」、「エピコートＹＸ－８０３４」（以上、ジャパンエポキシレジン社製）等が挙げられる。ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂としては、商品名「エピコート８０６」、「エピコート８０７」、「エピコート４００４Ｐ」、「エピコート４００７Ｐ」（以上、ジャパンエポキシレジン社製）等が挙げられる。水素添加ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂としては、商品名「エピコートＹＬ－６８３４」（ジャパンエポキシレジン社製）等が挙げられる。ノボラック型エポキシ樹脂としては、商品名「エポトートＹＤＣＮ－７０１」、「エポトートＹＤＰＮ－６３８」（以上、東都化成社製）；商品名「エピコート１５４」（ジャパンエポキシレジン社製）等が挙げられる。ビフェニル型エポキシ樹脂としては、商品名「エピコートＹＸ－４０００」、「エピコートＹＸ－４０００Ｈ」（以上、ジャパンエポキシレジン社製）等が挙げられる。ナフタレン型エポキシ樹脂としては、商品名「ＥＰＩＣＲＯＮＨＰ－４０３２」、「エピクロンＥＸＡ－４７００」（以上、大日本インキ化学工業社製）；商品名「ＥＳＮ－１６５」、「ＥＳＮ－１７５」、「ＥＳＮ－１８５」、「ＥＳＮ－１９５」、「ＥＳＮ－３５５」、「ＥＳＮ－３７５」（以上、新日鐵化学社製）等が挙げられる。脂環式エポキシ樹脂としては、商品名「セロキサイド２０２１Ｐ」（ダイセル化学工業製）等が挙げられる。ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂としては、商品名「ＥＰＩＣＲＯＮ　ＨＰ－７２００Ｌ」、「ＥＰＩＣＲＯＮ　ＨＰ－７２００」、「ＥＰＩＣＲＯＮ　ＨＰ－７２００Ｈ」、「ＥＰＩＣＲＯＮ　ＨＰ－７２００ＨＨ」（以上、大日本インキ化学工業社製）等が挙げられる。トリフェノールメタン型エポキシ樹脂としては、商品名「ＥＰＰＮ－５０１Ｈ」、「ＥＰＰＮ－５０２Ｈ」（以上、日本化薬社製）等が挙げられる。ビスアリールフルオレン型エポキシ樹脂としては、商品名「オグソールＰＧ」、「オグソールＰＧ－１００」、「オグソールＥＧ」、「オグソールＥＧ－２１０」（以上、大阪ガスケミカル社製）等が挙げられる。エポキシ基を有するオルガノポリシロキサンとしては、商品名「ＫＦ－１０１」、「ＫＦ－１０２」、「ＫＦ－１０５」、「Ｘ－２２－１６９ＡＳ」、「Ｘ－２２－９００２」（以上、信越化学工業社製）等が挙げられる。

　エポキシ基を有する重合体は、エポキシ基を有する単量体（ｃ１）を単独で重合することにより、またはエポキシ基を有する単量体（ｃ１）と他の単量体とを共重合させることにより得られる。エポキシ基を有する重合体の分子構造は、直鎖状であっても分岐構造を有していてもよい。また、エポキシ基を有する重合体は、ランダム共重合体、ブロック共重合体、またはグラフト共重合体いずれの重合体であってもよい。
　エポキシ基を有する重合体の重合方法は、公知の方法により実施できる。重合方法は特に限定されず、ラジカル重合、イオン重合等の重合法を採用できる。具体的には、重合開始剤を使用した、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、乳化重合法等の重合法を採用できる。重合方法によっては単量体が多量に残存する場合があるが、この残存する単量体が塗料組成部の塗布、硬化後の塗膜の物性に影響を与える場合には、減圧留去法、再沈殿形成法等によって該単量体を除去することが好ましい。

　エポキシ基を有する単量体（ｃ１）としては、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート、または３，４－エポキシシクロへキシルメチルメタクリレートが好ましい。
　エポキシ基を有する単量体（ｃ１）と共重合する他の単量体としては、特に限定されず、例えば、メチルメタクリレートやスチレン等が挙げられる。

　エポキシ基を有する重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、３，０００～１００，０００が好ましく、５，０００～２０，０００がより好ましい。エポキシ基を有する重合体のＭｗが下限値以上であれば、塗膜の硬度が向上する。また、エポキシ基を有する重合体のＭｗが上限値以下であれば、塗膜の平坦性がより良好となる。なお、前記エポキシ基を有する重合体のＭｗは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法によるポリスチレン換算の重量平均分子量である。

　化合物（Ｃ－２）としては、下記化合物（Ｃ－２１）～（Ｃ－２５）が好ましい。
　化合物（Ｃ－２１）：ヒドロキシル基を有する化合物と、３－アルキル－３－ヒドロキシメチルオキセタン類とのエーテル化反応により得られる化合物。
　化合物（Ｃ－２２）：カルボキシル基を有する化合物と、３－アルキル－３－ヒドロキシメチルオキセタン類とのエステル化反応により得られる化合物。
　化合物（Ｃ－２３）：カルボキシル基を有する化合物と、３－アルキル－３－ヒドロキシメチルオキセタン類とのヘミアセタールエステル化反応により得られる化合物。
　化合物（Ｃ－２４）：（置換）オキセタニル基を有する単量体に基づく単位を有する重合体。
　化合物（Ｃ－２５）：ビス（３－アルキル－３－オキセタニルメチル）エーテル。
　３－アルキル－３－ヒドロキシメチルオキセタン類としては、３－エチル－３－メトキシメチルオキセタンが好ましい。

　化合物（Ｃ－２１）のヒドロキシル基を有する化合物としては、例えば、炭素数１～６のアルキル基を有する脂肪族モノアルコール、炭素数２～８のアルキレン基を有する脂肪族グリコール、炭素数２～１８の芳香族アルコール、フェノールノボラック樹脂、重合単位が第４級構造で重合度２～８のポリシロキサン等が挙げられる。
　化合物（Ｃ－２１）としては、例えば、１，４－ビス（（（３－エチル－３－オキセタニル）メトキシ）メチル）ベンゼン、１，４－ビス（（（３－エチル－３－オキセタニル）メトキシ）メチル）ベンゼン、４，４’－ビス（（（３－エチル－３－オキセタニル）メトキシ）メチル）ビフェニル、３，３’，５，５’－メチル－４，４’－ビス（（（３－エチル－３－オキセタニル）メトキシ）メチル）ビフェニル、１，４－ビス（（３－エチル－３－オキセタニル）メトキシ）ベンゼン、４，４’－ビス（（３－エチル－３－オキセタニル）メトキシ）ビフェニル、３，３’，５，５’－メチル－４，４’－ビス（（３－エチル－３－オキセタニル）メチル）ビフェニル等が挙げられる。

　化合物（Ｃ－２２）のカルボキシル基を有する化合物としては、例えば、アジピン酸、テレフタル酸、シクロヘキサンジカルボン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸等が挙げられる。
　化合物（Ｃ－２２）としては、例えば、ビス（（３－エチル－３－オキセタニル）メチル）カーボネート、ビス（（３－エチル－３－オキセタニル）メチル）アジペート、ビス（（３－エチル－３－オキセタニル）メチル）ベンゼン－１，４－ジカルボキシレート、ビス（（３－エチル－３－オキセタニル）メチル）シクロヘキサン－１，４－ジカルボキシレート等が挙げられる。

　化合物（Ｃ－２３）は、化合物（Ｃ－２２）で挙げたカルボキシル基を有する化合物と同じ化合物を使用し、特開平１０－２５４０６号公報に記載の方法を利用して製造したもの等が挙げられる。

　化合物（Ｃ－２４）は、（置換）オキセタニル基を有する単量体に基づく単位を有する重合体である。（置換）オキセタニル基を有する単量体としては、含フッ素重合体（Ａ）との相溶性の点から、３－エチル－３－メタクリロイルメチル－オキセタンが好ましい。
　このような単量体の市販品としては、商品名「ＥＴＥＲＮＡＣＯＬＬ　ＯＸＭＡ」（宇部興産社製）等が挙げられる。

　化合物（Ｃ－２４）は、（置換）オキセタニル基を有する単量体を単独で重合するか、または（置換）オキセタニル基を有する単量体と他の単量体とを共重合することにより得られる。化合物（Ｃ－２４）の分子構造は、直鎖状であってもよく分岐構造を有していてもよい。また、化合物（Ｃ－２４）が他の単量体を共重合している場合、ランダム共重合体、ブロック共重合体、またはグラフト共重合体のいずれの重合体であってもよい。
　化合物（Ｃ－２４）の重合方法は、公知の方法を採用でき、ラジカル重合、イオン重合等の重合法が挙げられる。具体的には、重合開始剤を使用した、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、乳化重合法等の重合法を採用できる。重合方法によっては単量体が多量に残存する場合があるが、この残存する単量体が塗料組成部の塗布、硬化後の塗膜の物性に影響を与える場合には、減圧留去法、再沈殿形成法等によって該単量体を除去することが好ましい。

　化合物（Ｃ－２４）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、３，０００～１００，０００が好ましく、５，０００～２０，０００がより好ましい。化合物（Ｃ－２４）のＭｗが下限値以上であれば塗膜の硬度が向上する。化合物（Ｃ－２４）のＭｗが１００，０００以下であれば塗膜の平坦性がより良好となる。なお、前記化合物（Ｃ－２４）のＭｗは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法によるポリスチレン換算の重量平均分子量である。

　化合物（Ｃ－２５）としては、ビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテルが好ましい。市販品としては、商品名「アロンオキセタン　ＯＸＴ－２２１」（東亜合成社製）が挙げられる。

　化合物（Ｃ－３）としては、例えば、ジビニル（チオ）エーテル類、トリビニル（チオ）エーテル類、テトラビニル（チオ）エーテル類、ヘキサビニル（チオ）エーテル類等が挙げられる。（チオ）エーテル類とは、エーテル類またはチオエーテル類を意味する。
　具体的には、トリメチレングリコールジビニルエーテル、１，４－ビスビニルオキシメチルシクロヘキサン、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、１，４－ブタンジオールジビニルエーテル、１，５－ペンタンジオールジビニルエーテル、１，６－へキサンジオールジビニルエーテル、１，９－ノナンジオールジビニルエーテル、１，４－シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル等の脂肪族ジビニルエーテル類；１，４－ベンゼンジビニルエーテル、ビスフェノールＡジビニルエーテル、ビスフェノールＦジビニルエーテル等の芳香族ジビニルエーテル類；トリメチロールエタントリビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、グリセロールトリビニルエーテル等の脂肪族トリビニルエーテル類；ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル等の脂肪族テトラビニルエーテル類；ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル等の脂肪族ヘキサビニルエーテル類；さらに、これらに対応する脂肪族ジビニルチオエーテル類；芳香族ジビニルチオエーテル類；脂肪族トリビニルチオエーテル類；脂肪族テトラビニルチオエーテル類；脂肪族ヘキサビニルチオエーテル類が挙げられる。なかでも、入手性および経済性の点から、脂肪族ジビニルエーテル類が好ましい。

　化合物（Ｃ）としては、化合物（Ｃ－１）、または化合物（Ｃ－２）が好ましく、化合物（Ｃ－１）、または化合物（Ｃ－２５）がより好ましく、脂環式エポキシ樹脂、ビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテルがさらに好ましい。

　化合物（Ｃ）の含有量は、塗料組成物の総量に対して、１．０～６０．０質量％が好ましく、５．０～５０．０質量％がより好ましい。化合物（Ｃ）の含有量が前記下限値以上であれば、化合物（Ｃ）による効果が得られやすい。化合物（Ｃ）の含有量が前記上限値以下であれば、塗膜の耐候性が低下し難い。

［顔料成分（Ｄ）］
　本発明の塗料組成物は、太陽熱集熱用反射板における反射基板の太陽光が照射される面（以下、「太陽光照射面」という。）以外の面に塗布する場合、防錆、着色、補強等を目的として、顔料成分（Ｄ）を含有することが好ましい。
　顔料成分（Ｄ）としては、防錆顔料、着色顔料および体質顔料からなる群から選ばれる１種以上の顔料が好ましい。
　防錆顔料は、反射板の腐食や変質を防止するための顔料である。環境への負荷が少ない点から無鉛防錆顔料が好ましい。無鉛防錆顔料としては、シアナミド亜鉛、酸化亜鉛、リン酸亜鉛、リン酸カルシウムマグネシウム、モリブデン酸亜鉛、ホウ酸バリウム、シアナミド亜鉛カルシウム等が挙げられる。
　着色顔料は、塗膜を着色するための顔料である。着色顔料としては、酸化チタン、カーボンブラック、酸化鉄等が挙げられる。酸化チタン顔料を使用する場合には、塗膜の耐候性をさらに向上させる目的で、セリウムコート等の顔料表面に光触媒作用を抑制するための表面処理が施されたものが好ましい。Ｄ９１８（商品名、堺化学社製）、ＰＦＣ１０５（商品名、石原産業社製）が特に推奨できる。
　体質顔料は、塗膜の硬度を向上させ、かつ、厚みを増すための顔料である。体質顔料としては、タルク、硫酸バリウム、マイカ、炭酸カルシウム等が挙げられる。
　顔料成分（Ｄ）としては、耐候性に優れる点から、酸化チタンが特に好ましい。

　反射基板の太陽光照射面以外の面に塗布する場合の塗料組成物中の顔料成分（Ｄ）の含有量は、塗料組成物における顔料以外の固形分１００質量部に対して、１０～５００質量部が好ましく、３０～４００質量部がより好ましい。顔料成分（Ｄ）の含有量が前記下限値以上であれば、顔料成分（Ｄ）の機能が得られやすい。顔料成分（Ｄ）の含有量が前記上限値以下であれば、砂等が衝突しても塗膜が傷付き難くなり、また塗膜の耐候性が向上する。
　反射基板の太陽光照射面側に塗布する場合の本発明の塗料組成物は、該太陽光照射面における反射率の低下を防ぐため、顔料成分（Ｄ）を含有しないことが好ましい。この場合の塗料組成物中の顔料成分（Ｄ）の含有量は、塗料組成物における顔料以外の固形分１００質量部に対して、３質量部以下が好ましく、ゼロが特に好ましい。

［他の成分］
　本発明の塗料組成物は、前述した各成分以外の他の成分を含有してもよい。他の成分としては、光増感剤、有機溶剤、反応性希釈剤、硬化剤、酸化防止剤、熱硬化触媒、レオロジーコントロール剤、防錆剤、レベリング剤、消泡剤、界面活性剤、防汚剤、シランカップリング剤、つや消し剤、帯電防止剤、含フッ素重合体（Ａ）以外のその他樹脂等が挙げられる。

　本発明の塗料組成物が光増感剤を含有すれば、低エネルギー照射下において、より短時間で光硬化できる。また、光増感剤は、本発明の塗料組成物中が顔料成分（Ｄ）等を含有することで、該顔料成分（Ｄ）等の光の遮蔽によって塗布層内部に効果的に光が透過しにくい場合でも、その少ない光量で充分な硬化速度を維持しやすい点でも効果的である。

　光増感剤としては、例えば、アントラセン化合物、ピレン化合物、カルボニル化合物、有機硫黄化合物、過硫化物、レドックス系化合物、アゾ化合物、ジアゾ化合物、ベンジル化合物、フルオレノン化合物、キサントン化合物、ウラニル化合物、ハロゲン化合物、光還元性色素等が挙げられる。
　具体的には、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、α，α－ジメトキシ－α－フェニルアセトフェノン等のベンゾイン誘導体；ベンゾフェノン、２，４－ジクロロベンゾフェノン、ｏ－ベンゾイル安息香酸メチル、４，４’－ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体；２－クロロチオキサントン、２－イソプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体；２－クロロアントラキノン、２－メチルアントラキノン等のアントラキノン誘導体；Ｎ－メチルアクリドン、Ｎ－ブチルアクリドン等のアクリドン誘導体；α，α－ジエトキシアセトフェノン等が挙げられる。光増感剤は、１種を単独で使用してもよく、２種類以上を併用してもよい。

　例えば、本発明の塗料組成物が顔料成分（Ｄ）として酸化チタンを含有する場合、酸化チタンが紫外線光（３８０ｎｍ以下）が吸収するので、３８０ｎｍより長い光に対する増感能を有する、アントラセン化合物等の光増感剤を使用することが好ましい。具体的には、商品名「ＡＮＴＨＲＡＣＵＲＥ（アントラキュア）ＵＶＳ－１３３１」、「ＡＮＴＨＲＡＣＵＲＥ（アントラキュア）ＵＶＳ－１１０１」（以上、川崎化成工業社製）等が挙げられる。
　光増感剤を使用する場合、その使用量は、本発明の塗料組成物１００質量部に対して、０．００５～５．０質量部が好ましい。

　本発明の塗料組成物が有機溶剤を含有すれば、組成物の粘度をより低下し、塗布性能および作業性がさらに向上する。
　有機溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、エチルブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ－プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ｔ－ブチル等のエステル類；トルエン、キシレン、エチルベンゼン、芳香族石油ナフサ、テトラリン、テレピン油、ソルベッソ♯１００（登録商標、エクソン化学社製）、ソルベッソ♯１５０（登録商標、エクソン化学社製）等の芳香族炭化水素類；ジオキキサン、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル等エーテル類；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸メトキシブチル等のエーテルエステル類；ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒等、公知の有機溶剤を使用できる。

　有機溶剤としては、環境負荷低減の点から、ＰＲＴＲ法、ＨＡＰｓ規制に対応した溶剤、すなわち、芳香族化合物を含有しない有機溶剤が好ましい。また、労働安全衛生法による有機溶剤の分類において、第三種有機溶剤に分類されている有機溶剤も好ましい。具体的には、ＰＲＴＲ法、ＨＡＰｓ規制に該当しないエステル系溶剤、ケトン系溶剤；第三種有機溶剤に分類されているパラフィン系溶剤、またはナフテン系溶剤が好ましい。
　有機溶剤としては、含フッ素重合体（Ａ）の製造時の溶剤をそのまま使用してもよい。有機溶剤として、含フッ素重合体（Ａ）の重合溶剤と異なる溶剤を使用する場合、含フッ素重合体（Ａ）を重合した後にその重合溶剤または分散媒の一部または全部を目的とする有機溶剤に置換することが好ましい。

　有機溶剤を使用する場合、その使用量は、本発明の塗料組成物１００質量部に対して、０．１～３０質量部が好ましい。有機溶剤の含有量が前記下限値以上であれば、塗布作業が容易になる。有機溶剤の含有量が前記上限値以下であれば、有機溶剤を揮発させる際に、塗膜に発泡跡が生じ難い。

　本発明の塗料組成物が反応性希釈剤を含有すれば、組成物の粘度をより低下し、塗布性能および作業性がさらに向上する。また、硬化の際に、塗膜に発泡跡が生じ難い。反応性希釈剤としては、１分子中にカチオン重合可能な官能基を１個以上有する化合物であって、かつ、その粘度が１００ｍＰａ・ｓ以下の化合物が好ましい。
　反応性希釈剤としては、３－エチル－ヒドロキシメチルオキセタン（２２．４ｍＰａ・ｓ）、２－エチルへキシルオキセタン（５．０ｍＰａ・ｓ）、２－エチル－３｛［（３－エチルオキセタン-３－イル）メトキシ］メチル｝オキセタン（１２．８ｍＰａ・ｓ）等のオキセタン化合物；ブチルグリシジルエーテル（１．０ｍＰａ・ｓ）、フェニルグリシジルエーテル（６．０ｍＰａ・ｓ）、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル（１７．０ｍＰａ・ｓ）、１，６－へキサンジオールジグリシジルエーテル（２５．０ｍＰａ・ｓ）、プロピレングリコールジグリシジルエーテル（１２．０ｍＰａ・ｓ）、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル（３０．０ｍＰａ・ｓ）、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル（５３．０ｍＰａ・ｓ）、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル（２２．０ｍＰａ・ｓ）、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル（６０．０ｍＰａ・ｓ）等のエポキシ化合物；シクロへキシルビニルエーテル（０．７ｍＰａ・ｓ）、トリエチレングリコールジビニルエーテル（３．３ｍＰａ・ｓ）、トリメチロールプロパントリビニルエーテル（４．２ｍＰａ・ｓ）、ヒドロキシエチルビニルエーテル（２．６ｍＰａ・ｓ）、ヒドロキシブチルビニルエーテル（５．４ｍＰａ・ｓ）、ジエチレングリコールモノビニルエーテル（４．７ｍＰａ・ｓ）、アクリル酸２－（２－ビニロキシエトキシ）エチル（３．７ｍＰａ・ｓ）、またはメタクリル酸２－（２－ビニロキシエトキシ）エチル（３．２ｍＰａ・ｓ）等のビニルエーテル化合物がより好ましい。

　本発明の塗料組成物が反応性希釈剤を含有する場合、その含有量は、塗料組成物１００質量部に対して、０．１～５０質量部が好ましく、０．５～４０質量部がより好ましく、１．０～３０質量部が特に好ましい。反応性希釈剤の含有量が下限値以上であれば、塗料組成物の貯蔵安定性が向上する。また、反応性希釈剤の含有量が上限値を超えても、貯蔵安定性を向上させる効果は大きく変化しない。

　前述のとおり、太陽熱集熱用反射板は、その形状に起因する光照射強度のばらつきから、硬化不良の問題が生じることがある。このような問題を解決するために、本発明の塗料組成物は、光照射以外の方法で含フッ素重合体（Ａ）中の単位（α４）が有する架橋性基と反応して化学結合（架橋）を形成する硬化剤を含有することが好ましい。光照射と同時または光照射後に、光照射以外の方法により単位（α４）中の架橋性基または（置換）オキセタニル基を架橋反応させることにより、光照射では硬化が充分ではなかった部分も硬化して、均一な塗膜とすることができる。
　硬化剤は、単位（α４）中の架橋性基と反応する硬化剤であれば特に限定されず、単位（α４）に応じて適宜選択すればよい。硬化剤としては、イソシアネート系硬化剤、オルガノシラン系硬化剤、またはメラミン系硬化剤が好ましく、光照射以外の方法で化学結合（架橋）を形成するのが容易であることから、イソシアネート系硬化剤、またはオルガノシラン系硬化剤が好ましい。

　前記イソシアネート系硬化剤としては、無黄変ポリイソシアネート、または無黄変ポリイソシアネートの変性体が好ましい。
　無黄変ポリイソシアネートとしては、ＩＰＤＩ（イソホロンジイソシアネート）、ＨＭＤＩ（ヘキサメチレンジイソシアネート）、ＨＤＩ（ヘキサンジイソシアネート）が挙げられる。
　無黄変ポリイソシアネートの変性体としては、前記無黄変ポリイソシアネートにおいて、イプシロンカプロラクタム（Ｅ－ＣＡＰ）、メチルエチルケトンオキシム（ＭＥＫ－ＯＸ）、メチルイソブチルケトンオキシム（ＭＩＢＫ－ＯＸ）、ピラリジンまたはトリアジン（ＴＡ）によってイソシアネート基をブロックしたもの、ポリイソシアネート同士をカップリングしてウレトジオン結合としたもの等が挙げられる。また、前記無黄変ポリイソシアネートにおいて、常温で固形を呈すようにアダクト体としたり、水分散しやすいよう、親水性部位や乳化剤を用いて乳化状態としたものが挙げられる。
　イソシアネート系硬化剤は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。硬化剤としてイソシアネート系硬化剤を使用する場合には、単位（α４）中の架橋性基は、水酸基またはカルボキシル基であることが好ましい。

　本発明の塗料組成物がイソシアネート系硬化剤を含有する場合、その含有量は、含フッ素重合体（Ａ）１００質量部に対して、１～３０質量部が好ましく、３～２０質量部がより好ましい。イソシアネート系硬化剤の含有量が下限値以上であれば、光照射後に塗膜に硬化不良が発生しても、養生後に強靭な硬化塗膜が得られる。また、イソシアネート系硬化剤の含有量が上限値以下であれば、塗膜の耐候性低下を抑制できる。

　オルガノシラン系硬化剤としては、下式（１）で表される化合物（以下、「化合物（１）」という。）が好ましい。
　　（Ｒ^１）_４－ｋＳｉ（ＯＲ^２）_ｋ　　　（１）
（前記式（１）中、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、炭素数１～１０の１価の炭化水素基、ｋは２～４の整数を示す。）

　Ｒ^１の１価の炭化水素基は、置換基を有していてもよい。すなわち、Ｒ^１の１価の炭化水素基の水素原子の一部または全部が置換基で置換されていてもよい。該置換基はハロゲン原子が好ましく、フッ素原子がより好ましい。
　Ｒ^１は、メチル基、エチル基、ヘキシル基、デシル基、フェニル基、またはトリフルオロプロピル基が好ましい。化合物（１）中にＲ^１が複数存在する場合、原料の供給性の点から、複数のＲ^１が互いに同じであることが好ましい。ただし、複数のＲ^１は互いに異なっていてもよい。
　Ｒ^２の１価の炭化水素基は、炭素数１～１０のアルキル基であり、メチル基またはエチル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。化合物（１）中にＲ^３が複数存在する場合、アルコキシ基の反応性が同じになって塗膜を均一に形成しやすい点から、複数のＲ^２が互いに同じであることが好ましい。ただし、複数のＲ^２は互いに異なっていてもよい。
　化合物（１）におけるｋは２～４の整数であり、３～４が好ましい。

　化合物（１）の具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等の４官能性アルコキシシラン；メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等の３官能性アルコキシシラン；ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等の２官能性アルコキシシラン等が挙げられる。なかでも、硬化速度、および得られる塗膜の物性の点から、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、またはフェニルトリメトキシシランが好ましい。
　オルガノシラン系硬化剤は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。硬化剤としてオルガノシラン系硬化剤を使用する場合には、単位（α４）中の架橋性基は、水酸基またはアルコキシシリル基であることが好ましい。

　化合物（１）は、部分的に加水分解されて縮合した部分加水分解縮合物として使用してもよい。該部分加水分解縮合物は、前記化合物（１）を、分子中に２以上の加水分解性基（－ＯＲ^３基）が残るように、部分的に加水分解して縮合することで得られる化合物である。該部分加水分解縮合物の全体構造は明らかではないが、－Ｓｉ－Ｏ－結合からなる骨格とアルコキシ基からなるポリ珪酸エステルであって、その骨格は、直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよく、環状構造であってもよい。
　化合物（１）の部分加水分解縮合物は、縮合度が低いほど好ましい。部分加水分解縮合物の縮合度が低いほど、含フッ素重合体（Ａ）との相溶性が向上する。また、形成される塗膜と該塗膜が形成される基材の層（反射層等。）の熱膨張係数がより近くなり、熱による膨張、収縮に起因する塗膜の基材からの剥離が起き難くなる。

　化合物（１）の部分加水分解縮合物を製造する方法は、特に限定されず、公知の部分加水分解縮合物の製造方法を採用できる。例えば、化合物（１）に、水、酸、および溶剤の少なくとも１種を加え、部分的に加水分解縮合させる方法が挙げられる。

　化合物（１）の部分加水分解縮合物としては、縮合度、構造、アルコキシ基の種類が異なるものが市販されており、例えば、商品名「ＫＲ－５００」、「ＫＲ－５１０」、「ＫＲ－２１３」（以上、信越化学工業社製）、商品名「ＭＫＣシリケートＭＳ５１」、「ＭＫＣシリケートＭＳ５６」（以上、三菱化学社製）、商品名「Ｍシリケート５１」、「エチルシリケート４０」、「エチルシリケート４５」（以上、多摩化学工業社製）等の有効シリカ分が２８～７０質量％程度である縮合物、または、該縮合物をエタノールもしくはイソプロパノールに溶解した商品名「ＨＡＳ－１」、「ＨＡＳ－６」、「ＨＡＳ－１０」（以上、コルコート社製）等が挙げられる。前記「有効シリカ分」とは、製品中に含まれるポリアルキルシリケートを１００質量％としたときの、ＳｉＯ_２換算としてのシリカの含有量を示す値である。
　化合物（１）の部分加水分解縮合物は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。

　本発明の塗料組成物がオルガノシラン系硬化剤を含有する場合、その含有量は、含フッ素重合体（Ａ）１００質量部に対して、１～３０質量部が好ましく、３～２０質量部がより好ましい。オルガノシラン系硬化剤の含有量が下限値以上であれば、光照射後のばらつきによる硬化不良を充分に補うことができ、強靭な硬化塗膜が得られる。また、オルガノシラン系硬化剤の含有量が上限値以下であれば、塗膜の柔軟性低下を抑制できる。

　本発明の塗料組成物が酸化防止剤を含有すれば、該組成物が化合物（Ｃ）として（置換）オキセタニル基を有する化合物またはエポキシ基を有する化合物等を含有しても、それらが室温で酸化されて熱に不安定な過酸化物を生成することを抑制しやすい。前記過酸化物は、ラジカルを生成して分解するので、例えば、光反応開始剤（Ｂ）であるヨードニウム塩系の光反応開始剤を分解し、酸を発生することで、塗布前にカチオン重合を開始させるおそれがある。よって、本発明の塗料組成物が酸化防止剤を含有すれば、特に光重合開始剤（Ｂ）としてヨードニウム塩系の光反応開始剤を使用する場合に貯蔵安定性が向上する。

　酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤、またはチオエーテル系酸化防止剤が好ましい。
　フェノール系酸化防止剤としては、２－ｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、２，６－ジ－ｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、２，６－ジ－ｔ－ブチル－４－エチルフェノール、２，２’－メチレンビス－（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール、２，２’－メチレンビス－（４－エチル－６－ｔ－ブチルフェノール、トリエチレングリコール－ビス［３－（３－ｔ－ブチル－５－メチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，６－ヘキサンジオール－ビス［３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－５－メチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリスリチルテトラキス［３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－５－メチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル－３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－５－メチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、１，３，５－トリメチル－２，４，６－トリス（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）ベンゼン等が挙げられる。
　ホスファイト系酸化防止剤としては、トリフェニルホスファイト、トリス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ホスファイト等が挙げられる。
　チオエーテル系酸化防止剤としては、ビス（４－ヒドロキシ－３－メチルフェニル）スルフィド、ビス（４－ヒドロキシフェニル）スルフィド、４，４’－チオビス－（６－ｔ－ブチル－ｍ－クレゾール、４，４’－チオビス－（６－ｔ－ブチル－о－クレゾール、２，２’－チオビス－（４－ｔ－オクチルフェノール）等が挙げられる。
　酸化防止剤としては、前記のなかでも、入手が容易な点から、２－ｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、または２，６－ジ－ｔ－ブチル－ｐ－クレゾールがより好ましい。

　酸化防止剤は、１種を単独で使用してもよく、２種類以上を併用してもよいが、２種以上を併用することが好ましい。特に、大きな相乗効果が得られる点から、フェノール系酸化防止剤とホスファイト系酸化防止剤の併用、またはフェノール系酸化防止剤とチオエーテル系酸化防止剤の併用がより好ましい。
　本発明の塗料組成物が酸化防止剤を含有する場合、その含有量は、含フッ素重合体（Ａ）１００質量部に対して、０．００５～５．０質量部が好ましく、０．０１～３．０質量部がより好ましい。酸化防止剤の含有量が下限値以上であれば、塗料組成物の貯蔵安定性が向上する。また、酸化防止剤の含有量が上限値を超えても、貯蔵安定性を向上させる効果は大きく変化しない。

　本発明の塗料組成物が熱硬化触媒を含有すれば、光照射による硬化に加えて、加熱により硬化をさらに促進できる。
　熱硬化触媒としては、例えば、ブレンステッド酸あるいはルイス酸をルイス塩基で中和した化合物が挙げられる。該ブレンステッド酸をルイス塩基で中和した化合物としては、例えば、ハロゲノカルボン酸類、スルホン酸類、硫酸モノエステル類、リン酸モノおよびジエステル類、ポリリン酸エステル類、ホウ酸モノおよびジエステル類等を、アンモニア、モノエチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、ピペリジン、アニリン、モルホリン、シクロヘキシルアミン、ｎ－ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等の各種アミン、もしくはトリアルキルホスフィン、トリアリールホスフィン、トリアルキルホスファイト、トリアリールホスファイトで中和した化合物、さらには酸－塩基ブロック化触媒として市販されているネイキュア２５００Ｘ、Ｘ－４７－１１０、３５２５、５２２５（商品名、キングインダストリー社製）等が挙げられる。また、ルイス酸をルイス塩基で中和した化合物としては、例えば、ＢＦ_３、ＦｅＣｌ_３、ＳｎＣｌ_４、ＡｌＣｌ_３、ＺｎＣｌ_２、２－エチルヘキシル酸亜鉛、２－エチルヘキシル酸スズ等の金属石けん等のルイス酸を、前記のルイス塩基で中和した化合物が挙げられる。

　本発明の塗料組成物が熱硬化触媒を含有する場合、その含有量は、本発明の塗料組成物１００質量部に対して、０．００５～５．０質量部が好ましく、０．０１～３．０質量部がより好ましい。熱硬化触媒の含有量が下限値以上であれば、塗膜の硬度が高まり、塗膜の耐衝撃性、耐擦傷性が向上する。また、熱硬化触媒の含有量が上限値以下であれば、熱硬化触媒が塗膜に残存しにくくなり、塗膜の物性の低下や黄変等を抑制できる。

　含フッ素重合体（Ａ）以外の他の樹脂としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、アクリルポリオール樹脂、ポリエステルポリオール樹脂、ウレタン樹脂、アクリル変成シリコーン樹脂、シリコーン変成アクリル樹脂、シリコーン樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、アミノ樹脂等の非フッ素系樹脂、含フッ素重合体（Ａ）以外のフッ素樹脂等が挙げられる。他の樹脂は、光反応性架橋基を有する硬化性樹脂であってもよい。
　本発明の塗料組成物に他の樹脂を配合する場合、他の樹脂の含有量は、含フッ素重合体（Ａ）の１００質量部に対して１～２００質量部が好ましい。

　本発明の塗料組成物は、含フッ素重合体（Ａ）、光反応開始剤（Ｂ）、および化合物（Ｃ）等の任意成分を、必要に応じて反応性希釈剤や有機溶剤で適宜粘度調整しながら混合することで、製造できる。各成分の混合順序は特に限定されない。

　本発明の塗料組成物としては、各成分を以下に示す組み合わせで含有する塗料組成物（１）～（３）が好ましい。
　（１）含フッ素重合体（Ａ）として前記含フッ素重合体（Ａ１）および含フッ素重合体（Ａ２）の少なくとも一方を含有し、光反応開始剤（Ｂ）としてスルホニウム塩系またはヨードニウム塩系の光反応開始剤を含有する塗料組成物。
　（２）前記（１）の組み合わせに、さらに化合物（Ｃ）として化合物（Ｃ－１）および化合物（Ｃ－２）の少なくとも一方を含有する塗料組成物。
　（３）前記（１）または（２）の組み合わせに、さらに顔料成分（Ｄ）として、酸化チタンを含有する塗料組成物。
　前記塗料組成物（１）～（３）では、含フッ素重合体（Ａ）、光反応開始剤（Ｂ）、化合物（Ｃ）および顔料成分（Ｄ）の組み合わせにおいて、前記した組み合わせのそれぞれが好ましい。また、各成分の組み合わせが、それぞれの成分の項で説明したより好ましい成分同士の組み合わせであることがより好ましい。

＜太陽熱集熱用反射板の製造方法＞
　本発明の太陽熱集熱用反射板の製造方法は、太陽熱を集めて熱エネルギーとして利用する太陽熱集熱システムにおける太陽光を反射する反射板の製造方法である。
　本発明の太陽熱集熱用反射板の製造方法は、反射基板の表面に、太陽熱集熱用反射板の表面塗布用塗料組成物を塗布して塗布層を形成した後、光照射により硬化させて塗膜を形成させる。
　本発明における反射基板は、太陽光を反射する性能を有している基板であれば特に制限されない。反射基板の素材としては、例えばガラス、金属、樹脂およびこれらの複合物等が挙げられる。反射基板としては、これらの素材からなり、板状やフィルム状である基板の表面に、鏡面仕上げ加工、反射層の形成などにより、太陽光を反射する性能を付与された反射基板が好ましい。
　反射基板としては、一方の面に金属および金属酸化物の少なくとも一方からなる反射層を有するガラス基板からなる反射基板（Ｉ）、金属からなる基板の反射面側が鏡面仕上げになっている反射基板（II）、金属からなる基板の反射面側に金属および金属酸化物の少なくとも一方からなる反射層が形成された反射基板（III）のいずれかが好ましい。

　本発明の太陽熱集熱用反射板の製造方法は、本発明の塗料組成物を塗布する反射基板の種類によって、例えば下記方法（α）～（γ）が挙げられる。
　（α）一方の面に金属および金属酸化物の少なくとも一方からなる反射層を有するガラス基板からなる反射基板（Ｉ）の表面に、前述した本発明の塗料組成物を塗布して塗布層を形成した後、光照射により硬化させて塗膜を形成する方法。
　（β）金属からなる基板の反射面側が鏡面仕上げになっている反射基板（II）の表面に、前述した本発明の塗料組成物を塗布して塗布層を形成した後、光照射により硬化させて塗膜を形成する方法。
　（γ）金属からなる基板の反射面側に金属および金属酸化物の少なくとも一方からなる反射層が形成された反射基板（III）の表面に、前述した本発明の塗料組成物を塗布して塗布層を形成した後、光照射により硬化させて塗膜を形成する方法。

　反射基板は、太陽熱集熱用反射板の本体をなす部分である。本発明の製造方法における塗料組成物を塗布する反射基板の表面とは、反射基板の太陽光照射面、太陽光照射面と反対側の面、および側面の少なくとも１つの面である。本発明の製造方法では、太陽熱集熱用反射板における反射基板の太陽光照射面と反対側に塗膜を形成してもよく、反射基板の側面に塗膜を形成してもよく、反射基板の太陽光照射面側に塗膜を形成してもよい。本発明の製造方法においては、反射基板の太陽光照射面と反対側の面および側面の少なくとも一方に、本発明の塗料組成物により塗膜を形成することが好ましい。

　方法（α）：
　方法（α）における反射基板（Ｉ）は、一方の面に金属および金属酸化物の少なくとも一方からなる反射層を有するガラス基板からなる反射基板である。反射基板（Ｉ）の太陽光照射面とは、ガラス基板側の面であり、太陽光照射面と反対側の面とは、反射層側の面である。
　反射基板（Ｉ）のガラス基板としては、鏡用の公知のガラスが使用でき、例えば、ソーダライムガラス等が挙げられる。ガラス基板の厚みは、０．５～１０ｍｍが好ましい。

　反射基板（Ｉ）における金属および金属酸化物の少なくとも一方からなる反射層（以下、「反射層（Ｉ）」という。）は、太陽光を反射する層である。反射層（Ｉ）を形成する金属、金属酸化物は、反射層とした時に高い反射率を確保できるものであれは特に限定されない。
　反射層（Ｉ）が金属からなる場合、該金属としては、チタン、モリブデン、マンガン、アルミニウム、銀、銅、金およびニッケルからなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を含有することが好ましく、特に銀を含有することが好ましい。その場合の反射層（Ｉ）における銀の含有量は、６０質量％以上が好ましく、１００質量％が特に好ましい。
　反射層（Ｉ）が金属酸化物からなる場合、該金属酸化物は１種でもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。反射層（Ｉ）を形成する金属酸化物としては、酸化チタンが好ましい。
　また、反射層（Ｉ）は、金属と金属酸化物が組み合わされた層であってもよい。
　反射層（Ｉ）の厚みは、３００～１５００ｇ／ｍ^２が好ましい。

　反射基板（Ｉ）は、ガラス基板の一方の面に、スパッタリング、または銀鏡反応等の化学反応を利用する方法等の公知の方法で反射層（Ｉ）を設けることにより製造できる。
　反射層（Ｉ）は、１層でもよく、２層以上であってもよい。

　以下、方法（α）の一例を図１～３に基づいて説明する。
　本実施形態では、図１に例示した反射基板（Ｉ）１１の表面に塗膜を形成する。反射基板（Ｉ）１１は、ガラス基板１１ａと、該ガラス基板１１ａの一方の面に形成された反射層（Ｉ）１１ｂとからなる。
　本実施形態の製造方法では、図２に示すように、反射基板（Ｉ）１１の反射層（Ｉ）１１ｂ側に、本発明の塗料組成物を塗布して塗布層１２Ａを形成する。
　塗料組成物の塗布方法としては、刷毛、ローラ、スプレー、フローコータ、アプリケータ等を使用する方法が挙げられる。塗料組成物の塗布量は、目的とする乾燥膜厚に応じて適宜選定すればよい。

　次いで、光照射により硬化させて塗膜１２を形成する。粘度調整をする目的で塗料組成物に有機溶剤を使用した場合は、例えば、加熱、減圧等により塗布層１２Ａから有機溶剤を除去した後に、光照射により硬化させて塗膜１２を形成する。
　有機溶剤を除去する際の温度は、使用する溶剤の沸点を考慮して適宜定めればよく、１５～１００℃が好ましく、２０～８０℃がより好ましい。前記温度が下限値以上であれば、有機溶剤が除去されやすい。前記温度が上限値以下であれば、塗膜１２に発泡跡が生じにくい。

　光照射の際の雰囲気は、特に制限されず、空気中もしくは不活性ガス雰囲気中が好ましい。
　塗布層１２Ａに照射する光は、紫外線が好ましく、波長１５０～４５０ｎｍの紫外線がより好ましい。紫外線照射源としては、水銀ランプ、キセノンランプ、カーボンアーク、メタルハライドランプ、または太陽が好ましい。特に光照射を空気中で行う場合には、高圧水銀ランプがより好ましい。
　光の照射時間は、充分に硬化反応を進行させやすい点から、３秒以上が好ましい。また、生産性の点から、６００秒以下が好ましい。
　光照射による硬化に使用する装置としては、特に制限はなく、密閉式硬化炉、連続硬化が可能なトンネル炉等の硬化装置を採用できる。具体的には、アイグラフィックス社製のインバーター式コンベア「ＥＣＳ－４０１ＧＸ」、ウシオ電機社製の紫外線照射装置「ＵＶＣ－０２５１６Ｓ１ＡＡ０１」等が挙げられる。

　また、本発明の製造方法では、塗料組成物が熱硬化触媒を含有する場合、光照射による硬化に加えて、加熱により硬化を促進できる。
　加熱方法は特に限定されず、熱風循環、赤外線加熱、高周波加熱等の方法を採用できる。
　熱硬化触媒を使用する際の硬化の温度および時間の条件は、熱硬化触媒の種類によっても異なるが、５０～２００℃で１０秒～５時間硬化させる条件が好ましく、５０～１５０℃で３０秒～１時間硬化させる条件がより好ましい。
　塗布層１２Ａからの光照射と熱硬化による硬化の順序は特に限定されない。また、有機溶剤を使用した場合は、有機溶剤を除去した後に光照射により硬化してもよく、光照射による硬化の後に有機溶剤を除去してもよく、有機溶剤の除去と光照射による硬化を同時に行ってもよい。
　形成する塗膜１２の膜厚は、０．５～１００μｍが好ましい。

　次いで、図３に示すように、反射基板（Ｉ）１１の側面１１ｃに、本発明の塗料組成物を塗布して塗布層１３Ａを形成する。
　塗料組成物の塗布方法としては、反射基板（Ｉ）１１の側面１１ｃに均一に塗布しやすい点から、刷毛、スプレー等を使用して手作業で塗布する方法が好ましい。塗料組成物の塗布量は、目的とする乾燥膜厚に応じて適宜選定すればよい。

　その後、塗膜１２の形成と同様にして、光照射により硬化させて塗膜１３を形成し、太陽熱集熱用反射板１０を得る。
　形成する塗膜１３の膜厚は、０．５～１００μｍが好ましい。
　なお、方法（α）においては、前記工程に従って、反射基板（Ｉ）の側面も本発明の塗料組成物を塗布することが好ましいが、別の手段によって側面の耐水性等が確保されている場合には、側面への塗布は必要ない場合がある。

　方法（β）：
　方法（β）における反射基板（II）は、金属からなる基板の反射面側が鏡面仕上げになっている反射基板である。反射基板（II）の太陽光照射面とは、鏡面仕上げされた面である。反射基板（II）は、反射基板（Ｉ）のガラス基板に比べて、破損のおそれが少ない点、軽量化が容易で設置費用を削減できる点、曲げ等の加工が容易である点で有利である。
　反射基板（II）の厚みは、０．１～１０ｍｍが好ましく、０．５～５ｍｍがより好ましい。

　反射基板（II）における金属からなる基板としては、アルミニウム、アルミニウム合金およびステンレスからなる群から選ばれる少なくとも１種からなる基板が好ましい。なかでも、アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる基板が特に好ましい。
　前記鏡面仕上げは、例えば物理的な研磨が一般的だが、化学的または電気的研磨方法によって行うことができる。このとき、研磨後の反射基板（II）の鏡面仕上げ面の表面粗さＲａは、０．３μｍ以下、さらには０．１μｍ以下であることが好ましい。

　方法（β）は、反射基板（Ｉ）の代わりに反射基板（II）を使用する以外は、方法（α）と同様に行える。つまり、反射基板（II）への塗料組成物の塗布、塗布層からの有機溶剤を除去、光照射による硬化は、方法（α）と同様にして行える。
　なお、方法（β）においては、反射基板（II）の側面も本発明の塗料組成物を塗布することが好ましいが、別の手段によって側面の耐水性等が確保されている場合には、側面への塗布は必要ない場合がある。

　方法（γ）：
　方法（γ）における反射基板（III）は、反射面側に金属および金属酸化物の少なくとも一方からなる反射層（以下、「反射層（III）」という。）が形成された反射基板である。反射基板（III）の太陽光照射面とは、反射層（III）側の面である。
　反射基板（III）は、反射基板（II）と同様、反射基板（Ｉ）のガラス基板に比べて、破損のおそれが少ない点、軽量化が容易で設置費用を削減できる点、曲げ等の加工が容易である点で有利である。
　反射基板（III）の厚みは、０．１～１０ｍｍが好ましく、０．５～５ｍｍがより好ましい。

　反射基板（III）における金属からなる基板としては、アルミニウム、アルミニウム合金およびステンレスからなる群から選ばれる少なくとも１種からなる基板が好ましい。なかでも、アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる基板が特に好ましい。

　反射層（III）を形成する金属、金属酸化物は、反射層とした時に高い反射率を確保できるものであれは特に限定されない。
　反射層（III）が金属からなる場合、該金属は、チタン、モリブデン、マンガン、アルミニウム、銀、銅、金およびニッケルからなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を含有することが好ましい。反射層（III）を形成する金属は、１種でもよく、２種以上の合金であってもよい。
　また、反射層（III）が金属酸化物からなる場合、該金属酸化物は１種でもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。反射層（III）を形成する金属酸化物としては、酸化チタンが好ましい。
　反射層（III）は、リン酸塩処理、陽極酸化処理、真空蒸着処理等により形成でき、その厚さは、例えば５～１５００ｎｍとすることができる。反射層（III）は、１層であってもよく、２層以上であってもよい。

　方法（γ）は、反射基板（Ｉ）の代わりに反射基板（III）を使用する以外は、方法（α）と同様に行える。つまり、反射基板（III）への塗料組成物の塗布、塗布層からの有機溶剤を除去、光照射による硬化は、方法（α）と同様にして行える。
　なお、方法（γ）においては、反射基板（III）の側面も本発明の塗料組成物を塗布することが好ましいが、別の手段によって側面の耐水性等が確保されている場合には、側面への塗布は必要ない場合がある。

　以上説明した製造方法によれば、太陽熱集熱用反射板を高い生産性で簡便に製造できる。また、太陽熱集熱用反射板の表面に、耐熱性、耐水性等の耐久性に優れ、かつ密着性、耐候性、耐酸性、耐擦傷性および耐衝撃性に優れた塗膜を形成できる。さらに当該塗膜は、架橋構造がエーテル結合を有することになることから、ウレタン結合やエステル結合と比較し、親水性が低く、塗膜の防湿性も優れる。また、塗膜をカチオン重合により形成することで、塗膜の架橋密度がより緻密になって防湿性がさらに向上する。

　なお、本発明の製造方法は、前述した方法には限定されない。例えば、反射基板の太陽光照射面と反対側の面のみに本発明の塗料組成物による塗膜を形成してもよく、反射基板の側面側のみに本発明の塗料組成物による塗膜を形成してもよい。この場合、反射基板の太陽光照射面と反対側の面には公知の塗膜を形成することが好ましい。
　また、反射基板の太陽光照射面側に本発明の塗料組成物による塗膜を形成してもよい。
　また、反射基板（Ｉ）の反射層（Ｉ）側に本発明の塗料組成物による塗膜を形成する場合、該塗膜と反射層（Ｉ）との間に、屋内で使用される鏡の裏面に設けられる公知の塗膜（裏止め塗膜）を形成してもよい。

　また、本発明の塗料組成物は、金属からなる基板に鏡面仕上げを行い、さらに反射層（以下、「反射層（IV）」という。）を設けた反射基板（以下、「反射基板（IV）」という。）にも使用できる。反射基板（IV）における鏡面仕上げは、反射基板（II）における鏡面仕上げと同様である。反射層（IV）は、反射基板（III）の反射層（III）と同じものが挙げられる。

　以下、実施例を示して本発明を詳細に説明する。ただし、本発明は以下の記載によっては限定されない。
＜含フッ素重合体（Ａ）の製造＞
［例１］
　内容積３００ｍＬのステンレス製撹拌機付きオートクレーブに、単量体（ａ２１）である３－エチル－３－ビニロキシメチルオキセタンの１３．４ｇ、単量体（ａ４）であるヒドロキシエチルビニルエーテルの８．２ｇ、単量体（ａ３）であるエチルビニルエーテルの２０．３ｇ、キシレンの１００．０ｇ、エタノールの１７．７ｇ、および炭酸カリウムの１．０ｇを一括で投入し、窒素により溶存酸素を除去した。
　次に、フルオロオレフィンであるクロロトリフルオロエチレンの５４．７ｇをオートクレーブ中に導入して徐々に昇温し、５５℃に達した後、重合開始剤であるｔ－ブチルパーオキシピバレートの５０％キシレン溶液の０．６ｇを２時間かけてオートクレーブ中に導入し、その後さらに１５時間撹拌した後に反応を停止した。反応後、ろ過により炭酸カリウムを除去し、キシレンの一部とエタノールを減圧留去により除去し、含フッ素重合体（Ａ－１）のキシレン溶液（不揮発分５０質量％）を得た。

［例２］
　内容積３００ｍＬのステンレス製撹拌機付きオートクレーブに、単量体（ａ２１）である３－エチル－３－ビニロキシメチルオキセタンの２２．２ｇ、単量体（ａ４）である４－ヒドロキシブチルビニルエーテルの９．１ｇ、単量体（ａ３）であるシクロへキシルビニルエーテルの１９．７ｇ、キシレンの１００．０ｇ、エタノールの１７．７ｇ、炭酸カリウムの１．０ｇを一括で投入し、窒素により溶存酸素を除去した。
　次に、フルオロオレフィンであるクロロトリフルオロエチレンの４５．６ｇをオートクレーブ中に導入して徐々に昇温し、５５℃に達した後、重合開始剤であるｔ－ブチルパーオキシピバレートの５０％キシレン溶液の０．６ｇを２時間かけてオートクレーブ中に導入し、その後さらに１５時間撹拌した後に反応を停止した。反応後、ろ過により炭酸カリウムを除去し、キシレンの一部とエタノールを減圧留去により除去し、含フッ素重合体（Ａ－２）のキシレン溶液（不揮発分５０質量％）を得た。

＜塗料組成物の製造＞
［例３］
　例１で得られた含フッ素重合体（Ａ－１）のキシレン溶液（不揮発分５０質量％）の３０．０ｇに、光反応開始剤（Ｂ）である商品名「イルガキュア２５０」（ヨードニウム塩系、チバスペシャリティケミカル社製）の１．０ｇと、化合物（Ｃ－１）である商品名「セロキサイド２０２１Ｐ」（脂環式エポキシ樹脂、ダイセル工業社製）の５．０ｇと、化合物（Ｃ－２）である商品名「アロンオキセタンＯＸＴ－２２１」（オキセタン化合物、東亜合成社製）の５．０ｇ、酢酸エチルの９．０ｇとを加え、ペイントシェーカーで３０分撹拌した。撹拌後、ろ過を行うことで、塗料組成物（ｉ）を得た。

［例４］
　含フッ素重合体（Ａ－１）の代わりに、例２で得られた含フッ素重合体（Ａ－２）を使用した以外は、例３と同様にして塗料組成物（ii）を得た。

［例５］
　例１で得られた含フッ素重合体（Ａ－１）のキシレン溶液（不揮発分５０質量％）の３０．０ｇに、光反応開始剤（Ｂ）である商品名「イルガキュア２５０」（ヨードニウム塩系、チバスペシャリティケミカル社製）の１．０ｇと、酢酸エチルの９．０ｇとを加え、ペイントシェーカーで３０分撹拌した。撹拌後、ろ過を行うことで、塗料組成物（iii）を得た。

＜裏止塗膜付試験板の製造＞
　クロメート処理したアルミニウム板の表面に、鉛を含まない防錆塗料を、乾燥塗膜の膜厚が５０μｍとなるように塗布し、１７０℃のオーブンで５分間乾燥硬化させることにより塗膜を形成して、裏止塗膜付試験板－IIを得た。

　反射層として銀層が形成されたガラス鏡において、銀層の上に鉛を含まない防錆塗料を、膜厚が６０μｍとなるように塗布し、１７０℃のオーブンで５分間乾燥硬化させることにより塗膜を形成して、裏止塗膜付試験板－Ｉを得た。

＜塗料組成物により形成した塗膜（硬化塗膜）の評価＞
［例６］
　裏止塗膜付試験板－IIの裏止塗膜上に、例３で得られた塗料組成物（ｉ）を、乾燥塗膜の膜厚が３０μｍとなるように塗布して塗布層を形成し、２５℃の恒温室中で、２４時間養生して溶媒を除去した。その後、コンベアー式紫外線照射装置（アイグラフィックス社製、商品名：インバーター式コンベア「ＥＣＳ－４０１ＧＸ」）を用いて、紫外線（ＵＶ）を照射することによって前記塗布層を硬化させ、試験板を得た。塗布層の硬化は、硬化速度が速く、塗布、硬化の際に、作業環境（特に、酸素）の影響を受けなかった。
　得られた試験板について、塗料組成物（ｉ）により形成した塗膜の硬度、耐水性、耐酸性、耐熱性、耐候性、裏止塗膜との密着性を評価した。

［例７］
　例４で得られた塗料組成物（ii）を使用した以外は、例６と同様にして試験板を得た。塗布層の硬化は、硬化速度が速く、塗布、硬化の際に、作業環境（特に、酸素）の影響を受けなかった。
　得られた試験板について、塗料組成物（ii）により形成した塗膜の硬度、耐水性、耐酸性、耐熱性、耐候性、裏止塗膜層との密着性を評価した。

［例８］
　例５で得られた塗料組成物（iii）を使用した以外は、例６と同様にして試験板を得た。塗布層の硬化は、硬化速度が速く、塗布、硬化の際に、作業環境（特に、酸素）の影響を受けなかった。
　得られた試験板について、塗料組成物（iii）により形成した塗膜の硬度、耐水性、耐酸性、耐熱性、耐候性、裏止塗膜層との密着性を評価した。

［例９］
　裏止塗膜付試験板－Ｉの裏止塗膜上に、例３で得られた塗料組成物（ｉ）を、乾燥塗膜の膜厚が３０μｍとなるように塗布して塗布層を形成し、２５℃の恒温室中で、２４時間養生して溶媒を除去した。その後、コンベアー式紫外線照射装置（アイグラフィックス社製、商品名：インバーター式コンベア「ＥＣＳ－４０１ＧＸ」）を用いて、紫外線（ＵＶ）を照射することによって前記塗布層を硬化させ、試験板を得た。塗布層の硬化は、硬化速度が速く、塗布、硬化の際に、作業環境（特に、酸素）の影響を受けなかった。
　得られた試験板について、裏止塗膜との密着性を評価した。

［評価方法］
　例６～９で得られた試験板の塗料組成物（ｉ）～（iii）により形成した塗膜を以下の方法で評価した。（硬度）
　ＪＩＳ　Ｋ　５６００－５－４（２００９）に準拠した方法で塗膜の硬度を測定した。

（耐衝撃性）
　ＪＩＳ　Ｋ　５６００－５－３（２００９）に準拠した方法で塗膜の耐衝撃性試験を行い、以下の基準に従って評価した。おもり落下としては、デュポン式を採用し、重り質量５００ｇ、高さ５０ｃｍの条件で実施した。「○」：塗膜に割れ、損傷等が確認されなかった。「×」：塗膜に割れ、損傷等が確認された。

（耐水性）
　ＪＩＳ　Ｋ　５６００－６－２（２００９）に準拠した方法で塗膜の耐水性試験を行い、以下の基準に従って評価した。「○」：塗膜に膨れ、損傷等が確認されなかった。「×」：塗膜に膨れ、損傷等が確認された。

（耐酸性）
　ＪＩＳ　Ｋ　５６００－６－１（２００９）に準拠した方法で塗膜の耐酸性試験を行い、以下の基準に従って評価した。尚、試験液には、０．１規定の塩酸水溶液を使用した。「○」：塗膜に膨れ、損傷等が確認されなかった。「×」：塗膜に膨れ、損傷等が確認された。

（裏止塗膜との密着性）
　ＪＩＳ　Ｋ　５６００－６－１（２００９）に準拠した方法で裏止塗膜との密着性を測定した。評価は、ＪＩＳ　Ｋ　５６００－６－１（２００９）の「表１．試験結果の分類」に従って、評価した。

（耐熱性：ガラス転移温度（Ｔｇ））
　ＤＭＳ６１００（ＳＩＩ　Ｎａｎｏ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社製）を使用し、ｔａｎδの値が最大になる温度を塗膜のＴｇとした。

（耐候性）
　沖縄県那覇市の屋外に試験板を設置し、設置直前と、２年後における塗膜表面の光沢を、ＰＧ－１Ｍ（光沢計：日本電色工業社製）を用いて測定した。設置直前の光沢の値を１００％としたときの、２年後の光沢の値の割合を光沢保持率（単位：％）として算出し、以下の基準に従って耐候性を評価した。「○」：光沢保持率が８０％以上であった。「△」：光沢保持率が６０％以上８０％未満であった。「×」：光沢保持率が６０％未満であった。
　例６～９における塗膜の評価結果を表１に示す。

　表１に示すように、本発明の塗料組成物を使用した例６、７、８では、得られた塗膜は、硬度が高く、耐衝撃性および耐擦傷性に優れていた。また、Ｔｇが高く耐熱性にも優れているうえ、耐水性および耐酸性も優れていた。さらに、耐候性試験では、塗膜光沢が高度に維持されており、優れた耐候性を有していた。例９においては、裏止塗膜との密着性に優れていた。
　以上のように、本発明の塗料組成物を使用した例６、７、８、９では、特別な条件管理を行わなくても速い硬化速度で塗膜を形成でき、該塗膜の性能も優れていた。

　本発明の塗料組成物は、太陽熱集熱用反射板の製造に使用できる。
　なお、２０１０年７月１４日に出願された日本特許出願２０１０－１５９８５８号の明細書、特許請求の範囲、図面及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。

　１０　太陽熱集熱用反射板
　１１　反射基板（Ｉ）
　１１ａ　ガラス基板
　１１ｂ　反射層（Ｉ）
　１２、１３　塗膜
　１２Ａ、１３Ａ　塗布層

Claims

　フルオロオレフィンに基づく重合単位（α１）と、オキセタニル基または置換基を有するオキセタニル基を有する単量体に基づく重合単位（α２）とを有する含フッ素重合体（Ａ）、および光反応開始剤（Ｂ）を含有する太陽熱集熱用反射板の表面塗布用塗料組成物。
　前記含フッ素重合体（Ａ）中の全重合単位における重合単位（α１）および重合単位（α２）を合計した含有割合が３０モル％以上であり、重合単位（α１）と重合単位（α２）のモル比（α１／α２）が２０／８０～８０／２０である請求項１に記載の太陽熱集熱用反射板の表面塗布用塗料組成物。
　前記含フッ素重合体（Ａ）が、アルキルビニルエーテル類、アルキルビニルエステル類、アルキルアリルエーテル類、α－不飽和環状エーテル類および（メタ）アクリル酸エステル類からなる群から選ばれる少なくとも１種の単量体に基づく重合単位（α３）を有する含フッ素重合体である請求項１または２に記載の太陽熱集熱用反射板の表面塗布用塗料組成物。
　前記含フッ素重合体（Ａ）中の全重合単位における重合単位（α３）の含有割合が５～５０モル％である請求項３に記載の太陽熱集熱用反射板の表面塗布用塗料組成物。
　前記含フッ素重合体（Ａ）が、架橋性基（オキセタニル基、および置換基を有するオキセタニル基を除く。）を有する単量体に基づく重合単位（α４）を有する含フッ素重合体である請求項１～４のいずれか一項に記載の太陽熱集熱用反射板の表面塗布用塗料組成物。
　前記含フッ素重合体（Ａ）中の全重合単位における重合単位（α４）の含有割合が１～２０モル％である請求項５に記載の太陽熱集熱用反射板の表面塗布用塗料組成物。
　前記含フッ素重合体（Ａ）が、アルキルビニルエーテル類、アルキルビニルエステル類、アルキルアリルエーテル類、α－不飽和環状エーテル類、および（メタ）アクリル酸エステル類からなる群から選ばれる少なくとも１種の単量体に基づく重合単位（α３）、ならびに架橋性基（オキセタニル基、および置換基を有するオキセタニル基を除く。）を有する単量体に基づく重合単位（α４）を含有し、かつ重合単位（α３）と重合単位（α４）のモル比（α３／α４）が、５／２０～５０／１である請求項１～６のいずれか一項に記載の太陽熱集熱用反射板の表面塗布用塗料組成物。
　前記含フッ素重合体（Ａ）中のオキセタニル基、または置換基を有するオキセタニル基との反応により化学結合を形成する反応性官能基を１分子中に２個以上有する化合物（Ｃ）を含有する請求項１～７のいずれか一項に記載の太陽熱集熱用反射板の表面塗布用塗料組成物。
　顔料成分（Ｄ）を含有する請求項１～８のいずれか一項に記載の太陽熱集熱用反射板の表面塗布用塗料組成物。
　反射基板の表面に、請求項１～９のいずれか一項に記載の太陽熱集熱用反射板の表面塗布用塗料組成物を塗布して塗布層を形成した後、光照射により硬化させて塗膜を形成させる太陽熱集熱用反射板の製造方法。
　反射基板が、一方の面に金属および金属酸化物の少なくとも一方からなる反射層を有するガラス基板からなる反射基板（Ｉ）である請求項１０に記載の太陽熱集熱用反射板の製造方法。
　反射基板が、金属からなる基板の反射面側が鏡面仕上げになっている反射基板（II）である請求項１０に記載の太陽熱集熱用反射板の製造方法。
　反射基板が、金属からなる基板の反射面側に金属および金属酸化物の少なくとも一方からなる反射層が形成された反射基板（III）である請求項１０に記載の太陽熱集熱用反射板の製造方法。
　金属からなる基板が、アルミニウム、アルミニウム合金およびステンレスからなる群から選ばれる少なくとも１種からなる基板である請求項１２または１３に記載の太陽熱集熱用反射板の製造方法。