JP5545006B2 - 熱線反射積層体及び熱線反射層保護層形成用組成物 - Google Patents
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- 239000010410 layer Substances 0.000 title claims description 197
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 title claims description 179
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 178
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 88
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 88
- -1 methacryloyl group Chemical group 0.000 claims description 62
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 37
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 36
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 36
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 33
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 32
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 claims description 28
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 27
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 25
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 21
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 21
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 claims description 20
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 18
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 17
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 16
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 claims description 16
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 14
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims description 12
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 12
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 11
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims description 10
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims description 10
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical compound C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 7
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 6
- OZKOMUDCMCEDTM-UHFFFAOYSA-N 1,7-phenanthroline Chemical compound C1=CC=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=N1 OZKOMUDCMCEDTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- RMHQDKYZXJVCME-UHFFFAOYSA-N 2-pyridin-4-ylpyridine Chemical compound N1=CC=CC=C1C1=CC=NC=C1 RMHQDKYZXJVCME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- OFDVABAUFQJWEZ-UHFFFAOYSA-N 3-pyridin-3-ylpyridine Chemical compound C1=CN=CC(C=2C=NC=CC=2)=C1 OFDVABAUFQJWEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N Bipyridyl Chemical compound N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 5
- FIKAKWIAUPDISJ-UHFFFAOYSA-L paraquat dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].C1=C[N+](C)=CC=C1C1=CC=[N+](C)C=C1 FIKAKWIAUPDISJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 5
- MWVTWFVJZLCBMC-UHFFFAOYSA-N 4,4'-bipyridine Chemical compound C1=NC=CC(C=2C=CN=CC=2)=C1 MWVTWFVJZLCBMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 110
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 109
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 104
- 238000000034 method Methods 0.000 description 60
- 239000010408 film Substances 0.000 description 47
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 32
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 32
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 22
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 20
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 19
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 19
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 18
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 18
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 17
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 15
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 15
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 description 14
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 13
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 12
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 12
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 11
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 9
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 7
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 7
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 6
- 239000002585 base Substances 0.000 description 6
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 6
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 6
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 6
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 6
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 6
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 5
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 5
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 5
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 5
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 4
- IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCS IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- REDXJYDRNCIFBQ-UHFFFAOYSA-N aluminium(3+) Chemical compound [Al+3] REDXJYDRNCIFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Chemical group 0.000 description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 4
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 4
- 125000005439 maleimidyl group Chemical group C1(C=CC(N1*)=O)=O 0.000 description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 4
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000004224 protection Effects 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- ABZJDNLKVWSLPM-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylethyl prop-2-enoate Chemical compound SCCOC(=O)C=C ABZJDNLKVWSLPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N Indole Chemical compound C1=CC=C2NC=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 3
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 3
- XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N furfuryl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CO1 XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 3
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 3
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 3
- RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N thiophenol Chemical compound SC1=CC=CC=C1 RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene Chemical compound C1=CC=C2SC=CC2=C1 FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QLIBJPGWWSHWBF-UHFFFAOYSA-N 2-aminoethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCN QLIBJPGWWSHWBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UGIJCMNGQCUTPI-UHFFFAOYSA-N 2-aminoethyl prop-2-enoate Chemical compound NCCOC(=O)C=C UGIJCMNGQCUTPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentane-2,4-diol Chemical compound CC(O)CC(C)(C)O SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEKIYFGCEAJDDT-UHFFFAOYSA-N 2-pyridin-3-ylpyridine Chemical compound N1=CC=CC=C1C1=CC=CN=C1 VEKIYFGCEAJDDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UHSAXACYGOKSED-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCS UHSAXACYGOKSED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DQSNECNMKBTWCE-UHFFFAOYSA-N 3-sulfanylpropyl prop-2-enoate Chemical compound SCCCOC(=O)C=C DQSNECNMKBTWCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDCGOANMDULRCW-UHFFFAOYSA-N 7H-purine Chemical compound N1=CNC2=NC=NC2=C1 KDCGOANMDULRCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N Allylamine Chemical compound NCC=C VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N D-gluconic acid Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004420 Iupilon Substances 0.000 description 2
- WHUUTDBJXJRKMK-VKHMYHEASA-N L-glutamic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CCC(O)=O WHUUTDBJXJRKMK-VKHMYHEASA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical compound SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 2
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 235000006708 antioxidants Nutrition 0.000 description 2
- WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N benzylamine Chemical compound NCC1=CC=CC=C1 WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UCMIRNVEIXFBKS-UHFFFAOYSA-N beta-alanine Chemical compound NCCC(O)=O UCMIRNVEIXFBKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000006664 bond formation reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- PXRMLPZQBFWPCV-UHFFFAOYSA-N dioxasilirane Chemical compound O1O[SiH2]1 PXRMLPZQBFWPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 2
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 2
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 2
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 2
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 229920006351 engineering plastic Polymers 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- BTCSSZJGUNDROE-UHFFFAOYSA-N gamma-aminobutyric acid Chemical compound NCCCC(O)=O BTCSSZJGUNDROE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004313 glare Effects 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N isoquinoline Chemical compound C1=NC=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 2
- IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N octan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KZCOBXFFBQJQHH-UHFFFAOYSA-N octane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCS KZCOBXFFBQJQHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006353 oxyethylene group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 2
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 2
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000002633 protecting effect Effects 0.000 description 2
- XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N quinoxaline Chemical compound N1=CC=NC2=CC=CC=C21 XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010944 silver (metal) Substances 0.000 description 2
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 2
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 2
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 2
- CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N thioglycolic acid Chemical compound OC(=O)CS CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005011 time of flight secondary ion mass spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 238000002042 time-of-flight secondary ion mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 2
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- UCJSMIWAXWPDOJ-UHFFFAOYSA-N 1,10-phenanthroline-5-carboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)O)=CC3=CC=CN=C3C2=N1 UCJSMIWAXWPDOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUPCPMLLHMMZFM-UHFFFAOYSA-N 1,10-phenanthroline-5-thiol Chemical compound Sc1cc2cccnc2c2ncccc12 KUPCPMLLHMMZFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZQTRPPVKQPFO-UHFFFAOYSA-N 1,2-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2C=NOC2=C1 KTZQTRPPVKQPFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUVDQMYRPUHXPB-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-carboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2SC(C(=O)O)=NC2=C1 UUVDQMYRPUHXPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJVLVRYLIMQVDD-UHFFFAOYSA-N 1,3-thiazole-2-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=NC=CS1 IJVLVRYLIMQVDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRZXCOWFGPICGA-UHFFFAOYSA-N 1,6-Hexanedithiol Chemical compound SCCCCCCS SRZXCOWFGPICGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSMIRTBJXGTJOS-UHFFFAOYSA-N 1-(1,3-benzothiazol-2-yl)prop-2-en-1-one Chemical compound C1=CC=C2SC(C(=O)C=C)=NC2=C1 RSMIRTBJXGTJOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRFQPNZPZFHEDG-UHFFFAOYSA-N 1-(1,3-thiazol-2-yl)prop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)C1=NC=CS1 HRFQPNZPZFHEDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCJABVIJJDJQEN-UHFFFAOYSA-N 1-(1H-benzimidazol-2-yl)-2-methylprop-2-en-1-one Chemical compound CC(=C)C(=O)C1=NC2=CC=CC=C2N1 ZCJABVIJJDJQEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBKMFVRKUCKHLB-UHFFFAOYSA-N 1-(1H-benzimidazol-2-yl)prop-2-en-1-one Chemical compound C(=O)(C=C)C=1NC2=C(N1)C=CC=C2 SBKMFVRKUCKHLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBUCWFAQJINUGP-UHFFFAOYSA-N 1-(1h-imidazol-2-yl)-2-methylprop-2-en-1-one Chemical compound CC(=C)C(=O)C1=NC=CN1 IBUCWFAQJINUGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZMYHIHXCSWJHI-UHFFFAOYSA-N 1-(1h-imidazol-2-yl)prop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)C1=NC=CN1 HZMYHIHXCSWJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJLUATLTXUNBOT-UHFFFAOYSA-N 1-Hexadecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCN FJLUATLTXUNBOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylimidazole Chemical compound C=CN1C=CN=C1 OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORHPVUWXGYLHOB-UHFFFAOYSA-N 1-ethynylbenzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N(C#C)N=NC2=C1 ORHPVUWXGYLHOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYSSWJBFRPWMRV-UHFFFAOYSA-N 1-ethynyltriazole Chemical compound C#CN1C=CN=N1 AYSSWJBFRPWMRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KINVSCCCUSCXTA-UHFFFAOYSA-N 1-phenyltriazole Chemical compound N1=NC=CN1C1=CC=CC=C1 KINVSCCCUSCXTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLXCHZCQTCBUOX-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enylimidazole Chemical compound C=CCN1C=CN=C1 XLXCHZCQTCBUOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWTQLHQOGZTHRW-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-ynyl-1,2,4-triazole Chemical compound C#CCN1C=NC=N1 OWTQLHQOGZTHRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGIJKQXOOIWWGO-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-ynylbenzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N(CC#C)N=NC2=C1 HGIJKQXOOIWWGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGOQKSGJGCADAG-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-ynylimidazole Chemical compound C#CCN1C=CN=C1 UGOQKSGJGCADAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAXOFTOLAUCFNW-UHFFFAOYSA-N 1H-indazole Chemical compound C1=CC=C2C=NNC2=C1 BAXOFTOLAUCFNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTFDOAGGZKNCTO-UHFFFAOYSA-M 1h-1,2,4-triazole-5-diazonium;chloride Chemical compound [Cl-].N#[N+]C1=NC=NN1 QTFDOAGGZKNCTO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SNTWKPAKVQFCCF-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydro-1h-triazole Chemical compound N1NC=CN1 SNTWKPAKVQFCCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMZJMYUHORKBER-UHFFFAOYSA-N 2-(1,10-phenanthrolin-5-yl)acetic acid Chemical compound C1=CC=C2C(CC(=O)O)=CC3=CC=CN=C3C2=N1 CMZJMYUHORKBER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAYOVBXHLNEPOD-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-benzothiazol-6-yl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=C2N=CSC2=C1 OAYOVBXHLNEPOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXTMFYBABGJSBY-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-thiazol-2-yl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=NC=CS1 YXTMFYBABGJSBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSLOXIRGUNMLII-UHFFFAOYSA-N 2-(1h-imidazol-2-yl)ethanethiol Chemical compound SCCC1=NC=CN1 OSLOXIRGUNMLII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AORIVBNPDYSFES-UHFFFAOYSA-N 2-(2h-benzotriazol-5-yl)acetic acid Chemical compound C1=C(CC(=O)O)C=CC2=NNN=C21 AORIVBNPDYSFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGPIDHWXIGZRLP-UHFFFAOYSA-N 2-(3-ethynylphenyl)ethanethiol Chemical compound C#CC1=CC=CC(=C1)CCS UGPIDHWXIGZRLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGMCJQLLJVFPSK-UHFFFAOYSA-N 2-(3h-benzimidazol-5-yl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=C2N=CNC2=C1 KGMCJQLLJVFPSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULIKDJVNUXNQHS-UHFFFAOYSA-N 2-Propene-1-thiol Chemical compound SCC=C ULIKDJVNUXNQHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYMHSIPNTXHDAL-SAJCGKLUSA-N 2-[(z)-[(2e)-3,7-dimethylocta-2,6-dienylidene]amino]-1-nitroguanidine Chemical compound CC(C)=CCC\C(C)=C\C=N/N=C(\N)N[N+]([O-])=O UYMHSIPNTXHDAL-SAJCGKLUSA-N 0.000 description 1
- OXZHPONWFQVUPN-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]-1H-imidazole Chemical compound C(C1CO1)OC(CC=1NC=CN=1)C OXZHPONWFQVUPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCYCUECVHJJFIQ-UHFFFAOYSA-N 2-[3-(benzotriazol-2-yl)-4-hydroxyphenyl]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 VCYCUECVHJJFIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZGBVWQEOOSDCF-UHFFFAOYSA-N 2-[3-(benzotriazol-2-yl)-4-hydroxyphenyl]ethyl prop-2-enoate Chemical compound OC1=CC=C(CCOC(=O)C=C)C=C1N1N=C2C=CC=CC2=N1 HZGBVWQEOOSDCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLVCPVCGNOKHRF-UHFFFAOYSA-N 2-ethynyl-1,3-benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC(C#C)=NC2=C1 ZLVCPVCGNOKHRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUPXSEFDDXGNKX-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(1,2,4-triazol-1-yl)prop-2-en-1-one Chemical compound CC(=C)C(=O)N1C=NC=N1 AUPXSEFDDXGNKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWYHDSLIWMUSOO-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1h-benzimidazole Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2N1 DWYHDSLIWMUSOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound C1=CNC(C=2C=CC=CC=2)=N1 ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJRLKUOFBZMRBR-UHFFFAOYSA-N 2-phenylbenzotriazole Chemical compound C1=CC=CC=C1N1N=C2C=CC=CC2=N1 XJRLKUOFBZMRBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIULAVLZOPPVFP-UHFFFAOYSA-N 2H-benzotriazole-5-thiol Chemical compound SC1=CC=C2NN=NC2=C1 CIULAVLZOPPVFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHMICKWLTGFITH-UHFFFAOYSA-N 2H-isoindole Chemical compound C1=CC=CC2=CNC=C21 VHMICKWLTGFITH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUOVBFFLXKJFEE-UHFFFAOYSA-N 2h-benzotriazole-5-carboxylic acid Chemical compound C1=C(C(=O)O)C=CC2=NNN=C21 GUOVBFFLXKJFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTODOEDLCNTSLG-UHFFFAOYSA-N 2h-triazole-4-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CNN=N1 GTODOEDLCNTSLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGQLWWXAVSIXPY-UHFFFAOYSA-N 3-(1,3-thiazol-4-yl)propanal Chemical compound O=CCCC1=CSC=N1 CGQLWWXAVSIXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJMTYUUFWCZEAA-UHFFFAOYSA-N 3-(1h-imidazol-2-yl)propanal Chemical compound O=CCCC1=NC=CN1 JJMTYUUFWCZEAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LOESLMDNPQYFOG-UHFFFAOYSA-N 3-(1h-imidazol-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1=NC=CN1 LOESLMDNPQYFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AODOMGJHAKHUOP-UHFFFAOYSA-N 3-(3h-benzimidazol-5-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1=CC=C2N=CNC2=C1 AODOMGJHAKHUOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYNKWQVTBWWTSR-UHFFFAOYSA-N 3-(disilanylsilyl)propane-1-thiol Chemical compound [SiH3][SiH2][SiH2]CCCS XYNKWQVTBWWTSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STYXMKHCDKYSOM-UHFFFAOYSA-N 3-(oxiran-2-ylmethoxy)propan-1-amine Chemical compound NCCCOCC1CO1 STYXMKHCDKYSOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOTBWEUPCQOBHI-UHFFFAOYSA-N 3-(oxiran-2-ylmethoxy)propane-1-thiol Chemical compound SCCCOCC1CO1 AOTBWEUPCQOBHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCXDJQZLDDHMGX-UHFFFAOYSA-N 3-aminopropanal Chemical compound NCCC=O PCXDJQZLDDHMGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYGAMTQMILRCCI-UHFFFAOYSA-N 3-aminopropane-1-thiol Chemical compound NCCCS IYGAMTQMILRCCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNCMCDMEYCLVBO-UHFFFAOYSA-N 3-aminopropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCN SNCMCDMEYCLVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNKQLUVBPJEUOR-UHFFFAOYSA-N 3-ethynylaniline Chemical compound NC1=CC=CC(C#C)=C1 NNKQLUVBPJEUOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUXPJYZYDOLHGR-UHFFFAOYSA-N 3-isocyanatopropan-1-amine Chemical compound NCCCN=C=O YUXPJYZYDOLHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAFWINMYRPKBQV-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-ynyl-2h-1,3-thiazole Chemical compound C#CCN1CSC=C1 UAFWINMYRPKBQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QURURPFUWRWGSN-UHFFFAOYSA-N 3-sulfanylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCS QURURPFUWRWGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCVLSHAVSIYKLI-UHFFFAOYSA-N 3h-1,3-thiazole-2-thione Chemical compound SC1=NC=CS1 OCVLSHAVSIYKLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USGYONGVPQRFBU-UHFFFAOYSA-N 4-ethenoxy-2h-triazole Chemical compound C=COC=1C=NNN=1 USGYONGVPQRFBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNNHMXYMKWHUBM-UHFFFAOYSA-N 4-ethynyl-1,3-thiazole Chemical compound C#CC1=CSC=N1 SNNHMXYMKWHUBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQRWUSWJYHBQNF-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-1,10-phenanthroline Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=NC2=C1C=CC1=CC=CN=C21 WQRWUSWJYHBQNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXCQDIWJQBSUJF-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-1,3-thiazole Chemical compound S1C=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1 KXCQDIWJQBSUJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTRIDVOOPAQEEL-UHFFFAOYSA-N 4-sulfanylbutanoic acid Chemical compound OC(=O)CCCS DTRIDVOOPAQEEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGLYIDJFQYFXSZ-UHFFFAOYSA-N 5-ethynyl-1,10-phenanthroline Chemical compound C1=CC=C2C(C#C)=CC3=CC=CN=C3C2=N1 UGLYIDJFQYFXSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZUWMHJVZVAGFO-UHFFFAOYSA-N 6-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]-1H-benzimidazole Chemical compound C(C1CO1)OC(CC1=CC2=C(N=CN2)C=C1)C SZUWMHJVZVAGFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GXIMOKFZQVNMOG-UHFFFAOYSA-N 6-ethenoxy-1H-benzimidazole Chemical compound C(=C)OC1=CC2=C(N=CN2)C=C1 GXIMOKFZQVNMOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYWIKKGBVPHYFC-UHFFFAOYSA-N 6-ethynyl-1h-benzimidazole Chemical compound C#CC1=CC=C2N=CNC2=C1 WYWIKKGBVPHYFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFUJHZNLKQHQMO-UHFFFAOYSA-N 6-sulfanylhexanal Chemical compound SCCCCCC=O XFUJHZNLKQHQMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUFWKGDXIKCBMT-UHFFFAOYSA-N 8-isocyanatooctane-1-thiol Chemical compound SCCCCCCCCN=C=O BUFWKGDXIKCBMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- SGKJPTLQJKGTRJ-UHFFFAOYSA-N C#CCC1=C2C=CC=NC2=C3C(=C1)C=CC=N3 Chemical compound C#CCC1=C2C=CC=NC2=C3C(=C1)C=CC=N3 SGKJPTLQJKGTRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJAQUGFJSOUSBD-UHFFFAOYSA-N C#CCC1=CC2=C(C=C1)N=CN2 Chemical compound C#CCC1=CC2=C(C=C1)N=CN2 GJAQUGFJSOUSBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOUFSTHYUOYNEN-UHFFFAOYSA-N C#CCOC1=CC2=C(C=C1)N=CS2 Chemical compound C#CCOC1=CC2=C(C=C1)N=CS2 XOUFSTHYUOYNEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUPWGJKPIFCQOJ-UHFFFAOYSA-N C(=O)CCC1=CC2=C(N=CN2)C=C1 Chemical compound C(=O)CCC1=CC2=C(N=CN2)C=C1 ZUPWGJKPIFCQOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQBFYJNMEOZFHM-UHFFFAOYSA-N C1=CC2=CC(=C3C=CC=NC3=C2N=C1)CCC=O Chemical compound C1=CC2=CC(=C3C=CC=NC3=C2N=C1)CCC=O XQBFYJNMEOZFHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOWOXCLLHHRRJV-UHFFFAOYSA-N C1C(O1)COCCCN2N=C3C=CC=CC3=N2 Chemical compound C1C(O1)COCCCN2N=C3C=CC=CC3=N2 OOWOXCLLHHRRJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N C60 fullerene Chemical class C12=C3C(C4=C56)=C7C8=C5C5=C9C%10=C6C6=C4C1=C1C4=C6C6=C%10C%10=C9C9=C%11C5=C8C5=C8C7=C3C3=C7C2=C1C1=C2C4=C6C4=C%10C6=C9C9=C%11C5=C5C8=C3C3=C7C1=C1C2=C4C6=C2C9=C5C3=C12 XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFVFCJMQOWAVHO-UHFFFAOYSA-N C=CC(=O)OC1=C2C=CC=NC2=C3C(=C1)C=CC=N3 Chemical compound C=CC(=O)OC1=C2C=CC=NC2=C3C(=C1)C=CC=N3 MFVFCJMQOWAVHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGTRMJQTJFRIRD-UHFFFAOYSA-N C=COC1=CC2=C(C=C1)N=CS2 Chemical compound C=COC1=CC2=C(C=C1)N=CS2 RGTRMJQTJFRIRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMDGREZCNWKKFP-UHFFFAOYSA-N C=COC1=CC2=NNN=C2C=C1 Chemical compound C=COC1=CC2=NNN=C2C=C1 DMDGREZCNWKKFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SPHRWXDURBMPHF-UHFFFAOYSA-N C=COC1=CSC=N1 Chemical compound C=COC1=CSC=N1 SPHRWXDURBMPHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOMZYGUDWFQYNU-UHFFFAOYSA-N CC(=C)C(=O)C1=NC2=CC=CC=C2S1 Chemical compound CC(=C)C(=O)C1=NC2=CC=CC=C2S1 MOMZYGUDWFQYNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLKDSTFLEWPLEL-UHFFFAOYSA-N CC(CC1=C2C(=CC=C1)SC=N2)OCC3CO3 Chemical compound CC(CC1=C2C(=CC=C1)SC=N2)OCC3CO3 CLKDSTFLEWPLEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMQDQDPRSMWDEN-UHFFFAOYSA-N CC(CC1=C2C=CC=NC2=C3C(=C1)C=CC=N3)OCC4CO4 Chemical compound CC(CC1=C2C=CC=NC2=C3C(=C1)C=CC=N3)OCC4CO4 XMQDQDPRSMWDEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZKPVLYWFVDXPT-UHFFFAOYSA-N CC(CC1=CC2=C(C=C1)N=CS2)OCC3CO3 Chemical compound CC(CC1=CC2=C(C=C1)N=CS2)OCC3CO3 OZKPVLYWFVDXPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIWAQGRPKBMIKT-UHFFFAOYSA-N CC(CC1=NNN=C1)OCC2CO2 Chemical compound CC(CC1=NNN=C1)OCC2CO2 PIWAQGRPKBMIKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- 241000410518 Cyrano Species 0.000 description 1
- RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N D-gluconic acid Natural products OCC(O)C(O)C(O)C(O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen disulfide Chemical compound SS BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 1
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229920002153 Hydroxypropyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000002211 L-ascorbic acid Substances 0.000 description 1
- 235000000069 L-ascorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHRQOXYNQPXEFD-UHFFFAOYSA-M N#[N+]C1=C(C=CC=N2)C2=C2N=CC=CC2=C1.[Cl-] Chemical compound N#[N+]C1=C(C=CC=N2)C2=C2N=CC=CC2=C1.[Cl-] YHRQOXYNQPXEFD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ASVHTQOMQJESCA-UHFFFAOYSA-M N#[N+]C1=CC=CC2=C1N=NN2.[Cl-] Chemical compound N#[N+]C1=CC=CC2=C1N=NN2.[Cl-] ASVHTQOMQJESCA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- STRJEDASOUHNCB-UHFFFAOYSA-M N#[N+]C1=CN=CS1.[Cl-] Chemical compound N#[N+]C1=CN=CS1.[Cl-] STRJEDASOUHNCB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHVPUMLYDLIOTM-UHFFFAOYSA-N O=CCCc1ccc2n[nH]nc2c1 Chemical compound O=CCCc1ccc2n[nH]nc2c1 HHVPUMLYDLIOTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical group OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001061127 Thione Species 0.000 description 1
- 230000006750 UV protection Effects 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001089 [(2R)-oxolan-2-yl]methanol Substances 0.000 description 1
- OJAZCEQYCCYYFM-UHFFFAOYSA-N [Cl-].C(CC1=CC=CC=C1)[SH2+] Chemical compound [Cl-].C(CC1=CC=CC=C1)[SH2+] OJAZCEQYCCYYFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-M acetoacetate Chemical compound CC(=O)CC([O-])=O WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 238000004378 air conditioning Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005336 allyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- FTWHFXMUJQRNBK-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylen-gamma-aminobuttersaeure Natural products NCCC(=C)C(O)=O FTWHFXMUJQRNBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O ammonium group Chemical group [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- UENWRTRMUIOCKN-UHFFFAOYSA-N benzyl thiol Chemical compound SCC1=CC=CC=C1 UENWRTRMUIOCKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 125000003739 carbamimidoyl group Chemical group C(N)(=N)* 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 1
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical group 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- WCZVZNOTHYJIEI-UHFFFAOYSA-N cinnoline Chemical compound N1=NC=CC2=CC=CC=C21 WCZVZNOTHYJIEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 150000004292 cyclic ethers Chemical group 0.000 description 1
- CMKBCTPCXZNQKX-UHFFFAOYSA-N cyclohexanethiol Chemical compound SC1CCCCC1 CMKBCTPCXZNQKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 150000005690 diesters Chemical group 0.000 description 1
- 125000001664 diethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical group [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004662 dithiols Chemical class 0.000 description 1
- JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N dodecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCN JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- UYMKPFRHYYNDTL-UHFFFAOYSA-N ethenamine Chemical compound NC=C UYMKPFRHYYNDTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDXBVEACAWKSFL-UHFFFAOYSA-N ethenethiol Chemical compound SC=C QDXBVEACAWKSFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 229910003472 fullerene Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960003692 gamma aminobutyric acid Drugs 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 239000000174 gluconic acid Substances 0.000 description 1
- 235000012208 gluconic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960002989 glutamic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 description 1
- ORTRWBYBJVGVQC-UHFFFAOYSA-N hexadecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCS ORTRWBYBJVGVQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940051250 hexylene glycol Drugs 0.000 description 1
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- SKHIBNDAFWIOPB-UHFFFAOYSA-N hydron;2-phenylethanamine;chloride Chemical compound Cl.NCCC1=CC=CC=C1 SKHIBNDAFWIOPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000001863 hydroxypropyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010977 hydroxypropyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- WUJUYHMGDPTLMG-UHFFFAOYSA-N imidazol-2-ylacetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=NC=CN1 WUJUYHMGDPTLMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N indole Natural products CC1=CC=CC2=C1C=CN2 PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine Natural products C1=CC=C2CC=NC2=C1 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- CTAPFRYPJLPFDF-UHFFFAOYSA-N isoxazole Chemical compound C=1C=NOC=1 CTAPFRYPJLPFDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011254 layer-forming composition Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- CYEBJEDOHLIWNP-UHFFFAOYSA-N methanethioamide Chemical compound NC=S CYEBJEDOHLIWNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N methoxysilane Chemical compound CO[SiH3] ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002757 morpholinyl group Chemical group 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000018 nitroso group Chemical group N(=O)* 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 125000005702 oxyalkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000013500 performance material Substances 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 description 1
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 1
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 description 1
- 229920006295 polythiol Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- JKANAVGODYYCQF-UHFFFAOYSA-N prop-2-yn-1-amine Chemical compound NCC#C JKANAVGODYYCQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical compound C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWVCLYRUEFBMGU-UHFFFAOYSA-N quinazoline Chemical compound N1=CN=CC2=CC=CC=C21 JWVCLYRUEFBMGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000003678 scratch resistant effect Effects 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000005207 tetraalkylammonium group Chemical group 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSYVTEYKTMYBMK-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofurfuryl alcohol Chemical compound OCC1CCCO1 BSYVTEYKTMYBMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003536 tetrazoles Chemical class 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 150000003556 thioamides Chemical class 0.000 description 1
- YODZTKMDCQEPHD-UHFFFAOYSA-N thiodiglycol Chemical compound OCCSCCO YODZTKMDCQEPHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 230000002087 whitening effect Effects 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Description
熱線遮蔽は、基材に入射した光のうち、可視光を透過させ、熱線を遮断するという技術で、窓等の透明な基材に適用した場合、窓等の透明性、視認性を保ちながらも熱線を遮蔽し、室内の温度上昇を抑制するという効果がもたらされる。熱線の遮蔽方法としては、熱線を吸収させる方法及び熱線を反射させる方法が挙げられるが、遮蔽効率及び基材の保護という観点からは、一般的に熱線反射の方法が優れているとされ、熱線反射の中でも金属薄膜を利用する技術が熱線の高効率な反射を比較的低コストで実現するために特に有効である。
この方法においては、金属微粒子を含有する塗布液を基材に塗布・乾燥して、金属微粒子が広範囲にわたって集合化した薄膜を形成し、その後焼成処理を行うことにより、金属微粒子同士を融着させ、高い可視光透過率と熱線反射性を両立した金属薄膜を得ることができる。しかしながら、金属薄膜を用いた熱遮断技術は、耐久性が未だ不十分であり、特に、負荷の大きな環境においては、金属の腐食や粗粒子化などが生じる。特に粗粒子化は、金属のイオン化、水などの媒体を通して金属イオンの移動及び金属の析出が組み合わさって発生し、結果として金属薄膜上に白化などの変色が生じて、熱線反射性能及び外観が顕著に劣化する。
又、低い表面抵抗、帯電防止性、反射防止性及び電磁遮断性に優れ、かつ表面の平滑性・均一性、基材との密着性、耐薬品性に優れた透明導電性被付基材に関する特開2001−64540号公報には、金属微粒子と硫黄化合物と極性溶媒とを含む透明導電性被膜形成用塗布液を用いることが記載されている。しかしながら、上記従来技術は、導電性被膜に関するもので、可視光領域及び近赤外領域での反射防止について言及されているものの熱反射について言及しておらず、又、本発明者等の検討によれば、チオール化合物によって金属表面に被膜を形成させた場合には、腐食抑制のための被覆が金属微粒子の融着を妨害する要因となり、十分な熱線反射性能を得ることが困難となる。
即ち、本発明の第一の要旨は、透明基材上に、熱線反射層及び該熱線反射層に接する保護層を有する積層体において、該熱線反射層はバインダー及び金属を含有し、かつ該保護層が下記(i)及び/又は(ii)を含有し、かつ保護層が有機高分子及び/又は無機化合物を含有し、N原子及び/又はS原子を含む置換基を有する有機化合物、並びに、N原子及び/又はS原子を含む複素環式化合物が、該有機高分子及び/又は無機化合物と結合形成能のある官能基を有し、該官能基の少なくとも一部が該有機高分子及び/又は無機化合物と結合していることを特徴とする熱線反射積層体、に存する。
(i)N原子及び/又はS原子を含む置換基としてアミノ基又はメルカプト基を有する有
機化合物
(ii)環構造中に、N原子及び/又はS原子を含む複素環式化合物であって2−アルキルイミダゾール、ベンゾイミダゾール、1,2,3−ベンゾトリアゾール、1,10−フェナントロリン、1,7−フェナントロリン、2,2’−ビピリジン、3,3’−ビピリジン、4,4’−ビピリジン、2,3’−ビピリジン、2,4’−ビピリジン、メチルビオロゲン、ベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール及びこれらの誘導体から選ばれる1種又は2種以上(誘導体とは、上記の芳香族複素環式化合物の骨格を維持し、任意の置換基を有する化合物を意味する)
又、メルカプト基含有化合物が、炭素数2〜4のアルキル基の末端にメルカプト基を有し、炭素数1〜2のアルコキシ基を有するメルカプトアルキルアルコキシシラン及びその加水分解物であることも好ましい(請求項4)。
又、保護層が、骨格がシロキサン結合を含むポリマーを含むことも好ましい(請求項5)。
保護層が、アクリロイル基もしくはメタクリロイル基を有する化合物の重合生成物を含むハードコート層であることも好ましい(請求項6)。
前記ハードコート層が体積平均粒径1nm以上、200nm以下の無機化合物粒子を含むことも好ましい(請求項7)。
又、熱線反射層に含まれる金属が、銀又は銀を主成分とする合金であることも好ましい(請求項8)。
剤及び/又はその加水分解物を含む熱線反射層保護層形成用組成物、に存する。
(i)N原子及び/又はS原子を含む置換基としてアミノ基又はメルカプト基を有する化合物
(ii)環構造中に、N原子及び/又はS原子を含む複素環式化合物であって2−アルキルイミダゾール、ベンゾイミダゾール、1,2,3−ベンゾトリアゾール、1,10−フェナントロリン、1,7−フェナントロリン、2,2’−ビピリジン、3,3’−ビピリジン、4,4’−ビピリジン、2,3’−ビピリジン、2,4’−ビピリジン、メチルビオロゲン、ベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール及びこれらの誘導体から選ばれる1種又は2種以上(誘導体とは、上記の芳香族複素環式化合物の骨格を維持し、任意の置換基を有する化合物を意味する)
本発明の熱線反射層保護層形成用組成物は、更に、アクリロイル基及び/又はメタクリロイル基を有するシランカップリング剤を含むことが好ましい(請求項11)。
又、無機化合物粒子を含むことが好ましい(請求項10)。
更に、アクリロイル基及び/又はメタクリロイル基を有するシランカップリング剤を含むことも好ましい(請求項11)。
本発明の熱線反射積層体は、透明基材上に、金属とバインダーを含む熱線反射層及び、該熱線反射層に接する保護層を有し、通常、これらの層が順次積層された構成を有する。
1−1.構成材料
本発明の熱線反射積層体に使用することができる透明基材の材料としては、各種樹脂やガラス等を用いることができる。透明基材に使用可能な材料の例としては、ソーダガラスや強化ガラスなどの無機ガラスが透明性、加工性、耐薬品性、擦傷性の観点から窓材に好ましく、その他に、ポリカーボネート系樹脂、ポリスルホン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリスルフィド系樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂、ジアリルフタレート系樹脂、ポリイミド系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、スチレン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、繊維素系樹脂、セラミック等が挙げられる。樹脂の種類は熱可塑性樹脂であっても熱硬化性樹脂であってもよい。
透明基材の形態は、板、シート、フィルムなど任意であり、平面状(平板状)であって
も曲面を有していてもよい。
1−3.厚み
透明基材の厚みは、その形態に応じて適宜選択される。板状もしくはシート状の場合、透明基材の厚みは通常0.1mm〜10cmである。透明基材が薄過ぎると得られる積層体の機械的強度が低くなる傾向がある。また、透明基材が厚過ぎると透明性が低くなり、窓等に用いた際に視界が悪くなる場合がある。また、フィルム状の場合、透明基材の厚みは通常10μm〜0.5mmである。厚みが10μm未満ではハンドリングが悪くなる傾向があり、0.5mmを超えるとフィルムとしてのフレキシビリティーに劣るものとなる場合がある。
本発明の熱線反射層は、バインダー及び金属を含有する。
2−1.バインダー
バインダーは、本発明の熱線反射層の耐久性・密着性の向上、及び、後述する湿式製膜法における塗布性能の観点から熱線反射層に含まれる。バインダーは熱線反射層の製膜性、安定性を向上させるものならばどのような化合物でもよいが、熱線反射層と接する保護層との密着性を向上させる観点からは親水基を含むことが好ましい。
親水基としては、ヒドロキシル基、オキシエチレン基等のオキシアルキレン基又はポリオキシアルキレン基、モルホリニル基、N−ピロリドニル基、アミド基、ニトロ基、シアノ基等のノニオン性基、カルボキシレート基、スルホネート基、ホスホネート基等のアニオン性基、アンモニウム基、テトラアルキルアンモニウム基、ピリジニウム基等のカチオン性基が挙げられる。
かかる親水性基を含むバインダーとしては、ポリビニルアルコール、部分ベンジル化ポリビニルアルコール、アルキルアセタール化ポリビニルアルコール等の変性又は未変性ポリビニルアルコール、ポリヒドロキシエチルアクリレート(もしくはメタクリレート)、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル(もしくはメタクリル)酸、アクリル(もしくはメタクリル)酸−アクリル(もしくはメタクリル)酸メチルの共重合体、アクリル(もしくはメタクリル)酸−アクリル(もしくはメタクリル)酸エチルの共重合体、アルコキシシラン加水分解物の重合体等が挙げられ、好ましくは、ポリビニルアルコール、部分ベンジル化ポリビニルアルコール、アルキルアセタール化ポリビニルアルコール等の変性又は未変性ポリビニルアルコール、アルコキシシラン加水分解物の重合体である。
尚、これらのバインダーは、単独で使用してもよいし、2種以上を混合して使用してもよい。
また、熱線反射膜の耐久性を向上させる点から、バインダーが疎水基を有することも好ましい。疎水基としては、アルキル基、アセチル基、パーフルオロアルキル基、アリール基などが挙げられる。アルキル基は、通常、炭素数1〜5である。
熱線反射層に含有される金属種はAu、Ag、Pd、Pt、Rh、Ru、Cu、Fe、Ni、Co、Sn、Ti、In、Al、Ta、Sbなどが挙げられる。好ましくはAu、Ag、Pd、Cu、より好ましくはAg及び/又はPd、さらに好ましくはAg(銀)である。これらの金属を単独で用いても、2種以上組み合わせて使用してもよい。またこれらの金属を含む合金であってもよい。
又、日射反射率及び熱線反射性能の点から、銀を主成分とする合金も好ましいが、主成分とは、合金中の銀の割合が50重量%を超えることを意味し、70重量%以上であることが好ましく、80重量%以上であることが特に好ましく、85重量%以上であることがとりわけ好ましい。
本発明の熱線反射層には、これに含まれる金属の劣化を防止する目的で、紫外線吸収剤、酸化防止剤、表面処理剤、赤外線吸収剤、複素環式化合物などの各種添加剤が含まれていても良い。これらの添加剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい
本発明の熱線反射層における各成分の組成を以下に示す。
本発明の熱線反射層に含まれる金属量は、通常70.0〜99.9重量%、好ましくは80〜99重量%、より好ましくは90〜98重量%、さらに好ましくは90〜97重量%である。金属量が少なすぎる場合、熱線線反射性能が不十分となる傾向がある。但し、金属量が多過ぎると、熱線反射層の透明性を高めるために膜厚を薄くせざるをえず、この結果、熱線反射層の均一性が損なわれ、美観が損なわれる恐れがある。また、大面積かつ曲面の基材上に製膜する際に透過率が不均一となる恐れがあり、さらに耐熱性が低下する場合がある。
熱線反射層の膜厚は好ましくは5nm以上であり、より好ましくは10nm以上、より好ましくは12nm以上、より好ましくは15nm以上、更に好ましくは20nm以上、とりわけ好ましくは25nm以上であり、また、好ましくは100nm以下、より好ましくは80nm以下、より好ましくは70nm以下、更に好ましくは60nm以下、とりわけ好ましくは50nm以下である。熱線反射層の膜厚が薄過ぎると、十分な熱線遮蔽性が得られないばかりでなく、膜欠陥が生じやすいため、環境耐久性が劣る場合がある。一方、熱線反射層の膜厚が厚過ぎると、透明性の低下及び/又は可視光線反射率の増加に起因する金属光沢感(いわゆるぎらつき)の増加の問題が生じる恐れがある。
本発明の熱線反射積層体において、保護層は熱線反射層に接して設けられる。保護層を設ける主な目的は、熱線反射層に含有される金属の腐食や粗粒子化を抑制することにある。金属の腐食や粗粒子化は金属原子のイオン化を介して発生するため、熱線反射層に密着する保護層が存在して、熱線反射層中の金属を酸化種の接近から防護することが、耐久性の向上に大きな効果を持つ。また、保護層を有することで、擦過や衝撃などの物理的な破壊要因から熱線反射層を保護することが可能である。
本発明の熱線反射積層体における保護層は、通常、有機高分子及び/又は無機化合物からなる保護層成分を主成分とする(以下、有機高分子及び/又は無機化合物からなる保護層成分を、保護層主成分と略することがある)が、本発明では、該保護層が、下記(i)及び/又は(ii)の化合物を含むことを必須とする。
(i)N原子及び/又はS原子を含む置換基を有する有機化合物
(ii)環構造中に、N原子及び/又はS原子を含む複素環式化合物
保護層主成分としては、有機高分子、無機化合物などが挙げられる。有機高分子としては、ポリスチレン、ポリアクリレート、ポリエステル、ポリエーテル、ポリアミド、ポリビニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリアルキレングリコール、エポキシ樹脂などが挙げられ、ガラス転移温度が高く、耐熱性が良好であるという観点からはアクリル樹脂が好ましい。
無機化合物としては、アルミナ、チタニア、ジルコニアなどの金属酸化物、シリカ、シリコーン樹脂などが挙げられ、製膜の容易さの観点からは、ゾルゲル法によって作製されるシリカ被膜及び熱硬化型シリコーン樹脂が好ましい。
また、本発明における保護層は、大きな耐擦過性及び耐衝撃性を付与するという観点からは、ハードコート層であることが好ましい。保護層がハードコート層である場合、保護層主成分はポリイソシアネート化合物やトリアルコキシシラン加水分解物に代表される硬化性化合物が反応して形成する架橋構造を持つ物質であり、保護層が該架橋構造を持つ物質を含む層である。また、当該ハードコート層を硬化させる方法としては、熱による硬化、紫外線などの照射による硬化など、従前知られた如何なる硬化方法を用いても構わない。
ハードコート層に用いられる硬化性化合物としてより具体的には、アクリロイル基、メタクリロイル基、環状エーテル基、アミノ基、イソシアネート基、シラノール基、シラノール基の前駆体(例えば、アルコキシシリル基やクロロシリル基)からなる群より選ばれる少なくとも1種を有するモノマー及び/又はオリゴマー、または、シラザン化合物が挙げられる。熱線反射層との密着性を向上させるという観点からは、シラノール基を有するアルキル置換シロキサン化合物、シラノール基を有するアクリレート化合物、シラザン化合物から選ばれる化合物を含むことが好ましい。
又、本発明の保護層は、アクリロイル基又はメタクリロイル基を有する化合物の重合生成物を含むハードコート層であるのが、生産効率の点で好ましく、該重合生成物は、例えば、後述の保護層形成用溶液の成分として、上記硬化性化合物であるアクリロイル基又はメタクリロイル基を有する化合物を用い、これを重合することにより得ることができる。
尚、ハードコート層の硬度は、JIS K5600−5−4の引っかき硬度(鉛筆法)試験において、通常HB以上、好ましくはH以上、より好ましくは2H以上である。
本発明の熱線反射積層体の保護層は、下記(i)及び/又は(ii)を含有する。
(i)N原子及び/又はS原子を含む置換基を有する有機化合物(以下、(i)の化合物と略することがある)
(ii)環構造中に、N原子及び/又はS原子を含む複素環式化合物(以下、(ii)の化合物と略することがある)
上記(i)の化合物及び(ii)の化合物は、N原子、S原子が持つ非共有電子対を介して、熱線反射層に含まれる金属と結合を形成することができる。
これらの複素環式化合物は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いても良い。
本発明の保護層に含まれる前記(i)の化合物及び前記(ii)の化合物は、上記保護層主成分である有機高分子及び/又は無機化合物と結合を形成することができる官能基を持ち、少なくとも一部が上記保護層主成分と結合を形成していることが、保護層と熱線反射層の密着性がさらに向上し、劣化抑制効果が大きくなることから好ましい。
尚、前記(i)の化合物及び/又は前記(ii)の化合物が上記保護層主成分と結合する場合、上記結合に関与する化合物の割合は、前記(i)の化合物及び前記(ii)の化合物であって前記官能基を有する化合物の全体に対して、10モル%以上が好ましく、20モル%以上が更に好ましく、30モル%以上であるのが特に好ましい。この範囲であることで、密着性が向上することとなる。一方、上記結合に関与する化合物の割合は、製造の点からは、通常、90モル%以下であり、好ましくは80モル%以下である。
尚、保護層主成分と、前記(i)の化合物又は前記(ii)の化合物との結合形成が行なわれている場合には、後述の積層体製造において必要により設けられる加熱工程、紫外線照射工程等により行なわれる。
本発明の保護層には、酸化防止剤、熱安定剤、光吸収剤等の安定剤類;シリカ粒子、チタニア粒子、ジルコニア粒子、酸化セリウム粒子、ガラス繊維、ガラスビーズ、マイカ、タルク、カオリン、金属繊維、金属粉等のフィラー類;炭素繊維、カーボンブラック、黒鉛、カーボンナノチューブ、C60等のフラーレン類等の炭素材料;帯電防止剤、可塑剤、離型剤、消泡剤、レベリング剤、沈降防止剤、界面活性剤、チクソトロピー付与剤等の改質剤類;顔料、染料、色相調整剤等の着色剤;モノマー及び/又はそのオリゴマー又は無機成分の合成に必要な硬化剤(酸、アルカリ、水など)、触媒、硬化促進剤類などが含まれていてもよい。
保護層主成分の含有量は、保護層主成分並びに前記(i)の化合物及び(ii)の化合物の合計に対して、通常、80〜99.999重量%、好ましくは85〜99.995重量%、より好ましくは90〜99.99重量%である。含有量が少なすぎると、強度が劣る傾向となり、多すぎると熱線反射層との密着が不十分となる可能性がある。
本発明の熱反射積層体がハードコート層を有する場合、ハードコート層に接するプライマー層を設けることで、ハードコート層の密着性、耐擦過性及び耐衝撃性を向上させることもできる。本発明の熱線反射積層体にハードコート層とプライマー層を共に設ける場合には、該保護層がプライマー層であることが好ましい。保護層がプライマー層も兼ねることによって、製造コストを抑制することができる。
プライマー層の成分としては、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂が好ましく、中でも、アクリル樹脂、メタクリル樹脂を含むことが熱線反射層との密着性を向上させるという観点から好ましい。
保護層の厚さは、通常、通常0.1〜200μm、好ましくは、0.5〜150μm、特に好ましくは、1〜100μmである。保護層が厚すぎると保護層による赤外線吸収の影響が大きくなり、積層体の熱線反射性能が低下し、薄すぎると耐擦過性・耐衝撃性の効果を十分に得ることができない場合がある。
なかでも、ハードコート層として用いられる場合の保護層の厚さは、その用途に応じた要求特性や、保護層の構成材料等によっても異なるが、通常0.1〜50μm、好ましくは、0.5〜40μm、特に好ましくは、1〜30μmである。保護層が厚すぎると硬化収縮による内部応力によりはがれやすくなり、薄いと耐擦過性・耐衝撃性の効果を十分に得ることができない場合がある。
本発明の保護層をプライマー層とし、ハードコート層を積層する場合のハードコート層としては、保護層をハードコート層とする場合について上述したハードコート層に用いられる硬化性化合物の硬化物が挙げられる。
尚、本発明において、保護層がハードコート層である場合、及び、保護層がプライマー層であって、さらにハードコート層を有する場合、該ハードコート層は、体積平均粒子径が1nm以上200nm以下の無機化合物粒子を含んでいることが好ましく、特にハードコート層の成分として、アクリル基もしくはメタクリル基を有する化合物の重合生成物が用いられている場合には、無機化合物粒子を含むことにより、ハードコート層の耐擦過性が大きく向上する。体積平均粒子径は、好ましくは、10nm以上100nm以下である。
これらのシリカ粒子は周知の方法で製造され市販されているものから上記粒径のものを選んで用いることができる。例えば、日産化学株式会社から市販されている商品名スノーテックスO、AK、メタノールシリカゾル、IPA−ST、MEK−ST、MIBK−ST、PMA−ST、日揮触媒化成社から市販されている商品名Cataloid−SN、OSCAL1432等である。粉末状の微粒子シリカとしては日揮触媒化成社から市販されている商品名OSCAP、シーアイ化成社から市販されている商品名ナノテック等を挙げることができる。
プライマー層上に設けられるハードコート層の厚みは、保護層がハードコート層である場合について上記したものと同様である。
本発明の熱線反射積層体の製造は、透明基材上に、熱線反射層、保護層を順次積層することにより行なうことができる。
5−1.熱線反射層の形成
本発明の熱線反射層の形成方法には特に制限はなく、ドライプロセスによる製膜でも塗布液を塗布するなどの湿式製膜法によるものでもよい。ドライ製膜法による場合、例えば、真空蒸着法やスパッタリング法で金属薄膜を形成し、該膜にバインダーを含む塗布液を塗布・乾燥することで、本発明の熱線反射層を作製することができる。高価な装置を必要とすることがなく簡便に製膜できること、曲面や大型の基材に熱線反射性能を付与できるという観点からは、本発明の熱線反射層の製膜法としては湿式製膜法が特に好ましい。
また、後述するような金属微粒子を含む熱反射層形成用塗布液を透明基板に塗布及び熱処理して熱線反射層を形成するのも好ましい。熱線反射層の塗布方法は、特に制限されず、ディップコート法、フローコート法、スプレー法、スピンコート法、バーコート法、カーテンコート法、ダイコート法、グラビアコート法、ロールコート法、ブレードコート法、エアーナイフコート法等、従前知られるいずれの塗工方法によっても塗布することができる。
また、熱処理時間は、通常10秒〜6時間、好ましくは、1分〜2時間、より好ましくは1分〜30分間である。熱処理時間が長すぎると生産効率が劣ることとなり、短すぎると反射特性が不十分となる恐れがある。
以下に、本発明の熱線反射層を湿式製膜法によって作製する際に好適に用いられる、金属微粒子、バインダー、溶媒及び分散剤などの添加剤を含む熱線反射層形成用塗布液について述べる。以下、単に塗布液との記述は熱線反射層形成用塗布液を指す。
金属の種類、バインダー及び添加剤は上述の熱反射層において説明したものを好適に使用することが出来る。尚、バインダーがアルコキシシラン加水分解物の重合体である場合、熱線反射層形成用塗布液中における重合度は、通常、1〜80、好ましくは、3〜50である。この値が小さすぎると、熱線反射層の製膜性が低下し、大きすぎると十分な熱線反射性能が得られない場合がある。
金属微粒子の平均粒子径は100nm以下、好ましくは、1〜50nm、さらに好ましくは2〜50nmである。平均粒子径が大きすぎると形成される金属薄膜の金属光沢が強くなり、さらに金属微粒子による光の散乱に起因する白濁が外観に見られるようになる場合がある。金属微粒子の平均粒子径が小さすぎると、金属微粒子が凝集しやすく、塗布液の安定性が得にくい場合がある。上記の範囲の粒子径であれば、好適な熱線反射層の外観と微粒子の分散安定性を共に得ることができる。
金属微粒子の粒子径の測定は、動的光散乱測定による平均粒子径測定であってもよいし、走査型電子顕微鏡、または透過型電子顕微鏡による直接観測によって測定される平均粒子径であってもよい。本発明においては、測定された金属微粒子の粒子径の50点の平均値を平均粒子径とする。
金属微粒子は、異なる金属種のものを2種以上用いてもよく、また、平均粒子径の異なる金属微粒子を混合して用いてもよい。
上記熱線反射層形成用塗布液の溶媒としては、水との混合液における重量比率が5〜95%の範囲のいずれかの混合比率において、常温常圧で均一な溶液を形成できるものが好ましい。
このような溶媒を塗布液の分散媒として用いることで、金属微粒子の分散安定性を
向上させ、塗膜における凝集物の発生を抑制する効果やバインダーの塗布液中における溶解性を向上させる効果が得られ、塗布液の保存安定性、基材への塗布性が向上する。
これらの溶媒は1種を単独で使用してもよいが、2種以上を混合して使用し、その
内の1種が水であることが好ましい。塗布液が水を含有することで、該金属微粒子の分散性向上効果、形成される塗膜の凝集物抑制効果が得られる。
上記熱線反射層形成用塗布液には分散剤が含まれていることが好ましい。分散剤とは、金属微粒子表面に親和性を持ち、かつ、金属微粒子の分散安定性を向上させる機能を持った化合物である。分散剤は塗布液に加えられているだけでなく、金属微粒子表面を被覆していてもよい。
分散剤としては、酢酸、酪酸等の1価のカルボン酸類或いは2価以上の多価カル
ボン酸類、アニリン及びその誘導体、メルカプト酢酸等の酸チオール類、メチルメルカプタン等の脂肪族チオール類、シクロヘキシルチオール等の脂環式チオール類、チオフェノール等の芳香族チオール類等のチオール類、チオジエチレングリコール等のチオグリコール類、チオホルムアミド等のチオアミド類、ジチオール類、チオン類、ポリチオール類、チオ炭酸類、チオ尿素類、硫化水素等の硫黄化合物及びそれらの誘導体等が挙げられる。
上記分散剤の含有量は塗布液中の金属微粒子に対し、好ましくは0.0001〜50重量%、より好ましくは0.001〜10重量%、特に好ましくは0.1〜5重量%である。分散剤の量が少な過ぎると金属微粒子に対する分散剤の量が不十分となり、金属微粒子が凝集しやすい傾向にあり、塗布液の安定性が得にくい場合がある。分散剤量が多過ぎると金属微粒子の融着を阻害し、得られる熱線反射層の反射性能が低下する場合がある。
上記熱線反射層形成用塗布液における金属、バインダーの比率は上述の反射層での記述と同じであるが、さらに添加剤を加えた固形分(ここで、固形分とは、塗布液中の溶媒を除く、全成分の合計をさす)の濃度は、30重量%以下であることが好ましく、より好ましくは20重量%以下、特に好ましくは15重量%以下である。
固形分の濃度が高いと、塗布液中の各成分の相互作用が大きくなり、塗布液を長期保存する際に沈殿が生じる可能性が高くなる。一方、塗布の効率等の点から、通常、0.1重量%以上、好ましくは、0.5重量%以上である。
本発明の保護層の形成方法には特に制限はなく、ドライ製膜法によるものでも塗布液を塗布するなどの湿式製膜法によるものでもよい。
(ドライ製膜法)
ドライ製膜法による場合には、例えば、本発明の熱線反射層を作製した後、上記(i)の化合物及び/又は上記(ii)の化合物を含む溶液を塗布・乾燥させた後、真空蒸着法、スパッタリング法や化学気相蒸着法で、金属酸化物などによる保護層を形成させる方法がある。
高価な装置を必要とすることがなく簡便に製膜できること、曲面や大型の基材に熱線反射性能を付与できること、さらに本発明の熱線反射層の製膜法として湿式製膜法が好適であり、熱線反射層の製膜と共通の設備を用いて連続的に実施できることから湿式製膜法が特に好ましい。
湿式製膜法については特に制限されず、例えば、後述の保護層形成用溶液をディップコート法、フローコート法、スプレー法、スピンコート法、バーコート法、カーテンコート法、ダイコート法、グラビアコート法、ロールコート法、ブレードコート法、エアーナイフコート法等、従前知られるいずれの塗工方法によっても塗布することができる。
本発明の保護層を湿式製膜法によって形成するための保護層形成用溶液の一形態として、溶媒の少なくとも一つの成分が沸点75℃以上であり、硬化性化合物及び前記(i)の化合物及び/又は前記(ii)の化合物を含む組成物(溶液)が挙げられる。
上記保護層形成用溶液の溶媒の少なくとも一つの成分は、沸点が75℃以上であることが好ましく、より好ましくは80℃以上、さらに好ましくは85℃以上であり、好ましくは200℃以下、より好ましくは190℃以下、さらに好ましくは180℃以下である。上記下限より沸点が低いと、湿式製膜時に溶媒の揮発が速く、塗膜の平坦性が失われる可能性があり、上記上限より高いと、塗膜の乾燥に時間がかかってしまう可能性がある。
上記保護層形成用溶液に含まれる硬化性化合物としては、保護層がハードコート層である場合において例示したような硬化性化合物が好適に用いられるが、溶液の保存安定性、保護層の塗布・硬化工程の効率を向上させるという観点からは、硬化性成分として、アクリロイル基及び/又はメタクリロイル基を有する化合物を含むことが好ましい。
なお、上記保護層形成用溶液は、真空蒸着法やスパッタリング法などのドライ製膜法により基板上に作製された金属薄膜を用いる熱線反射層にも適用することが可能であり、前期(i)の化合物及び/又は前記(ii)の化合物を含有する保護層は、負荷の大きな腐食性環境化における金属薄膜の外観の劣化を抑制する。
本発明の熱線反射積層体の光学特性は、熱線反射層側を含む面より測定した分光反射率を用いて、JIS R3106記載の方法に従って計算された日射反射率が通常5〜80%、好ましくは、7〜70%、さらに好ましくは、10〜60%である。上記上限値以上である場合、可視光領域の反射が強くなりすぎ、ギラツキ感がまし、そのため外観を損なう恐れがある。また上記下限値以下の場合、遮熱特性が十分ではなくなる恐れがある。
本発明の積層体は、端面などから熱線反射層に電極を取り付け、通電して発熱させることにより、デフロスターとして機能してもよい。
なお、熱線反射積層体の評価は以下の方法で行った。
[湿熱耐久試験]
評価試料を環境試験機(SH−241、エスペック株式会社製)の試験槽内に設置し、85℃、95%RHの環境条件に45時間静置した後、以下の反射層の外観劣化評価を行った。
<反射層の外観劣化評価>
評価試料を肉眼で観察し、端面に白色部分が生じているなどの外観上の劣化が生じている場合には「×」、外観に変化が生じていない場合には「○」として評価した。
試料の被評価箇所に、ガイド(スーパーカッターガイド, 太佑機材)を用いて、カッターによって縦横11本ずつの交差する切込みを1mm間隔で入れ、切込みの上にセロハンテープ(セロテープ(登録商標) No.405−1P、ニチバン, JIS Z−1522に適合)を貼り付けた後、テープの端を60°程度の角度をつけて持ちながら、一気に引き離した。テープの貼りはがしを5回繰り返した。被評価箇所を観察し、剥離が見られる試料は「×」、剥離が見られない試料は「○」として評価した。
試料をテーバー磨耗試験機(東洋精機製作所)に取り付け、磨耗輪CS−10F(XX)によってテーバー磨耗試験を行った。荷重は500g、回転数は100とした。試験後、試料を観察し、試料表面が磨耗して熱線反射層の剥離が確認される試料は「×」、確認されない試料は「○」として評価した。
<熱線反射層塗布液1の調製>
メタノール(純正化学株式会社製)13.4重量部にシリケートMSEP2(三菱化学株式会社製)8.5重量部、脱塩水1.5重量部を加えてMSEP2溶液を調製した。この溶液4重量部に対して、銀コロイド水溶液(動的光散乱法で評価された銀微粒子の平均粒子径21.2nm、固形分濃度10.6重量%、pH=5.1)を120重量部、PGM(プロピレングリコールモノメチルエーテル:和光純薬工業株式会社製)を156重量部加えて混合し、熱線反射層塗布液1を調製した。
<保護層形成用塗布液1の調製>
トリス(2,4−ペンタンジオナト)アルミニウム(III)(東京化成工業株式会社製)0.06重量部をメタノール(純正化学株式会社製)13.4重量部に溶解した後、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(東京化成工業株式会社製)8.5重量部、脱塩水1.5重量部を加え、60℃で30分間攪拌した。得られた溶液2重量部に熱硬化型ハードコート液トスガード510(モメンティブ・マテリアルズ・パフォーマンス・ジャパン合同会社製、成分としてシラノール基を有するポリアルキルシロキサンを含む、固形分濃度21重量%)70重量部を加え、保護層形成用塗布液1を得た。
熱線反射層塗布液1をガラス基板(基板サイズ10cm×10cm、厚み3mm)に約2mL滴下し、500rpm、30秒の条件でスピンコーター(ミカサ株式会社製「1H−D7」)により塗布した後、温風を吹き付けて乾燥させた。その後、150℃の定温乾燥器(アズワン株式会社製「DO−450FPA」)内で30分間加熱して熱線反射層を作製した。さらに、保護層形成用塗布液1を約2mL滴下し、300rpm、30秒の条件でスピンコーターにより塗布し、温風を吹き付けて乾燥させた後、120℃の定温乾燥器内で10分間加熱処理して、熱線反射積層体1を作製した。
<保護層形成用塗布液2の調製>
3−メルカプトプロピルトリメトキシシランの代わりに、3−アミノプロピルトリメトキシシランを用いたこと以外は、保護層形成用塗布液1の調製と同様の操作を行って、保護層形成用塗布液2を得た。
<熱線反射積層体2の作製>
保護層形成用塗布液1の代わりに、保護層形成用塗布液2を用いたこと以外は、熱線反射積層体1の作製と同様の操作を行って、熱線反射積層体2を得た。
<熱線反射層塗布液3の調製>
MSEP2溶液4重量部の代わりに、ポリビニルアルコール水溶液(株式会社クラレ製「PVA117」の溶液、固形分濃度1重量%)を40重量部、PGMを120重量部用いたこと以外は、熱線反射層塗布液1の調製と同様の操作を行って、熱線反射層塗布液3を調製した。
<熱線反射積層体3の作製>
熱線反射層塗布液1の代わりに、熱線反射層塗布液3を用いたこと以外は、熱線反射積層体1の作製と同様の操作を行って、熱線反射積層体3を得た。
<保護層形成用塗布液4の調製>
トスガード510(18重量部)に、保護層形成用塗布液1(2重量部)を混合し、保護層形成用塗布液4を得た。
<熱線反射積層体4の作製>
保護層形成用塗布液1の代わりに、保護層形成用塗布液4を用いたこと以外は、熱線反射積層体1の作製と同様の操作を行って、熱線反射積層体4を得た。
<保護層形成用塗布液5の調製>
トスガード510(99重量部)に、1−ドデカンチオール(東京化成工業株式会社製、1重量部)を混合し、保護層形成用塗布液5を得た。
<熱線反射積層体5の作製>
保護層形成用塗布液1の代わりに、保護層形成用塗布液5を用いたこと以外は、熱線反射積層体1の作製と同様の操作を行って、熱線反射積層体5を得た。
<保護層形成用塗布液6の調製>
トスガード510(57重量部)に、20重量%の1,2,3−ベンゾトリアゾール溶液(東京化成工業株式会社製、溶媒:PGM、3重量部)を混合し、保護層形成用塗布液6を得た。
<熱線反射積層体6の作製>
保護層形成用塗布液1の代わりに、保護層形成用塗布液6を用いたこと以外は、熱線反射積層体1の作製と同様の操作を行って、熱線反射積層体6を得た。
<保護層形成用塗布液7の調製>
トリス(2,4−ペンタンジオナト)アルミニウム(III)(東京化成工業株式会社製)0.03重量部をメタノール(純正化学株式会社製)7.5重量部に溶解した後、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(東京化成工業株式会社製)10重量部、脱塩水2.5重量部を加え、60℃で30分間攪拌した。得られた溶液0.4重量部に、アクリル樹脂プライマーPH−91(モメンティブ・マテリアルズ・パフォーマンス・ジャパン合同会社製、固形分濃度4.0重量%)99.6重量部)を加え、保護層形成用塗布液7を得た。
<熱線反射積層体7の作製>
保護層形成用塗布液1の代わりに、保護層形成用塗布液7を用いたこと以外は、熱線反射積層体1の作製と同様の操作を行って、熱線反射積層体7を得た。
<熱線反射層塗布液8の調製>
ポリビニルアルコール溶液の代わりに、部分ベンジル化ポリビニルアルコール(積水化学工業株式会社製「エスレックKX−1」、疎水基としてフェニル基を持つ)をIPA(2−プロパノール:純正化学株式会社製)と脱塩水の混合液(重量比 IPA:脱塩水=4:6)に溶解して調製した、固形分濃度1重量%の溶液を用いたこと以外は、熱線反射層塗布液3の調製と同様の操作を行って、熱線反射層塗布液8を調製した。
<熱線反射積層体8の作製>
熱線反射層塗布液8をポリカーボネート基板(三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社製「ユーピロン・シートNF−2000U」、基板サイズ5cm×5cm、厚み3mm)に約1mL滴下し、500rpm、30秒の条件でスピンコーターにより塗布した後、温風を吹き付けて乾燥させた。その後、120℃の定温乾燥器内で60分間加熱して熱線反射層を作製した。さらに、保護層形成用塗布液1を約1mL滴下し、300rpm、30秒の条件でスピンコーターにより塗布し、温風を吹き付けて乾燥させた後、120℃の定温乾燥器内で10分間加熱処理して、熱線反射積層体8を作製した。
<熱線反射積層体9の作製>
保護層形成用塗布液1の代わりに、保護層形成用塗布液2を用いたこと以外は、熱線反射積層体8の作製と同様の操作を行って、熱線反射積層体9を得た。
[実施例10]
<熱線反射積層体10の作製>
保護層形成用塗布液1の代わりに、保護層形成用塗布液7を用いたこと以外は、熱線反射積層体8の作製と同様の操作を行って、熱線反射積層体を作製し、保護層の上層にトスガード510を約1mL滴下し、300rpm、30秒の条件でスピンコーターにより塗布し、温風を吹き付けて乾燥させた後、120℃の定温乾燥器内で10分間加熱処理して、熱線反射積層体10を作製した。
<熱線反射積層体Aの作製>
保護層形成用塗布液1の代わりに、トスガード510を用いたこと以外は、熱線反射積層体1の作製と同様の操作を行って、熱線反射積層体Aを得た。
[比較例2]
<熱線反射積層体Bの作製>
保護層形成用塗布液1の代わりに、トスガード510を用いたこと以外は、熱線反射積層体3の作製と同様の操作を行って、熱線反射積層体Bを得た。
<熱線反射積層体Cの作製>
保護層形成用塗布液7の代わりに、PH−91を用いたこと以外は、熱線反射積層体7の作製と同様の操作を行って、熱線反射積層体Cを得た。
[比較例4]
<熱線反射積層体Dの作製>
保護層形成用塗布液1の代わりに、トスガード510を用いたこと以外は、熱線反射積層体8の作製と同様の操作を行って、熱線反射積層体Dを得た。
<熱線反射積層体Eの作製>
保護層形成用塗布液7の代わりに、PH−91を用いたこと以外は、熱線反射積層体10の作製と同様の操作を行って、熱線反射積層体Eを得た。
実施例2と比較例1から、保護層(ハードコート層)が、アミノ基とシラノール基もしくはその前駆体を持つ化合物を含有することで、熱線反射層の湿熱負荷による外観劣化を抑制できることが分かる。
実施例1及び実施例3と比較例2から、保護層(ハードコート層)にメルカプト基とシラノール基もしくはその前駆体を持つ化合物を含有することで、熱線反射層のバインダーによらず、熱線反射層の湿熱負荷による外観劣化を抑制できることが分かる。
実施例5と比較例1から、保護層(ハードコート層)にチオール基を持つ化合物を含有することで、熱線反射層の湿熱負荷による外観劣化を抑制できることが分かる。
実施例6と比較例1から、保護層(ハードコート層)にN原子を含む複素環式化合物を含有することで、熱線反射層の湿熱負荷による外観劣化を抑制できることが分かる。
実施例1及び実施例8と比較例4から、保護層(ハードコート層)にメルカプト基とシラノール基もしくはその前駆体を持つ化合物を含有することで、基板によらず、熱線反射層の湿熱負荷による外観劣化を抑制できることが分かる。
実施例10と比較例5から、保護層(ハードコート層のプライマー層)にメルカプト基とシラノール基もしくはその前駆体を持つ化合物を含有し、更にハードコート層を有することで、熱線反射層の湿熱負荷による外観劣化を抑制できることが分かる。
<保護層形成用塗布液11の調製>
トリス(2,4−ペンタンジオナト)アルミニウム(III)(東京化成工業株式会社製)0.03重量部をメタノール(純正化学株式会社製)7.5重量部に溶解した後、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(東京化成工業株式会社製)10重量部、脱塩水2.5重量部を加え、60℃で30分間攪拌し、3−メルカプトプロピルトリメトキシシランの加水分解物溶液を得た。得られた溶液1重量部に紫外線硬化型ハードコート液AY42−150(東レダウコーニング社製、成分として、多官能性アクリレート、シリカ粒子を含む、固形分36重量%)49重量部を加え、保護層形成用塗布液11を得た。
熱線反射層塗布液2をポリカーボネート基板(三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社製「ユーピロン・シートNF−2000U」、基板サイズ10cm×10cm、厚み3mm)に約2mL滴下し、500rpm、30秒の条件でスピンコーターにより塗布した後、温風を吹き付けて乾燥させた。その後、120℃の定温乾燥器内で60分間加熱して熱線反射層を作製した。さらに、保護層形成用塗布液7を約2mL滴下し、300rpm、30秒の条件でスピンコーターにより塗布し、温風を吹き付け、さらに80℃の定温乾燥器内で2分間加熱処理して乾燥させた後、紫外線照射装置(LH6/LC−6BUVコンベアシステム:フュージョンUVシステムズ社製Dバルブ使用)を用いて積算照射量が1J/cm2となるように紫外線を照射し、さらに、120℃の定温乾燥器内で10分間加熱処理して、熱線反射積層体11を作製した。
<保護層形成用塗布液12の調製>
トリス(2,4−ペンタンジオナト)アルミニウム(III)(東京化成工業株式会社製)0.03重量部をメタノール(純正化学株式会社製)7.5重量部に溶解した後、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(東京化成工業株式会社製)10重量部、脱塩水2.5重量部を加え、60℃で30分間攪拌し、3−メルカプトプロピルトリメトキシシランの加水分解物溶液を得た。一方、3−メルカプトプロピルトリメトキシシランの代わりにアクリル酸3−(トリメトキシシリル)プロピルを用いて同様の操作を行い、アクリル酸3−(トリメトキシシリル)プロピルの加水分解物溶液を得た。得られた溶液をそれぞれ3重量部ずつ、144重量部のAY42−150に加えて保護層形成用塗布液12を得た。
保護層形成用塗布液11の代わりに、保護層形成用塗布液12を用いたこと以外は、熱線反射積層体11の作製と同様の操作を行って、熱線反射積層体12を得た。
[比較例6]
<熱線反射積層体Fの作製>
保護層形成用塗布液11の代わりに、AY42−150を用いたこと以外は、熱線反射積層体11の作製と同様の操作を行って、熱線反射積層体Fを得た。
実施例12と比較例6から、アクリル基を有する化合物とシリカ粒子を含む耐擦過性の高いハードコート層に3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン及びアクリル酸3−(トリメトキシシリル)プロピルの加水分解処理化合物を添加することで、保護層と熱線反射層の密着性が向上し、熱線反射層の湿熱負荷による外観劣化を抑制できることが分かる。
以上の結果より、本発明の前記(i)及び/又は(ii)の化合物を含有する保護層を熱線反射層に接するように配した熱線反射積層体は耐久性が高く、負荷の大きな腐食性環境化においても外観の劣化が著しく抑制されると言える。
Claims (11)
- 透明基材上に、熱線反射層及び該熱線反射層に接する保護層を有する積層体において、該熱線反射層はバインダー及び金属を含有し、かつ該保護層が下記(i)及び/又は(ii)を含有し、かつ保護層が有機高分子及び/又は無機化合物を含有し、N原子及び/又はS原子を含む置換基を有する有機化合物、並びに、N原子及び/又はS原子を含む複素環式化合物が、該有機高分子及び/又は無機化合物と結合形成能のある官能基を有し、該官能基の少なくとも一部が該有機高分子及び/又は無機化合物と結合していることを特徴とする熱線反射積層体。
(i)N原子及び/又はS原子を含む置換基としてアミノ基又はメルカプト基を有する有機化合物
(ii)環構造中に、N原子及び/又はS原子を含む複素環式化合物であって2−アルキルイミダゾール、ベンゾイミダゾール、1,2,3−ベンゾトリアゾール、1,10−フェナントロリン、1,7−フェナントロリン、2,2’−ビピリジン、3,3’−ビピリジン、4,4’−ビピリジン、2,3’−ビピリジン、2,4’−ビピリジン、メチルビオロゲン、ベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール及びこれらの誘導体から選ばれる1種又は2種以上(誘導体とは、上記の芳香族複素環式化合物の骨格を維持し、任意の置換基を有する化合物を意味する) - 結合形成能のある官能基が、シラノール基又はその前駆体であることを特徴とする請求項1に記載の熱線反射積層体。
- 保護層が(i)N原子及び/又はS原子を含む置換基としてアミノ基又はメルカプト基を有する有機化合物を含有し、該有機化合物がメルカプト基含有化合物であり、結合形成能のある官能基がシラノール基又はその前駆体であることを特徴とする請求項1に記載の熱線反射積層体。
- メルカプト基含有化合物が、炭素数2〜4のアルキル基の末端にメルカプト基を有し、炭素数1〜2のアルコキシ基を有するメルカプトアルキルアルコキシシラン及び/又はその加水分解物であることを特徴とする請求項3に記載の熱線反射積層体。
- 保護層が、骨格がシロキサン結合を含むポリマーを含むことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の熱線反射積層体。
- 保護層が、アクリロイル基又はメタクリロイル基を有する化合物の重合生成物を含むハードコート層であることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1項に記載の熱線反射積層体。
- 前記ハードコート層が、体積平均粒径1nm以上、200nm以下の無機化合物粒子を含むことを特徴とする請求項6に記載の積層体。
- 熱線反射層に含まれる金属が、銀又は銀を主成分とする合金であることを特徴とする請求項1ないし7のいずれか1項に記載の熱線反射積層体。
- 硬化性化合物及び溶媒を含有する熱線反射積層体の熱線反射層保護層形成用組成物であって、溶媒が沸点75℃以上の溶媒を含み、下記(i)及び/又は(ii)を含有することを特徴とする熱線反射層保護層形成用組成物であって、硬化性化合物として、アクリロイル基及び/又はメタクリロイル基を有する化合物を含み、前記(i)及び/又は(ii)の化合物として、メルカプト基を有するシランカップリング剤及び/又はその加水分解物を含む熱線反射層保護層形成用組成物。
(i)N原子及び/又はS原子を含む置換基としてアミノ基又はメルカプト基を有する化合物
(ii)環構造中に、N原子及び/又はS原子を含む複素環式化合物であって2−アルキルイミダゾール、ベンゾイミダゾール、1,2,3−ベンゾトリアゾール、1,10−フェナントロリン、1,7−フェナントロリン、2,2’−ビピリジン、3,3’−ビピリジン、4,4’−ビピリジン、2,3’−ビピリジン、2,4’−ビピリジン、メチルビオロゲン、ベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール及びこれらの誘導体から選ばれる1種又は2種以上(誘導体とは、上記の芳香族複素環式化合物の骨格を維持し、任意の置換基を有する化合物を意味する) - 無機化合物粒子を含むことを特徴とする請求項9に記載の熱線反射層保護層形成用組成物。
- 更に、アクリロイル基及び/又はメタクリロイル基を有するシランカップリング剤を含むことを特徴とする請求項9又は10に記載の熱線反射層保護層形成用組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010097175A JP5545006B2 (ja) | 2010-04-20 | 2010-04-20 | 熱線反射積層体及び熱線反射層保護層形成用組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010097175A JP5545006B2 (ja) | 2010-04-20 | 2010-04-20 | 熱線反射積層体及び熱線反射層保護層形成用組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011224875A JP2011224875A (ja) | 2011-11-10 |
JP5545006B2 true JP5545006B2 (ja) | 2014-07-09 |
Family
ID=45040854
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010097175A Expired - Fee Related JP5545006B2 (ja) | 2010-04-20 | 2010-04-20 | 熱線反射積層体及び熱線反射層保護層形成用組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5545006B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012219007A (ja) * | 2011-04-14 | 2012-11-12 | Asahi Glass Co Ltd | 断熱保護膜付き熱線反射ガラス |
CN104220905B (zh) * | 2012-04-12 | 2017-10-24 | 杰富意钢铁株式会社 | 太阳光反射板 |
WO2014115792A1 (ja) * | 2013-01-26 | 2014-07-31 | 株式会社 ジャパンナノコート | 透明導電性薄膜形成用分散液及び透明導電性薄膜付き基材 |
JPWO2015022877A1 (ja) * | 2013-08-13 | 2017-03-02 | コニカミノルタ株式会社 | フィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置 |
KR102237701B1 (ko) * | 2020-08-03 | 2021-04-07 | 하정훈 | 열반사 필름 및 이의 제조 방법 |
JP7563653B1 (ja) | 2023-02-16 | 2024-10-08 | 東レ株式会社 | 積層体 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08133792A (ja) * | 1994-10-31 | 1996-05-28 | Central Glass Co Ltd | 熱線反射紫外線吸収透明体 |
JP3473264B2 (ja) * | 1996-04-12 | 2003-12-02 | 旭硝子株式会社 | 積層体およびその製造方法 |
JP2000117918A (ja) * | 1998-10-16 | 2000-04-25 | Teijin Ltd | 屋外使用に適した熱線反射フィルムおよびそれからなる積層体 |
JP2000190430A (ja) * | 1998-10-21 | 2000-07-11 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 赤外線カットオフフィルム |
JP2003291277A (ja) * | 2002-03-29 | 2003-10-14 | Nissan Motor Co Ltd | 樹脂積層体 |
-
2010
- 2010-04-20 JP JP2010097175A patent/JP5545006B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011224875A (ja) | 2011-11-10 |
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