CN103827560A

CN103827560A - 气体供给装置

Info

Publication number: CN103827560A
Application number: CN201280047669.5A
Authority: CN
Inventors: 广濑隆; 山路道雄
Original assignee: Fujikin Inc
Current assignee: Fujikin Inc
Priority date: 2011-09-30
Filing date: 2012-09-26
Publication date: 2014-05-28
Anticipated expiration: 2032-09-26
Also published as: JP5576991B2; WO2013046660A1; JPWO2013046660A1; CN103827560B; KR20140053397A; TW201341704A; US9556966B2; KR101599344B1; US20140299201A1; TWI495820B

Abstract

本发明的气体供给装置谋求气体供给管路和气体装置的进一步小型化，并且更容易进行各仪器类的维修管理。本发明在由气体入口侧块、气体出口侧块和多个流体控制仪器形成有供给管路是供给装置中，在前述气体供给装置上形成有至少两个气体供给管路，各气体供给管路的前述流体控制仪器包含至少一个流量控制器，一方的气体供给管路的流量控制器的入口侧块与另一方的气体供给管路的流量控制器的入口侧块以对向状相对于前述入口侧块连接，一方的流量控制器的出口侧块与另一方的流量控制器的出口侧块以对向状相对于前述气体出口侧块连接。

Description

气体供给装置

技术领域

本发明涉及一种气体供给装置，例如涉及半导体制造装置用的集成化的气体供给装置等的改进，通过谋求在气体供给装置中使用的圧力式流量控制装置或热式流量控制装置的进一步小型、紧凑化，能够使气体供给管路数量大幅度增加、气体供给装置的小型化及气体供给装置的维修检查容易化等的气体供给装置。

以往，生产流程气体向半导体制造装置的供给一直使用所谓集成化的气体供给装置进行。

图21表示其中一例，将二通开闭阀71A、71B，三通开闭阀72A、72B，以及流量控制装置73等经由设有气体流路的块体74、75、76、77、78串联状地一体化，形成一个气体供给管路，通过将该气体供给管路经由多列块体75、79配设成并行状地固定，构成了集成型气体供给装置（日本国特开平5－172265号等）。

上述图21所示的集成型气体供给装置除了通过从上方卸下将各仪器类向块体上固定的固定用螺栓，能够容易地更换形成各气体供给管路的控制仪器类，还具有能够容易地与气体供给管路的增设等相对应的优良效果。

但是，若必要的气体供给管路数量增加，则集成型气体供给装置的进深尺寸L必然也增加，因此存在气体供给装置的大型化不可避免的问题。

特别是在流量控制装置73中，在其构造上进深尺寸（厚度尺寸）L0的削减存在一定的限度，在热式流量控制装置（质量流控制器）的情况下至少需要20～25mm的厚度尺寸L0，而且，在圧力式流量控制装置的情况下需要20～25mm的厚度尺寸L0。

因此，如图22所示，开发了使用于固定流量控制装置73的块体76的进深尺寸L1与流量控制装置73的进深尺寸（厚度尺寸）L0相同，尽可能减小以并列状邻接的流量控制装置73之间的间隙，并且能够用一根固定用螺栓80固定流量控制装置73的装置（日本国特开2008－298180号）。

但是，如上所述，由于减小流量控制装置73自身的进深尺寸（厚度尺寸）L0存在界限，所以若必要的气体供给管路数量增加，则集成化气体供给装置也随之大型化，处于难以谋求装置的大幅度小型化的状况。

另一方面，近年来在半导体制造装置的领域中，半导体制造生产流程转移到了所谓单片方式，而且，导入了在一台半导体制造装置中设置多个处理腔室室，并行地同时处理多个晶片的多腔室室方式、或用一个处理腔室连续地进行多个生产流程的腔室多道生产流程方式。

因此，即使在气体供给装置中，随着必要的供给气体种类的增加，强烈要求管路数量的增加，现实中要求能够供给15～16种气体的集成型气体供给装置。

但在，针对供给装置的设置空间，根据半导体制造设备费的削减、特别是谋求减小昂贵的清洁室的容积的观点，对于设置空间的削减的要求日益严格，其结果，要求供给装置的大幅度小型化。例如，在1腔室多道生产流程方式的半导体制造装置中，现实中要求使设有16种气体供给管路的集成型气体供给装置的容积为横宽W在350mm、进深L在250mm、高度H在250mm以下的容积空间。

另外，在集成型气体供给装置中，需要瞬时以规定的流量且完全清洁的状态向生产流程腔室供给各种特殊材料气体。因此，装置的维修管理、特别是各种仪器类的安装或调整简单且容易进行，而且在各连接部不产生泄漏是必不可少的。

而且，这种气体供给装置的设置一般要求设置在半导体制造装置的上部、即半导体制造装置的顶板部与清洁室的顶板部之间。因此，根据维修检查时的必要空间这一点，必须将集成型气体供给装置的高度尺寸H及进深尺寸L控制在250mm左右，并且能够从侧面一侧进行各种仪器类的更换或安装、调整。

专利文献1：日本国特开平5－172265号公报，

专利文献2：日本国特开2008－298180号公报，

专利文献3：日本国特开2002－349797号公报，

专利文献4：日本国特开2004－100889号公报，

专利文献5：日本国特开2006－330851号公报。

发明内容

在以往的将入口开闭阀或净化用三通开闭阀、流量控制装置、出口开闭阀等各仪器类连结成一列状（串联状）而形成一个气体供给管路，将这等气体供给管路在基板上以并列状配设多个并固定的构造的集成型气体供给装置中，由于在构造上不能够使流量控制器的厚度尺寸L0大幅度减小，所以若集成的供给气体管路数量增加，则气体供给装置的进深尺寸L变大。其结果，气体供给装置的容积（横宽W×进深L×高度H）增大，不能够应对使从半导体制造装置等一侧的设置空间减小的期望的问题，为了解决以往的半导体制造装置用等的气体供给装置中的上述问题，本申请的发明提供一种气体供给装置，特别是通过对流量控制器自身的构造和两个流量控制器的组合构造加以改进，能够容易地应对气体供给管路数量的增加的要求，并且谋求了气体供给装置的大幅度小型化，而且维修检查容易化，能够进行供给气体种类的迅速切換、高精度的流量控制、稳定的清洁气体的供给等。

本申请的发明者们到目前为止进行了各种半导体制造装置用的集成型气体供给装置的制造和开发并将其公开。并且通过这些制造、开发，想到了取代以往的将入口开闭阀或流量控制装置、出口开闭阀等各仪器类配置成一列状（串联状）而形成相对于一种气体的气体供给管路，通过将多个气体供给管路如图21所示配设成俯视为并列状，供给多种气体的型式，而采用将相对于一种气体的气体供给管路配设长俯视为对向状，通过使该配设成对向状的多个气体供给管路如图2所示为层叠成俯视为并列状的排列这种全新的组合方式，使集成型气体供给装置的进深尺寸L为以往的装置的大约1/2（第1实施方式）。

而且，本申请的发明者们通过各种气体供给装置的制造、开发，想到了通过采用在俯视下使两个气体供给管路的各圧力式流量控制器或者热式流量控制器为邻接的状态，将两个气体供给管路配置成一列状（串联状）并使两者一体化后的多个气体供给管路如图7所示为层叠成俯视为并列状的排列的全新的组合方式，使集成型气体供给装置的进深L为以往的装置的大约1/2（第2实施方式的第1例）。

进而，本申请的发明者们想到了通过对在前述第2实施方式中使用的两个圧力式流量控制器的各演算控制回路基板的组合结构加以改进，大幅度减小流量控制器的横宽尺寸W，谋求集成型气体供给装置的容积的进一步削减（第2实施方式的第2例～第4例）。

除此之外，本申请的发明者们想到了通过将两台第2实施方式所涉及的集成化气体供给装置在其横宽方向上对向地组合固定成一列状而构成单元体，通过将该多个组合固定后的单元体在高度H的方向上层叠成并列状地固定，将集成化气体供给装置的高度H降低到以往的大约1/4（第3实施方式）。

本申请的发明是基于上述各构思创造的，本发明的技术方案1是一种气体供给装置，由气体入口侧块12、气体出口侧块13和多个流体控制仪器形成有气体供给管路S，其特征在于，在前述气体供给装置上形成有至少两个气体供给管路S，各气体供给管路S的前述流体控制仪器包含至少一个流量控制器3，一方的气体供给管路S的流量控制器3的入口侧块15与另一方的气体供给管路S的流量控制器3的入口侧块15以对向状相对于前述气体入口侧块12连接，而且，一方的流量控制器3的出口侧块16与另一方的流量控制器3的出口侧块16以对向状相对于前述气体出口侧块13连接。

本发明的技术方案2的特征在于，在本发明的技术方案1中，在气体入口侧块12上设有在至少两个气体供给管路S之间连通的净化气体通路9，而且，在气体出口侧块13上设有在至少两个气体供给管路S之间连通的生产流程气体通路10。

本发明的技术方案3的特征在于，在本发明的技术方案1或技术方案2中，多个流体控制仪器包括入口开闭阀1、三通切换开闭阀2、流量控制器3及出口开闭阀5。

本发明的技术方案4为一种气体供给装置，通过将多个气体供给管路S配设成并列状而构成，所述多个气体供给管路S使生产流程气体向入口开闭阀1、三通切换开闭阀2、流量控制器3、以及出口开闭阀5流通，并且使净化气体通过三通切换开闭阀2流入，其特征在于，使前述各开闭阀1、2、5为具备本体块18、20、19的构造，而且，使流量控制器3为具备本体块14的构造，并且沿进深L的方向隔开间隔地平行排列设置了气体流通路径的高度为H′的细长四边柱状的气体入口侧块12及气体出口侧块13，通过将形成一个气体供给管路S的入口开闭阀1的本体块18、三通切换开闭阀）的本体块20、和流量控制器3的入口块15从一方向保持与分别对向的各气体流通路径之间的气密地固定在该入口侧块12的一方的侧面上，而且，将前述流量控制器3的出口块16和出口开闭阀5的本体块19从一方向保持与分别对向的各气体流通路径之间的气密地固定在前述出口侧块13的一方的侧面上，形成前述一个气体供给管路S，并且在前述气体入口侧块12及气体出口侧块13的另一方的侧面上，以与前述一方的气体供给管路S为对向状地形成另一方的一个气体供给管路S。

本发明的技术方案5的特征在于，在本发明的技术方案4中，将对向的各气体供给管路S、S沿前述入口侧块12及出口侧块13的高度H的方向隔开规定间隔地配设固定成多层并列状。

本发明的技术方案6的特征在于，在本发明的技术方案4或技术方案5中，在气体入口侧块12上形成沿高度H的方向贯通的净化气体通路9，并且在该气体入口侧块12的两侧部，分别对向状地形成有在生产流程气体入口接口6与入口开闭阀1之间连通的气体通路12D、12D，在入口开闭阀1与三通切换开闭阀2之间连通的气体通路12A、12B，在三通切换开闭阀2与流量控制器3的入口块15之间连通的气体通路12A、12B，以及在前述净化气体通路9与三通切换开闭阀2之间连通的气体通路12C、12C，进而，将除了前述沿高度H的方向贯通的净化气体通路9之外的其它各气体通路沿气体入口侧块12的高度H的方向隔开规定间隔地形成多层并列状。

本发明的技术方案7的特征在于，在本发明的技术方案4或技术方按5中，在气体出口侧块13上形成沿高度H的方向贯通的生产流程气体通路10，并且在该气体出口侧块13的两侧部，分别对向状地形成在流量控制器3的出口块16与出口开闭阀5之间连通的气体通路13A、13B，和在出口开闭阀5与生产流程气体通路10之间连通的气体通路13C、13C，进而，将除了前述沿高度H的方向贯通的生产流程气体通路10之外的其它各气体通路沿气体出口侧块13的高度H的方向隔开规定间隔地形成多层并列状。

本发明的技术方案8的特征在于，在本发明的技术方案4～技术方案7任一项的技术方案中，使流量控制器3为使用了压电元件驱动型控制阀的圧力式流量控制器。

本发明的技术方案9的特征在于，在本发明的技术方案4～技术方案7任一项的技术方案中，在气体入口侧块12及气体出口侧块13上形成有用于入口开闭阀1、三通切换开闭阀2、和出口开闭阀5的阀室用凹部25。

本发明的技术方案10的特征在于，在本发明的技术方案4～技术方案7任一项的技术方案中，使入口开闭阀1、三通切换开闭阀2及出口开闭阀5为具备本体块18、20、19的构造，而且，使流量控制器3为具备本体块14的构造，并且沿进深L的方向隔开间隔地平行排列设置了气体流通路径的高度为H′的细长四边柱状的气体入口侧块12及气体出口侧块13，进而，使流量控制器3的本体块14为如下的结构：在四边柱状的块体的一方的侧面上设置压电元件驱动型控制阀的阀室用凹部30，在另一方的侧面上设置圧力检测器安装用凹部31，并且在该四边柱状的块体中具有在前述阀室用凹部30与圧力检测器安装用凹部31之间连通的气体通路37，在阀室用凹部30与入口块15之间连通的气体通路36，在圧力检测器安装用凹部31与出口块16之间连通的气体通路38，以及插设在前述气体通路38中的节流孔35。

本发明的技术方案11为一种气体供给装置，通过并列状地配设多个气体供给管路S而构成，所述多个气体供给管路S使生产流程气体依次向入口开闭阀1、三通切换开闭阀2、流量控制器3、以及出口开闭阀5流通，并且使净化气体通过三通切换开闭阀2流入，其特征在于，使前述流量控制器3为具备本体块45的构造，并且沿横宽W的方向隔开间隔地平行排列设置了气体流通路径的气体入口侧块41和气体出口侧块42，将形成两个气体供给管路S、S的生产流程气体入口接口6、6和入口开闭阀1、1在与分别对向的各气体流通路径之间插设密封件24而气密地固定在该气体入口侧块41的一方的侧面上，将形成两个气体供给管路S、S的三通切换开闭阀2、2在与分别对向的各气体流通路径之间插设密封件24而气密地固定在另一方的侧面上，而且，将形成两个气体供给管路S、S的出口开闭阀5、5在与分别对向的各气体流通路径之间插设密封件24而气密地固定在前述气体出口侧块42的一方的侧面上，并且将流量控制器3固定在前述气体入口侧块41及气体出口侧块42的各正面侧的侧面上，形成该两个气体供给管路S、S。

本发明的技术方案12的特征在于，在本发明的技术方案11中，将支撑两个气体供给管路S、S的气体入口侧块41及气体出口侧块42沿高度H的方向配设成多层并列状，将前述各气体入口侧块41在与分别对向的各气体通路之间插设密封件24而气密地固定在呈高度为H′的四边柱状并沿高度方向贯通形成有净化气体流通路径9的净化气体通路块43上，而且，将前述各气体出口侧块42在与分别对向的各气体通路之间插设密封件24而气密地固定在呈高度为H′的四边柱状并沿高度方向贯通形成有生产流程气体通路10的生产流程气体通路块44上。

本发明的技术方案13的特征在于，在本发明的技术方案11或技术方案12中，在气体入口侧块41上形成有各入口开闭阀1和各三通切换开闭阀2的阀室用凹部25，并且形成有在一方的气体供给管路S的生产流程气体入口6与入口开闭阀2之间及在另一方的气体供给管路S的生产流程气体入口6与入口开闭阀2之间连通的气体通路41a、41a，在前述各入口开闭阀1与各三通切换开闭阀2之间连通的气体通路41b、41b，在各三通切换开闭阀2与流量控制器3的入口块46之间连通的气体通路41c、41c，以及将各三通切换开闭阀2与净化气体通路块43的净化气体通路9连通的气体通路41d、41d。

本发明的技术方案14的特征在于，在本发明的技术方案11或技术方案12中，在气体出口侧块42上形成有各出口开闭阀5的阀室用凹部25，在流量控制器3的出口块47与各出口开闭阀5之间连通的气体通路42b、42b，以及与各出口开闭阀5和生产流程气体通路块44的生产流程气体通路10连通的气体通路42c、42c。

本发明的技术方案15的特征在于，在本发明的技术方案11～技术方案14任一项的技术方案中，使流量控制器3为使用了压电元件驱动型控制阀的圧力式流量控制器，沿横宽W的方向并列状地排列两台圧力式流量控制器。

本发明的技术方案16的特征在于，在本发明的技术方案11～技术方案14任一项的技术方案中，使流量控制器3为使用了压电元件驱动型控制阀的圧力式流量控制器，沿俯视为横宽W的方向并列状地排列两台压电元件驱动型控制阀，并且在其一方的侧方排列有形成两台圧力式流量控制器的控制回路2A、2B的控制回路23。

本发明的技术方案17的特征在于，在本发明的技术方案11～技术方案14任一项的技术方案中，使流量控制器3为使用了压电元件驱动型控制阀的圧力式流量控制器，沿俯视为横宽W的方向并列状地排列两台压电元件驱动型控制阀，并且在其两侧方及正面侧的三处分隔配置形成两台圧力式流量控制器的控制回路2A、2B的控制回路23。

本发明的技术方案18的特征在于，在本发明的技术方案4或技术方案11～技术方案14任一项的技术方案中，使前述流量控制器3为具备带有入口块46及出口块47的本体块45的构造，并且使流量控制器3的本体块45为将形成由前述气体入口侧块41和气体出口侧块42支撑的两个气体供给管路S的两个流量控制器3一体化的构造，所述两个气体供给管路S在四边柱状的块体的正面侧并列状地设有两个压电元件驱动型控制阀的阀室用凹部30、30，而且，在块体的背面侧并列状地设有两个圧力检测器安装用凹部31、31，并且具有在前述各阀室用凹部30与圧力检测器安装用凹部31之间连通的气体通路37、37，在各阀室用凹部30与入口块46之间连通的气体通路36、36，在各圧力检测器安装用凹部31与出口块47之间连通的气体通路38、38，以及插设在各气体通路38中的节流孔35、35。

本发明的技术方案19的特征在于，在本发明的技术方案18中，使出口块47为设有在本体块45的气体通路38A与出口侧块42的气体通路42a之间连通的气体通路47a、及在本体块45的气体通路38B与出口侧块42的气体通路42b之间连通的气体通路47b的结构。

本发明的技术方案20的特征在于，在本发明的技术方案19中，使出口块47为连结第1块体47′和第2块体47′′形成的结构。

本发明的技术方案21的特征在于，在本发明的技术方案18中，使出口块47为在其正面侧及背面面侧分别对向状地设有第2圧力检测器4A′、4B）的安装用凹部31a、31a，并且通过气体通路52a连通一方的第2圧力检测器安装用凹部31a和在本体块45的气体通路38A与出口块42的气体通路42a之间连通的气体通路47a，而且，通过气体通路52b连通另一方的第2圧力检测器安装用凹部31a和在本体块45的气体通路38B与出口侧块42的气体通路42b之间连通的气体通路47b的结构。

本发明的技术方案22的特征在于，在本发明的技术方案4或技术方案11～技术方案14任一项的技术方案中，使前述流量控制器3为具备入口块46及出口块47的本体块45，并且使流量控制器3的本体块45为将形成由前述气体入口侧块41和气体出口侧块42支撑的两个气体供给管路S的两个流量控制器3一体化的构造，所述两个气体供给管路S在四边柱状的块体的正面侧并列状地设有两个压电元件驱动型控制阀的阀室用凹部30、30及两个切換阀的阀室用凹部59A、59B，而且，在块体的背面侧并列状地设有两个圧力检测器安装用凹部31、31，并且具有在前述各阀室用凹部30与圧力检测器安装用凹部31之间连通的气体通路37、37，在各阀室用凹部30与入口块46之间连通的气体通路36、36，在各圧力检测器安装用凹部31与出口块47之间连通的气体通路38、38，插设在各气体通路38中的节流孔35、35，在各切換阀的阀室用凹部59、59与各气体通路38、38之间连通的气体通路53、53，在各切換阀的阀室用凹部59、5）与出口块47之间连通的气体通路54、54，以及插设在该气体通路54、54中的节流孔55、55。

本发明的技术方案23的特征在于，在本发明的技术方案22中，使出口块47为如下结构，设有在本体块45的气体通路38A与气体出口侧块42的气体通路42a之间连通的气体通路47a、及在本体块45的气体通路38B与气体出口侧块42的气体通路42b之间连通的气体通路47b，并且具有将本体块45的气体通路54a与前述气体通路47a连通的气体通路62a，和将本体块45的气体通路54b与前述气体通路47b连通的气体通路62b。

本发明的技术方案24的特征在于，在本发明的技术方案11～技术方案14任一项的技术方案中，将形成一方的气体供给管路S的生产流程气体入口接口6及入口开闭阀1，和形成另一方的气体供给管路S的生产流程气体入口接口6及入口开闭阀1沿进深L的方向隔开间隔地依次安装在气体入口侧块41的一方的侧面上并固定。

本发明的技术方案25的特征在于，在本发明的技术方案24中，将入口开闭阀1螺纹固定在气体入口侧块41的一方的侧面上，并且用固定用螺栓21固定生产流程气体入口接口6。

本发明的技术方案26为一种气体供给装置，是通过并列状地配设多个气体供给管路S而构成的集成化气体供给装置，所述多个气体供给管路S使生产流程气体向入口开闭阀1、三通切换开闭阀2、流量控制器3、以及出口开闭阀5流通，并且使净化气体通过三通切换开闭阀2流入，其特征在于，使前述各开闭阀1、2、5为具备本体块18、20、19的构造，而且，流使量控制器3为具备本体块45的构造，并且使该本体块45为将两个流量控制器3、3邻接安装并固定的构造，沿进深L的方向隔开间隔地平行排列设置了气体流通路径的高度为H′的四边柱状的气体入口侧块46及气体出口侧块47，通过将形成一个气体供给管路S的入口开闭阀1的本体块18、三通切换开闭阀2的本体块20和固定在流量控制器3的本体块45上的入口块15从一方向保持与分别对向的各气体流通路径之间的气密地固定在该气体入口侧块12的一方的侧面上，而且，将固定在前述流量控制器3的本体块4）上的出口块16和出口开闭阀5的本体块19从一方向保持与分别对向的各气体流通路径之间的气密地固定在前述气体出口侧块13的另一方的侧面上，形成前述一个气体供给管路S，并且在前述气体入口侧块12及气体出口侧块13的另一方的侧面上与前述气体供给管路）为对向状地形成另一个气体供给管路S。

本发明的技术方案27的特征在于，在本发明的技术方案26中，通过将对向的各气体供给管路S、S沿前述气体入口侧块12及气体出口侧块13的高度H的方向隔开规定间隔地配设固定成多层并列状，构成具备两个气体供给管路S的集成化的气体供给装置，通过使该两个集成化的气体供给装置分别在横宽W方向上相互对向地配置而组合固定成一列状，将具备四个气体供给管路S的单元体51沿高度H的方向以多层层叠固定。

本发明的技术方案28的特征在于，在本发明的技术方案26或技术方案27中，通过将两个集成化的气体供给装置错开其进深L方向的相对位置地沿横宽W的方向组合固定成一列状，使横宽W小于各集成化的气体供给装置的横宽的2倍。

本发明的技术方案29的特征在于，在本发明的技术方案26～技术方案28气体供给装置中，沿高度方向层叠固定的单元体51的数量为四个单元。

本发明的技术方案30的特征在于，在本发明的技术方案1、技术方案4、技术方案11、或技术方案26中，使流量控制器3为圧力式流量控制器或者热式流量控制器。

本发明的技术方案1是一种由气体入口侧块、气体出口侧块和多个流体控制仪器形成有气体供给管路的供给装置，其中，在前述气体供给装置上形成有至少两个气体供给管路，各气体供给管路的前述流体控制仪器包含至少一个流量控制器，一方的管路的流量控制器的入口侧块与另一方的管路的流量控制器的入口侧块以对向状相对于前述入口侧块连接，一方的流量控制器的出口侧块与另一方的流量控制器的出口侧块以对向状相对于前述气体出口侧块连接。其结果，能够适当增减气体供给管路数量，并且能够实现气体供给装置的小型化、构造简单化、组装容易化及维修检查容易化等。

在本发明的技术方案4及技术方案5中，由于将呈长度为H′的四边柱状并设有规定的气体流通路径的入口块12和出口侧块13在进深L的方向上隔开间隔地並行排列，在该两块12、13的主视的左、右两侧面上，将多个气体供给管路在高度H的方向上为层叠状地平行排列固定，所以入口块12及出口侧块13的长度尺寸H′减小到以往的大约1/2，能够大幅度减小集成化气体供给装置的高度尺寸H，并且即使是具有16种气体供给管路的装置，也能够使高度尺寸H、进深尺寸L及横宽尺寸W为大约250mm、250mm及大约350mm以下。

同样，在本发明的技术方案11及技术方案12中，由于将两个流量控制器邻接地配置，将二组气体供给管路在俯视的左、右两侧排列而作为一个流量控制单元，该流量控制单元由沿横宽W的方向隔开间隔地平行排列的入口侧块41及出口侧块42支撑固定，形成两个气体供给管路的对，将多个这种两个气体供给管路的对沿高度方向H平行地排列成层叠状，将其各入口侧块41及各出口侧块42分别与一根具有高度方向尺寸为H′的细长净化气体通路块43及生产流程气体通路块44连结固定，所以与本发明的技术方案4的情况同样，集成化气体供给装置能够大幅度小型化。

而且，在本发明的技术方案4及技术方案5中，能够从集成型气体供给装置的侧方卸下或者安装构成集成型气体供给装置的所有各仪器类，装置的维修管理非常容易。

进而，在本发明的技术方案11及技术方案12中，能够通过卸下有头螺栓50而从侧方取下流量控制单元等，在维修管理等方面非常实用。

除此之外，在本发明的技术方案26及技术方案27中，由于使具备多个气体供给通路S的两台集成型气体供给装置对向，将其在横宽W方向上一列状地排列并组合固定，使具备四个气体供给管路S的单元体51以多层在高度方向上层叠支撑的形式，所以能够大幅度减小集成型气体供给装置的整个高度尺寸H，并且通过使进深L方向的位置错开地相互对向组合，能够使气体供给装置的整个横宽尺寸小于组合的各集成型气体供给装置的横宽尺寸W的2倍，更容易适用于顶板高度低的清洁室。

附图说明

图1是省略了本发明所涉及的气体供给装置的一部分后的气体供给系统图；

图2是本发明的第1实施方式所涉及的半导体制造装置用的集成型气体供给装置的主视图；

图3是图2中A－A向的放大截面概要图；

图4是图2的右侧视图；

图5是表示安装在图3的气体入口侧块上的入口开闭阀及三通切换开闭阀的安装状态的局部放大图；

图6是图3的圧力式流量控制器的本体块的安装部分的放大剖视图；

图7是本发明的第2实施方式所涉及的半导体制造装置用的集成型气体供给装置的主视图；

图8是图7中B－B向的放大截面概要图；

图9是图7的右侧视图；

图10是图7的左侧视图；

图11是表示本申请发明的第2实施方式中使用的圧力式流量控制装置的第2例的横截面概要图；

图12是图11的右侧视图；

图13是图11的左侧视图；

图14是图11的主视图；

图15是图11的后视图；

图16是表示本申请发明的第2实施方式中使用的圧力式流量控制装置的第3例的横截面概要图；

图17是表示本申请发明的第2实施方式中使用的圧力式流量控制装置的第4例的横截面概要图；

图18是本发明的第3实施方式所涉及的半导体制造装置用的集成型气体供给装置的主视图；

图19是图18中C－C向放大截面概要图；

图20是图18的右侧视图；

图21是表示以往的集成型气体供给装置的一例的立体图（日本国特开平5－172265号）；

图22是表示以往的流量控制装置的安装构造的一例的立体图（日本国特开2008－298180号）。

附图标记说明；

W：气体供给装置（集成型）的横宽尺寸，L：气体供给装置（集成型）的进深尺寸，H：气体供给装置（集成型）的高度尺寸，H′：高度方向的尺寸，S：气体供给管路，φ：气体供给装置（集成型）的横宽方向的中心线，1、1A、1B：入口开闭阀，2、2A、2B：三通切换开闭阀，3、3A、3B：圧力式流量控制器，4、4A、4B：圧力检测器，4A′、4B′：圧力检测器，5、5A、5B：出口开闭阀，6、6A1～6A8：生产流程气体入口接口（集成型），6、6B1～6B8：生产流程气体入口接口，7：净化气体入口接口，8：生产流程气体出口接口，9：净化气体通路，10：生产流程气体通路，11、11A1、11A2：输入输出连接件（缆线连接器），11、11B1、11B2：输入输出连接件（缆线连接器），12：气体入口侧块，12A、12B：V字型气体通路，12C、12B：气体通路，13：气体出口侧块，13A、13B：V字型气体通路，13C：气体通路，14、14A、14B：圧力式流量控制器本体块，15、15A、15B：圧力式流量控制器入口块，16、16A、16B：圧力式流量控制器出口块，17、17A、17B：圧力检测器安装块，18、18A、18B：入口开闭阀本体块，19、19A、19B：出口开闭阀本体块，20、20A、20B：三通开闭阀本体块，21、21A、21B：固定用螺栓，22、22A、22B：压电元件驱动部，23、23A1、23A2：控制回路，23、23B1、23B2：控制回路，24、24A、24B：密封部件，25、25A、25B：阀室用凹部，26、26A、26B：阀座片，27、27A、27B：金属隔膜（阀体），28、28A、28B：隔膜压件，29、29A、29B：推压用活塞，30、30A：阀室用凹部，31A、31B：圧力检测器安装用凹部（圧力检测器4A、4B用），31a、31b：圧力检测器安装用凹部（圧力检测器4A′、4B′用），32、32A：隔膜，33、33A：隔膜压件，34、34A：阀帽，35：节流孔，36、36A：气体通路，37、37A：气体通路，38、38A：气体通路，39：阀杆，40：罩体，41：气体入口侧块，41a、41b、41c、41d：气体流路，42：气体出口侧块，42a、42b：气体通路，43：净化气体通路块，44：生产流程气体出口块，45：力式流量控制器本体块，46：圧力式流量控制器入口块，46a、46b、42c：气体通路，47：圧力式流量控制器出口块，47a、47b：气体通路，48：圧力检测器安装块，49：圧力检测器安装块罩体，50：固定用有头螺栓，51：单元体，52a、52b：气体通路，53a、53b：气体通路，54a、54b：气体通路，55、55A、55B：节流孔（大口径用），56、56A、56B：切換阀，57、57A、57B：限位开关，58、58A、58B：限位开关位置调整装置，59、59A、59B：切換阀的阀室用凹部，60、60A、60B：操作用空气供给机构，61、61A、61B：空气流控制阀62、62a、62b：气体通路，63、63A、63B：空气供给口，65：固定螺栓，66：固定螺栓，67：切換开关类。

具体实施方式

以下，基于附图对本发明的各实施方式进行说明。

［第1实施方式］

图1至图6表示本发明的第1实施方式。

即、图1是表示省略了本发明的第1实施方式所涉及的半导体制造装置用的集成型气体供给装置的一部分后的主要部分的系统图，将多个不同的气体种类（在此为16种）通过生产流程气体通路10从生产流程气体出口接口8向生产流程处理装置（省略图示）供给。

图2是本发明的第1实施方式所涉及的集成型气体供给装置的主视图，图3是图2中A－A向截面概要图，图4是图2的右侧视图。进而，图5是表示入口侧开闭阀及三通切换开闭阀向入口侧块上的安装状态的局部放大图，图6是表示圧力式流量控制器的本体块的安装状态的局部放大纵向剖视图。

首先，在本申请第1实施方式的说明中，将图2的主视图中设有净化气体入口接口7及生产流程气体出口接口8的一侧称为集成型气体供给装置的上方（平面侧），将图3中设有出口开闭阀5A、5B的一侧称为集成型气体供给装置的下方（底面侧），将图3中设有生产流程气体入口接口6An、6Bn的一侧称为集成型气体供给装置的正面侧，将图3中安装有流量控制装置3A的输入输出连接件11A的一侧称为集成型气体供给装置的左侧，将图3中安装有流量控制装置3B的输入输出连接件11B的一侧称为集成化气体供给装置的右侧，将图3中设有气体出口侧块13的一侧称为背面。

而且，在本申请第1实施方式的说明中，集成型气体供给装置的横宽W、进深L及高度H如图2、图3及图4所记载的那样，将进深L的方向称为长度方向。

在上述图1至图4中，1A、1B是入口开闭阀，2A、2B是三通切换开闭阀，3A、3B是圧力式流量控制器（FCS－A、FCS－B），4A、4B是圧力检测器，5A、5B是出口开闭阀，6A1～6An是生产流程气体入口接口，6B1～6Bn是生产流程气体入口接口，7是净化气体入口接口，8是生产流程气体出口接口，9是净化气体通路，10是生产流程气体通路，11A是输入输出连接件（缆线连接器），11B是输入输出连接件（缆线连接器）。

而且，在图3至图6中，12是气体入口侧块，12A、12B是V字型气体通路，12C是气体通路，13是气体出口侧块，13A、13B是V字型气体通路，13C是气体通路，14A（14B省略图示）是圧力式流量控制器本体块，15A、15B是圧力式流量控制器入口块，16A、16B是圧力式流量控制器出口块，17A（17B省略图示）是圧力检测器安装块，18A、18B是入口开闭阀本体块，19A、19B是出口开闭阀本体块，20A、20B是三通开闭阀本体块，21A、21B是固定用螺栓，圧力式流量控制器3A、3B具备驱动体（省略图示）及控制回路（省略图示）。

参照图1，本发明的集成型气体供给装置构成为将多个气体种类向生产流程腔室切换供给，各气体种类通过与将生产流程气体入口接口6A、入口开闭阀1A、三通开闭阀2A、圧力式流量控制器3A、圧力检测器4A及出口开闭阀5A以一列状（串联状）连结形成的气体供给管路S相同结构的多个气体供给管路S、S，并通过生产流程气体出口接口8向生产流程腔室（省略图示）供给。

而且，在该集成型气体供给装置中，净化气体通过净化气体入口接口7向净化气体通路9供给，每次向生产流程腔室供给的气体种类被切换，通过对三通开闭阀2A、2B等进行操作来进行气体通路内的净化处理。

进而，虽然在图1至图4中省略了记载，但根据需要，在各圧力式流量控制器3A、3B上设有气体温度检测器（省略图示），在各仪器类与各块体的气体通路的连接部设有密封部，在各密封部等上设有泄漏检测孔（省略图示），在各气体供给管路S上设有过滤装置（省略图示）或自动圧力调整器等（省略图示）。

另外，在前述密封部上，作为密封部件24使用了FUJIKIN株式会社制的「W密封」，而且，气体入口接口6、7及气体出口接口8使用了FUJIKIN株式会社制的UPG接口（HEX14）。但是，当然也可以使用除此之外的密封部件或接口。

而且，由于集成型气体供给装置进行的气体供给及其动作与以往的集成型气体供给装置的情况同样是公知的，所以省略其详细的说明。

在该第1实施方式的集成型气体供给装置中，如图2及图3所示，供给16种气体的合计16个气体供给管路S分为两个组，以对称状配置在主视的横宽W的中心线φ的左右两侧。

即，如图2的主视图所示，在中心线φ的左侧，以层叠状并列地排列有8个气体供给管路SA，而且，在中心线φ的右侧，以层叠状并列地排列有8个气体供给管路SB，两者分别相对于中心线φ以线对称状排列，分别层叠成8层状。

更具体地说，如图3的水平方向的剖视图所示，在气体入口侧块12及气体出口侧块13的左右的两侧面上，以对称状配置有气体供给管路SA、SB，如图2的主视图所示，以相互相对的状态沿横宽W的方向配设固定成一列状。并且将该气体供给管路SA、SB以一直线状配设固定而成的8个单元以水平姿势并列地排列成层叠状，构成高度为H的集成型气体供给装置。

参照图3及图4，前述气体入口侧块12形成四边柱状的具有长度（高度）为H′的细长块柱，在气体入口侧块12的两侧部，以对称状形成有与入口开闭阀1A、1B和生产流程气体入口接口6An、6Bn连通的气体通路12D，将入口开闭阀1A、1B与三通开闭阀2A、2B连通的V字型气体通路12A、12B，将三通开闭阀2A、2B与净化气体通路9连通的气体通路12C，以及将三通开闭阀2A、2B与流量控制器3A、3B的入口块15A、16B连通的V字型气体通路12A、12B。而且，净化气体通路9在气体入口侧块12的长度（高度）H′的方向上贯孔。

同样，前述气体出口侧块13形成四边柱状的具有长度（高度）为H′的细长块，在气体出口侧块13的两侧部，以对称状形成有将流量控制器3A、3B的出口块16A、16B（2次侧）与出口开闭阀5A、5B之间连通的V字型气体通路13A、13B，和将出口开闭阀5A、5B与生产流程气体通路10连通的气体通路13C。而且，生产流程气体通路10在气体出口侧块13的长度（高度）H′的方向上贯孔。

前述入口开闭阀1A、1B，出口开闭阀5A、以及三通切换开闭阀2A、2B分别是公知的阀，例如使用日本国特开2004－100889号公开的利用多级致动器的直接接触型金属隔膜阀，但当然也可以使用电磁阀之外的任何开闭阀。

而且，在该第1实施方式中，作为流量控制装置3A、3B使用了FUJIKIN株式会社制的FCS型圧力式流量控制装置，但作为流量控制装置3A、3B，当然也可以使用热式流量控制装置。

而且，前述入口开闭阀1A、1B，出口开闭阀5A、5B以及三通切换开闭阀2A、2B既可以是所谓波纹管型开闭阀，也可以是直接拧入气体入口侧块12或气体出口侧块13的侧面固定的形式，或者还可以是经由凸缘由螺栓固定的形式。

图5是表示安装在气体入口侧块12上的入口开闭阀1A、1B及三通切换开闭阀2A、2B的安装状态的局部纵向剖视图。在各开闭阀的本体块18A、18B、20A、20B上设有阀室用凹部25A、25B，阀座片26A、26B嵌合固定在其底面。而且，阀体由金属隔膜27A、27B形成，被隔膜压件28A、28B向阀座片26A、26B一侧推压。

即，前述入口开闭阀1A、1B是通过用固定螺栓21A、21B将其入口开闭阀本体块18A、18B经由密封部件24A、24B气密地固定在气体入口侧块12两侧的侧面上，而以水平姿势固定在气体入口侧块12的侧面上，前述三通切换开闭阀2A、2B是通过用固定螺栓21A、21B将其三通切换开闭阀本体块20A、20B经由密封部件24A、24B气密地固定在气体入口侧块12两侧的侧面上，而以水平姿势固定在气体入口侧块12的侧面上。

同样，前述出口开闭阀5A、5B是通过用固定用螺栓21A、21B将其出口开闭阀本体块19A、19B经由密封部件24A、24B气密地固定在气体出口侧块13两侧的侧面上，而以水平姿势固定在气体出口侧块13的侧面上。

前述圧力式流量控制器3A、3B根据日本国特开2006－330851号等而是公知的。即、通过使用日本国特开2008－249002号等公开的公知的金属隔膜式压电元件驱动型控制阀对节流孔上流侧的圧力进行调整，控制在节流孔中流通的气体流量。

图6是表示图3中的圧力式流量控制器3A的安装状态的局部放大纵向剖视图，通过将固定在圧力式流量控制器本体块14A上的入口块15A及出口块16A固定在气体入口侧块12及气体出口侧块13上，圧力式流量控制器3A被安装固定。

而且，在圧力式流量控制器本体块14A的左侧面上设有阀室用凹部30A，进而在右侧面上设有圧力检测器4A的安装用凹部31A。

前述阀室用凹部30A内收纳有构成阀体的隔膜32A、隔膜压件33A、以及阀帽34A，而且，在前述圧力检测器安装用凹部31A内收纳有圧力检测器4A。

另外，在图6中，12是气体入口侧块，13是气体出口侧块，15A是圧力式流量控制器3A的入口块，16A是圧力式流量控制器3A的出口块，35是节流孔，36A、37A、38A是气体通路，39是阀杆，40是罩体。

另外，在上述图1至图6中，在具有长度（高度）H′的一根细长四边柱体上形成气体入口侧块12及气体出口侧块13，将形成各气体供给管路S的入口开闭阀及三通切换开闭阀、出口开闭阀排列固定在其两侧面上，但当然也可以是将气体入口侧块12及气体出口侧块13分割成8个块体，使邻接的块体彼此依次在高度方向上气密地组合固定的构造。在这种情况下，虽然密封部增加了各块体的组合面的数量，但气体流路在块体中的穿设加工更容易。

在上述图1至图6所示的第1实施方式中，在将集成化气体供给装置以水平状态载置在半导体制造装置的上方部等上的情况，（即、使生产流程气体入口侧接口6位于侧方的设置状态的情况）下，能够从侧方（水平方向）卸下、安装所有形成各气体供给管路S的仪器类，集成化气体供给装置的维修管理非常容易。

而且，即使在设置了16种气体供给管路S的情况下，也能够将集成型气体供给装置的高度尺寸H及进深尺寸L分别抑制在250mm以内，而且，能够将横宽尺寸W抑制在350mm以内，能够使集成型气体供给装置大幅度小型化。

［第2实施方式］

接着，基于图7至图17对本发明的第2实施方式进行说明。

图7至图10是表示第2实施方式的第1例的附图，而且，图11至图15是表示第2实施方式中使用的圧力式流量控制装置3的第2例的附图，进而，图16是表示第2实施方式中使用的圧力式流量控制装置3的第3例的附图，图17是表示第2实施方式中使用的圧力式流量控制装置3的第4例的附图。

［第1例］

首先，基于图7至图10对第2实施方式的第1例进行说明。

图7是第2实施方式的第1例所涉及的集成型气体供给装置的主视图，图8是图7的B－B向剖视图，图9是图7的右侧视图，图10是图7的左侧视图。

在图7至图10中，对于与前述图1至图6相同的部位、部件赋予与其相同的附图标记。

而且，在该第2实施方式的第1例所涉及的集成型气体供给装置申请说明书中，将图7的主视图中设置了净化气体入口接口7及生产流程气体入口接口8的一侧作为上方（上表面侧）。即、将水平剖视图的图8中设置了输入输出连接件（缆线连接器）11A、11B的一侧称为集成型气体供给装置的正面侧，将设置了入口开闭阀1A、三通切换开闭阀2A及出口开闭阀5B的一侧称为集成化气体供给装置的背面侧，而且，将图7及图8中的流量控制装置3A一侧称为集成型气体供给装置的左侧，将流量控制装置3B一侧称为集成型气体供给装置的右侧。

而且，在第2实施方式所涉及的集成型气体供给装置申请说明书中，集成型气体供给装置的横宽W、进深L及高度H如图7及图8所记载的那样。

在该第2实施方式中，如图7及图8所示，将形成一个气体供给管路SA的圧力式流量控制器3A的压电元件驱动部22A，和形成另一个气体供给管路SB的圧力式流量控制器3B的压电元件驱动部22B相邻接地以并列状沿水平方向（进深方向）配设，并将其作为一组的单元，通过将这等单元如图7所示地沿高度H方向以并列状层叠8组并使其组合地固定，构成了具备16种气体的供给管路的层叠型的气体供给装置。

即、将两台圧力式流量控制器3A和圧力式流量控制器3B左右邻接地以并列状排列固定而成的单元通过固定用的有头螺栓50（参照图7、图8）固定在后述的气体入口侧块41及气体出口侧块42上。而且，固定了由该两台圧力式流量控制器3A、3B构成的单元后的气体入口侧块41及气体出口侧块42通过分别气密地联络层叠并上下邻接的气体入口侧块41、41彼此及上下邻接的出口侧块42、42彼此而一体化。这样，通过将并列状地层叠的8组单元相互固定，形成了具备16种气体供给管路S的层叠型的气体供给装置。

前述气体入口侧块41形成为短四边柱状的块体，如图8所示，在其左侧的侧面上排列固定有生产流程气体入口接口6B、入口开闭阀1B、生产流程气体入口接口6A、以及入口开闭阀1A，而且，在其右侧的侧面上排列固定有三通切换开闭阀2B、2A。

另外，25A、25B是穿设在气体入口侧块41上的各开闭阀1B、1A及三通切换开闭阀2B、2A的阀室用凹部，在其底面上形成有阀座片26A、26B，阀的驱动部（推压用活塞29A、29B）拧入前述阀室用凹部25A、25B内固定。

前述生产流程气体入口接口6B、入口开闭阀1B、生产流程气体入口接口6A、以及入口开闭阀1A从入口侧块41的左侧的侧面的上方空出一定的间隔地固定，生产流程气体入口接口6B和生产流程气体入口接口6A被固定用螺栓21B、21A固定在气体入口侧块41的左侧的侧面上，而且，入口开闭阀1B及入口开闭阀1A以拧入的方固定在气体入口侧块41的左侧的侧面上。

而且，在气体入口侧块41上，如图8所示，穿设有连接在生产流程气体入口接口6B与入口开闭阀1B之间的气体通路41a，将入口开闭阀1B与三通切换开闭阀2B连通的气体通路41b、在三通切换开闭阀2B与圧力控制装置3B之间连通的气体通路41c、以及将三通切换开闭阀2B与净化气体入口9连通的气体通路41d。

另外，从生产流程气体入口接口6A流入的生产流程气体等的流路也与上述同样，分别穿设有气体流路41a、41b、41b、41d。

另外，在图8中，24A、24B是密封部件，21A、21B是固定用螺栓。

前述圧力式流量控制器3A、3B的本体块45是将第1实施方式中的圧力式流量控制装置的本体块分为两组并一体化，实际的结构与第1实施方式的图6所示的结构相同。

另外，在图8中，36A、36B、37A、37B、38A、38B分别是气体通路，35A、35B是节流孔，24B、24A是密封部件。

而且，4A、4B是圧力检测器，该圧力检测器4A、4B向圧力式流量控制器本体块45上安装的构造与第1实施方式的图6的情况相同。

前述圧力式流量控制器3A、3B的本体块45与前述气体入口侧块41之间经由圧力式流量控制器入口块46连通。此外，虽然圧力式流量控制器入口块46的结构与第1实施方式的情况下的入口块15A基本相同，但在气体流通路径46a、46b为两条这一点、及通过分别位于对向状的4根有头螺栓50、50（参照图7参照）将圧力式流量控制器3A固定在入口侧块41上这一点不同。

在前述圧力式流量控制器本体块45的气体出口侧气密地固定有圧力式流量控制器出口块47。该圧力式流量控制器出口块47是通过固定螺栓65将第1块体47′与第2块体47′′经由密封部件24A、24B气密地连结而构成的。该圧力式流量控制器出口块47与第1实施方式的出口块16A同样，具有连结在圧力式流量控制器本体块45与气体出口侧块13之间的功能，与第1实施方式的圧力式流量控制器本出口块16A（参照图6)的情况相同。但是，在该圧力式流量控制器出口块47上穿设有两条气体通路47a、47b这一点、及通过分别位于对向状的4根有头螺栓50、50（参照图7及图8）将圧力式流量控制器3B固定在气体出口侧块42上这一点不同。另外，当然也可以将该圧力式流量控制器出口块47不分割成第1块体47′和第2块体47′′地一体形成。

前述圧力式流量控制器出口块47的第2块体47′′气密地与生产流程气体的出口块42连接并固定。而且，该生产流程气体的出口块42形成短四边柱形的块，在其外侧的侧面上，如图8及图9所示，沿水平方向拧入地固定有出口开闭阀5A、5B。

在生产流程气体的出口块42的侧面上，形成有形成出口开闭阀5A、5B的阀室用凹部25A、25B，进而，分别设有来自圧力式流量控制器出口块47的气体流通用的气体通路42a、42b、42c。

前述净化气体通路块43是四边柱状的具有高度尺寸为H′的细长四边柱状的部件，沿高度H′的方向穿设有净化气体通路9。

同样，前述生产流程气体通路块44是四边柱状的具有高度尺寸为H′的细长四边柱状的部件，沿其长度（高度H′）的方向穿设有生产流程气体通路10。

上述净化气体通路块43及生产流程气体通路块44具有分别将沿高度H的方向以层叠状层叠的8个入口侧块41及8个出口侧块42气密的连结固定的功能，通过两根固定用螺栓21A、21B将各块41、42固定在净化气体通路块43、生产流程气体通路块44上。

即、在第2实施方式中，气体入口侧块41及气体出口侧块42被分割成短方柱状块，与第1实施方式中的在高度方向上具有长度尺寸为H′的长条的入口侧块12及出口侧块13相比形态不同。

另外，在第2实施方式中，如图7至图10（第1例）、图11（第2例）、图16（第3例）、图17（第4例）所示，为通过以对向状配置的4根有头螺栓50、50，将组合两个气体供给管路而成的8个单元分别固定在圧力式流量控制器入口块46及圧力式流量控制器出口块47上的结构，一个单元被8根有头螺栓50紧固地固定。

在该第2实施方式所涉及的集成型气体供给装置中，通过将气体供给装置以水平姿势载置在半导体制造装置的顶板部等上，能够通过从集成化气体供给装置的侧面一侧卸下固定用螺栓21A、21B及有头螺栓50、50，简单地进行各仪器类的换装、修补等。

［第2例］

接着，对本发明的第2实施方式中使用的圧力式流量控制装置3的第2例进行说明。

图11至图15是表示第2实施方式中使用的圧力式流量控制装置3的第2例的附图。该第2例所涉及的圧力式流量控制装置3具有与先前作为第1例而在图7及图8中所示的圧力式流量控制装置3基本上相同的构造，但将具备两台压电元件驱动部22A、22B的圧力式流量控制装置3的控制回路23A、23B汇总在一张基板上形成，在压电元件驱动部22A、22B的侧方以俯视为并列状地配置。

即、使流量控制器3为具备压电元件驱动型控制阀的圧力式流量控制器，将两台压电元件驱动型控制阀22A、22B以俯视为水平姿势并沿横宽W的方向并列状地排列，并且在其一方的侧方水平地排列形成两台圧力式流量控制器3A、3B的控制回路2A、2B的基板。

另外，在图11至图15中，对于与前述图7及图8等相同的部位、部件赋予与其相同的附图标记。

而且，在图11至图15中，65、66是固定用螺栓，67是开关及显示板等，朝向控制回路23A、23B的输入输出连接件11汇总在一处。

在该第2例的圧力式流量控制装置3中，通过以图11那样的形态排列配置控制回路23A、23B，能够将圧力式流量控制装置3的部分的横宽W₀抑制在184mm以下，将进深L1抑制在175mm以下，而且将其厚度D₀抑制在21mm以下，气体供给装置能够进一步小型化。

［第3例］

图16是表示本发明的第2实施方式中使用的圧力式流量控制装置3的第3例的横向剖视图，除了下述各点之外，具有与前述图11所示的第2例基本上相同的结构。即、在圧力式流量控制器3的出口块47的正面侧设置检测节流孔35A的2次侧（下游侧）的气体圧力的圧力检测器4A′这一点、在圧力式流量控制器3的出口块47的背面侧设置检测节流孔35B的2次侧（下游侧）的气体圧力的圧力检测器4B′这一点、以及设置圧力检测用的气体流路52a、52b这一点上与图11所示的第2例不同。

流量控制器3与前述第2例的情况同样，是使用了压电元件驱动型控制阀2A、2B的圧力式流量控制器，将两台压电元件驱动型控制阀2A、2B以俯视为水平姿势并在横宽W的方向上并列状地排列，并且在其一方的侧方水平状地配置形成两台圧力式流量控制器的控制回路2A、2B的控制回路23的基板。

在出口块47的第1块体47′的部分，在其正面侧及背面侧分别以对向状设置第2圧力检测器4A′、4B′的安装用凹部31a、31a，并且设有一方的第2圧力检测器安装用凹部3aA、在本体块45的气体通路38A与出口块42的气体通路42a之间连通的气体通路47a、以及在气体通路47a与一方的第2圧力检测器安装用凹部31a之间连通的气体通路52a。同样，在出口块47的第1块体47′的部分，设有另一方的第2圧力检测器安装用凹部31a、在本体块45的气体通路38B与出口侧块42的气体通路42b之间连通的气体通路47b、以及在另一方的第2圧力检测器安装用凹部31a与气体通路47b之间连通的气体通路52b。

另外，在图16中，31a、31b是圧力检测器安装凹部，4A′、4B′是圧力检测器，52a、52b、53a、53b、54b、54a是气体通路。

而且，在图16的第3例中，与前述第1例及第2例所涉及的圧力式流量控制器3相同的部位、部件使用相同的附图标记。

在该第3例中，由于在节流孔35A、35B的下游侧设有圧力检测器4A′、4B′，所以具有即使在节流孔中流通的气体流是非临界状态的气体流，也能够进行所谓差圧式的圧力流量控制这种特征。

［第4例］

图17是表示本发明的第2实施方式中使用的圧力式流量控制装置3的第4例的横向剖视图，在将控制回路23分隔在3处配置这一点、及在各气体供给管路中设置切換阀56A、56B、能够通过小流量用节流孔35A、35B或者小流量用节流孔35A、35B及大流量用节流孔55A、55B供给气体这一点上与第1例至第3例的圧力式流量控制装置3不同。

即、在该第4例中，使流量控制器3为使用了压电元件驱动型控制阀2A、2B的圧力式流量控制器，将两台压电元件驱动型控制阀2A、2B以俯视为水平姿势并在横宽W的方向上并列状地排列，并且在其一方的侧方水平状地配置形成两台圧力式流量控制器的控制回路2A、2B的控制回路23的基板。

另一方面，流量控制器3的本体块45为在四边柱状的本体块45的正面侧设置了两个压电元件驱动型控制阀的阀室用凹部25A、25B和两个切換阀的阀室用凹部59A、59B，而且在本体块45的底面侧设置了两个圧力检测器安装用凹部31A、31B的结构。

进而，在流量控制器3的本体块45上，分别形成有在前述各阀室用凹部25A、25B与圧力检测器安装用凹部31A，31B之间连通的气体通路37A、37B，在各阀室用凹部25A、25B与流量控制器入口块46之间连通的气体通路36A、36B，在各圧力检测器安装用凹部31A、31B与流量控制器出口块47之间连通的气体通路38A、38B，插设在各气体通路38A、38B中的节流孔35A、35B，在各切換阀的阀室用凹部59A、59B与各气体通路38A、38B之间连通的气体通路53a、53b，以及在各切換阀的阀室用凹部59A、59B与流量控制器出口块47之间连通的气体通路54a、54b，在前述气体通路54a、54b的出口侧端部设有节流孔55A、55B。

除此之外，流量控制器出口块47为设置在本体块45的气体通路38A与气体出口侧块42的气体通路42a之间连通的气体通路47A，及在本体块45的气体通路38B与气体出口侧块42的气体通路42b之间连通的气体通路47b，并且具备将本体块45的气体通路54a与前述气体通路47a连通的气体通路62a，及将本体块45的气体通路54b与前述气体通路47b连通的气体通路62b的结构。

另外，在图17中，55A、55B是节流孔径比较大的大流量控制用节流孔，56A、56B是控制流量的切換阀，57A、57B是限位开关，58A、58B是限位开关的位置调整机构，59A、59B是切換阀的阀室用凹部，60A、60B是操作用空气供给机构，61A、61B是空气流量控制，63A、63B是空气供给口。

操作用空气从前述空气流供给口63A、63B通过空气流控制阀61A、61B向切換阀56A、56B输送，这样一来，若切換阀56A、56B被开闭控制，则切換阀56A、56B的工作状况经由限位开关57A、58B向外部发送。另外，限位开关57A、57B与切換阀56A、56B的驱动部（省略图示）的相对位置能够通过位置调整机构58A、58B调整。

具体地说，在小流量气体的控制之际，切換阀56A、56B保持关闭状态。其结果，供给气体被比较小的口径的节流孔35A、35B进行流量控制，向生产流程腔室（省略图示）供给。

而且，在大流量气体的控制之际，切換阀56A、56B保持打开状态。其结果，供给气体被比较大的口径的节流孔55A、55B进行流量控制，向生产流程腔室（省略图示）供给。

在使用了该第4例的圧力式流量控制装置3的情况下，能够与供给气体流量相对应地任意切换气体的控制流量范围，能够得到更高的流量控制精度。

［第3实施方式］

接着，图18至图20是表示本发明的第3实施方式的附图，基于该图18至图20对本发明的第3实施方式进行说明。

图18是第3实施方式所涉及的集成型气体供给装置的主视图，图19是图18中的C－C向剖视图（横向剖视图），图20是图18的右侧视图。

另外，在图18至图20中，对于与前述图1至图17相同的部位、部件赋予与其相同的附图标记。另外，在该第3实施方式的集成型气体供给装置中，使图18中设置了净化气体入口接口7及生产流程气体出口接口8的一侧为集成化气体供给装置的上方。

而且，在该第3实施方式所涉及的集成型气体供给装置中，使气体供给装置的横宽W、进深L及高度H为图18至图20所记载的那样。

即、该第3实施方式的集成化气体供给装置如图19所示，通过使具备由第1实施方式中的气体入口侧块12及气体出口侧块13的结构（参照图3），和第2实施方式中的圧力式流量控制器本体块45（参照图11及图8）的组合而成的两个气体供给管路SA、SB的集成型气体供给装置相互对向，并沿各自的横宽W方向组合固定成一列状（水平状），形成具备四个气体供给管路SA、SA 、SB、SB的单元体51，将该单元体51在高度H的方向上层叠4层并相互支撑地固定。

参照图18至图20，1A、1B是入口侧开闭阀，2A、2B是三通切换开闭阀，3A、3B是流量控制器（FCS－A、FCS－B），4A、4B是圧力检测器，5A、5B是出口开闭阀，6A、6B是生产流程气体入口接口，7是净化气体入口接口，8是生产流程气体出口接口，9是净化气体通路，10是生产流程气体通路，11A、11B是输入输出连接件（缆线连接器）。

而且，在图18至图20中，12是四边柱状的气体入口侧块，12A、12B是V字型气体通路，12C、12C′是气体通路，13是四边柱状的气体出口侧块，13A是V字型气体通路，13C、13C′是气体通路，45是流量控制器本体块，46是流量控制器入口块，47是流量控制器出口块，48是圧力检测器安装块，18A、18B是入口开闭阀本体块，19A、19B是出口开闭阀本体块，20A、20B是三通开闭阀本体块，21A、21B是固定用螺栓。流量控制器3A、3B具备压电元件驱动体22A、22B及控制回路23A、23B。

另外，气体入口侧块12及气体出口侧块13在将多个后述的单元体51、例如4个单元以层叠状支撑固定时具有高度H′。

前述圧力式流量控制器3A、3B的本体块45是将第1实施方式中的圧力式流量控制装置的本体块分成两组并一体化，其实质的结构与第2实施方式的图8或图11所示的结构相同。

另外，在图19中，36A、36B、37A、37B、38A、38B分别是气体通路，35是节流孔，24B、24A是密封部件。

而且，4A、4B是圧力检测器，该圧力检测器4A、4B向圧力式流量控制器的本体块45上的安装构造与第2实施方式的图8或图11的情况相同。

前述圧力式流量控制器3A、3B的本体块45与前述气体入口侧块12之间经由圧力式流量控制器入口块46连通。此外，圧力式流量控制器入口块46的结构与第2实施方式的情况下的入口块46相同，设有气体流通路径46a、46b。

在前述圧力式流量控制器本体块45的气体出口侧气密地固定有出口块47，在该圧力式流量控制器出口块47上穿设有两条气体通路47a、47b。另外，该圧力式流量控制器出口块47的结构及功能与第2实施方式的情况相同。

前述圧力式流量控制器出口块47与出口侧块13气密地连接并固定，而且，该出口侧块13形成为四边柱形的具有高度方向长度H′的块，在其两侧的侧面，如图12所示，以对向状沿水平方向拧入固定有出口侧开闭阀5A、5B。

如上所述，如图19所示，使由气体入口侧块12，圧力检测器入口块46，圧力式流量控制器本体块45，圧力式流量控制器出口块47，入口侧开闭阀1A、1B，三通切换开闭阀2A、2B，流量控制器3A、3B，圧力检测器4A、4B，气体出口侧块13及出口开闭阀5A、5B等的组合而成的两个气体供给管路SA、SB沿气体入口侧块12及气体出口侧块13的高度方向层叠4层并固定形成的两组集成型气体供给装置以分别相互对向的状态沿横宽W方向水平地组合固定成一列状。这样一来，形成将具备四个气体供给管路SA、SB的单元体51层叠成4层状并固定的形式的集成型气体供给装置。

另外，前述对向的两台集成型气体供给装置彼此的固定机构可以是任何的机构，在本第3实施方式中，为通过由连结材（省略图示）将两气体入口侧块12、12之间固定，将两台集成型气体供给装置彼此固定的结构。

而且，两台集成型气体供给装置彼此的固定也可以是通过将从气体出口侧块13伸出的生产流程气体出口接口8彼此连结，或者在气体出口侧块13、13上形成凸缘状的接口，而将两气体出口侧块13、13彼此连结。

另外，在两台集成型气体供给装置彼此的固定之际，希望如图19所示，使对向的两集成型气体供给装置的进深L方向的位置错开，使两者的开闭阀1B、2B、5B彼此在横宽W方向上重合，缩短集成型气体供给装置的横宽W。

具备前述四个气体供给管路SA、SB的单元体51能够如图20所示仅层叠适当数量，例如将4个单元沿高度H的方向层叠固定，形成具备由4层单元体51构成的合计16个气体供给管路S的集成型化气体供给装置。

本发明不仅能够利用于半导体制造装置中，也可以作为各种化学装置等中的气体供给装置加以利用。

Claims

1.一种气体供给装置，由气体入口侧块（12）、气体出口侧块（13）和多个流体控制仪器形成有气体供给管路（S），其特征在于，在前述气体供给装置上形成有至少两个气体供给管路（S），各气体供给管路（S）的前述流体控制仪器包含至少一个流量控制器（3），一方的气体供给管路（S）的流量控制器（3）的入口侧块（15）与另一方的气体供给管路（S）的流量控制器的入口侧块（15）以对向状相对于前述气体入口侧块（12）连接，而且，一方的流量控制器的出口侧块（16）与另一方的流量控制器的出口侧块（16）以对向状相对于前述气体出口侧块（13）连接。

2.如权利要求1所述的气体供给装置，其特征在于，在气体入口侧块（12）上设有在至少两个气体供给管路（S）之间连通的净化气体通路（9），而且，在气体出口侧块（13）上设有在至少两个气体供给管路（S）之间连通的生产流程气体通路（10）。

3.如权利要求1或2所述的气体供给装置，其特征在于，多个流体控制仪器包括入口开闭阀（1）、三通切换开闭阀（2）、流量控制器（3）及出口开闭阀（5）。

4.一种气体供给装置，通过将多个气体供给管路（S）配设成并列状而构成，所述多个气体供给管路（S）使生产流程气体向入口开闭阀（1）、三通切换开闭阀（2）、流量控制器（3）、以及出口开闭阀（5）流通，并且使净化气体通过三通切换开闭阀（2）流入，其特征在于，使前述各开闭阀（1、2、5）为具备本体块（18、20、19）的构造，而且，使流量控制器（3）为具备本体块（14）的构造，并且沿进深L的方向隔开间隔地平行排列设置了气体流通路径的高度为H′的细长四边柱状的气体入口侧块（12）及气体出口侧块（13），通过将形成一个气体供给管路（S）的入口开闭阀（1）的本体块（18）、三通切换开闭阀（2）的本体块（20）、和流量控制器（3）的入口块（15）从一方向保持与分别对向的各气体流通路径之间的气密地固定在该入口侧块（12）的一方的侧面上，而且，将前述流量控制器（3）的出口块（16）和出口开闭阀（5）的本体块（19）从一方向保持与分别对向的各气体流通路径之间的气密地固定在前述出口侧块（13）的一方的侧面上，形成前述一个气体供给管路（S），并且在前述气体入口侧块（12）及气体出口侧块（13）的另一方的侧面上，以与前述一方的气体供给管路（S）为对向状地形成另一方的一个气体供给管路（S）。

5.如权利要求4所述的气体供给装置，其特征在于，将对向的各气体供给管路（S、S）沿前述入口侧块（12）及出口侧块（13）的高度H的方向隔开规定间隔地配设固定成多层并列状。

6.如权利要求4或5所述的气体供给装置，其特征在于，在气体入口侧块（12）上形成沿高度H的方向贯通的净化气体通路（9），并且在该气体入口侧块（12）的两侧部，分别对向状地形成有在生产流程气体入口接口（6）与入口开闭阀（1）之间连通的气体通路（12D、12D），在入口开闭阀（1）与三通切换开闭阀（2）之间连通的气体通路（12A、12B），在三通切换开闭阀（2）与流量控制器（3）的入口块（15）之间连通的气体通路（12A、12B），以及在前述净化气体通路（9）与三通切换开闭阀（2）之间连通的气体通路（12C、12C），进而，将除了前述沿高度H的方向贯通的净化气体通路（9）之外的其它各气体通路沿气体入口侧块（12）的高度H的方向隔开规定间隔地形成多层并列状。

7.如权利要求4或5所述的气体供给装置，其特征在于，在气体出口侧块（13）上形成沿高度H的方向贯通的生产流程气体通路（10），并且在该气体出口侧块（13）的两侧部，分别对向状地形成在流量控制器（3）的出口块（16）与出口开闭阀（5）之间连通的气体通路（13A、13B），和在出口开闭阀（5）与生产流程气体通路（10）之间连通的气体通路（13C、13C），进而，将除了前述沿高度H的方向贯通的生产流程气体通路（10）之外的其它各气体通路沿气体出口侧块（13）的高度H的方向隔开规定间隔地形成多层并列状。

8.如权利要求4至7中任一项所述的气体供给装置，其特征在于，使流量控制器（3）为使用了压电元件驱动型控制阀的圧力式流量控制器。

9.如权利要求4至7中任一项所述的气体供给装置，其特征在于，在气体入口侧块（12）及气体出口侧块（13）上形成有用于入口开闭阀（1）、三通切换开闭阀（2）、和出口开闭阀（5）的阀室用凹部（25）。

10.如权利要求4至7中任一项所述的气体供给装置，其特征在于，使前述各开闭阀（1、2、5）为具备本体块（18、20、19）的构造，而且，使流量控制器（3）为具备本体块（14）的构造，并且沿进深L的方向隔开间隔地平行排列设置了气体流通路径的高度为H′的细长四边柱状的气体入口侧块（12）及气体出口侧块（13），进而，使流量控制器（3）的本体块（14）为如下的结构：在四边柱状的块体的一方的侧面上设置压电元件驱动型控制阀的阀室用凹部（30），在另一方的侧面上设置圧力检测器安装用凹部（31），并且在该四边柱状的块体中具有在前述阀室用凹部（30）与圧力检测器安装用凹部（31）之间连通的气体通路（37），在阀室用凹部（30）与入口块（15）之间连通的气体通路（36），在圧力检测器安装用凹部（31）与出口块（16）之间连通的气体通路（38），以及插设在前述气体通路（38）中的节流孔（35）。

11.一种气体供给装置，通过并列状地配设多个气体供给管路（S）而构成，所述多个气体供给管路（S）使生产流程气体依次向入口开闭阀（1）、三通切换开闭阀（2）、流量控制器（3）、以及出口开闭阀（5）流通，并且使净化气体通过三通切换开闭阀（2）流入，其特征在于，使前述流量控制器（3）为具备本体块（45）的构造，并且沿横宽W的方向隔开间隔地平行排列设置了气体流通路径的气体入口侧块（41）和气体出口侧块（42），将形成两个气体供给管路（S、S)的生产流程气体入口接口（6、6）和入口开闭阀（1、1）在与分别对向的各气体流通路径之间插设密封件（24）而气密地固定在该气体入口侧块（41）的一方的侧面上，将形成两个气体供给管路（S、S）的三通切换开闭阀（2、2）在与分别对向的各气体流通路径之间插设密封件（24）而气密地固定在另一方的侧面上，而且，将形成两个气体供给管路（S、S）的出口开闭阀（5、5）在与分别对向的各气体流通路径之间插设密封件（24）而气密地固定在前述气体出口侧块（42）的一方的侧面上，并且将流量控制器（3）固定在前述气体入口侧块（41）及气体出口侧块（42）的各正面侧的侧面上，形成该两个气体供给管路（S、S）。

12.如权利要求11所述的气体供给装置，其特征在于，将支撑两个气体供给管路（S、S）的气体入口侧块（41）及气体出口侧块（42）沿高度H的方向配设成多层并列状，将前述各气体入口侧块（41）在与分别对向的各气体通路之间插设密封件（24）而气密地固定在呈高度为H′的四边柱状并沿高度方向贯通形成有净化气体流通路径（9）的净化气体通路块（43）上，而且，将前述各气体出口侧块（42）在与分别对向的各气体通路之间插设密封件（24）而气密地固定在呈高度为H′的四边柱状并沿高度方向贯通形成有生产流程气体通路（10）的生产流程气体通路块（44）上。

13.如权利要求11或12所述的气体供给装置，其特征在于，在气体入口侧块（41）上形成有各入口开闭阀（1）和各三通切换开闭阀（2）的阀室用凹部（25），并且形成有在一方的气体供给管路（S）的生产流程气体入口（6）与入口开闭阀（2）之间及在另一方的气体供给管路（S）的生产流程气体入口（6）与入口开闭阀（2）之间连通的气体通路（41a、41a），在前述各入口开闭阀（1）与各三通切换开闭阀（2）之间连通的气体通路（41b、41b），在各三通切换开闭阀（2）与流量控制器（3）的入口块（46）之间连通的气体通路（41c、41c），以及将各三通切换开闭阀（2）与净化气体通路块（43）的净化气体通路（9）连通的气体通路（41d、41d）。

14.如权利要求11或12所述的气体供给装置，其特征在于，在气体出口侧块（42）上形成有各出口开闭阀（5）的阀室用凹部（25），在流量控制器（3）的出口块（47）与各出口开闭阀（5）之间连通的气体通路（42b、42b），以及与各出口开闭阀（5）和生产流程气体通路块（44）的生产流程气体通路（10）连通的气体通路（42c、42c）。

15.如权利要求11至14中任一项所述的气体供给装置，其特征在于，使流量控制器（3）为使用了压电元件驱动型控制阀的圧力式流量控制器，沿横宽W的方向并列状地排列两台圧力式流量控制器。

16.如权利要求11至14中任一项所述的气体供给装置，其特征在于，使流量控制器（3）为使用了压电元件驱动型控制阀的圧力式流量控制器，沿俯视为横宽W的方向并列状地排列两台压电元件驱动型控制阀，并且在其一方的侧方排列有形成两台圧力式流量控制器的控制回路（2A、2B）的控制回路（23）。

17.如权利要求11至14中任一项所述的气体供给装置，其特征在于，使流量控制器（3）为使用了压电元件驱动型控制阀的圧力式流量控制器，沿俯视为横宽W的方向并列状地排列两台压电元件驱动型控制阀，并且在其两侧方及正面侧的三处分隔配置形成两台圧力式流量控制器的控制回路（2A、2B）的控制回路（23）。

18.如权利要求4或者权利要求11至14中任一项所述的气体供给装置，其特征在于，使前述流量控制器（3）为具备带有入口块（46）及出口块（47）的本体块（45）的构造，并且使流量控制器（3）的本体块（45）为将形成由前述气体入口侧块（41）和气体出口侧块（42）支撑的两个气体供给管路（S）的两个流量控制器（3）一体化的构造，所述两个气体供给管路（S）在四边柱状的块体的正面侧并列状地设有两个压电元件驱动型控制阀的阀室用凹部（30、30），而且，在块体的背面侧并列状地设有两个圧力检测器安装用凹部（31、31），并且具有在前述各阀室用凹部（30）与圧力检测器安装用凹部（31）之间连通的气体通路（37、37），在各阀室用凹部（30）与入口块（46）之间连通的气体通路（36、36），在各圧力检测器安装用凹部（31）与出口块（47）之间连通的气体通路（38、38），以及插设在各气体通路（38）中的节流孔（35、35）。

19.如权利要求18所述的气体供给装置，其特征在于，使出口块（47）为设有在本体块（45）的气体通路（38A）与出口侧块（42）的气体通路（42a）之间连通的气体通路（47a）、及在本体块（45）的气体通路（38B）与出口侧块（42）的气体通路（42b）之间连通的气体通路（47b）的结构。

20.如权利要求19所述的气体供给装置，其特征在于，使出口块（47）为连结第1块体47′和第2块体47′′形成的结构。

21.如权利要求18所述的气体供给装置，其特征在于，使出口块（47）为在其正面侧及背面面侧分别对向状地设有第2圧力检测器（4A′、4B′）的安装用凹部（31a、31a），并且通过气体通路（52a）连通一方的第2圧力检测器安装用凹部（31a）和在本体块（45）的气体通路（38A）与出口块（42）的气体通路（42a）之间连通的气体通路（47a），而且，通过气体通路（52b）连通另一方的第2圧力检测器安装用凹部（31a）和在本体块（45）的气体通路（38B）与出口侧块（42）的气体通路（42b）之间连通的气体通路（47b）的结构。

22.如权利要求4或权利要求11至14中任一项所述的气体供给装置，其特征在于，使前述流量控制器（3）为具备入口块（46）及出口块（47）的本体块（45），并且使流量控制器（3）的本体块（45）为将形成由前述气体入口侧块（41）和气体出口侧块（42）支撑的两个气体供给管路（S）的两个流量控制器（3）一体化的构造，所述两个气体供给管路（S）在四边柱状的块体的正面侧并列状地设有两个压电元件驱动型控制阀的阀室用凹部（30、30）及两个切換阀的阀室用凹部（59A、59B），而且，在块体的背面侧并列状地设有两个圧力检测器安装用凹部（31、31），并且具有在前述各压电元件驱动型控制阀的阀室用凹部（30）与圧力检测器安装用凹部（31）之间连通的气体通路（37、37），在各阀室用凹部（30）与入口块（46）之间连通的气体通路（36、36），在各圧力检测器安装用凹部（31）与出口块（47）之间连通的气体通路（38、38），插设在各气体通路（38）中的节流孔（35、35），在各切換阀的阀室用凹部（59、59）与各气体通路（38、38）之间连通的气体通路（53、53），在各切換阀的阀室用凹部（59、59）与出口块（47）之间连通的气体通路（54、54），以及插设在该气体通路（54、54）中的节流孔（55、55）。

23.如权利要求22所述的气体供给装置，其特征在于，使出口块（47）为如下结构，设有在本体块（45）的气体通路（38A）与气体出口侧块（42）的气体通路（42a）之间连通的气体通路（47a）、及在本体块（45）的气体通路（38B）与气体出口侧块（42）的气体通路（42b）之间连通的气体通路（47b），并且具有将本体块（45）的气体通路（54a）与前述气体通路（47a）连通的气体通路（62a），和将本体块（45）的气体通路（54b）与前述气体通路（47b）连通的气体通路（62b）。

24.如权利要求11至14中任一项所述的气体供给装置，其特征在于，将形成一方的气体供给管路（S）的生产流程气体入口接口（6）及入口开闭阀（1），和形成另一方的气体供给管路（S）的生产流程气体入口接口（6）及入口开闭阀（1）沿进深L的方向隔开间隔地依次安装在气体入口侧块（41）的一方的侧面上并固定。

25.如权利要求24所述的气体供给装置，其特征在于，将入口开闭阀（1）螺纹固定在气体入口侧块（41）的一方的侧面上，并且用固定用螺栓（21）固定生产流程气体入口接口（6）。

26.一种气体供给装置，是通过并列状地配设多个气体供给管路（S）而构成的集成化气体供给装置，所述多个气体供给管路（S）使生产流程气体向入口开闭阀（1）、三通切换开闭阀（2）、流量控制器（3）、以及出口开闭阀（5）流通，并且使净化气体通过三通切换开闭阀（2）流入，其特征在于，使前述各开闭阀（1、2、5）为具备本体块（18、20、19）的构造，而且，流使量控制器（3）为具备本体块（45）的构造，并且使该本体块（45）为将两个流量控制器（3、3）邻接安装并固定的构造，沿进深L的方向隔开间隔地平行排列设置了气体流通路径的高度为H′的四边柱状的气体入口侧块（46）及气体出口侧块（47），通过将形成一个气体供给管路（S）的入口开闭阀（1）的本体块（18）、三通切换开闭阀（2）的本体块（20）和固定在流量控制器（3）的本体块（45）上的入口块（15）从一方向保持与分别对向的各气体流通路径之间的气密地固定在该气体入口侧块（12）的一方的侧面上，而且，将固定在前述流量控制器（3）的本体块（45）上的出口块（16）和出口开闭阀（5）的本体块（19）从一方向保持与分别对向的各气体流通路径之间的气密地固定在前述气体出口侧块（13）的另一方的侧面上，形成前述一个气体供给管路（S），并且在前述气体入口侧块（12）及气体出口侧块（13）的另一方的侧面上与前述气体供给管路（S）为对向状地形成另一个气体供给管路（S）。

27.如权利要求26所述的气体供给装置，其特征在于，通过将对向的各气体供给管路（S、S）沿前述气体入口侧块（12）及气体出口侧块（13）的高度H的方向隔开规定间隔地配设固定成多层并列状，构成具备两个气体供给管路（S）的集成化的气体供给装置，通过使该两个集成化的气体供给装置分别在横宽W方向上相互对向地配置而组合固定成一列状，将具备四个气体供给管路（S）的单元体（51）沿高度H的方向以多层层叠固定。

28.如权利要求26或27所述的半导体制造装置用的集成化气体供给装置，其特征在于，通过将两个集成化的气体供给装置错开其进深L方向的相对位置地沿横宽W的方向组合固定成一列状，使横宽W小于各集成化的气体供给装置的横宽的2倍。

29.如权利要求26至28中任一项所述的气体供给装置，其特征在于，沿高度方向层叠固定的单元体（51）的数量为四个单元。

30.如权利要求1、权利要求4、权利要求11或权利要求26所述的气体供给装置，其特征在于，使流量控制器（3）为圧力式流量控制器或者热式流量控制器。