CN103745938A - 扇出型圆片级封装的制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种扇出型圆片级封装的制作方法,包括:提供尺寸较小的圆形承载片,在承载片上贴覆粘结胶;芯片正贴到粘结胶上;涂覆价格便宜的第二类感光树脂将芯片覆盖;在第二类感光树脂上露出芯片的有效图形区域;涂覆高解析度的第一类感光树脂将芯片暴露出的有效图形区域覆盖;在第一类感光树脂中形成通向芯片焊盘的导通孔;沉积种子层,在种子层上涂覆光刻胶,在光刻胶上显露出的图形区域中形成电连接芯片焊盘的电镀线路;涂覆阻焊油墨覆盖电镀线路,在阻焊油墨上显露出电镀线路上的金属焊盘;在金属焊盘上形成焊球。本方法可以降低成本和制造难度,提高涂覆树脂的表面均匀性,并且可以在线路形成和扇出方面使用晶圆厂的设备与材料。
Description
技术领域
本发明涉及微电子封装方法,尤其是一种扇出型圆片级封装的制作方法。
背景技术
随着电子产品多功能化和小型化的潮流,高密度微电子组装技术在新一代电子产品上逐渐成为主流。为了配合新一代电子产品的发展,尤其是智能手机、掌上电脑、超级本等产品的发展,芯片的尺寸向密度更高、速度更快、尺寸更小、成本更低等方向发展。扇出型晶圆级封装技术(Fanout Wafer Level Package,FOWLP)的出现,满足了芯片产品尺寸更薄、节省材料(封装基板)等特点,但是如何降低扇出型圆片级封装产品的成本成为需要研究的方向。
日本J-Devices公司在US20110309503A1专利中,给出了一种扇出型晶圆级封装的制作方法,如图1所示。J-Devices公司的专利主要工艺如下:
第一步:使用粘结剂以一定间隔在基板上形成粘结层;
第二步:在粘结胶上贴放芯片;
第三步:涂覆第一绝缘树脂,并在树脂上开出窗口,露出芯片上的焊盘;
第四步:通过图形电镀与光刻的方法,制作重布线层(Redistribution Layer,RDL),将芯片上的焊盘引出;
第五步:制作第二绝缘层,并做开口露出重布线层的金属;
第六步:在第二绝缘层上面制作焊球或凸点。
该技术的不足之处在于,工艺的第三步中涂覆第一绝缘树脂,由于通常芯片厚度在50微米以上,所以涂覆绝缘树脂的厚度不易控制,不利于精细线路的制作。而且个别树脂(如PBO)价格较高,不利于成本控制。
发明内容
本发明的目的在于提供一种扇出型圆片级封装的制作方法,能够降低制造成本,以及在工艺过程中降低制造难度和提高涂覆树脂的表面均匀性,并且可以在线路形成和扇出方面使用晶圆厂的设备与材料,大幅度提高了布线密度和制造精度。本发明采用的技术方案是:
一种扇出型圆片级封装的制作方法,包括下述步骤:
步骤一,提供一圆形的承载片,在承载片上贴覆粘结胶;
步骤二,将芯片正贴到粘结胶上;
步骤三,在圆形承载片上贴有芯片的那一面上涂覆第二类感光树脂,第二类感光树脂包括阻焊油墨、感光绿漆、干膜或感光型增层材料,第二类感光树脂将芯片覆盖;
步骤四,去除芯片正面的有效图形区域以外的第二类感光树脂,露出芯片的有效图形区域,使得芯片焊盘暴露在外;
步骤五,在承载片上贴有芯片的那一面上涂覆第一类感光树脂,第一类感光树脂包括BCB、PBO、PSPI、聚酰亚胺或陶氏化学公司的Intervia材料;第一类感光树脂将芯片暴露出的有效图形区域覆盖;
步骤六,在第一类感光树脂中形成通向芯片焊盘的导通孔;
步骤七,在导通孔中和第一类感光树脂上沉积种子层;在种子层上涂覆光刻胶,然后使得光刻胶上显露出用于制作电镀线路的图形,使用电镀的方法,在显露出的图形区域中形成电连接芯片焊盘的电镀线路;
步骤八,去除光刻胶和光刻胶底部的种子层,保留电镀线路底部的种子层;在承载片上涂覆阻焊油墨,使得阻焊油墨覆盖电镀线路;
然后在阻焊油墨上显露出电镀线路上的金属焊盘;
步骤九,在金属焊盘上形成焊球。
进一步地,所述步骤一中,圆形承载片的材料为Si、玻璃、金属板或有机基板。
进一步地,所述步骤三中,涂覆第二类感光树脂的工艺包括旋涂、喷涂、滚涂、丝网印刷、狭缝涂覆、喷墨打印、滚压或真空压合。
进一步地,所述步骤四中,具体在曝光机中通过对位曝光工艺,使第二类感光树脂发生反应,使用显影液将芯片正面的有效图形区域以外的第二类感光树脂去除。
进一步地,所述步骤五中,涂覆第一类感光树脂的工艺包括旋涂、喷涂、滚涂、丝网印刷、狭缝涂覆、喷墨打印、滚压或真空压合。
进一步地,所述步骤七中,通过溅射金属或化学沉铜工艺,在导通孔中和第一类感光树脂上沉积种子层。
进一步地,所述步骤九中,通过植球、印刷、电镀或化学镀工艺形成焊球。
本发明的优点在于:
1).高性能芯片的扇出工艺大部分使用第一类感光树脂,该类树脂包括BCB、PBO、PSPI(光敏聚酰亚胺)、聚酰亚胺等材料。第一类感光树脂具有分辨率高,适合高频作业等特点,缺点是成本昂贵。第二类感光树脂主要包括阻焊油墨、感光绿漆、干膜、感光型增层(build-up)材料等产品。第二类感光树脂的价格远低于第一类感光树脂,但是解析度等要求也随之降低。本发明使用第二类感光树脂作为芯片间的填充剂,第一类感光树脂制作线路扇出层,在保证封装工艺精度的同时,降低了制造成本。
2).使用两步涂胶方式,可以有效提高树脂涂覆的均匀性。在本发明中,首先使用第二类感光树脂将芯片与芯片之间的沟槽填平。填平后树脂顶部到芯片顶部的距离可控制在10微米以下,比较芯片贴片后的厚度大于50微米的厚度,由于第二类感光树脂涂覆后涂覆高度差的减少,使得第一类感光树脂的厚度只需略微高过第二类感光树脂,制造难度大大降低,树脂表面均匀性大幅提高。
3).选用圆片进行封装,可以在线路形成和扇出方面使用晶圆厂的设备与材料,大幅度提高了布线密度和制造精度,解决了封装基板产品焊盘间距过大、可靠性低等一些问题。更适合于未来高密度封装技术的发展。
附图说明
图1为日本J-Devices公司的一种扇出型晶圆级封装的制作方法示意图。
图2为本发明的圆形承载片上贴覆粘结胶示意图。
图3为本发明的粘贴芯片示意图。
图4为本发明的涂覆第二类感光树脂示意图。
图5A为本发明的在第二类感光树脂上露出芯片的有效图形区域示意图。
图5B为本发明的单个芯片在去除多余第二类感光树脂后剖视图。
图5C为本发明的单个芯片在去除多余第二类感光树脂后俯视图。
图6为本发明的涂覆第一类感光树脂示意图。
图7A为本发明的制作导通孔示意图。
图7B为本发明的导通孔小于芯片焊盘时的示意图。
图7C为本发明的导通孔大于芯片焊盘时的示意图。
图8为本发明的制作种子层和电镀线路示意图。
图9为本发明的涂覆阻焊油墨覆盖电镀线路,在阻焊油墨上显露出电镀线路上的金属焊盘示意图。
图10为本发明的制作焊球示意图。
图11为本发明的流程图。
具体实施方式
下面结合具体附图和实施例对本发明作进一步说明。
本发明所提出的扇出型圆片级封装的制作方法,具体包括下述步骤:
步骤一,如图2所示,提供一圆形的承载片101,在承载片101上贴覆粘结胶102;
此步骤中,由于是进行圆片级封装,因此承载片101选用尺寸较小的圆形承载片(相对于方片级封装而言尺寸较小)。选用圆片进行封装,可以在线路形成和扇出方面使用晶圆厂的设备与材料,大幅度提高了布线密度和制造精度,解决了封装基板产品焊盘间距过大、可靠性低等一些问题。更适合于未来高密度封装技术的发展。承载片材料可以是Si、玻璃、金属板、有机基板等平板,具体可通过丝网印刷或点胶、热压、滚压等工艺,贴覆粘结胶102。
步骤二,如图3所示,将芯片103正贴到粘结胶102上;
此步骤中,具体可通过贴片机将芯片103正贴到粘结胶102上,即芯片103的背面与粘结胶102贴合。
步骤三,如图4所示,在圆形承载片101上贴有芯片103的那一面上涂覆第二类感光树脂104,第二类感光树脂104包括阻焊油墨、感光绿漆、干膜或感光型增层材料,第二类感光树脂104将芯片103覆盖;
此步骤中,第二类感光树脂104主要包括阻焊油墨、感光绿漆、干膜或感光型增层材料(如日立化成公司的RAYTEC材料、FZ系列材料、日本太阳油墨公司的AUS410材料等),第二类感光树脂104的解析度虽然有些低,但是价格远低于BCB苯并环丁烯、PBO聚对苯撑苯并二恶唑、PSPI光敏聚酰亚胺、聚酰亚胺等第一类感光树脂。使用第二类感光树脂作为芯片间的填充剂,可以有效降低成本。涂覆工艺可以是旋涂、喷涂、滚涂、丝网印刷、狭缝涂覆、喷墨打印、滚压、真空压合等工艺。
步骤四,如图5A、图5B、图5C所示,去除芯片103正面的有效图形区域以外的第二类感光树脂104,露出芯片103的有效图形区域,使得芯片焊盘106暴露在外;
具体地,如图5A所示,第二类感光树脂104涂覆完成后,通过加热等工艺将其预固化。然后在曝光机中通过对位曝光等工艺,使第二类感光树脂104发生反应,使用显影液将不需要的第二类感光树脂104去除,露出芯片103的有效图形区域。
图5B为单个芯片103曝光、显影工艺完成后的剖面图。从图中可以看出,第二类感光树脂104经过显影工艺,芯片焊盘106暴露在外面,便于后续线路的扇出工艺。芯片保护层105是待封装的芯片103自带的(由芯片提供厂家制作)。
图5C是单个芯片103曝光、显影工艺完成后的俯视图,从图中可以看出,第二类感光树脂104将芯片103边缘的区域盖住,使芯片中间的大部分区域(有效图形区域)露出,在这部分中间的区域中包括有电性要求的芯片焊盘106。第二类感光树脂104盖住芯片103边缘的宽度,取决于曝光对位的误差、第二类感光树脂104本身的性能、芯片外围无效区域的尺寸和产品的要求等影响因素。
步骤五,如图6所示,如图6所示,在承载片101上贴有芯片103的那一面上涂覆第一类感光树脂107,第一类感光树脂107包括BCB、PBO、PSPI、聚酰亚胺或陶氏化学公司的Intervia材料等用于半导体和芯片封装行业的高解析度感光树脂;第一类感光树脂107将芯片103暴露出的有效图形区域覆盖。涂覆工艺可以是旋涂、喷涂、滚涂、丝网印刷、狭缝涂覆、喷墨打印、滚压、真空压合等工艺。
步骤六,如图7A、图7B、图7C所示,在第一类感光树脂107中形成通向芯片焊盘106的导通孔108;
如图7A所示,第一类感光树脂107经过光刻、显影、固化等工艺,在其中形成通向芯片焊盘106的导通孔108;
图7B中显示,当芯片焊盘106尺寸比较大,便于形成通向芯片焊盘106的导通孔108,导通孔108的直径小于芯片焊盘106的直径。
图7C中显示,当芯片焊盘106尺寸比较小,在芯片焊盘106范围内形成导通孔108比较困难,则考虑导通孔108的底部尺寸大于芯片焊盘106,导通孔108的直径大于芯片焊盘106的直径。
步骤七,如图8所示,在导通孔108中和第一类感光树脂107上沉积种子层109;在种子层109上涂覆光刻胶110,然后使得光刻胶110上显露出用于制作电镀线路111的图形,使用电镀的方法,在显露出的图形区域中形成电连接芯片焊盘106的电镀线路111;
此步骤中,可以通过溅射金属(材料可以是Al、Au、Cr、Co、Ni、Cu、Mo、Ti、Ta、Ni-Cr、Co—Ni、Co—Cr、W等)或化学沉铜等工艺,在导通孔108中和第一类感光树脂107上沉积种子层109。然后在种子层109上面涂覆光刻胶110(光刻胶可以是液态的,也可以是薄膜状的),通过使用底片在光刻机里进行对位曝光,经过显影等工艺使得光刻胶110上显露出制作电镀线路111的图形。使用电镀的方法,在显露出的图形区域中形成电镀线路111(即重布线结构),电镀线路111需要电连接芯片焊盘106。
步骤八,如图9所示,去除光刻胶110和光刻胶底部的种子层109,保留电镀线路111底部的种子层109;在承载片101上涂覆阻焊油墨113,使得阻焊油墨113覆盖电镀线路111;
然后使用底片在光刻机里进行对位曝光,经过显影等工艺,在阻焊油墨113上显露出电镀线路111上的金属焊盘112。
第九步,如图10所示,在金属焊盘112上通过植球、印刷、电镀、化学镀等工艺形成焊球114。
Claims (7)
1.一种扇出型圆片级封装的制作方法,其特征在于,包括下述步骤:
步骤一,提供一圆形的承载片(101),在承载片(101)上贴覆粘结胶(102);
步骤二,将芯片(103)正贴到粘结胶(102)上;
步骤三,在圆形承载片(101)上贴有芯片(103)的那一面上涂覆第二类感光树脂(104),第二类感光树脂(104)包括阻焊油墨、感光绿漆、干膜或感光型增层材料,第二类感光树脂(104)将芯片(103)覆盖;
步骤四,去除芯片(103)正面的有效图形区域以外的第二类感光树脂(104),露出芯片(103)的有效图形区域,使得芯片焊盘(106)暴露在外;
步骤五,在承载片(101)上贴有芯片(103)的那一面上涂覆第一类感光树脂(107),第一类感光树脂(107)包括BCB、PBO、PSPI、聚酰亚胺或陶氏化学公司的Intervia材料;第一类感光树脂(107)将芯片(103)暴露出的有效图形区域覆盖;
步骤六,在第一类感光树脂(107)中形成通向芯片焊盘(106)的导通孔(108);
步骤七,在导通孔(108)中和第一类感光树脂(107)上沉积种子层(109);在种子层(109)上涂覆光刻胶(110),然后使得光刻胶(110)上显露出用于制作电镀线路(111)的图形,使用电镀的方法,在显露出的图形区域中形成电连接芯片焊盘(106)的电镀线路(111);
步骤八,去除光刻胶(110)和光刻胶底部的种子层(109),保留电镀线路(111)底部的种子层(109);在承载片(101)上涂覆阻焊油墨(113),使得阻焊油墨(113)覆盖电镀线路(111);
然后在阻焊油墨(113)上显露出电镀线路(111)上的金属焊盘(112);
步骤九,在金属焊盘(112)上形成焊球(114)。
2.如权利要求1所述的扇出型圆片级封装的制作方法,其特征在于:
所述步骤一中,圆形承载片(101)的材料为Si、玻璃、金属板或有机基板。
3.如权利要求1所述的扇出型圆片级封装的制作方法,其特征在于:
所述步骤三中,涂覆第二类感光树脂(104)的工艺包括旋涂、喷涂、滚涂、丝网印刷、狭缝涂覆、喷墨打印、滚压或真空压合。
4.如权利要求1所述的扇出型圆片级封装的制作方法,其特征在于:
所述步骤四中,具体在曝光机中通过对位曝光工艺,使第二类感光树脂(104)发生反应,使用显影液将芯片(103)正面的有效图形区域以外的第二类感光树脂(104)去除。
5.如权利要求1所述的扇出型圆片级封装的制作方法,其特征在于:
所述步骤五中,涂覆第一类感光树脂(107)的工艺包括旋涂、喷涂、滚涂、丝网印刷、狭缝涂覆、喷墨打印、滚压或真空压合。
6.如权利要求1所述的扇出型圆片级封装的制作方法,其特征在于:
所述步骤七中,通过溅射金属或化学沉铜工艺,在导通孔(108)中和第一类感光树脂(107)上沉积种子层(109)。
7.如权利要求1所述的扇出型圆片级封装的制作方法,其特征在于:
所述步骤九中,通过植球、印刷、电镀或化学镀工艺形成焊球(114)。
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Application publication date: 20140423 Assignee: Huajin semiconductor (Jiashan) Co.,Ltd. Assignor: National Center for Advanced Packaging Co.,Ltd. Contract record no.: X2021980017402 Denomination of invention: Manufacturing method of fan out wafer level package Granted publication date: 20160817 License type: Exclusive License Record date: 20220111 |