CN103650045A - 多层结构片材及其制造方法、光学信息记录介质以及通过使用该多层结构片材制造光学信息记录介质的方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种用于制造光学信息记录介质（10）的多层片材，该光学信息记录介质（10）具有包括多个记录层的多层结构。多层片材（150）至少具有一个单元结构，在该单元结构中，依次层压有压敏粘合剂层（15A）、记录层（14）、记录层支持层（15B）和记录层（14），其中所述记录层支持层（15B）的玻璃化转变温度高于所述压敏粘合剂层（15A）的玻璃化转变温度，并且在位于最外侧的压敏粘合剂层（15A）上附着有剥离片（S1）。

Description

多层结构片材及其制造方法、光学信息记录介质以及通过使用该多层结构片材制造光学信息记录介质的方法
技术领域
本发明涉及用于制造具有包括多个记录层的多层结构的光学信息记录介质的多层结构片材、多层结构片材的制造方法、具有包括多个记录层的多层结构的光学信息记录介质、以及通过使用多层结构片材来制造光学信息记录介质的方法。
背景技术
通常，作为用于制造具有包括多个记录层的多层结构的光学信息记录介质的方法，在本领域（例如，专利文献1）中已知使用具有记录层和压敏粘合剂层的层叠体的多层结构片材的方法。更具体而言，专利文献1中描述的多层结构片材具有剥离膜，该剥离膜附着在记录层和压敏粘合剂层的层叠体的各个外表面上。通过将此剥离膜从多层结构片材上剥离下来，并将片材重复叠加以使片材堆叠并粘附在基板上，则能够获得具有多层结构的光学信息记录介质。在使用多层结构片材的这类制造方法中，可通过制备大尺寸的多层结构片材来制造大面积的光学信息记录介质.。
然而，如专利文献1所述的多层结构片材被构造为具有附着于记录层上的剥离膜，因此当将该剥离膜剥离时，存在记录层中会产生裂纹的风险。鉴于此，提出了这样的多层结构片材，该多层结构片材被构造为具有不直接附着于任何记录层的剥离膜（例如，专利文献2）。更具体而言，专利文献2中所述的多层结构片材具有这样的多层结构，该多层结构包括依次布置的压敏粘合剂层、记录层以及辅助剥离层，并且剥离膜附着在各个最外层（最外层为压敏粘合剂层和辅助剥离层）上。借助于如上所述的使记录层夹在压敏粘合剂层和辅助剥离层中间的构造，可以防止在将该剥离膜剥离时记录层中会形成裂纹。
引用列表
专利文献
专利文献1：JP2005-209328A
专利文献2：JP2011-81860A
发明内容
于是，利用专利文献2中公开的多层结构片材在基板上形成多层结构提供了这样的结构：在两个相邻的记录层之间插入有压敏粘合剂层和辅助剥离层。然而，由此提供的在两个相邻的记录层之间插入两个层的结构具有三种界面，其包括：记录层和压敏粘合剂层之间的界面、压敏粘合剂层和辅助剥离层之间的界面、以及辅助剥离层和记录层之间的界面。利用这种构造，因为不希望在压敏粘合剂层和辅助剥离层之间的界面处存在折射，所以应该选择这样的压敏粘合剂层和辅助剥离层用的材料，该材料使得压敏粘合剂层和辅助剥离层之间的折射率之差最小化至零。另外，应该考虑包括用于记录层的材料在内的三种材料间的相互作用（溶解、侵蚀），因此各层所用材料的选择进一步受到限制。
在此背景下，本发明人注意到了以上方面，并在努力研究过程中完成了本发明，本发明人的研究目的是提供多层结构片材及其制造方法、以及光学信息记录介质及其制造方法，由此在使用多层结构片材以制造光学信息记录介质的过程中可防止记录层中产生裂纹，并同时可提高各层材料的选择灵活性。
在本发明的一个方面中，提供了一种用于制造光学信息记录介质的多层结构片材，所述光学信息记录介质具有包括多个记录层的多层结构。该多层结构片材包括至少一个单元结构以及附着于最外侧的压敏粘合剂层的外侧的剥离片，其中所述单元结构中依次层叠有压敏粘合剂层、记录层、记录层支持层和记录层，其中记录层支持层比压敏粘合剂层的玻璃化转变温度高。
利用这种构造，仅在其中设置了两种界面，包括压敏粘合剂层和记录层之间的界面、以及记录层和记录层支持层之间的界面；因此，与存在三种或更多种界面的其他构造相比，可为各层材料的选择提供更高的灵活性。此外，通过这种剥离膜不直接附着于任何记录层的构造，可以防止在对剥离膜进行剥离时在记录层中形成裂纹。
在如上所述的多层结构片材中，可将记录层构造为包含聚合物粘合剂、以及分散在该聚合物粘合剂中的染料。利用这种构造，可通过使与记录层连接的界面发生变形来实现记录。可将此染料构造为包含多光子吸收化合物。多光子吸收化合物的使用使得仅能够在焦点处和焦点附近处发生选择性吸收，从而使得可简单地通过调节焦点即能在特定记录层中进行记录，因此对所期望的记录层数增加是有利的。
可将上述记录层构造为包含与染料结合的聚合物。
在如上所述的多层结构片材中，记录层的厚度可为50nm以上。通过这种构造，可以使记录点变形以使其中心凸出。
在如上所述的多层结构片材中，可将多个单元结构层叠在剥离片上。
在如上所述的多层结构片材中，记录层支持层可包含能量固化型树脂。利用这种构造，在多层结构片材的制造过程中，可容易实现将其涂布至适当的厚度，并且可以快速完成其固化。一般认为，通过三维交联而获得的能量固化型树脂膜具有高耐有机溶剂性，这意味着其不溶于有机溶剂。因此，当将记录层层叠在能量固化型树脂膜上时，可采用使用有机溶剂的旋涂、刮涂或任意其他涂布方法。
上述能量固化型树脂可以优选为紫外线固化性树脂。紫外线固化性树脂是通过施加易于操作的紫外线而引起固化的材料，因此可容易地由其形成记录层支持层；因此，将其用于大面积的多层结构片材的制造是有利的。
在如上所述的多层结构片材中，可优选的是，记录层支持层和记录层之间的记录光束的折射率之差为0.05或更小。例如，可将记录光束构造为波长为405nm。利用这种构造，可使发生在记录层支持层和记录层之间的界面处的反射降至最低。
在如上所述的多层结构片材中，可优选的是，压敏粘合剂层和记录层之间的记录光束的折射率之差大于记录层支持层和记录层之间的记录光束的折射率之差。利用这种构造，可增加从压敏粘合剂层和记录层之间的界面（信息被记录于该界面上）反射的光量，从而可提高在从该界面处重新获取信息时观察到的信噪比。
在如上所述的多层结构片材中，压敏粘合剂层和记录层支持层可均由对记录光束基本没有吸收的材料构成。利用这种构造，可使记录光束容易地到达位于下层的记录层。
在如上所述的多层结构片材中，可将压敏粘合剂层和记录层支持层构造为厚度均在2微米至20微米的范围内。
在本发明的另一方面中，提供了一种光学信息记录介质，其具有包括多个记录层的多层结构。这样构造该光学信息记录介质，使得压敏粘合剂层和记录层支持层中的一者设置在两个相邻的记录层之间，其中记录层支持层的玻璃化转变温度高于压敏粘合剂层的玻璃化转变温度，其中压敏粘合剂层和记录层支持层彼此交替布置。
通过利用这种构造，使得多层结构仅包括两种界面，这两种界面包括压敏粘合剂层和记录层之间的界面、以及记录层和记录层支持层之间的界面；因此，与存在三种或更多种界面的其他构造相比，可为各层材料的选择提供更高的灵活性。
可这样构造如上所述的光学信息记录介质，使得可通过记录光束的照射引发记录层和压敏粘合剂层之间的界面发生变形，由此可记录信息。
如上所述的多层结构片材可通过包括下面步骤的方法来制造。更具体而言，作为本发明一个方面的制造多层结构片材的方法包括：第一步，在第一剥离片上形成压敏粘合剂层，从而获得第一片材；第二步，在第二剥离片上形成记录层支持层；第三步，在记录层支持层上形成记录层，从而获得第二片材；第四步，通过将压敏粘合剂层和记录层层压在一起从而将第二片材堆叠在第一片材上，从而获得第三片材；第五步，从第三片材上除去第二剥离片，以使记录层支持层露出；以及第六步，在第五步中露出的记录层支持层上形成记录层，从而获得第四片材。
通过利用该多层结构片材制造方法，在制造过程中形成的各层间界面只有两种，这两种界面包括压敏粘合剂层和记录层之间的界面、以及记录层和记录层支持层之间的界面；因此，与存在三种或更多种界面的其他构造相比，可为各层材料的选择提供更高的灵活性。此外，通过利用这种不包括从记录层上除去剥离片的步骤的构造，可防止记录层中形成裂纹。
上述多层结构片材的制造方法可包括：第七步，从多个第四片材中的至少一个片材上除去第一剥离片，从而获得一个或多个压敏粘合剂层露出的第五片材，其中所述多个第四片材是通过重复进行第一步至第六步而获得的；以及第八步，将一个或多个第五片材堆叠并粘附在作为最外层的另一个第四片材的记录层上。
利用上述多层结构片材制造具有包括多个记录层的多层结构的光学信息记录介质的方法包括：预备步骤，其中提供了多个多层结构片材；剥离步骤，其中将剥离片从多个多层结构片材中除去，以获得压敏粘合剂层暴出的第一多层结构片材；粘附步骤，其中通过将第一多层结构片材中暴出的压敏粘合剂层层压至基板上，从而将一个第一多层结构片材粘附在基板上；以及第一层压步骤，其中通过将另一个第一多层结构片材层压于已粘附至基板上的第一多层结构片材上，从而将另一个第一多层结构片材叠置于已粘附至基板的第一多层结构片材上。
利用这种制造光学信息记录介质的方法，在制造过程中形成的各层间界面仅有两种，其包括压敏粘合剂层和记录层之间的界面、以及记录层和记录层支持层之间的界面；因此，与存在三种或更多种界面的其他构造相比，可为各层材料的选择提供更高的灵活性。
利用上述多层结构片材制造具有包括多个记录层的多层结构的光学信息记录介质的方法包括：预备步骤，其中提供包括第二多层结构片材在内的多个多层结构片材；剥离步骤，其中将除第二多层结构片材以外的其他多个多层结构片材中的至少一个多层结构片材的剥离片除去，从而获得至少一个具有露出的压敏粘合剂层的第三多层结构片材；第二层压步骤，通过将至少一个第三多层结构片材中露出的压敏粘合剂层层压于第二多层结构片材或至少一个第三多层结构片材的最外记录层上，从而将至少一个第三多层结构片材叠置于第二多层结构片材上；以及粘附步骤，其中通过将其上层压有所述至少一个第三多层结构片材的第二多层结构片材的剥离片除去，并将通过除去剥离片而露出的压敏粘合剂层层压在基板上，从而将其上已叠置有所述至少一个第三多层结构片材的第二多层结构片材粘附在基板上。
通过利用这种制造光学信息记录介质的方法，在制造过程中形成的各层间界面仅有两种，其包括压敏粘合剂层和记录层之间的界面、以及记录层和记录层支持层之间的界面；因此，与存在三种或更多种界面的其他构造相比，可为各层所用材料的选择提供更高的灵活性。
根据本发明的一个或多个实施方案，可以重点考虑压敏粘合剂层和记录层之间的界面、以及记录层和记录层支持层之间的界面；因此，可为这些层的材料的选择提供更高的灵活性。
通过参照附图对其说明性、非限定性的实施方案进行详细说明，本发明的上述方面和有益效果、以及其他有益效果和更多特征将变得更显而易见。
附图简要说明
图1为多层光学信息记录介质的截面图。
图2为示出在记录信息时形成的记录点的图。
图3为说明读取信息的过程的图。
图4为说明在记录层中形成凹状的过程的图。
图5为多层结构片材的截面图。
图6为说明多层结构片材的制造方法的图。
图7为说明使用多层结构片材的多层光学信息记录介质的制造方法的图。
图8为说明在多层光学信息记录介质的制造方法的另一例子中的预备步骤、剥离步骤以及第二层压步骤的图。
图9为说明在多层光学信息记录介质的制造方法的另一例子中的粘附步骤的图。
图10为说明根据改进实施例的多层结构片材的制造方法的图。
图11为说明使用根据改进实施例的多层结构片材的多层光学信息记录介质的制造方法的图。
图12为通过原子力显微镜观察到的记录点的图像。
图13为通过激光显微镜观察到的记录点的图像。
具体实施方式
下面将参照附图对本发明的一个实施方案进行描述。
如图1所示，光学信息记录介质10包括基板11、多个记录层14、多个中间层15（压敏粘合剂层15A和记录层支持层15B）和覆盖层16。为便于描述本实施方案，将记录层14与压敏粘合剂层15A之间的界面称为反射界面18A，并将记录层14与记录层支持层15B之间的界面称为非反射界面18B。
<基板>
基板11包括支持板12和伺服信号层13。
所述支持板12是用于支持记录层14和其他层的支持部件，并且（例如）由聚碳酸酯圆盘制成。对于支持板12的材料和厚度没有特别的限制。
伺服信号层13是由粘性或粘接性的树脂材料制成的层，以将记录层14和中间层15的多层结构保持在支持板12上，并且伺服信号层13的支持板12侧的表面具有预先记录为形状不规则或折射率存在变化的伺服信号。此处，伺服信号为预设信号，使得在记录和读取过程中，记录和读取装置能够将其识别为焦点控制的基准面。为了聚焦于特定的记录层14，通过考虑从基准面测得的距离和/或从基准面算起的界面数目从而进行聚焦控制。另外，可优选提供磁道跟踪伺服信号或槽，以使得在记录和读取的过程中能够利用激光束精确地照射以圆周方式布置的记录点轨迹。可以理解的是，伺服信号层13的有无是可任选的。
<记录层>
记录层14是由能够进行信息的光学记录的感光材料制成的层；在该实施方案中，记录层14含有聚合物粘合剂以及分散在该聚合物粘合剂中的染料。当用记录光束照射记录层14时，染料吸收记录光束并产生热，这导致聚合物粘合剂发生变形，由此使反射界面18A呈向压敏粘合剂层15A突出的凸起形状（protrusive shape），从而记录信息。更具体而言，如将在后面所描述的，以记录层14为基准，中心的形状类似凸部并且其周围区域的形状类似凹部，使得凸起形状从记录层14向压敏粘合剂层15A突出，并且凹部由压敏粘合剂层15A陷入记录层14。
为此，记录层14比含有聚合物粘合剂和染料的常规记录层更厚；单层记录层14的厚度在50nm至5μm的范围内，优选在100nm至3μm的范围内，更优选在200nm至2μm的范围内。如果厚度小于50nm，如同后述的利用记录层变形的常规记录方法那样，记录层14与中间层15之间的界面（在该实施方案中，相当于反射界面18A或非反射界面18B）发生变形，使得以记录层14为基准在所述界面中形成凹陷形状。相反，如果提供不小于50nm的厚度，则所述界面发生变形，使得记录点的中央变成凸部。虽然记录层14的厚度没有上限，但为了尽可能多地增加记录层14的数量，优选其厚度不大于5μm。在本文所述的实施方案中，将用作例子的记录层14的厚度设定为1μm。
所设置的记录层14的数量可在大约2层至100层的范围内。为了增加光学信息记录介质10的存储容量，记录层14的数量越多越好；例如优选设置十层或更多层。此外，记录层14的折射率在记录前后可以改变，但是为了保持非反射界面18B在记录前后的非反射性质，优选折射率不变。
记录层14的记录光束吸收率（单光子吸收率）优选等于或小于5%（每层）。此外，该吸收率更优选等于或小于2%，并且还更优选等于或小于1%。这是因为，（例如）如果达到最深记录层14的记录光束的强度必须为照射的记录光束强度的50%以上，那么为了获得30层记录层，则需要每一层记录层的吸收率为2%以下，而为了获得50层记录层，则需要每一层记录层的吸收率为1%以下。如果吸收率较高，则记录层14易于过热，从而反射界面18A中凸起形状的形成变得困难。
用于记录层14的聚合物粘合剂的例子可包括聚醋酸乙烯酯（PVAc）、聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）、聚甲基丙烯酸乙酯、聚甲基丙烯酸丁酯、聚甲基丙烯酸苄酯、聚甲基丙烯酸异丁酯、聚甲基丙烯酸环己酯、聚碳酸酯（PC）、聚苯乙烯（PS）、聚氯乙烯（PVC）和聚乙烯醇（PVA）、聚苯甲酸乙烯酯、聚新戊酸乙烯酯、聚丙烯酸乙酯、聚丙烯酸丁酯等。
用于记录层14的记录光束吸收染料的例子可以包括常规被用作可热变形热模式型(thermally deformable heat mode type)记录材料的染料（单光子吸收染料）。例如，可使用酞菁类化合物、偶氮化合物、偶氮金属络合物和次甲基染料（例如菁类化合物、类菁（oxonol）类化合物、苯乙烯基染料和份菁染料）。另外，对于具有多个记录层的记录介质中的记录光束吸收染料，为了在记录/读取过程中将对相邻记录层的不利影响降至最低，优选的是含有多光子吸收染料的那些染料。作为多光子吸收染料的例子，优选的是在读取光束的波长范围内没有线性吸收的双光子吸收化合物。
只要双光子吸收化合物读取光束的波长范围内没有线性吸收，就可以无限制地使用任何已知的双光子吸收化合物；例如，可使用具有由如下通式（1）表示的结构的化合物。
[化学式1]
通式（1）
Figure BDA0000456096360000091
在通式（1）中，X和Y各自表示Hammett对位取代基常数值（Hammett's sigma-para-value）（σp值）为0以上的取代基，X和Y可彼此相同或不同；n表示1至4的整数；R表示取代基，并且多个R可彼此相同或不同；并且m表示0至4的整数。
在通式（1）中，X和Y各自表示哈米特方程（Hammett equation）中的σp值取正值的基团，即，所谓的吸电子基团，优选为（例如）三氟甲基、杂环基、卤原子、氰基、硝基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、氨磺酰基、氨基甲酰基、酰基、酰氧基、烷氧羰基等，更优选为三氟甲基、氰基、酰基、酰氧基和烷氧羰基，并且最优选为氰基和苯甲酰基。在这些取代基中，为了各种目的（包括赋予在溶剂中的溶解性），烷基磺酰基、芳基磺酰基、氨磺酰基、氨基甲酰基、酰基、酰氧基和烷氧羰基可以进一步含有取代基。这些取代基的例子包括烷基、烷氧基、烷氧基烷基、芳氧基等。
n表示1以上4以下的整数，优选为2或3，并且最优选为2。如果n为5以上，则认为n越大，那么出现在长波侧的线性吸收越多，从而使得利用波长范围小于700nm的记录光束无法完成非共振双光子吸收记录。
R表示取代基。对于该取代基没有特别的限制，作为具体例子，可以列举烷基、烷氧基、烷氧基烷基和芳氧基。m表示0以上4以下的整数。
具有由通式（1）表示的结构的化合物不限定于具体的例子；可使用由以下化学结构式D-1至D-21所表示的化合物。
[化学式2]
Figure BDA0000456096360000111
<中间层>
中间层15设置在记录层14之间。换言之，中间层15（压敏粘合剂层15A和记录层支持层15B）和记录层14交替布置。为了防止多个记录层14之间的串扰（即，来自于一个记录层14的信号与来自于相邻的记录层14的另一个信号混合的现象），设置各中间层15以在相邻的记录层14之间形成预定量的空间。为此，中间层15（压敏粘合剂层15A和记录层支持层15B）的厚度等于或大于3μm。中间层15优选为越薄越好，只要能够防止层间的串扰即可；在本实施方案中，例如，压敏粘合剂层15A和记录层支持层15B的厚度均为10μm。换言之，本实施方案中的压敏粘合剂层15A和记录层支持层15B具有相同的厚度。由此形成的具有相同厚度的压敏粘合剂层15A和记录层支持层15B使得反射界面18A之间设置的节距（pitch）不恒定，即12μm、10μm、12μm、10μm…。因此，可以降低在读取过程中发生的读回光束（read-back beam）（从目标反射界面18A反射的光束）和反射光束（从与目标反射界面18A相邻的反射界面18A反射的读取光束）之间的干涉的影响。
在两个相邻的记录层14之间设置压敏粘合剂层15A和记录层支持层15B中的一者。将压敏粘合剂层15A和记录层支持层15B交替布置，并在它们之间插入一层记录层14。即，如图1所示，从基板11侧开始，依次设置由压敏粘合剂层15A、记录层14、记录层支持层15B和记录层14组成的层组，并将该层组反复设置。
压敏粘合剂层15A和记录层支持层15B由这样的材料制成：该材料对于在记录和读回操作中所施加的激光束照射不发生反应。另外，为了使记录光束、读取光束和读回光束的损失降至最低，优选压敏粘合剂层15A和记录层支持层15B由对记录光束、读取光束和读回光束基本没有吸收（即，透明）的材料制成。此处，术语“透明”表示其吸收率等于或小于1%。
需要理解的是，压敏粘合剂层15A和记录层支持层15B都是具有基本均一分布的折射率的层。
压敏粘合剂层15A和记录层支持层15B具有彼此不同的折射率。记录层支持层15的折射率与记录层14的折射率基本相同。更具体而言，记录层14和记录层支持层15B具有相当的折射率，以满足下式：
((n3-n1)/(n3+n1))2≤0.0003
其中，n1表示记录层14的折射率，并且n3表示记录层支持层15B的折射率；即，非反射界面18B的反射率不超过0.0003（0.03%）。
为了防止在记录层14和记录层支持层15B之间的界面处发生反射，优选记录层14和记录层支持层15B的折射率尽可能地接近；记录层14和记录层支持层15B之间的折射率之差优选为等于或低于0.05，更优选为等于或低于0.03，进一步优选为等于或低于0.01，并且最优选为0。作为一个例子，记录层14的折射率n1为1.565，并且记录层支持层15B的折射率n3为1.564。在该例子中，((n3-n1)/(n3+n1))2基本为零。
另一方面，压敏粘合剂层15A与记录层14具有不同的折射率。更具体而言，压敏粘合剂层15A和记录层14之间的折射率之差优选地大于记录层14和记录层支持层15B之间的折射率之差，并且不大于0.11。更具体而言，记录层14和压敏粘合剂层15A的折射率优选具有一定程度上的不同，以满足下式：
0.0005≤((n2-n1)/(n2+n1))2≤0.04
其中，n2表示压敏粘合剂层15A的折射率。
如果反射率等于或大于0.0005，则源自反射界面18A处反射的读取光束的反射光的量较大，使得在读取信息过程中获得高的信噪比。如果在反射界面18A处的反射率等于或小于0.04，则源自反射界面18A处反射的读取光束的反射光的量被限定至中等程度，使得在记录和读回过程中记录/读回光束可以在没有大量衰减的情况下到达更深的记录层14。这使得有可能通过设置大量的记录层14来增大存储容量。
作为例子，记录层14的折射率n1为1.565，并且压敏粘合剂层15A的折射率n2为1.477。在这种情况下，((n2-n1)/(n2+n1))2为0.0008（0.08%）。
在该实施方案中，压敏粘合剂层15A具有粘接性（通过此粘接性可将其粘附至另一表面），并且比记录层14更软。更具体而言，例如，压敏粘合剂层15A的玻璃化转变温度低于记录层14的玻璃化转变温度。可以通过适当选择可用作记录层14的材料的聚合物粘合剂（树脂）和可用作压敏粘合剂层15A的材料的树脂而获得这些构造。
根据上述的压敏粘合剂层15A比记录层14更软的构造，通过由记录光束加热引起的记录层14的热膨胀可使压敏粘合剂层15A易于变形，从而使得更易于引起反射界面18A的变形。
如果将用于记录层14的材料涂布于压敏粘合剂层15A上，以在压敏粘合剂层15A上设置记录层14，那么根据压敏粘合剂层15A所用的材料的性质，压敏粘合剂层15A会受到记录层14所用的材料的影响。鉴于此，记录层支持层15B由不被记录层14所用材料影响的材料形成，从而可在记录层支持层15B上形成记录层14。用于记录层支持层15B的材料优选地选自耐溶剂的材料，例如具有高交联度的材料。
与压敏粘合剂层15A的材料相比，用于记录层支持层15B的材料可优选为具有较高硬度（即，较高玻璃化转变温度）的热塑性或能量固化型树脂。在使用能量固化型树脂的情况下，因为该材料可以涂布至适当的厚度并且可以迅速固化，因此能够容易地进行后述的多层结构片材的制造。此外，在使用能量固化型树脂的情况下，优选采用紫外线固化性树脂。通过采用这种记录层支持层15B由紫外线固化性树脂形成的构造，通过施加易于操作的紫外线就能够容易地使记录层支持层15B固化；因此，此结构对大面积多层结构片材的制造是有利的。
在该实施方案中，记录层支持层15B的硬度可以等于或高于记录层14的硬度。更具体而言，（例如）可以这样形成记录层支持层15B，使得其玻璃化转变温度等于或高于记录层14的玻璃化转变温度。通过适当选择可用作记录层14的材料的树脂和可用作记录层支持层15B的材料的树脂，就能够实现这种构造。
为了使记录层14的折射率n1与记录层支持层15B的折射率n3之间的差更小并优选为0，可调节用于记录层14的材料以及用于记录层支持层15B的材料的组成。更具体而言，因为记录层14的材料是通过在聚合物粘合剂中混合诸如双光子吸收化合物之类的染料而制得的，所以可以通过适当选择具有适当的反射率的染料或聚合物粘合剂、并改变它们各自的组成比，就能根据需要来调节记录层14的折射率n1。即使它们具有相似的基本组成，聚合物粘合剂的折射率也会随聚合度而变化。因此，可通过使用具有不同聚合度的聚合物粘合剂或者通过调整聚合物粘合剂的聚合度来调整折射率n1。此外，可通过混合不同种类的聚合物粘合剂来调整折射率n1。此外，还可以添加折射率匹配材料（无机微粒等）来调节折射率n1。
为了调整记录层支持层15B的折射率n3，可以调整聚合物材料（如可用作记录层支持层15B的材料的树脂）的聚合度。另外，可以选择性地添加可用作中间层15的材料以调节折射率n3，或者可以添加折射率匹配材料（无机微粒等）来进行调节。
<覆盖层>
覆盖层16是为了保护记录层14和中间层15（压敏粘合剂层15A和记录层支持层15B）而设置的层。覆盖层16由允许记录/读回光束穿过覆盖层16的材料制成。覆盖层16具有从数十微米至数毫米范围内的适当厚度。
<信息的记录和读回>
以下将对在上述光学信息记录介质10上记录和读取信息的方法予以说明。
为了在所期望的记录层14中记录信息，如图1所示，用激光束（记录光束RB）照射记录层14，已根据待记录的信息对该激光束的输出进行了调制。例如该激光束的波长为405nm。如果记录层14含有多光子吸收化合物作为记录染料，则优选用于该记录的激光束可以为峰值功率能够增大的脉冲激光束。虽然记录光束RB的焦点位置不限于特定的位置，但是记录光束RB可以聚焦于反射界面18A或其附近。优选首先调节焦点位置聚焦到反射界面18A上，然后使焦点位置稍向记录层14偏移。
当施加记录光束RB时，施加记录光束RB的区域的中央呈凸起形状并形成记录点M，其中该凸起形状由记录层14向压敏粘合剂层15A凸出。更具体而言，如图2所示，该记录点M包括形成为凸部M1的中心部分、以及围绕该凸部M1并向记录层14凹陷的环形凹部M2。从反射界面18A（发生变形之前的反射界面18A）至凹部M2的最深部分的距离小于从反射界面18A（发生变形之前的反射界面18A）到凸部M1的顶点的距离。换言之，当关注记录层14时，可以认为记录点M整体上呈大致凸起的形状。虽然具有呈凸起形状的中心部分的记录点M的形成原理并不完全清楚，然而从至今已知的记录方法中的凹部形成原理（其中，在记录光束施加区域的中央呈凹陷状，该原理的解释也基于设想）进行类推，可以做出如下所述的假设。
首先，参照1987年8月1日的J.Appl.Phys.62(3)概括的常规记录方法的综述：当向记录材料施加记录光束RB时，会引起记录材料的温度升高并且该记录材料（记录层14）会发生如图4(a)（斜线区域表示加热区域）所示的膨胀；然后，如图4(b)所示，已经膨胀的部分在表面张力下流出至周围区域；然后，如图4(c)所示，随着温度降低，已经膨胀的记录材料收缩，并且已经流出至周围区域的部分留在了高于基准面（记录层14的上表面）的位置从而形成了凸起，而因为该材料的流出使得中心部分低于基准面并形成了凹部。
相反，如图4(a)所示，在根据本实施方案而构造的光学信息记录介质10中，当向记录材料施加记录光束RB时，与常规方法相似，其记录层发生热膨胀，并且该记录层14凸出。然而，在本实施方案中，因为记录层14相对较厚或者其他原因，靠近记录层14表面的部分的粘度不会降低至常规记录方法中的水平，因此没有发生如图4(b)所示的流出。因此，当已经膨胀的部分随着温度的降低而收缩时，该部分从图4(a)显示的形状变形为图2中显示的形状，使得凸部M1留在中心处，而在该凸部M1周围形成凹部M2。
可通过连续波激光器产生的读取光束OB的照射来检测如上所述形成的记录点M，这是因为观察到在反射界面18A的记录点M周围部分的反射光与记录点M处的反射光之间的光强度差异（这种光强度差异是由于记录层14的折射率n1与压敏粘合剂层15A的折射率n2之间的差异所致），使得所观察到的光强度的调制可以检测到记录点M。为了能够进行这种光学检测，认为优选的是，在发生变形之前凸部M1凸入界面（反射界面18A）的位置在约1nm至300nm的范围内。
应该理解的是，取决于记录条件，在光学信息记录介质10中形成的记录点可（视具体情况而定）只具有凸起形状,而没有围绕该凸起形状形成的凹陷形状。
在本实施方案中，记录点M具有围绕凸部M1形成的凹部M2，因此当将用于检测记录点M的读取光束OB施加于该记录点M时，可预期到从记录点M反射的光的强度分布会根据距离该凸部M1的距离而急剧变化（比只形成凸部M1的情况更加急剧），其结果是可以获得更高调制度的读回信号（read-back signal）。
不应将本发明理解为仅限定于这种通过引起记录层14变形为凸起形状而记录信息的方法，而应该理解为包括已提出的通过变形为凹陷形状来记录信息的常规方法。还应理解的是，如图1所示的非反射界面18B也可以在光学信息记录介质10的记录过程中进行变形；然而，这种变形不会影响读取，因为在非反射界面18B处不会发生读取光束OB的反射。
为了清除记录于记录层14中的信息，将记录层14加热至聚合物粘合剂的玻璃化转变温度附近的温度，优选加热至高于玻璃化转变温度的温度，以使得聚合物粘合剂的流动性增加，并且由于表面张力使得反射界面18A中的变形消失，从而恢复其初始平面形状；因此，可以清除记录于记录层14中的信息。因为信息是可清除的，所以可在记录层14中进行再记录（重复记录）。当为此目的加热记录层14时，可以用连续波激光束照射记录层14，并同时使该激光束聚焦于记录层14。通过连续波激光束加热，可完全清除记录于记录层14内的连续区域中的信息而没有遗漏。所使用的连续波激光器可以是用于读回信息的激光器，另外，可以使用其他激光器。在这两种情况中，优选使用所发射的光的波长可被单光子吸收染料吸收的激光器。
另外，当将要通过加热记录层14来清除信息时，可将整个光学信息记录介质10加热至高于聚合物粘合剂的玻璃化转变温度的温度，从而能够一次清除记录于所有记录层14中的信息。用这种方法，不论记录层14中所含染料的种类如何，记录于光学信息记录介质10中的所有信息均易于被清除以进行初始化。另外，当丢弃光学信息记录介质10时，也易于清除信息。
如上所述，利用根据本实施方案的光学信息记录介质10，当通过使用后面描述的多层结构片材来进行制造时，在其中只设置了两种界面，该界面包括压敏粘合剂层15A和记录层14之间的界面（反射界面18A）、以及记录层14和记录层支持层15B之间的界面（非反射界面18B），因此，与设置有三种或更多种界面的其他构造相比，可为各层所用材料的选择提供更高的灵活性。
虽然已经如上描述了根据本实施方案的光学信息记录介质10，但是可以通过适当变型的形式实施该光学信息记录介质，而非限定于上述的实施方案。例如，在上述实施方案中，将记录层14的厚度限定为50nm或更大，但是其厚度小于50nm也可以。此外，上述实施方案中列举的是可以使用单光子吸收染料和多光子吸收染料这二者，但是也可在其中仅选用特定的单光子吸收染料或多光子（例如，双光子）吸收染料。
在上述实施方案中，将记录层14构造为包含聚合物粘合剂以及分散在该聚合物粘合剂中的染料，但本发明并不限定于这种构造；可将记录层构造为包含结合有染料的聚合物。
更具体而言，该记录层14可包含具有由下面通式（2）表示的结构的聚合物。
[化学式3]
通式（2）
Figure BDA0000456096360000191
在通式（2）中，Y表示Hammett对位取代基常数值（σp值）为0以上的取代基，X也表示相同种类的取代基。X和Y可彼此相同或不同。n表示1至4的整数；R1、R2、R3表示取代基，并且可以彼此相同或不同；l表示不小于1的整数；并且m表示0至4的整数。
可使用图5所示的多层结构片材150来制造上述构造的光学信息记录介质10。
<多层结构片材>
多层结构片材150包括第一剥离片（剥离片）S1、压敏粘合剂层15A、记录层14以及记录层支持层15B。更具体而言，在其上施加有防粘剂的第一剥离片S1的表面上设置有多层结构片材150，在该多层结构片材150中，依次堆叠有压敏粘合剂层15A、记录层14、记录层支持层15B以及记录层14。换言之，所述多层结构片材150包括这样构造的单元结构：其中压敏粘合剂层15A、记录层14、记录层支持层15B以及记录层14依次堆叠，并且在置于最外侧的压敏粘合剂层15A的外表面上附着有剥离片（第一剥离片S1）。
如上所述，在根据本实施方案的多层结构片材150中，仅设置了两种界面，这两种界面包括压敏粘合剂层15A和记录层14之间的界面、以及记录层14和记录层支持层15B之间的界面；因此，与设置有三种或更多种界面的其他构造相比，可为各层所用材料的选择提供更高的灵活性。
此外，因为根据本实施方案的多层结构片材150被构造为使得剥离膜不直接附着于任何记录层14上，因此当将该剥离膜剥离时可以防止记录层中形成裂纹。
<多层结构片材的制造方法>
可通过下面的方法来制造如上构造的多层结构片材150。
首先，如图6（a）所示，在涂布有防粘剂的第一剥离片S1的表面上形成压敏粘合剂层15A，以获得第一片材110（第一步）。另一方面，在涂布有防粘剂的第二剥离片S2的表面上形成记录层支持层15B，其中第二剥离片S2与第一剥离片S1是分别制备的（第二步），然后在所述记录层支持层15B上形成记录层14，从而形成第二片材120（第三步）。本文使用的涂布于该第二剥离片S2的防粘剂具有更高等级的剥离性能，使得剥离该第二剥离片S2所需的力弱于剥离第一剥离片S1所需的力。应该理解的是，第一、第二和第三步骤可以以任意顺序进行。
对形成各层的方法的选择没有限制；例如，可采用刮刀涂布、辊涂、棒涂、刮板涂布、口模涂布（die coating）、凹版涂布以及其他涂布方法。
下面，将第一片材110的压敏粘合剂层15A与第二片材120的记录层14层压在一起，从而将第二片材120叠置于第一片材110上，以获得如图6（b）所示的第三片材130（第四步）。利用这些工艺步骤，记录层14不会直接附着于第一剥离片S1或第二剥离片S2，而是被夹在压敏粘合剂层15A和记录层支持层15B之间；因此，当将第一剥离片S1和第二剥离片S2剥离时，可防止记录层14中形成裂纹。
然后，如图6（c）所示，从第三片材130上除去第二剥离片S2，以使记录层支持层15B露出（第五步）。如上所述，因为第二剥离片S2比第一剥离片S1更容易剥离，所以在第五步中第一剥离片S1不会剥离，并且只有第二剥离片S2可被移除。
下面，如图5所示，在第五步中露出的记录层支持层15B上形成记录层14，以获得多层结构片材（第四片材）150（第六步）。形成记录层14的方法可以与第三步中形成各层的方法相同，或者是任意其他方法。
将如上所述获得的多层结构片材150卷起成辊并储存，当使用时仅从中取出所需的长度。当将多层结构片材150卷起时，布置在其顶部的最上层记录层14与第一剥离片S1接触。然而，因为第一剥离片S1从来不会粘附干燥的记录层14上（第一剥离片S1不会粘附至记录层14而是仅与之接触），因此当取出多层结构片材150时，记录层14中不会产生裂纹。
通过上述本实施方案的多层结构片材150的制造方法，制造过程最终仅提供了两种界面，这两种界面包括压敏粘合剂层15A和记录层14之间的界面、以及记录层14和记录层支持层15B之间的界面，因此，与设置有三种或更多种界面的其他构造相比，可为各层所用材料的选择提供更高的灵活性。
<光学信息记录介质的制造方法>
下面将描述通过使用多层结构片材150来制造本实施方案的光学信息记录介质的两种制造方法。第一种方法是将多层结构片材150依次层压在基板11上的方法。
更具体而言，将卷成辊的图7（a）所示的多层结构片材150取出，并冲压成基板11的形状，从而获得多个多层结构片材150（预备步骤）。如图7（b）所示，将多个冲压后的多层结构片材150中的一个片材的第一剥离片S1除去，以获得具有露出的压敏粘合剂层15A的第一多层结构片材210（剥离步骤）。
下面，如图7（c）所示，将该第一多层结构片材210的露出的压敏粘合剂层15A粘附至基板11，由此将该第一多层结构片材210堆叠在基板11上（粘附步骤）。以这种方式，如图7（d）所示在基板11上形成一个单元结构。
下面，如图7（e）所示，将另一个第一多层结构片材210的压敏粘合剂层15A粘附至已粘附在基板11上的第一多层结构片材210的最上层记录层14上，由此将另一个第一多层结构片材210堆叠在已粘附在基板11上的第一多层结构片材210上（第一层压步骤）。以这种方式，如图7（f）所示形成了基板11上堆叠有两个单元结构的结构。接着，重复进行将另外的第一多层结构片材210堆叠在设置于基板11上的最上层记录层14上的步骤。
最后，在最上层记录层14上形成覆盖层16，从而可制造如图1所示的具有包括多个记录层14的多层结构的光学信息记录介质10。
下面，将描述光学信息记录介质10的制造方法的另一个例子。该作为替代的制造方法为：将预先设置的结构（多层结构片材）粘附至基板11，其中在该预先设置的结构中，多个多层结构片材150相互堆叠于其他的多层结构片材150上。
更具体而言，首先制备多个多层结构片材150（图5中所示的第四片材）（预备步骤），并选择其中一个作为第二多层结构片材150A（见图8（b））。
如图8（a）所示，将多个多层结构片材150中除第二多层结构片材150A以外的其他多层结构片材150中的第一剥离片S1除去，以获得第三多层结构片材（第五片材）211，该第三多层结构片材211具有露出的压敏粘合剂层15A（剥离步骤（第七步））。
下面，如图8（b）所示，将第三多层结构片材211的露出的压敏粘合剂层15A粘附至第二多层结构片材150A的最上层记录层14上，由此将该第三多层结构片材211堆叠在第二多层结构片材150A上（第二层压步骤（第八步））。以这种方式，获得了如图8（c）所示的在第一剥离片S1上堆叠有两个单元结构的结构。
然后，如图8（d）所示，将另一个第三多层结构片材211的露出的压敏粘合剂层15A粘附至在第二层压步骤中已粘附至第二多层结构片材150A的第三多层结构片材211中的最上层记录层14上，由此将另一个第三多层结构片材211堆叠在已粘附至第二多层结构片材150A上的第三多层结构片材211上。以这种方式，堆叠了两个第三多层结构片材211并将其粘附至第二多层结构片材150A，并且获得了如图9（a）所示的第四多层结构片材220（多层结构片材），该第四多层结构片材220具有单元结构重复堆叠于第一剥离片S1上的结构。应该理解的是，该第四多层结构片材220可具有粘附有三个以上的第三多层结构片材的结构，这种结构可通过将剥离步骤和第二层压步骤重复两次或更多次而获得。
在粘附步骤（后面将描述）之前制备第四多层结构片材220，并将其卷成辊以储存。使用时，将卷成辊的第四多层结构片材220取出并冲压成基板11的形状。
下面，如图9（b）所示，将冲压成基板11的形状的第四多层结构片材220中的第一剥离片S1除去。如图9（c）所示，将通过除去剥离片S1而露出的压敏粘合剂层15A粘附至基板11，从而将第四多层结构片材220堆叠在基板11上（粘附步骤）。以这种方式，形成了如图9（d）所示的单元结构重复堆叠在基板11上的结构。
最后，在最上层记录层上形成覆盖层16，由此可制造如图1所示的光学信息记录介质10，该光学信息记录介质10具有包括多个记录层14的多层结构。
通过根据如上所述的本实施方案的光学信息记录介质10的制造方法，在制造过程中形成的各层间界面只有两种，这两种界面包括压敏粘合剂层15A和记录层14之间的界面、以及记录层14和记录层支持层15B之间的界面；因此，与存在三种或更多种界面的其他构造相比，可为各层材料的选择提供更高的灵活性。
此外，因为将根据本实施方案的光学信息记录介质10的制造方法构造为使用多层结构片材150，因此与通过采用旋涂法的光学信息记录介质10的制造方法相比，可以更容易地制造大面积的光学信息记录介质10，并且生产率更高。
在上述实施方案中，将多层结构片材150构造为记录层14设置为最上层（最外层），但本发明并不限于此构造。例如，多层结构片材的最上层可以是附着有剥离片的压敏粘合剂层15A。更具体而言，如图10（a）所示，可以通过将设置于上述实施方案中多层结构片材150的最上层的记录层14与在图6（a）的第一步中所制造的第一片材110的压敏粘合剂层15A层压在一起，从而获得具有一个单元结构的多层结构片材180。应该理解的是，在此改进的实施例中压敏粘合剂层15A的厚度优选为记录层支持层15B的厚度的一半。利用这种压敏粘合剂层15A的厚度为记录层支持层15B的厚度的一半的构造，层压在一起的压敏粘合剂层15（后面将描述）的厚度将与记录层支持层15B的厚度相同。
下面，将描述通过使用这种多层结构片材180来制造光学信息记录介质10的方法。
首先，如图11（a）所示，将多层结构片材180的其中一个第一剥离片S1除去，以获得具有露出的压敏粘合剂层15A的第五多层结构片材240。
然后，如图11（b）所示，将第五多层结构片材240中露出的压敏粘合剂层15A粘附至基板11，由此将第五多层结构片材240堆叠至基板11。以这种方式，如图11（c）所示，形成了在基板11上设置有单元结构的结构。
然后，如图11（d）所示，将粘附在基板11上的第五多层结构片材240中的第一剥离片S1除去，以露出布置于最上层的压敏粘合剂层15A。
接着，如图11（e）所示，将基板11上露出的压敏粘合剂层15A与第五多层结构片材240中露出的压敏粘合剂层15A层压在一起。以这种方式，在基板11上形成了具有两个单元结构的结构。随后，以相同的方式，在其上堆叠第五多层结构片材240，最后将第一剥离片S1除去，并在其上设置覆盖层16。以这种方式，可制造如图1所示的光学信息记录介质10。
实施例
<实验1>
下面，将对实验进行说明，经实验证实，可通过使记录层变形为凸起形状来实现光学信息记录介质的记录。然而应该理解的是，正如上述，本发明并不一定要求记录层呈凸起形状。
1.记录材料
[实施例1]
实施例1中所用的记录材料包含聚合物粘合剂以及分散在该聚合物粘合剂中的染料。
（1）聚合物粘合剂
将聚甲基丙烯酸甲酯（由SIGMA-ALDRICH公司制造）用作聚合物粘合剂。
（2）染料
将下面的双光子吸收染料用作染料。
[化学式4]
Figure BDA0000456096360000251
2.记录层的形成方法
将染料和聚合物粘合剂进行搅拌并溶解于溶剂（甲乙酮；MEK）中以制备涂布液，将该涂布液通过旋涂涂布在玻璃基板上，以在其上形成膜。该膜的厚度为1μm。该玻璃基板的折射率为1.53。
该涂布液的组成如下：
溶剂：7g
染料：72mg
聚合物粘合剂：500mg
3.实验方法以及记录的评价
将峰值功率为20W（平均功率为1.5mW）的记录光束（脉冲激光：波长为405nm、重复频率为76MHz、且脉冲宽度为2psec）施加于记录层。在记录层中调整记录光束的焦点位置之后，将该记录光束的功率固定，将记录时间（照射时间）在1μs至100μs的范围内进行改变，以进行记录。
用原子力显微镜（AFM）以及激光显微镜观察所得到的记录点。观察条件如下：
装置：纳米搜索显微镜OLS-3500（Nano Search MicroscopeOLS-3500，由Olympus公司制造）
AFM测量
观察条件：
动态模式（dynamic mode）、扫描范围为20μm、扫描速度为0.5Hz
使用了高纵横比探针AR5-NCHR-20（由Nano World AG公司制造）。
激光显微镜测量
观察条件：
物镜x100、共聚焦观察（Confocal observation）
4.结果
用AFM测量了记录点的形状，并将以三维方式表示的结果示于图12中，然后用激光显微镜观察该记录点，并将所获得的图像示于图13中。如图12所示，各记录点呈凸起形状。在图12中，记录时间显示为自右后方向左前方逐渐增加。如图13所示，通过使用激光显微镜观察可清楚地辨认出记录点，并由此可显示出使用激光器可成功地进行光学读取。
<实验2>
下面，将对如下实验进行描述，该实验通过对根据所用方法而可能出现于记录层中的裂纹来评价制造方法。
1.材料
（1）记录层
使用了与实施例1中相同的材料。
（2）压敏粘合剂层
使用了丙烯酸酯类粘合剂。
（3）记录层支持层
SD-640（由DIC公司制造）
（4）剥离片
聚对苯二甲酸乙二醇酯（在其表面上涂布有有机硅树脂剥离层）
2.实施例及比较例的条件
实施例及比较例的条件如下：
[实施例2]
制备这样的片材作为实施例2，在该片材中，压敏粘合剂层、记录层、记录层支持层和记录层依次层压于剥离片上。
（1）制造方法
（1-1）用棒涂法将压敏粘合剂层施加于剥离片上以获得A片材。
（1-2）用棒涂法将记录层支持层施加于剥离片上，并用UV光（氙灯）对其进行照射；然后用棒涂法将记录层施加于已固化的记录层支持层上以获得B片材。
（1-3）将A片材的压敏粘合剂层与B片材的记录层层压在一起，由此将该B片材堆叠在A片材上以获得C片材。
（1-4）将设置于C片材的记录层支持层上的剥离片除去，并用棒涂法将记录层施加于记录层支持层上。
（2）层的厚度
压敏粘合剂层：10μm
记录层：1μm
记录层支持层：10μm
[比较例1]
制备这样的片材作为比较例1，在该片材中，剥离片、压敏粘合剂层、记录层和剥离片依次堆叠。
（1）制造方法
（1-1）用棒涂法将记录层施加于剥离片上以获得D片材，其中该剥离片上所涂布的剥离剂的剥离性能等级低于A片材的剥离片。
（1-2）将A片材的压敏粘合剂层与D片材的记录层层压在一起。
（2）层的厚度
压敏粘合剂层：10μm
记录层：1μm
3.评价方法
首先，将附着于压敏粘合剂层的剥离片除去，并利用露出的压敏粘合剂层将片材粘附至玻璃基板上。然后在比较例1中，将附着于记录层的剥离片除去。利用附着于片材上的剥离片将片材固定，然后将胶带附着在该剥离片上，并拉起该胶带，由此除去各剥离片。
下面，通过视觉观察并用激光显微镜观察记录层，并通过这些观察，检查所有记录层的表面以确定表面上是否出现裂纹。
4.结果
在实施例2中，所有记录层中都没观察到裂纹。
在比较例中，在除去设置在记录层上的剥离片之后，在记录层上观察到裂纹。

Claims (19)

1.一种用于制造光学信息记录介质的多层结构片材，所述光学信息记录介质具有包括多个记录层的多层结构，所述多层结构片材包括：
至少一个单元结构，其中依次层叠有压敏粘合剂层、记录层、记录层支持层和记录层，所述记录层支持层的玻璃化转变温度高于所述压敏粘合剂层的玻璃化转变温度；以及
剥离片，该剥离片附着于最外压敏粘合剂层的外侧。
2.根据权利要求1所述的多层结构片材，其中所述记录层包含聚合物粘合剂以及分散在该聚合物粘合剂中的染料。
3.根据权利要求1所述的多层结构片材，其中所述记录层包含与染料结合的聚合物。
4.根据权利要求2或权利要求3所述的多层结构片材，其中所述染料包含多光子吸收化合物。
5.根据权利要求1所述的多层结构片材，其中所述记录层的厚度为50nm以上。
6.根据权利要求1所述的多层结构片材，其中多个所述单元结构层压于所述剥离片上。
7.根据权利要求1所述的多层结构片材，其中所述记录层支持层包含能量固化型树脂。
8.根据权利要求7所述的多层结构片材，其中所述能量固化型树脂为紫外线固化性树脂。
9.根据权利要求1所述的多层结构片材，其中所述记录层支持层和所述记录层之间的记录光束的折射率差为0.05或更小。
10.根据权利要求1所述的多层结构片材，其中所述压敏粘合剂层和所述记录层之间的记录光束的折射率差大于所述记录层支持层和所述记录层之间的记录光束的折射率差。
11.根据权利要求1所述的多层结构片材，其中所述压敏粘合剂层和所述记录层支持层均由对记录光束基本没有吸收的材料构成。
12.根据权利要求1所述的多层结构片材，其中所述压敏粘合剂层和所述记录层支持层的厚度均在2微米至20微米的范围内。
13.根据权利要求9或权利要求10所述的多层结构片材，其中所述记录光束的波长为405nm。
14.一种光学信息记录介质，其具有包括多个记录层的多层结构，
其中在两个相邻的所述记录层之间设置有压敏粘合剂层和记录层支持层中的一者，其中所述记录层支持层的玻璃化转变温度高于所述压敏粘合剂层的玻璃化转变温度；并且
其中所述压敏粘合剂层和所述记录层支持层彼此交替设置。
15.根据权利要求14所述的光学信息记录介质，其中可通过用引起所述记录层和所述压敏粘合剂层之间的界面变形的记录光束进行照射来记录信息。
16.一种制造根据权利要求1所述的多层结构片材的方法，包括：
第一步，其中在第一剥离片上形成压敏粘合剂层从而获得第一片材；
第二步，其中在第二剥离片上形成记录层支持层；
第三步，其中在所述记录层支持层上形成记录层，从而获得第二片材；
第四步，其中通过将所述压敏粘合剂层和所述记录层层压在一起以将所述第二片材堆叠在所述第一片材上，从而获得第三片材；
第五步，其中将所述第三片材上的所述第二剥离片除去，以使所述记录层支持层露出；以及
第六步，其中在第五步中露出的所述记录层支持层上形成记录层，从而获得第四片材。
17.根据权利要求16所述的制造多层结构片材的方法，包括：
第七步，其中在通过重复进行所述第一步骤至所述第六步骤而获得的多个所述第四片材中，除去其中至少一个所述第四片材的所述第一剥离片，从而获得一个或多个第五片材，在该第五片材中，所述压敏粘合剂层被露出；以及
第八步，其中将所述一个或多个第五片材堆叠并粘附在作为最外层的另一个所述第四片材中的所述记录层上。
18.一种利用根据权利要求1所述的多层结构片材来制造光学信息记录介质的方法，其中该光学信息记录介质具有包括多个记录层的多层结构，所述方法包括：
预备步骤，其中提供多个多层结构片材；
剥离步骤，其中将所述多个多层结构片材中的剥离片除去，以获得第一多层结构片材，在该第一多层结构片材中，所述压敏粘合剂层被露出；
粘附步骤，其中通过将所述第一多层结构片材中露出的所述压敏粘合剂层层压在基板上，从而将一个所述第一多层结构片材粘附在该基板上；以及
第一层压步骤，其中通过将另一个所述第一多层结构片材层压于已粘附至基板上的所述第一多层结构片材上，从而将该另一个第一多层结构片材层叠在已粘附至该基板上的所述第一多层结构片材上。
19.一种利用根据权利要求1所述的多层结构片材来制造光学信息记录介质的方法，其中该光学信息记录介质具有包括多个记录层的多层结构，所述方法包括：
预备步骤，其中提供包括第二多层结构片材在内的多个多层结构片材；
剥离步骤，其中将除所述第二多层结构片材以外的其他所述多个多层结构片材中的至少一个多层结构片材的剥离片除去，从而获得至少一个具有露出的压敏粘合剂层的第三多层结构片材；
第二层压步骤，其中通过将所述至少一个第三多层结构片材中露出的所述压敏粘合剂层层压于所述第二多层结构片材或所述至少一个第三多层结构片材的最外记录层上，从而将所述至少一个第三多层结构片材叠置于所述第二多层结构片材上；以及
粘附步骤，其中通过将其上层压有所述至少一个第三多层结构片材的所述第二多层结构片材的剥离片除去，并将通过除去所述剥离片而露出的压敏粘合剂层层压在所述基板上，从而将其上已叠置有所述至少一个第三多层结构片材的所述第二多层结构片材粘附在基板上。
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