JP5726689B2 - 多層構造シートの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、複数の記録層を備えた多層構造を有する光情報記録媒体を製造するための多層構造シートの製造方法に関する。

従来、複数の記録層を備えた多層構造を有する光情報記録媒体の製造方法として、記録層と感圧接着剤層とが積層されてなる多層構造シートを用いる方法が知られている（例えば、特許文献１）。具体的に、特許文献１に記載の多層構造シートは、積層されている記録層と感圧接着剤層の外側の面に、それぞれ剥離フィルムが付着している。そして、この多層構造シートから剥離フィルムを剥離し、基板上に繰り返し重ねて貼っていくことで、多層構造を有する光情報記録媒体を得ることができる。このような多層構造シートを用いる製造方法においては、多層構造シートを大きく形成することで、複数個分の光情報記録媒体をまとめて製造することが可能になる。

ところが、特許文献１に記載の多層構造シートは、記録層に剥離フィルムが付着しているため、剥離フィルムを剥離したときに、記録層にひび割れが生じることがあった。そのため、従来、記録層に直接剥離フィルムが付着しないように構成された多層構造シートが知られている（例えば、特許文献２）。具体的に、特許文献２に記載の多層構造シートは、感圧接着剤層、記録層、剥離補助層の順に並ぶ多層構造を有し、最も外側に配置されている感圧接着剤層と剥離補助層に剥離フィルムが付着している。このように記録層を感圧接着剤層と剥離補助層で挟み、記録層に剥離フィルムが直接付着していない構造にすることで、剥離フィルムを剥離したときに、記録層にひび割れが生じる可能性を低減することができる。

特開２００５−２０９３２８号公報 特開２０１１−８１８６０号公報

しかしながら、特許文献２の多層構造シートであっても、記録層の材質によっては、剥離フィルムを剥離したときに、記録層にひび割れが生じることがあった。

そこで、本発明は、記録層にひび割れが生じにくい多層構造シートの製造方法を提供することを目的とする。

前記した課題を解決するための本発明は、第１の剥離シート上に粘着剤層を形成して第１のシートを得る粘着剤層形成工程と、第２の剥離シート上、または、第２の剥離シート上に形成された剥離補助層上に高分子を含有する記録層溶液を塗布した後、乾燥させることで、前記第２の剥離シート上または前記剥離補助層上に記録層を形成して第２のシートを得る記録層形成工程と、前記第１のシートの粘着剤層上に、前記第２のシートの記録層を貼り合わせることで、前記第１のシートに前記第２のシートを重ねた第３のシートを得る貼合工程と、を有する複数の記録層を備えた多層構造を有する光情報記録媒体を製造するための多層構造シートの製造方法であって、前記第２のシートを７０℃以上１００℃以下で加熱する加熱工程を有することを特徴とする。

また、前記した課題を解決するための本発明は、第１の剥離シート上に粘着剤層を形成して第１のシートを得る粘着剤層形成工程と、第２の剥離シート上、または、第２の剥離シート上に形成された剥離補助層上に高分子を含有する記録層溶液を塗布した後、乾燥させることで、前記第２の剥離シート上または前記剥離補助層上に記録層を形成して第２のシートを得る記録層形成工程と、前記第１のシートの粘着剤層上に、前記第２のシートの記録層を貼り合わせることで、前記第１のシートに前記第２のシートを重ねた第３のシートを得る貼合工程と、を有する複数の記録層を備えた多層構造を有する光情報記録媒体を製造するための多層構造シートの製造方法であって、前記第３のシートを７０℃以上１００℃以下で加熱する加熱工程を有することを特徴としてもよい。

これらのような構成によると、第３のシートから第１の剥離シートまたは第２の剥離シートを取り除く際に、記録層にひび割れが生じにくい。

そして、前記した第３のシートを加熱する加熱工程を有する多層構造シートの製造方法においては、前記加熱工程中に、前記第２の剥離シートを取り除く剥離工程をさらに有していてもよい。

また、前記した第２のシートを加熱する加熱工程を有する多層構造シートの製造方法においては、前記加熱工程の後、加熱された前記第２のシートを、室温より低い温度で冷却する冷却工程をさらに有しているのが望ましい。

このような構成によると、第２のシートから第２の剥離シートを取り除く際に、より記録層にひび割れが生じにくい。

そして、前記した第３のシートを加熱する加熱工程を有する多層構造シートの製造方法においては、前記加熱工程の後、加熱された前記第３のシートを、室温より低い温度で冷却する冷却工程をさらに有しているのが望ましい。

このような構成によると、第３のシートから第１の剥離シートまたは第２の剥離シートを取り除く際に、より記録層にひび割れが生じにくい。

本発明によれば、記録層を加熱することで、第１の剥離シートまたは第２の剥離シートを取り除く際に、記録層にひび割れが生じにくい。

光情報記録媒体の断面図である。 記録時に形成される記録スポットを示す図である。 再生時を説明する図である。 公知の光情報記録媒体における凹形状の形成過程を説明する図（ａ）〜（ｃ）である。 多層構造シートの断面図である。 多層構造シートおよび光情報記録媒体の製造方法を説明する図（ａ）〜（ｆ）である。 変形例に係る光情報記録媒体の断面図である。 変形例に係る多層構造シートの断面図である。 変形例に係る多層構造シートの製造方法を説明する図（ａ）〜（ｃ）である。 変形例に係る光情報記録媒体の製造方法を説明する図（ａ）〜（ｄ）である。 実験１，２，３の結果をまとめた表である。 記録スポットの原子間力顕微鏡像である。

［第１実施形態］
次に、本発明の第１実施形態について、図面を参照しながら説明する。
図１に示すように、第１実施形態における光情報記録媒体１０は、基板１１と、複数の記録層１４と、複数の中間層１５と、カバー層１６とを備えてなる。

基板１１は、支持板１２とサーボ信号層１３とから構成されている。
支持板１２は、記録層１４などを支持するための支持体であり、一例としてポリカーボネートの円板などからなる。支持板１２の材質や厚さは特に限定されない。

サーボ信号層１３は、記録層１４および中間層１５を支持板１２に保持させるための粘着性または接着性の樹脂材料からなり、支持板１２側の面に予め凹凸または屈折率の変化によりサーボ信号が記録された層である。ここでのサーボ信号は、記録時および再生時のフォーカスの基準面であることを記録再生装置が認識できるように予め設定された信号である。所定の記録層１４に焦点を合わせる場合には、この基準面からの距離や、界面の数を考慮して焦点を制御する。また、記録時および再生時に円周方向に並んだ記録スポットのトラックに正確にレーザ光を照射できるようにトラッキング用のサーボ信号または溝を設けておくとよい。なお、サーボ信号層１３の有無は任意である。

記録層１４は、情報が光学的に記録される感光材料からなる層であり、本実施形態においては、高分子バインダーと、当該高分子バインダーに分散された色素とを有してなる。記録層１４は、記録光を照射すると、色素が記録光を吸収して発生する熱により高分子バインダーが変形し、中間層１５との界面１８に、中間層１５に向かう凸形状が形成されることで情報が記録される。より詳しくは、後述するように、中央が記録層１４から中間層１５に向かうように凸形状となり、この凸形状の周囲が、中間層１５から記録層１４に向かうように凹形状（記録層１４を基準に見て）が形成される。

このため、記録層１４は、従来の高分子バインダーと色素を含む記録層に比較して厚く形成されており、一層の記録層１４は、５０ｎｍ〜２０μｍ、望ましくは１００ｎｍ〜１５μｍ、より望ましくは２００ｎｍ〜１０μｍで形成されている。厚さが５０ｎｍより小さい場合には、公知の技術のように、記録層１４と中間層１５の界面１８が記録層１４を基準に見て凹形状に変形するが、厚さが５０ｎｍ以上であることで、記録した箇所の中央が凸となるように変形する。

記録層１４は、例えば、２〜１００層程度設けられる。光情報記録媒体１０の記憶容量を大きくするため、記録層１４は多い方が望ましく、例えば１０層以上であるのが望ましい。また、記録層１４は、記録の前後において、屈折率が変化してもよいし、変化しなくてもよい。

記録層１４は、記録光に対する吸収率（１光子吸収率）が１層当たり５％以下であるのが望ましい。また、この吸収率は２％以下であるのがより望ましく、１％以下であるのがさらに好ましい。例えば、最も奥側の記録層１４に到達する記録光の強度が照射した記録光の強度の５０％以上であることを条件とすると、３０層の記録層を実現するためには、記録層１層当たりの吸収率が２％以下である必要があり、５０層の記録層を実現するためには、記録層１層当たりの吸収率が１％以下である必要があるからである。また、吸収率が高いと、記録層１４を加熱しすぎることで、界面１８に凸形状を形成しにくくなるからである。

記録層１４の形成方法は、特に限定されないが、色素材料と高分子バインダーを溶媒に溶解させた液をスピンコートやブレードコートによりして形成することができる。このときの溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、アセトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、トルエン、ヘキサンなどを用いることができる。

記録層１４に用いる高分子バインダーとしては、ポリ酢酸ビニル（ＰＶＡｃ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリベンジルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリ安息香酸ビニル、ポリピバル酸ビニル、ポリエチルアクリレート、ポリブチルアクリレートなどを用いることができる。

記録層１４に用いる、上記記録光を吸収する色素としては、例えば、ヒートモード型記録材料として従来用いられていた色素（１光子吸収色素）を用いることができる。例えば、フタロシアニン系化合物、アゾ化合物、アゾ金属錯体化合物、メチン色素（シアニン系化合物、オキソノール系化合物、スチリル色素、メロシアニン色素）を用いることができる。また、多層の記録層を有する記録媒体において記録再生時における隣接記録層への影響を最小限にするためには、前記記録光を吸収する色素として、多光子吸収色素を含むことが望ましく、多光子吸収色素は、例えば、読出光の波長に線形吸収帯を持たない２光子吸収化合物であることが好ましい。

２光子吸収化合物としては、読出光の波長に線形吸収帯を持たないものであれば、特に限定されないが、例えば、下記一般式（１）で表される構造を有する化合物が挙げられる。

（一般式（１）中、ＸおよびＹはハメットのシグマパラ値（σｐ値）が共にゼロ以上の値を有する置換基を表し、同一でもそれぞれ異なってもよく、ｎは１〜４の整数を表し、Ｒは置換基を表し、同一でもそれぞれ異なってもよく、ｍは０〜４の整数を表す。）

一般式（１）中、ＸおよびＹはハメット式におけるσｐ値が正の値を取るもの、所謂電子吸引性の基を指し、好ましくは例えばトリフルオロメチル基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、カルバモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、などが挙げられ、より好ましくはトリフルオロメチル基、シアノ基、アシル基、アシルオキシ基、またはアルコキシカルボニル基であり、最も好ましくはシアノ基、ベンゾイル基である。これらの置換基のうち、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、カルバモイル基、アシル基、アシルオキシ基、およびアルコキシカルボニル基は、溶媒への溶解性の付与等の他、様々な目的で、更に置換基を有してもよく、置換基としては、好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アリールオキシ基、などが挙げられる。

ｎは、より好ましくは２または３であり、最も好ましくは２である。ｎが５以上になるほど、線形吸収が長波長側に出てくるようになり、７００ｎｍよりも短波長の領域の記録光を用いての非共鳴２光子吸収記録ができなくなる。
Ｒは置換基を表し、置換基としては、特に限定されず、具体的には、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アリールオキシ基、などが挙げられる。

一般式（１）で表される構造を有する化合物の具体例としては、特に限定されないが、下記の化学構造式Ｄ−１〜Ｄ−２１の化合物を使用することができる。

中間層１５は、複数の記録層１４の間、言い換えると、各記録層１４の上下に隣接して設けられている。中間層１５は、複数の記録層１４の間で層間クロストーク（隣接する記録層１４間の信号の混じり合い）が生じないように、記録層１４同士の間隔を所定量空けるために設けられている。このため、中間層１５の厚さは、３μｍ以上であり、一例として、本実施形態では１０μｍである。

中間層１５は、記録時および再生時のレーザ光の照射により変化しない材料が用いられる。また、中間層１５は、記録光や読出光、再生光（読出光の照射により発生する再生信号を含む光）の損失を最小限にするため、記録光や読出光、再生光に対し、透明な樹脂からなることが望ましい。ここでの透明とは、吸収率が１％以下であることをいう。

また、中間層１５は、粘着剤層であり、他の面への貼り付けを可能にする粘着性を有し、記録層１４よりも軟らかいものである。例えば、中間層１５は、そのガラス転位温度が記録層１４のガラス転位温度よりも低いものである。このような構成は、記録層１４の材料として用いることができる高分子バインダー（樹脂）や、中間層１５の材料として用いることができる樹脂を適切に選択することにより実現することができる。
このように、中間層１５を記録層１４よりも軟らかい構成とすることで、記録層１４を記録光により加熱して膨脹させたときに、中間層１５が変形しやすく、記録層１４との界面１８の変形を容易に起こさせることができる。

中間層１５は、記録層１４の屈折率と異なる屈折率を有している。これにより、記録層１４と中間層１５との界面１８においては、屈折率の急変による読出光の反射が可能となっている。中間層１５は、記録層１４と屈折率の差が適度に設けられているのがよい。具体的には、記録層１４の屈折率をｎ１、中間層１５の屈折率をｎ２として、
０．００１＜（（ｎ２−ｎ１）／（ｎ２＋ｎ１））^２＜０．０４
を満たすのが望ましい。

（（ｎ２−ｎ１）／（ｎ２＋ｎ１））^２、つまり、反射率が０．００１より大きいことで、界面１８での反射光量を大きくして、情報の再生時に、Ｓ／Ｎ比を大きくすることができる。また、反射率が０．０４より小さいことで、界面１８での反射光量を適度な大きさに抑えて、記録時および再生時において記録再生光が大きな減衰を受けることなく深い記録層１４に到達するのを可能にする。これにより、記録層１４を多数設けて高容量化を図ることが可能となる。

中間層１５の屈折率ｎ２は、一例としては、１．４６０である。記録層１４の屈折率ｎ１が１．５６５であるとすると、（（ｎ２−ｎ１）／（ｎ２＋ｎ１））^２は、０．００１２０５であり、前記した不等式を満たす。

記録層１４および中間層１５の屈折率を調整するには、記録層１４および中間層１５に用いる材料の配合を調整するとよい。具体的には、記録層１４の材料には、２光子吸収化合物などの色素が高分子バインダー中に混入されているので、色素または高分子バインダーの屈折率を適切に選択し、それぞれの配合比率を変更することによって屈折率を任意に調整することができる。また、高分子バインダーは、類似の基本構造を有していても重合度が異なると屈折率も変化するため、重合度が異なる高分子バインダーを用いたり、高分子バインダーの重合度を調整したりすることでも屈折率の調整が可能である。さらに、複数の高分子バインダーを配合することで調整することも可能である。また、屈折率調整剤（無機微粒子等）を添加して屈折率を調整することも可能である。

中間層１５の屈折率を調整する場合、中間層１５の材料として用いることができる樹脂などのポリマー材料の重合度を調整することで、屈折率を調整することができる。また、中間層１５として使用可能な材料を任意に配合して屈折率を調整したり、屈折率調整剤（無機微粒子等）を添加して調整したりすることも可能である。

カバー層１６は、記録層１４および中間層１５を保護するために設けられる層であり、記録再生光が透過可能な材料からなる。カバー層１６は、数十μｍ〜数ｍｍの適宜な厚さで設けられる。

以上のような光情報記録媒体１０に、情報を記録・再生する方法について説明する。
所望の記録層１４に情報を記録するとき、図２に示すように、その記録層１４に、記録すべき情報に応じて出力が変調されたレーザ光（記録光ＲＢ）を照射する。記録層１４が、多光子吸収化合物を記録色素として有する場合、このレーザ光には、ピークパワーを大きくできるパルスレーザ光を用いるとよい。そして、記録光ＲＢの焦点の位置は、特に限定されないが、一例として、界面１８付近とすることができる。

記録光ＲＢを照射すると、図２に示すように、記録光ＲＢを照射した箇所の中心が記録層１４から中間層１５に向けて凸形状となる記録スポットＭ（ピット）が形成される。記録スポットＭは、詳細には、中央が凸部Ｍ１となり、この凸部Ｍ１の周囲が記録層１４に向かうリング状の凹部Ｍ２となっている。凹部Ｍ２の最も深い部分の界面１８（変形前の界面１８）からの距離は、凸部Ｍ１の頂点の界面１８（変形前の界面１８）からの距離よりも小さい。すなわち、記録スポットＭは、全体としては、およそ凸形状ということができる。この中央が凸形状となる記録スポットＭの形成原理は明らかではないが、公知の記録方法として知られている、照射箇所の中央が凹形状となる記録方法における、凹形状の形成原理（これも、推測として論じられている）との比較から、次のように推察される。

まず、公知の記録方法についてみると、Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ ６２（３）， １ Ａｕｇｕｓｔ １９８７によれば、記録光を記録材料に照射すると、図４（ａ）に示すように、記録材料の温度上昇により記録材料（記録層１４）が膨脹する（斜線部分は、加熱された範囲を示す）。そして、図４（ｂ）に示すように、膨脹した部分が表面張力により周囲に流出する。その後、温度が低下すると、図４（ｃ）に示すように、膨脹していた記録材料が収縮して、照射箇所の周囲に流出した部分は、基準面（記録層１４の上面）よりも高い位置に記録材料が残って凸形状となるが、中央部分は、材料の流出により基準面よりも低くなって凹形状となる。

一方、本実施形態の光情報記録媒体では、記録光ＲＢを照射すると、記録層１４が熱膨張して、公知の記録方法と同様、図４（ａ）のように記録層１４が突出する。しかし、本実施形態の場合、記録層１４が比較的厚いため、記録層１４の表面付近の粘度は公知の技術ほど低くならず、図４（ｂ）の流出が起こらない。そのため、温度が下がることにより、膨脹した部分が収縮すると、図４（ａ）の形状から図２の形状のように変形して、中央に凸部Ｍ１が残り、凸部Ｍ１の周囲に凹部Ｍ２ができると考えられる。

このようにして形成された記録スポットＭは、図３に示すように連続波レーザで読出光ＯＢを照射すると、記録層１４の屈折率と第１中間層１５Ａの屈折率に差があることで、記録スポットＭの周囲の前側界面１８における反射光の強度と、記録スポットＭにおける反射光の強度に差が生じるので、この変調により記録スポットＭを検出することができる。このような光学的な検出のため、凸部Ｍ１は、変形する前の界面１８に対して１〜３００ｎｍ程度突出しているのが望ましい。

本実施形態においては、記録スポットＭは、凸部Ｍ１の周囲に凹部Ｍ２が形成されているので、記録スポットＭを読み取るための読出光ＯＢを記録スポットＭに当てると、凸部Ｍ１のみが有る場合に比較して、記録スポットＭによる反射光の強度分布は凸部Ｍ１の中央からの距離に応じて急激に変化すると考えられ、高い変調度で読み取ることが可能である。
なお、本発明の光情報記録媒体は、記録層１４を凸形状に変形させて情報を記録するものでもよいし、凹形状に変形させて情報を記録するものでもよい。

記録層１４に記録した情報を消去する場合、記録層１４を高分子バインダーのガラス転移温度付近の温度、望ましくは、ガラス転移点より高い温度に加熱することで、高分子バインダーの流動性が向上し、表面張力により界面１８の変形がなくなって元の平面に戻ることで、その記録層１４に記録された情報を消去することができる。このように情報を消去することで、記録層１４への再度の記録（繰り返し記録）が可能である。この加熱の際には、記録層１４に焦点を合わせるように連続波レーザを照射する方法を用いることができる。連続波レーザで加熱を行うことにより、記録層１４中で連続した領域の情報をムラなく消去することが可能である。この連続波レーザは、情報の再生に用いるレーザを用いてもよいし、別のレーザを用いてもよい。いずれの場合にも、１光子吸収が可能な波長の光を発するレーザを用いるのが望ましい。

また、記録層１４の加熱により情報を消去する際には、光情報記録媒体１０の全体を高分子バインダーのガラス転移温度より高い温度に加熱することで、すべての記録層１４に記録された情報を一度に消去することができる。これにより、記録層１４が有する色素の種類にかかわらず、簡易に光情報記録媒体の全体の情報を消去して初期化することができる。また、光情報記録媒体の廃棄の際にも、簡易に情報を抹消することができる。

以上のように、本実施形態の光情報記録媒体１０においては、界面１８に、記録層１４から中間層１５に向かう凸形状による記録スポットＭを形成して情報を記録することができる。この記録スポットＭを形成するには、従来の凹形状を形成する場合のように、記録層１４に高い流動性を与える必要がないため、その分、高感度で記録することができる。

以上に本実施形態に係る光情報記録媒体１０について説明したが、光情報記録媒体は、前記した実施形態に限定されることなく適宜変形して実施することが可能である。

前記実施形態では、記録層１４は、高分子バインダーと、高分子バインダーに分散された色素とを有していたが、本発明はこれに限定されず、記録層は、色素が結合された高分子を有してもよい。

具体的には、記録層１４は、下記の一般式（２）で示す構造を有した高分子を含有していてもよい。

（一般式（２）中、Ｙはハメットのシグマパラ値（σp値）が共にゼロ以上の値を有する置換基を表し、Ｘも同種の置換基を表す。ＸおよびＹは同一種でもそれぞれ異なってもよく、ｎは１〜４の整数を表し、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３は置換基を表し、同一種でもそれぞれ異なってもよく、lは１以上、ｍは０〜４の整数を表す。）

以上のような光情報記録媒体１０は、図５に示すような多層構造シート１００を用いて製造することができる。

多層構造シート１００は、第１の剥離シートＳ１、中間層１５、記録層１４および第２の剥離シートＳ２を有している。具体的に、多層構造シート１００は、中間層１５と記録層１４の２層構造を第１の剥離シートＳ１と第２の剥離シートＳ２で挟んだ構造をしている。第１の剥離シートＳ１と第２の剥離シートＳ２は、剥離剤が塗布されている面が中間層１５と記録層１４側に向いている。

上記のような多層構造シート１００は、次のような方法で製造することができる。
まず、図６（ａ）に示すように、第１の剥離シートＳ１の剥離剤が塗布されている側の面上に中間層１５を形成して、第１のシート１１０を得る（粘着剤層形成工程）。

また、図６（ｂ）に示すように、第２の剥離シートＳ２の剥離剤が塗布されている側の面上に、記録層１４を形成して第２のシート１２０を得る（記録層形成工程）。ここで、第１の剥離シートＳ１には、第１の剥離シートＳ１を剥離するときの力が第２の剥離シートＳ２を剥離するときの力よりも弱くなるような剥離性の高い剥離剤が塗布されている。なお、粘着剤層形成工程と記録層形成工程とは、順序を問わない。

各層の形成方法は、特に限定されないが、例えば、ナイフコート法、ロールコート法、バーコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法などの塗布する方法を用いることができる。

次に、第２のシート１２０を、オーブンなどに入れて加熱する（加熱工程）。この加熱工程における加熱は、予め実験によって求めた最適な温度および加熱時間で行う。なお、製造の効率を考慮すれば、加熱時間は、本発明の効果を得るために必要な最短の時間であるのがよい。また、加熱方法は、オーブンを使用するのに限られず、各層や各剥離シートに悪影響が出ない方法であれば、どの様な方法でもよい。

その後、加熱工程において加熱した第２のシート１２０を室温下で冷却する。そして、図６（ｃ）に示すように、この加熱・冷却した第２のシート１２０の記録層１４を、第１のシート１１０の中間層１５上に、貼り合わせることで、第１のシート１１０に第２のシートを重ねた、図５に示すような多層構造シート（第３のシート）１００を得る（貼合工程）。

このようにして得られた多層構造シート１００は、ロール状に巻かれて保管され、使用するときには、必要な分だけ引き出される。

以上のような本実施形態の多層構造シート１００の製造方法によれば、製造の工程で記録層１４を加熱することで、多層構造シート１００から第１の剥離シートＳ１または第２の剥離シートＳ２を取り除く際に、記録層１４にひび割れが生じにくくなる。これは、加熱されることで、記録層１４が軟化するためであると考えられる。また、加熱後、第１の剥離シートＳ１または第２の剥離シートＳ２を取り除くときまでに冷却されていることで、一度軟化した記録層１４の材料が収縮し、圧縮の残留応力が生じるためであるとも考えられる。

なお、前記実施形態では、加熱工程の後、第２のシート１２０を室温で冷却していたが、冷凍冷蔵庫等に入れることで、加熱された第２のシート１２０を室温より低い温度で冷却してもよい（冷却工程）。このように、加熱された第２のシート１２０を、室温より低い温度で冷却することで、第２のシート１２０から第２の剥離シートＳ２を取り除く際に、より記録層１４にひび割れが生じにくくなる。

次に、多層構造シート１００を用いた光情報記録媒体１０の製造方法の一例について説明する。

まず、ロール状に巻かれた図５に示す多層構造シート１００を引き出し、基板１１の形状に合わせて打ち抜く。そして、図６（ｄ）に示すように、この打ち抜かれた多層構造シート１００から第１の剥離シートＳ１を取り除き、中間層１５を露出させて、第４のシート１３０を得る。

次に、図６（ｅ）に示すように、第４のシート１３０の露出した中間層１５を、基板１１の上に貼る。そして、図６（ｆ）に示すように、第２の剥離シートＳ２を取り除く。これにより、基板１１上に、中間層１５と記録層１４が１層ずつ形成される。

そして、さらに基板１１上に設けられている最上層の記録層１４にさらに第４のシート１３０を重ねる工程を繰り返し行う。

最後に、最も上側の記録層１４の上にカバー層１６を形成することで、図１に示すような、複数の記録層１４を備えた多層構造を有する光情報記録媒体１０を製造することができる。

この製造方法によれば、製造工程の中で、多層構造シート１００から第１の剥離シートＳ１および第２の剥離シートＳ２を取り除いたときに、記録層１４にひび割れが生じにくい。

［第２実施形態］
次に、本発明の第２実施形態について、図面を参照しながら説明する。第２実施形態は、中間層として第１中間層１５Ａと第２中間層１５Ｂを有している形態である。なお、本実施形態では、前記した第１実施形態と同様の構成要素については、同一符号を付して、その説明を省略することとする。

図７に示すように、光情報記録媒体１０’は、基板１１と、複数の記録層１４と、複数の中間層１５’（第１中間層１５Ａおよび第２中間層１５Ｂ）と、カバー層１６とを備えてなる。

１つ（１層）の中間層１５’は、第１中間層１５Ａと、当該第１中間層１５Ａの図７における下側に隣接する第２中間層１５Ｂとを備えている。第１中間層１５Ａは、記録層１４に対し記録光の入射方向における下流側に隣接しており、第２中間層１５Ｂは、記録層１４に対し上流側に隣接している。

第１中間層１５Ａは、第１実施形態の中間層１５と同様な粘着剤層である。
第２中間層１５Ｂは、後述する多層構造シート２００を用いて光情報記録媒体１０’を製造する際に、記録層１４に生じるひび割れを低減するために設けられた剥離補助層である。

第２中間層１５Ｂの材料としては、第１中間層１５Ａよりも硬い、つまり、ガラス転移温度が高い熱可塑性樹脂やエネルギー硬化型樹脂が好ましい。エネルギー硬化樹脂を用いる場合、材料を適度な厚さに塗布しやすく、また、すぐに固めることができるので、後述するような多層構造シート２００の製造を容易にすることができる。また、エネルギー硬化樹脂を用いる場合には、紫外線硬化樹脂を採用するのが望ましい。このように、第２中間層１５Ｂを紫外線硬化樹脂で形成することによって、扱いが容易な紫外線を当てることで、簡単に第２中間層１５Ｂを硬化させることができるので、大面積の多層構造シートを製造するのに有利となる。

本実施形態において、第２中間層１５Ｂは、記録層１４と同等の硬さ、または、記録層１４よりも硬い構成とすることができる。具体的には、例えば、第２中間層１５Ｂは、ガラス転位温度が記録層１４のガラス転位温度以上のものとすることができる。このような構成は、記録層１４の材料として用いることができる樹脂や、第２中間層１５Ｂの材料として用いることができる樹脂を適切に選択することにより実現することができる。

そして、第２中間層１５Ｂは、記録層１４の屈折率と略同一である屈折率を有している。ここで、記録層１４と第２中間層１５Ｂの界面１８Ｂでの反射率は、記録層１４と第１中間層１５Ａの界面１８Ａでの反射率よりも十分に小さいことが望ましい。

以上のような光情報記録媒体１０’は、図８に示すような多層構造シート２００を用いて製造することができる。

多層構造シート２００は、第１の剥離シートＳ１、第２の剥離シートＳ２、記録層１４、第１中間層１５Ａおよび第２中間層１５Ｂを有している。具体的に、多層構造シート２００は、記録層１４を第１中間層１５Ａと第２中間層１５Ｂで挟んだ３層構造を第１の剥離シートＳ１と第２の剥離シートＳ２で挟んだ構造を有している。第１の剥離シートＳ１は、剥離剤が塗布されている面が第１中間層１５Ａに向いており、第２の剥離シートＳ２は、剥離剤が塗布されている面が第２中間層１５Ｂに向いている。

次に、多層構造シート２００の製造方法と、多層構造シート２００を用いた光情報記録媒体１０’の製造方法について説明する。

まず、図９（ａ）に示すように、第１の剥離シートＳ１の剥離剤が塗布されている側の面上に第１中間層１５Ａを形成して、第１のシート２１０を得る（粘着剤層形成工程）。

また、図９（ｂ）に示すように、第２の剥離シートＳ２の剥離剤が塗布されている側の面上に、第２中間層１５Ｂを形成する。さらに、図９（ｃ）に示すように、第２の剥離シートＳ２上に形成された第２中間層１５Ｂの上に、記録層１４を形成し、第２のシート２２０を得る（記録層形成工程）。

そして、第１のシート２１０の第１中間層１５Ａ上に、第２のシート２２０の記録層１４を貼り合わせることで、第１のシート２１０に第２のシート２２０を重ねた、図８に示すような多層構造シート（第３のシート）２００を得る（貼合工程）。

次に、多層構造シート２００を、オーブンなどに入れて加熱する（加熱工程）。そして、この加熱工程中に、図１０（ａ）に示すように、第２の剥離シートＳ２を取り除き（剥離工程）、第２中間層１５Ｂが露出した第４のシート２３０（多層構造シート）を得る。

そして、第４のシート２３０を、室温下で冷却した後、基板１１の形状に合わせて打ち抜く。次に、打ち抜かれた第４のシート２３０を、図１０（ｂ）に示すように、第１ステージＴ１上に、第１の剥離シートＳ１を上にして載せ、減圧により、第１ステージＴ１に吸着させる。この状態で、図１０（ｃ）に示すように、第４のシート２３０から第１の剥離シートＳ１を取り除く。

そして、図１０（ｄ）に示すように、減圧により第２ステージＴ２に吸着された基板１１と、第１ステージＴ１上の第４のシート２３０を重ね合わせた後、第１ステージＴ１の下に設けられているローラＲを転がして、第１中間層１５Ａと基板１１を圧着させる。

この後、第１ステージＴ１側の減圧を解除することにより、第２中間層１５Ｂを第１ステージＴ１から離す。そして、この第２中間層１５Ｂに対し、上記した方法と同様の方法で第４のシート２３０を貼り重ねていく。最後に、最上層に位置する第２中間層１５Ｂの上に、カバー層１６を形成することで、光情報記録媒体１０’が得られる。

以上のような多層構造シート２００の製造方法であっても、第１実施形態と同様に、多層構造シート２００から第２の剥離シートＳ２を取り除いた際に、記録層１４にひび割れが生じにくくなる。これは、記録層１４が加熱されて軟化している状態で、第２の剥離シートＳ２を取り除くためであると考えられる。

また、多層構造シート２００から第１の剥離シートＳ１を取り除いた際にも、第１実施形態と同様に、記録層１４にひび割れが生じにくい。

そして、本実施形態の製造方法によれば、第２の剥離シートＳ２と記録層１４の間には、第２中間層１５Ｂが設けられているので、第２の剥離シートＳ２を取り除く際に、さらに記録層１４にひび割れが生じにくい。

なお、前記実施形態では、加熱工程中に、多層構造シート２００から第２の剥離シートＳ２を取り除いていたが、加熱工程後、多層構造シート２００を室温または室温以下で冷却してから、多層構造シート２００から第２の剥離シートＳ２を取り除いてもよい。

次に、異なる製造方法ごとに記録層のひび割れが生じるか否かを確認した実験について説明する。
＜実験１＞
１．材料
（１）記録層材料
記録層材料としては、高分子バインダーに、色素を分散させたものを用いた。
色素 下記化合物Ａ
高分子バインダー ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）
（シグマアルドリッチ ジャパン株式会社製）

（２）粘着剤層材料
粘着剤層材料として、ＤＡ−３０１０（日立化成工業株式会社製）を用いた。

（３）剥離シート
剥離シートとして、クリーンセパＨＹ−ＵＳ２０（東山フイルム株式会社製）を用いた。

２．多層構造シートの作製方法
各実施例における、多層構造シートの作製方法は以下の通りである。
（１）記録層溶液の作製
溶媒（２−ブタノン（和光純薬工業株式会社製））と記録層材料を混合し、１時間撹拌溶解することで、記録層溶液を作製した。

（２）多層構造シートの作製
厚さ１ｍｍ、直径１２ｃｍのガラス基板をスピンコーター（ミカサ株式会社製）に設置し、その上に、直径１２ｃｍに打ち抜いた剥離シートを、剥離剤が塗布されている面を上にして固定した。次に、剥離シート上に、記録層溶液１ｍＬを塗布し、スピンコーターを６００ｒｐｍにて１分間回転させた。その後、記録層を乾燥させ、記録層を形成した。
これにより得られたシートを、所定温度（図１１に示す加熱温度を参照）に保ったオーブンの中に３０分間入れて加熱した後、オーブンから取り出し、室温（２５℃）にて３０分間冷却した。なお、図１１において、「加熱なし」と記載されているものに関しては、加熱を行わず、「冷却なし」と記載されているものに関しては、冷却を行っていない。
また、新たに用意した剥離シートの剥離剤が塗布されている面に、粘着剤層材料を塗布し、剥離シート上に粘着剤層を形成した。そして、得られたシートを直径１２ｃｍに打ち抜いた。
そして、上記のように作製した２つのシートを、記録層と粘着剤層が重なり合うように貼り合わせた。

３．評価方法
［記録層材料のガラス転移温度測定］
多層構造シートの加熱温度の目安とするために、記録層材料のガラス転移温度（Ｔｇ）を測定した。
ＤＳＣ６２００Ｒ（Ｓｅｉｋｏ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｉｎｃ．製）を用いてＳＵＳ製密閉セルに記録層材料を密閉し、−１００℃から１００℃までの範囲において、１０℃／分で昇温して１回目のガラス転移温度を求めた。さらに１００℃から−１００℃まで５０℃／分で降温した後に−１００℃から１００℃までの範囲において１０℃／分で昇温して２回目のガラス転移温度を求めた。この点をガラス転移温度とした。

［記録層のひび割れの観察］
室温下において記録層に付着している剥離シートを取り除き、露出した記録層表面を、共焦点レーザー顕微鏡ＯＬＳ−３０００（島津製作所製）を用いて観察した。なお、剥離シートは、記録層から剥離した端部を、約１８０°折り返して、多層構造シートの表面に沿って引っ張って取り除いた。

４．結果
［記録層材料のガラス転移温度］
実験１で用いた記録層材料のガラス転移温度は、６２℃であった。

［記録層のひび割れ］
図１１に示すように、記録層を様々な温度で加熱したところ、加熱温度が５０℃以下である場合（比較例１−１〜１−３）、記録層にひび割れが生じていたが、加熱温度が６０℃以上である場合（実施例１−１〜１−４）、記録層にひび割れが生じていないことが確認できた。これにより、一定以上の温度で記録層を加熱することで、剥離シートを取り除いた際に、記録層にひび割れが生じるのを防止することができることがわかった。

＜実験２＞
実験２では、実験１とは異なる記録層材料を用いて多層構造シートを作製し、色素が結合された高分子を記録層材料として用いても、記録層を加熱することで記録層のひび割れを防止することができるかどうかを検討した。

１．材料
（１）記録層材料
記録層材料としては、下記の化合物Ｂを用いた。

（２）粘着剤層材料、剥離シート
粘着剤層材料および剥離シートは、実験１と同じものを用いた。

２．多層構造シートの作製方法
各実施例における、多層構造シートの作製方法は以下の通りである。
（１）記録層溶液の作製
溶媒（２−ブタノン（和光純薬工業株式会社製））と記録層材料を混合し、１時間撹拌溶解させて、記録層溶液を作製した。

（２）多層構造シートの作製
各実施例における多層構造シートの作製は、実験１における多層構造シートの作製方法と同様の方法で行った。

３．評価方法
［記録層材料のガラス転移温度測定］
記録層材料のガラス転移温度測定は、実験１における評価方法と同様の方法で行った。

［記録層のひび割れの観察］
各実施例および各比較例における記録層のひび割れの観察は、実験１における評価方法と同様の方法で行った。なお、実施例２−２においては、記録層の加熱後、オーブンの中に入れた状態で剥離シートを取り除いた。

４．結果
［記録層材料のガラス転移温度］
実験２で用いた記録層材料のガラス転移温度は、４２℃であった。

［記録層のひび割れ］
図１１に示すように、記録層を様々な温度で加熱したところ、加熱温度が６０℃以下である場合（比較例２−１〜２−４）、記録層にひび割れが生じていたが、加熱温度が７０℃以上である場合（実施例２−１〜２−４）、記録層にひび割れが生じていないことが確認できた。これにより、色素が結合された高分子を記録層材料を用いても、一定以上の温度で記録層を加熱することで、剥離シートを取り除いた際に、記録層にひび割れが生じるのを防止することができることが確認できた。
また、実施例２−２においては、記録層の加熱後、冷却を行わず、オーブンに入れた状態のまま剥離シートを取り除いたが、この場合においても、記録層にひび割れは生じしていなかった。これにより、記録層の加熱後には、必ずしも冷却する必要はなく、加熱中に剥離シートを取り除いてもよいことがわかった。

＜実験３＞
実験３では、記録層の加熱温度を一定にし、加熱後の冷却温度を変えた場合と、多層構造シートに剥離補助層を設けた場合とで、実験を行い、剥離シートを取り除いた際に、より記録層にひび割れが生じにくい条件について検討した。

（１）記録層材料
記録層材料としては、下記の化合物Ｃを用いた。

（２）粘着剤層材料、剥離シート
粘着剤層材料および剥離シートは、実験１と同じものを用いた。

（３）剥離補助層材料
剥離補助層材料としては、紫外線硬化樹脂ＳＤ−６４０（ＤＩＣ株式会社製）を用いた。

２．多層構造シートの作製方法
各実施例における、多層構造シートの作製方法は以下の通りである。
（１）記録層溶液の作製
溶媒（２−ブタノン（和光純薬工業株式会社製））と記録層材料を混合し、１時間撹拌溶解させて、記録層溶液を作製した。

（２）多層構造シートの作製
（２−１）実施例３−１
実施例３−１における多層構造シートは、実験１における多層構造シートの作成方法と同様の方法で作製した。

（２―２）実施例３−２
厚さ１ｍｍ、直径１２ｃｍのガラス基板をスピンコーター（ミカサ株式会社製）に設置し、その上に、直径１２ｃｍに打ち抜いた剥離シートを、剥離剤が塗布されている面を上にして固定した。次に、剥離シート上に、記録層溶液１ｍＬを塗布し、スピンコーターを６００ｒｐｍにて１分間回転させた。その後、記録層を乾燥させ、記録層を形成した。
これにより得られたシートを、１００℃に保ったオーブンの中に３０分間入れて加熱した後、オーブンから取り出し、冷凍冷蔵庫（−２０℃、ＣＴ−３２１３（日本フリーザー株式会社製））に入れて３０分間冷却した。
また、新たに用意した剥離シートの剥離剤が塗布されている面に、粘着剤層材料を塗布し、剥離シート上に粘着剤層を形成した。そして、得られたシートを直径１２ｃｍに打ち抜いた。
そして、上記のように作製した２つのシートを、記録層と粘着剤層が重なり合うように貼り合わせた。

（２−３）実施例３−３
厚さ１ｍｍ、直径１２ｃｍのガラス基板をスピンコーター（ミカサ株式会社製）に設置し、その上に、直径１２ｃｍに打ち抜いた剥離シートを、剥離剤が塗布されている面を上にして固定した。次に、剥離シート上に、剥離補助層材料を３ｍＬ滴下し、スピンコーターを２０００ｒｐｍにて３０秒間回転させた。その後、４．２ｉｎｃｈ−ＳＰＩＲＡＬ ＬＡＭＰ（Ｘｅｎｏｎ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社製）を用いて、１回当たり０．５秒の照射時間となる紫外線を１０回照射して、剥離補助層を硬化させた。そして、硬化した剥離補助層の上に、記録層溶液１ｍＬを塗布し、スピンコーターを６００ｒｐｍにて１分間回転させた。その後、記録層を乾燥させ、記録層を形成した。
これにより得られたシートを、１００℃に保ったオーブンの中に３０分間入れて加熱した後、オーブンから取り出し、室温（２５℃）にて３０分間冷却した。
また、新たに用意した剥離シートの剥離剤が塗布されている面に、粘着剤層材料を塗布し、剥離シート上に粘着剤層を形成した。そして、得られたシートを直径１２ｃｍに打ち抜いた。
そして、上記のように作製した２つのシートを、記録層と粘着剤層が重なり合うように貼り合わせた。

（２−４）比較例３−１
厚さ１ｍｍ、直径１２ｃｍのガラス基板をスピンコーター（ミカサ株式会社製）に設置し、その上に、直径１２ｃｍに打ち抜いた剥離シートを、剥離剤が塗布されている面を上にして固定した。次に、剥離シート上に、剥離補助層材料を３ｍＬ滴下し、スピンコーターを２０００ｒｐｍにて３０秒間回転させた。その後、４．２ｉｎｃｈ−ＳＰＩＲＡＬ ＬＡＭＰ（Ｘｅｎｏｎ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社製）を用いて、１回当たり０．５秒の照射時間となる紫外線を１０回照射して、剥離補助層を硬化させた。そして、硬化した剥離補助層の上に、記録層溶液１ｍＬを塗布し、スピンコーターを６００ｒｐｍにて１分間回転させた。その後、記録層を乾燥させ、記録層を形成した。
また、新たに用意した剥離シートの剥離剤が塗布されている面に、粘着剤層材料を塗布し、剥離シート上に粘着剤層を形成した。そして、得られたシートを直径１２ｃｍに打ち抜いた。
そして、上記のように作製した２つのシートを、記録層と粘着剤層が重なり合うように貼り合わせた。

３．評価方法
［記録層材料のガラス転移温度測定］
記録層材料のガラス転移温度測定は、実験１における評価方法と同様の方法で行った。

［記録層のひび割れの観察］
各実施例および比較例における記録層のひび割れの観察は、実験１における評価方法と同様の方法で行った。なお、実施例３−３と比較例３−１においては、剥離補助層に付着している剥離シートを取り除いて、記録層のひび割れを観察した。

４．結果
［記録層材料のガラス転移温度］
実験３で用いた記録層材料のガラス転移温度は、５４℃であった。

［記録層のひび割れ］
図１１に示すように、実施例３−１では、記録層に付着している剥離シートを取り除いた際に、記録層に若干のひび割れが生じた。しかし、このひび割れは、数μｍ程度のものであり、エラー訂正可能な範囲（約１００μｍ以下）であるため、光情報記録媒体として利用するのには問題のないものであった。
実施例３−１では、記録層に若干のひび割れが生じていたので、実施例３−２では、加熱後の冷却温度を室温以下（−２０℃）に設定した。その結果、実施例３−２では、記録層に付着している剥離シートを取り除いても、記録層にひび割れが生じなかった。
また、実施例３−３において、多層構造シートを、記録層を剥離補助層と粘着剤層で挟む構成とし、実施例３−１と同じ条件で加熱・冷却したところ、剥離補助層に付着している剥離シートを取り除いても、記録層にひび割れが生じなかった。一方、比較例３−１では、実施例３−３と同じ構造の多層構造シートを用いたが、加熱・冷却を行わずに剥離補助層に付着している剥離シートを取り除いたところ、記録層にひび割れが生じた。

＜記録のテスト＞
次に、記録層に凸形状の変形を生じさせて光情報記録媒体に記録できることを確認した実験について説明する。

１．記録材料
（１）高分子バインダー
高分子バインダーとしては、ポリメタクリル酸メチル１９３７６（ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＲＩＣＨ社製）を用いた。

（２）色素
色素としては、上記した化合物Ａを用いた。

２．記録媒体の作製
２−ブタノン（和光純薬株製）を溶媒とし、上記の高分子バインダーと色素を混合し、１時間撹拌して溶解させ、記録層溶液を作製した。
剥離シート（クリーンセパＨＹ−ＵＳ２０、東山フイルム株式会社製）を、幅１０ｃｍ、長さ２０ｃｍ程度に裁断し、平滑なガラス板の上に設置し、記録層溶液をブレードコータによって手塗りし、乾燥させて記録層を形成した。
２×３ｃｍ程度の粘着剤層（ＤＡ−３０１０、日立化成工業株式会社製）をスライドガラス（基板）に２回貼り付け、その上に、剥離シートに形成された記録層を向かい合わせにして貼り付けた。その後、剥離シートを剥離し、さらに、粘着剤層（ＤＡ−３０１０）を記録層の上に２回貼り合わせた。最後に、カバー層としてポリカーボネートフィルム（ピュアエースＣ１１０、帝人化成株式会社）を貼り付けた。
各層の膜厚は、ＭＩＮＩＣＯＭ ＥＬＥＣＴＲＯＮＩＣ ＧＡＧＥ（ＴＯＫＹＯ ＳＥＩＭＩＴＳＵ）で測定したところ、下記の通りであった。
スライドガラス １０００μｍ
カバー層 ８０μｍ
粘着剤層（１枚あたり） 各１０μｍ
記録層 １μｍ

３．記録の試験・評価方法
記録用レーザとして、波長５２２ｎｍのパルスレーザを用い、ピークパワー３６．８Ｗ、パルス幅１０μｓｅｃで、記録層と粘着剤層の界面に記録を行った。
そして、カバー層側の粘着剤層を剥がした上で、下記の原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により形状測定した。
原子間力顕微鏡
装置 ナノサーチ顕微鏡ＯＬＳ−３５００（オリンパス社製）
観察条件 ダイナミックモード、走査範囲１０μｍ、走査速度１Ｈｚ
高アスペクト比プローブAR5-NCHR-20（ナノワールド社製）使用

４．結果
原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により形状測定した結果を３次元表示したのが図１２である。図１２に示すように、記録層と粘着剤層の界面において、粘着剤層に向けて突出する凸形状の突起が形成されていることが確認できた。
なお、本実験では、剥離シートを剥離する前に、記録層を加熱していないが、加熱の有無は記録の可否に影響はないと考えられる。

１０ 光情報記録媒体
１０’ 光情報記録媒体
１４ 記録層
１５ 中間層
１５’ 中間層
１６ カバー層
１００ 多層構造シート
１１０ 第１のシート
１２０ 第２のシート
１３０ 第４のシート
２００ 多層構造シート
２１０ 第１のシート
２２０ 第２のシート
２３０ 第４のシート
Ｓ１ 第１の剥離シート
Ｓ２ 第２の剥離シート

Claims (7)

1. 第１の剥離シート上に粘着剤層を形成して第１のシートを得る粘着剤層形成工程と、
   第２の剥離シート上、または、第２の剥離シート上に形成された剥離補助層上に高分子を含有する記録層溶液を塗布した後、乾燥させることで、前記第２の剥離シート上または前記剥離補助層上に記録層を形成して第２のシートを得る記録層形成工程と、
   前記第１のシートの粘着剤層上に、前記第２のシートの記録層を貼り合わせることで、前記第１のシートに前記第２のシートを重ねた第３のシートを得る貼合工程と、を有する複数の記録層を備えた多層構造を有する光情報記録媒体を製造するための多層構造シートの製造方法であって、
   前記第２のシートを７０℃以上１００℃以下で加熱する加熱工程を有することを特徴とする多層構造シートの製造方法。
2. 第１の剥離シート上に粘着剤層を形成して第１のシートを得る粘着剤層形成工程と、
   第２の剥離シート上、または、第２の剥離シート上に形成された剥離補助層上に高分子を含有する記録層溶液を塗布した後、乾燥させることで、前記第２の剥離シート上または前記剥離補助層上に記録層を形成して第２のシートを得る記録層形成工程と、
   前記第１のシートの粘着剤層上に、前記第２のシートの記録層を貼り合わせることで、前記第１のシートに前記第２のシートを重ねた第３のシートを得る貼合工程と、を有する複数の記録層を備えた多層構造を有する光情報記録媒体を製造するための多層構造シートの製造方法であって、
   前記第３のシートを７０℃以上１００℃以下で加熱する加熱工程を有することを特徴とする多層構造シートの製造方法。
3. 前記加熱工程中に、前記第２の剥離シートを取り除く剥離工程をさらに有することを特徴とする請求項２に記載の多層構造シートの製造方法。
4. 前記加熱工程の後、加熱された前記第２のシートを、室温より低い温度で冷却する冷却工程をさらに有していることを特徴とする請求項１に記載の多層構造シートの製造方法。
5. 前記加熱工程の後、加熱された前記第３のシートを、室温より低い温度で冷却する冷却工程をさらに有していることを特徴とする請求項２に記載の多層構造シートの製造方法。
6. 前記加熱工程において、前記第２のシートを３０分以上加熱することを特徴とする請求項１に記載の多層構造シートの製造方法。
7. 前記加熱工程において、前記第３のシートを３０分以上加熱することを特徴とする請求項２に記載の多層構造シートの製造方法。