CN104685567A - 光学信息记录介质及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明的目的是提供一种保存性等长期稳定性优异、并且可由峰值功率小的激光进行记录的光学信息记录介质、以及光学信息记录介质的制造方法。在具有记录层14以及与该记录层14相邻的中间层15(粘合剂层15A和记录层支持层15B)的光学信息记录介质10中，记录层14含有单光子吸收染料结合在高分子粘接剂(高分子化合物)上而成的记录材料。

Description

光学信息记录介质及其制造方法

技术领域

本发明涉及具有至少一个记录层和与所述记录层相邻的至少一个中间层的光学信息记录介质、及其制造方法。

背景技术

作为具有记录层和中间层的光学信息记录介质，例如，专利文献1中公开了使记录层具有高分子粘接剂和分散在高分子粘接剂中的染料从而形成的光学信息记录介质。另外，专利文献1中记载了：在具有多层记录层的光学信息记录介质中，优选含有多光子吸收染料，以使得记录再现时对相邻的记录层的影响最小化。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2012-89195号公报

发明内容

然而，分散在记录层中的高分子粘接剂中的染料有可能随着时间流逝而扩散到中间层。染料扩散到中间层的话，例如，在记录层与中间层之间的界面处光变得难以反射，因此信息的记录和读取的性能可能会降低。因此，记录层中分散有染料的光学信息记录介质有可能产生保存性等长期稳定性方面的问题。

另外，记录层含有多光子吸收染料的情况下，为了记录信息，需要峰值功率较大的超短脉冲激光，因此(例如)存在光记录设备价格变高这样的问题。因此，人们期望峰值功率较小、即使采用传统的光记录中所用的半导体激光等也能进行信息记录的光学信息记录介质。

于是，本发明的目的是提供长期稳定性优异、并且可由峰值功率较小的激光进行记录的光学信息记录介质、及其制造方法。

用于实现上述目的的本发明为具有至少一个记录层和与该记录层相邻的至少一个中间层的光学信息记录介质，其特征在于，记录层含有单光子吸收染料结合在高分子化合物中而形成的记录材料。

根据这样的结构，由于记录层含有染料结合在高分子化合物中而形成的记录材料，因此可以抑制染料扩散到中间层并且能够使光学信息记录介质的长期稳定性提高。另外，由于染料是单光子吸收染料，因此可由峰值功率较小的激光进行信息的记录。

上述光学信息记录介质优选设为这样的结构：含有多个记录层，并且中间层设置在相邻的两个记录层之间。

这样的话，可以谋求光学信息记录介质的大容量化。

上述光学信息记录介质中，可以将各记录层设为这样的结构：在与夹着该记录层的两个中间层之间形成第1界面和第2界面，并且通过单光子吸收染料吸收记录光所产生的热而发生变形，从而在第1界面和第2界面中至少一者的界面处形成朝向中间层的凸出形状来记录信息。

这样的话，可以用较小的能量来记录信息，因此能够以高灵敏度记录信息。

上述光学信息记录介质中，记录材料中单光子吸收染料的质量比优选不足50％。

这样的话，可以形成以变形前的界面为基准足够高度的凸出形状。

上述光学信息记录介质中，记录层的厚度优选为50nm以上。

这样的话，由于记录层的厚度足够厚，因此可以容易地形成凸出形状。

上述光学信息记录介质中，形成了其中形成有凸出形状的界面的中间层优选比记录层更软。这从记录层和中间层的玻璃化转变温度的观点来说的话，则形成了其中形成有凸出形状的界面的中间层的玻璃化转变温度优选比记录层的玻璃化转变温度低。另外，这从具体的结构来说的话，则可以说形成了其中形成有凸出形状的界面的中间层为粘合剂层。

这样的话，因记录光的照射而导致记录层发生变形(例如，热膨胀)时，该热膨胀产生的压力导致中间层容易发生变形，因而能够容易地留下凸出形状。需要说明的是，记录层与中间层的硬度的比较可以通过将各自的构成材料的块体互相挤压来进行确认。即，可以将块体之间互相挤压时发生较大凹陷的一方确认为较软。

上述光学信息记录介质可以设为这样的结构：通过记录光的照射，第1界面和第2界面中，仅在一个界面处形成凸出形状，而在另一个界面处不形成凸出形状。这种情况下，形成了其中形成有凸出形状的界面的中间层与记录层的折射率差优选比形成了其中未形成凸出形状的界面的中间层与记录层的折射率差更大。

这样的话，由于其中形成有凸出形状的界面用于信息的读取，因此因界面两侧材料的折射率差较大导致界面反射率较大从而使信息的读取变得容易，另外，由于其中未形成凸出形状的界面不用于信息的读取，因此因界面两侧材料的折射率差较小，能够使得用于记录、读出的光(以下称为记录读出光)的透过率—具体而言，是第1界面和第2界面的总透过率—变高。这样，记录层为多层的情况下，光能够到达从记录读出光的照射侧观察的更深处的记录层，因此有利于通过多层化增大记录容量。

另外，在上述结构中，形成了其中未形成凸出形状的界面的中间层的折射率优选与记录层的折射率相等。

这样的话，由于界面处光的反射率实质上为0，因此在记录层为多层的情况下，光能够到达从记录读出光的照射侧观察的更深处的记录层，因此有利于通过多层化增大记录容量。

上述光学信息记录介质可以设为这样的结构：以变形前的界面为基准，凸出形状的突出在1nm～300nm的范围内。

上述光学信息记录介质中，中间层的厚度优选为2μm～20μm。

这样的话，在抑制记录层之间发生层间串扰的同时，可以使记录层的层数变多。

上述光学信息记录介质也可以具有用于保护记录层的覆盖层。

这样的话，可以抑制记录层的损伤和污染等。

另外，覆盖层的厚度优选为0.01mm～0.2mm。

这样的话，可以抑制覆盖层过薄的情况下在记录再现时检测到覆盖层的损伤和污染等问题，同时可以抑制覆盖层过厚的情况下光记录设备的光学系统的像差的问题。

上述光学信息记录介质可以具有用于进行循轨伺服的引导层。这种情况下，本发明的光学信息记录介质优选具有用于调节记录层和引导层的间隔的分隔层。

这样的话，可以降低被引导层反射的光对于离引导层最近的记录层的影响。

另外，分隔层的厚度优选为5μm～100μm。

上述光学信息记录介质也可以具有在光入射一侧的面上所形成的硬涂层。

这样的话，可以抑制光学信息记录介质的光入射一侧的表面的损伤和污染等。

上述光学信息记录介质也可以是容纳在盒中的结构。

这样的话，可以抑制光学信息记录介质的损伤，提高耐光性。

另外，用于实现上述目的的本发明为具有记录层和与该记录层相邻的中间层的光学信息记录介质的制造方法，其特征在于，具有：将含有单光子吸收染料结合在高分子化合物中而形成的记录材料的记录层的材料溶解在溶剂中从而调制涂布液的第1工序；将涂布液涂布在形成记录层的面上的第2工序；进行用于除去溶剂的加热处理的第3工序。

根据这样的方法，能够制造在长期稳定性得以提高的同时可由峰值功率较小的激光进行信息记录的光学信息记录介质。另外，由于记录层的材料含有染料结合在高分子化合物中而形成的记录材料，因此与使用染料分散在高分子化合物中而成的材料作为记录材料的情况相比，染料发生扩散或凝集等造成的相分离的可能性较低，因此可进行用于除去溶剂的加热处理。由此，可在短时间内除去溶剂，因此可以提高光学信息记录介质的生产性。

上述第1工序中，可以添加高分子化合物来调节记录材料中所含的单光子吸收染料的浓度。

这样的话，例如，通过用高分子化合物适当地稀释记录材料中所含的单光子吸收染料的浓度，即使记录层的厚度变厚，也能使记录读出光的吸收率减小。由此，例如，在使记录层的厚度厚至某种程度以使作为信息的凸出形状变得容易形成的同时，可以使记录层每一层的吸收率减小从而谋求记录层的多层化。

上述第3工序中，加热处理的温度优选比记录层的玻璃化转变温度高。

这样的话，可以在更短的时间内除去溶剂，所以能进一步提高光学信息记录介质的生产性。

附图简要说明

图1是示出根据一个实施方案的光学信息记录介质的图。

图2是光学信息记录介质的截面图。

图3是示出记录时形成的记录记号的图。

图4是对再现时进行说明的图。

图5是对光学信息记录介质的制造方法的一个例子进行说明的图(a)～(c)。

图6是对光学信息记录介质的制造方法的一个例子进行说明的图(a)～(f)。

具体实施方式

下面，参照附图对本发明的一个实施方案进行说明。

如图1所示，根据本实施方案的光学信息记录介质10为圆板状，为了抑制掉落或操作等导致光学信息记录介质10的损伤或污染、或者提高耐光性，将其容纳在盒20中。

如图2所示，光学信息记录介质10具有：基板11、反射层12、分隔层13、多个记录层14、多个中间层15(粘合剂层15A和记录层支持层15B)、覆盖层16、以及硬涂层17。需要说明的是，本实施方案中，将记录层14与粘合剂层15A之间形成的界面作为第1界面的一个例子称作反射界面18A，并将记录层14与记录层支持层15B之间形成的界面作为第2界面的一个例子称作无反射界面18B。

基板11是用于支持记录层14和中间层15等的支持体，作为一个例子，由聚碳酸酯的圆板等形成。本发明中，对基板11的材质没有特别限定。另外，基板11的厚度优选为0.02mm～2mm的范围。另外，本实施方案的基板11中在记录读出光的入射一侧的面(图中上侧的面)上形成有作为用于进行循轨伺服的引导物的凹凸(伺服信号)，也起到引导层11A作用。需要说明的是，引导层11A也可以是通过折射率的变化等记录伺服信号的层。另外，引导层11A也可以设为与基板11不同的层。

反射层12是用于反射伺服光的层，由基板11(引导层11A)的凹凸表面上气相沉积的铝薄膜等形成。通过具有这样的反射层12，可以在伺服光的入射侧检测伺服信号，因此再现设备的结构可以简化。

分隔层13是用于调节记录层14和引导层11A的间隔的层，由热塑性树脂或热固性树脂、紫外线固化性树脂、粘合剂等形成。分隔层13的厚度优选为5μm～100μm的范围。通过具有这样的分隔层13，可以降低被引导层11A反射的光对于离引导层11A最近的记录层14的影响。

记录层14是由以光学方式记录信息的感光材料形成的层，含有吸收记录光的单光子吸收染料共价结合到作为高分子化合物的高分子粘接剂上而成的记录材料。

作为吸收记录光的单光子吸收染料，例如可以使用通常用作热模式型记录材料的染料。具体而言，次甲基染料(花青染料、半花青染料、苯乙烯基染料、氧杂菁染料、部花青染料等)、大环染料(酞菁染料、萘酞菁染料、卟啉染料等)、偶氮染料(包括偶氮金属螯合物染料)、亚芳基染料、配合物染料、香豆素染料、唑衍生物、三嗪衍生物、苯并三唑衍生物、二苯甲酮衍生物、吩噁嗪衍生物、吩噻嗪衍生物、1-氨基丁二烯衍生物、肉桂酸衍生物、喹酞酮类染料等。

另外，作为单光子吸收染料所结合的高分子粘接剂，例如可以使用聚醋酸乙烯酯(PVAc)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚甲基丙烯酸乙酯、聚甲基丙烯酸丁酯、聚甲基丙烯酸苄酯、聚甲基丙烯酸异丁酯、聚甲基丙烯酸环己酯、聚碳酸酯(PC)、聚苯乙烯(PS)、聚氯乙烯(PVC)、聚乙烯醇(PVA)、聚苯甲酸乙烯酯、聚特戊酸乙烯酯、聚丙烯酸乙酯、聚丙烯酸丁酯、环烯烃聚合物等。

作为单光子吸收染料结合在高分子粘接剂上而成的记录材料，例如可以使用下面化学结构式C-1的化合物等。化学结构式C-1的化合物是作为单光子吸收染料的苯并三唑化合物共价结合到作为高分子粘接剂的聚甲基丙烯酸苄基酯上而成的化合物。

[化学式1]

记录层14是这样的层：记录光照射时，由于单光子吸收染料吸收记录光而产生的热使高分子粘接剂发生变形，在反射界面18A处形成朝向中间层15(粘合剂层15A)的凸出形状，从而记录点状的记录记号M(信息)。需要说明的是，本发明中，记录记号M也可以是这样的记号：其中央为由记录层14朝向粘合剂层15A的凸出形状，并且该凸出形状的周围具有由粘合剂层15A朝向记录层14的凹陷形状(以变形前的反射界面18A为基准的凹陷形状)。

因此，记录层14形成为比通常的含有高分子粘接剂和染料的记录层更厚，一层记录层14的厚度优选为50nm以上。在厚度不足50nm的情况下，像公知的利用记录层的变形的记录技术那样，记录层与中间层的界面(本实施方案中，相当于反射界面18A和无反射界面18B)以记录层为基准进行观察而变形为凹陷形状，但是通过使厚度为50nm以上，则变形为记录位置的中央变为凸出的。另一方面，记录层14的厚度上限没有特别限定，但是为了使记录层14的层数尽可能多，优选为5μm以下。进一步来说，记录层14的厚度更优选为100nm～3μm的范围，特别优选为200nm～2μm的范围。本实施方案中，记录层14的厚度的一个例子是1μm。

记录层14设为多层，例如，2～100层左右。为了增大光学信息记录介质10的记忆容量，记录层14越多越好，例如优选为10层以上。由此，可以谋求光学信息记录介质10的大容量化。另外，记录层14使用了在使反射界面18A变形而进行记录之前和之后折射率实质上没有变化的材料。

对于记录层14而言，对记录光的吸收率(单光子吸收率)优选为每层10％以下。另外，为了增加记录层14的层数，在能够进行记录的限度内吸收率越小越好，因此记录层14的吸收率更优选为8％以下，进一步优选为5％以下，特别优选为3％以下。例如，以到达最内侧的记录层14的记录光的强度为所照射的记录光的强度的50％以上为条件的话，为了实现8层的记录层，记录层每层的吸收率需要为8％以下，而为了实现20层的记录层，记录层每层的吸收率需要为3％以下。吸收率高的话，层数变少，多层化引起的记录容量增大的效果变小。

记录层14所含的记录材料中，单光子吸收染料的质量比优选为不足50％，换句话说，高分子粘接剂的质量比优选为50％以上(高分子粘接剂为主要成分)。由此，以变形前的反射界面18A为基准，能够形成足够高度(突出量)的凸出形状(记录记号M)。凸出形状是高分子粘接剂因吸收记录光而发生热膨胀、随后因记录光停止照射而维持膨胀形状同时发生急冷从而形成的，因此单光子吸收染料的质量比为50％以上(高分子粘接剂的质量比不足50％)的话，例如，因吸收记录光而发生热膨胀的高分子粘接剂的材料向其周围流出等，导致难以形成凸出形状。

中间层15设置在多个记录层14之间，换句话说，如图所示设为上下邻接各记录层14。更具体而言，中间层15具有粘合剂层15A和记录层支持层15B，粘合剂层15A和记录层支持层15B交替配置在多个记录层14之间。换句话说，一层记录层14以夹在粘合剂层15A和记录层支持层15B之间的方式配置，本实施方案中，从基板11一侧观察，按照粘合剂层15A、记录层14、记录层支持层15B、记录层14这样的顺序重复配置。

为使多个记录层14之间不产生层间串扰，设置中间层15使得记录层14彼此的间隔空出预定量。因此，中间层15的厚度优选为2μm以上，更优选为5μm以上。另外，在不产生层间串扰的限度内中间层15越薄越好，例如，厚度优选为20μm以下。本实施方案中，中间层15(粘合剂层15A和记录层支持层15B)的厚度的一个例子分别为10μm。需要说明的是，粘合剂层15A和记录层支持层15B的厚度同为10μm，则反射界面18A的间距变成不固定间距：10μm、12μm、10μm、12μm……。由此，可以减小再现时来自反射界面18A的反射光即读取光(readout beam)与再现时和反射界面18A相邻的反射界面18A的读出光(reading beam)的反射光之间的干涉对读取光的影响。

中间层15使用了对记录时和再现时的激光照射不发生变化的材料。另外，为了使记录光和读出光、读取光(含有因读出光的照射而产生的读取信号的光)的损失为最低限度，中间层15优选由对记录光和读出光、读取光实质上没有吸收的材料构成，换句话说，优选由对记录光和读出光、读取光透明的材料构成。这里的透明是指吸收率为1％以下。

粘合剂层15A具有能粘附到其它面上的粘合性，并且比记录层14软。例如，粘合剂层15A的玻璃化转变温度比记录层14的玻璃化转变温度低。这样，通过使比记录层14更软的粘合剂层15A邻接在记录层14的一侧的面上用作中间层15，通过记录光加热记录层14而使其膨胀时，中间层15容易变形，并且能使得反射界面18A中容易发生变形。

另一方面，记录层支持层15B由紫外线固化性树脂等形成，并且与记录层14同等硬度或者比记录层14更硬。例如，记录层支持层15B的玻璃化转变温度在记录层14的玻璃化转变温度以上。这样，通过使比记录层14更硬的记录层支持层15B邻接在记录层14的另一侧的面上而用作中间层15，光学信息记录介质10成为这样的结构：通过记录光的照射，记录层14与记录层支持层15B之间的界面即无反射界面18B中不形成凸出形状，而仅在记录层14与上述粘合剂层15A之间的界面即反射界面18A中形成凸出形状(记录记号M)。

粘合剂层15A的折射率与记录层支持层15B的折射率彼此不同，并且记录层支持层15B的折射率与记录层14的折射率相同。这里，折射率相同是指折射率实质上相同。具体而言，将记录层14的折射率设为n1，将记录层支持层15B的折射率设为n3，则记录层14的折射率与记录层支持层15B的折射率满足((n3-n1)/(n3+n1))²≦0.0003的程度，即，优选的是，相当于无反射界面18B处的反射率为0.0003以下的程度。

为了使两层的界面(无反射界面18B)处的反射消失，记录层14的折射率与记录层支持层15B的折射率最好为相近的值，记录层14与记录层支持层15B的折射率差优选为0.05以下，更优选为0.03以下，进一步优选为0.01以下，最优选为0。作为一个例子，将记录层14的折射率n1设为1.565，而将记录层支持层15B的折射率n3设为1.564的话，则((n3-n1)/(n3+n1))²几乎为0。

另一方面，粘合剂层15A的折射率与记录层14的折射率彼此不同，可以适当地设置它们的差。由此，记录层14与粘合剂层15A之间的界面(反射界面18A)处，折射率的急剧变化导致读出光的反射成为可能。更详细而言，粘合剂层15A与记录层14的折射率差比记录层支持层15B与记录层14的折射率差更大，并且优选为0.11以下。具体而言，将粘合剂层15A的折射率设为n2，则记录层14的折射率与粘合剂层15A的折射率满足0.0005≦((n2-n1)/(n2+n1))²≦0.04的程度，即，优选的是，反射界面18A处的反射率有0.0005以上0.04以下的程度的不同。

通过使反射率为0.0005以上，可使反射界面18A处的反射光量增大，从而使在信息再现时S/N比增大。另外，通过使反射率为0.04以下，将反射界面18A处的反射光量抑制在适当的大小，从而在记录时和再现时记录读出光能到达深处的记录层14而不会受到大的衰减。由此，可以设置多个记录层14从而谋求高容量化。作为一个例子，将记录层14的折射率n1设为1.565，而将粘合剂层15A的折射率n2设为1.477的话，则((n2-n1)/(n2+n1))²约为0.0008。

通过如上对记录层14和中间层15的折射率进行调节，能够提高反射界面18A和无反射界面18B的总透过率，因此在记录层14为多层的情况下，光能够一直到达从记录读出光的照射侧观察的深处的记录层14。这对通过多层化来增大记录容量是有利的。特别是，本实施方案中，通过使记录层支持层15B的折射率与记录层14的折射率实质上相同，无反射界面18B处光的反射率实质上为0，因此光能够一直到达更深处的记录层14，对通过多层化来增大记录容量更为有利。

在调节记录层14和中间层15的折射率时，可以调节用于记录层14和中间层15的材料的组成。具体而言，记录层14的材料中，含有单光子吸收染料结合到高分子粘接剂上而成的记录材料，因此通过适当地选择高分子粘接剂和染料的折射率并改变各自的组成比率，可以任意地调节折射率。另外，高分子粘接剂即使具有类似的基本结构，聚合度不同的话则折射率也会变化，因此，通过使用聚合度不同的高分子粘接剂，或者调节高分子粘接剂的聚合度，也能调节折射率。此外，也可以通过混合多种高分子粘接剂来进行调节。另外，也可以添加折射率调节剂(无机微粒等)来调节折射率。

在调节中间层15的折射率的情况下，通过调节可用作中间层15的材料的树脂等聚合物材料的聚合度，可以调节折射率。另外，将可用作中间层15的材料任意混合来调节折射率、或者添加折射率调节剂(无机微粒等)来调节也是可以的。

覆盖层16是用于保护记录层14和中间层15的层，由能透过记录光和读出光、读取光的材料形成。作为一个例子，覆盖层16可以通过涂布紫外线固化性树脂并使之固化、或者通过粘合剂等粘附薄膜来形成。通过具有这样的覆盖层16，可以抑制记录层14和中间层15的损伤和污染等。另外，覆盖层16的厚度优选为0.01mm～0.2mm的范围。这样的话，可以抑制覆盖层16过薄的情况下检测到记录再现时覆盖层16的损伤和污染等问题，同时可以抑制覆盖层16过厚的情况下光记录设备的光学系统的像差的问题。

硬涂层17是形成在光学信息记录介质10的光入射一侧的面(图中上表面)上的层，由聚氨酯树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯丙烯酸酯树脂、环氧树脂等形成。通过具有这样的硬涂层17，可以抑制光学信息记录介质10的光入射一侧的表面的损伤和污染等。需要说明的是，本发明中，硬涂层也可以同时用作上述覆盖层。

需要说明的是，为了给每一张光学信息记录介质10设置识别信息等，可以对它的一部分用条形码等进行标记。作为标记的方法，例如，除了专利第3143454号和专利第3385285号等中记载的用于通常的光盘的、用激光束照射反射层12造成热破坏的方法以外，也可以采用激光束照射记录层14或印刷等方法。

下面，对在如上所述的光学信息记录介质10中进行信息的记录、再现的方法进行说明。

在所需的记录层14中记录信息时，如图3所示，将根据要记录的信息而调制输出的激光束(记录光RB)照射在该记录层14上。需要说明的是，对于本实施方案中的激光束而言，由于记录层14具有的染料为单光子吸收染料，因此通常可用于光记录的半导体激光等峰值功率较小的激光就足够了。另外，对记录光RB的焦点的位置没有特别限定，但优选设在反射界面18A附近。具体而言，在反射界面18A处调整焦点后，将焦点位置向记录层14一侧稍微位移即可。

记录光RB照射时，记录光RB照射位置的中心由记录层14向粘合剂层15A(中间层15)形成凸出形状的记录记号M(凹陷)。关于图3所示的记录记号M，详细地说，中央为凸出部分M1，该凸出部分M1的周围为朝向记录层14的环状凹陷部分M2。凹陷部分M2的最深部分与反射界面18A(变形前的反射界面18A)的距离比凸出部分M1的顶点与反射界面18A(变形前的反射界面18A)的距离小。即，记录记号M整体上可以说大约是凸出形状。需要说明的是，光学信息记录介质10中，根据记录条件，记录记号有时仅由凸出形状(凸出部分M1)形成，而在凸出形状的周围未形成凹陷部分M2。

如上所述，光学信息记录介质10可以通过由记录层14向粘合剂层15A的凸出形状来记录信息，由此，不需要达到记录层的分解或相变这样的能量，另外，像传统的通过凹陷形状来进行记录那样的记录层某程度上大的吸收率也是不需要的，因此可通过较小的能量进行信息的记录。由此，能够以高灵敏度记录信息，另外，记录层14每一层对记录光的吸收率变小，从而能够谋求记录层14的多层化。

如图4所示，将读出光OB以连续波激光照射在记录记号M时，由于记录层14的折射率与粘合剂层15A的折射率存在差异，反射界面18A处读出光OB发生反射。此时，记录记号M的周围的反射界面18A与记录记号M处的反射光的强度产生差异，因此可以通过该反射率的不同来检测记录记号M。需要说明的是，由于记录层14的折射率在记录的前后没有变化，因此读出光OB的反射不会发生在记录层14的内部，而只会发生在反射界面18A处，因此可稳定地检测记录记号M。为了这样的光学检测，优选的是，凸出部分M1相对于变形前的界面(反射界面18A)突出1～300nm左右。

本实施方案中，记录记号M在凸出部分M1的周围形成有凹陷部分M2，因此，据认为，用于读取记录记号M的读出光OB照射在记录记号M处时，与仅有凸出部分M1的情况相比，记录记号M导致的反射光的强度分布随着与凸出部分M1的中央的距离而急剧变化，并且能够以高调制度进行读取。

需要说明的是，本发明不仅仅是使记录层14变形为凸出形状来记录信息的情况，也包含使之变形为凹陷形状来记录信息的情况。例如，通过增大峰值功率等来提高记录光的能量，可以使记录层14变形为凹陷形状以记录信息。另外，对本实施方案的光学信息记录介质10进行记录时，即使无反射界面18B发生变形，由于在无反射界面18B处读出光OB不发生反射，因此无反射界面18B的变形对再现也不会有任何影响。

清除记录层14上记录的信息时，将记录层14加热至高分子粘接剂的玻璃化转变温度附近的温度、优选加热至比玻璃化转变温度更高的温度，以增加高分子粘接剂的流动性，并且由于表面张力使得界面18的变形消失从而恢复到初始的平面，由此，可以清除记录于该记录层14上的信息。通过这样清除信息，可以再次在记录层14上进行记录(重复记录)。该加热时，可以采用用连续波激光器照射使得激光聚焦于记录层14的方法。通过用连续波激光器进行加热，可以均匀地清除记录层14中连续的区域的信息。该连续波激光器可以采用用于信息再现的激光器，也可以使用其他的激光器。在任意一种情况中，优选使用发射能够在记录层14中发生单光子吸收的波长的光的激光器。

另外，通过加热记录层14来清除信息时，将整个光学信息记录介质10加热至高于高分子粘结剂的玻璃化转变温度的温度，从而能够一次性清除记录于记录层14中的所有信息。由此，可以容易地清除光学信息记录介质10的所有信息以进行初始化。另外，当废弃光学信息记录介质10时，也能够容易地清除掉信息。

如上所述，在本实施方案的光学信息记录介质10中，由于记录层14具有的染料是单光子吸收染料，因此可由峰值功率较小的激光束进行信息的记录。另外，由于可以使用半导体激光作为峰值功率较小的激光，因此可以容易地调节激光束的输出等。此外，光学信息记录介质10中，记录层14含有染料结合到高分子粘接剂上而成的记录材料，因此可以抑制染料向中间层15扩散，并且能够提高光学信息记录介质10的长期稳定性。

虽然以上对本发明实施方案进行了说明，但本发明并不限于上述实施方案，可以适当改变来实施。

上述实施方案中，虽然光学信息记录介质10中通过记录光的照射而构成为仅在一侧的界面(反射界面18A)处形成凸出形状、而在另一侧的界面(无反射界面18B)处未形成凸出形状，但本发明并不限于此。即，本发明的光学信息记录介质也可以构成为在记录层两侧的界面处作为不同的信息分别形成朝向中间层的凸出形状。具体而言，例如，可以通过将与记录层相邻的中间层全部设为上述实施方案的粘合剂层15A来实现。这种情况下，为了不发生层间串扰，记录层每层的厚度优选为2μm以上，更优选为5μm以上，进一步优选为7μm以上。另外，厚度的上限没有特别限定，但为了提高记录层的数目，在不发生层间串扰的限度内优选较薄，例如优选为20μm以下。

上述实施方案中，如图2所示，光学信息记录介质10具有引导层11A和反射层12、分隔层13、覆盖层16、硬涂层17，但本发明并不限于此，这些层的有无是任意的。另外，上述实施方案中，如图1所示，光学信息记录介质10容纳在盒20中，但本发明并不限于此，也可以是未容纳在盒中的形态。另外，上述实施方案中，举例示出了设置有多个记录层14的光学信息记录介质10，但本发明并不限于此，记录层也可以是1层。

下面，对制造如上所述的光学信息记录介质10的优选方法的一个例子进行说明。

如图5(a)所示，在第1剥离片S1的涂布有剥离剂的一侧的表面上形成粘合剂层15A，从而形成第1片材110。具体而言，粘合剂层15A可以通过(例如)将粘合剂涂布在第1剥离片S1上而形成。

另外，在与第1剥离片S1另外准备的第2剥离片S2的涂布有剥离剂的一侧的表面上形成记录层支持层15B，并在该记录层支持层15B之上形成记录层14从而形成第2片材120。需要说明的是，第2剥离片S2上涂布有剥离性能高的剥离剂，使得剥离第2剥离片S2时的力弱于剥离第1剥离片S1时的力。

这里，对第2片材120中各层的形成方法进行具体说明的话，记录层支持层15B可以通过(例如)将紫外线固化性树脂涂布在第2剥离片S2上，并照射紫外线使之固化而形成。另一方面，记录层14可以通过以下工序形成：将含有单光子吸收染料结合在高分子粘接剂上而成的记录材料的记录层14的材料溶解在溶剂中从而调制涂布液(第1工序)，将该涂布液涂布在形成记录层14的面即记录层支持层15B的表面上(第2工序)，进行用于除去涂布液中的溶剂的加热处理(第3工序)。

第1工序中，作为溶解记录层14的材料的溶剂，可以使用二氯甲烷、氯仿、甲乙酮(MEK)、丙酮、甲基异丁基酮(MIBK)、甲苯、己烷、丙二醇单甲醚醋酸酯(PGMEA)、环己酮等。另外，第1工序中，记录材料中所含的单光子吸收染料的浓度可以通过向涂布液中添加高分子粘接剂来调节，换句话说，可以通过使高分子粘接剂与记录材料一起溶解在溶剂中来调节。另外，第3工序中，加热处理的温度优选比记录层14的玻璃化转变温度更高。

需要说明的是，上述第1片材110和第2片材120的制作顺序没有特别限制。另外，各层的材料的涂布方法没有特别限定，但可以采用旋涂法、刮刀涂布法、辊涂法、棒涂法、刮板涂布法、模具涂布法、凹版涂布法等。

然后，如图5(b)所示，通过将第1片材110的粘合剂层15A与第2片材120的记录层14粘合，使第2片材120重叠在第1片材110上，得到第3片材130。接着，如图5(c)所示，将第2剥离片S2从第3片材130上除去，使记录层支持层15B露出。如前所述，第2剥离片S2比第1剥离片S1更容易剥离，因此可以仅将第2剥离片S2除去而不会剥离第1剥离片S1。

然后，如图6(a)所示，采用与形成上述第2片材120时的记录层14的形成方法相同的方法，在露出的记录层支持层15B的表面上形成记录层14，从而得到多层结构片材150。需要说明的是，此时记录层14的形成方法可以是与形成第2片材120时的记录层14的形成方法不同的方法。

将如上所得的多层结构片材150缠绕成卷状保存，使用时仅抽出必要的部分。

然后，准备基板11(这里，省略了基板11上形成的凹凸、反射层12以及分隔层13的图示)，另一方面，抽出缠绕成卷状的多层结构片材150，并冲压成与基板11匹配的形状。接着，如图6(b)所示，将第1剥离片S1从该冲压的多层结构片材150上除去，得到露出粘合剂层15A的多层结构片210。

然后，如图6(c)所示，通过将多层结构片210的露出的粘合剂层15A粘贴在基板11上，从而如图6(d)所示在基板11上形成1个单元结构(从下面起依次为粘合剂层15A、记录层14、记录层支持层15B和记录层14)。

其后，如图6(e)所示，通过将另一个多层结构片210的粘合剂层15A粘合到粘合在基板11上的多层结构片210的最上层上所配置的记录层14上，如图6(f)所示，在基板11上形成2个单元结构。接着，进一步将其它的多层结构片210叠加到设置在基板11上的最上层的记录层14上，将该工序重复进行必要的次数。

最后，通过在最上层的记录层14之上形成粘合剂层15A、并形成覆盖层16和硬涂层17，可以制造如图2所示的、具有设置有多层记录层14的多层结构的光学信息记录介质10。

根据以上说明的制造方法，可以制造在提高长期稳定性的同时，可由峰值功率较小的激光来进行信息记录的光学信息记录介质10。另外，由于记录层14的材料含有染料结合在高分子化合物上而成的记录材料，因此与使用了染料分散在高分子粘接剂中的材料的情况相比，染料发生扩散或凝集等从而发生相分离的可能性较低，因此为了除去记录层14形成时的溶剂可以进行加热处理。由此，可在短时间内除去溶剂，因此可以提高光学信息记录介质10的生产性。

另外，记录层14形成时，通过向涂布液中添加高分子粘接剂来调节记录材料中所含的单光子吸收染料的浓度，即使记录层14的厚度变厚，也能减小记录读出光的吸收率。由此，例如，在使记录层14的厚度厚至某种程度从而容易形成记录记号M的同时，减小记录层14每一层的吸收率，可以谋求记录层14的多层化。另外，通过使形成记录层14时的加热处理的温度比记录层14的玻璃化转变温度更高，可以在更短的时间内除去溶剂，所以能进一步提高光学信息记录介质10的生产性。

实施例

下面对评价本发明光学信息记录介质性能的实验进行说明。

<记录材料>

[实施例1]

实施例1中，使用单光子吸收染料结合在高分子粘接剂上而成的材料作为记录材料。

具体而言，使用上述化学结构式C-1所示的化合物作为单光子吸收染料结合在高分子粘接剂上而成的记录材料。需要说明的是，该记录材料中单光子吸收染料的质量比例为22质量％。

化学结构式C-1的化合物通过以下所示的方法合成。

[化学式2]

(1)原料化合物M-1的合成

将BASF制造的Tinuvin109水解后，还原得到的3-[3-叔丁基-5-(5-氯-2H-苯并三唑-2-基)-4-羟基苯基]丙醇0.7g与0.31g的昭和电工株式会社制造的Karenz MOI溶于5mL甲乙酮中。接着，加入0.02g月桂酸二丁基锡和0.02g对甲氧基苯酚，于75℃下反应4小时后，蒸馏除去溶剂，得到1.0g化合物M-1。

(2)C-1的合成

将3.4mL丙二醇单甲醚醋酸酯在氮气气氛下于90℃加热搅拌，并花费2小时向其中滴加1.0g化合物M-1、3.5g甲基丙烯酸苄基酯和0.14g和光纯药工业株式会社制造的V-601的丙二醇单甲醚醋酸酯溶液3.4mL。滴加结束后，加入0.14g V-601，在90℃下加热搅拌4小时，然后放置冷却，得到40质量％的化学结构式C-1化合物的丙二醇单甲醚醋酸酯溶液11g。

[比较例1]

比较例1中，使用了单光子吸收染料分散在高分子粘接剂中的材料作为记录材料。

具体而言，使用聚甲基丙烯酸苄基酯作为高分子粘接剂，使用以下所示化合物P-1(3-[3-叔丁基-5-(5-氯-2H-苯并三唑-2-基)-4-羟基苯基]丙醇)作为单光子吸收染料。

[化学式3]

化合物P-1是通过将BASF制造的Tinuvin109水解后还原得到的。

[比较例2]

比较例2中，使用了双光子吸收染料结合到高分子粘接剂上而成化的化合物作为记录材料。

具体而言，使用了以下所示化合物D-1作为双光子吸收染料结合到高分子粘接剂上而成的记录材料。需要说明的是，该记录材料中双光子吸收染料的质量比例为40质量％。

[化学式4]

化合物D-1通过以下所示的方法合成。

[化学式5]

(1)原料化合物1的合成

将27.0g(250mmol)苯甲醚和42.9g(200mmol)4-溴-苯甲酰氯溶于500mL二氯甲烷中，并冷却至内部温度为5℃，然后分6次添加33.4g(250mmol)氯化铝，在氮气气氛下搅拌8小时。将反应溶液倒入水中后用二氯甲烷萃取，并用旋转蒸发仪蒸干，从而定量地得到白色的化合物1。所得化合物1通过¹H NMR确认为目标生成物。

(2)原料化合物2的合成

向35.0g(120mmol)原料化合物1中加入140mL氢溴酸、220mL醋酸，在内部温度110℃下搅拌12.5小时。放置冷却至室温后，将反应溶液倒入水中并在室温下搅拌20分钟。将沉淀过滤后用纯水、己烷：乙酸乙酯＝5:1洗涤并减压干燥从而定量地得到白色的化合物2。所得化合物2通过¹H NMR确认为目标生成物。

(3)原料化合物3的合成

将9.74g(35.1mmol)原料化合物2溶于70mL四氢呋喃中并添加7.10g(70.2mmol)三乙胺，冷却至内部温度为5℃。其后，边滴加3.67g(35.1mmol)甲基丙烯酰氯，边在氮气气氛下搅拌2小时。将反应溶液倒入水中，并在室温下搅拌20分钟。将析出的沉淀过滤、室温干燥从而定量地得到白色的化合物3。所得化合物3通过¹H NMR确认为目标生成物。

(4)原料化合物4的合成

向63.5g(214mmol)5-溴-2-碘甲苯、44.7g(235mmol)4-三氟甲基苯硼酸、2.40g(10.7mmol)乙酸钯、68.0g(642mmol)碳酸钠中加入350mL 1,2-二甲氧基乙烷、70mL水，并在氮气气氛下于外部温度90℃搅拌72小时。放置冷却至室温后，用乙酸乙酯萃取并用旋转蒸发仪浓缩后用硅胶柱(己烷)纯化得到57.9g白色的化合物4(产率86％)。所得化合物4通过¹H NMR确认为目标生成物。

(5)原料化合物5的合成

向57.9g(184mmol)原料化合物4、56.1g(221mmol)双戊酰二硼、4.25g(5.20mmol)[1,1'-双(二苯基膦)二茂铁]二氯化钯(II)二氯甲烷加合物、54.2g(552mmol)醋酸钾中加入400mL二甲亚砜，并在氮气气氛下于内部温度90℃搅拌5小时。放置冷却至室温后，用乙酸乙酯萃取并用旋转蒸发仪浓缩后用硅胶柱(己烷：乙酸乙酯＝10:1)纯化得到57.5g白色的化合物5(产率86％)。所得化合物5通过¹HNMR确认为目标生成物。

(6)原料化合物6的合成

向14.8g(42.9mmol)原料化合物3、18.6g(51.5mmol)原料化合物5、2.48g(2.15mmol)四三苯基膦钯、17.8g(129mmol)碳数钾、1mg二丁基羟基甲苯中加入170mL甲苯、20mL水，并在氮气气氛下于外部温度90℃搅拌12小时。放置冷却至室温后，用乙酸乙酯萃取并用旋转蒸发仪浓缩后用硅胶柱(乙酸乙酯：己烷＝1:5)纯化，并用乙酸乙酯/己烷重结晶，过滤、干燥得到6.8g白色的化合物6(产率32％)。所得化合物6通过¹H NMR确认为目标生成物。¹H NMR(CDCl₃)7.92(d,4H)、7.76(dd,2H)、7.71(d,2H)、7.59-7.55(m,2H)、7.50(d,2H)、7.34(d,1H)、7.29(dd,2H)、6.41(s,1H)、5.82(t,1H)、2.37(s,3H)

(7)D-1的合成

在氮气气氛下于外部温度70℃搅拌5g四氢呋喃。在2小时内向其中滴加溶解于26.7g四氢呋喃中的2.00g(4.00mmol)原料化合物6、11.6g(116mmol)甲基丙烯酸甲酯、29.8mg(0.12mmol)2,2'-偶氮双(2,4-二甲基戊腈)，随后搅拌8小时。放置冷却至室温后，用丙酮稀释，用丙酮/己烷重结晶，过滤、干燥得到4.77g化合物D-1。所得聚合物通过¹H NMR确认组成，并通过GPC进行分子量测定。(组成比原料化合物6/甲基丙烯酸甲酯＝12/88(摩尔比)，Mw＝367,000)

<光学信息记录介质的制作>

[实施例1]

(1)中间层(记录层支持层)的形成

用旋涂法在玻璃制基板(直径120mm，厚度1mm)上涂布厚度为20μm的紫外线固化性树脂(DIC株式会社制造的SD-640，Tg＝86℃)，并通过紫外线的照射使之固化从而形成中间层(记录层支持层)。

(2)记录层的形成

首先，将上述化学结构式C-1的记录材料溶于丙二醇单甲醚乙酸酯中使固体含量浓度为13质量％，从而制备涂布液。其后，用旋涂法在中间层(记录层支持层)上涂布厚度为1μm的涂布液，从而形成记录层。

(3)中间层(粘合剂层)的形成

首先，制备表面上已涂布了有机硅剥离层的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜作为剥离片，并用棒涂法在其上涂布厚度为20μm的丙烯酸酯类粘合剂从而形成粘合剂层。其后，通过将粘合剂层粘贴在记录层之上，并除去剥离片而形成中间层(粘合剂层)。

(4)覆盖层的形成

将厚度为67μm的聚碳酸酯薄膜(帝人化成株式会社制造的Panlite(注册商标)膜D-67)粘贴在中间层(粘合剂层)之上从而形成覆盖层。

[比较例1]

(1)中间层(记录层支持层)的形成

采用与上述实施例1相同的方法形成。

(2)记录层的形成

将上述化合物P-1(单光子吸收染料)与聚甲基丙烯酸苄基酯(Sigma-Aldrich公司制，Mw～70000)以质量比为22:78的比例溶于甲乙酮中，制备固体含量浓度为10质量％的涂布液。其后，用旋涂法在中间层(记录层支持层)之上涂布厚度为1μm的涂布液，从而形成记录层。

(3)中间层(粘合剂层)的形成

采用与上述实施例1相同的方法形成。

(4)覆盖层的形成

采用与上述实施例1相同的方法形成。

[比较例2]

(1)中间层(记录层支持层)的形成

采用与上述实施例1相同的方法形成。

(2)记录层的形成

将上述化合物D-1溶于甲乙酮中使固体含量浓度为10质量％，从而制备涂布液。其后，用旋涂法在中间层(记录层支持层)之上涂布厚度为1μm的涂布液，从而形成记录层。

(3)中间层(粘合剂层)的形成

采用与上述实施例1相同的方法形成。

(4)覆盖层的形成

采用与上述实施例1相同的方法形成。

<性能评价>

(1)记录层的吸收率的评价

在石英玻璃上用旋涂法涂布在上述记录层形成过程中制备的、溶剂中溶解有记录材料的涂布液使得厚度为1μm，分别制备针对实施例1和比较例1、2的只形成有记录层的样品。接着，通过分光光度计(株式会社岛津制作所制造的UV3100-PC)测定各样品(记录层)在波长405nm处的吸光度。需要说明的是，基线通过石英玻璃单独的测定值来进行校正。

通过下式由所得到的吸光度来计算光吸收率。

光吸收率＝(1-10^-(吸光度))×100

结果，确认了实施例1和比较例1为8％，比较例2为0％。

(2)记录性能的评价

[记录再现评价装置]

对实施例1和比较例1、2的各光学信息记录介质的记录再现使用与通常的BD读取光学系统(BDピックアップ光学系)相同的系统，并且使用Pulstec工业株式会社制造的ODU-1000作为由主轴电机和记录再现激光、光接收元件等构成的评价系统的控制单元。使用波长405nm的半导体激光器作为激光光源，并使用开口数(NA)0.85的物镜作为物镜，监测来自记录层的反射光从而得到再现信号。将反射光的一部分导入聚焦控制用的光接收元件，并通过控制物镜的位置来进行聚焦控制。

使用上述的记录再现评价装置，通过下述的记录条件对实施例1和比较例1、2的各光学信息记录介质进行记录，其后，通过下述的再现条件得到再现信号从而评价CNR(Carrier to Noise ratio，载噪比)。

记录条件  线速度          ：2m/s

          记录光的峰值功率：30mW

          脉冲发光时间    ：30ns

          脉冲发光周期    ：1MHz

再现条件  线速度          ：2m/s

          读出光的峰值功率：1mW

结果，含有单光子吸收染料作为染料的实施例1和比较例1中，表现出记录灵敏度和再现信号的强度均为足够，得到了35dB以上的CNR，并确认了即使是峰值功率小至30mW的记录光也能记录信息。另一方面，含有双光子吸收染料作为染料的比较例2中，CNR为0dB，并确认了用30mW的峰值功率的记录光不能记录信息。

如上所述，确认了本发明的光学信息记录介质(实施例1)即使是采用峰值功率小的激光束也能记录信息。

(3)保存性能的评价

对于实施例1和比较例1的各光学信息记录介质，对来自记录层与中间层(粘合剂层)的界面的反射光的强度进行测定后，在80℃、85％RH的环境下保存各光学信息记录介质，并在100小时后测定来自记录层与中间层(粘合剂层)的界面的反射光的强度。需要说明的是，反射光强度的测定使用了多层膜厚测定器SI-TS10(Keyence株式会社制造)。

结果确认了，实施例1中，100小时后的反射光强度表现出为保存前的反射光强度的90％这样高的值，反射光强度的变化很小。这意味着含有染料结合到高分子粘接剂上而成的记录材料的光学信息记录介质即使在高温多湿条件下保存，记录层中的染料也难以扩散到中间层，意味着保存稳定性良好。另一方面，确认了比较例1中，100小时后的反射光强度低至保存前的反射光强度的65％，反射光强度的变化很大。这意味着染料分散到高分子粘接剂中的光学信息记录介质在高温多湿条件下保存时，记录层中的染料容易扩散到中间层，意味着由于界面反射强度显著降低，再现信号显著劣化。

如上所述，确认了本发明的光学信息记录介质(实施例1)的长期稳定性优异。

(4)记录记号形状的评价

将中间层(粘合剂层)从记录有信息的实施例1的光学信息记录介质上剥离，使记录层的表面露出，从而通过以下的原子力显微镜(AFM)测定记录层的表面。

[原子力显微镜]

装置：纳米搜索显微镜OLS-3500(奥林巴斯株式会社制造)

观察条件：动态模式，扫描范围5μm、扫描速度1Hz

探针：高纵横比探针AR5-NCHR-20(Nano World公司制造)

结果确认了：在记录层的表面上，记录位置处形成有朝向粘合剂层一侧突出的突起(凸出形状)。

然后，对确认本发明的光学信息记录介质制造方法的效果的实验进行说明。

<记录材料>

这里，使用单光子吸收染料结合到高分子粘接剂上而成的材料作为记录材料。

具体而言，使用以下化学结构式A所示的化合物(以下称为化合物A)作为单光子吸收染料结合到高分子粘接剂上而成的记录材料。需要说明的是，该记录材料中单光子吸收染料的质量比为50质量％。

[化学式6]

化合物A通过以下所示的方法合成。

[单体(1)的合成]

单体(1)的合成根据以下路线进行。

[化学式7]

将32g BASF制造的Tinuvin326和20g N-溴代琥珀酰亚胺溶于200mL氯仿中，加入0.14g和光纯药工业株式会社制造的V-601，加热回流6小时。放置冷却后，加入300mL乙腈，用冰冷却，过滤生成的结晶从而得到36g中间体A。

将8.0g中间体A和3.2g甲基丙烯酸钠在80mL丙酮中搅拌8小时。反应液用氯仿萃取、水洗、蒸馏除去溶剂，所得固体用乙腈重结晶，得到6.3g单体(1)。

[化合物A的合成]

将3.1mL丙二醇单甲醚乙酸酯在氮气气氛下于90℃加热搅拌，并花费2小时向其中滴加2.0g单体(1)、2.0g甲基丙烯酸苄基酯和0.11g和光纯药工业株式会社制造的V-601的丙二醇单甲醚乙酸酯溶液6.5mL。滴加结束后，添加0.11g V-601，在90℃下加热搅拌4小时，然后放置冷却，得到化合物A的30质量％的丙二醇单甲醚醋酸酯溶液。

<记录层涂布液的制备>

[涂布液1]

用丙二醇单甲醚乙酸酯稀释上述化合物A，制备固体含量浓度为13质量％的涂布液1。

[涂布液2]

将上述化合物A与聚甲基丙烯酸苄基酯(Sigma-Aldrich公司制造，Mw～70000)以80:20的质量比溶于丙二醇单甲醚乙酸酯中，制备固体含量浓度为9质量％的涂布液2。

涂布液2相当于添加高分子粘接剂以调节记录材料中所含单光子吸收染料的浓度的涂布液，而涂布液1相当于未调节记录材料中所含单光子吸收染料的浓度的涂布液。

<记录层的吸收率的测定>

用旋涂法在石英玻璃上涂布1μm厚度的涂布液1、2，分别制备了针对涂布液1、2的只形成有记录层的样品。接着，通过与上述记录层的吸收率的评价相同的方法计算光吸收率。

结果确认了，由涂布液1形成的记录层的光吸收率为8％，由涂布液2形成的记录层的光吸收率为6.4％。

如上所述，确认了：通过添加高分子粘接剂来调节记录材料中所含单光子吸收染料的浓度，在记录层的厚度相同的情况下，可以减小光吸收率(可以抑制吸收率)。

<记录层的耐热性的评价>

用旋涂法在石英玻璃上涂布1μm厚度的涂布液1，制备了只形成有记录层的样品。

接着，刮下形成在石英玻璃上的记录层的一部分，并通过DSC测定(差示扫描量热测定)对所刮下的记录层进行测定。结果，记录层的玻璃化转变温度为62℃。

另外，将上述在石英玻璃上形成有记录层的样品于100℃下放置1小时，然后用目视和光学显微镜观察记录层。结果，未确认到伴随着染料的相分离等的记录层的白化。

如上所述，确认了本发明的光学信息记录介质(记录层)可以在比玻璃化转变温度更高的温度下加热处理。由此，可在短时间内除去溶剂，因此，可以说根据本发明能够提高光学信息记录介质的生产性。

Claims (17)

1.一种光学信息记录介质，其为具有至少一个记录层以及与该记录层相邻的至少一个中间层的光学信息记录介质，其特征在于，

所述记录层含有单光子吸收染料结合在高分子化合物上而成的记录材料。

2.根据权利要求1所述的光学信息记录介质，其特征在于，含有多个记录层，并且所述中间层设置在相邻的两个记录层之间。

3.根据权利要求1或2所述的光学信息记录介质，其特征在于，所述各记录层在与夹着该记录层的两个中间层之间形成第1界面和第2界面，并且通过所述单光子吸收染料吸收记录光所产生的热而发生变形，从而在所述第1界面和所述第2界面中至少一者的界面处形成朝向所述中间层的凸出形状而记录信息。

4.根据权利要求3所述的光学信息记录介质，其特征在于，所述记录材料中所述单光子吸收染料的质量比不足50％。

5.根据权利要求3或4所述的光学信息记录介质，其特征在于，所述记录层的厚度为50nm以上。

6.根据权利要求3至5中任意一项所述的光学信息记录介质，其特征在于，形成了其中形成有所述凸出形状的界面的中间层比所述记录层软。

7.根据权利要求3至6中任意一项所述的光学信息记录介质，其特征在于，形成了其中形成有所述凸出形状的界面的中间层的玻璃化转变温度低于所述记录层的玻璃化转变温度。

8.根据权利要求3至7中任意一项所述的光学信息记录介质，其特征在于，形成了其中形成有所述凸出形状的界面的中间层为粘合剂层。

9.根据权利要求3至8中任意一项所述的光学信息记录介质，其特征在于，通过记录光的照射，所述第1界面和所述第2界面中，仅在一个界面处形成所述凸出形状，而在另一界面处未形成所述凸出形状，

形成了其中形成有所述凸出形状的界面的中间层与所述记录层的折射率差大于形成了其中未形成有所述凸出形状的界面的中间层与所述记录层的折射率差。

10.根据权利要求9所述的光学信息记录介质，其特征在于，形成了其中未形成有所述凸出形状的界面的中间层的折射率与所述记录层的折射率相同。

11.根据权利要求3至10中任意一项所述的光学信息记录介质，其特征在于，以变形前的所述界面为基准，所述凸出形状的突出在1nm～300nm的范围内。

12.根据权利要求3至11中任意一项所述的光学信息记录介质，其特征在于，所述中间层的厚度为2μm～20μm。

13.根据权利要求1至12中任意一项所述的光学信息记录介质，其特征在于，具有用于保护所述记录层的覆盖层。

14.根据权利要求13所述的光学信息记录介质，其特征在于，所述覆盖层的厚度为0.01mm～0.2mm。

15.一种光学信息记录介质的制造方法，其为具有记录层以及与该记录层相邻的中间层的光学信息记录介质的制造方法，其特征在于，具有：

将含有单光子吸收染料结合在高分子化合物上而成的记录材料的记录层的材料溶解在溶剂中从而调制涂布液的第1工序；

将所述涂布液涂布在形成记录层的面上的第2工序；以及

进行用于除去所述溶剂的加热处理的第3工序。

16.根据权利要求15所述的光学信息记录介质的制造方法，其特征在于，在所述第1工序中，添加所述高分子化合物以调节所述记录材料中所含的所述单光子吸收染料的浓度。

17.根据权利要求15或16所述的光学信息记录介质的制造方法，其特征在于，在所述第3工序中，所述加热处理的温度高于所述记录层的玻璃化转变温度。