JPWO2014050443A1 - 光情報記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
保存性などの長期安定性に優れ、かつ、ピークパワーの小さいレーザによる記録が可能な光情報記録媒体および光情報記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。記録層14と、当該記録層14に隣接する中間層15(粘着剤層15Aおよび記録層支持層15B)とを備えた光情報記録媒体10であって、記録層14は、高分子バインダー(高分子化合物)に1光子吸収色素が結合されてなる記録材料を含んでいる。
Description
本発明は、少なくとも1つの記録層と、当該記録層に隣接する少なくとも1つの中間層とを備えた光情報記録媒体およびその製造方法に関する。
記録層と中間層を備えた光情報記録媒体として、例えば、特許文献1には、記録層が、高分子バインダーと、高分子バインダーに分散された色素とを有してなるものが開示されている。また、特許文献1には、多層の記録層を有する光情報記録媒体において、記録再生時における隣接記録層への影響を最小限にするために多光子吸収色素を含むことが望ましいことが記載されている。
ところで、記録層中の高分子バインダーに分散された色素は、時間の経過によって中間層へ拡散することが懸念される。色素が中間層に拡散すると、例えば、記録層と中間層との界面で光が反射しにくくなるので、情報の記録や読み取りの性能が低下するおそれがある。従って、記録層中に色素が分散された光情報記録媒体は、保存性などの長期安定性に問題が生じる可能性がある。
また、記録層が多光子吸収色素を含む場合、情報を記録するためにはピークパワーの大きい超短パルスレーザが必要となるため、例えば、光記録装置が高価になるという問題がある。そのため、ピークパワーの小さい、従来の光記録に用いられてきた半導体レーザなどでも情報の記録が行える光情報記録媒体が望まれている。
そこで、本発明は、長期安定性に優れ、かつ、ピークパワーの小さいレーザによる記録が可能な光情報記録媒体およびその製造方法を提供することを目的とする。
前記した目的を達成するための本発明は、少なくとも1つの記録層と、当該記録層に隣接する少なくとも1つの中間層とを備えた光情報記録媒体であって、記録層は、高分子化合物に1光子吸収色素が結合されてなる記録材料を含むことを特徴とする。
このような構成によれば、記録層が、高分子化合物に色素が結合された記録材料を含むため、色素が中間層に拡散することを抑制することができ、光情報記録媒体の長期安定性を向上させることができる。また、色素が1光子吸収色素であるため、ピークパワーの小さいレーザによる情報の記録が可能である。
前記した光情報記録媒体は、複数の記録層を含み、中間層は、隣接する2つの記録層の間に設けられた構成とすることが望ましい。
これによれば、光情報記録媒体の大容量化を図ることができる。
これによれば、光情報記録媒体の大容量化を図ることができる。
前記した光情報記録媒体において、各記録層は、当該記録層を挟む2つの中間層との間で第1界面および第2界面を形成し、1光子吸収色素が記録光を吸収して発生する熱により変形して、第1界面および第2界面の少なくとも一方の界面に中間層に向かう凸形状が形成されることで情報が記録される構成とすることができる。
これによれば、比較的小さなエネルギーで情報の記録が可能となるので、情報を高感度で記録することができる。
これによれば、比較的小さなエネルギーで情報の記録が可能となるので、情報を高感度で記録することができる。
前記した光情報記録媒体において、記録材料は、1光子吸収色素の質量比が50%未満であることが望ましい。
これによれば、変形前の界面を基準として十分な高さの凸形状を形成することができる。
これによれば、変形前の界面を基準として十分な高さの凸形状を形成することができる。
前記した光情報記録媒体において、記録層は、厚みが50nm以上であることが望ましい。
これによれば、記録層の厚みが十分に厚いため、凸形状を形成しやすくすることができる。
これによれば、記録層の厚みが十分に厚いため、凸形状を形成しやすくすることができる。
前記した光情報記録媒体において、凸形状が形成される界面を形成する中間層は、記録層よりも軟らかいことが望ましい。これを記録層と中間層のガラス転移温度の観点で言えば、凸形状が形成される界面を形成する中間層のガラス転移温度は、記録層のガラス転移温度よりも低いことが望ましい。また、これを具体的な構成で言えば、凸形状が形成される界面を形成する中間層は、粘着剤層であると言うことができる。
これによれば、記録光の照射によって記録層が変形、例えば、熱膨張したときに、この熱膨張による圧力により中間層が変形しやすくなるので、凸形状を残しやすくすることができる。なお、記録層と中間層の硬さの比較は、それぞれを構成する材料のバルク体を互いに押し付け合うことで確認することができる。すなわち、バルク体同士を押し付け合ったときに大きく凹む方が軟らかいと確認することができる。
前記した光情報記録媒体は、記録光の照射により、第1界面および第2界面のうち、一方の界面のみで凸形状が形成され、他方の界面においては凸形状が形成されない構成とすることができる。この場合、凸形状が形成される界面を形成する中間層と記録層との屈折率の差は、凸形状が形成されない界面を形成する中間層と記録層との屈折率の差よりも大きいことが望ましい。
これによれば、凸形状が形成される界面は、情報の読取に用いられるので、界面両側の材料の屈折率差が大きいことで界面反射率が比較的大きくなって情報を読み取りやすくなり、また、凸形状が形成されない界面は、情報の読取に用いられないので、界面両側の材料の屈折率差を小さくすることで、記録・読出に用いられる光(以下、記録読出光という。)の透過率、詳細には第1界面および第2界面を合わせた透過率を高くすることができる。これにより、記録層を多層にした場合に、記録読出光の照射側から見て奥深くの記録層にまで光を届かせることができるので、多層化による記録容量の増大に有利である。
また、前記した構成においては、凸形状が形成されない界面を形成する中間層の屈折率と記録層の屈折率が、同じであることが望ましい。
これによれば、界面における光の反射率が実質的に0になるため、記録層を多層にした場合に、記録読出光の照射側から見て奥深くの記録層にまで光を届かせることができるので、多層化による記録容量の増大により有利である。
これによれば、界面における光の反射率が実質的に0になるため、記録層を多層にした場合に、記録読出光の照射側から見て奥深くの記録層にまで光を届かせることができるので、多層化による記録容量の増大により有利である。
前記した光情報記録媒体は、凸形状が、変形前の界面を基準として1nm〜300nmの範囲で突出する構成とすることができる。
前記した光情報記録媒体において、中間層は、厚みが2μm〜20μmであることが望ましい。
これによれば、記録層間の層間クロストークの発生を抑制しつつ、記録層の層数を多くすることができる。
これによれば、記録層間の層間クロストークの発生を抑制しつつ、記録層の層数を多くすることができる。
前記した光情報記録媒体は、記録層を保護するためのカバー層を備えていてもよい。
これによれば、記録層の傷や汚れなどを抑制することができる。
これによれば、記録層の傷や汚れなどを抑制することができる。
また、カバー層は、厚みが0.01mm〜0.2mmであることが望ましい。
これによれば、カバー層が薄すぎる場合に問題となる記録再生時におけるカバー層の傷や汚れなどの検出を抑制しつつ、カバー層が厚すぎる場合に問題となる光記録装置の光学系の収差を抑制することができる。
これによれば、カバー層が薄すぎる場合に問題となる記録再生時におけるカバー層の傷や汚れなどの検出を抑制しつつ、カバー層が厚すぎる場合に問題となる光記録装置の光学系の収差を抑制することができる。
前記した光情報記録媒体は、トラッキングサーボを行うためのガイド層を備えていてもよい。この場合、本発明の光情報記録媒体は、記録層とガイド層の間隔を調整するためのスペーサ層を備えることが望ましい。
これによれば、ガイド層で反射した光がガイド層に最も近い記録層に与える影響を低減することができる。
また、スペーサ層は、厚みが5μm〜100μmであることが望ましい。
これによれば、ガイド層で反射した光がガイド層に最も近い記録層に与える影響を低減することができる。
また、スペーサ層は、厚みが5μm〜100μmであることが望ましい。
前記した光情報記録媒体は、光入射側の面に形成されたハードコート層を備えていてもよい。
これによれば、光情報記録媒体の光入射側の表面の傷や汚れなどを抑制することができる。
これによれば、光情報記録媒体の光入射側の表面の傷や汚れなどを抑制することができる。
前記した光情報記録媒体は、カートリッジに収容されている構成としてもよい。
これによれば、光情報記録媒体の傷を抑制したり、耐光性を向上させたりすることができる。
これによれば、光情報記録媒体の傷を抑制したり、耐光性を向上させたりすることができる。
また、前記した目的を達成するための本発明は、記録層と、当該記録層に隣接する中間層とを備えた光情報記録媒体の製造方法であって、高分子化合物に1光子吸収色素が結合されてなる記録材料を含む記録層の材料を、溶媒に溶解して塗布液を調整する第1工程と、塗布液を記録層を形成する面に塗布する第2工程と、溶媒を除去するための加熱処理を実行する第3工程と、を有することを特徴とする。
このような方法によれば、長期安定性を向上させつつ、ピークパワーの小さいレーザによる情報の記録が可能な光情報記録媒体を製造することができる。また、記録層の材料が、高分子化合物に色素が結合された記録材料を含むので、記録材料として高分子化合物に色素が分散された材料を用いる場合と比較して、色素が拡散や凝集などを起こして相分離する可能性が低いため、溶媒を除去するのに加熱処理を実行することが可能となる。これにより、短時間で溶媒を除去できるので、光情報記録媒体の生産性を向上させることができる。
前記した第1工程において、記録材料に含まれる1光子吸収色素の濃度は、高分子化合物を加えて調整することができる。
これによれば、例えば、記録材料に含まれる1光子吸収色素の濃度を高分子化合物で適度に希釈することで、記録層の厚みを厚くしても、記録読出光の吸収率を小さくすることができる。これにより、例えば、記録層の厚みをある程度厚くして情報としての凸形状を形成しやすくしつつ、記録層1層当たりの吸収率を小さくして記録層の多層化を図ることができる。
これによれば、例えば、記録材料に含まれる1光子吸収色素の濃度を高分子化合物で適度に希釈することで、記録層の厚みを厚くしても、記録読出光の吸収率を小さくすることができる。これにより、例えば、記録層の厚みをある程度厚くして情報としての凸形状を形成しやすくしつつ、記録層1層当たりの吸収率を小さくして記録層の多層化を図ることができる。
前記した第3工程において、加熱処理の温度は、記録層のガラス転移温度よりも高いことが望ましい。
これによれば、より短時間で溶媒を除去できるので、光情報記録媒体の生産性をより向上させることができる。
これによれば、より短時間で溶媒を除去できるので、光情報記録媒体の生産性をより向上させることができる。
次に、本発明の一実施形態について、図面を参照しながら説明する。
図1に示すように、本実施形態に係る光情報記録媒体10は、円板状をなしており、落下やハンドリングなどによる光情報記録媒体10の傷や汚れを抑制したり、耐光性を向上させたりするため、カートリッジ20に収容されている。
図1に示すように、本実施形態に係る光情報記録媒体10は、円板状をなしており、落下やハンドリングなどによる光情報記録媒体10の傷や汚れを抑制したり、耐光性を向上させたりするため、カートリッジ20に収容されている。
図2に示すように、光情報記録媒体10は、基板11と、反射層12と、スペーサ層13と、複数の記録層14と、複数の中間層15(粘着剤層15Aおよび記録層支持層15B)と、カバー層16と、ハードコート層17とを備えてなる。なお、本実施形態においては、記録層14と粘着剤層15Aとの間に形成される界面を第1界面の一例としての反射界面18Aと呼び、記録層14と記録層支持層15Bとの間に形成される界面を第2界面の一例としての無反射界面18Bと呼ぶ。
基板11は、記録層14や中間層15などを支持するための支持体であり、一例としてポリカーボネートの円板などからなる。本発明において、基板11の材質は特に限定されない。また、基板11は、厚みが0.02mm〜2mmの範囲であることが好ましい。また、本実施形態の基板11は、記録読出光の入射側の面(図示上側の面)にトラッキングサーボを行うためのガイドとなる凹凸(サーボ信号)が形成されており、ガイド層11Aとしても機能する。なお、ガイド層11Aは、屈折率の変化などによりサーボ信号が記録された層であってもよい。また、ガイド層11Aは、基板11とは別の層として設けてもよい。
反射層12は、サーボ光を反射するための層であり、基板11(ガイド層11A)の凹凸表面に蒸着されたアルミニウムの薄膜などからなる。このような反射層12を有することで、サーボ光の入射側でサーボ信号を検出することができるので、再生装置の構成を簡略化することなどが可能となる。
スペーサ層13は、記録層14とガイド層11Aの間隔を調整するための層であり、熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、粘着剤などからなる。スペーサ層13は、厚みが5μm〜100μmの範囲であることが好ましい。このようなスペーサ層13を有することで、ガイド層11Aで反射した光がガイド層11Aに最も近い記録層14に与える影響を低減することができる。
記録層14は、情報が光学的に記録される感光材料からなる層であり、高分子化合物としての高分子バインダーに記録光を吸収する1光子吸収色素が共有結合された記録材料を含んでなる。
記録光を吸収する1光子吸収色素としては、例えば、ヒートモード型記録材料として従来用いられていた色素を用いることができる。具体的には、メチン色素(シアニン色素、ヘミシアニン色素、スチリル色素、オキソノール色素、メロシアニン色素など)、大環状色素(フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素、ポルフィリン色素など)、アゾ色素(アゾ金属キレート色素を含む)、アリリデン色素、錯体色素、クマリン色素、アゾール誘導体、トリアジン誘導体、ベンゾトリアゾール誘導体、ベンゾフェノン誘導体、フェノキサジン誘導体、フェノチアジン誘導体、1−アミノブタジエン誘導体、桂皮酸誘導体、キノフタロン系色素などを用いることができる。
記録光を吸収する1光子吸収色素としては、例えば、ヒートモード型記録材料として従来用いられていた色素を用いることができる。具体的には、メチン色素(シアニン色素、ヘミシアニン色素、スチリル色素、オキソノール色素、メロシアニン色素など)、大環状色素(フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素、ポルフィリン色素など)、アゾ色素(アゾ金属キレート色素を含む)、アリリデン色素、錯体色素、クマリン色素、アゾール誘導体、トリアジン誘導体、ベンゾトリアゾール誘導体、ベンゾフェノン誘導体、フェノキサジン誘導体、フェノチアジン誘導体、1−アミノブタジエン誘導体、桂皮酸誘導体、キノフタロン系色素などを用いることができる。
また、1光子吸収色素を結合させる高分子バインダーとしては、例えば、ポリ酢酸ビニル(PVAc)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリエチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリベンジルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリカーボネート(PC)、ポリスチレン(PS)、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリ安息香酸ビニル、ポリピバル酸ビニル、ポリエチルアクリレート、ポリブチルアクリレート、シクロオレフィンポリマーなどを用いることができる。
高分子バインダーに1光子吸収色素が結合された記録材料としては、例えば、下記の化学構造式C−1の化合物などを用いることができる。化学構造式C−1の化合物は、高分子バインダーとしてのポリベンジルメタクリレートに、1光子吸収色素としてのベンゾトリアゾール化合物が共有結合されたものである。
記録層14は、記録光を照射すると、1光子吸収色素が記録光を吸収して発生する熱により高分子バインダーが変形し、反射界面18Aに、中間層15(粘着剤層15A)に向かう凸形状が形成されることでドット状の記録マークM(情報)が記録される層である。なお、本発明において、記録マークMは、その中央が記録層14から粘着剤層15Aに向かう凸形状となり、この凸形状の周囲に粘着剤層15Aから記録層14に向かう凹形状(変形前の反射界面18Aを基準として凹形状)を有するようなものであってもよい。
このため、記録層14は、従来の高分子バインダーと色素を含む記録層に比較して厚く形成されており、1層の記録層14は、厚みが50nm以上であることが好ましい。厚みが50nm未満である場合には、公知の記録層の変形による記録技術のように、記録層と中間層の界面(本実施形態では、反射界面18Aや無反射界面18Bに相当する)が記録層を基準に見て凹形状に変形するが、厚みが50nm以上であることで、記録した箇所の中央が凸となるように変形する。一方、記録層14の厚みの上限は特に限定されないが、記録層14の層数をできるだけ多くするため、5μm以下であるのが望ましい。さらに言えば、記録層14の厚みは100nm〜3μmの範囲であることがより望ましく、200nm〜2μmの範囲であることが特に望ましい。本実施形態では、記録層14は、一例として厚みが1μmである。
記録層14は、複数、例えば、2〜100層程度設けられる。光情報記録媒体10の記憶容量を大きくするため、記録層14は多い方が望ましく、例えば10層以上であるのが望ましい。これにより、光情報記録媒体10の大容量化を図ることができる。また、記録層14は、反射界面18Aを変形させる記録の前後において、屈折率が実質的に変化しないような材料が用いられる。
記録層14は、記録光に対する吸収率(一光子吸収率)が1層当たり10%以下であるのが望ましい。また、記録層14の層数を多くするためには記録可能な限りで吸収率が小さい方がよいので、記録層14の吸収率は、8%以下であるのがより望ましく、5%以下であるのがさらに望ましく、3%以下であるのが特に望ましい。例えば、最も奥側の記録層14に到達する記録光の強度が照射した記録光の強度の50%以上であることを条件とすると、8層の記録層を実現するためには、記録層1層当たりの吸収率が8%以下である必要があり、20層の記録層を実現するためには、記録層1層当たりの吸収率が3%以下である必要があるからである。吸収率が高いと、層数が少なくなり、多層化による記録容量を大きくする効果が小さくなる。
記録層14に含まれる記録材料は、1光子吸収色素の質量比が50%未満であること、言い換えれば、高分子バインダーの質量比が50%以上であること(高分子バインダーが主成分であること)が望ましい。これにより、変形前の反射界面18Aを基準として十分な高さ(突出量)の凸形状(記録マークM)を形成することができる。凸形状は、高分子バインダーが記録光の吸収によって熱膨張し、その後、記録光の照射停止によって膨張形状を維持しつつ急冷することにより形成されるため、1光子吸収色素の質量比が50%以上(高分子バインダーの質量比が50%未満)となると、例えば、記録光の吸収によって熱膨張した高分子バインダーの材料がその周囲に流出するなどすることで、凸形状が形成されにくくなる。
中間層15は、複数の記録層14の間、言い換えると、各記録層14の図示上下に隣接して設けられている。より詳しくは、中間層15は、粘着剤層15Aと記録層支持層15Bとを有しており、複数の記録層14の間に粘着剤層15Aと記録層支持層15Bが交互に配置されている。言い換えれば、1層の記録層14は、粘着剤層15Aと記録層支持層15Bとの間に挟まれるように配置されており、本実施形態では、基板11側から見て、粘着剤層15A、記録層14、記録層支持層15B、記録層14がこの順で、繰り返し配置されている。
中間層15は、複数の記録層14の間で層間クロストークが生じないように、記録層14同士の間隔を所定量空けるために設けられている。このため、中間層15は、厚みが2μm以上であることが好ましく、5μm以上であることがより好ましい。また、中間層15は、層間クロストークが生じない限り薄い方がよく、例えば、厚みが20μm以下であることが望ましい。本実施形態では、中間層15(粘着剤層15Aおよび記録層支持層15B)は、それぞれ一例として厚みが10μmである。なお、粘着剤層15Aと記録層支持層15Bの厚みが10μmと同じであることで、反射界面18Aのピッチが、10μm、12μm、10μm、12μm・・・と一定ピッチではなくなる。これにより、再生中の反射界面18Aからの反射光である再生光と、再生中の反射界面18Aに隣接する反射界面18Aにおける読出光の反射光との干渉が、再生光に与える影響を小さくすることができる。
中間層15は、記録時および再生時のレーザ光の照射により変化しない材料が用いられる。また、中間層15は、記録光や読出光、再生光(読出光の照射により発生する再生信号を含む光)の損失を最小限にするため、記録光や読出光、再生光を実質的に吸収しない材料、言い換えれば、記録光や読出光、再生光に対して透明な材料からなることが望ましい。ここでの透明とは、吸収率が1%以下であることをいう。
粘着剤層15Aは、他の面への貼り付けを可能にする粘着性を有し、記録層14よりも軟らかいものである。例えば、粘着剤層15Aは、そのガラス転移温度が記録層14のガラス転移温度よりも低いものである。このように、記録層14よりも軟らかい粘着剤層15Aを記録層14の一方の面に隣接する中間層15として用いることで、記録層14を記録光により加熱して膨脹させたときに、中間層15が変形しやすく、反射界面18Aに容易に変形を起こさせることができる。
一方、記録層支持層15Bは、紫外線硬化性樹脂などから形成されており、記録層14と同等の硬さまたは記録層14よりも硬いものである。例えば、記録層支持層15Bは、そのガラス転移温度が記録層14のガラス転移温度以上のものである。このように、記録層14よりも硬い記録層支持層15Bを記録層14の他方の面に隣接する中間層15として用いることで、光情報記録媒体10は、記録光の照射により、記録層14と記録層支持層15Bとの間の界面である無反射界面18Bにおいては凸形状が形成されず、記録層14と前記した粘着剤層15Aとの間の界面である反射界面18Aのみで凸形状(記録マークM)が形成される構成となっている。
粘着剤層15Aの屈折率と記録層支持層15Bの屈折率は、互いに異なっており、記録層支持層15Bの屈折率と記録層14の屈折率は、同じである。ここで、屈折率が同じとは、屈折率が実質的に同じであることを意味する。具体的には、記録層14の屈折率と記録層支持層15Bの屈折率は、記録層14の屈折率をn1、記録層支持層15Bの屈折率をn3として、
((n3−n1)/(n3+n1))2≦0.0003
を満たす程度、すなわち、無反射界面18Bでの反射率が0.0003以下である程度に同等であることが望ましい。
((n3−n1)/(n3+n1))2≦0.0003
を満たす程度、すなわち、無反射界面18Bでの反射率が0.0003以下である程度に同等であることが望ましい。
記録層14の屈折率と記録層支持層15Bの屈折率は、両層の界面(無反射界面18B)での反射をなくすため、近い値である方がよく、記録層14と記録層支持層15Bの屈折率の差は、好ましくは0.05以下、より好ましくは0.03以下、さらに好ましくは0.01以下、最も好ましくは0である。一例として、記録層14の屈折率n1を1.565とし、記録層支持層15Bの屈折率n3を1.564とすると、((n3−n1)/(n3+n1))2は、ほぼ0である。
一方、粘着剤層15Aの屈折率と記録層14の屈折率は、互いに異なっており、その差が適度に設けられているのがよい。これにより、記録層14と粘着剤層15Aとの間の界面(反射界面18A)においては、屈折率の急変による読出光の反射が可能となっている。より詳細に、粘着剤層15Aと記録層14との屈折率の差は、記録層支持層15Bと記録層14との屈折率の差よりも大きく、かつ、0.11以下であるのが好ましい。具体的には、記録層14の屈折率と粘着剤層15Aの屈折率は、粘着剤層15Aの屈折率をn2として、
0.0005≦((n2−n1)/(n2+n1))2≦0.04
を満たす程度、すなわち、反射界面18Aでの反射率が0.0005以上0.04以下である程度に異なっていることが望ましい。
0.0005≦((n2−n1)/(n2+n1))2≦0.04
を満たす程度、すなわち、反射界面18Aでの反射率が0.0005以上0.04以下である程度に異なっていることが望ましい。
反射率が0.0005以上であることで、反射界面18Aでの反射光量を大きくして、情報の再生時に、S/N比を大きくすることができる。また、反射率が0.04以下であることで、反射界面18Aでの反射光量を適度な大きさに抑えて、記録時および再生時において記録読出光が大きな減衰を受けることなく深い記録層14に到達するのを可能にする。これにより、記録層14を多数設けて高容量化を図ることが可能となる。一例として、記録層14の屈折率n1を1.565とし、粘着剤層15Aの屈折率n2を1.477とすると、((n2−n1)/(n2+n1))2は、およそ0.0008である。
以上のように記録層14および中間層15の屈折率を調整することで、反射界面18Aおよび無反射界面18Bを合わせた透過率を高くすることができるので、記録層14を多層にした場合に、記録読出光の照射側から見て奥深くの記録層14にまで光を届かせることができる。これは、多層化による記録容量の増大に有利である。特に、本実施形態では、記録層支持層15Bの屈折率と記録層14の屈折率が実質的に同じであることで、無反射界面18Bにおける光の反射率が実質的に0となるため、より奥深くの記録層14にまで光を届かせることができ、多層化による記録容量の増大により有利となっている。
記録層14および中間層15の屈折率を調整するには、記録層14および中間層15に用いる材料の配合を調整するとよい。具体的には、記録層14の材料には、高分子バインダーに1光子吸収色素が結合された記録材料が含まれているので、高分子バインダーや色素の屈折率を適切に選択し、それぞれの配合比率を変更することによって屈折率を任意に調整することができる。また、高分子バインダーは、類似の基本構造を有していても重合度が異なると屈折率も変化するため、重合度が異なる高分子バインダーを用いたり、高分子バインダーの重合度を調整したりすることでも屈折率の調整が可能である。さらに、複数の高分子バインダーを配合することで調整することも可能である。また、屈折率調整剤(無機微粒子等)を添加して屈折率を調整することも可能である。
中間層15の屈折率を調整する場合、中間層15の材料として用いることができる樹脂などのポリマー材料の重合度を調整することで、屈折率を調整することができる。また、中間層15として使用可能な材料を任意に配合して屈折率を調整したり、屈折率調整剤(無機微粒子等)を添加して調整したりすることも可能である。
カバー層16は、記録層14および中間層15を保護するための層であり、記録光や読出光、再生光が透過可能な材料からなる。一例として、カバー層16は、紫外線硬化性樹脂を塗布して硬化したり、フィルムを粘着剤などを介して貼り付けたりすることで形成することができる。このようなカバー層16を有することで、記録層14や中間層15の傷や汚れなどを抑制することができる。また、カバー層16は、厚みが0.01mm〜0.2mmの範囲であることが好ましい。これによれば、カバー層16が薄すぎる場合に問題となる記録再生時におけるカバー層16の傷や汚れなどの検出を抑制しつつ、カバー層16が厚すぎる場合に問題となる光記録装置の光学系の収差を抑制することができる。
ハードコート層17は、光情報記録媒体10の光入射側の面(図示上面)に形成された層であり、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、エポキシ樹脂などからなる。このようなハードコート層17を有することで、光情報記録媒体10の光入射側の表面の傷や汚れなどを抑制することができる。なお、本発明において、ハードコート層は、前記したカバー層を兼ねていてもよい。
なお、光情報記録媒体10は、1枚ごとに識別情報などを設ける目的で、その一部にバーコードなどによるマーキングを行ってもよい。マーキングの方法としては、例えば、特許第3143454号や特許第3385285号などに記載されている従来の光ディスクで用いられている反射層12へのレーザ光の照射による熱破壊による方法のほか、記録層14へのレーザ光の照射や印刷などの方法を用いることができる。
次に、以上のような光情報記録媒体10に、情報を記録・再生する方法について説明する。
所望の記録層14に情報を記録するとき、図3に示すように、その記録層14に、記録すべき情報に応じて出力が変調されたレーザ光(記録光RB)を照射する。なお、本実施形態において、レーザ光は、記録層14が有する色素が1光子吸収色素であるため、従来の光記録に用いられてきた半導体レーザなどのピークパワーの小さいもので十分である。また、記録光RBの焦点の位置は、特に限定されないが、反射界面18A付近とすることが望ましい。具体的には、反射界面18Aで焦点を調整した後、記録層14がある側へ焦点位置をわずかにずらすとよい。
所望の記録層14に情報を記録するとき、図3に示すように、その記録層14に、記録すべき情報に応じて出力が変調されたレーザ光(記録光RB)を照射する。なお、本実施形態において、レーザ光は、記録層14が有する色素が1光子吸収色素であるため、従来の光記録に用いられてきた半導体レーザなどのピークパワーの小さいもので十分である。また、記録光RBの焦点の位置は、特に限定されないが、反射界面18A付近とすることが望ましい。具体的には、反射界面18Aで焦点を調整した後、記録層14がある側へ焦点位置をわずかにずらすとよい。
記録光RBを照射すると、記録光RBを照射した箇所の中心が記録層14から粘着剤層15A(中間層15)に向けて凸形状となる記録マークM(ピット)が形成される。図3に示した記録マークMは、詳細には、中央が凸部M1となり、この凸部M1の周囲が記録層14に向かうリング状の凹部M2となっている。凹部M2の最も深い部分の反射界面18A(変形前の反射界面18A)からの距離は、凸部M1の頂点の反射界面18A(変形前の反射界面18A)からの距離よりも小さい。すなわち、記録マークMは、全体としては、およそ凸形状ということができる。なお、光情報記録媒体10では、記録条件により、記録マークが、凸形状(凸部M1)のみからなり、凸形状の周囲に凹部M2が形成されない場合もある。
以上のように、光情報記録媒体10は、記録層14から粘着剤層15Aへ向かう凸形状により情報を記録できることで、記録層の分解や相変化に至るほどのエネルギーを必要とせず、また、従来の凹形状による記録のように記録層にある程度大きな吸収率を必要としないので、比較的小さなエネルギーで情報の記録が可能となる。これにより、情報を高感度で記録することができ、また、1層の記録層14当たりの記録光の吸収率を小さくして記録層14の多層化を図ることができる。
図4に示すように、記録マークMに連続波レーザで読出光OBを照射すると、記録層14の屈折率と粘着剤層15Aの屈折率に差があることで、反射界面18Aで読出光OBが反射する。このとき、記録マークMの周囲の反射界面18Aと、記録マークMにおける反射光の強度に差が生じるので、この反射率の違いにより記録マークMを検出することができる。なお、記録層14の屈折率は、記録の前後で変化していないので、読出光OBの反射は、記録層14の内部では起こらず、反射界面18Aのみで起こり、記録マークMを安定して検出することができる。このような光学的な検出のため、凸部M1は、変形する前の界面(反射界面18A)に対して1〜300nm程度突出しているのが望ましい。
本実施形態においては、記録マークMは、凸部M1の周囲に凹部M2が形成されているので、記録マークMを読み取るための読出光OBを記録マークMに当てると、凸部M1のみがある場合に比較して、記録マークMによる反射光の強度分布は凸部M1の中央からの距離に応じて急激に変化すると考えられ、高い変調度で読み取ることが可能である。
なお、本発明は、記録層14を凸形状に変形させて情報を記録する場合だけでなく、凹形状に変形させて情報を記録する場合をも含む。例えば、ピークパワーを大きくするなどして記録光のエネルギーを大きくすることで、記録層14を凹形状に変形させて情報を記録することができる。また、本実施形態の光情報記録媒体10への記録時において、無反射界面18Bに変形が生じたとしても、無反射界面18Bでは読出光OBの反射は起こらないことから、無反射界面18Bの変形は再生に何ら影響はない。
記録層14に記録した情報を消去する場合、記録層14を高分子バインダーのガラス転移温度付近の温度、望ましくは、ガラス転移点より高い温度に加熱することで、高分子バインダーの流動性が向上し、表面張力により界面18の変形がなくなって元の平面に戻ることで、その記録層14に記録された情報を消去することができる。このように情報を消去することで、記録層14への再度の記録(繰り返し記録)が可能である。この加熱の際には、記録層14に焦点を合わせるように連続波レーザを照射する方法を用いることができる。連続波レーザで加熱を行うことにより、記録層14中で連続した領域の情報をムラなく消去することが可能である。この連続波レーザは、情報の再生に用いるレーザを用いてもよいし、別のレーザを用いてもよい。いずれの場合にも、記録層14で1光子吸収が可能な波長の光を発するレーザを用いるのが望ましい。
また、記録層14の加熱により情報を消去する際には、光情報記録媒体10の全体を高分子バインダーのガラス転移温度より高い温度に加熱することで、すべての記録層14に記録された情報を一度に消去することができる。これにより、簡易に光情報記録媒体10の全体の情報を消去して初期化することができる。また、光情報記録媒体10の廃棄の際にも、簡易に情報を抹消することができる。
以上のように、本実施形態の光情報記録媒体10においては、記録層14が有する色素が1光子吸収色素であるため、ピークパワーの小さいレーザ光による情報の記録が可能である。また、ピークパワーの小さいレーザ光として半導体レーザが使用できるので、レーザ光の出力などを容易に調整することができる。さらに、光情報記録媒体10においては、記録層14が、高分子バインダーに色素が結合された記録材料を含むため、色素が中間層15に拡散することを抑制することができ、光情報記録媒体10の長期安定性を向上させることができる。
以上に本発明の実施形態について説明したが、本発明は、前記した実施形態に限定されることなく適宜変形して実施することが可能である。
前記実施形態では、光情報記録媒体10は、記録光の照射により、一方の界面(反射界面18A)のみで凸形状が形成され、他方の界面(無反射界面18B)においては凸形状が形成されないように構成されていたが、本発明はこれに限定されるものではない。すなわち、本発明の光情報記録媒体は、記録層の両方の界面に、それぞれ別の情報としての中間層に向かう凸形状が形成されるように構成されていてもよい。具体的には、例えば、記録層に隣接する中間層を、すべて前記実施形態の粘着剤層15Aとすることで実現することができる。この場合、層間クロストークが生じないように、1層の記録層は、厚みが2μm以上であることが望ましく、5μm以上であることがより望ましく、7μm以上であることがさらに望ましい。また、厚みの上限は特に限定されないが、記録層の数を多くするため、層間クロストークが生じない限りで薄い方が望ましく、例えば20μm以下が望ましい。
前記実施形態では、図2に示したように、光情報記録媒体10が、ガイド層11Aや反射層12、スペーサ層13、カバー層16、ハードコート層17を備えていたが、本発明はこれに限定されず、これら各層の有無は任意である。また、前記実施形態では、図1に示したように、光情報記録媒体10がカートリッジ20に収容されていたが、本発明はこれに限定されず、カートリッジに収容されていない形態であってもよい。また、前記実施形態では、記録層14が複数設けられた光情報記録媒体10を例示したが、本発明はこれに限定されず、記録層は1層であってもよい。
次に、以上のような光情報記録媒体10を製造する好適な方法の一例について説明する。
図5(a)に示すように、第1の剥離シートS1の剥離剤が塗布されている側の表面上に粘着剤層15Aを形成して、第1のシート110を形成する。具体的に、粘着剤層15Aは、例えば、粘着剤を第1の剥離シートS1上に塗布することで形成することができる。
図5(a)に示すように、第1の剥離シートS1の剥離剤が塗布されている側の表面上に粘着剤層15Aを形成して、第1のシート110を形成する。具体的に、粘着剤層15Aは、例えば、粘着剤を第1の剥離シートS1上に塗布することで形成することができる。
また、第1の剥離シートS1とは別に用意した第2の剥離シートS2の剥離剤が塗布されている側の面上に、記録層支持層15Bを形成し、当該記録層支持層15Bの上に記録層14を形成して第2のシート120を形成する。なお、第2の剥離シートS2には、第2の剥離シートS2を剥離するときの力が第1の剥離シートS1を剥離するときの力よりも弱くなるような剥離性能の高い剥離剤が塗布されている。
ここで、第2のシート120における各層の形成方法を具体的に説明すると、記録層支持層15Bは、例えば、紫外線硬化性樹脂を第2の剥離シートS2上に塗布し、紫外線を照射して硬化させることで形成することができる。一方、記録層14は、高分子バインダーに1光子吸収色素が結合されてなる記録材料を含む記録層14の材料を、溶媒に溶解させた塗布液を調整し(第1工程)、当該塗布液を記録層14を形成する面である記録層支持層15Bの表面上に塗布し(第2工程)、塗布液中の溶媒を除去するための加熱処理を実行する(第3工程)ことで形成することができる。
第1工程において、記録層14の材料を溶解させる溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム、メチルエチルケトン(MEK)、アセトン、メチルイソブチルケトン(MIBK)、トルエン、ヘキサン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)、シクロヘキサノンなどを用いることができる。また、第1工程において、記録材料に含まれる1光子吸収色素の濃度は、塗布液に高分子バインダーを加えることで、言い換えれば、溶媒に対し、記録材料とともに高分子バインダーを溶解させることで、調整することができる。また、第3工程において、加熱処理の温度は、記録層14のガラス転移温度よりも高いことが望ましい。
なお、以上において、第1のシート110と第2のシート120の作製の順序は特に問わない。また、各層の材料の塗布方法は、特に限定されないが、例えば、スピンコート法、ナイフコート法、ロールコート法、バーコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法などを採用することができる。
次に、第1のシート110の粘着剤層15Aと第2のシート120の記録層14を貼り合わせることで、第1のシート110に第2のシート120を重ねて、図5(b)に示すように、第3のシート130を得る。そして、図5(c)に示すように、第3のシート130から第2の剥離シートS2を取り除き、記録層支持層15Bを露出させる。前述したように、第2の剥離シートS2は、第1の剥離シートS1よりも剥離しやすいので、第1の剥離シートS1が剥離することなく、第2の剥離シートS2のみを取り除くことができる。
次に、図6(a)に示すように、露出した記録層支持層15Bの表面上に、前記した第2のシート120を形成する際の記録層14の形成方法と同様の方法で記録層14を形成して多層構造シート150を得る。なお、このときの記録層14の形成方法は、第2のシート120を形成する際の記録層14の形成方法と異なる方法であってもよい。
以上のようにして得られた多層構造シート150は、ロール状に巻かれて保管され、使用するときには、必要な分だけ引き出される。
以上のようにして得られた多層構造シート150は、ロール状に巻かれて保管され、使用するときには、必要な分だけ引き出される。
次に、基板11(ここでは、基板11に形成された凹凸、反射層12およびスペーサ層13の図示を省略している。)を用意し、一方で、ロール状に巻かれた多層構造シート150を引き出し、基板11の形状に合わせて打ち抜く。そして、図6(b)に示すように、この打ち抜かれた多層構造シート150から第1の剥離シートS1を取り除き、粘着剤層15Aを露出させた多層構造シート210を得る。
次に、図6(c)に示すように、多層構造シート210の露出した粘着剤層15Aを、基板11の上に貼り合わせることで、図6(d)に示すように、基板11の上に、単位構造(下から順に、粘着剤層15A、記録層14、記録層支持層15Bおよび記録層14)が1つ形成される。
その後、図6(e)に示すように、基板11に貼られた多層構造シート210の最上層に配置される記録層14に他の多層構造シート210の粘着剤層15Aを貼り合わせることで、図6(f)に示すように、基板11上に、単位構造が2つ形成される。そして、基板11上に設けられている最上層の記録層14にさらに別の多層構造シート210を重ねる工程を必要な回数繰り返し行う。
最後に、最上層の記録層14の上に粘着剤層15Aを形成し、カバー層16とハードコート層17を形成することで、図2に示すような、複数の記録層14を備えた多層構造を有する光情報記録媒体10を製造することができる。
最後に、最上層の記録層14の上に粘着剤層15Aを形成し、カバー層16とハードコート層17を形成することで、図2に示すような、複数の記録層14を備えた多層構造を有する光情報記録媒体10を製造することができる。
以上説明した製造方法によれば、長期安定性を向上させつつ、ピークパワーの小さいレーザによる情報の記録が可能な光情報記録媒体10を製造することができる。また、記録層14の材料が、高分子バインダーに色素が結合された記録材料を含むので、高分子バインダーに色素が分散された材料を用いる場合と比較して、色素が拡散や凝集などを起こして相分離する可能性が低いため、記録層14形成時の溶媒除去のために加熱処理を行うことができる。これにより、短時間で溶媒を除去できるので、光情報記録媒体10の生産性を向上させることができる。
また、記録層14の形成の際に、記録材料に含まれる1光子吸収色素の濃度を塗布液に高分子バインダーを加えて調整することで、記録層14の厚みを厚くしても、記録読出光の吸収率を小さくすることができる。これにより、例えば、記録層14の厚みをある程度厚くして記録マークMを形成しやすくしつつ、記録層14の1層当たりの吸収率を小さくして記録層14の多層化を図ることができる。また、記録層14を形成するときの加熱処理の温度を記録層14のガラス転移温度よりも高くすることで、より短時間で溶媒を除去できるので、光情報記録媒体10の生産性をより向上させることができる。
次に、本発明の光情報記録媒体の特性を評価した実験について説明する。
<記録材料>
[実施例1]
実施例1においては、記録材料として、高分子バインダーに1光子吸収色素が結合されたものを用いた。
具体的には、高分子バインダーに1光子吸収色素が結合された記録材料として上記化学構造式C−1に示す化合物を用いた。なお、当該記録材料における1光子吸収色素の質量割合は22質量%である。
<記録材料>
[実施例1]
実施例1においては、記録材料として、高分子バインダーに1光子吸収色素が結合されたものを用いた。
具体的には、高分子バインダーに1光子吸収色素が結合された記録材料として上記化学構造式C−1に示す化合物を用いた。なお、当該記録材料における1光子吸収色素の質量割合は22質量%である。
化学構造式C−1の化合物は、以下に示した方法で合成した。
(1)原料化合物M−1の合成
BASF製Tinuvin109を加水分解後、還元して得られた3−[3−tert−ブチル−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−ヒドロキシフェニル]プロパノール0.7gと、昭和電工株式会社製カレンズMOI 0.31gをメチルエチルケトン5mlに溶解した。そして、ジブチル錫ラウレート0.02gとp−メトキシフェノール0.02gを加え、75℃で4時間反応後、溶媒を留去して化合物M−1 1.0gを得た。
BASF製Tinuvin109を加水分解後、還元して得られた3−[3−tert−ブチル−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−ヒドロキシフェニル]プロパノール0.7gと、昭和電工株式会社製カレンズMOI 0.31gをメチルエチルケトン5mlに溶解した。そして、ジブチル錫ラウレート0.02gとp−メトキシフェノール0.02gを加え、75℃で4時間反応後、溶媒を留去して化合物M−1 1.0gを得た。
(2)C−1の合成
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート3.4mlを窒素雰囲気下90℃で加熱撹拌し、ここに化合物M−1 1.0g、ベンジルメタクリレート3.5gおよび和光純薬工業株式会社製V−601 0.14gのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート3.4ml溶液を2時間かけて滴下した。滴下終了後、V−601 0.14gを加え、90℃で4時間加熱撹拌した後、放冷し、化学構造式C−1の化合物のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート40質量%溶液11gを得た。
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート3.4mlを窒素雰囲気下90℃で加熱撹拌し、ここに化合物M−1 1.0g、ベンジルメタクリレート3.5gおよび和光純薬工業株式会社製V−601 0.14gのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート3.4ml溶液を2時間かけて滴下した。滴下終了後、V−601 0.14gを加え、90℃で4時間加熱撹拌した後、放冷し、化学構造式C−1の化合物のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート40質量%溶液11gを得た。
[比較例1]
比較例1においては、記録材料として、高分子バインダーに1光子吸収色素が分散されたものを用いた。
具体的には、高分子バインダーとしてポリベンジルメタクリレートを用い、1光子吸収色素として下記に示す化合物P−1(3−[3−tert−ブチル−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−ヒドロキシフェニル]プロパノール)を用いた。
比較例1においては、記録材料として、高分子バインダーに1光子吸収色素が分散されたものを用いた。
具体的には、高分子バインダーとしてポリベンジルメタクリレートを用い、1光子吸収色素として下記に示す化合物P−1(3−[3−tert−ブチル−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−ヒドロキシフェニル]プロパノール)を用いた。
化合物P−1は、BASF製Tinuvin109を加水分解した後、還元することで得た。
[比較例2]
比較例2においては、記録材料として、高分子バインダーに2光子吸収色素が結合された化合物を用いた。
具体的には、高分子バインダーに2光子吸収色素が結合された記録材料として下記に示す化合物D−1を用いた。なお、当該記録材料における2光子吸収色素の質量割合は40質量%である。
比較例2においては、記録材料として、高分子バインダーに2光子吸収色素が結合された化合物を用いた。
具体的には、高分子バインダーに2光子吸収色素が結合された記録材料として下記に示す化合物D−1を用いた。なお、当該記録材料における2光子吸収色素の質量割合は40質量%である。
化合物D−1は、以下に示した方法で合成した。
(1)原料化合物1の合成
アニソール27.0g(250mmol)と4−ブロモベンゾイルクロリド42.9g(200mmol)を塩化メチレン500mlに溶解させ、内温5℃まで冷却した後、6回に分けて塩化アルミニウムを33.4g(250mmol)添加して窒素雰囲気下で8時間撹拌した。反応溶液を水に注ぎ込んだ後に塩化メチレンで抽出し、ロータリーエバポレーターで蒸発乾固させて白色の化合物1を定量的に得た。得られた化合物1は1H NMRにより目的生成物であることを確認した。
アニソール27.0g(250mmol)と4−ブロモベンゾイルクロリド42.9g(200mmol)を塩化メチレン500mlに溶解させ、内温5℃まで冷却した後、6回に分けて塩化アルミニウムを33.4g(250mmol)添加して窒素雰囲気下で8時間撹拌した。反応溶液を水に注ぎ込んだ後に塩化メチレンで抽出し、ロータリーエバポレーターで蒸発乾固させて白色の化合物1を定量的に得た。得られた化合物1は1H NMRにより目的生成物であることを確認した。
(2)原料化合物2の合成
原料化合物1 35.0g(120mmol)に対して臭化水素酸140ml、酢酸220mlを加えて内温110℃で12時間半撹拌した。室温まで放冷した後、反応溶液を水に注ぎ込み室温で20分間撹拌した。沈殿をろ過した後に純水、ヘキサン:酢酸エチル=5:1で洗浄し減圧乾燥させて白色の化合物2を定量的に得た。得られた化合物2は1H NMRにより目的生成物であることを確認した。
原料化合物1 35.0g(120mmol)に対して臭化水素酸140ml、酢酸220mlを加えて内温110℃で12時間半撹拌した。室温まで放冷した後、反応溶液を水に注ぎ込み室温で20分間撹拌した。沈殿をろ過した後に純水、ヘキサン:酢酸エチル=5:1で洗浄し減圧乾燥させて白色の化合物2を定量的に得た。得られた化合物2は1H NMRにより目的生成物であることを確認した。
(3)原料化合物3の合成
原料化合物2 9.74g(35.1mmol)をテトラヒドロフラン70mlに溶解させトリエチルアミン7.10g(70.2mmol)を加えて内温5℃まで冷却した。その後、メタクリル酸クロリド3.67g(35.1mmol)を滴下しながら窒素雰囲気下で2時間撹拌した。反応溶液を水に注ぎ込み、室温で20分間撹拌した。析出した沈殿をろ別、室温乾燥して白色の化合物3を定量的に得た。得られた化合物3は1H NMRにより目的生成物であることを確認した。
原料化合物2 9.74g(35.1mmol)をテトラヒドロフラン70mlに溶解させトリエチルアミン7.10g(70.2mmol)を加えて内温5℃まで冷却した。その後、メタクリル酸クロリド3.67g(35.1mmol)を滴下しながら窒素雰囲気下で2時間撹拌した。反応溶液を水に注ぎ込み、室温で20分間撹拌した。析出した沈殿をろ別、室温乾燥して白色の化合物3を定量的に得た。得られた化合物3は1H NMRにより目的生成物であることを確認した。
(4)原料化合物4の合成
5−ブロモ−2−ヨードトルエン63.5g(214mmol)、パラトリフルオロメチルフェニルボロン酸44.7g(235mmol)、酢酸パラジウム2.40g(10.7mmol)、炭酸ナトリウム68.0g(642mmol)に対して1,2−ジメトキシエタン350ml、水70mlを加え、窒素雰囲気下、外温90℃で72時間撹拌した。室温まで放冷した後、酢酸エチルで抽出しロータリーエバポレーターで濃縮した後にシリカゲルカラム(ヘキサン)で精製して白色の化合物4を57.9g(収率86%)得た。得られた化合物4は1H NMRにより目的生成物であることを確認した。
5−ブロモ−2−ヨードトルエン63.5g(214mmol)、パラトリフルオロメチルフェニルボロン酸44.7g(235mmol)、酢酸パラジウム2.40g(10.7mmol)、炭酸ナトリウム68.0g(642mmol)に対して1,2−ジメトキシエタン350ml、水70mlを加え、窒素雰囲気下、外温90℃で72時間撹拌した。室温まで放冷した後、酢酸エチルで抽出しロータリーエバポレーターで濃縮した後にシリカゲルカラム(ヘキサン)で精製して白色の化合物4を57.9g(収率86%)得た。得られた化合物4は1H NMRにより目的生成物であることを確認した。
(5)原料化合物5の合成
原料化合物4を57.9g(184mmol)、ビスピナコラートジボロン56.1g(221mmol)、[1、1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)ジクロリドジクロロメタン付加物4.25g(5.20mmol)、酢酸カリウム54.2g(552mmol)に対してジメチルスルホキシド400mlを加え、窒素雰囲気下、内温90℃で5時間撹拌した。室温まで放冷した後、酢酸エチルで抽出しロータリーエバポレーターで濃縮した後にシリカゲルカラム(ヘキサン:酢酸エチル=10:1)で精製して白色の化合物5を57.5g(収率86%)得た。得られた化合物5は1H NMRにより目的生成物であることを確認した。
原料化合物4を57.9g(184mmol)、ビスピナコラートジボロン56.1g(221mmol)、[1、1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)ジクロリドジクロロメタン付加物4.25g(5.20mmol)、酢酸カリウム54.2g(552mmol)に対してジメチルスルホキシド400mlを加え、窒素雰囲気下、内温90℃で5時間撹拌した。室温まで放冷した後、酢酸エチルで抽出しロータリーエバポレーターで濃縮した後にシリカゲルカラム(ヘキサン:酢酸エチル=10:1)で精製して白色の化合物5を57.5g(収率86%)得た。得られた化合物5は1H NMRにより目的生成物であることを確認した。
(6)原料化合物6の合成
原料化合物3を14.8g(42.9mmol)、原料化合物5を18.6g(51.5mmol)、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム2.48g(2.15mmol)、炭酸カリウム17.8g(129mmol)、ジブチルヒドロキシトルエン1mgに対してトルエン170ml、水20mlを加え、窒素雰囲気下、外温90℃で12時間撹拌した。室温まで放冷した後、酢酸エチルで抽出しロータリーエバポレーターで濃縮した後にシリカゲルカラム(酢酸エチル:ヘキサン=1:5)で精製し、酢酸エチル/ヘキサンで再結晶してろ別・乾燥して白色の化合物6を6.8g(収率32%)得た。得られた化合物6は1H NMRにより目的生成物であることを確認した。1H NMR(CDCl3) 7.92(d,4H)、7.76(dd,2H)、7.71(d,2H)、7.59−7.55(m,2H)、7.50(d,2H)、7.34(d,1H)、7.29(dd,2H)、6.41(s,1H)、5.82(t,1H)、2.37(s,3H)
原料化合物3を14.8g(42.9mmol)、原料化合物5を18.6g(51.5mmol)、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム2.48g(2.15mmol)、炭酸カリウム17.8g(129mmol)、ジブチルヒドロキシトルエン1mgに対してトルエン170ml、水20mlを加え、窒素雰囲気下、外温90℃で12時間撹拌した。室温まで放冷した後、酢酸エチルで抽出しロータリーエバポレーターで濃縮した後にシリカゲルカラム(酢酸エチル:ヘキサン=1:5)で精製し、酢酸エチル/ヘキサンで再結晶してろ別・乾燥して白色の化合物6を6.8g(収率32%)得た。得られた化合物6は1H NMRにより目的生成物であることを確認した。1H NMR(CDCl3) 7.92(d,4H)、7.76(dd,2H)、7.71(d,2H)、7.59−7.55(m,2H)、7.50(d,2H)、7.34(d,1H)、7.29(dd,2H)、6.41(s,1H)、5.82(t,1H)、2.37(s,3H)
(7)D−1の合成
テトラヒドロフラン5gを窒素雰囲気下で外温70℃で撹拌した。そこにテトラヒドロフラン26.7gに溶解させた原料化合物6 2.00g(4.00mmol)、メタクリル酸メチル11.6g(116mmol)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)29.8mg(0.12mmol)を2時間かけて滴下し、その後8時間撹拌した。室温まで放冷した後、アセトンで希釈して、アセトン/ヘキサンで再結晶し、ろ別・乾燥して化合物D−1を4.77g得た。得られたポリマーは1H NMRによって組成を確認し、GPCによって分子量測定を行った。(組成比 原料化合物6/メタクリル酸メチル=12/88(モル比)、Mw=367,000)
テトラヒドロフラン5gを窒素雰囲気下で外温70℃で撹拌した。そこにテトラヒドロフラン26.7gに溶解させた原料化合物6 2.00g(4.00mmol)、メタクリル酸メチル11.6g(116mmol)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)29.8mg(0.12mmol)を2時間かけて滴下し、その後8時間撹拌した。室温まで放冷した後、アセトンで希釈して、アセトン/ヘキサンで再結晶し、ろ別・乾燥して化合物D−1を4.77g得た。得られたポリマーは1H NMRによって組成を確認し、GPCによって分子量測定を行った。(組成比 原料化合物6/メタクリル酸メチル=12/88(モル比)、Mw=367,000)
<光情報記録媒体の作製>
[実施例1]
(1)中間層(記録層支持層)の形成
ガラス製の基板(直径120mm、厚み1mm)に、紫外線硬化性樹脂(DIC株式会社製SD−640、Tg=86℃)をスピンコート法で厚み20μmとなるように塗布し、紫外線の照射によって硬化させて中間層(記録層支持層)を形成した。
[実施例1]
(1)中間層(記録層支持層)の形成
ガラス製の基板(直径120mm、厚み1mm)に、紫外線硬化性樹脂(DIC株式会社製SD−640、Tg=86℃)をスピンコート法で厚み20μmとなるように塗布し、紫外線の照射によって硬化させて中間層(記録層支持層)を形成した。
(2)記録層の形成
まず、上記した化学構造式C−1の記録材料を、固形分濃度が13質量%となるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解させた塗布液を準備した。その後、塗布液を中間層(記録層支持層)の上にスピンコートで厚み1μmとなるように塗布して記録層を形成した。
まず、上記した化学構造式C−1の記録材料を、固形分濃度が13質量%となるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解させた塗布液を準備した。その後、塗布液を中間層(記録層支持層)の上にスピンコートで厚み1μmとなるように塗布して記録層を形成した。
(3)中間層(粘着剤層)の形成
まず、剥離シートとして表面にシリコーン剥離層塗布済みのポリエチレンテレフタレートフィルムを準備し、その上にアクリル酸エステル系粘着剤をバーコート法で厚み20μmとなるように塗布して粘着剤層を形成した。その後、粘着剤層を記録層の上に貼り合わせ、剥離シートを取り除くことで中間層(粘着剤層)を形成した。
まず、剥離シートとして表面にシリコーン剥離層塗布済みのポリエチレンテレフタレートフィルムを準備し、その上にアクリル酸エステル系粘着剤をバーコート法で厚み20μmとなるように塗布して粘着剤層を形成した。その後、粘着剤層を記録層の上に貼り合わせ、剥離シートを取り除くことで中間層(粘着剤層)を形成した。
(4)カバー層の形成
厚み67μmのポリカーボネートフィルム(帝人化成株式会社製パンライト(登録商標)フィルムD−67)を中間層(粘着剤層)の上に貼り合わせてカバー層を形成した。
厚み67μmのポリカーボネートフィルム(帝人化成株式会社製パンライト(登録商標)フィルムD−67)を中間層(粘着剤層)の上に貼り合わせてカバー層を形成した。
[比較例1]
(1)中間層(記録層支持層)の形成
上記した実施例1の場合と同様の方法で形成した。
(2)記録層の形成
上記した化合物P−1(1光子吸収色素)と、ポリベンジルメタクリレート(シグマアルドリッチ社製、Mw〜70000)を質量比で22:78の割合でメチルエチルケトンに溶解し、固形分濃度10質量%の塗布液を準備した。その後、塗布液を中間層(記録層支持層)の上にスピンコート法で厚み1μmとなるように塗布して記録層を形成した。
(3)中間層(粘着剤層)の形成
上記した実施例1の場合と同様の方法で形成した。
(4)カバー層の形成
上記した実施例1の場合と同様の方法で形成した。
(1)中間層(記録層支持層)の形成
上記した実施例1の場合と同様の方法で形成した。
(2)記録層の形成
上記した化合物P−1(1光子吸収色素)と、ポリベンジルメタクリレート(シグマアルドリッチ社製、Mw〜70000)を質量比で22:78の割合でメチルエチルケトンに溶解し、固形分濃度10質量%の塗布液を準備した。その後、塗布液を中間層(記録層支持層)の上にスピンコート法で厚み1μmとなるように塗布して記録層を形成した。
(3)中間層(粘着剤層)の形成
上記した実施例1の場合と同様の方法で形成した。
(4)カバー層の形成
上記した実施例1の場合と同様の方法で形成した。
[比較例2]
(1)中間層(記録層支持層)の形成
上記した実施例1の場合と同様の方法で形成した。
(2)記録層の形成
上記した化合物D−1を、固形分濃度が10質量%となるように、メチルエチルケトンに溶解させた塗布液を準備した。その後、塗布液を中間層(記録層支持層)の上にスピンコート法で厚み1μmとなるように塗布して記録層を形成した。
(3)中間層(粘着剤層)の形成
上記した実施例1の場合と同様の方法で形成した。
(4)カバー層の形成
上記した実施例1の場合と同様の方法で形成した。
(1)中間層(記録層支持層)の形成
上記した実施例1の場合と同様の方法で形成した。
(2)記録層の形成
上記した化合物D−1を、固形分濃度が10質量%となるように、メチルエチルケトンに溶解させた塗布液を準備した。その後、塗布液を中間層(記録層支持層)の上にスピンコート法で厚み1μmとなるように塗布して記録層を形成した。
(3)中間層(粘着剤層)の形成
上記した実施例1の場合と同様の方法で形成した。
(4)カバー層の形成
上記した実施例1の場合と同様の方法で形成した。
<特性評価>
(1)記録層の吸収率の評価
上記した記録層の形成過程で調整した、記録材料を溶媒に溶解させた塗布液を、石英ガラス上にスピンコートで厚み1μmとなるように塗布し、記録層のみを形成したサンプルを、実施例1および比較例1,2についてそれぞれ準備した。そして、分光光度計(株式会社島津製作所製UV3100−PC)によって各サンプル(記録層)の波長405nmにおける吸光度を測定した。なお、ベースラインは、石英ガラスのみの測定値によって補正した。
(1)記録層の吸収率の評価
上記した記録層の形成過程で調整した、記録材料を溶媒に溶解させた塗布液を、石英ガラス上にスピンコートで厚み1μmとなるように塗布し、記録層のみを形成したサンプルを、実施例1および比較例1,2についてそれぞれ準備した。そして、分光光度計(株式会社島津製作所製UV3100−PC)によって各サンプル(記録層)の波長405nmにおける吸光度を測定した。なお、ベースラインは、石英ガラスのみの測定値によって補正した。
得られた吸光度から光吸収率(%)を下記の式により算出した。
光吸収率=(1−10−(吸光度))×100
その結果、実施例1および比較例1が8%であり、比較例2が0%であることを確認した。
光吸収率=(1−10−(吸光度))×100
その結果、実施例1および比較例1が8%であり、比較例2が0%であることを確認した。
(2)記録特性の評価
[記録再生評価装置]
実施例1および比較例1,2の各光情報記録媒体への記録再生は通常のBDピックアップ光学系と同等のものを使用し、スピンドルモータや記録再生レーザ、受光素子などからなる評価システムの制御ユニットとして、パルステック工業株式会社製ODU−1000を使用した。レーザ光源として波長405nmの半導体レーザ、対物レンズとして開口数(NA)0.85の対物レンズを使用し、記録層からの反射光をモニタして再生信号を得た。反射光の一部は、フォーカス制御用の受光素子に導入し、対物レンズの位置を制御することでフォーカス制御を行った。
[記録再生評価装置]
実施例1および比較例1,2の各光情報記録媒体への記録再生は通常のBDピックアップ光学系と同等のものを使用し、スピンドルモータや記録再生レーザ、受光素子などからなる評価システムの制御ユニットとして、パルステック工業株式会社製ODU−1000を使用した。レーザ光源として波長405nmの半導体レーザ、対物レンズとして開口数(NA)0.85の対物レンズを使用し、記録層からの反射光をモニタして再生信号を得た。反射光の一部は、フォーカス制御用の受光素子に導入し、対物レンズの位置を制御することでフォーカス制御を行った。
上記の記録再生評価装置を用いて、下記の記録条件によって実施例1および比較例1,2の各光情報記録媒体に記録を行い、その後、下記の再生条件によって再生信号を得てCNR(Carrier to Noise ratio)を評価した。
記録条件 線速 :2m/s
記録光のピークパワー:30mW
パルス発光時間 :30ns
パルス発光周期 :1MHz
再生条件 線速 :2m/s
読出光のピークパワー:1mW
記録条件 線速 :2m/s
記録光のピークパワー:30mW
パルス発光時間 :30ns
パルス発光周期 :1MHz
再生条件 線速 :2m/s
読出光のピークパワー:1mW
その結果、色素として1光子吸収色素を含む実施例1および比較例1は、記録感度および再生信号の強度がともに十分であることを示す、35dB以上のCNRが得られ、30mWとピークパワーの小さい記録光であっても情報を記録できることが確認された。一方、色素として2光子吸収色素を含む比較例2は、CNRが0dBであり、30mWというピークパワーの記録光では情報の記録ができないことが確認された。
以上より、本発明の光情報記録媒体(実施例1)は、ピークパワーの小さいレーザ光によっても記録が可能であることが確認された。
以上より、本発明の光情報記録媒体(実施例1)は、ピークパワーの小さいレーザ光によっても記録が可能であることが確認された。
(3)保存特性の評価
実施例1および比較例1の各光情報記録媒体について記録層と中間層(粘着剤層)との界面からの反射光の強度を測定した後、各光情報記録媒体を80℃、85%RHの環境下で保管し、100時間後の記録層と中間層(粘着剤層)との界面からの反射光の強度を測定した。なお、反射光強度の測定には、多層膜厚測定器SI−TS10(株式会社キーエンス製)を用いた。
実施例1および比較例1の各光情報記録媒体について記録層と中間層(粘着剤層)との界面からの反射光の強度を測定した後、各光情報記録媒体を80℃、85%RHの環境下で保管し、100時間後の記録層と中間層(粘着剤層)との界面からの反射光の強度を測定した。なお、反射光強度の測定には、多層膜厚測定器SI−TS10(株式会社キーエンス製)を用いた。
その結果、実施例1は、100時間後の反射光強度が保管前の反射光強度に対して90%という高い値を示し、反射光強度の変化が小さいことが確認された。このことは、高分子バインダーに色素が結合された記録材料を含む光情報記録媒体が、高温多湿で保管しても記録層中の色素が中間層へ拡散しにくいことを意味し、保存安定性が良好であることを意味する。一方、比較例1は、100時間後の反射光強度が保管前の反射光強度に対して65%まで低下しており、反射光強度の変化が大きいことが確認された。このことは、高分子バインダーに色素が分散された光情報記録媒体が、高温多湿で保管した場合、記録層中の色素が中間層へ拡散しやすいことを意味し、界面反射強度の低下が大きいことで再生信号の劣化が大きいことを意味する。
以上より、本発明の光情報記録媒体(実施例1)は、長期安定性に優れていることが確認された。
以上より、本発明の光情報記録媒体(実施例1)は、長期安定性に優れていることが確認された。
(4)記録マーク形状の評価
情報を記録した実施例1の光情報記録媒体から中間層(粘着剤層)を剥がし、記録層の表面を露出させた上で、記録層の表面を下記の原子間力顕微鏡(AFM)により測定した。
[原子間力顕微鏡]
装置 :ナノサーチ顕微鏡OLS−3500(オリンパス株式会社製)
観察条件:ダイナミックモード、走査範囲5μm、走査速度1Hz
プローブ:高アスペクト比プローブAR5−NCHR−20(ナノワールド社製)
情報を記録した実施例1の光情報記録媒体から中間層(粘着剤層)を剥がし、記録層の表面を露出させた上で、記録層の表面を下記の原子間力顕微鏡(AFM)により測定した。
[原子間力顕微鏡]
装置 :ナノサーチ顕微鏡OLS−3500(オリンパス株式会社製)
観察条件:ダイナミックモード、走査範囲5μm、走査速度1Hz
プローブ:高アスペクト比プローブAR5−NCHR−20(ナノワールド社製)
その結果、記録層の表面において、記録箇所に粘着剤層側に向けて突出する突起(凸形状)が形成されていることが確認された。
次に、本発明の光情報記録媒体の製造方法の効果を確認した実験について説明する。
<記録材料>
ここでは、記録材料として、高分子バインダーに1光子吸収色素が結合されたものを用いた。
具体的には、高分子バインダーに1光子吸収色素が結合された記録材料として下記化学構造式Aに示す化合物(以下、化合物Aという。)を用いた。なお、当該記録材料における1光子吸収色素の質量割合は50質量%である。
<記録材料>
ここでは、記録材料として、高分子バインダーに1光子吸収色素が結合されたものを用いた。
具体的には、高分子バインダーに1光子吸収色素が結合された記録材料として下記化学構造式Aに示す化合物(以下、化合物Aという。)を用いた。なお、当該記録材料における1光子吸収色素の質量割合は50質量%である。
化合物Aは、以下に示した方法で合成した。
[モノマー(1)の合成]
モノマー(1)の合成は、下記スキームに従って行った。
[モノマー(1)の合成]
モノマー(1)の合成は、下記スキームに従って行った。
BASF製Tinuvin326を32gと、N−ブロモスクシンイミド20gをクロロホルム200mlに溶解し、和光純薬工業株式会社製V−601 0.14gを加えて6時間加熱還流した。放冷後、アセトニトリル300mlを加えて氷冷し、生じる結晶を濾過することで中間体Aを36g得た。
中間体Aを8.0gと、メタクリル酸ナトリウム3.2gとをアセトン80ml中で8時間撹拌した。反応液をクロロホルムで抽出して水洗し、溶媒を溜去して得られた固体をアセトニトリルで再結晶させ、モノマー(1)6.3gを得た。
[化合物Aの合成]
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート3.1mlを窒素雰囲気下90℃で加熱撹拌し、ここにモノマー(1)2.0g、ベンジルメタクリレート2.0gおよび和光純薬工業株式会社製V−601 0.11gのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート6.5ml溶液を2時間かけて滴下した。滴下終了後、V−601 0.11gを加え、90℃で4時間加熱撹拌した後、放冷し、化合物Aのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート30質量%溶液を得た。
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート3.1mlを窒素雰囲気下90℃で加熱撹拌し、ここにモノマー(1)2.0g、ベンジルメタクリレート2.0gおよび和光純薬工業株式会社製V−601 0.11gのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート6.5ml溶液を2時間かけて滴下した。滴下終了後、V−601 0.11gを加え、90℃で4時間加熱撹拌した後、放冷し、化合物Aのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート30質量%溶液を得た。
<記録層塗布液の準備>
[塗布液1]
上記した化合物Aをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで希釈し、固形分濃度が13質量%の塗布液1を準備した。
[塗布液2]
上記した化合物Aとポリベンジルメタクリレート(シグマアルドリッチ社製、Mw〜70000)を質量比が80:20となるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解し、固形分濃度が9質量%の塗布液2を準備した。
塗布液2は、記録材料に含まれる1光子吸収色素の濃度を高分子バインダーを加えて調整したものに相当し、塗布液1は、記録材料に含まれる1光子吸収色素の濃度を調整していないものに相当する。
[塗布液1]
上記した化合物Aをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで希釈し、固形分濃度が13質量%の塗布液1を準備した。
[塗布液2]
上記した化合物Aとポリベンジルメタクリレート(シグマアルドリッチ社製、Mw〜70000)を質量比が80:20となるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解し、固形分濃度が9質量%の塗布液2を準備した。
塗布液2は、記録材料に含まれる1光子吸収色素の濃度を高分子バインダーを加えて調整したものに相当し、塗布液1は、記録材料に含まれる1光子吸収色素の濃度を調整していないものに相当する。
<記録層の吸収率の測定>
塗布液1,2を石英ガラス上にスピンコートで厚み1μmとなるように塗布し、記録層のみを形成したサンプルを、塗布液1,2についてそれぞれ準備した。そして、上記した記録層の吸収率の評価と同様の方法により光吸収率を算出した。
その結果、塗布液1から形成した記録層の光吸収率が8%であり、塗布液2から形成した記録層の光吸収率が6.4%であることを確認した。
以上より、記録材料に含まれる1光子吸収色素の濃度を高分子バインダーを加えて調整することで、記録層の厚みを同じにした場合、光吸収率を小さくできる(吸収率を抑制できる)ことが確認された。
塗布液1,2を石英ガラス上にスピンコートで厚み1μmとなるように塗布し、記録層のみを形成したサンプルを、塗布液1,2についてそれぞれ準備した。そして、上記した記録層の吸収率の評価と同様の方法により光吸収率を算出した。
その結果、塗布液1から形成した記録層の光吸収率が8%であり、塗布液2から形成した記録層の光吸収率が6.4%であることを確認した。
以上より、記録材料に含まれる1光子吸収色素の濃度を高分子バインダーを加えて調整することで、記録層の厚みを同じにした場合、光吸収率を小さくできる(吸収率を抑制できる)ことが確認された。
<記録層の耐熱性の評価>
塗布液1を石英ガラス上にスピンコートで厚み1μmとなるように塗布し、記録層のみを形成したサンプルを準備した。
そして、石英ガラス上に形成した記録層の一部を削り取り、削り取った記録層をDSC測定(示差走査熱量測定)により測定した。その結果、記録層のガラス転移温度は62℃であった。
また、上記した石英ガラス上に記録層を形成したサンプルを100℃で1時間放置した後、記録層を目視および光学顕微鏡で観察した。その結果、色素の相分離などに伴う記録層の白色化は確認されなかった。
以上より、本発明の光情報記録媒体(記録層)は、ガラス転移温度よりも高い温度で加熱処理できることが確認された。これにより、短時間で溶媒を除去可能といえるので、本発明によれば、光情報記録媒体の生産性を向上させることができるといえる。
塗布液1を石英ガラス上にスピンコートで厚み1μmとなるように塗布し、記録層のみを形成したサンプルを準備した。
そして、石英ガラス上に形成した記録層の一部を削り取り、削り取った記録層をDSC測定(示差走査熱量測定)により測定した。その結果、記録層のガラス転移温度は62℃であった。
また、上記した石英ガラス上に記録層を形成したサンプルを100℃で1時間放置した後、記録層を目視および光学顕微鏡で観察した。その結果、色素の相分離などに伴う記録層の白色化は確認されなかった。
以上より、本発明の光情報記録媒体(記録層)は、ガラス転移温度よりも高い温度で加熱処理できることが確認された。これにより、短時間で溶媒を除去可能といえるので、本発明によれば、光情報記録媒体の生産性を向上させることができるといえる。
前記した目的を達成するための本発明は、少なくとも1つの記録層と、当該記録層に隣接する少なくとも1つの中間層とを備えた光情報記録媒体であって、記録層は、高分子化合物に1光子吸収色素が結合されてなる記録材料を含んでおり、少なくとも1つの中間層との間で、1光子吸収色素が記録光を吸収して発生する熱により変形して、当該中間層に向かう凸形状が形成されることで情報が記録される界面を形成しており、凸形状が形成される界面を形成する中間層は、記録層よりも軟らかいことを特徴とする。
このような構成によれば、記録層が、高分子化合物に色素が結合された記録材料を含むため、色素が中間層に拡散することを抑制することができ、光情報記録媒体の長期安定性を向上させることができる。また、色素が1光子吸収色素であるため、ピークパワーの小さいレーザによる情報の記録が可能である。また、比較的小さなエネルギーで情報の記録が可能となるので、情報を高感度で記録することができる。また、記録光の照射によって記録層が変形、例えば、熱膨張したときに、この熱膨張による圧力により中間層が変形しやすくなるので、凸形状を残しやすくすることができる。なお、記録層と中間層の硬さの比較は、それぞれを構成する材料のバルク体を互いに押し付け合うことで確認することができる。すなわち、バルク体同士を押し付け合ったときに大きく凹む方が軟らかいと確認することができる。
前記した光情報記録媒体において、凸形状が形成される界面を形成する中間層が、記録層よりも軟らかいことを記録層と中間層のガラス転移温度の観点で言えば、凸形状が形成される界面を形成する中間層のガラス転移温度は、記録層のガラス転移温度よりも低いことが望ましい。また、これを具体的な構成で言えば、凸形状が形成される界面を形成する中間層は、粘着剤層であると言うことができる。
これによれば、記録光の照射によって記録層が変形、例えば、熱膨張したときに、この熱膨張による圧力により中間層が変形しやすくなるので、凸形状を残しやすくすることができる。
前記した光情報記録媒体において、記録層は、当該記録層を挟む2つの中間層との間で第1界面および第2界面を形成し、記録光の照射により、第1界面および第2界面のうち、一方の界面のみで凸形状が形成され、他方の界面においては凸形状が形成されない構成とすることができる。この場合、凸形状が形成される界面を形成する中間層と記録層との屈折率の差は、凸形状が形成されない界面を形成する中間層と記録層との屈折率の差よりも大きいことが望ましい。
また、前記した目的を達成するための本発明は、記録層と、当該記録層に隣接する中間層とを備えた光情報記録媒体の製造方法であって、高分子化合物に1光子吸収色素が結合されてなる記録材料を含む記録層の材料を、溶媒に溶解して塗布液を調整する第1工程と、塗布液を記録層を形成する面に塗布する第2工程と、溶媒を除去するための加熱処理を実行する第3工程と、を有し、第1工程において、記録材料に含まれる1光子吸収色素の濃度は、高分子化合物を加えて調整することを特徴とする。
このような方法によれば、長期安定性を向上させつつ、ピークパワーの小さいレーザによる情報の記録が可能な光情報記録媒体を製造することができる。また、記録層の材料が、高分子化合物に色素が結合された記録材料を含むので、記録材料として高分子化合物に色素が分散された材料を用いる場合と比較して、色素が拡散や凝集などを起こして相分離する可能性が低いため、溶媒を除去するのに加熱処理を実行することが可能となる。これにより、短時間で溶媒を除去できるので、光情報記録媒体の生産性を向上させることができる。また、記録材料に含まれる1光子吸収色素の濃度を高分子化合物で適度に希釈することで、記録層の厚みを厚くしても、記録読出光の吸収率を小さくすることができる。これにより、例えば、記録層の厚みをある程度厚くして情報としての凸形状を形成しやすくしつつ、記録層1層当たりの吸収率を小さくして記録層の多層化を図ることができる。
Claims (17)
- 少なくとも1つの記録層と、当該記録層に隣接する少なくとも1つの中間層とを備えた光情報記録媒体であって、
前記記録層は、高分子化合物に1光子吸収色素が結合されてなる記録材料を含むことを特徴とする光情報記録媒体。 - 複数の記録層を含み、前記中間層は、隣接する2つの記録層の間に設けられたことを特徴とする請求項1に記載の光情報記録媒体。
- 前記各記録層は、当該記録層を挟む2つの中間層との間で第1界面および第2界面を形成し、前記1光子吸収色素が記録光を吸収して発生する熱により変形して、前記第1界面および前記第2界面の少なくとも一方の界面に前記中間層に向かう凸形状が形成されることで情報が記録されることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の光情報記録媒体。
- 前記記録材料は、前記1光子吸収色素の質量比が50%未満であることを特徴とする請求項3に記載の光情報記録媒体。
- 前記記録層は、厚みが50nm以上であることを特徴とする請求項3または請求項4に記載の光情報記録媒体。
- 前記凸形状が形成される界面を形成する中間層は、前記記録層よりも軟らかいことを特徴とする請求項3から請求項5のいずれか1項に記載の光情報記録媒体。
- 前記凸形状が形成される界面を形成する中間層のガラス転移温度は、前記記録層のガラス転移温度よりも低いことを特徴とする請求項3から請求項6のいずれか1項に記載の光情報記録媒体。
- 前記凸形状が形成される界面を形成する中間層は、粘着剤層であることを特徴とする請求項3から請求項7のいずれか1項に記載の光情報記録媒体。
- 記録光の照射により、前記第1界面および前記第2界面のうち、一方の界面のみで前記凸形状が形成され、他方の界面においては前記凸形状が形成されず、
前記凸形状が形成される界面を形成する中間層と前記記録層との屈折率の差は、前記凸形状が形成されない界面を形成する中間層と前記記録層との屈折率の差よりも大きいことを特徴とする請求項3から請求項8のいずれか1項に記載の光情報記録媒体。 - 前記凸形状が形成されない界面を形成する中間層の屈折率と前記記録層の屈折率は、同じであることを特徴とする請求項9に記載の光情報記録媒体。
- 前記凸形状は、変形前の前記界面を基準として1nm〜300nmの範囲で突出していることを特徴とする請求項3から請求項10のいずれか1項に記載の光情報記録媒体。
- 前記中間層は、厚みが2μm〜20μmであることを特徴とする請求項3から請求項11のいずれか1項に記載の光情報記録媒体。
- 前記記録層を保護するためのカバー層を備えたことを特徴とする請求項1から請求項12のいずれか1項に記載の光情報記録媒体。
- 前記カバー層は、厚みが0.01mm〜0.2mmであることを特徴とする請求項13に記載の光情報記録媒体。
- 記録層と、当該記録層に隣接する中間層とを備えた光情報記録媒体の製造方法であって、
高分子化合物に1光子吸収色素が結合されてなる記録材料を含む記録層の材料を、溶媒に溶解して塗布液を調整する第1工程と、
前記塗布液を記録層を形成する面に塗布する第2工程と、
前記溶媒を除去するための加熱処理を実行する第3工程と、を有することを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。 - 前記第1工程において、前記記録材料に含まれる前記1光子吸収色素の濃度は、前記高分子化合物を加えて調整することを特徴とする請求項15に記載の光情報記録媒体の製造方法。
- 前記第3工程において、前記加熱処理の温度は、前記記録層のガラス転移温度よりも高いことを特徴とする請求項15または請求項16に記載の光情報記録媒体の製造方法。
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