CN103579533B - 框架及包括此的掩模组件 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种框架，用于支撑受到第一方向的拉伸力的单位掩模的两端部，该框架包括：形成露出所述单位掩模的开口部的框架主体部；贯穿形成于所述框架主体部的第一贯穿部。

Description

框架及包括此的掩模组件
技术领域
本发明涉及框架及包括此的掩模组件，尤其涉及用于支撑在进行有机发光层的沉积时使用的单位掩模的框架及包括此的掩模组件。
背景技术
显示装置是用于显示图像的装置，最近有机发光显示装置(organic lightemitting diode display)受到关注。
有机发光显示装置具有自发光特性，与液晶显示装置(liquid crystal displaydevice)不同，不需要专门的光源，因此可以减少厚度和重量。而且，有机发光显示装置可表现出低耗电、高亮度以及高响应速度等高品位特性。
为了制造有机发光显示装置，需要形成具有特定的图案的电极和有机发光层，作为其形成方法，可以应用使用掩模组件的沉积法。
具体来讲，有机发光显示装置具有如下结构，即，作为在基板上表现图像的基本单位的像素(pixel)以矩阵形式排列，每一个像素中间隔着发出红(Red)、绿(Green)、蓝(Blue)、白(White)等光的各个有机发光层而布置顺序地形成作为阳极的第一电极和作为阴极的第二电极的有机发光元件。在此，构成有机发光层的有机物质非常容易受到水分和氧气等的影响，因此在形成有机发光层的工艺和形成有机发光层之后，需要完全隔离水分，因而难以使用通常的光刻工艺执行图案化。据此，有机发光层主要利用仅在对应于各个图案的部分形成有用于使沉积物质贯穿的、被开口的图案部的掩模而形成。
最近，使用包括具备开口部的框架、对应于开口部而两端部固定在框架上的带状的多个单位掩模的掩模组件。
这种现有的掩模组件受到单位掩模的长度方向的拉伸力而支撑于框架，因此具有因受到的单位掩模长度方向的拉伸力而导致框架意外变形的问题。
发明内容
本发明的一实施例用于解决上述问题，其目的在于提供一种最小化因受到单位掩模的长度方向的拉伸力而产生的变形的框架及包括此的掩模组件。
为了达到上述目的，根据本发明的一方面，提供一种框架，用于支撑受到第一方向的拉伸力的单位掩模的两端部，该框架包括：形成露出所述单位掩模的开口部的框架主体部；贯穿形成于所述框架主体部的第一贯穿部。
多个所述单位掩模可以沿与所述第一方向交叉的第二方向布置而固定在所述框架主体部的上表面。
所述框架主体部可以包括：中间隔着所述开口部而相互面对，且沿所述第二方向延伸的两个长边部；中间隔着所述开口部而相互面对，且沿所述第一方向延伸的两个短边部；连接彼此相邻的所述长边部和所述短边部之间的四个拐角部。
所述第一贯穿部可形成于所述长边部的中央区域。
所述第一贯穿部可以是沿着所述第二方向延伸的四边形形态。
还可以包括第一凹槽，该第一凹槽从所述第一贯穿部至与所述第一贯穿部相邻的所述拐角部沿所述第二方向从所述框架主体部的下表面凹陷而延伸。
所述第一凹槽可以为多个。
所述第一凹槽越向所述拐角部延伸，所述第一方向的宽度可越增加。
所述第一贯穿部可以包括中间隔着所述长边部的中心而相互隔开的多个第一子贯穿部。
还可以包括贯穿形成于所述短边部的第二贯穿部。
所述第二贯穿部可以在相邻的所述拐角部之间，可以从一个拐角部延伸至另一拐角部。
所述第二贯穿部可以是沿所述第一方向延伸的四边形形态。
所述第二贯穿部可以包括中间隔着所述短边部的中心而相互隔开的多个第二子贯穿部。
还可以包括：位于所述第二贯穿部和所述开口部之间而与所述第二贯穿部面对，且从所述框架主体部的所述上表面至所述框架主体部的下表面逐渐变厚的第一倾斜面；位于所述第二贯穿部和所述框架主体部的外围之间而与所述第二贯穿部面对，且从所述框架主体部的所述上表面至所述框架主体部的下表面逐渐变薄的第二倾斜面。
各个所述第一倾斜面和所述第二倾斜面在所述第一方向上的长度可以与所述第二贯穿部相同。
所述第一倾斜面可以与所述开口部隔开，所述第二倾斜面可以从所述框架主体部的所述外围延伸。
还可以包括：位于所述第二贯穿部和所述开口部之间而与所述第二贯穿部面对，且从所述框架主体部的下表面凹陷的第二凹槽；位于所述第二贯穿部和所述框架主体部的外围之间而与所述第二贯穿部面对，且从所述框架主体部的所述上表面凹陷的第三凹槽。
各个所述第二凹槽和所述第三凹槽在所述第一方向上的长度可以与所述第二贯穿部相同。
所述第二凹槽可以与所述开口部隔开，所述第三凹槽可以与所述框架主体部的所述外围隔开。
而且，根据本发明的第二方面，提供一种掩模组件，包括：所述框架；受到所述第一方向的拉伸力而所述两端部支撑于所述框架的一个以上的掩模。
根据以上所述的本发明的技术方案的部分实施例中的一个实施例，提供最小化因受到单位掩模的长度方向的拉伸力而导致的变形的框架及包括此的掩模组件。
附图说明
图1为示出根据本发明第一实施例的掩模组件的立体图。
图2为示出图1中示出的框架的图。
图3为用于说明图2中示出的框架的效果的图。
图4为示出根据本发明第二实施例的框架的图。
图5为示出根据本发明第三实施例的框架的图。
图6为用于说明图5中示出的框架的效果的图。
图7为示出根据本发明第四实施例的框架的图。
主要符号说明
100为单位掩模，210为框架主体部，220为第一贯穿部。
具体实施方式
以下，参照附图对本发明的各个实施例进行详细的说明，以使本发明所属的技术领域的具有通常的知识的技术人员能够容易地实施。本发明可以实现为各种不同的形态，不限于在此说明的实施例。
为了明确地说明本发明，省略了与说明无关的部分，在整个说明书中，相同或类似的构成要素将赋予相同的符号。
而且，在各个实施例中，对于具有相同的结构的构成要素，使用相同的符号而代表性地在第一实施例中进行说明，而在其他实施例中，仅对不同于第一实施例的其他结构进行说明。
而且，为了便于说明，任意地表示了图中示出的各个结构的大小和厚度，本发明并不局限于如图所示的内容。
而且，在整个说明书中，当指出某一部分“包括”某个构成要素时，除非有特殊的相反的记载，否则不是将其他构成要素排除，而是意味着还可以包括其他构成要素。
以下，参照图1至图3，对于根据本发明第一实施例的掩模组件进行说明。
图1为示出根据本发明第一实施例的掩模组件的立体图。
如图1所示，根据本发明第一实施例的掩模组件包括多个单位掩模100和框架200。根据本发明第一实施例的掩模组件虽然包括多个单位掩模100，但根据本发明其他实施例的掩模组件可包括一个单位掩模。
单位掩模100具有沿作为长度方向的第一方向延伸的带状形态，在受到第一方向的拉伸力的状态下，两端部100a支撑于框架200。单位掩模100设置为多个，且多个单位掩模100沿作为与单位掩模100的第一方向交叉的单位掩模100的宽度方向的第二方向相邻而布置在框架200上。单位掩模100的两端部100a形成平坦的形态，但并不局限于此，还可以形成为如中央区域凹陷的马蹄的形态等多种形态。单位掩模100的两端部100a固定在框架200的框架主体部210的上表面210a，作为一示例，可以利用焊接进行固定。
单位掩模100包括图案部110。
图案部110在一个单位掩模100中沿第一方向布置了多个。图案部110可对应于一个有机发光显示装置，此时，可通过单位掩模100使用单一工艺将构成若干个的有机发光显示装置的图案同时形成于将要制造出有机发光显示装置的母基板上。即，图案部110与构成有机发光显示装置的图案的沉积区域对应而布置在单位掩模100。图案部110具有贯穿单位掩模100的开放图案的形态，以使构成有机发光显示装置的图案能够通过图案部110形成于母基板上。图案部110可包括条纹(stripe)类型的多个狭缝(slit)。
框架200分别固定和支撑受到第一方向的拉伸力的多个单位掩模100的每一个的两端部100a。固定于框架200的单位掩模100在受到第一方向的拉伸力的状态下支撑于框架200。据此，沿着作为单位掩模100的延伸方向的第一方向存在压缩力的作用，因此框架200可以由刚性较大的如不锈钢(stainless steel)等金属材料形成，以防止固定于框架200的单位掩模100因压缩力而产生变形。
图2为表示图1中示出的框架的图。图2的(a)为表示框架200的上侧的图，(b)为表示框架200的下侧的图。
如图2所示，框架200包括框架主体部210、第一贯穿部220、第一凹槽230、第二贯穿部240、第一倾斜面250、第二倾斜面260。
框架主体部210形成露出单位掩模100的图案部110的开口部OA，并围绕开口部OA延伸为闭环(closed loop)形态。框架主体部210具有四边形形态，包括长边部211、短边部212、拐角部213。虽然本实施例的框架主体部210具有四边形形态，但根据本发明的其他实施例的框架主体部可以具有三角形、多边形或圆形的形态。
长边部211为两个，两个长边部211中间隔着开口部OA相互面对。长边部211沿第二方向延伸。长边部211相比短边部212具有更长的长度。长边部211形成有第一贯穿部220和第一凹槽230。
短边部212为两个，两个短边部212中间隔着开口部OA相互面对。短边部沿第一方向延伸。短边部212相比长边部211具有更短的长度。短边部212形成有第二贯穿部240、第一倾斜面250以及第二倾斜面260。
拐角部213设置有四个，各个拐角部213连接相邻的长边部211和短边部212之间。
第一贯穿部220形成于长边部211的中央区域，且贯穿框架主体部210而形成。第一贯穿部220具有沿第二方向延伸的四边形形态。由于第一贯穿部220贯穿框架主体部210而形成，因而框架主体部210本身的重量趋于最小的同时，因施加到作为单位掩模100的长度方向的第一方向的拉伸力而施加于框架200的拉伸力被分散，从而框架200的变形趋于最小。
第一贯穿部220包括中间隔着长边部211的中心而相互隔开的多个第一子贯穿部221。由于第一贯穿部220包括相互隔开的多个第一子贯穿部221，据此将抑制因第一贯穿部220而可能发生的框架200的强度的下降。
第一凹槽230从第一贯穿部220至与第一贯穿部220相邻的拐角部213沿第二方向从框架主体部210的下表面210b凹陷而延伸。由于第一凹槽230从框架主体部210的下表面210b凹陷，据此框架主体部210的本身的重量趋于最小的同时，因施加到作为单位掩模100的长度方向的第一方向的拉伸力而施加于框架200的拉伸力被分散，从而框架200的变形趋于最小。
第一凹槽230设置有多个，各个第一凹槽230从第一子贯穿部221至与第一子贯穿部221相邻的拐角部213沿第二方向从框架主体部210的下表面210b凹陷而延伸。第一凹槽230的沿第一方向的宽度越从第一子贯穿部221延伸至拐角部213越增加。即，第一凹槽230越从拐角部213延伸至第一子贯穿部221，第一方向的宽度越减小，因而将抑制因第一凹槽230而可能产生的框架200的强度的下降。
第二贯穿部240贯穿短边部212而形成。第二贯穿部240在相邻的拐角部213之间从一个拐角部213延伸至另一拐角部213。即，第二贯穿部240连接着相邻的拐角部213之间。第二贯穿部240具有沿第一方向延伸的四边形形态。由于第二贯穿部240贯穿框架主体部210而形成，因此框架主体部210本身的重量趋于最小的同时，因施加到作为单位掩模100的长度方向的第一方向的拉伸力而施加于框架200的拉伸力被分散，从而框架200的变形趋于最小。
第二贯穿部240包括中间隔着短边部212的中心而相互隔开的多个第二子贯穿部241。由于第二贯穿部240包括相互隔开的多个第二子贯穿部241，因而将抑制因第二贯穿部240而可能产生的框架200的强度的下降。
第一倾斜面250位于第二贯穿部240和开口部OA之间而与第二贯穿部240相面对。第一倾斜面250具有从框架主体部210的上表面210a至框架210的下表面210b逐渐变厚的形态，且与开口部OA隔开。第一倾斜面250沿第一方向延伸，从而在第一方向上的第一倾斜面250的长度与第二贯穿部240的长度相同。第一倾斜面250具有与第二贯穿部240面对而沿第一方向延伸的、逐渐变厚的形态，据此框架主体部210本身的重量趋于最小的同时，因施加到作为单位掩模100的长度方向的第一方向的拉伸力而施加于框架200的拉伸力被分散，从而框架200的变形趋于最小。
第二倾斜面260位于第二贯穿部240和框架主体部210的外围210c之间而与第二贯穿部240面对。第二倾斜面260具有从框架主体部210的上表面210a至框架主体部210的下表面210b逐渐变薄的形态，且从框架主体部210的外围210c延伸。即，第二倾斜面260的端部从框架主体部210的外围210c折曲并延伸。第二倾斜面260沿第一方向延伸，从而在第一方向上，第二倾斜面的长度与第二贯穿部240的长度相同。第二倾斜面260具有与第二贯穿部240面对而沿第一方向延伸的、逐渐变薄的形态，据此框架主体部210的本身的重量趋于最小的同时，因施加到作为单位掩模100的长度方向的第一方向的拉伸力而施加于框架200的拉伸力被分散，从而框架200的变形趋于最小。
以下，结合图3对于确认出根据本发明第一实施例的掩模组件的框架200的变形趋于最小的实验进行说明。
图3为用于说明图2所示的框架的效果的图。图3的(a)为示出根据比较例的框架的图，(b)为示出根据本发明第一实施例的掩模组件的框架的实验例的图。
首先，准备了根据图3的(a)所示的比较例的比较框架20。根据比较例的比较框架20的外框长边的长度为930mm，外框短边的长度为550mm，形成开口部的内框长边的长度为730mm，形成开口部的内框短边的长度为400mm，厚度为40mm。对于在这种比较框架20上固定沿1方向拉伸0.08％的单位掩模的情况，利用达索系统(Dassault Systemes)公司的SIMULIA所销售的结构、电气和热解析工具ABAQUS进行模拟时，确认出比较框架20沿重力方向(g方向)发生了27.23um的变形。根据比较例的比较框架20的质量设定为70.7kg。
然后，准备了图3的(b)中所示的根据本发明第一实施例的掩模组件的框架200。根据第一实施例的掩模组件的框架200的外框长边的长度为930mm，外框短边的长度为550mm，形成开口部的内框长边的长度为730mm，形成开口部的内框短边的长度为400mm，厚度为40mm。对于在这种框架200上固定沿1方向拉伸0.08％的单位掩模的情况，利用ABAQUS进行模拟时，确认出框架200沿重力方向(g方向)发生了14.74um的变形。确认出框架200的质量变轻为46.4kg。
通过以上的说明进行确认的那样，根据本发明第一实施例的掩模组件的框架200包括第一贯穿部220、第一凹槽230、第二贯穿部240、第一倾斜面250、第二倾斜面260，据此因施加到作为单位掩模100的长度方向的第一方向的拉伸力而施加于框架200的拉伸力被分散，从而框架200的变形趋于最小。这作用为抑制随着框架200的变形而产生的、使用单位掩模100的沉积缺陷的要因，从而可提高利用框架组件的沉积工艺的可靠性。
而且，根据本发明第一实施例的掩模组件的框架200包括第一贯穿部220、第一凹槽230、第二贯穿部240、第一倾斜面250、第二倾斜面260，据此框架200本身的重量趋于最小，从而框架200和框架组件的取放变得容易。这作用为提高整个沉积工艺的容易性的要因，能够节省利用框架组件的沉积工艺的时间。
以下，参照图4对于根据本发明第二实施例的框架进行说明。
以下，仅摘取与第一实施例有区别的特征性部分进行说明，省略说明的部分依照第一实施例。而且，在本发明的第二实施例中，为了便于说明，对于相同的构成要素使用与本发明的第一实施例相同的附图标记进行说明。
图4为示出根据本发明第二实施例的框架的图。图4的(a)为表示框架202的上侧的图，(b)为表示框架202的下侧的图。
如图4所示，框架202包括框架主体部210、第一贯穿部220、第一凹槽230、第二贯穿部240、第一倾斜面250、第二倾斜面260。
第一贯穿部220贯穿长边部211的中心。
第二贯穿部240贯穿短边部212的中心。
如上所述，根据本发明第二实施例的框架202相比根据第一实施例的框架200，由于第一贯穿部220和第二贯穿部240分别贯穿各个长边部211和短边部的中心，因此相比根据第一实施例的框架200，框架202本身的重量趋于最小，因此框架202和框架组件的取放变得容易。这作用为提高整个沉积工艺的容易性的要因，能够减少利用框架组件的沉积工艺的时间。
以下，参照图5和图6对于根据本发明的第三实施例的框架进行说明。
以下，仅摘取与第一实施例有区别的特征性部分进行说明，省略说明的部分依照第一实施例。而且，在本发明的第三实施例中，为了便于说明，对于相同的构成要素使用与本发明的第一实施例相同的附图标记进行说明。
图5为示出根据本发明第三实施例的框架的图。图5的(a)为表示框架203的上侧的图，(b)为示出框架203的下侧的图。
如图5所示，框架203包括框架主体部210、第一贯穿部220、第一凹槽230、第二贯穿部240、第二凹槽280、第三凹槽290。
第二凹槽280位于第二贯穿部240和开口部OA之间而与第二贯穿部240相对。第二凹槽280从框架主体部210的下表面210b凹陷而形成，且与开口部OA隔开。第二凹槽280沿第一方向延伸，从而在第一方向上，第二凹槽280的长度与第二贯穿部240的长度相同。由于第二凹槽280与第二贯穿部240面对且从框架主体部210的下表面210b凹陷而形成，据此框架主体部210本身的重量趋于最小的同时，因施加到作为单位掩模100的长度方向的第一方向的拉伸力而施加于框架203的拉伸力被分散，从而框架203的变形趋于最小。
第三凹槽290位于第二贯穿部240和框架主体部210的外围210c之间而与第二贯穿部240面对。第三凹槽290从框架主体部210的上表面210a凹陷而形成，且与框架主体部210的外围210c隔开。第三凹槽290沿第一方向延伸，从而在第一方向上，第三凹槽290的长度与第二贯穿部240的长度相同。由于第三凹槽290与第二贯穿部240面对且从框架主体部210的上表面210a凹陷而形成，据此框架主体部210本身的重量趋于最小的同时，因施加到作为单位掩模100的长度方向的第一方向的拉伸力而施加于框架203的拉伸力被分散，从而框架203的变形趋于最小。
以下，参照图6对于确认出根据本发明第三实施例的掩模组件的框架203的变形趋于最小的实验进行说明。
图6为用于说明图5所示的框架的效果的图。图6的(a)为示出根据比较例的框架的图，(b)为示出根据本发明第三实施例的框架的实验例的图。
首先，准备了根据图6的(a)所示的比较例的比较框架20。根据比较例的比较框架20的外框长边的长度为930mm，外框短边的长度为550mm，形成开口部的内框长边的长度为730mm，形成开口部的内框短边的长度为400mm，厚度为40mm。对于在这种比较框架20上固定沿1方向拉伸0.08％的单位掩模的情况，利用达索系统(Dassault Systemes)公司的SIMULIA所销售的结构、电气和热解析工具ABAQUS进行模拟时，确认出比较框架20沿重力方向(g方向)发生了27.23um的变形。根据比较例的比较框架20的质量设定为70.7kg。
然后，准备了图6的(b)中所示的根据本发明第三实施例的框架203。根据第三实施例的框架203的外框长边的长度为930mm，外框短边的长度为550mm，形成开口部的内框长边的长度为730mm，形成开口部的内框短边的长度为400mm，厚度为40mm。对于在这种框架203上固定沿1方向拉伸0.08％的单位掩模的情况，利用ABAQUS进行模拟时，确认出框架203沿重力方向(g方向)发生了7.57um的变形。确认出框架203的质量变轻为46.6kg。
通过以上的实验进行确认的那样，根据本发明第三实施例的掩模组件的框架203包括第一贯穿部220、第一凹槽230、第二贯穿部240、第二凹槽280、第三凹槽290，据此因施加到作为单位掩模100的长度方向的第一方向的拉伸力而施加于框架203的拉伸力被分散，从而框架203的变形趋于最小。这作用为抑制随着框架203的变形而产生的使用单位掩模100的沉积缺陷的要因，可提高利用框架组件的沉积工艺的可靠性。
而且，根据本发明第三实施例的掩模组件的框架203包括第一贯穿部220、第一凹槽230、第二贯穿部240、第二凹槽280、第三凹槽290，据此框架203本身的重量趋于最小，从而框架203和框架组件的取放变得容易。这作用为提高整个沉积工艺的容易性的要因，能够节省利用框架组件的沉积工艺的时间。
以下，参照图7对于根据本发明第四实施例的框架进行说明。
以下，仅摘取与第三实施例有区别的特征性部分进行说明，省略说明的部分依照第三实施例。而且，在本发明的第四实施例中，为了便于说明，对于相同的构成要素使用与本发明的第一实施例相同的附图标记进行说明。
图7为示出根据本发明第四实施例的框架的图。图7的(a)为表示框架204的上侧的图，(b)为表示框架204的下侧的图。
如图7所示，框架204包括框架主体部210、第一贯穿部220、第一凹槽230、第二贯穿部240、第二凹槽280、第三凹槽290。
第一贯穿部220贯穿长边部211的中心。
第二贯穿部240贯穿短边部212的中心。
如上所述，根据本发明第四实施例的框架204相比根据第三实施例的框架203，由于第一贯穿部220和第二贯穿部240分别贯穿各个长边部211和短边部212的中心，因此相比根据第三实施例的框架203，框架204本身的重量趋于最小，因此框架204和框架组件的取放变得容易。这作用为提高整个沉积工艺的容易性的要因，能够减少利用框架组件的沉积工艺的时间。
虽然如上所记载地对本发明的优选实施例进行了说明，但本发明并不局限于此，本发明所属技术领域的从业者应容易理解，在不脱离权利要求书所记载的概念和范围的前提下，可以进行各种修改和变更。

Claims (17)

1.一种框架，用于支撑受到第一方向的拉伸力的单位掩模的两端部，其特征在于，该框架包括：
形成露出所述单位掩模的开口部的框架主体部；
贯穿所述框架主体部的上下表面而贯穿形成于所述框架主体部的第一贯穿部，
所述框架主体部包括：
中间隔着所述开口部而相互面对，且沿与所述第一方向交叉的第二方向延伸的两个长边部；
中间隔着所述开口部而相互面对，且沿所述第一方向延伸的两个短边部；
连接彼此相邻的所述长边部和所述短边部之间的四个拐角部，
所述第一贯穿部形成于所述长边部的中央区域，
所述框架还包括第一凹槽，该第一凹槽从所述第一贯穿部至与所述第一贯穿部相邻的所述拐角部沿与所述第二方向从所述框架主体部的下表面凹陷而延伸。
2.根据权利要求1所述的框架，其特征在于，多个所述单位掩模沿与所述第二方向布置而固定在所述框架主体部的上表面。
3.根据权利要求2所述的框架，其特征在于，所述第一贯穿部具有沿着所述第二方向延伸的四边形形态。
4.根据权利要求2所述的框架，其特征在于，所述第一凹槽为多个。
5.根据权利要求2所述的框架，其特征在于，所述第一凹槽越向所述拐角部延伸，沿所述第一方向的宽度越增加。
6.根据权利要求2所述的框架，其特征在于，所述第一贯穿部包括中间隔着所述长边部的中心而相互隔开的多个第一子贯穿部。
7.根据权利要求2所述的框架，其特征在于，还包括贯穿形成于所述短边部的第二贯穿部。
8.根据权利要求7所述的框架，其特征在于，所述第二贯穿部在相邻的所述拐角部之间，从一个拐角部延伸至另一拐角部。
9.根据权利要求8所述的框架，其特征在于，所述第二贯穿部具有沿所述第一方向延伸的四边形形态。
10.根据权利要求8所述的框架，其特征在于，所述第二贯穿部包括中间隔着所述短边部的中心而相互隔开的多个第二子贯穿部。
11.根据权利要求7所述的框架，其特征在于，还包括：
位于所述第二贯穿部和所述开口部之间而与所述第二贯穿部面对，且从所述框架主体部的所述上表面至所述框架主体部的下表面逐渐变厚的第一倾斜面；
位于所述第二贯穿部和所述框架主体部的外围之间而与所述第二贯穿部面对，且从所述框架主体部的所述上表面至所述框架主体部的下表面逐渐变薄的第二倾斜面。
12.根据权利要求11所述的框架，其特征在于，各个所述第一倾斜面和所述第二倾斜面在所述第一方向上的长度与所述第二贯穿部相同。
13.根据权利要求11所述的框架，其特征在于，所述第一倾斜面与所述开口部隔开，所述第二倾斜面从所述框架主体部的所述外围延伸。
14.根据权利要求7所述的框架，其特征在于，还包括：
位于所述第二贯穿部和所述开口部之间而与所述第二贯穿部面对，且从所述框架主体部的下表面凹陷的第二凹槽；
位于所述第二贯穿部和所述框架主体部的外围之间而与所述第二贯穿部面对，且从所述框架主体部的所述上表面凹陷的第三凹槽。
15.根据权利要求14所述的框架，其特征在于，各个所述第二凹槽和所述第三凹槽在所述第一方向上的长度与所述第二贯穿部相同。
16.根据权利要求14所述的框架，其特征在于，所述第二凹槽与所述开口部隔开，所述第三凹槽与所述框架主体部的所述外围隔开。
17.一种掩模组件，其特征在于，包括：
根据权利要求1至权利要求16中的任一项所述的框架；
受到所述第一方向的拉伸力而所述两端部支撑于所述框架的一个以上的掩模。
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