CN103556148A - 一种NiTi形状记忆合金的表面改性方法 - Google Patents

一种NiTi形状记忆合金的表面改性方法 Download PDF

Info

Publication number
CN103556148A
CN103556148A CN201310524328.9A CN201310524328A CN103556148A CN 103556148 A CN103556148 A CN 103556148A CN 201310524328 A CN201310524328 A CN 201310524328A CN 103556148 A CN103556148 A CN 103556148A
Authority
CN
China
Prior art keywords
graphene
shape memory
memory alloy
niti shape
pmma
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201310524328.9A
Other languages
English (en)
Other versions
CN103556148B (zh
Inventor
张利强
崔立山
李永峰
苏燕
王玉路
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
First Affiliated Hospital Of Baotou Medical College Inner Mongolia University Of Science And Technology
Inner mongolia university of science and technology baotou medical college
China University of Petroleum Beijing
Original Assignee
First Affiliated Hospital Of Baotou Medical College Inner Mongolia University Of Science And Technology
Inner mongolia university of science and technology baotou medical college
China University of Petroleum Beijing
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by First Affiliated Hospital Of Baotou Medical College Inner Mongolia University Of Science And Technology, Inner mongolia university of science and technology baotou medical college, China University of Petroleum Beijing filed Critical First Affiliated Hospital Of Baotou Medical College Inner Mongolia University Of Science And Technology
Priority to CN201310524328.9A priority Critical patent/CN103556148B/zh
Publication of CN103556148A publication Critical patent/CN103556148A/zh
Priority to PCT/CN2014/075913 priority patent/WO2015062221A1/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN103556148B publication Critical patent/CN103556148B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/26Deposition of carbon only
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B32/00Carbon; Compounds thereof
    • C01B32/15Nano-sized carbon materials
    • C01B32/182Graphene
    • C01B32/184Preparation
    • C01B32/186Preparation by chemical vapour deposition [CVD]

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Carbon And Carbon Compounds (AREA)

Abstract

本发明提供了一种NiTi形状记忆合金的表面改性方法。该方法包括以下步骤:在生长在金属铜基底或金属镍基底上的石墨烯的表面涂一层PMMA,然后将基底和石墨烯放入三氯化铁溶液中对基底进行腐蚀,腐蚀时间为20-40min,得到PMMA/石墨烯复合膜;利用去离子水对PMMA/石墨烯复合膜进行清洗,然后将PMMA/石墨烯复合膜转移至NiTi形状记忆合金的表面;然后将表面具有PMMA/石墨烯复合膜的NiTi形状记忆合金放入烘箱内,在50-60℃下保温3-5小时,然后滴加丙酮去除聚甲基丙烯酸甲酯,实现石墨烯薄膜对NiTi形状记忆合金表面的包覆。本发明制备的表面包覆有石墨烯的NiTi形状记忆合金的石墨烯保护层可以明显抑制Ni离子的析出,并具有更好的生物相容性,更不容易造成红细胞被破坏而出现溶血现象。

Description

一种NiTi形状记忆合金的表面改性方法
技术领域
本发明涉及一种应用石墨烯包覆对医用NiTi形状记忆合金进行表面改性的方法,属于NiTi生物医用材料领域。
背景技术
如今,NiTi形状记忆合金由于其独特的形状记忆效应、超弹性、低弹性模量和较好的生物相容性已成为一种被广泛应用的生物医用材料,然而,由于NiTi形状记忆合金中Ni含量较高,在长期使用中,Ni离子会析出并游离进入到人体血液中去,与人体生物分子结合,导致人体中毒、过敏,严重时甚至会引发癌症。因此,如何有效抑制Ni离子的析出是当今NiTi形状记忆合金在生物医用材料领域首要解决的问题。
在有氧环境中,由于Ti和O具有很强的结合力,在NiTi记忆合金表面会自发生成TiO2保护膜,虽然TiO2保护膜理论上可以抑制Ni离子析出并且具有生物相容性,但是TiO2薄膜作为陶瓷膜,其力学性能很差,在NiTi形状记忆合金变形过程中很容易发生断裂并无法修复,不能起到有效抑制Ni离子析出的功能。
针对上述问题,一般采用表面改性的方法来抑制Ni离子的析出。表面改性膜通常为TiN薄膜、TiC薄膜、金刚石膜、金属钽膜和金属铌膜等,但这些薄膜或由于制备成本高、工艺复杂、力学性能差和生物相容性不理想等因素的影响,使它们的应用性受到很大的限制,远远不能满足生物医用材料领域的需求。
因此,探索一种制备工艺简单,成本低廉,并具有较好力学性能和生物相容性的NiTi形状记忆合金表面改性膜显得尤为重要。
发明内容
为解决上述技术问题,本发明的目的在于提供一种NiTi形状记忆合金的表面改性方法,该方法采用石墨烯薄膜对NiTi形状记忆合金的表面进行改性,具有操作简单、成本低等特点,所制备得到的表面具有石墨烯薄膜的NiTi形状记忆合金具有良好的生物相容性。
为达到上述目的,本发明提供了一种利用石墨烯包覆对NiTi形状记忆合金进行表面改性的方法,其包括以下步骤:
在生长在金属铜基底或金属镍基底上的石墨烯的表面涂一层聚甲基丙烯酸甲酯,然后将基底和石墨烯放入浓度为0.5mol/L的三氯化铁溶液中对基底进行腐蚀,腐蚀时间为20-40min,得到PMMA/石墨烯复合膜;
利用水对所述PMMA/石墨烯复合膜进行清洗,然后将所述PMMA/石墨烯复合膜转移至NiTi形状记忆合金的表面;
然后将表面具有PMMA/石墨烯复合膜的NiTi形状记忆合金放入烘箱内,在50-60℃下保温3-5小时,然后滴加丙酮去除聚甲基丙烯酸甲酯,实现石墨烯薄膜对NiTi形状记忆合金表面的包覆。
根据本发明的具体实施方案,优选地,该方法包括以下步骤:
在转移所述PMMA/石墨烯复合膜之前,在所述NiTi形状记忆合金的表面喷涂一层乙醇;这样可以使PMMA/石墨烯复合膜与金属衬底形成良好的接触。
根据本发明的具体实施方案,优选地,该方法包括对NiTi形状记忆合金进行预处理的步骤:
在转移所述PMMA/石墨烯复合膜之前,对所述NiTi形状记忆合金的表面进行机械打磨、抛光,再分别放入乙醇和丙酮中超声清洗30-60分钟,吹干备用。
根据本发明的具体实施方案,优选地,所述石墨烯是通过化学气相沉积法制备得到的。
根据本发明的具体实施方案,优选地,该方法包括制备石墨烯的步骤:
首先将金属铜基底或金属镍基底放入石英反应器中,并将石英反应器推送到化学气相沉积设备的反应室中央,打开真空泵,然后分别以50sccm/min和300sccm/min的速率向反应室内通入氢气和氮气;
以35sccm/min的速率向反应室中通入CH4,使石墨烯在金属铜片或者金属镍片的表面进行生长,同时,在石墨烯的生长过程中,将石英反应器加热至950-1100℃,CH4的通入时间为4-20min;
石墨烯生长结束之后,分别以300sccm/min和35sccm/min的速率向反应室内通入氩气和氢气,直到冷却到室温。
根据本发明的具体实施方案,优选地,在制备过程中,石英反应器的加热速率为12℃/min,反应室的冷却速度为10℃/min。
本发明提供的上述利用石墨烯包覆对NiTi形状记忆合金进行表面改性的方法可以按照以下具体步骤进行:
(1)NiTi形状记忆合金的预处理:
对NiTi形状记忆合金的表面进行机械打磨、抛光,再分别放入乙醇和丙酮中超声清洗30-60分钟,吹干备用。
(2)石墨烯的制备:
石墨烯的制备是采用化学气相沉积方法,按照以下步骤进行:首先将金属铜片或者金属镍片放入石英反应器中,并将反应器推送到化学气相沉积设备的反应室中央,打开真空泵,分别以50sccm/min和300sccm/min的速率向反应室中通入氢气和氮气,并且以35sccm/min的速率通入4-20分钟的CH4,使石墨烯在金属铜片或金属镍片的表面生长,在石墨烯生长过程中,石英反应器被加热到950-1100℃,加热速率为12℃/min,生长结束时,分别以300sccm/min和35sccm/min的速率通入氩气和氢气直到冷却到室温,冷却速度为10℃/min。
(3)石墨烯的转移:
石墨烯的转移是将步骤(2)中已经制备好的石墨烯转移到NiTi形状记忆合金衬底表面,按照以下步骤进行:首先将生长在金属铜片或者金属镍片上的石墨烯表面涂一层聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA),然后将其放入浓度为0.5mol/L的三氯化铁溶液中进行20-40min的腐蚀;经过腐蚀之后,金属铜片或者金属镍片可完全被腐蚀掉,仅剩下PMMA/石墨烯复合膜,然后将此复合膜放入去离子水中反复清洗3-5次,最后转移到经过预处理的NiTi形状记忆合金表面,在转移之前,在NiTi形状记忆合金的表面预喷涂一层乙醇。
(4)热处理:
热处理是将步骤(3)中制备好的表面带有PMMA/石墨烯复合膜的NiTi形状记忆合金放入烘箱内,在50-60℃下保温3-5小时去除水分子,然后滴加丙酮去除PMMA,最终实现石墨烯薄膜在NiTi形状记忆合金表面的包覆。
本发明还提供了一种NiTi形状记忆合金,其表面包覆有石墨烯薄膜。
根据本发明的具体实施方案,优选地,该NiTi形状记忆合金是通过上述利用石墨烯包覆对NiTi形状记忆合金进行表面改性的方法制备的。
通过将本发明制备的表面包覆有石墨烯的NiTi形状记忆合金在模拟体液中浸泡发现石墨烯保护层可以明显抑制Ni离子的析出。为测试石墨烯保护层与NiTi形状记忆合金的生物相容性,将石墨烯包覆的NiTi形状记忆合金和无石墨烯保护层的NiTi形状记忆合金分别放入含有红细胞的溶液中进行检测比较,发现具有石墨烯保护层的NiTi形状记忆合金具有更好的生物相容性,更不容易造成红细胞被破坏而出现溶血现象。
附图说明
图1为实施例1制备的石墨烯包覆的NiTi形状记忆合金的结构示意图;
图2为实施例1制备的石墨烯包覆的NiTi形状记忆合金表面石墨烯的高分辨透射电镜照片;
图3为实施例1制备的石墨烯包覆的NiTi形状记忆合金表面石墨烯的拉曼光谱图;
图4为实施例1制备的石墨烯包覆的NiTi形状记忆合金和无石墨烯保护层的NiTi形状记忆合金在模拟体液中的Ni离子析出量随时间变化结果图;
图5为实施例1制备的石墨烯包覆NiTi形状记忆合金和无石墨烯保护层的NiTi形状记忆合金的红细胞溶血量比较结果(12h);
图6为实施例2制备的石墨烯包覆的NiTi形状记忆合金表面石墨烯的高分辨透射电镜照片;
图7为实施例2制备的石墨烯包覆的NiTi形状记忆合金和无石墨烯保护层的NiTi形状记忆合金在模拟体液中的Ni离子析出量随时间变化结果图;
图8为实施例2制备的石墨烯包覆NiTi形状记忆合金和无石墨烯保护层的NiTi形状记忆合金的红细胞溶血量比较结果(48h)。
具体实施方式
为了对本发明的技术特征、目的和有益效果有更加清楚的理解,现对本发明的技术方案进行以下详细说明,但不能理解为对本发明的可实施范围的限定。
实施例1
本实施例提供一种石墨烯包覆的NiTi形状记忆合金,其是通过以下步骤制备的:
(1)NiTi形状记忆合金的预处理:
对NiTi形状记忆合金进行机械打磨、抛光,再分别放入乙醇和丙酮中各超声清洗30分钟,吹干备用。
(2)石墨烯的制备
首先将金属铜片(或者金属镍片)放入石英反应器中,并将反应器推送到化学气相沉积设备的腔体中央,打开真空泵,然后分别以50sccm/min和300sccm/min的速率通入氢气和氮气,并且以35sccm/min的速率通入4分钟CH4,使石墨烯在金属铜片(或金属镍片)的表面生产,在石墨烯的生长过程中,石英反应器被加热到950℃,加热速率为12℃/min,生长结束之后,分别以300sccm/min和35sccm/min的速率向腔体中通入氩气和氢气直到冷却到室温,冷却速度为10℃/min。
(3)石墨烯的转移
首先将生长在金属铜片(或者金属镍片)上的石墨烯表面涂一层聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA),然后将其放入浓度为0.5mol/L的三氯化铁溶液中进行20min的腐蚀;经过腐蚀之后,金属铜片(或者金属镍片)可完全被腐蚀掉,仅剩下PMMA/石墨烯复合膜,然后将此复合膜放入去离子水中反复清洗3次,最后转移到经过预处理的NiTi形状记忆合金表面,在转移之前,在NiTi形状记忆合金表面预喷涂一层乙醇。
(4)热处理
将步骤(3)中制备的表面覆盖有PMMA/石墨烯复合膜的NiTi形状记忆合金放入烘箱内,在50℃下保温3小时去除水分子,然后滴加丙酮去除PMMA,得到石墨烯包覆的NiTi形状记忆合金。
该石墨烯包覆的NiTi形状记忆合金的结构如图1所示,其高分辨透射电镜照片如图2所示,由图2可以看出表层石墨烯层数为4层。将该石墨烯包覆的NiTi形状记忆合金在532nm激光下进行拉曼测试,其拉曼光谱图如图3所示,从图3中可以发现石墨烯仍具有良好的质量。
将本实施例制备的石墨烯包覆的NiTi形状记忆合金放入NaCl浓度为0.9wt%的模拟体液中浸泡15天,其中,第1、3、6、10、15天的Ni离子释放量如图4所示。由图4可以看出,石墨烯保护层的存在可以有效抑制Ni离子的析出。经过15天的腐蚀,石墨烯包覆的NiTi形状记忆合金的Ni离子释放量为77.0±6.9μg/L,而无石墨烯保护层的NiTi形状记忆合金的Ni离子释放量为168.6±66.1μg/L。
在相同的测试条件下,将石墨烯包覆NiTi形状记忆合金样品与无石墨烯包覆NiTi形状记忆合金样品分别放入红细胞浓度为4.06-5.74×1012/L的溶液中进行吸光度比较,结果如图5所示。经过12小时,发现具有石墨烯保护层的NiTi形状记忆合金样品表层溶液透光度更好,表明石墨烯的存在可以有效抑制红细胞发生破裂而产生溶血,石墨烯包覆层可以提高NiTi形状记忆合金的生物相容性。
实施例2
本实施例提供一种石墨烯包覆的NiTi形状记忆合金,其是通过以下步骤制备的:
(1)NiTi形状记忆合金的预处理:
对NiTi形状记忆合金进行机械打磨、抛光,再分别放入乙醇和丙酮中各超声清洗60分钟,吹干备用。
(2)石墨烯的制备
首先将金属铜片(或者金属镍片)放入石英反应器中,并将反应器推送到化学气相沉积设备的腔体中央,打开真空泵,然后分别以50sccm/min和300sccm/min的速率通入氢气和氮气,并且以35sccm/min的速率通入10分钟CH4,使石墨烯在金属铜片(或金属镍片)的表面生长,在石墨烯的生长过程中,石英反应器被加热到1100℃,加热速率为12℃/min,生长结束之后,分别以300sccm/min和35sccm/min的速率向腔体中通入氩气和氢气直到冷却到室温,冷却速度为10℃/min。
(3)石墨烯的转移
首先将生长在金属铜片(或者金属镍片)上的石墨烯表面涂一层聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA),然后将其放入浓度为0.5mol/L的三氯化铁溶液中进行40min的腐蚀;经过腐蚀之后,金属铜片(或者金属镍片)可完全被腐蚀掉,仅剩下PMMA/石墨烯复合膜,然后将此复合膜放入去离子水中反复清洗3次,最后转移到经过预处理的NiTi形状记忆合金表面,在转移之前,在NiTi形状记忆合金表面预喷涂一层乙醇。
(4)热处理
将步骤(3)中制备的表面覆盖有PMMA/石墨烯复合膜的NiTi形状记忆合金放入烘箱内,在50℃下保温3小时去除水分子,然后滴加丙酮去除PMMA,得到石墨烯包覆的NiTi形状记忆合金。
该石墨烯包覆的NiTi形状记忆合金的结构如图1所示,其高分辨透射电镜照片如图6所示,由图6可以看出表层石墨烯层数为6层。
将本实施例制备的石墨烯包覆的NiTi形状记忆合金放入NaCl浓度为0.9wt%的模拟体液中浸泡15天,其中,第1、3、6、10、15天的Ni离子释放量如图7所示。由图7可以看出,石墨烯保护层的存在可以有效抑制Ni离子的析出。经过15天的腐蚀,石墨烯包覆的NiTi形状记忆合金的Ni离子释放量为65.3±43.4μg/L,而无石墨烯保护层的NiTi形状记忆合金的Ni离子释放量为168.6±66.1μg/L。
在相同的测试条件下,将石墨烯包覆NiTi形状记忆合金样品与无石墨烯包覆NiTi形状记忆合金样品分别放入红细胞浓度为4.06-5.74×1012/L的溶液中进行吸光度比较,结果如图8所示。经过48小时,发现具有石墨烯保护层的NiTi形状记忆合金样品表层溶液透光度更好,表明石墨烯的存在可以有效抑制红细胞发生破裂而产生溶血,石墨烯包覆层可以提高NiTi形状记忆合金的生物相容性。

Claims (10)

1.一种利用石墨烯包覆对NiTi形状记忆合金进行表面改性的方法,其包括以下步骤:
在生长在金属铜基底或金属镍基底上的石墨烯的表面涂一层聚甲基丙烯酸甲酯,然后将基底和石墨烯放入三氯化铁溶液中对基底进行腐蚀,腐蚀时间为20-40min,得到PMMA/石墨烯复合膜;
利用水对所述PMMA/石墨烯复合膜进行清洗,然后将所述PMMA/石墨烯复合膜转移至NiTi形状记忆合金的表面;
然后将表面具有PMMA/石墨烯复合膜的NiTi形状记忆合金放入烘箱内,在50-60℃下保温3-5小时,然后滴加丙酮去除聚甲基丙烯酸甲酯,实现石墨烯薄膜对NiTi形状记忆合金表面的包覆。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,该方法包括以下步骤:
在转移所述PMMA/石墨烯复合膜之前,在所述NiTi形状记忆合金的表面喷涂一层乙醇。
3.根据权利要求1所述的方法,其中,该方法包括对NiTi形状记忆合金进行预处理的步骤:
在转移所述PMMA/石墨烯复合膜之前,对所述NiTi形状记忆合金的表面进行机械打磨、抛光,再分别放入乙醇和丙酮中超声清洗30-60分钟,吹干备用。
4.根据权利要求1所述的方法,其中,所述石墨烯是通过化学气相沉积法制备得到的。
5.根据权利要求1或4所述的方法,其中,该方法包括制备石墨烯的步骤:
首先将金属铜基底或金属镍基底放入石英反应器中,并将石英反应器推送到化学气相沉积设备的反应室中央,打开真空泵,然后分别以50sccm/min和300sccm/min的速率向反应室内通入氢气和氮气;
以35sccm/min的速率向反应室中通入CH4,使石墨烯在金属铜片或者金属镍片的表面进行生长,同时,在石墨烯的生长过程中,将石英反应器加热至950-1100℃,CH4的通入时间为4-20min;
石墨烯生长结束之后,分别以300sccm/min和35sccm/min的速率向反应室内通入氩气和氢气,直到冷却到室温。
6.根据权利要求5所述的方法,其中,所述石英反应器的加热速率为12℃/min。
7.根据权利要求5所述的方法,其中,石墨烯生长结束之后,所述反应室的冷却速度为10℃/min。
8.根据权利要求1所述的方法,其中,所述金属铜基底为金属铜片,所述金属镍基底为金属镍片。
9.一种NiTi形状记忆合金,其表面包覆有石墨烯薄膜。
10.根据权利要求9所述的NiTi形状记忆合金,其中,该NiTi形状记忆合金是通过权利要求1-8任一项所述的方法制备的。
CN201310524328.9A 2013-10-29 2013-10-29 一种NiTi形状记忆合金的表面改性方法 Expired - Fee Related CN103556148B (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310524328.9A CN103556148B (zh) 2013-10-29 2013-10-29 一种NiTi形状记忆合金的表面改性方法
PCT/CN2014/075913 WO2015062221A1 (zh) 2013-10-29 2014-04-22 一种NiTi形状记忆合金的表面改性方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310524328.9A CN103556148B (zh) 2013-10-29 2013-10-29 一种NiTi形状记忆合金的表面改性方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN103556148A true CN103556148A (zh) 2014-02-05
CN103556148B CN103556148B (zh) 2016-03-02

Family

ID=50010488

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201310524328.9A Expired - Fee Related CN103556148B (zh) 2013-10-29 2013-10-29 一种NiTi形状记忆合金的表面改性方法

Country Status (2)

Country Link
CN (1) CN103556148B (zh)
WO (1) WO2015062221A1 (zh)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015062221A1 (zh) * 2013-10-29 2015-05-07 中国石油大学(北京) 一种NiTi形状记忆合金的表面改性方法
CN105060280A (zh) * 2015-07-20 2015-11-18 中国人民解放军第四军医大学 一种钛或钛合金表面石墨烯薄膜的制备方法
CN105483800A (zh) * 2015-12-09 2016-04-13 北京市医疗器械检验所 一种医用级镍钛形状记忆合金循环动电位成膜工艺
CN105586597A (zh) * 2014-10-21 2016-05-18 中国石油大学(北京) 一种TiNi记忆合金表面改性方法
CN105734561A (zh) * 2016-04-08 2016-07-06 北京航空航天大学 一种在医用镍钛合金表面原位生长的石墨烯薄膜及其制备方法
CN105983132A (zh) * 2015-02-06 2016-10-05 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 一种对医用钛材料表面进行改性的方法
CN111926329A (zh) * 2020-07-21 2020-11-13 淮阴工学院 一种钛合金表面激光改性有机-无机复合保护涂层的制备方法
CN113998694A (zh) * 2021-11-22 2022-02-01 上海大学 一种利用固态碳源获取大尺寸石墨烯的制备方法
CN114203326A (zh) * 2021-12-13 2022-03-18 中国核动力研究设计院 石墨烯封装超薄镍-63辐射源薄膜及其制备方法、应用
CN114309649A (zh) * 2021-12-24 2022-04-12 吉林大学威海仿生研究院 一种通过热处理工艺改善激光选区熔化NiTi合金耐腐蚀性的新方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6238496B1 (en) * 1998-07-01 2001-05-29 Jeffrey W. Akers Method for precision modification and enhancement of shape memory alloy properties
CN102351175A (zh) * 2011-11-03 2012-02-15 东南大学 化学气相沉积法制备石墨烯的高质量转移方法
CN102674335A (zh) * 2012-05-24 2012-09-19 哈尔滨工业大学 一种基于自由基反应低温制备石墨烯的方法
CN102719803A (zh) * 2012-07-09 2012-10-10 深圳市贝特瑞纳米科技有限公司 一种石墨烯透明薄膜的制备和转移方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101988182A (zh) * 2010-12-08 2011-03-23 沈阳工业大学 耐磨蚀牙科正畸弓丝表面改性方法及所得的耐磨蚀弓丝
KR101878739B1 (ko) * 2011-10-24 2018-07-17 삼성전자주식회사 그래핀 전사부재, 그래핀 전사방법 및 이를 이용한 그래핀 소자 제조방법
CN103556148B (zh) * 2013-10-29 2016-03-02 中国石油大学(北京) 一种NiTi形状记忆合金的表面改性方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6238496B1 (en) * 1998-07-01 2001-05-29 Jeffrey W. Akers Method for precision modification and enhancement of shape memory alloy properties
CN102351175A (zh) * 2011-11-03 2012-02-15 东南大学 化学气相沉积法制备石墨烯的高质量转移方法
CN102674335A (zh) * 2012-05-24 2012-09-19 哈尔滨工业大学 一种基于自由基反应低温制备石墨烯的方法
CN102719803A (zh) * 2012-07-09 2012-10-10 深圳市贝特瑞纳米科技有限公司 一种石墨烯透明薄膜的制备和转移方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
ABBAS AMINI等: "Effect of grapheme layers on the thermomechanical behaviour of a NiTi shape memory alloy during the nanoscale phase transition", 《SCRIPTA MATERIALIA》, vol. 68, 17 November 2012 (2012-11-17), pages 420 - 423 *

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015062221A1 (zh) * 2013-10-29 2015-05-07 中国石油大学(北京) 一种NiTi形状记忆合金的表面改性方法
CN105586597B (zh) * 2014-10-21 2017-11-24 中国石油大学(北京) 一种TiNi记忆合金表面改性方法
CN105586597A (zh) * 2014-10-21 2016-05-18 中国石油大学(北京) 一种TiNi记忆合金表面改性方法
CN105983132A (zh) * 2015-02-06 2016-10-05 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 一种对医用钛材料表面进行改性的方法
CN105060280A (zh) * 2015-07-20 2015-11-18 中国人民解放军第四军医大学 一种钛或钛合金表面石墨烯薄膜的制备方法
CN105483800A (zh) * 2015-12-09 2016-04-13 北京市医疗器械检验所 一种医用级镍钛形状记忆合金循环动电位成膜工艺
CN105734561A (zh) * 2016-04-08 2016-07-06 北京航空航天大学 一种在医用镍钛合金表面原位生长的石墨烯薄膜及其制备方法
CN111926329A (zh) * 2020-07-21 2020-11-13 淮阴工学院 一种钛合金表面激光改性有机-无机复合保护涂层的制备方法
CN113998694A (zh) * 2021-11-22 2022-02-01 上海大学 一种利用固态碳源获取大尺寸石墨烯的制备方法
CN113998694B (zh) * 2021-11-22 2023-12-12 上海大学 一种利用固态碳源获取大尺寸石墨烯的制备方法
CN114203326A (zh) * 2021-12-13 2022-03-18 中国核动力研究设计院 石墨烯封装超薄镍-63辐射源薄膜及其制备方法、应用
CN114203326B (zh) * 2021-12-13 2024-04-30 中国核动力研究设计院 石墨烯封装超薄镍-63辐射源薄膜及其制备方法、应用
CN114309649A (zh) * 2021-12-24 2022-04-12 吉林大学威海仿生研究院 一种通过热处理工艺改善激光选区熔化NiTi合金耐腐蚀性的新方法
CN114309649B (zh) * 2021-12-24 2024-05-28 吉林大学威海仿生研究院 一种通过热处理工艺改善激光选区熔化NiTi合金耐腐蚀性的方法

Also Published As

Publication number Publication date
WO2015062221A1 (zh) 2015-05-07
CN103556148B (zh) 2016-03-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103556148B (zh) 一种NiTi形状记忆合金的表面改性方法
CN102592973B (zh) 一种大面积石墨烯的转移方法
CN109913771B (zh) 一种VAlTiCrSi高熵合金薄膜及其在海水环境下的应用
CN103726059A (zh) 一种镁合金表面复合膜的制备方法
CN102373472A (zh) 铝或铝合金的表面处理方法及由铝或铝合金制得的壳体
CN108559965B (zh) 一种金属铀表面制备抗氧化铀钽薄膜的方法
CN103243305A (zh) 一种二次电子发射薄膜的制备方法
CN105525258A (zh) 用于铝合金表面的防腐耐磨Cr-DLC涂层及其制备方法
CN110983257B (zh) 提高钛合金表面耐腐蚀及防冰性能的表面处理方法
CN106756846A (zh) 一种共掺杂dlc薄膜的制备方法
Zhang et al. Protection of Kapton from atomic oxygen attack by SiOx/NiCr coating
CN103882442A (zh) 一种不锈钢表面三维纳米碳薄膜及其制备方法
CN108203813A (zh) 一种原位生成石墨烯的制备方法
CN105603393A (zh) 一种具有石墨烯保护膜的镁合金及其制备方法
CN109264708A (zh) 一种二维材料的制造方法
CN104178765A (zh) 在医用镁合金表面制备可控降解金属复合涂层的方法
CN101497988A (zh) TiNi合金表面镀钽的方法
CN103805993A (zh) 一种永磁材料的表面处理方法
CN103956592B (zh) 接地网NiP-DLC复合抗腐蚀防护涂层制备方法
CN103741104B (zh) 通过磁控溅射在锆表面镀锆铜镍三元非晶合金薄膜的方法
CN105836733A (zh) 一种改善非金属衬底上直接生长的石墨烯质量的方法
Ye et al. The influence of mesopores on the corrosion resistance of hydroxyapatite coated AZ31 Mg alloy
CN102534480A (zh) 镀膜件及其制备方法
CN102560342A (zh) 镀膜件及其制备方法
Azizi‐Malekabadi et al. Enhancement of the Ti‐6Al‐4V alloy corrosion resistance by applying CrN/CrAlN multilayer coating via Arc‐PVD method

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20160302

Termination date: 20201029