CN103180904B - 光记录介质的制造装置及制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种光记录介质的制造装置及制造方法，所述光记录介质的制造装置具备：旋转工作台，其上载置光记录介质的基板；滴下机构，其在所述旋转工作台的旋转中，滴下用于形成透光膜层的树脂，所述滴下机构向所述基板的内侧和所述基板的侧面滴下树脂。根据本发明，在旋涂工序中，在光记录介质的侧面的整周上形成截面形状均匀的UV硬化树脂层。
Description
技术领域
本发明涉及一种通过UV(Ultraviolet：紫外线)硬化树脂对蓝光碟盘等光记录介质形成透光膜层的制造装置及制造方法。
背景技术
在光记录介质的制造中，在通过UV硬化树脂对光记录介质形成透光膜层的工序中，通常利用旋转涂层法(旋涂法)。
在形成透光膜层的工序的旋转涂层法中，使UV硬化树脂向光记录介质的中心附近滴下，并使旋转工作台及载置于该旋转工作台的光记录介质高速旋转。在由该高速旋转产生的离心力的作用下，滴下的UV硬化树脂被朝向光记录介质的外周整体高速地拉拽。此时，优选UV硬化树脂以扩展同心圆的方式均匀地被拉拽。
然而，由于UV硬化树脂粘度、基板温度等各种条件，UV硬化树脂有时无法呈同心圆状均匀地扩展。图9(a)是表示向高速旋转的光记录介质21的中心附近滴下的UV硬化树脂31由离心力朝向外周拉拽的情况的例子的俯视图。如图9(a)所示，UV硬化树脂31有时非均匀地、例如在半径方向上产生多个凸部及凹部地被拉拽。这样的话，如图9(b)的光记录介质的侧面附近的局部放大图所示，UV硬化树脂不均匀地涂敷在光记录介质的侧面上。
另外，在旋转工作台及光记录介质的高速旋转后，当旋转工作台停止时，由于UV硬化树脂的表面张力而将UV硬化树脂的整体向中心方向拉回，由此，特别是在光记录介质的周缘附近多会产生UV硬化树脂的略微的鼓起。
为了防止这样的非均匀的拉拽的发生或周缘附近的鼓起的发生，而在专利文献1中公开了一种利用刮刀(端面涂敷机构)的光记录介质的制造方法及制造装置。专利文献1公开的刮刀(端面涂敷机构)将扩展到光记录介质的周缘部的UV硬化树脂接住，并将接住的UV硬化树脂拉拽至光记录介质的端面(侧面)而以均匀的厚度涂敷在端面(端面)上。
在先技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2007-226859号公报
发明的概要
发明要解决的课题
然而，即使如上述那样通过离心力使UV硬化树脂扩展至周缘附近，并利用刮刀等将扩展了的UV硬化树脂向光记录介质的侧面涂敷，也很难在侧面上将UV硬化树脂形成为均匀的厚度。这里的在侧面上UV硬化树脂为均匀的厚度是指在光记录介质侧面的整周上UV硬化树脂层的截面形状均匀的意思。
若没有将UV硬化树脂以均匀的厚度涂敷在侧面上，则在光记录介质的上表面的周缘附近仍然容易产生UV硬化树脂的鼓起。而且，容易从光记录介质的侧面与UV硬化树脂层的交界发生UV硬化树脂的剥离。此外，上述情况会导致光记录介质的外观上的品质的下降。
发明内容
考虑到现有的旋转涂层法中的上述的问题点，本发明目的在于提供一种能够在光记录介质的侧面的整周均匀地涂敷UV硬化树脂层的光记录介质的制造方法及制造装置。
用于解决课题的手段
为了实现上述目的，本发明的光记录介质的制造装置具备：
旋转工作台，其上载置光记录介质的基板；
滴下机构，其在所述旋转工作台的旋转中，滴下用于形成透光膜层的树脂，
所述滴下机构向所述基板的内侧和所述基板的侧面滴下所述树脂。
另外，本发明的光记录介质的制造方法是在光记录介质的基板上形成透光膜层的方式，包括：
在旋转工作台上载置所述基板的步骤；
在所述旋转工作台的旋转中，向所述基板的内侧滴下用于形成所述透光膜层的树脂的步骤；
在所述旋转工作台的旋转中，向所述基板的侧面滴下用于形成所述透光膜层的树脂的步骤。
发明效果
本发明的光记录介质的制造装置及制造方法不仅向光记录介质的内周附近，而且向光记录介质的侧面整周滴下UV硬化树脂，因此能够在光记录介质的侧面的整周上均匀地形成UV硬化树脂层。
附图说明
图1是简要表示光记录介质的制造的整体工序的图。
图2中，(a)是表示本发明的实施方式1的用于对光记录介质形成透光膜层的制造装置的简要结构的纵向剖视图，(b)是内侧喷嘴移动机构的简图，及(c)是侧面喷嘴移动机构的简图。
图3是从喷气口喷出空气时的基板及旋转工作台的周缘部分以及突起部上端部分的放大纵向剖视图。
图4是表示进行旋涂施工方法时的电动机部(以及旋转工作台及基板)的旋转速度(rpm)的时间变化的图。
图5是用于表示抛甩硬化装置的简要结构的抛甩硬化装置的纵向剖视图。
图6是表示旋转工作台及基板旋转时的遮光掩模及基板的周缘部分的情况的纵向剖视图。
图7是表示在基板的周缘部分及侧面上抛甩掉鼓起部分时的基板的周缘部分的情况的纵向剖视图。
图8是用于表示完全硬化装置的简要结构的完全硬化装置的纵向剖视图。
图9中，(a)是表示向高速旋转的光记录介质的中心附近滴下的UV硬化树脂由离心力朝向外周拉拽的情况的例子的俯视图，(b)是表示由离心力朝向外周拉拽的UV硬化树脂不均匀地涂敷在光记录介质的侧面上的情况的光记录介质的侧面附近的局部放大立体图。
具体实施方式
以下，参照附图，说明本发明的实施方式。
1.实施方式1
1.1.光记录介质的制造工序
首先，说明光记录介质的制造的整体工序。图1是简要表示光记录介质的制造的整体工序的图。通过以下说明的制造方法制造出的光记录介质是在基板上设有信息信号层且对该基板照射光来进行信息信号的记录及/或再生的圆盘状的记录介质，列举蓝光碟盘作为例子。如图1所示，光记录介质的制造的整体工序包括基板的成形工序、溅射工序、透光膜层工序、及背面溅射工序，各工序按照上述顺序进行。
在成形工序中，通过注塑成形机(未图示)和注塑成形模具(未图示)注塑成形出具有规定的凹凸图案的基板11。基板11例如由厚度1.1mm、直径120mm、中心孔径15mm的聚碳酸酯树脂构成。注塑成形后的基板11由冷却机构(未图示)冷却。
在溅射工序中，通过溅射装置(未图示)在冷却后的基板11上形成反射膜12。反射膜12是由铝或银等构成的0.1μm以下的薄膜。对于基板11，除了形成反射膜12之外，有时还形成其他的薄膜。在形成了反射膜12之后，基板11由冷却机构(未图示)再次冷却。
在透光膜层工序中，在形成有反射膜12的基板11上通过旋涂而形成透光膜层13。透光膜层13例如是由大致100μm的厚度构成的UV硬化树脂层。UV硬化树脂层包括95～98μm的厚度的罩层和2～5μm的厚度的硬涂层。由此，透光膜层工序包括用于形成罩层的透光膜层工序和用于形成硬涂层的透光膜层工序。
而且，用于形成罩层的透光膜层工序包括旋涂工序、抛甩硬化工序、及完全硬化工序。其中，本实施方式1的光记录介质的制造装置是用于进行旋涂工序的制造装置。
在背面溅射工序中，在形成有透光膜层13的基板11的表面的相反面上形成防湿膜14。防湿膜14是防止吸湿从而避免基板11因吸湿而发生翘曲的膜。
本实施方式的光记录介质的制造装置是用于进行旋涂工序、抛甩硬化工序及完全硬化工序中的旋涂工序的制造装置，所述旋涂工序、抛甩硬化工序及完全硬化工序构成用于形成罩层的透光膜层工序。尤其是本实施方式的光记录介质的制造装置是能够在光记录介质的侧面的整周上均匀地形成UV硬化树脂层的制造装置。
1.2.光记录介质的制造装置的结构
对本发明的实施方式1的制造装置进行说明。图2(a)是表示本实施方式的用于对光记录介质形成透光膜层的制造装置的简要结构的纵向剖视图。
本实施方式的光记录介质的制造装置2包括基体部210、电动机部27、旋转工作台22、中心销23、中心帽24、内侧喷嘴25及侧面喷嘴26。
在基体部210的中心部载置的电动机部27的旋转轴20在其上端部与圆板形的旋转工作台22的下表面中心部结合。由此，电动机部27能够使旋转工作台22以高速或低速旋转。在旋转工作台22的上表面中心部设有中心销23，该中心销23经由反射膜形成完成基板21(以下称为基板21)的中心孔对保持在旋转工作台22上的基板21的保持位置进行限制。旋转工作台22例如通过真空吸附而将基板21保持为相对于旋转工作台22不移动。
如图2(a)所示，旋转工作台22具有直径比基板21小的圆板形。将中心销23嵌入基板21的中心孔，而将基板21保持在旋转工作台22上时，基板21的外周部分会比旋转工作台22的侧面向外方突出。如图2(a)所示，在该突出的部分的正下方设有来自基体部210的喷气机构30。如后述说明那样，在喷气机构30内部设有通气孔211。
中心销23及基板21的中心孔附近由外径为18mm～25mm左右的中心帽24覆盖。在中心帽24的下表面设置的凹部和中心销23的头部的凸部以密接的方式分别形成。因此，中心帽24的位置也由中心销23限制。中心帽24和中心销23以双方均为永久磁铁，或者一方为永久磁铁而另一方为金属的方式构成。由此，中心帽24在中心销23上及基板21的中心孔附近上被保持为相对于中心销23及基板21不移动。需要说明的是，中心帽24也可以不通过磁力，而通过真空吸附力吸附于中心销23及基板21而不能移动。中心帽24的上表面具有下方扩展的圆锥体的形状。
尤其是在本实施方式中，设有：向基板21的内侧即中心孔附近滴下UV硬化树脂31的内侧喷嘴25；向基板21的侧面滴下UV硬化树脂31的侧面喷嘴26。如图2(b)、(c)所示，内侧喷嘴25和侧面喷嘴26分别由喷嘴移动机构25a、26a驱动。内侧喷嘴25通过内侧喷嘴移动机构25a而适当移动其配置位置，从而能够在基板21的内侧的位置即中心帽24上表面的圆锥体的斜面上方的位置滴下UV硬化树脂31。
另外，侧面喷嘴26使UV硬化树脂31向基板21的侧面滴下。通过基板21的旋转而将从侧面喷嘴26滴下的UV硬化树脂涂敷在基板21的侧面整周上。侧面喷嘴26通过侧面喷嘴移动机构26a而适当移动其配置位置，从而能够在基板21侧面滴下UV硬化树脂31。
在侧面喷嘴26将UV硬化树脂31向基板21的侧面整周涂敷时，为了防止UV硬化树脂31向基板21的下表面(即背面)绕回，从在喷气机构30的内部设置的通气孔211喷出空气。
图3是从喷气机构30上端喷出空气时的基板21及旋转工作台22的外周部分以及喷气机构30上端部分的放大纵向剖视图。喷气机构30的上端部分与基板21下表面接近至几mm左右。而且，在喷气机构30中，以使从基体部210的中心侧下方向外侧上方流动的气流与基板21侧面的下端的稍内侧发生碰触、然后在基板21侧面的下端成为朝外的水平方向的气流的方式设置通气孔211。
向基板21侧面涂敷的UV硬化树脂、在基板21上表面形成的UV硬化树脂层的UV硬化树脂容易顺着基板21侧面向基板21的背侧绕回。当UV硬化树脂附着于基板21的背面时，会引起外观上的不良。因此，如图3所示，通过构成喷气机构30的上端部分及通气孔211，能有效地进行防止UV硬化树脂31向基板21的下表面(背面)绕回的空气的喷出。
1.3.光记录介质的制造装置的动作
对本实施方式的制造装置2的旋涂工序中的动作进行说明。
首先，基板21由基板搬送机构(未图示)移载到旋转工作台22上。基板21在移载到旋转工作台22上时，由中心销23限制其位置。旋转工作台22通过基板保持机构、例如真空吸附机构(未图示)将基板21保持于其上。
中心帽24通过帽搬送机构(未图示)以覆盖中心销23和基板21的中心孔的方式移载。中心帽24也由中心销23限制其位置。中心帽24和中心销23例如通过磁力进行密接。
当中心帽24配置在基板21上时，通过内侧喷嘴移动机构25a使内侧喷嘴25的前端向中心帽24上表面的圆锥体的斜面上方的规定位置移动。而且，通过侧面喷嘴移动机构26a使侧面喷嘴26的前端向基板21的侧面附近移动。紧接着，在电动机部27的动力的作用下，旋转工作台22及基板21开始旋转。
电动机部27大致如图4所示那样变化旋转速度。图4是表示进行旋涂施工方法时的电动机部20(以及旋转工作台22及基板21)的旋转速度(rpm)的时间变化的图。在电动机部27的作用下，首先，旋转工作台22及基板21在区间A中进行30～150rpm(转数/分钟)的低速旋转，然后，在区间B中进行比低速旋转高的高速旋转即1000～4000rpm(转数/分钟)的高速旋转。
在图4的区间A的低速旋转时，来自内侧喷嘴25的UV硬化树脂31向中心帽24上表面的圆锥体的斜面上滴下。虽然是低速，但由于中心帽24及基板21旋转，因此从内侧喷嘴25滴下的UV硬化树脂31被涂敷到中心帽24上表面的圆锥体的斜面的整周和基板21的内周附近的整周。
而且，在该区间A中，UV硬化树脂31也从侧面喷嘴26滴下，而涂敷到基板21的侧面整周。此时，为了防止涂敷在基板21的侧面整周上的UV硬化树脂31向基板21的背面绕回，而如图3的箭头所示那样，从喷气机构30的下方朝向基板21侧面的下端由通气孔211喷出水平方向的气流。
接着，在图4的区间B的高速旋转时，滴在中心帽24上表面的圆锥体的斜面上的UV硬化树脂31在离心力的作用下朝向基板21上表面的外周延展。此时的旋转速度取决于UV硬化树脂粘度、基板温度等，以通过UV硬化树脂的延展而尽量形成均匀的厚度的UV硬化树脂层的方式确定旋转速度。
而且，在该区间B时，从侧面喷嘴26涂敷到基板21的侧面的整周上的UV硬化树脂31中的多余的部分在高速旋转产生的离心力的作用下被抛甩。通过这样的抛甩，在基板21的侧面的整周上均匀地形成UV硬化树脂层。需要说明的是，此时也同样地，为了防止涂敷到基板21的侧面的整周上的UV硬化树脂31向基板21的背面绕回，而从喷气机构30的下方朝向基板21侧面的下端由通气孔211喷出水平方向的气流(参照图3)。
通过在电动机部42的作用下的旋转工作台22、基板21及中心帽24的旋转，在基板21的上表面及侧面上形成了均匀的UV硬化树脂层，之后通过帽搬送机构(未图示)将中心帽24除去。
如以上那样，在基板21上表面形成UV硬化树脂层31，完成本实施方式的制造装置2的进行旋涂工序的动作。
1.4.抛甩硬化工序和完全硬化工序
在通过实施方式1的制造装置2进行了旋涂工序之后，进行抛甩硬化工序和完全硬化工序。抛甩硬化工序通过图5所示的抛甩硬化装置4进行，完全硬化工序通过图8所示的完全硬化装置7进行。
在蓝光碟盘等基板中，包含UV硬化树脂层的透光膜层的平坦度会对基于激光的写入品质及再生品质造成大的影响。然而，在仅实施了旋涂工序的基板(蓝光碟盘)中，由于UV硬化树脂的表面张力而容易在基板外周的周缘部分产生UV硬化树脂的鼓起。为了将该鼓起部分除去，而通过抛甩硬化装置4进行抛甩硬化工序。而且，为了使UV硬化树脂层完全硬化，而通过完全硬化装置7进行完全硬化工序。
在抛甩硬化工序和完全硬化工序中，为了首先进行抛甩硬化工序，在图2(a)所示的实施方式1的制造装置2中完成了对基板21的旋涂工序之后，利用搬送机构(未图示)将基板21向图5所示的抛甩硬化装置4移载。如后面说明那样，基板21保持在抛甩硬化装置4的旋转工作台41上。
1.4.1.抛甩硬化装置的结构
图5是用于表示抛甩硬化装置4的简要结构的抛甩硬化装置4的纵向剖视图。图5所示的抛甩硬化装置4包括覆盖部45、电动机部42、旋转工作台41、中心销47、第一UV照射部43及遮光掩模44。
覆盖部45为上端开口的大致圆筒形状，在其内部配置有旋转工作台41及电动机部42的旋转轴的一部分。在覆盖部45的中心部载置的电动机部42的旋转轴46在其上端部与圆板形的旋转工作台41的下表面中心部结合。由此，电动机部42能使旋转工作台41旋转。在旋转工作台41的上表面中心部设有中心销47，该中心销47经由基板21的中心孔对保持在旋转工作台41上的基板21的保持位置进行限制。旋转工作台41例如通过真空吸附将基板21保持为相对于旋转工作台41不移动。
在旋转工作台41的铅垂上方设有第一UV照射部43及遮光掩模44。第一UV照射部43从下表面照射紫外线。用于照射紫外线的下表面为具有与基板21的外径大致相同或比基板21的外径稍大的外径的圆形形状。遮光掩模44是将从第一UV照射部43的下表面照射的紫外线的一部分遮挡的构件，具有环形状。该环形状如后面说明那样为将基板21的外周的周缘部分遮蔽的形状，其内径为118mm～119mm。
1.4.2.抛甩硬化装置的动作
接着，对抛甩硬化装置4的抛甩硬化工序中的动作进行说明。
覆盖部45、电动机部42、旋转工作台41及保持在旋转工作台41上的基板21通过升降装置(未图示)向遮光掩模44正下方移动。此时，上述移动进行至基板21与遮光掩模44的间隙成为0.5mm～1.5mm为止。
接着，通过电动机部42使旋转工作台41及基板21旋转。图6是表示旋转工作台41及基板21旋转时的遮光掩模44及基板21的外周的周缘部分的情况的纵向剖视图。UV硬化树脂层中的接受紫外线的部分成为半硬化状态部51。另一方面，遮光掩模44对UV硬化树脂层中的基板21的周缘部分、尤其是产生UV硬化树脂的鼓起32的部分进行紫外线的遮光。因此，UV硬化树脂层中的基板21的周缘部分成为未硬化状态部52。该未硬化状态部52中的UV硬化树脂的鼓起32部分在旋转的离心力的作用下向外方延展，逐渐从UV硬化树脂层被除去(即，被抛甩)。通过使旋转持续，由此如图7所示，在基板21的周缘部分及侧面上，在整周形成没有鼓起部分的均匀的UV硬化树脂层。图7是表示在基板21的周缘部分及侧面上抛甩掉鼓起部分时的基板21的周缘部分的情况的纵向剖视图。在该时刻，抛甩硬化工序完成。
在抛甩硬化工序完成后，通过搬送机构(未图示)将基板21向图8所示的完全硬化装置7移载。如后面说明那样，基板21保持在完全硬化装置7的底座71上。
1.4.3.完全硬化装置的结构
图8是用于表示完全硬化装置7的简要结构的完全硬化装置7的纵向剖视图。图8所示的完全硬化装置7包括电动机部73、底座71、中心销74及第二UV照射部72。
在完全硬化装置7的中心部载置的电动机部73的旋转轴75在其上端部与底座71的下表面中心部结合。由此，电动机部73能使底座71旋转。在底座71的上表面中心部设有中心销74，该中心销74经由基板21的中心孔对保持在底座71上的基板21的保持位置进行限制。
在底座71的铅垂上方设有第二UV照射部72。第二UV照射部72也从下表面照射紫外线。用于照射紫外线的下表面为具有与基板21的外径大致相同或比基板21的外径稍大的外径的圆形形状。
1.4.4.完全硬化装置的动作
接着，说明完全硬化装置7的进行完全硬化工序的动作。
基板21的UV硬化树脂层31在刚向完全硬化装置7移载之后，包含半硬化状态部51和未硬化状态部52。在向完全硬化装置7移载后，保持在底座71上的基板21的UV硬化树脂层31通过来自第二UV照射部72的下表面的紫外线照射而完全硬化。此时，为了使照射的紫外线光量的面内分布在基板21上表面均匀，而通过电动机部73使底座71及基板21旋转。通过UV硬化树脂层的完全硬化，而完成完全硬化工序。
需要说明的是，在图8所示的完全硬化装置7中，也可以在底座71的外侧附近设置紫外线反射用的反射板。并且，通过第二UV照射部72以紫外线来照射基板21的上表面的UV硬化树脂层31，并通过反射板使第二UV照射部72所照射的紫外线适当反射而照射基板21的尤其是侧面的UV硬化树脂层31。这样的话，能够使形成于基板21的UV硬化树脂层31的整体高效且迅速地硬化。
1.5.之后的工序
如以上那样，通过完成旋涂工序、抛甩硬化工序及完全硬化工序，由此完成用于形成罩层的透光膜层工序。而且，之后，通过完成用于形成硬涂层的透光膜层工序，而完成图1所示的透光膜层工序。在透光膜层工序之后，进行背面溅射工序。
1.6.本实施方式的总结
如以上那样，本实施方式的光记录介质的制造装置2在旋涂工序中，除了进行光记录介质的中心孔附近即中心帽24上表面的圆锥体的斜面上方的位置处的UV硬化树脂的滴下之外，还使UV硬化树脂向基板21的侧面整周滴下。如此，通过使UV硬化树脂也向基板侧面滴下，而能够在基板21的侧面的整周均匀地形成UV硬化树脂层。
此外，通过对由本实施方式的光记录介质的制造装置2制造出的基板21进行抛甩硬化工序及完全硬化工序，由此能够得到没有基板周缘部的鼓起，而且不会发生UV硬化树脂从基板侧面部的剥离的蓝光碟盘等光记录介质。
2.其他的实施方式
本发明的光记录介质的制造装置并未限定为上述的实施方式1的制造装置2。在实施方式1的光记录介质的制造装置2中，设置了用于滴下UV硬化树脂的两个喷嘴(内侧喷嘴25、侧面喷嘴26)，但设置的喷嘴也可以为一个。
在设置的喷嘴为一个的情况下，首先，喷嘴通过移动机构(未图示)而配置在中心帽24上表面的圆锥体的斜面上方的位置。然后，在图4所示的区间A的低速旋转时，喷嘴向中心帽24上表面的圆锥体的斜面上滴下UV硬化树脂，紧接着，喷嘴通过移动机构(未图示)进一步移动至基板21的侧面附近而向基板21的侧面整周滴下UV硬化树脂。之后，若进行图4所示的区间B的高速旋转，则与实施方式1的制造装置同样地，在基板21上表面形成均匀的厚度的UV硬化树脂层，在基板21的侧面的整周形成截面形状均匀的UV硬化树脂层。
此外，在设置的喷嘴为一个的情况下，也可以如下构成：喷嘴首先通过移动机构而配置在基板21的侧面附近，向基板21的侧面整周滴下UV硬化树脂，紧接着，通过移动机构使喷嘴移动到中心帽24上表面的圆锥体的斜面上方的位置，向中心帽24上表面的圆锥体的斜面上滴下UV硬化树脂。这样，若设置的喷嘴为一个，则能够简化光记录介质的制造装置的结构。
另外，在本发明的另一实施方式的光记录介质的制造装置中，侧面喷嘴也可以设置多个。在该实施方式的制造装置中，例如两个侧面喷嘴通过移动机构而配置在隔着基板的侧面上的对称的位置，然后进行UV硬化树脂的滴下。这样，若设置多个侧面喷嘴，则能够更迅速地进行UV硬化树脂层向侧面的形成。而且，内侧喷嘴也可以设置多个。
需要说明的是，在上述的实施方式中，使用由作为滴下机构的喷嘴滴下的UV硬化树脂形成了透光膜层。不过，即使构成透光膜层的树脂为UV硬化树脂以外的树脂，也能够适用本发明的思想。
工业上的可利用性
本发明在对蓝光碟盘等光记录介质均匀地形成基于UV硬化树脂的透光膜层的制造装置及制造方法中有用。
符号说明
11…基板，12…反射膜，13…透光膜层，21…基板，22…旋转工作台，23…中心销，24…中心帽，25…内侧喷嘴，26…侧面喷嘴，27…电动机部，30…喷气机构，31…UV硬化树脂层，32…UV硬化树脂的鼓起，41…旋转工作台，42…电动机部，43…第一UV照射部，44…遮光掩模，45…覆盖部，47…中心销，51…半硬化状态部，52…未硬化状态部，71…底座，72…第二UV照射部，73…电动机部，74…中心销，210…基体部，211…通气孔。
Claims (8)
1.一种光记录介质的制造装置，其特征在于，具备：
旋转工作台，其上载置光记录介质的基板；
滴下机构，其在所述旋转工作台的旋转中，滴下用于形成透光膜层的树脂，
所述滴下机构向所述基板的内侧和所述基板的外周侧面滴下所述树脂。
2.根据权利要求1所述的光记录介质的制造装置，其特征在于，
所述旋转工作台以第一旋转速度进行旋转，在基于所述第一旋转速度的旋转后，以比所述第一旋转速度高速的第二旋转速度进行旋转，
所述滴下机构在基于所述第一旋转速度的旋转中滴下所述树脂。
3.根据权利要求1所述的光记录介质的制造装置，其特征在于，
所述滴下机构包括内侧喷嘴和外周侧面喷嘴，
所述内侧喷嘴配置在所述基板的内侧，所述外周侧面喷嘴配置在所述基板的外周侧面。
4.根据权利要求1所述的光记录介质的制造装置，其特征在于，
所述旋转工作台具有外径比所述基板的外径小的圆板形，
在所述基板载置到所述旋转工作台上时比所述旋转工作台的外周侧面突出的基板部分的正下方的位置处设置有进行空气的喷出的喷气机构。
5.一种光记录介质的制造方法，其是在光记录介质的基板上形成透光膜层的方法，包括：
在旋转工作台上载置所述基板的步骤；
在所述旋转工作台的旋转中，向所述基板的内侧滴下用于形成所述透光膜层的树脂的步骤；
在所述旋转工作台的旋转中，向所述基板的外周侧面滴下用于形成所述透光膜层的树脂的步骤。
6.根据权利要求5所述的光记录介质的制造方法，其特征在于，
还包括使所述旋转工作台以第一旋转速度进行旋转，在基于所述第一旋转速度的旋转后，以比所述第一旋转速度高速的第二旋转速度进行旋转的步骤，
进行滴下的所述步骤在基于所述第一旋转速度的旋转中滴下所述树脂。
7.根据权利要求5所述的光记录介质的制造方法，其中，
还包括在滴下所述树脂时及刚滴下所述树脂之后，从所述基板的外周部分的下方喷出空气的步骤。
8.根据权利要求6所述的光记录介质的制造方法，其中，
还包括在向所述基板涂敷了树脂后，对所述基板的外周的周缘部分进行紫外线的遮光，并向涂敷后的树脂层照射紫外线，同时使所述基板旋转的步骤。
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