JP2006102601A - 塗膜形成装置および塗膜形成方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】外周縁部において上方に大きく突出する凸部の存在しない塗膜を製造コストを高騰させることなく形成し得る塗膜形成装置を提供する。
【解決手段】基材の一面側に樹脂材料Rを滴下する滴下部31と、基材を回転させる回転部32と、樹脂材料Rに紫外線を照射するエネルギー線照射部34と、紫外線の照射を規制する照射規制部33と、制御部36とを備えて基材の一面側に塗膜を形成可能に構成され、制御部36は、滴下部31に対して樹脂材料Rを滴下させると共に回転部32に対して基材を回転させることによって樹脂材料Rを展延させた後に、回転部32に対して基材を所定の回転速度で回転させた状態でエネルギー線照射部34に対して基板の一面側に向けて紫外線を照射させると共に照射規制部33に対して基材の一面における外周縁部上の樹脂材料Rへの紫外線の照射を規制させる。
【選択図】図3
【解決手段】基材の一面側に樹脂材料Rを滴下する滴下部31と、基材を回転させる回転部32と、樹脂材料Rに紫外線を照射するエネルギー線照射部34と、紫外線の照射を規制する照射規制部33と、制御部36とを備えて基材の一面側に塗膜を形成可能に構成され、制御部36は、滴下部31に対して樹脂材料Rを滴下させると共に回転部32に対して基材を回転させることによって樹脂材料Rを展延させた後に、回転部32に対して基材を所定の回転速度で回転させた状態でエネルギー線照射部34に対して基板の一面側に向けて紫外線を照射させると共に照射規制部33に対して基材の一面における外周縁部上の樹脂材料Rへの紫外線の照射を規制させる。
【選択図】図3
Description
本発明は、基材の一面側に塗布用材料を展延して塗膜を形成する塗膜形成装置および塗膜形成方法に関するものである。
情報記録媒体用の基材の一面側に塗膜を形成する方法として、スピンコート法が従来から知られている。このスピンコート法では、基材の一面側に塗布用材料を滴下した後に基材を高速回転させることによって遠心力で塗布用材料を展延させる。したがって、このスピンコート法によれば、塗膜を比較的均一な厚みに形成することが可能となっている。一方、スピンコート法によって塗布用材料を展延させた際には、遠心力によって基材の外周縁部よりも外側に塗布用材料がはみ出すため、このはみ出した塗布用材料がスピンコートの終了時における基材の回転速度の低下に伴って塗布用材料自体の表面張力によって外周縁部に引き戻される結果、外周縁部に上向きの凸部が形成されることがある。この場合、例えば、データ記録(読出し)用レーザービームの照射側の塗膜が100μm程度の厚みに規定され、かつ駆動時におけるドライブ装置の光ピックアップと塗膜との間の距離(ワーキングディスタンス)が100μm程度に規定されている情報記録媒体においてこの凸部が大きいときには、ドライブ装置の光ピックアップが凸部に接触してトラブルが発生するおそれがある。この問題点を解決可能な技術として、この凸部をトリミング処理によって除去して光ディスク(情報記録媒体)を製造する製造方法が特開平11−86355号公報に開示されている。この製造方法では、スピンコーティング法(スピンコート法)によって紫外線硬化性樹脂(以下、単に「樹脂」ともいう)を基板に塗布する。次に、紫外線を照射して、塗布した樹脂を硬化させる。これにより、基板の信号面に光透過層が形成されたディスクが完成する。この場合、この状態のディスクの外周縁部には、上記したように、樹脂による凸部(盛り上がり部分)が形成されている。次いで、トリミング処理を実行する。具体的には、ディスクを回転させつつその外周縁部にトリミング用の工具を押し付ける。この際に、工具によってディスクの外周縁部(硬化した樹脂)が削り取られる。これにより、ディスクの外周縁部に形成された凸部が除去される。
特開平11−86355号公報(第4頁、第1図)
ところが、従来の製造方法には、以下の問題点がある。すなわち、この製造方法では、基板に塗布した樹脂を硬化させた後に、工具によって樹脂を削り取るトリミング処理を実行している。この場合、硬化した樹脂を削り取る際に、樹脂が粉状となって飛散してディスクに付着することがある。したがって、この製造方法には、粉状の樹脂の付着に起因してディスク(光ディスク)の使用時においてエラーが発生するおそれがあるという問題点が存在する。この場合、クリーニング工程を追加して付着した粉状の樹脂を除去する方法も考えられる。しかしながら、この方法では、クリーニング工程を追加する分、製造コストが高騰することとなる。したがって、この方法を採用するのは困難である。
本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、外周縁部において上方に大きく突出する凸部の存在しない塗膜を製造コストを高騰させることなく形成し得る塗膜形成装置および塗膜形成方法を提供することを主目的とする。
上記目的を達成すべく本発明に係る塗膜形成装置は、基材の一面側にエネルギー線硬化型の塗布用材料を滴下する滴下部と、前記基材を回転させる回転部と、前記塗布用材料にエネルギー線を照射して硬化させる硬化処理部と、前記一面における外周縁部上の前記塗布用材料に対する前記エネルギー線の照射を規制する照射規制部と、制御部とを備えて前記一面側に塗膜を形成可能に構成され、前記制御部は、前記滴下部を制御して前記塗布用材料を前記一面側に滴下させると共に前記回転部を制御して前記基材を回転させることによって当該塗布用材料を展延させた後に、前記回転部を制御して前記基材を所定の回転速度で回転させた状態で前記硬化処理部を制御して前記一面側に向けて前記エネルギー線を照射させると共に前記照射規制部を制御して前記外周縁部上の前記塗布用材料への当該エネルギー線の照射を規制させる。なお、本明細書における硬化には、塗布用材料の流動性が低下する程度の硬化状態から塗布用材料の全てが硬化反応をした硬化状態に至るまでの全ての硬化状態が含まれる。
この場合、連結状態においてその直径が前記基材の直径よりもやや小径の円形開口部を形成する板状体を構成する複数の遮蔽用部材と、当該各遮蔽用部材を移動させて連結させることで前記板状体を構成させる移動機構とを備えて前記照射規制部を構成すると共に、前記制御部が前記移動機構を制御して前記各遮蔽用部材を移動させて連結させることで前記外周縁部上の前記塗布用材料に対する前記エネルギー線の照射を規制させる構成を採用することができる。
また、前記連結状態における前記各遮蔽用部材と前記外周縁部との隙間をそれぞれ2mm以上10mm以下の範囲内となるように規定した構成を採用することができる。
また、前記展延時において前記基材の側面に近接させられて当該基材の外側に突出した当該塗布用材料を当該側面に沿わせて流下させる壁部を備えた構成を採用することができる。
また、本発明に係る塗膜形成方法は、基材の一面側にエネルギー線硬化型の塗布用材料を展延し、当該展延した前記塗布用材料にエネルギー線を照射して硬化させることによって前記一面側に塗膜を形成する際に、前記塗布用材料を展延した後に、前記基材を所定の回転速度で回転させた状態で前記一面側に向けて前記エネルギー線を照射すると共に当該一面における外周縁部上の前記塗布用材料に対する当該エネルギー線の照射を規制する。
この場合、連結状態においてその直径が前記基材の直径よりもやや小径の円形開口部を形成する板状体を構成する複数の遮蔽用部材を連結することで前記外周縁部上の前記塗布用材料に対する前記エネルギー線の照射を規制することができる。
また、前記連結状態における前記各遮蔽用部材と前記外周縁部との隙間がそれぞれ2mm以上10mm以下の範囲内となるように当該各遮蔽用部材を連結することができる。
また、前記展延時において、前記基材の側面に壁部を近接させて当該基材の外側に突出した前記塗布用材料を当該側面に沿わせて流下させることができる。
本発明に係る塗膜形成装置および塗膜形成方法によれば、塗布用材料を展延した後に、基材を所定の回転速度で回転させた状態で基材の一面側に向けてエネルギー線を照射すると共に基材の一面における外周縁部上の塗布用材料に対するエネルギー線の照射を規制することにより、基材の一面における外周縁部を除く他の部分に塗布した塗布用材料を硬化させた状態で基材を回転させることで、外周縁部上の僅かな塗布用材料だけを遠心力によって基材の外側に押し出すことができる。このため、回転の停止に伴って外周縁部の上側に引き戻される塗布用材料を十分少量に抑えることができる結果、外周縁部上における大きな凸部の形成を防止することができる。したがって、硬化後の塗布用材料に対する削り取り処理を不要にすることができるため、削り取り処理によって発生する粉状の塗布用材料を除去するためのクリーニング工程も不要にすることができる結果、これらの処理や工程に起因する製造コストの高騰を招くことなく、外周縁部上に大きな凸部の存在しない状態の塗膜を形成することができる。また、基材を回転させた状態でエネルギー線を照射することにより、基材を停止させた状態でエネルギー線を照射する構成と比較して、塗膜を一層均一な厚みに形成することができる。
また、本発明に係る塗膜形成装置および塗膜形成方法によれば、連結状態において板状体を構成する複数の遮蔽用部材を連結することで外周縁部上の塗布用材料に対するエネルギー線の照射を規制することにより、例えば、各遮蔽用部材を一体形成した構成を用いるのと比較して、非使用時における遮蔽用部材の退避場所の面積を少なく抑えることができるため、その分、塗膜形成装置を小形化することができる。
また、本発明に係る塗膜形成装置および塗膜形成方法によれば、連結状態における各遮蔽用部材と基材の一面における外周縁部との隙間がそれぞれ2mm以上10mm以下の範囲内となるように各遮蔽用部材を連結することにより、外周縁部上の塗布用材料に対するエネルギー線の照射を確実に規制することができる。また、例えば回転によって基材が振動したとしても、遮蔽用部材と外周縁部との接触を確実に回避することができる。
また、本発明に係る塗膜形成装置および塗膜形成方法によれば、塗布用材料の展延時において、基材の側面に壁部を近接させて塗布用材料を側面に沿わせて流下させることにより、基材の表面から側面に連続する塗膜を形成することができる。このため、基材からの塗膜の剥離を確実に防止することができる。また、基材の側面に塗膜が形成されているため、例えば、物との衝突による側面の破損を確実に防止することができる。
以下、本発明に係る塗膜形成装置および塗膜形成方法の最良の形態について、図面を参照して説明する。
最初に、光記録媒体1の構成について、図面を参照して説明する。
光記録媒体(情報記録媒体)1は、図1に示すように、主要な機能層としての情報層12と、情報層12を覆うようにして形成された樹脂層13(本発明における塗膜)とが基材11の表面(本発明における一面)側に積層されて、樹脂層13側からレーザービームが照射されることによってデータの記録および読出しが可能に構成されている。また、光記録媒体1は、直径が15mm程度の装着用中心孔1aがその中心部に形成されている。この場合、装着用中心孔1aは、図4に示すように、基材11の上に情報層12および樹脂層13を形成した中間体2の中心部を打ち抜くことによって形成される。基材11は、後述する製造装置21(図2参照)の基材作製装置22を用いて、例えばポリカーボネートを射出成形することによって作製される。この場合、基材11は、例えば、直径が120mm程度で厚みが1.2mm程度の円板状(平板形状)に形成されている。また、図4に示すように、装着用中心孔1aが打ち抜き形成される以前の基材11には、後に装着用中心孔1aの一部を構成する平面視円形の凹部11aがその裏面側(同図では下面側)の中心部に形成されると共に、円筒状の筒状突起11bがその表面側(本発明における一面側。同図では上面側)に形成されている。また、基材11の表面には、配列ピッチが例えば0.32μm程度のグルーブパターン(図示せず)が形成されている。
情報層12は、一例として、反射層、誘電体層および相変化型記録層等で構成される機能層であって、製造装置21の情報層形成装置23(図2参照)を用いて形成される。樹脂層13は、光透過層として機能し、製造装置21の樹脂層形成装置24(同図参照)を用いて、本発明に係る塗膜形成方法に従って形成される。この場合、樹脂層13は、一例として、その厚みが100μmに規定されている。
次に、光記録媒体1を製造する製造装置21の構成について、図面を参照して説明する。
製造装置21は、図2に示すように、基材作製装置22、情報層形成装置23、樹脂層形成装置24および中心孔形成装置25を備えて構成されている。基材作製装置22は、例えば、射出成形機で構成されて、図4に示す基材11を射出成形によって作製する。情報層形成装置23は、例えば、スパッタ装置で構成されて、情報層12をスパッタ法によって形成する。
樹脂層形成装置24は、本発明に係る塗膜形成装置に相当し、図3に示すように、滴下部31、回転部32、照射規制部33、エネルギー線照射部34、記憶部35、制御部36、操作部37およびカバー38(図8参照)を備えて構成され、本発明に係る塗膜形成方法に従って樹脂層13を形成する。滴下部31は、図3に示すように、樹脂材料供給機構41、移動機構42および吐出口43を備えている。樹脂材料供給機構41は、制御部36によって制御されて、樹脂層13形成用の紫外線硬化型の樹脂材料R(本発明におけるエネルギー線硬化型の塗布用材料。一例として、ウレタンアクリレート)を吐出口43に供給することにより、吐出口43から樹脂材料Rを吐出させて基材11(情報層12)の上に滴下する。移動機構42は、制御部36によって制御されて、回転部32のターンテーブル51(ターンテーブル51に載置された基材11)の上方において吐出口43を移動させる。
回転部32は、図3に示すように、ターンテーブル51およびモータ52を備えている。ターンテーブル51は、全体として円板状に形成されて、図8に示すように、カバー38内に収容されている。また、ターンテーブル51の下面における中心部には、モータ52の回転軸(図示せず)に連結されるシャフト51aが取り付けられている。モータ52は、制御部36によって制御されて、ターンテーブル51を回転させる。
照射規制部33は、図3に示すように、遮蔽用部材61,61,61(図5も参照)および移動機構62を備え、基材11の表面における外周縁部(以下、「表面外周縁部11c」ともいう)上の樹脂材料Rに対するエネルギー線照射部34からの紫外線の照射を規制する。遮蔽用部材61,61,61は、図5に示すように、紫外線を遮蔽可能な例えば金属によって平面視円弧状にそれぞれ形成されると共に、互いに連結可能に構成されている。また、遮蔽用部材61,61,61は、図6に示すように、連結状態において、中央部に円形開口部を有する環状体(本発明における板状体の一例)を構成するようにそれぞれ形成されている。この場合、後述する樹脂材料Rの展延時において基材11の外側に突出した樹脂材料Rの硬化を回避可能とすべく、遮蔽用部材61,61,61は、連結状態において、その外径が基材11の直径よりもやや大径(一例として125mm程度)でかつ円形開口部の内径(本発明における円形開口部の直径)が基材11の直径よりも小径(やや小径で、一例として118mm程度)の環状体(本発明における板状体の一例)を構成するように、その曲率や長さが規定されている。
移動機構62は、本発明における移動機構に相当し、図7に示すように、カム機構71、および3つの押し出し機構72,72,72を備え、遮蔽用部材61,61,61を移動させることによってこれらを互いに連結させる。カム機構71は、同図に示すように、エアシリンダ81、アーム82、リング83および板カム84,84,84を備えている。エアシリンダ81は、制御部36の制御下で駆動する図外の電磁バルブを介して供給されるエアによって作動して、図7,11にそれぞれ示す矢印A,Dの方向に沿ってアーム82を移動させる。リング83は、カバー38を取り囲むようにして配設されて、アーム82の移動によって両図にそれぞれ示す矢印B,Eの方向に沿って回動させられる。板カム84は、等間隔でリング83に固定されて、リング83の回動に伴って移動させられる。
押し出し機構72は、図7,9に示すように、ベース部91、スライド部92、ガイド部93、コイルスプリング94、カムフォロア95およびロッド96を備えている。ベース部91は、リング83の外側に等間隔で配設されている。スライド部92は、ベース部91に取り付けられたガイド部93によってガイドされつつカバー38の中心部に対して接離する方向に沿ってスライドする。コイルスプリング94は、ベース部91とスライド部92との間に配設されて、スライド部92をカバー38の中心部側に向けて押圧する。カムフォロア95は、図9に示すように、スライド部92の下面側に取り付けられて、カム機構71の板カム84の側面84aに当接して板カム84の移動に伴って移動することにより、カバー38の中心部に対して接離する方向に沿ってスライド部92をスライドさせる。ロッド96は、その基端部がスライド部92に固定されている。また、ロッド96の先端部には、遮蔽用部材61が固定されている。この場合、ターンテーブル51に載置された状態における基材11の表面外周縁部11cと連結状態における各遮蔽用部材61との間の隙間が10mmを超えるときには、表面外周縁部11c上の樹脂材料Rに対する紫外線の照射を確実に規制するのが困難となる。一方、この隙間が2mmを未満のときには、ターンテーブル51に載置された基材11が回転時の振動等によって遮蔽用部材61に接触するおそれがある。したがって、各押し出し機構72,72,72は、上記の隙間が5mm程度(本発明における2mm以上10mm以下の範囲内の一例)となるように、その配設位置が規定されている。
エネルギー線照射部34は、本発明における硬化処理部に相当し、図8に示すように、ターンテーブル51およびカバー38の上方に配設されて、制御部36の制御に従い、ターンテーブル51に載置されている基材11に向けて紫外線(本発明におけるエネルギー線の一例)を照射することにより、基材11の表面に塗布された樹脂材料Rを硬化させる。記憶部35は、樹脂材料Rの供給量、ターンテーブル51の回転速度(回転数)や回転時間、遮蔽用部材61を移動させる移動タイミング、および紫外線の照射量等を含む樹脂層13の形成に必要な形成条件が記述された形成条件テーブルを記憶する。制御部36は、操作部37の操作によって設定された樹脂層13の厚み目標値にそれぞれ対応付けられた形成条件を記憶部35から読み出すと共に、読み出した形成条件に従い、滴下部31、回転部32、照射規制部33およびエネルギー線照射部34を制御する。操作部37は、樹脂層13の厚み目標値を入力するための入力ボタン等の各種操作ボタンを備えて構成され、これらの操作ボタンの操作に応じた操作信号を制御部36に出力する。カバー38は、樹脂材料Rを展延する際に樹脂材料Rの飛散を防止する。このカバー38には、図8に示すように、その内部に回転部32のターンテーブル51が収容されている。また、カバー38には、ターンテーブル51に基材11を載置する際に使用される開口部38aがその上部に形成されると共に、カバー38内部の気体を吸引する吸気口38bがその下部に形成されている。
中心孔形成装置25は、例えば、円筒状の打ち抜き刃と、打ち抜き刃を上下動させる移動機構と、打ち抜き刃を超音波振動させる超音波発生源(いずれも図示せず)とを備え、中間体2(図4参照)における凹部11aが形成されている部分を打ち抜いて装着用中心孔1aを形成する。
次に、製造装置21を用いた光記録媒体1の製造方法について、樹脂層形成装置24による樹脂層13の形成方法(本発明に係る塗膜形成方法)を中心にして図面を参照して説明する。
まず、製造装置21の基材作製装置22を用いて、例えばポリカーボネートを射出成形することによって基材11を作製する。この場合、基材作製装置22の射出成形用金型内にセットされたスタンパー(いずれも図示せず)の凹凸パターンが転写されて、基材11の表面側にグルーブパターンが形成される。次に、製造装置21の情報層形成装置23を用いて、反射層、誘電体層、相変化型記録層および誘電体層をスパッタ法によってこの順序で基材11の表面側に積層して情報層12を形成する。
次いで、製造装置21の樹脂層形成装置24を用いて情報層12を覆うようにして基材11の上に樹脂層13を形成する。具体的には、図7,8に示すように、情報層12が形成された面を上向きにした状態の基材11をカバー38の開口部38aから挿入して回転部32のターンテーブル51に載置する。続いて、操作部37を操作して、樹脂層13の厚み目標値(上記した一例としての100μm)を入力する。これに応じて、制御部36が、100μmの厚み目標値に対応付けられた形成条件を記憶部35から読み出す。次に、制御部36は、読み出した形成条件に従い、図10に示すタイムテーブルで滴下部31、回転部32、照射規制部33およびエネルギー線照射部34を制御する。
この場合、制御部36は、まず、照射規制部33を制御して遮蔽用部材移動工程(図10に示す工程101)を実行させる。具体的には、制御部36は、照射規制部33の移動機構62におけるカム機構71の電磁バルブを制御して、図7に示すエアシリンダ81の一方のエア供給口にエアを供給させる。この場合、エアの供給によってエアシリンダ81が作動して、同図に示す矢印Aの方向にアーム82を移動させる。この際に、リング83がアーム82の移動によって同図に示す矢印Bの方向に回動させられて、リング83に固定されている板カム84も、リング83の回動に伴って矢印Bの方向に移動させられる。また、押し出し機構72では、同図および図9に示すように、コイルスプリング94によってカバー38の中心部側に向けて押圧されているスライド部92に取り付けられているカムフォロア95が、板カム84の側面84aに当接しつつ板カム84の移動に伴ってカバー38の中心部側に向かう矢印Cの方向に移動させられて、スライド部92も、ガイド部93によってガイドされつつカムフォロア95の移動に伴って矢印Cの方向に移動させられる。これにより、図7に示すように、各ロッド96,96,96の先端部にそれぞれ固定されている遮蔽用部材61,61,61が、矢印Cの方向に移動させられて、図11,12に示すように、基材11における表面外周縁部11cの上方(基材11とエネルギー線照射部34との間)において各遮蔽用部材61,61,61が互いに連結されて環状体が構成される。この場合、基材11の表面外周縁部11cと各遮蔽用部材61との間、およびカバー38における開口部38aの縁部と各遮蔽用部材61との間には、5mm程度の狭い隙間が形成される。なお、図12では、これらの隙間を誇張して図示する。
次に、制御部36は、カバー38の吸気口38bに接続されている図外の吸引ポンプを作動させる。この際に、内部の空気(気体)が吸気口38bから吸引されると共に、基材11の表面外周縁部11cと各遮蔽用部材61との間の隙間、およびカバー38における開口部38aの縁部と各遮蔽用部材61との間の隙間からカバー38内に外部の空気が流入する。次いで、制御部36は、回転部32のモータ52を制御して、図10に示すように、例えば120rpmの低回転速度でターンテーブル51を回転させる。続いて、制御部36は、滴下部31を制御して滴下工程(同図に示す工程102)を実行させる。この場合、制御部36は、滴下部31の移動機構42を制御して、図11に示すように、基材11における中心部の上方に吐出口43を移動させた後に、滴下部31の樹脂材料供給機構41を制御して、樹脂材料Rを所定量だけ吐出口43に供給させる。これにより、吐出口43から樹脂材料Rが吐出されて、ターンテーブル51の回転に伴って回転させられている基材11の中心部に樹脂材料Rが滴下される。
次に、制御部36は、回転部32を制御して展延工程(図10に示す工程103)を実行させる。この場合、制御部36は、図10に示すように、モータ52の回転速度を上昇させて、樹脂材料Rをほぼ均一な厚みに展延するのに適した高速な回転速度(例えば、1700rpm)でターンテーブル51を回転させる。この際に、樹脂材料Rが、回転に伴う遠心力によって基材11の表面外周縁部11cに向けてほぼ均一の厚みに展延される。この場合、上記したように表面外周縁部11cと各遮蔽用部材61との間の隙間が狭いため、これらの隙間を通って空気が高速に流入する。この結果、展延時に遠心力によって基材11の外側に飛散する樹脂材料Rがカバー38の下部に向けて移動するため、遮蔽用部材61,61,61への樹脂材料Rの付着が確実に防止される。
次いで、制御部36は、回転部32およびエネルギー線照射部34を制御して第1の硬化工程(図10に示す工程104)を実行させる。この場合、制御部36は、回転部32におけるモータ52の回転速度を高速な回転速度(1700rpm)に維持させた状態で、エネルギー線照射部34を制御して、樹脂材料R(基材11)に向けて紫外線を照射させる。この際に、図12に示すように、基材11における表面外周縁部11cを除く部分に塗布されている樹脂材料Rが紫外線の照射によって徐々に硬化する。一方、基材11における表面外周縁部11c上の樹脂材料Rは、遮蔽用部材61,61,61によって紫外線照射が規制されるため、流動性を有した状態を維持する。この場合、上記したように、基材11の表面外周縁部11cと各遮蔽用部材61との間の隙間が5mm程度となるように規定されているため、表面外周縁部11c上の樹脂材料Rに対する紫外線の照射が確実に規制されると共に、例えば回転によって基材11が振動したとしても、表面外周縁部11cと遮蔽用部材61とが接触する事態が確実に回避される。
次に、制御部36は、エネルギー線照射部34を制御して紫外線の照射を維持させた状態で中速の回転速度(例えば1400rpm)になるまでモータ52の回転速度を低下させる。次いで、制御部36は、エネルギー線照射部34による紫外線の照射を停止させた後に、所定時間だけモータ52の回転速度を1400rpmに維持させる。この際に、流動性を有している表面外周縁部11c上の樹脂材料Rは、図13に示すように、回転による遠心力によって基材11よりも外周側に押し出されて、その厚みが基材11における他の部分の樹脂材料Rよりも薄い状態となる。続いて、制御部36は、モータ52の回転を停止させる。この際に、図14に示すように、基材11よりも外周側に押し出されていた樹脂材料Rがモータ52の停止に伴って表面張力で表面外周縁部11c側に引き戻される。この場合、その引き戻される量が僅かで、しかも表面外周縁部11c上の樹脂材料Rの厚みが他の部分よりも薄いため、表面外周縁部11c上の樹脂材料Rは上方向へ大きく突出する凸部の存在しない状態に維持される。
次に、制御部36は、移動機構62におけるカム機構71の電磁バルブを制御して、図11に示すエアシリンダ81の他方のエア供給口にエアを供給させる。次いで、エアの供給によってエアシリンダ81が同図に示す矢印Dの方向に沿ってアーム82を移動させ、リング83およびリング83に固定されている板カム84がアーム82の移動によって同図に示す矢印Eの方向に沿って回動(移動)させられる。また、押し出し機構72では、コイルスプリング94によってカバー38の中心部側に向けて押圧されているカムフォロア95が、板カム84の側面84aに当接しつつ板カム84の移動に伴ってカバー38の中心部から離間する方向(同図に示す矢印Fの方向)に沿って、コイルスプリング94の押圧力に抗して移動させられる。このため、スライド部92も、カムフォロア95の移動に伴って矢印Fの方向に沿ってスライドさせられる。この結果、環状体を構成していた遮蔽用部材61,61,61は、スライド部92,92,92の移動に伴って互いに離間して、図7,8に示す初期状態の位置に移動させられる。
続いて、制御部36は、エネルギー線照射部34を制御して樹脂材料Rに向けて紫外線を所定時間照射させる第2の硬化工程(図10に示す工程105)を実行させる。この際に、遮蔽用部材61,61,61が初期状態の位置に移動しているため、表面外周縁部11c上の樹脂材料Rにも紫外線が照射されて基材11における表面上の樹脂材料Rが完全(ほぼ完全)に硬化して樹脂層13が形成される。この場合、上記したように、表面外周縁部11c上の樹脂材料Rが上方向へ大きく突出する凸部の存在しない状態に維持されているため、上方向に大きく突出する凸部が外周部に存在しない樹脂層13が形成される。次に、ターンテーブル51から基材11を取り外して、カバー38の開口部38aから取り出す。これにより、図4に示すように、中間体2が完成する。次いで、製造装置21の中心孔形成装置25を用いて、中間体2おける凹部11aが形成されている部分を打ち抜いて装着用中心孔1aを形成する。以上により、光記録媒体1が完成する。
このように、この樹脂層形成装置24および塗膜形成方法によれば、樹脂材料Rを展延した後に、基材11を所定の回転速度で回転させた状態で基材11の表面側に向けて紫外線を照射すると共に表面外周縁部11c上の樹脂材料Rに対する紫外線の照射を規制することにより、基材11における表面外周縁部11cを除く他の部分に塗布した樹脂材料Rを硬化させた状態で基材11を回転させることで、表面外周縁部11c上の僅かな樹脂材料Rだけを遠心力によって基材11の外側に押し出すことができる。このため、回転の停止に伴って表面外周縁部11c側に引き戻される樹脂材料Rを十分少量に抑えることができる結果、表面外周縁部11c上における大きな凸部の形成を防止することができる。したがって、硬化後の樹脂材料Rに対する削り取り処理を不要にすることができるため、削り取り処理によって発生する粉状の塗布用材料を除去するためのクリーニング工程も不要にすることができる結果、これらの処理や工程に起因する製造コストの高騰を招くことなく、表面外周縁部11c上に大きな凸部の存在しない状態の樹脂層13を形成することができる。また、基材11を回転させた状態で紫外線を照射することにより、基材11を停止させた状態で紫外線を照射する構成と比較して、樹脂層13を一層均一な厚みに形成することができる。
また、連結状態において環状体を構成する遮蔽用部材61,61,61を連結することで表面外周縁部11c上の樹脂材料Rに対する紫外線の照射を規制することにより、例えば、遮蔽用部材61,61,61を一体形成した構成と比較して、非使用時における各遮蔽用部材61,61,61の退避場所の面積を少なく抑えることができるため、その分、樹脂層形成装置24を小形化することができる。
また、連結状態における各遮蔽用部材61,61,61と基材11の表面外周縁部11cとの隙間が2mm以上10mm以下の範囲内である5mm程度となるように各遮蔽用部材61,61,61を連結することにより、表面外周縁部11c上の樹脂材料Rに対する紫外線の照射を確実に規制することができる。また、例えば回転によって基材11が振動したとしても、遮蔽用部材61と表面外周縁部11cとが接触する事態を確実に回避することができる。
なお、本発明は上記の構成や方法に限定されない。例えば、図15に示す樹脂層形成装置24Aおよびこの樹脂層形成装置24Aを用いた塗膜形成方法を採用することもできる。なお、以下の説明において、樹脂層形成装置24と同じ構成要素については同一の符号を用いて重複した説明を省略する。この樹脂層形成装置24Aは、同図に示すように、ターンテーブル51に載置された基材11の側面11d(図16参照)に近接するようにしてカバー38の内部に配設された壁部201を備えて構成されている。この場合、図16に示すように、壁部201は、基材11の側面11dとその壁面201aとの間に例えば1mm程度の隙間が生じるように配設されている。この樹脂層形成装置24Aでは、同図に示すように、樹脂材料Rの展延時において、基材11の側面11dに壁部201の壁部201が近接しているため、基材11(モータ52)の回転による遠心力で基材11の外側に突出した樹脂材料Rが、側面11dと壁面201aとの隙間において側面11dに沿って流下させられる。このため、基材11の回転が停止したときには、図17に示すように、基材11の側面11dにも樹脂材料Rが塗布される。したがって、光記録媒体1Aの完成時には、同図に示すように、基材11の表面から側面11dに連続する樹脂層13が形成される。この樹脂層形成装置24Aおよび塗膜形成方法によれば、樹脂材料Rの展延時において、基材11の側面11dに壁部201を近接させて樹脂材料Rを側面11dに沿わせて流下させることにより、基材11の表面から側面11dに連続する樹脂層13を形成することができるため、例えば、物との衝撃や接触による基材11からの樹脂層13の剥離を確実に防止することができる。また、基材11の側面11dに樹脂層13が形成されているため、例えば、物との衝突による側面11dの破損を確実に防止することができる。
また、図18に示すように、樹脂層形成装置24における遮蔽用部材61に代えて、壁部201をその下面に配設した遮蔽用部材61Aを備えた樹脂層形成装置24Bを採用することもできる。また、例えば、3つの遮蔽用部材61,61,61を基材11における表面外周縁部11cの上方で連結させた状態で紫外線の照射を規制する構成例について上記したが、遮蔽用部材の数は3つに限定されず、2つ以上の任意の数に規定することができる。また、分割可能に構成された遮蔽用部材61,61,61に代えて、連結状態の遮蔽用部材61,61,61と同様の形状の環状体を一体形成して、その環状体を用いて紫外線を遮蔽する構成を採用することもできる。
また、本発明における塗布用材料には、上記した紫外線硬化型の樹脂材料Rに限定されず、電子線硬化型の塗布用材料や熱線硬化型の塗布用材料が含まれる。また、樹脂に限定されず、各種の有機材料も本発明における塗布用材料に含まれる。この場合、エネルギー線照射部34に代えて、樹脂硬化用のエネルギー線としての電子線や熱線を照射可能なエネルギー線照射部を採用すると共に、これらのエネルギー線を遮蔽可能な遮蔽用部材を用いることにより、上記の各種の塗布用材料で樹脂層13を形成することができる。また、レーザービームの照射側に位置して光透過層として機能する樹脂層13を形成する例について上記したが、カバー層として機能する塗膜などを形成する際に本発明を適用することもできる。さらに、情報層12が1層だけ形成された光記録媒体1を製造する例について上記したが、複数の情報層が形成された多層情報記録媒体を製造する製造工程において、各情報層間にスペーサ層を形成する際に本発明を適用することもできる。
また、反射層、誘電体層および相変化型記録層等で構成された情報層12を有する光記録媒体1を製造する際に本発明を適用する例について上記したが、追記型の記録層を有する情報記録媒体や、基材およびスペーサ層の表面に情報用の凹凸パターンを形成した再生専用の情報記録媒体などを製造する際に本発明を適用することもできる。
11 基材
11c 表面外周縁部
11d 側面
13 樹脂層
24,24A,24B 樹脂層形成装置
31 滴下部
32 回転部
33 照射規制部
34 エネルギー線照射部
36 制御部
61,61A 遮蔽用部材
62 移動機構
201 壁部
R 樹脂材料
11c 表面外周縁部
11d 側面
13 樹脂層
24,24A,24B 樹脂層形成装置
31 滴下部
32 回転部
33 照射規制部
34 エネルギー線照射部
36 制御部
61,61A 遮蔽用部材
62 移動機構
201 壁部
R 樹脂材料
Claims (8)
- 基材の一面側にエネルギー線硬化型の塗布用材料を滴下する滴下部と、前記基材を回転させる回転部と、前記塗布用材料にエネルギー線を照射して硬化させる硬化処理部と、前記一面における外周縁部上の前記塗布用材料に対する前記エネルギー線の照射を規制する照射規制部と、制御部とを備えて前記一面側に塗膜を形成可能に構成され、
前記制御部は、前記滴下部を制御して前記塗布用材料を前記一面側に滴下させると共に前記回転部を制御して前記基材を回転させることによって当該塗布用材料を展延させた後に、前記回転部を制御して前記基材を所定の回転速度で回転させた状態で前記硬化処理部を制御して前記一面側に向けて前記エネルギー線を照射させると共に前記照射規制部を制御して前記外周縁部上の前記塗布用材料への当該エネルギー線の照射を規制させる塗膜形成装置。 - 前記照射規制部は、連結状態においてその直径が前記基材の直径よりもやや小径の円形開口部を形成する板状体を構成する複数の遮蔽用部材と、当該各遮蔽用部材を移動させて連結させることで前記板状体を構成させる移動機構とを備えて構成され、
前記制御部は、前記移動機構を制御して前記各遮蔽用部材を移動させて連結させることで前記外周縁部上の前記塗布用材料に対する前記エネルギー線の照射を規制させる請求項1記載の塗膜形成装置。 - 前記連結状態における前記各遮蔽用部材と前記外周縁部との隙間がそれぞれ2mm以上10mm以下の範囲内となるように規定されている請求項2記載の塗膜形成装置。
- 前記展延時において前記基材の側面に近接させられて当該基材の外側に突出した当該塗布用材料を当該側面に沿わせて流下させる壁部を備えている請求項1から3のいずれかに記載の塗膜形成装置。
- 基材の一面側にエネルギー線硬化型の塗布用材料を展延し、当該展延した前記塗布用材料にエネルギー線を照射して硬化させることによって前記一面側に塗膜を形成する際に、
前記塗布用材料を展延した後に、前記基材を所定の回転速度で回転させた状態で前記一面側に向けて前記エネルギー線を照射すると共に当該一面における外周縁部上の前記塗布用材料に対する当該エネルギー線の照射を規制する塗膜形成方法。 - 連結状態においてその直径が前記基材の直径よりもやや小径の円形開口部を形成する板状体を構成する複数の遮蔽用部材を連結することで前記外周縁部上の前記塗布用材料に対する前記エネルギー線の照射を規制する請求項5記載の塗膜形成方法。
- 前記連結状態における前記各遮蔽用部材と前記外周縁部との隙間がそれぞれ2mm以上10mm以下の範囲内となるように当該各遮蔽用部材を連結する請求項6記載の塗膜形成方法。
- 前記展延時において、前記基材の側面に壁部を近接させて当該基材の外側に突出した前記塗布用材料を当該側面に沿わせて流下させる請求項5から7のいずれかに記載の塗膜形成方法。
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