JP6542141B2 - パターン形成方法 - Google Patents
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Description
図1は、基板の構成を示す上面図である。図1では、ウエハなどの基板100に設定されるショットの上面図を示している。基板100上にマス目で示される矩形状の領域がショット101である。ショット101は、フォトリソグラフィの露光単位またはインプリントリソグラフィーの押当て単位である。換言すると、ショット101は、1回の露光で露光可能な領域または1回の押当でインプリント可能な領域である。
基板100の平坦化が行なわれる際には、基板100上にUV(ultraviolet)硬化樹脂301Aなどのレジストが滴下される。UV硬化樹脂301Aは、UV光が照射されることによって硬化する樹脂を含んでいる。本実施形態のUV硬化樹脂301Aは、例えば、アクリル酸モノマーを主成分としたものである。UV硬化樹脂301Aは、溶媒を含まない状態でも液体となっている。UV硬化樹脂301Aは、例えば、基板100の中央部に滴下される。
この後、基板100が回転させられる。なお、基板100を回転させた状態でUV硬化樹脂301Aが基板100上に滴下されてもよい。基板100が回転することにより、UV硬化樹脂301Aは、基板100上で広がる。また、余分なUV硬化樹脂301Aは、基板100の外部にはじき出される。
UV硬化樹脂301Aが基板100上で広がっている間に、基板100が回転させられながら、UV照射機構50XがUV光などの露光光51Xを基板100に照射する。このとき、基板100の回転とUV照射機構50Xによる露光光51Xの照射とが維持された状態で、UV照射機構50Xは、基板100の中心位置(中心側)から外周側へ向かって移動する。換言すると、基板100の中心位置から外側へ向かって、露光光51Xの照射位置が移動される。このように、UV照射機構50Xは、露光光51Xの照射位置を基板100の外周側に移動させながら露光光51Xを照射する。これにより、基板100の上面全体に露光光51Xが照射される。この結果、基板100上のUV硬化樹脂301Aが硬化する。このように、本実施形態では、基板100を回転させながらUV硬化樹脂301Aを露光光51Xで硬化させる。
図3の(d)では、硬化したUV硬化樹脂301AをUV硬化樹脂301Bとして図示している。露光されず硬化していないベベル領域62のUV硬化樹脂301Aに対しては、エッジカット用の除去液などが塗布される。
基板100の外周部から硬化していないUV硬化樹脂301Aが除去された後、基板100は加熱される。この加熱により、加熱無しの場合よりも、UV硬化樹脂301Bが強固になる。なお、基板100への加熱処理は省略してもよい。
基板100上には、種々の膜が形成されている。ここでは、基板100上に被加工膜20が形成されている場合を示している。基板100では、凹凸構造である段差10Aが発生している。この段差10A上に被加工膜20が形成されることにより、被加工膜20も段差11Aを有している。
被加工膜20が形成された後、UV硬化樹脂301Aの塗布工程が行われる。この工程では、基板100の上面全体に、UV硬化樹脂301Aが回転塗布される。UV硬化樹脂301Aの膜厚は、段差11Aの高さよりも厚い、例えば、200nmである。
UV硬化樹脂301Aが塗布された後、基板100を回転させたままの状態で、UV硬化樹脂301A上に、露光光51Xが照射される。例えば、露光光51Xとして、i線ステッパと同じ露光波長(約365nm)の光などが用いられる。この露光光51Xの照射によって、基板100上のUV硬化樹脂301Aが硬化する。
図4の(d)では、硬化したUV硬化樹脂301AをUV硬化樹脂301Bとして図示している。この後、基板100が回転させられながら、シンナー56がベベル領域62上に滴下される。さらに、基板100が加熱される。
基板100が平坦化された後、基板100に対してNIL(Nano-Imprint Lithography)工程などのインプリント工程が行われる。このとき、基板100へは、パターン転写(加工)に用いられるSi(シリコン)含有材料120が形成される。Si含有材料120は、基板100の上面全体に回転塗布で形成される。これにより、基板100の上面全体がSi含有材料120で覆われる。基板100では、Si含有材料120が形成されることによって、小さな凹凸などが無くなる。その後、インプリント装置(図示せず)にて、基板100の上面全体にレジストパターン12Yが形成される。
つぎに、図6〜図10を用いて第2の実施形態について説明する。第2の実施形態では、基板100を回転させながら、基板100の外周部近傍でUV硬化樹脂膜を硬化させることによって、基板100を平坦化する。
基板100の平坦化が行なわれる際には、基板100上にUV硬化樹脂301Aが滴下される。UV硬化樹脂301Aは、第1の実施形態で説明したUV硬化樹脂301Aと同様の樹脂である。UV硬化樹脂301Aは、例えば、基板100の中央部に滴下される。
この後、基板100が回転させられる。なお、基板100を回転させた状態でUV硬化樹脂301Aが基板100上に滴下されてもよい。基板100が回転することにより、UV硬化樹脂301Aは、基板100上で広がる。また、余分なUV硬化樹脂301Aは、基板100の外部にはじき出される。
UV硬化樹脂301Aが基板100上で広がっている間に、基板100が回転させられながら、UV照射機構50YがUV光などの露光光51Yを基板100に照射する。このとき、UV照射機構50Yは、基板100の外周部の一部(素子形成領域61のうちの外周側領域)(後述する、段差領域16)に露光光51Yを照射する。この段差領域16は、基板100の外周部の領域であり円環状の領域である。これにより、基板100の上面のうち外周部の一部である段差領域16に露光光51Yが照射される。基板100の段差領域16に露光光51Yが照射されることにより、UV硬化樹脂301Aが基板100の外周部の一部のみで硬化する。このように、本実施形態では、基板100を回転させながら基板100の外周部に露光光51Yを照射することによって、UV硬化樹脂301Aを基板100の外周部で硬化させる。
図6の(d)では、硬化したUV硬化樹脂301AをUV硬化樹脂301Cとして図示している。UV硬化樹脂301Aが基板100上で硬化してUV硬化樹脂301Cとなった後、基板100が回転させられながら、ノズル55がシンナー56を基板100上に滴下する。シンナー56は、例えば、基板100の中央部に滴下される。基板100が回転しているので、シンナー56は、基板100上で広がる。また、余分なシンナー56は、基板100の外部にはじき出される。
シンナー56が基板100上に塗布されることにより、硬化していないUV硬化樹脂301Aが基板100上から除去される。具体的には、基板100上のうち、中央部(素子形成領域61の内側)および最外周部(ベベル領域62)のUV硬化樹脂301Aが除去される。そして、基板100上で露光光51Yが照射された領域(円環状領域である段差領域16)のUV硬化樹脂301Cが基板100上に残る。この後、基板100は加熱される。この加熱により、加熱無しの場合よりも、UV硬化樹脂301Cが強固になる。
基板100上には、種々の膜が形成されている。ここでは、基板100上に被加工膜20が形成されている場合を示している。
被加工膜20が形成された後、UV硬化樹脂301Aの塗布工程が行われる。この工程では、基板100の上面全体に、UV硬化樹脂301Aが回転塗布される。UV硬化樹脂301Aの膜厚は、段差11Bの高さよりも厚い、例えば、400nmである。
UV硬化樹脂301Aが塗布された後、基板100を回転させたままの状態で、UV硬化樹脂301A上に、露光光51Yが照射される。例えば、露光光51Yとして、i線ステッパと同じ露光波長(約365nm)の光などが用いられる。本実施形態では、基板100の外周部近傍にある段差領域16に露光光51Yが照射される。
段差領域16への露光光51Yの照射によって、基板100上の段差領域16におけるUV硬化樹脂301Aが硬化する。図7の(d)では、硬化したUV硬化樹脂301AをUV硬化樹脂301Cとして図示している。
この後、基板100が回転させられながら、シンナー56が基板100上に滴下される。このシンナー56の基板100への塗布によって、硬化していないUV硬化樹脂301Aが基板100上から除去(剥離)される。図7の(e)では、UV硬化樹脂301Aが除去された領域を除去領域107として図示している。
加熱工程が完了した後、第2の樹脂膜塗布工程が行われる。第2の樹脂膜塗布工程では、第2の樹脂膜110として、例えば、塗布型カーボン膜が用いられる。第2の樹脂膜110は、基板100の上面全体に塗布される。第2の樹脂膜110が塗布されることにより、基板100は、第2の樹脂膜110の塗布前よりも平坦化される。
基板100が平坦化された後、基板100に対してNIL工程などのインプリント工程が行われる。基板100へは、第1の実施形態と同様のインプリント処理が行われる。具体的には、基板100の上面全体に、パターン転写に用いられるSi含有材料120等が形成される。その後、インプリント装置(図示せず)にて、基板100の上面全体にレジストパターン12Yが形成される。
Claims (5)
- 基板上にUV硬化樹脂を塗布する塗布ステップと、
前記基板を回転させながら前記UV硬化樹脂に露光光を照射する露光ステップと、
前記UV硬化樹脂を硬化させる硬化ステップと、
前記UV硬化樹脂の上層側にインプリント処理によってパターンを形成するパターン形成ステップと、
を含み、
前記露光ステップでは、前記基板の中央部に配置されたUV硬化樹脂に前記露光光を照射し、
前記硬化ステップでは、前記基板の中央部に配置されたUV硬化樹脂を硬化させる、
ことを特徴とするパターン形成方法。 - 前記露光ステップでは、前記露光光の照射位置を前記基板の外周側に移動させながら前記露光光を照射するか、又は前記露光光の照射位置を前記基板の中心側に移動させながら前記露光光を照射する、
ことを特徴とする請求項1に記載のパターン形成方法。 - 基板上にUV硬化樹脂を塗布する塗布ステップと、
前記基板を回転させながら前記UV硬化樹脂に露光光を照射する露光ステップと、
前記UV硬化樹脂を硬化させる硬化ステップと、
前記UV硬化樹脂の上層側にインプリント処理によってパターンを形成するパターン形成ステップと、
を含み、
前記露光ステップでは、前記基板の外周部に配置されたUV硬化樹脂に前記露光光を照射し、
前記硬化ステップでは、前記基板の外周部に配置されたUV硬化樹脂を硬化させる、
ことを特徴とするパターン形成方法。 - 基板上にUV硬化樹脂を塗布する塗布ステップと、
前記基板を回転させながら前記UV硬化樹脂に露光光を照射する露光ステップと、
前記UV硬化樹脂を硬化させる硬化ステップと、
前記UV硬化樹脂の上層側にインプリント処理によってパターンを形成するパターン形成ステップと、
を含み、
前記露光ステップでは、前記基板を回転させながら固定位置から前記基板の上面全体に露光光を一括照射し、
前記硬化ステップでは、前記UV硬化樹脂のうち前記露光光が照射された箇所を硬化させる、
ことを特徴とするパターン形成方法。 - 前記露光ステップでは、マスクを用いて前記基板の外周部に前記露光光を照射させない、
ことを特徴とする請求項4に記載のパターン形成方法。
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