CN103097959A - 移动体装置、曝光装置、元件制造方法、平板显示器的制造方法、及物体交换方法 - Google Patents

移动体装置、曝光装置、元件制造方法、平板显示器的制造方法、及物体交换方法 Download PDF

Info

Publication number
CN103097959A
CN103097959A CN2011800440218A CN201180044021A CN103097959A CN 103097959 A CN103097959 A CN 103097959A CN 2011800440218 A CN2011800440218 A CN 2011800440218A CN 201180044021 A CN201180044021 A CN 201180044021A CN 103097959 A CN103097959 A CN 103097959A
Authority
CN
China
Prior art keywords
aforementioned
substrate
fulcrum arrangement
air suspension
suspension unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN2011800440218A
Other languages
English (en)
Other versions
CN103097959B (zh
Inventor
青木保夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to CN201710586007.XA priority Critical patent/CN107315321B/zh
Priority to CN201710586312.9A priority patent/CN107450280B/zh
Priority to CN201811373746.1A priority patent/CN109557771B/zh
Publication of CN103097959A publication Critical patent/CN103097959A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN103097959B publication Critical patent/CN103097959B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • H01L21/0271—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
    • H01L21/0273—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers characterised by the treatment of photoresist layers
    • H01L21/0274—Photolithographic processes
    • H01L21/0275—Photolithographic processes using lasers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/7075—Handling workpieces outside exposure position, e.g. SMIF box
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/22—Exposing sequentially with the same light pattern different positions of the same surface
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70791—Large workpieces, e.g. glass substrates for flat panel displays or solar panels
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
    • H01L21/67161—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the layout of the process chambers
    • H01L21/67173—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the layout of the process chambers in-line arrangement
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67784—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations using air tracks

Abstract

于支承搬出对象的基板(Pa)的第1空气悬浮单元(69)的+X侧配置支承搬入对象的基板(Pb)的第2空气悬浮单元(70)，于第2空气悬浮单元(70)下方将第3空气悬浮单元(75)于θy方向倾斜配置。第1空气悬浮单元(69)配合第3空气悬浮单元(75)而于θy方向倾斜，在基板(Pa)从第1空气悬浮单元(69)上搬送至第3空气悬浮单元(75)上后，第1空气悬浮单元(69)成为水平，基板(Pb)从第2空气悬浮单元(70)上搬送至第1空气悬浮单元(69)上。亦即，对第1空气悬浮单元(69)的基板搬入路径与搬出路径相异。

Description

移动体装置、曝光装置、元件制造方法、平板显示器的制造方法、及物体交换方法
技术领域
本发明系关于移动体装置、曝光装置、元件制造方法、平板显示器的制造方法、及物体交换方法，更详言的，系关于具备能与物体一起沿与水平面平行的既定二维平面内的既定范围的移动体的移动体装置、具备该移动体装置的曝光装置、使用该曝光装置的元件制造方法、使用前述曝光装置的平板显示器的制造方法、以及在从下方支承前述物体的物体支承装置上交换物体的物体交换方法。
背景技术
以往，在制造液晶显示元件、半导体元件(集成电路等)等电子元件(微型元件)的微影制程中，系使用一边使掩膜或标线片(以下总称为「掩膜」)与玻璃板或晶圆等物体(以下总称为「基板」)沿既定扫描(Scan)方向同步移动、一边将形成于掩膜的图案经由投影光学系统转印至基板上的步进扫描方式的投影曝光装置(所谓扫描步进机等)(参照例如专利文献1)。
此种曝光装置，曝光对象的基板被既定的基板交换装置搬入基板载台上，且在曝光处理结束后，被基板交换装置从基板载台上搬出。接着，藉由基板交换装置将其他基板搬入基板载台上。曝光装置，系藉由反复进行上述基板的搬入、搬出，而对复数个基板连续进行曝光处理。是以，在连续使复数个基板曝光时，最好是能迅速地进行基板往基板载台上的搬入及基板从基板载台上的搬出。
[专利文献]
[专利文献1]美国发明专利申请公开第2010／0018950号
发明内容
根据本发明的第1态样，提供一种第1移动体装置，其具备：移动体，可保持物体的端部，与该物体一起至少在与水平面平行的既定二维平面内的既定范围移动；物体支承装置，具有可在包含0度的至少两阶段变更其一面相对前述二维平面的倾斜角度的第1构件，从下方支承在前述既定范围内与前述移动体一起移动的前述物体；第1支承装置，具有一面，可从下方支承前述物体，该一面与处于相对前述二维平面成第1角度的第1状态的前述第1构件的前述一面一起形成相对前述二维平面成前述第1角度的第1移动面；第2支承装置，具有一面，可从下方支承前述物体，该一面与处于相对前述二维平面成第2角度的第2状态的前述第1构件的前述一面一起形成相对前述二维平面成前述第2角度的第2移动面；以及搬送系统，包含使前述物体沿前述第1移动面移动的第1搬送系统与使前述物体沿前述第2移动面移动的第2搬送系统；藉由前述第1及第2搬送系统的一方将前述物体从前述物体支承装置上搬出，且藉由前述第1及第2搬送系统的另一方将其他物体搬入前述物体支承装置上。此处，第1角度与第2角度亦可系相异或亦可相同。
根据上述，物体系在既定二维平面内的既定范围，在其端部保持于移动体且被物体支承装置从下方支承的状态下沿既定二维平面移动。又，物体系藉由沿第1及第2移动面的一方移动而从物体支承装置上搬出，其他物体则藉由沿第1及第2移动面的另一方移动而搬入物体支承装置上。亦即，物体对物体支承装置的搬入路径与搬出路径相异。因此，能迅速地进行物体支承装置上的物体交换。
根据本发明的第2态样，提供一种第2移动体装置，其具备：移动体，可保持物体的端部，与该物体一起至少在与水平面平行的既定二维平面内的既定范围移动；物体支承装置，具有其一面与前述二维平面平行的第1构件，从下方支承在前述既定范围内与前述移动体一起移动的前述物体；第1支承装置及第2支承装置，至少一方能在与前述二维平面交叉的方向相对前述第1构件移动，分别具有与前述二维平面平行的一面且能支承前述物体；以及搬送系统，包含：使前述物体沿包含前述第1构件的前述一面与前述第1支承装置的前述一面的第1移动面移动的第1搬送系统、与使前述物体沿包含前述第1构件的前述一面与前述第2支承装置的前述一面的第2移动面移动的第2搬送系统；藉由前述第1及第2搬送系统的一方将前述物体从前述物体支承装置上搬出，且藉由前述第1及第2搬送系统的另一方将其他物体搬入前述物体支承装置上。
根据上述，物体系在既定二维平面内的既定范围，在其端部保持于移动体且被物体支承装置从下方支承的状态下沿既定二维平面移动。又，物体系藉由沿第1及第2移动面的一方移动而从物体支承装置上搬出，其他物体则藉由沿第1及第2移动面的另一方移动而搬入物体支承装置上。亦即，物体对物体支承装置的搬入路径与搬出路径相异。因此，能迅速地进行物体支承装置上的物体交换。
根据本发明的第3态样，提供一种第3移动体装置，其具备：移动体，可保持物体的端部，与该物体一起至少在与水平面平行的既定二维平面内的既定范围移动；物体支承装置，从下方支承在前述既定范围内与前述移动体一起移动的前述物体；第1支承装置，与前述物体支承装置的至少一部分一起形成第1移动面；第2支承装置，与前述物体支承装置的至少一部分一起形成第2移动面；以及搬送系统，包含：使前述物体沿前述第1移动面移动的第1搬送系统与使前述物体沿前述第2移动面移动的第2搬送系统；藉由前述第1及第2搬送系统的一方将前述物体从前述物体支承装置上搬出，且与前述物体的搬出至少一部分并行地藉由前述第1及第2搬送系统的另一方将其他物体搬入前述物体支承装置上；在前述物体的搬出动作时及前述其他物体的搬入动作时的至少一方，前述移动体与前述物体支承装置的至少一部分系相对移动。
根据上述，物体系在既定二维平面内的既定范围，在其端部保持于移动体且被物体支承装置从下方支承的状态下沿既定二维平面移动。又，物体系藉由沿第1及第2移动面的一方移动而从物体支承装置上搬出，其他物体则藉由沿第1及第2移动面的另一方移动而搬入物体支承装置上。亦即，物体对物体支承装置的搬入路径与搬出路径相异。因此，能迅速地进行物体支承装置上的物体交换。
根据本发明的第4态样，提供一种第4移动体装置，其具备：移动体，可保持物体的端部，与该物体一起至少在与水平面平行的既定二维平面内的既定范围移动；物体支承装置，具有与前述物体下面对向的一面，使用前述一面从下方支承在前述既定范围内与前述移动体一起移动的前述物体；第1支承装置，具有与前述物体支承装置的前述一面一起形成与前述二维平面平行的第1移动面的一面，能从下方支承前述物体；第2支承装置，具有与前述物体支承装置的前述一面一起形成与前述二维平面平行的第2移动面的一面，能从下方支承前述物体；以及搬送系统，包含：使前述物体沿前述第1移动面移动的第1搬送系统与使前述物体沿前述第2移动面移动的第2搬送系统；藉由前述第1及第2搬送系统的一方将前述物体从前述物体支承装置上搬出，且藉由前述第1及第2搬送系统的另一方将其他物体搬入前述物体支承装置上。
根据上述，物体系在既定二维平面内的既定范围，在其端部保持于移动体且被物体支承装置从下方支承的状态下沿既定二维平面移动。又，物体系藉由沿第1及第2移动面的一方移动而从物体支承装置上搬出，其他物体则藉由沿第1及第2移动面的另一方移动而搬入物体支承装置上。亦即，物体对物体支承装置的搬入路径与搬出路径相异。因此，能迅速地进行物体支承装置上的物体交换。
根据本发明的第5态样，提供一种第1曝光装置，具备：上述第1至第4移动体装置的任一者，其进一步具备调整装置，该调整装置配置于前述既定范围内，保持前述物体的一部分以调整该物体一部分在与前述二维平面交叉的方向的位置；以及图案化装置，系对前述物体中保持于前述调整装置的部位照射能量束以形成既定图案。
根据本发明的第6态样，提供一种第2曝光装置，系照射能量束以使物体曝光，其具备：移动体，可保持前述物体的端部，与该物体一起至少在与水平面平行的既定二维平面内的既定范围移动；物体支承装置，具有可在包含0度的至少两阶段变更其一面相对前述二维平面的倾斜角度的第1构件，从下方支承在前述既定范围内与前述移动体一起移动的前述物体；第1支承装置，具有一面，可从下方支承前述物体，该一面与处于相对前述二维平面成第1角度的第1状态的前述第1构件的前述一面一起形成相对前述二维平面成前述第1角度的第1移动面；第2支承装置，具有一面，可从下方支承前述物体，该一面与处于相对前述二维平面成第2角度的第2状态的前述第1构件的前述一面一起形成相对前述二维平面成前述第2角度的第2移动面；搬送系统，包含使前述物体沿前述第1移动面移动的第1搬送系统与使前述物体沿前述第2移动面移动的第2搬送系统；以及图案化装置，对前述物体照射能量束以形成既定图案；藉由前述第1及第2搬送系统的一方将前述物体从前述物体支承装置上搬出，且藉由前述第1及第2搬送系统的另一方将其他物体搬入前述物体支承装置上。
根据本发明的第7态样，提供一种第3曝光装置，系照射能量束以使物体曝光，其具备：移动体，可保持物体的端部，与该物体一起至少在与水平面平行的既定二维平面内的既定范围移动；物体支承装置，具有其一面与前述二维平面平行的第1构件，从下方支承在前述既定范围内与前述移动体一起移动的前述物体；第1支承装置及第2支承装置，至少一方能在与前述二维平面交叉的方向相对前述第1构件移动，分别具有与前述二维平面平行的一面且能支承前述物体；搬送系统，包含：使前述物体沿包含前述第1构件的前述一面与前述第1支承装置的前述一面的第1移动面移动的第1搬送系统、与使前述物体沿包含前述第1构件的前述一面与前述第2支承装置的前述一面的第2移动面移动的第2搬送系统；以及图案化装置，对前述物体照射能量束以形成既定图案；藉由前述第1及第2搬送系统的一方将前述物体从前述物体支承装置上搬出，且藉由前述第1及第2搬送系统的另一方将其他物体搬入前述物体支承装置上。
根据本发明的第8态样，提供一种第4曝光装置，系照射能量束以使物体曝光，其具备：移动体，可保持物体的端部，与该物体一起至少在与水平面平行的既定二维平面内的既定范围移动；物体支承装置，从下方支承在前述既定范围内与前述移动体一起移动的前述物体；第1支承装置，与前述物体支承装置的至少一部分一起形成第1移动面；第2支承装置，与前述物体支承装置的至少一部分一起形成第2移动面；搬送系统，包含：使前述物体沿前述第1移动面移动的第1搬送系统与使前述物体沿前述第2移动面移动的第2搬送系统；以及图案化装置，对前述物体照射能量束以形成既定图案；藉由前述第1及第2搬送系统的一方将前述物体从前述物体支承装置上搬出，且与前述物体的搬出至少一部分并行地藉由前述第1及第2搬送系统的另一方将其他物体搬入前述物体支承装置上；在前述物体的搬出动作时及前述其他物体的搬入动作时的至少一方，前述移动体与前述物体支承装置的至少一部分系相对移动。
根据本发明的第9态样，提供一种第5曝光装置，系照射能量束以使物体曝光，其具备：移动体，可保持物体的端部，与该物体一起至少在与水平面平行的既定二维平面内的既定范围移动；物体支承装置，具有与前述物体下面对向的一面，使用前述一面从下方支承在前述既定范围内与前述移动体一起移动的前述物体；第1支承装置，具有与前述物体支承装置的前述一面一起形成与前述二维平面平行的第1移动面的一面，能从下方支承前述物体；第2支承装置，具有与前述物体支承装置的前述一面一起形成与前述二维平面平行的第2移动面的一面，能从下方支承前述物体；搬送系统，包含：使前述物体沿前述第1移动面移动的第1搬送系统与使前述物体沿前述第2移动面移动的第2搬送系统；以及图案化装置，对前述物体照射能量束以形成既定图案；藉由前述第1及第2搬送系统的一方将前述物体从前述物体支承装置上搬出，且藉由前述第1及第2搬送系统的另一方将其他物体搬入前述物体支承装置上。
根据本发明的第10态样，提供一种元件制造方法，其包含：使用上述第1至第5曝光装置的任一者使前述基板曝光的动作；以及使曝光后的前述基板显影的动作。此情形下，作为物体在曝光用于平板显示器的制造的基板时，系提供平板显示器的制造方法。
根据本发明的第11态样，提供一种第1物体交换方法，其包含：使被物体支承装置从下方支承的物体的端部保持于能沿与水平面平行的既定二维平面移动的移动体的动作；使用前述移动体使前述物体位于前述物体支承装置所具有的第1构件上的动作；将前述第1构件设定为前述第1构件的一面相对前述二维平面成第1角度的第1状态的动作；沿包含被设定为前述第1状态的前述第1构件的前述一面的相对前述二维平面成前述第1角度的第1移动面将前述物体从前述物体支承装置上搬出的动作；将前述第1构件设定为前述一面相对前述二维平面成第2角度的第2状态的动作；以及沿包含被设定为前述第2状态的前述第1构件的前述一面的相对二维平面成前述第2角度的第2移动面将其他物体搬入前述物体支承装置上的动作。
根据本发明的第12态样，提供一种第2物体交换方法，其包含：使被物体支承装置从下方支承的物体的端部保持于能沿与水平面平行的既定二维平面移动的移动体的动作，该物体支承装置具有其一面能在与前述二维平面平行且与前述二维平面交叉的方向移动的第1构件；使用前述移动体使前述物体位于在第1位置的前述第1构件上的动作；沿水平面将前述物体从前述物体支承装置上搬出的动作，该水平面包含位于前述第1位置或相对该第1位置在前述交叉的方向分离的第2位置的前述第1构件的前述一面；以及沿水平面将其他物体搬入前述物体支承装置上的动作，该水平面包含位于相对前述第1位置在前述交叉的方向分离的第3位置的前述第1构件的前述一面。此处，上述第2位置与上述第3位置亦可系相异或亦可相同。
根据本发明的第13态样，提供一种第3物体交换方法，其包含：使被物体支承装置从下方支承的物体的端部保持于能沿与水平面平行的既定二维平面移动的移动体的动作，该物体支承装置具有其一面能在与前述二维平面平行且与前述二维平面交叉的方向移动的第1构件；使用前述移动体使前述物体位于在第1位置的前述第1构件上的动作；沿水平面将前述物体从前述物体支承装置上搬出的动作，该水平面包含位于相对前述第1位置在前述交叉的方向分离的第2位置的前述第1构件的前述一面；以及沿水平面将其他物体搬入前述物体支承装置上的动作，该水平面包含位于前述第1位置或相对该第1位置在前述交叉的方向分离的第3位置的前述第1构件的前述一面。此处，上述第2位置与上述第3位置亦可系相异或亦可相同。
根据本发明的第14态样，提供一种第4物体交换方法，其包含：使被物体支承装置从下方支承的物体的端部保持于能沿与水平面平行的既定二维平面移动的移动体的动作，该物体支承装置具有与前述物体下面对向的与前述水平面平行的一面；使用前述移动体使前述物体沿前述物体支承装置的前述一面移动的动作；使前述物体在沿着前述物体支承装置的前述一面的第1路径上移动而从前述物体支承装置上搬出的动作；以及使其他物体在与沿着前述物体支承装置的前述一面的第1路径相异的第2路径上移动而搬入前述物体支承装置上的动作。
根据本发明的第14态样，提供一种第5物体交换方法，其包含：使被物体支承装置从下方支承的物体的端部保持于能沿与水平面平行的既定二维平面移动的移动体的动作，该物体支承装置具有能与前述物体下面对向的与前述水平面平行的一面；使用前述移动体使前述物体位于前述物体支承装置的前述一面上的动作；使能从下方支承前述物体的第1支承装置的一面位于包含前述物体支承装置的前述一面的水平面上的动作；沿包含前述物体支承装置的前述一面及前述第1支承装置的前述一面的水平面将前述物体从前述物体支承装置上搬出至前述第1支承装置上的动作；使能从下方支承其他物体的第2支承装置的一面位于包含前述物体支承装置的前述一面的水平面上的动作；以及沿包含前述第2支承装置的前述一面及前述物体支承装置的前述一面将其他物体从前述第2支承装置上搬入前述物体支承装置上的动作。
附图说明
图1系概略显示第1实施形态的液晶曝光装置的构成的图。
图2系图1的液晶曝光装置所具有的基板载台装置的俯视图。
图3系图2的基板载台装置所具有的定点载台的侧视图(图2的A－A线剖面图)。
图4(A)系第1实施形态的液晶曝光装置所具有的基板保持框的俯视图，图4(B)系显示用以驱动该基板保持框的驱动单元的侧视图(图4(A)的B－B线剖面图)。
图5(A)～图5(C)系用以说明第1实施形态的液晶曝光装置所具有的基板保持框的动作的图(其1～其3)。
图6(A)系第1实施形态的液晶曝光装置所具有的基板交换装置的侧视图，图6(B)系显示该基板交换装置所具有的基板进给装置的图。
图7系显示以第1实施形态的曝光装置的控制系统为中心构成的主控制装置的输出入关系的方块图。
图8(A)～(C)系显示第1实施形态的曝光装置的步进扫描动作时的基板载台装置的图(其1～其3)。
图9(A)～图9(D)系用以说明第1实施形态的液晶曝光装置所具有的基板交换装置的基板交换时的动作的图(其1～其4)。
图10系与图9(D)对应的基板载台装置的俯视图。
图11(A)～图11(E)系用以说明第2实施形态的液晶曝光装置所具有的基板交换装置的基板交换时的动作的图(其1～其5)。
图12系第3实施形态的液晶曝光装置所具有的基板保持框的俯视图。
图13(A)～图13(C)系用以说明第3实施形态的液晶曝光装置所具有的基板交换装置的基板交换时的动作的图(其1～其3)。
图14(A)～图14(C)系用以说明第3实施形态的液晶曝光装置所具有的基板交换装置的基板交换时的动作的图(其4～其6)。
图15(A)及图15(B)系用以说明第4实施形态的液晶曝光装置所具有的基板交换装置的基板交换时的动作的图(其1及其2)。
图16系概略显示第5实施形态的液晶曝光装置的构成的图。
图17系图16的液晶曝光装置所具有的基板载台装置的俯视图。
图18系第5实施形态的液晶曝光装置所具有的基板保持框的俯视图。
图19(A)～图19(C)系用以说明第5实施形态的液晶曝光装置所具有的基板保持框的动作的图(其1～其3)。
图20(A)系第5实施形态的液晶曝光装置所具有的基板交换装置的侧视图，图20(B)系显示该基板交换装置所具有的基板进给装置的图。
图21(A)～图21(D)系用以说明第5实施形态的液晶曝光装置所具有的基板交换装置的基板交换时的动作的图(其1～其4)。
图22系与图21(D)对应的基板载台装置的俯视图。
图23(A)～图23(C)系用以说明第6实施形态的液晶曝光装置所具有的基板交换装置的基板交换时的动作的图(其1～其3)。
图24(A)及图24(B)系用以说明第7实施形态的基板交换装置的基板交换时的动作的图(其1及其2)。
图25(A)～图25(C)系用以说明变形例的基板交换装置的基板交换时的动作的图(其1～其3)。
图26系概略显示第8实施形态的液晶曝光装置的构成的图。
图27系图26的液晶曝光装置所具有的基板载台装置的俯视图。
图28(A)～图28(C)系用以说明第8实施形态的液晶曝光装置所具有的基板保持框的动作的图(其1～其3)。
图29(A)及图29(B)系第8实施形态的液晶曝光装置所具有的基板交换装置的侧视图。
图30(A)～图30(D)系用以说明第8实施形态的液晶曝光装置所具有的基板交换装置的基板交换时的动作的图(其1～其4)。
图31(A)～图31(E)系用以说明第9实施形态的基板交换装置的基板交换时的动作的图(其1～其5)。
图32(A)系第10实施形态的液晶曝光装置所具有的基板保持框的俯视图，图32(B)及图32(C)系用以说明第10实施形态的液晶曝光装置所具有的基板交换装置的基板交换时的动作的图(其1及其2)。
图33(A)及图33(B)系用以说明第11实施形态的液晶曝光装置所具有的基板交换装置的基板交换时的动作的图(其1及其2)。
图34系概略显示第12实施形态的液晶曝光装置的构成的图。
图35系图34的液晶曝光装置所具有的基板载台装置及基板交换装置的俯视图。
图36系图35的基板载台装置所具有的定点载台的侧视图(图35的C－C线剖面图)。
图37(A)系第12实施形态的液晶曝光装置所具有的基板保持框的俯视图，图37(B)系显示用以驱动该基板保持框的驱动单元的侧视图(图37(A)的D－D线剖面图)。
图38(A)～图38(C)系用以说明第12实施形态的液晶曝光装置所具有的基板保持框的动作的图(其1～其3)。
图39(A)及图39(B)系第12实施形态的液晶曝光装置所具有的基板搬出装置的侧视图。
图40(A)～图40(C)系用以说明第12实施形态的液晶曝光装置所具有的基板交换装置及基板载台装置的基板交换时的动作的图(其1～其3)。
图41(A)～图41(D)系用以说明第13实施形态的液晶曝光装置所具有的基板交换装置的基板交换时的动作的图(其1～其4)。
图42(A)及图42(B)系用以说明第14实施形态的液晶曝光装置所具有的基板交换装置及基板载台装置的基板交换时的动作的图(其1及其2)。
图43(A)及图43(B)系用以说明第12实施形态的变形例的基板交换装置及基板载台装置的基板交换时的动作的图(其1及其2)。
具体实施方式
《第1实施形态》
以下，根据图1～图10说明本发明的第1实施形态。
图1系概略显示第1实施形态的液晶曝光装置10的构成。液晶曝光装置10系以用于液晶显示装置(平板显示器)的矩形玻璃基板P(以下单称为基板P)为曝光对象物的步进扫描方式的投影曝光装置、亦即所谓扫描机。后述的第2实施形态以下的各实施形态的液晶曝光装置亦相同。
液晶曝光装置10如图1所示，具备照明系统IOP、保持掩膜M的掩膜载台MST、投影光学系统PL、支承掩膜载台MST及投影光学系统PL等的机体BD、保持基板P的基板载台装置PST、基板交换装置50(图1中未图示、参照图2)、以及此等的控制系统等。以下的说明中，将在曝光时掩膜M与基板P相对投影光学系统PL分别相对扫描的方向设为X轴方向、将在水平面内与X轴方向正交的方向设为Y轴方向、将与X轴及Y轴正交的方向设为Z轴方向，且将绕X轴、Y轴、及Z轴的旋转(倾斜)方向分别设为θx、θy、及θz方向。
照明系统IOP，与例如美国发明专利第6,552,775号说明书等所揭示的照明系统为相同构成。亦即，照明系统IOP系将从未图示的光源(例如水银灯)射出的光分别经由未图示的反射镜、分色镜、快门、波长选择过滤器、各种透镜等，作为曝光用照明光(照明光)IL照射于掩膜M。照明光IL系使用例如i线(波长365nm)、g线(波长436nm)、h线(波长405nm)等的光(或者上述i线、g线、h线的合成光)。又，照明光IL的波长，可藉由波长选择过滤器，依照例如被要求的解析度适当进行切换。
于掩膜载台MST例如籍由真空吸附固定有掩膜M，该掩膜M系于其图案面(图1的下面)形成有电路图案等。掩膜载台MST，透过例如未图示空气轴承以非接触状态搭载于固定于后述机体BD一部分即镜筒定盘33上的一对掩膜载台导件35上。掩膜载台MST，能籍由包含例如线性马达的掩膜载台驱动系统11(图1中未图示，参照图7)在一对掩膜载台导件35上以既定行程被驱动于扫描方向(X轴方向)，且分别适当被微幅驱动于Y轴方向及θz方向。掩膜载台MST在XY平面内的位置信息(包含θz方向的旋转信息)，系藉由包含雷射干涉仪的掩膜干涉仪系统15(参照图7)予以测量。
投影光学系统PL系在掩膜载台MST的图1下方支承于镜筒定盘33。投影光学系统PL具有与例如美国发明专利第6,552,775号说明书所揭示的投影光学系统相同的构成。亦即，投影光学系统PL包含掩膜M的图案像的投影区域配置成交错格子状的复数个投影光学系统(多透镜投影光学系统)，系发挥与具有以Y轴方向为长边方向的长方形的单一像场的投影光学系统同等的功能。本实施形态中的复数个投影光学系统均使用例如以两侧远心的等倍系统形成正立正像者。又，以下将投影光学系统PL的配置成交错格子状的复数个投影区域总称为曝光区域IA(参照图2)。
因此，在以来自照明系统IOP的照明光IL照明掩膜M上的照明区域后，籍由通过投影光学系统PL的第1面(物体面)与图案面大致一致配置的掩膜M的照明光IL，使该照明区域内的掩膜M的电路图案的投影像(部分正立像)经由投影光学系统PL形成于照明光IL的照射区域(曝光区域IA)，该区域IA系与配置于投影光学系统PL的第2面(像面)侧的表面涂布有光阻(感应剂)的基板P上的照明区域共轭。接着，藉由掩膜载台MST与构成基板载台装置PST一部分的后述基板保持框56的同步驱动，使掩膜M相对照明区域(照明光IL)移动于扫描方向(X轴方向)，且使基板P相对曝光区域IA(照明光IL)移动于扫描方向(X轴方向)，藉此进行基板P上的一个照射区域(区划区域)的扫描曝光，以将掩膜M的图案(掩膜图案)转印于该照射区域。亦即，本实施形态中，系藉由照明系统IOP及投影光学系统PL将掩膜M的图案生成于基板P上，藉由照明光IL对基板P上的感应层(光阻层)的曝光将该图案形成于基板P上。
机体BD包含前述的镜筒定盘33、在地面F上从下方分别支承镜筒定盘33的+Y侧及-Y侧端部的一对支承壁32。一对支承壁32均透过包含例如空气弹簧的防振台34设置于地面F上，机体BD及投影光学系统PL相对地面F在振动上分离。又，于一对支承壁32相互间，如图2及图3所示，架设有延伸于Y轴的XZ剖面矩形构件所构成的Y柱36。Y柱36于后述的定盘12上方相隔既定间隔配置，Y柱36与定盘12系非接触且在振动上分离。
基板载台装置PST，如图2所示，具备设置于地面F上的定盘12、在定盘12上的紧邻曝光区域IA下方从下方以非接触方式保持基板P的定点载台52、设置于定盘12上的复数个空气悬浮装置54、保持基板P的基板保持框56、以及将基板保持框56以既定行程(沿XY平面)驱动于X轴方向及Y轴方向的驱动单元58。
定盘12系由在俯视下(从+Z侧观看)以X轴方向为长度方向的矩形板状构件构成。
定点载台52配置于较定盘12中央部略靠-X侧。定点载台52如图3所示，具备搭载于Y柱3636上的重量抵销装置60、配置于重量抵销装置60上而支承成能倾斜(能旋转于θx及θy方向(能摆动))的空气夹头装置62、以及将空气夹头装置62驱动于Z轴、θx、θy的三自由度方向的复数个Z音圈马达64。
重量抵销装置60具有与例如美国发明专利申请公开第2010／0018950号说明书等所揭示的重量抵销装置相同的构成。亦即，重量抵销装置60包含例如未图示的空气弹簧，藉由该空气弹簧产生的重力方向向上的力，抵销空气夹头装置62的重量(重力方向向下的力)，而减轻复数个Z音圈马达64的负荷。
空气夹头装置62系从基板P下面侧以非接触方式吸附保持基板P的与曝光区域IA(参照图2)对应的部位(被曝光部位)。空气夹头装置62的上面(+Z侧的面)如图2所示，系在俯视下呈以Y轴方向为长度方向的长方形，其面积设定为较曝光区域IA面积略广。
空气夹头装置62系从其上面将加压气体(例如空气)往基板P下面喷出，且吸引其上面与基板P间的气体。空气夹头装置62藉由往基板P下面喷出的气体的压力和与基板P下面之间的负压的平衡，于其上面与基板P下面之间形成高刚性的气体膜，而将基板P隔着大致一定的空隙(间隙／隙缝)以非接触方式吸附保持。因此，本实施形态的基板载台装置PST，假使基板P产生扭曲或翘曲，亦能将基板P中位于紧邻投影光学系统PL下方的被曝光位置的形状确实地沿空气夹头装置62上面矫正。又，空气夹头装置62由于不拘束基板P在XY平面内的位置，因此即使系基板P被空气夹头装置62吸附保持被曝光部位的状态，亦能相对照明光IL(参照图1)分别相对移动于X轴方向(扫描方向)及Y轴方向(步进方向／交叉扫描方向)。此种空气夹头装置(真空预负荷空气轴承)，例如揭示于美国发明专利第7,607,647号说明书等。
复数个Z音圈马达64的各个，如图3所示包含固定于定盘12上所设置的底座框架66的Z固定子64a与固定于空气夹头装置62的Z可动子64b。复数个Z音圈马达64例如配置于至少不位于同一直线上的三处，能将空气夹头装置62以微幅行程驱动于θx、θy及Z轴的三自由度方向。底座框架66与Y柱36在振动上分离，使用复数个Z音圈马达64驱动空气夹头装置62时的反作用力不会传递至重量抵销装置60。主控制装置20(参照图7)一边藉由面位置测量系统40测量基板P上面的Z位置信息(面位置信息)，一边使用复数个Z音圈马达64将空气夹头装置62的位置控制成该基板P上面随时位于投影光学系统PL的焦深内。作为面位置测量系统40，能使用例如美国发明专利第5,448,332号等的多点焦点位置检测系统。
返回图2，复数个(本实施形态中，例如为40台)空气悬浮装置54，系从下方以非接触方式将基板P(惟系除了前述定点载台52所保持的基板P的被曝光部位以外的区域)保持成基板P大致平行于水平面。
本实施形态中，由于Y轴方向以既定间隔排列的8台空气悬浮装置54构成的空气悬浮装置群系以既定间隔于X轴方向配置有5列。以下，为了说明方便，将构成空气悬浮装置群的8台空气悬浮装置54从-Y侧起称为第1～第8台。又，为了说明方便，将5列空气悬浮装置群从-X侧依序称为第1～第5列。此外，第5列的空气悬浮装置群，由于如后所述仅用于基板的搬入及搬出，因此不具有与第1台及第8台相当的空气悬浮装置54，而系由共计6台的空气悬浮装置构成。又，构成第5列的空气悬浮装置群的6台空气悬浮装置，虽较其他空气悬浮装置小型，但由于其功能与其他空气悬浮装置54相同，因此为了说明方便，使用与其他空气悬浮装置相同的符号54来说明。又，于第2列的空气悬浮装置群与第3列的空气悬浮装置群之间，系有Y柱36通过，于搭载于该Y柱36上的定点载台52的+Y侧及-Y侧分别配置有各1台空气悬浮装置54。
复数个空气悬浮装置54均系藉由从其上面喷出加压气体(例如空气)而以非接触方式支承基板P，以防止基板P在沿XY平面移动时基板P的下面受损。此外，复数个空气悬浮装置54各自的上面与基板P下面间的距离，设定为较前述定点载台52的空气夹头装置62上面与基板P下面间的距离长(参照图1)。复数个空气悬浮装置群中第4列及第5列各自的空气悬浮装置群的第3～6台空气悬浮装置54搭载于由平板状构件构成的底座构件68(参照图1)上。以下，将底座构件68及搭载于底座构件68上的共计8台空气悬浮装置54总称为第1空气悬浮单元69来说明。除了构成第1空气悬浮单元69的8台空气悬浮装置54以外的其他32台空气悬浮装置54，如图1及图3所示，透过各两支柱状支承构件72固定于定盘12上。
第1空气悬浮单元69，如图1所示，藉由例如包含线性马达(或气缸)等的复数个Z线性致动器74在定盘12上被从下方支承。第1空气悬浮单元69，藉由复数个Z线性致动器74被同步驱动(控制)，而能在例如8台空气悬浮装置54上面平行于水平面的状态下移动于垂直方向(参照图5(A)～图5(C))。又，第1空气悬浮单元69，藉由复数个Z线性致动器74被适当驱动(控制)，而能如图6(A)所示，将其姿势改变为在+X侧的Z轴方向的位置(以下称为Z位置)较-X侧的Z位置低的状态(上面相对水平面倾斜于θy方向的状态)。以下，第1空气悬浮单元69的姿势中，将例如8台空气悬浮装置54上面平行于水平面的状态称为水平状态，将例如8台空气悬浮装置54的上面相对水平面倾斜于θy方向的状态称为倾斜状态。
又，第1空气悬浮单元69如图6(A)所示具有挡件76(挡件76在除了图6(A)以外的图并未图示)。挡件76藉由一体安装于底座构件68的气缸等的致动器78，被驱动于与例如8台空气悬浮装置54上面正交的方向。此外，图6(A)中虽因重迭于纸面深处方向而未图示，但挡件76(及驱动挡件76的致动器78)系于Y轴方向以既定间隔设有复数个。挡件76在第1空气悬浮单元69为倾斜状态时，系被驱动至从空气悬浮装置54上面往上方突出的位置，以防止基板P因自重从第1空气悬浮单元69上面滑落。相对于此，在使挡件76位于较空气悬浮装置54上面下方的位置的状态下，基板P能沿例如8台空气悬浮装置54上面移动。
基板保持框56，如图4(A)所示，包含由俯视U字形的框状构件构成的本体部80与从下方支承基板P的复数个、本实施形态中为4个的支承部82。本体部80具有一对X框构件80X与一个Y框构件80Y。一对X框构件80X由以X轴方向为长度方向的平行于XY平面的板状构件构成，于Y轴方向以既定间隔(较基板P的Y轴方向尺寸宽广之间隔)彼此平行配置。Y框构件80Y由以Y轴方向为长度方向的平行于XY平面的板状构件构成，连结一对X框构件80X的-X侧端部彼此。于-Y侧的X框构件80X的-Y侧侧面安装有具有正交于Y轴的反射面的Y移动镜84Y，于Y框构件80Y的-X侧侧面安装有具有正交于X轴的反射面的X移动镜84X。
4个支承部82中的2个以于X轴方向分离既定间隔(较基板P的X轴方向尺寸狭窄之间隔)的状态安装于-Y侧的X框构件80X，其他2个以于X轴方向分离既定间隔的状态安装于+Y侧的X框构件80X。各支承部82由YZ剖面L字形的构件构成(参照图5(A))，藉由平行于XY平面的部分从下方支承基板P。各支承部82，于与基板P的对向面具有未图示的吸附垫，以例如真空吸附保持基板P。4个支承部82分别透过Y致动器42(参照图7)安装于+Y侧或-Y侧X框构件80X。4个支承部82的各个，如图5(B)及图5(C)所示，能相对安装有该等的X框构件80X移动于接近及离开的方向。Y致动器包含例如线性马达、气缸等。
驱动单元58如图4(A)所示，包含在X轴方向及Y轴方向分离配置的4个Y固定子86、与4个Y固定子86分别对应的4个Y可动子88(Y可动子88在图4(A)中未图示，参照图4(B))、一对X固定子90、及与一对X固定子90分别对应的一对X可动子92等。
如图2所示，4个Y固定子86中的2个以于Y轴方向分离既定间隔的状态配置于第1列空气悬浮装置群与第2列空气悬浮装置群之间，其他2个以于Y轴方向分离既定间隔的状态配置于第3列空气悬浮装置群与第4列空气悬浮装置群之间。各Y固定子86如图4(B)中取出其中一个所示，包含由平行于YZ平面且延伸于Y轴方向的板状构件构成的本体部86a与在定盘12上由下方支承本体部86a的一对脚部86b。于本体部86a的两侧面(X轴方向的一侧与另一侧的面)分别固定有包含于Y轴方向以既定间隔排列的复数个磁石的磁石单元94(图4(B)中，固定于-X侧的面的磁石单元94未图示)。又，由图4(A)及图4(B)可知，于本体部86a的两侧面及上面分别固定有与Y轴平行延伸的Y线性导引构件96。
Y可动子88由XZ剖面倒U字形构件构成，于一对对向面间插入有Y固定子86的本体部86a。于Y可动子88的一对对向面间安装有分别与一对磁石单元94对应的线圈单元98(-X侧的线圈单元98未图示)。于Y可动子88的一对对向面及顶面固定有可滑动地卡合于Y线性导引构件96的复数个滑件51(-X侧的滑件51未图示)。4个Y可动子88分别藉由由线圈单元98与对应的Y固定子86的磁石单元94构成的电磁力(劳伦兹力)驱动方式的Y线性马达97(参照图7)以既定行程被同步驱动于Y轴方向。
一对X固定子90如图2所示，分别由以X轴方向为长度方向的平行于XY平面的板状构件构成，于Y轴方向以既定间隔(较基板保持框56的Y轴方向尺寸宽广之间隔)平行配置。一对X固定子90分别具有包含于X轴方向以既定间隔排列的复数个磁石的未图示磁石单元。如图4(B)所示，一对X固定子90中的-Y侧的X固定子90系被分别固定于2个Y可动子88(分别对应于-Y侧的2个Y固定子86)上面的柱状支承构件53从下方支承(图4(B)中2个Y可动子88中的+X侧的Y可动子88未图示)。又，虽未图示，但一对X固定子90中的+Y侧的X固定子90系被分别固定于+Y侧的2个Y可动子88上面的柱状支承构件53从下方支承。
X可动子92如图4(A)所示，由于底面中央形成有开口部92a的剖面矩形框状的构件构成，于X轴方向延设成其上面平行于XY平面。于X可动子92的内部插入有X固定子90，于开口部92a插入有在Y可动子88上支承X固定子90的支承构件53(以非接触方式卡合)。X可动子92具有包含线圈的未图示的线圈单元。一对X可动子92藉由由线圈单元与对应的X固定子90的磁石单元构成的电磁力驱动方式X线性马达93(参照图7)被以既定行程于X轴方向同步驱动(参照图4(A))。
如图4(B)所示，于-Y侧的X可动子92的+Y侧侧面固定有YZ剖面U字形的保持构件55(于+Y侧X可动子92的-Y侧的面亦固定有相同的保持构件)。保持构件55于一对对向面具有未图示的空气轴承。于保持构件55的一对对向面间，插入有透过底座构件57固定于基板保持框56的X框构件80X上面的与XY平面平行的板状构件59。基板保持框56系透过分别固定于该一对X框构件80X的底座构件57、板状构件59、固定于X可动子92的保持构件55、设于保持构件55的空气轴承而以非接触方式支承于X可动子92。
又，驱动单元58如图4(A)所示具有两个X音圈马达18x、及两个Y音圈马达18y。两个X音圈马达18x的一方及两个Y音圈马达18y的一方配置于基板保持框56的-Y侧，两个X音圈马达18x的另一方及两个Y音圈马达18y的另一方配置于基板保持框56的+Y侧。一方及另一方的X音圈马达18x配置于彼此在相对基板保持框56及基板P整体的重心位置CG成点对称的位置。一方及另一方的Y音圈马达18y配置于彼此在相对上述重心位置CG成点对称的位置。如图4(B)所示，一方的Y音圈马达18y包含透过支承壁构件61a固定于X可动子92的固定子61(例如包含线圈的线圈单元)与透过底座构件57固定于基板保持框56的可动子63(例如包含磁石的磁石单元)。此外，另一方Y音圈马达18y及两个X音圈马达18x各自的构成由于与如图4(B)所示的一方的Y音圈马达18y相同，因此省略说明。
主控制装置20，在透过驱动单元58的一对X线性马达93将一对X可动子92在一对X固定子90上以既定行程驱动于X轴方向时，系使用两个X音圈马达18x将基板保持框56相对一对X可动子92同步驱动(与以一对X可动子92相同方向、相同速度驱动)。此时，系藉由主控制装置20，根据后述的基板干涉仪系统的测量值驱动X音圈马达18x，基板保持框56系以较X线性马达93对X可动子92进行的定位更高的精度高速地被定位控制。又，主控制装置20，在透过驱动单元58的复数个Y线性马达97将一对Y可动子86在4个Y固定子86上以既定行程驱动于Y轴方向时，系使用两个Y音圈马达18y将基板保持框56相对一对X可动子92同步驱动(与以一对Y可动子88相同方向、相同速度驱动)。此时，系藉由主控制装置20，根据后述的基板干涉仪系统的测量值驱动Y音圈马达18y，基板保持框56系以较Y可动子88的Y线性马达97所进行的定位更高的精度高速地被定位控制。又，主控制装置20系使用驱动单元58的两个X音圈马达18x及两个Y音圈马达18y将基板保持框56相对一对X固定子90绕通过重心位置CG的与Z轴平行的轴线(θz方向)适当微幅驱动。
基板保持框56、亦即基板P的XY平面内(包含θz方向)的位置信息如图2所示，系藉由对X移动镜84X照射测距光束的X干涉仪65X、以及对Y移动镜84Y照射测距光束的Y干涉仪65Y的基板干涉仪系统65(参照图7)求出。
基板交换装置50如图2所示配置于定盘12的+X侧。基板交换装置50如图6(A)所示，具备基板搬入装置50a与配置于基板搬入装置50a下方的基板搬出装置50b(图2中因隐藏于基板搬入装置50a下方而未图示)。
基板搬入装置50a具备具有与上述第1空气悬浮单元69相同的构成及功能的第2空气悬浮单元70。亦即，第2空气悬浮单元70具有搭载于底座构件71上的复数(例如8台)的空气悬浮装置99(参照图2)。此外，空气悬浮装置99系与空气悬浮装置54实质上相同者。第2空气悬浮单元70所具有的例如8台空气悬浮装置99的上面平行于水平面。此外，实际上，第2空气悬浮单元70与+X侧的部分相较其-X侧部分的厚度较薄，但其功能与第1空气悬浮单元69实质上相同。
又，基板搬入装置50a如图6(B)所示，具有包含皮带73a的基板进给装置73(图6(B)以外的其他图并未图示)。用以驱动皮带73a的一对滑轮73b透过未图示的支承构件支承于地面(或第2空气悬浮单元70的底座构件71)。上述皮带73a及滑轮73b，例如配置于第2空气悬浮单元70的+Y侧及-Y侧(或复数空气悬浮装置99之间)等。于皮带73a上面固定有垫73c。基板搬入装置50a，在于第2空气悬浮单元70上载置有基板P的状态下驱动皮带73a后，即藉由垫73c按压基板P，而沿例如8台空气悬浮装置99的上面移动(将基板P从第2空气悬浮单元70往第1空气悬浮单元69上压出)。
返回图6(A)，基板搬出装置50b具备具有与上述第1空气悬浮单元69相同的构成及功能的第3空气悬浮单元75。亦即，第3空气悬浮单元75具有搭载于底座构件68上的复数、例如8台空气悬浮装置99。第3空气悬浮单元75所具有的例如8台空气悬浮装置99的上面相对水平面倾斜成+X侧的Z位置较-X侧的Z位置低。又，基板搬出装置50b具有与上述基板搬入装置50a的基板进给装置73相同构成的基板进给装置73。基板搬出装置50b，藉由在垫73c与基板P抵接的状态下控制皮带73a的速度，基板P即因自重，沿例如8台空气悬浮装置99上面移动(滑降)时的速度即被控制。
图7系以液晶曝光装置10的控制系统为中心构成，显示有显示统筹控制构成各部的主控制装置20的输出入关系的方块图。主控制装置20包含工作站(或微电脑)等，统筹控制液晶曝光装置10的构成各部。
以上述方式构成的液晶曝光装置10(参照图1)，系在主控制装置20(参照图7)的管理下，藉由未图示的掩膜装载器将掩膜M装载于掩膜载台MST，以及藉由基板搬入装置50a(图1中未图示，参照图2)将基板P装载于基板载台装置PST。其后，藉由主控制装置20使用未图示的对准检测系统执行对准测量，在对准测量结束后，即进行步进扫描方式的曝光动作。
此处，根据图8(A)～图8(C)说明上述曝光动作时的基板载台装置PST的动作一例。此外，图8(A)～图8(C)中，为了避免图式过于复杂，系省略了用以驱动基板保持框56的驱动单元58的图示。
本实施形态中，系依照基板P的-Y侧区域、+Y侧区域的顺序进行曝光。首先，与掩膜M(掩膜载台MST)同步地将保持有基板P的基板保持框56相对曝光区域IA往-X方向驱动(参照图8(A)的黑色箭头)，对基板P的-Y侧区域进行扫描动作(曝光动作)。其次，如图8(B)所示，藉由基板保持框56被往-Y方向驱动(参照图8(B)的白色箭头)，进行步进动作。其后，如图8(C)所示，藉由与掩膜M(掩膜载台MST)同步地将保持有基板P的基板保持框56往+X方向驱动，基板P相对曝光区域IA被往+X方向驱动(参照图8(C)的黑色箭头)，对基板P的+Y侧区域进行扫描动作(曝光动作)。
主控制装置20，在进行图8(A)～图8(C)所示的步进扫描方式的曝光动作当中，系使用基板干涉仪系统65测量基板P在XY平面内的位置信息，且使用面位置测量系统40测量基板P表面的被曝光部位的面位置信息。接着，主控制装置20藉由根据其测量值控制空气夹头装置62的位置(面位置)，定位成基板表面中位于紧邻投影光学系统PL下方的被曝光部位的面位置位于投影光学系统PL的焦深内。藉此，即使例如假设于基板P表面产生起伏或基板P产生厚度的误差，亦可确实地使基板P的被曝光部位的面位置位于投影光学系统PL的焦深内，而能使曝光精度提升。如上述，本实施形态的液晶曝光装置10，由于系仅控制基板表面中与曝光区域对应的位置的面位置，因此例如与在XY二维载台装置上将用以将基板P保持成平面度良好的与基板P具有相同程度面积的台构件(基板保持具)分别驱动于Z轴方向及倾斜方向(Z／调平载台亦与基板一起被XY二维驱动)的习知载台装置(参照例如美国发明专利申请公开第2010／0018950号说明书)相较，可大幅减低其重量(特别是可动部分)。具体而言，例如在使用一边超过3m的大型基板时，相较于习知的载台装置，可动部分的总重量超过10t，本实施形态的基板载台装置PST，能使可动部分(基板保持框56、X固定子90、X可动子92、Y可动子88等)的总重量为数100kg程度。因此，用以驱动X可动子92的X线性马达93、用以驱动Y可动子88的Y线性马达97，各自的输出较小者即可，能减低运转成本。又，电源设备等的基础整备亦容易。又，由于线性马达的输出较小即可，因此能减低期初成本。
本实施形态的液晶曝光装置10，在上述步进扫描方式的曝光动作结束后，曝光完毕的基板P系从基板保持框56被搬出，其他基板P被搬入基板保持框56，藉此进行基板保持框56所保持的基板P的交换。此基板P的交换，系在主控制装置20的管理下进行。以下，根据图9(A)～图9(D)说明基板P的交换动作一例。图9(A)～图9(D)中，基板进给装置73(参照图6(B))等的图示系省略。又，将从基板保持框56搬出的搬出对象的基板称为Pa，将其次搬入基板保持框56的搬入对象称为Pb来说明。如图9(A)所示，基板Pb载置于基板搬入装置50a的第2空气悬浮单元70上。
在曝光处理结束后，基板Pa，藉由驱动基板保持框56而如图9(A)所示移动至第1空气悬浮单元69上。此时，如图5(A)所示，基板保持框56的Y轴方向的位置被定位成第1空气悬浮单元69的空气悬浮装置54不位于基板保持框56的支承部82下方(于上下方向不重迭)。其后，解除基板保持框56对基板Pa的吸附，如图5(B)所示，第1空气悬浮单元69往+Z方向被微幅驱动。藉此，基板Pa与支承部82分离，在此状态下，如图5(C)所示支承部82被驱动于从基板Pa分离的方向。
其次，主控制装置20，如图9(B)所示控制第1空气悬浮单元69的姿势以使第1空气悬浮单元69成为倾斜状态。此时，主控制装置20系将复数个Z线性致动器74(参照图1)控制成第1空气悬浮单元69上面相对水平面的倾斜角度与第3空气悬浮单元75上面相对水平面的倾斜角度相同，且控制成第1空气悬浮单元69上面位于与第3空气悬浮单元75上面相同的平面上。又，主控制装置20系在第1空气悬浮单元69的姿势变化前使挡件76(参照图6(A))较空气悬浮装置99上面往上方突出，以防止基板P沿第1空气悬浮单元69上面滑落。又，主控制装置20系使第3空气悬浮单元75的基板进给装置73(图9(B)中未图示，参照图6(B))所具有的垫73c位于基板Pa的+X侧端部附近。
又，主控制装置20系与使上述第1空气悬浮单元69的姿势变化的动作并行地，控制基板搬入装置50a的基板进给装置73(图9(B)中未图示，参照图6(B))使搬入对象的基板Pb往-X方向移动微少量。
主控制装置20，如图9(B)所示在第1空气悬浮单元69上面相对水平面的倾斜角度成为与第3空气悬浮单元75上面相同角度后即停止第1空气悬浮单元69的姿势控制，其后使挡件76(参照图6(A))位于较空气悬浮装置99上面下方。藉此，基板Pa的+X侧端部(搬出方向前端部)抵接于垫73c(参照图6(B))。
其次，主控制装置20，如图9(C)所示使用基板搬出装置50b的基板进给装置73(参照图6(B))将基板Pa从第1空气悬浮单元69上沿藉由第1及第3空气悬浮单元69、75的上面形成的倾斜面搬送至第3空气悬浮单元75上。搬送至第3空气悬浮单元75上的基板Pa，藉由未图示的基板搬送装置搬送至例如涂布显影机装置等外部装置。
又，在搬出对象的基板Pa被移交至第3空气悬浮单元75后，主控制装置20如图9(D)所示控制第1空气悬浮单元69的姿势，使其回归至其上面成水平的位置(水平状态)。其后，使用基板搬入装置50a的基板进给装置73(参照图6(B))将搬入对象的基板Pb从第2空气悬浮单元70上沿藉由第1及第2空气悬浮单元69、70的上面形成的水平面搬送至第1空气悬浮单元69上。藉此，如图10所示，基板Pb插入基板保持框56的一对X框构件80X间。其后，以与图5(A)～图5(C)相反的顺序(图5(C)～图5(A)的顺序)使基板Pb保持于基板保持框56。本实施形态的液晶曝光装置10中，藉由反复进行上述图9(A)～图9(D)所示的基板的交换动作，而对复数个基板连续进行曝光动作等。
如以上所说明，根据本实施形态的液晶曝光装置10，由于系分别使用不同路径进行基板的搬出及其他基板的搬入，因此能迅速地进行保持于基板保持框56的基板的交换。又，由于基板的搬出动作与其他基板的搬入动作系一部分并行进行，因此与在基板的搬出后进行基板的搬入的情形相较能更迅速地进行基板的交换。
又，由于分别于基板搬入装置50a及基板搬出装置50b设置空气悬浮装置99，而在使基板悬浮的状态下搬送，因此能迅速且简单地使基板移动。又，能防止基板的下面受损。
《第2实施形态》
其次根据图11(A)～图11(E)说明第2实施形态。此处，系针对与前述第1实施形态相异的点进行说明，对与上述第1实施形态相同或同等的构件使用相同符号，简略或省略其说明。
相较于上述第1实施形态中基板搬入装置50a系藉由基板进给装置73将基板Pb搬送至基板保持框56，本第2实施形态的液晶曝光装置，系将基板保持框56驱动至基板搬入装置50a上，在第2空气悬浮单元70上将基板Pb移交至基板保持框56。因此，虽未图示，但用以将基板保持框56驱动于X轴方向的X线性马达的固定子，系设定为较第1实施形态于+X侧长既定距离。
本第2实施形态，在基板交换时，首先与上述第1实施形态同样地解除基板保持框56对基板Pa的吸附及保持(参照图11(A))。接着，使第1空气悬浮单元69的姿势成为倾斜状态(参照图11(B))。与此并行地，基板保持框56藉由X线性马达93被往+X方向驱动(参照图11(B)及图11(C))。接着，基板Pa沿藉由第1及第3空气悬浮单元69、75各自的上面形成的倾斜面(移动面)被搬送。接着，在基板Pa移动至第3空气悬浮单元75上后，第1空气悬浮单元69从倾斜状态移行至水平状态。
其次，基板保持框56移动至第2空气悬浮单元70上(参照图11(D))。此处，虽未图示，但第2空气悬浮单元70构成为能微幅驱动于上下方向，以与图5(A)～图5(C)相反的顺序使基板Pb保持于基板保持框56。接着，保持有基板Pb的基板保持框56被往-X侧驱动(参照图11(E))。此时，被基板保持框56保持的基板Pb，其一部分在成为水平状态前的第1空气悬浮单元69上沿包含第2空气悬浮单元70上面的水平面移动，在第1空气悬浮单元69成为水平状态的时点，沿藉由第1及第2空气悬浮单元69、70各自的上面形成的水平面(移动面)被搬送。其后，进行对准测量、步进扫描方式的曝光处理。
根据本第2实施形态，由于系在使基板Pb在第2空气悬浮单元70上保持于基板保持框56的状态下往第1空气悬浮单元69上搬送，因此在使倾斜的第1空气悬浮单元69成为水平前，能使基板Pb的一部分在第1空气悬浮单元69上沿包含第2空气悬浮单元70上面的水平面移动。因此，与第1实施形态相较能缩短基板交换的循环时间。
又，藉由使用基板保持框56进行从第2空气悬浮单元70上往第1空气悬浮单元69上的基板Pb的搬送，而能较使用基板搬入装置50a的基板进给装置73(上述第1实施形态为皮带驱动式)的情形更迅速地(上述第1实施形态中，由于基板Pb系在单纯载置于皮带73a的状态、亦即在XY方向不被拘束的状态被搬送，因此难以高速搬送)使基板P移动。
又，相较于上述第1实施形态，不需变更基板保持框56的控制系统及测量系统仅使X线性马达的固定子90延长于+X方向(亦即抑制成本提升)即能使基板保持框56移动至第2空气悬浮单元70上。
《第3实施形态》
其次根据图12～图14(C)说明第3实施形态。此处，系针对与前述第1实施形态相异的点进行说明，对与上述第1实施形态相同或同等的构件使用相同或类似的符号，简略或省略其说明。
第3实施形态的液晶曝光装置中，如图12所示，取代前述基板保持框56而具有基板保持框156。基板保持框156，系由基板保持框56的一对X框构件80X的+X侧端部彼此被Y框构件80Y连结而构成的俯视矩形框状的构件构成。因此，较前述的基板保持框56的刚性高。基板保持框156系在以一对X框构件80X与一对Y框构件80Y包围基板P外周的状态下藉由4个支承部82支承基板P。
又，第3实施形态的液晶曝光装置中，基板搬入装置50a的第2空气悬浮单元70(图13(A)～图14(C))能藉由未图示的复数个Z线性致动器与第1空气悬浮单元69同样地移动于Z轴方向且倾斜于θy方向。
第3实施形态中，在基板交换时，如图13(A)所示，最初第1空气悬浮单元69为水平状态，第2空气悬浮单元70倾斜成其+X侧端部较-X侧端部低。在此状态下，第2空气悬浮单元70的-X侧端部及基板Pb的Z位置位于较基板保持框156低的位置。
接着，如图13(B)所示，第1空气悬浮单元69成为倾斜状态，且基板保持框156被往+X方向驱动。其次，如图13(C)所示，基板Pa从第1空气悬浮单元69上搬送至第3空气悬浮单元75上。其次，如图14(A)所示，基板保持框156移动至第2空气悬浮单元70上，且第1空气悬浮单元69从倾斜状态移行至水平状态。其次，如图14(B)所示，第2空气悬浮单元70从倾斜状态移行至水平状态后，与上述第2实施形态同样地，于基板保持框156保持基板Pb。在第2空气悬浮单元70成为水平状态时，控制成其上面的Z位置与第1空气悬浮单元69相同。其次，如图14(C)所示，保持有基板Pb的基板保持框156被往-X方向驱动，而从第2空气悬浮单元70上移动至第1空气悬浮单元69上。其后，进行对准测量、步进扫描方式的曝光处理。
根据本第3实施形态，在使基板保持框156从第1空气悬浮单元69上移动至第2空气悬浮单元70上时，由于系使基板Pb及第2空气悬浮单元70预先位于较基板保持框156低的位置、亦即从基板保持框156的移动路径脱离的位置，因此能防止基板保持框156的+X侧的Y框构件80Y冲撞或接触于基板Pb及第2空气悬浮单元70。
此外，第3实施形态中，虽第2空气悬浮单元70最初为倾斜，在基板交换时成为水平并上升，但亦可从最初即不使的倾斜(保持水平状态)而单纯上升。
《第4实施形态》
其次根据图15(A)及图15(B)说明第4实施形态。此处，系针对与前述第1实施形态相异的点进行说明，对与上述第1实施形态相同或同等的构件使用相同或类似的符号，简略或省略其说明。
本第4实施形态的液晶曝光装置中，如图15(A)所示，第1空气悬浮单元69可倾斜于θx方向，于第1空气悬浮单元69的+Y侧配置有第2及第3空气悬浮单元70、75。第4实施形态的液晶曝光装置所具有的基板交换装置150中，基板搬入装置150a于第2空气悬浮单元70的+Y侧具有连续于第2空气悬浮单元70的第4空气悬浮单元100。又，基板搬入装置150a，具有用以将基板从第4空气悬浮单元100搬送至第2空气悬浮单元70的基板进给装置(与上述第1～第3的各实施形态的基板进给装置73相同构成)，惟其图示省略。
第4实施形态的液晶曝光装置的基板交换时的动作，除了基板即基板保持框156的移动方向外与上述第3实施形态大致相同。不过，第4实施形态中系使第1空气悬浮单元69以第1空气悬浮单元69的+Y侧端部较-Y侧端部低的方式倾斜于θx方向。因此，在从基板保持框156搬出基板Pa时，不需使4个支承部82全部退离，只要仅使+Y侧的两个支承部82往+Y方向退离即可。接着，在搬出基板Pa时，系使第1空气悬浮单元69倾斜于θx方向以使基板Pa从-Y侧的两个支承部82离开。
第3及第4空气悬浮单元75、100，以分别倾斜于θx方向的状态个别搭载于台车102，而能行进于X轴方向。台车102藉由固定于架台104的延伸于X轴方向的导引构件106于X轴方向被直进导引。此外，台车102不限于X轴方向，亦可行进于例如Y轴方向。又，图15(B)中，搭载于台车102时的第3及第4空气悬浮单元75、100虽较基板交换时更大幅倾斜，但此倾斜角的大小未特别限定，能适当变更。
又，第4实施形态中，如图15(A)所示，于第3空气悬浮单元75的基板搬出方向下游侧的端部固定有按压基板端部的按压构件108，如图15(B)所示，藉以防止基板Pa从倾斜于θx方向的第3空气悬浮单元75滑落。同样地，于第4空气悬浮单元100的基板搬入方向上游侧的端部固定有按压构件108，如图15(B)所示，藉以防止基板Pb从倾斜于θx方向的第4空气悬浮单元100滑落。
第4实施形态中，如图15(A)所示，在搬出对象的基板Pa从第1空气悬浮单元69上搬送至第3空气悬浮单元75后，如图15(B)所示，支承基板Pa的第3空气悬浮单元75搭载于于其下方待机的台车102上。接着，该台车102移动至既定的X位置(与第1空气悬浮单元69相异的X位置)后，基板Pa从第3空气悬浮单元75上被搬出。接着，搭载有第3空气悬浮单元75的台车102移动至第2空气悬浮单元70下方(与第1空气悬浮单元69相同的X位置)，预备次一基板Pa的搬出。
另一方面，搬入对象的基板Pb在既定的X位置(与第1空气悬浮单元69相异的X位置)被搬入搭载于台车102的第4空气悬浮单元100上。接着，此台车102移动至第2空气悬浮单元70的斜下方(与第1空气悬浮单元69相同的X位置)。其次，第4空气悬浮单元100如图15(A)所示，从台车102上脱离，其位置被调整成其上面位于与第2空气悬浮单元70的上面相同平面上后，基板Pb从第4空气悬浮单元100上被搬送至第2空气悬浮单元70上。其后，基板Pb与上述第3实施形态同样地被基板保持框156保持，从第2空气悬浮单元70被搬送至第1空气悬浮单元69上。第4空气悬浮单元100搭载于在其下方待机的台车102后，移动至上述既定的X位置，预备次一基板Pb的搬入。
根据本第4实施形态，由于搬出对象的基板Pa系以支承于第3空气悬浮单元75的状态下依各第3空气悬浮单元75搭载于台车102，因此能迅速且简单地将基板Pa搬出至既定位置。又，由于搬入对象的基板Pb系在既定位置搬入搭载于台车102的第4空气悬浮单元100，因此能迅速地进行从第4空气悬浮单元100上往第2空气悬浮单元70上的基板Pb的搬送准备。
此外，本第4实施形态中，虽第3及第4空气悬浮单元75、100分别与台车102为另外构成，但例如第3及第4空气悬浮单元75、100的至少一方亦可于台车102支承为可于θx方向旋转。
此外，上述第1～第4的各实施形态的构成可适当变更。例如，基板交换装置虽在基板搬入时使基板水平移动，在基板搬出时使基板沿倾斜面移动，但亦可相反。此情形下，次一基板Pb系准备于第3空气悬浮单元75上。接着基板Pa从第1空气悬浮单元69上水平移动至第2空气悬浮单元70上而被搬出(亦可使用如上述第1实施形态的基板进给装置73，亦可使用如第2实施形态的基板保持框56)，其次基板Pb沿藉由第1及第3空气悬浮单元69、75的上面形成的倾斜面(移动面)被搬送(搬入)。
上述第1～第4的各实施形态中，虽使第1及第3空气悬浮单元69、75的各个倾斜成+X侧(或+Y侧)的Z位置较-X侧(或-Y侧)的Z位置低，但不限于此，亦可将基板搬出装置配置于基板搬入装置上方，并使第1及第3空气悬浮单元69、75的各个倾斜成-X侧(或-Y侧)的Z位置较+X侧(或+Y侧)的Z位置低。
上述第1～第4的各实施形态中，虽第2空气悬浮单元70与第3空气悬浮单元75系于上下方向重迭配置，但例如亦可将第2空气悬浮单元70配置于第1空气悬浮单元69的+X侧，将第3空气悬浮单元75配置于第1空气悬浮单元69的+Y侧(或-Y侧)。此情形下，第1空气悬浮单元69系旋转于θx方向而将曝光完毕的基板从基板保持框搬出至第3空气悬浮单元75，从第2空气悬浮单元70将未曝光的基板搬入基板保持框内。又，亦可将第3空气悬浮单元75配置于第1空气悬浮单元69的+X侧，将第2空气悬浮单元75配置于第1空气悬浮单元69的+Y侧(或-Y侧)。此情形下，第1空气悬浮单元69系旋转于θy方向而将曝光完毕的基板从基板保持框搬出至第3空气悬浮单元75，从第2空气悬浮单元70将未曝光的基板搬入基板保持框内。
上述第1～第4的各实施形态中，虽在图5(A)～图5(C)解除基板保持框对基板的保持时，将第1空气悬浮单元69往上方驱动，但亦可在基板保持框将支承部82构成为能上下移动，藉由使支撑部82上下移动而将基板从支承部82移交至第1空气悬浮单元69。
上述第3及第4的各实施形态中，虽使第2空气悬浮单元70的位置位于从基板保持框156的移动路径脱离的位置，但亦可取代此或另外进一步地，例如藉由使基板保持框156的Z位置为能调整，来防止基板保持框156与基板Pb及第2空气悬浮单元70的冲撞或接触。
上述第1～第4的各实施形态中，虽使第1空气悬浮单元69上升而在使基板Pa从支承部82离开的状态下使支承部82退离，但只要基板Pa与支承部82间的摩擦抵抗低(亦即不致使基板受损的摩擦抵抗)亦可不使第1空气悬浮单元69上升而在基板Pa与支承部82抵接的状态下使支承部82退离。
上述第1及第2的各实施形态中，虽在使第1空气悬浮单元69从倾斜状态成为水平状态后，将第2空气悬浮单元70上的基板Pb搬入第1空气悬浮单元69上的基板保持框56或将在第2空气悬浮单元70上保持于基板保持框56的基板Pb依各基板保持框56搬送至第1空气悬浮单元69上，但并不限于此，例如亦可藉由在使第1空气悬浮单元69成为倾斜状态下将支承基板Pb的第2空气悬浮单元70往第1空气悬浮单元69上搬送，以将基板Pb搬入基板保持框56内。
《第5实施形态》
其次，根据图16～图22说明第5实施形态。此处，系对与上述第1实施形态相同或同等的构件使用相同或类似的符号，简略或省略其说明。
图16系概略显示第5实施形态的液晶曝光装置110的构成，图17显示液晶曝光装置110所具有的基板载台装置的俯视图。比较图16及图17与图1及图2可知，液晶曝光装置110整体与液晶曝光装置10相同构成。不过，液晶曝光装置110中，如图16及图17所示，系设有与前述第3及第4实施形态的液晶曝光装置所具有的基板保持框相同的由俯视矩形框状构件构成的基板保持框156，与此对应地，基板交换装置的构成等与前述第1实施形态的曝光装置10一部分相异。以下，以与前述第1实施形态相异点为中心进行说明。
首先，最初说明基板保持框156。
如图18所示，基板保持框156包含由俯视矩形的框状构件构成的本体部180与从下方支承基板P的复数个、例如4个的支承部82。本体部180具有一对X框构件80X与一对Y框构件80Y。一对X框构件80X分别由以X轴方向方向为长度方向的平行于XY平面的板状构件构成，于Y轴方向以既定间隔(较基板P的Y轴方向尺寸长之间隔)彼此平行配置。一对Y框构件80Y由以Y轴方向为长度方向的平行于XY平面的板状构件构成，于X轴方向以既定间隔(较基板P的X轴方向尺寸宽广之间隔)彼此平行配置。+X侧的Y框构件80Y连结一对X框构件80X的+X侧端部彼此，-X侧的Y框构件80Y连结一对X框构件80X的-X侧端部彼此。于-Y侧的X框构件80X的-Y侧侧面安装有具有正交于Y轴的反射面的Y移动镜84Y，于-X侧的Y框构件80Y的-X侧侧面安装有具有正交于X轴的反射面的X移动镜84X。
4个支承部82中的2个以于X轴方向分离既定间隔(较基板P的X轴方向尺寸狭窄之间隔)的状态安装于-Y侧的X框构件80X，其他2个以于X轴方向分离既定间隔的状态安装于+Y侧的X框构件80X。各支承部82由YZ剖面L字形的构件构成(参照图19(A))，藉由平行于XY平面的部分从下方支承基板P。4个支承部82的各个与前述第1实施形态同样地构成，如图19(B)及图19(C)所示，能透过Y致动器42(参照图7)相对安装有该等的X框构件80X移动于接近及离开的方向。
如上述构成的基板保持框156如图18所示，以一对X框构件80X与一对Y框构件80Y包围基板P外周的状态藉由4个支承部82均等地支承基板P的例如四角(参照图18)。因此，基板保持框156能平衡良好地保持基板P。
本第5实施形态的液晶曝光装置110中，第1空气悬浮单元69系与前述第1实施形态相同的构成，同样地，在复数个Z线性致动器74被同步驱动(控制)，例如8台空气悬浮装置54的上面平行于水平面的状态下移动于垂直方向(参照图19(A)～图19(C))。又，第1空气悬浮单元69，藉由复数个Z线性致动器74被适当驱动(控制)，而能如图20(A)所示，将其姿势改变为+X侧的Z位置较-X侧的Z位置低的状态(上面相对水平面倾斜于θy方向的状态)。以下，第1空气悬浮单元69的姿势中，将例如8台空气悬浮装置54上面平行于水平面的状态称为水平状态，将例如8台空气悬浮装置54的上面相对水平面于θy方向倾斜第1角度(例如15°)及较第1角度小的第2角度(例如5°)的状态分别称为第1倾斜状态及第2倾斜状态。
本第5实施形态的基板交换装置50’如图17所示配置于定盘12的+X侧。基板交换装置50’如图20(A)所示，具备基板搬入装置50a与配置于基板搬入装置50a下方的基板搬出装置50b(图17中因隐藏于基板搬入装置50a下方而未图示)。
基板搬入装置50a具备具有与第1空气悬浮单元69相同的构成及功能的第2空气悬浮单元70。亦即，第2空气悬浮单元70具有搭载于底座构件71上的复数(例如8台)的空气悬浮装置99(参照图17)。第2空气悬浮单元70所具有的例如8台空气悬浮装置99的上面，系以+X侧的Z位置较-X侧的Z位置低的方式相对水平面(XY平面)于θy方向倾斜上述第2角度(例如5°)。又，在图20(A)所示的状态、亦即基板保持框156位于第1空气悬浮单元69上的状态下，第2空气悬浮单元70位于基板保持框156的+X侧的斜下方的既定位置。此既定位置及上述第1角度，设定为在载置于第2空气悬浮单元70的基板P如后述般沿第2空气悬浮单元70上面搬入基板保持框156内时基板P会通过+X侧的Y框构件80Y下方而插入一对X框构件80X间。
又，基板搬入装置50a如图20(B)所示，具有与前述第1实施形态的基板搬入装置50a同样地构成的包含皮带73a的基板进给装置73(图20(B)以外的其他图并未图示)。基板搬入装置50a，在于第2空气悬浮单元70上载置有基板P的状态下驱动皮带73a后，即藉由垫73c按压基板P，而沿例如8台空气悬浮装置99的上面移动(将基板P从第2空气悬浮单元70往第1空气悬浮单元69上压出)。
返回图20(A)，基板搬出装置50b具备具有与上述第1空气悬浮单元69相同的构成及功能的第3空气悬浮单元75。亦即，第3空气悬浮单元75具有搭载于底座构件68上的复数、例如8台空气悬浮装置99。第3空气悬浮单元75所具有的例如8台空气悬浮装置99的上面以+X侧的Z位置较-X侧的Z位置低的方式相对水平面于θy方向倾斜上述第1角度(例如15°)。又，基板搬出装置50b如图20(B)所示具有与上述基板搬入装置50a的基板进给装置73相同构成的基板进给装置73。基板搬出装置50b，藉由在垫73c与基板P抵接的状态下控制皮带73a的速度，基板P即因自重，沿例如8台空气悬浮装置99上面移动(滑降)时的速度即被控制。
以上述方式构成的液晶曝光装置110(参照图16)，系在主控制装置20(参照图7)的管理下，藉由未图示的掩膜装载器将掩膜M装载于掩膜载台MST，以及藉由基板搬入装置50a(图16中未图示，参照图17)将基板P装载于基板载台装置PST。其后，藉由主控制装置20使用未图示的对准检测系统执行对准测量，在对准测量结束后，即进行步进扫描方式的曝光动作。
上述曝光动作时的基板载台装置PST的动作，由于与前述第1实施形态的液晶曝光装置10相同，因此省略其说明。
本实施形态的液晶曝光装置110，在上述步进扫描方式的曝光动作结束后，曝光完毕的基板P系从基板保持框156被搬出，其他基板P被搬入基板保持框156，藉此进行基板保持框156所保持的基板P的交换。此基板P的交换，系在主控制装置20的管理下进行。以下，根据图21(A)～图21(D)说明基板P的交换动作一例。图21(A)～图21(D)中，基板进给装置73(参照图20(B))等的图示系省略。又，将从基板保持框156搬出的搬出对象的基板称为Pa，将其次搬入基板保持框156的搬入对象称为Pb来说明。如图21(A)所示，基板Pb载置于基板搬入装置50a的第2空气悬浮单元70上。
在曝光处理结束后，基板Pa，藉由驱动基板保持框156而如图21(A)所示位于第1空气悬浮单元69上。此时，如图19(A)所示，基板保持框156的Y轴方向的位置被定位成第1空气悬浮单元69的空气悬浮装置54不位于基板保持框156的支承部82下方(于上下方向不重迭)。其后，解除基板保持框156对基板Pa的吸附，如图19(B)所示，第1空气悬浮单元69往+Z方向被微幅驱动。藉此，基板Pa与支承部82分离，在此状态下，如图19(C)所示支承部82被驱动于从基板Pa分离的方向。
其次，主控制装置20，如图21(B)所示控制第1空气悬浮单元69的姿势以使第1空气悬浮单元69成为上述第1倾斜状态。此时，主控制装置20系将复数个Z线性致动器74(参照图16)控制成第1空气悬浮单元69上面位于与第3空气悬浮单元75上面相同的平面上。又，主控制装置20系在第1空气悬浮单元69的姿势变化前使挡件76(参照图20(A))较空气悬浮装置99上面往上方突出，以防止基板P沿第1空气悬浮单元69上面滑落。又，主控制装置20系使第3空气悬浮单元75的基板进给装置73(图21(B)中未图示，参照图20(B))所具有的垫73c位于基板Pa的+X侧端部附近。
又，主控制装置20系与使上述第1空气悬浮单元69的姿势变化的动作并行地，控制基板搬入装置50a的基板进给装置73(图21(B)中未图示，参照图20(B))使搬入对象的基板Pb往-X方向移动微少量。
主控制装置20，如图21(B)所示在第1空气悬浮单元69上面位于与第3空气悬浮单元75上面相同的平面上后即停止第1空气悬浮单元69的姿势控制，其后使挡件76(参照图20(A))位于较空气悬浮装置99上面下方。藉此，基板Pa的+X侧端部(搬出方向前端部)抵接于第3空气悬浮单元75的垫73c(参照图20(B))。
其次，主控制装置20，如图21(C)所示使用基板搬出装置50b的基板进给装置73(参照图20(B))将基板Pa从第1空气悬浮单元69上沿藉由第1及第3空气悬浮单元69、75的上面形成的倾斜面(移动面)搬送至第3空气悬浮单元75上。亦即，基板Pa从基板保持框156内被往其+X侧斜下方搬出。搬送至第3空气悬浮单元75上的基板Pa，藉由未图示的基板搬送装置搬送至例如涂布显影机装置等外部装置。
又，在搬出对象的基板Pa被移交至第3空气悬浮单元75后，主控制装置20如图21(D)所示使第1空气悬浮单元69的姿势从上述第1倾斜状态移行至上述第2倾斜状态。此时，主控制装置20系将复数个Z线性致动器74(参照图16)控制成第1空气悬浮单元69的上面位于与第2空气悬浮单元70的上面相同的平面上。其后，使用基板搬入装置50a的基板进给装置73(参照图20(B))将搬入对象的基板Pb从第2空气悬浮单元70上沿藉由第1及第2空气悬浮单元69、70的上面形成的倾斜面(移动面)搬送至第1空气悬浮单元69上。在此搬送时，如图22所示，基板Pb通过+Y侧的Y框构件80Y下方插入一对X框构件80X间。亦即，基板Pb从基板保持框156的+X侧的斜下方搬入基板保持框156内。接着，第1空气悬浮单元69的姿势从上述第2倾斜状态移行至上述水平状态后，以与图19(A)～图19(C)相反的顺序(图19(C)～图19(A)的顺序)使基板Pb保持于基板保持框156。本实施形态的液晶曝光装置10中，藉由反复进行上述图21(A)～图21(D)所示的基板的交换动作，而对复数个基板连续进行曝光动作等。
如以上所说明，根据本第5实施形态的液晶曝光装置110，能得到与前述的第1实施形态同等的效果。又，本第5实施形态中，虽系使用以包围基板四方(外周)的状态保持该基板的基板保持框156，但由于系将基板Pb从基板保持框156的斜下方的上述既定位置以上述第2角度往基板保持框156内搬入，因此能使基板Pb不接触于基板保持框156即搬入基板保持框156内。又，由于系将基板Pa往上述既定位置的下方且以相对水平面较上述第2角度大的上述第1角度从基板保持框156内搬出，因此能使基板Pa不接触于基板保持框156即从基板保持框156内搬出。
《第6实施形态》
其次，根据图23(A)～图23(C)说明第6实施形态。此处，系针对与前述第5实施形态相异的点进行说明，对与上述第5实施形态相同或同等的构件使用相同或类似的符号，简略或省略其说明。
相较于上述第5实施形态中，将基板Pa从基板保持框156内往其+X侧斜下方搬出且将基板Pb从基板保持框156的+X侧的斜下方搬入基板保持框156内，本第6实施形态中，系将基板Pa从基板保持框156内往其+Y侧斜下方搬出且将基板Pb从基板保持框156的+Y侧的斜下方搬入基板保持框156内。
本第6实施形态的液晶曝光装置，第1空气悬浮单元69能藉由复数个Z线性致动器74(参照图16)上下移动，且如图23(A)～图23(C)所示，姿势被变更为上述水平状态(参照上述第5实施形态)、以+Y侧较-Y侧低的方式相对水平面往θx方向倾斜既定角度(例如5°)的第3倾斜状态、以及以+Y侧较-Y侧高的方式相对水平面往θx方向倾斜既定角度(例如5°)的第4倾斜状态。又，第2空气悬浮单元70系于位于第1空气悬浮单元69上的基板保持框156的+Y侧斜上方，以+Y侧较-Y侧高的方式相对水平面往θx方向倾斜既定角度(例如5°)的状态被配置。又，第3空气悬浮单元70系于位于第1空气悬浮单元69上的基板保持框156的+Y侧斜下方，以+Y侧较-Y侧低的方式相对水平面往θx方向倾斜既定角度(例如5°)的状态被配置。
又，于第2空气悬浮单元70的-Y侧端部(基板搬入方向下游侧的端部)设有与第1空气悬浮单元69的挡件76相同的挡件，除了基板搬入时以外，防止基板Pb从第2空气悬浮单元70上滑落，在基板搬入时，容许从第2空气悬浮单元70上往第1空气悬浮单元69上的基板Pb的移动。
第6实施形态中，在基板交换时，解除在第1空气悬浮单元69上基板保持框156对基板Pa的吸附保持后，如图23(A)所示，第1空气悬浮单元69从上述水平状态移行至上述第3倾斜状态。此时，与上述第5实施形态同样地，第1空气悬浮单元69的上面位于与第3空气悬浮单元75上面相同的平面上。其后，如图23(B)所示，基板Pa与上述第5实施形态同样地从第1空气悬浮单元69上被搬送至第3空气悬浮单元75上。其次，如图23(C)所示，第1空气悬浮单元69从上述第3倾斜状态移行至上述第4倾斜状态。此时，与上述第5实施形态同样地，第1空气悬浮单元69的上面位于与第2空气悬浮单元70上面相同的平面上。其后，搬入对象的基板Pb与上述第5实施形态同样地，从第2空气悬浮单元70上被搬送至第1空气悬浮单元69上。其次，第1空气悬浮单元69从上述第4倾斜状态移行至上述水平状态后，以与图19(A)～图19(C)相反的顺序将基板Pb保持于基板保持框156。接着，保持有基板Pb的基板保持框156被往-X侧驱动。其后，进行对准测量、步进扫描方式的曝光处理。
如以上所说明，根据本第6实施形态的液晶曝光装置，由于系将基板Pa从基板保持框156内往斜下方搬出，且将基板Pb从斜上方搬入基板保持框156内，因此不论在基板Pa的搬出及基板Pb的搬入的任一者时，均能利用基板的自重，减低基板搬入装置50a及基板搬出装置50b双方的基板进给装置73的驱动负荷。
《第7实施形态》
其次，根据图24(A)及图24(B)说明第7实施形态。此处，系针对与前述第5实施形态相异的点进行说明，对与上述第5实施形态及第4实施形态相同或同等的构件使用相同或类似的符号，简略或省略其说明。
本第7实施形态相较于上述第5实施形态，其差异点在于系将基板Pa从基板保持框156内往其+Y侧的斜下方搬出及将基板Pb从基板保持框156的+Y侧的斜下方搬入基板保持框156内。
本第7实施形态中，如图24(A)所示，第1空气悬浮单元69能藉由复数个Z线性致动器74(参照图16)上下移动，且能姿势变更为上述水平状态(参照上述第5实施形态)、上述第3倾斜状态(参照上述第6实施形态)、以及以+Y侧较-Y侧低的方式相对水平面往θx方向倾斜既定角度(例如15°)的状态。
又，第7实施形态中，第2空气悬浮单元70系于位于第1空气悬浮单元69上的基板保持框156的+Y侧斜下方，以+Y侧较-Y侧低的方式相对水平面往θx方向倾斜既定角度(例如5°)的状态被配置。第3空气悬浮单元70系于第2空气悬浮单元70下方，以+Y侧较-Y侧低的方式相对水平面往θx方向倾斜既定角度(例如15°)的状态被配置。
又，第7实施形态的基板交换装置150，由于系与前述第4实施形态的基板交换装置相同的构成，因此省略其构成的详细说明。
本第7实施形态的液晶曝光装置的基板交换时的动作，除了基板搬送方向以外均与上述第5实施形态相同。不过，第7实施形态中系使第1空气悬浮单元69以第1空气悬浮单元69的+Y侧端部较-Y侧端部低的方式倾斜于θx方向。因此，在从基板保持框156搬出基板Pa时，不需使4个支承部82全部退离，只要仅使+Y侧的两个支承部82往+Y方向退离即可。接着，在搬出基板Pa时，系使第1空气悬浮单元69倾斜于θx方向以使基板Pa从-Y侧的两个支承部82离开。
本第7实施形态中，在基板交换时，如图24(A)所示，与上述第5实施形态同样地，基板Pa从第1空气悬浮单元69上被搬送至第3空气悬浮单元75上后，如图24(B)所示，支承基板Pa的第3空气悬浮单元75积载于于其下方待机的台车102上。接着，该台车102移动至既定的X位置(与第1空气悬浮单元69相异的X位置)后，基板Pa从第3空气悬浮单元75上被搬出。接着，搭载有第3空气悬浮单元75的台车102移动至第2空气悬浮单元70下方(与第1空气悬浮单元69相同的X位置)，预备次一基板Pa的搬出。
另一方面，搬入对象的基板Pb在既定的X位置(与第1空气悬浮单元69相异的X位置)被搬入搭载于台车102的第4空气悬浮单元100上。接着，此台车102移动至第2空气悬浮单元70的斜下方(与第1空气悬浮单元69相同的X位置)。其次，第4空气悬浮单元100如图24(A)所示，藉由例如未图示的起重机装置等从台车102上脱离，其位置被调整成其上面位于与第2空气悬浮单元70的上面相同平面上后，基板Pb从第4空气悬浮单元100上被搬送至第2空气悬浮单元70上，而沿以第2空气悬浮单元70的上面与第4空气悬浮单元100的上面形成的倾斜面被搬送。其后，基板Pb与上述第5实施形态同样地从第2空气悬浮单元70上被搬送至第1空气悬浮单元69上。第4空气悬浮单元100积载于在其下方待机的台车102后，移动至上述既定的X位置，预备次一基板Pb的搬入。
如以上所说明，根据本第7实施形态，由于搬出对象的基板Pa系以支承于第3空气悬浮单元75的状态下依各第3空气悬浮单元75积载于台车102，因此能迅速且简单地将支承于第3空气悬浮单元75的基板Pa搬出至既定位置。又，由于搬入对象的基板Pb系在既定位置支承于搭载于台车102的第4空气悬浮单元100，因此能迅速地进行从第4空气悬浮单元100上往第2空气悬浮单元70上的基板Pb的搬送准备。
此外，本第7实施形态中，虽第3及第4空气悬浮单元75、100分别与台车102为另外构成，但例如第3及第4空气悬浮单元75、100的至少一方亦可于台车102支承为可于θx方向旋转。
此外，上述第5～第7的各实施形态的构成可适当变更。例如，上述第5及第7的各实施形态中，基板交换装置50’或150在基板搬出时与基板搬入时系将基板以相异角度搬送，但亦可以相同的角度搬送。具体而言，系将第2空气悬浮单元70与第3空气悬浮单元75往θy方向(或θx方向)倾斜配置成各自的上面的+X侧较-X侧低(或+Y侧较-Y侧低)且互相平行。接着，在基板搬出时将第1空气悬浮单元69的姿势及位置控制成其上面位于与第3空气悬浮单元75的上面相同平面，在基板搬入时将第1空气悬浮单元69的姿势及位置控制成其上面位于与第2空气悬浮单元70的上面相同平面上。
上述第5及第7的各实施形态中，基板交换装置50’或150系从第1空气悬浮单元69上往斜下方搬出基板且从斜下方将基板搬入第1空气悬浮单元69上，但亦可取代此方式，例如从斜上方将基板搬入第1空气悬浮单元69上且从斜上方将基板搬入第1空气悬浮单元69上。具体而言，系将第2及第3空气悬浮单元70、75于第1空气悬浮单元69的+X侧(或+Y侧)的斜上方相对水平面往θy方向(或θx方向)倾斜配置成+X侧较-X侧高(或+Y侧较-Y侧高)且互相平行。此时的第2及第3空气悬浮单元70、75相对水平面的倾斜角度亦可相异或相同。又，由于从第1空气悬浮单元69上往第3空气悬浮单元75上的基板搬送为反重力，因此亦可取代第3空气悬浮单元75而于第1空气悬浮单元69设置例如与基板进给装置73相同的基板进给装置(未图示)等。接着，在基板搬出时，系使第1空气悬浮单元69的上面位于与第3空气悬浮单元75的上面相同平面上后，使用基板进给装置将基板从第1空气悬浮单元69上搬出至第3空气悬浮单元75上。在基板搬入时，系与上述第6实施形态同样地，将基板Pb从第2空气悬浮单元70上搬送至第1空气悬浮单元69上。
上述第5及第7的各实施形态中，基板交换装置50’或150虽系从第1空气悬浮单元69上将基板以相对水平面为较大的倾斜角度(例如15°)搬出，且将基板以相对水平面为较小的倾斜角度(例如5°)搬入第1空气悬浮单元69上，但亦可相反。
上述第6实施形态中，基板交换装置50’虽系在第1空气悬浮单元69与第2及第3空气悬浮单元70、75的各个之间将基板以相对水平面为相同角度(例如5°)搬送，但亦可以相异的角度搬送。
上述第6实施形态中，基板交换装置50’虽系从第1空气悬浮单元69上往斜下方搬出基板且从上方将基板搬入第1空气悬浮单元69上，但亦可相反。具体而言，系从第1空气悬浮单元69上将基板搬出至第2空气悬浮单元70上，从第3空气悬浮单元75上将基板搬入第1空气悬浮单元69上。此时，由于将基板以反重力搬送，因此需于第1空气悬浮单元69设置与基板进给装置73相同的基板进给装置，且从第1空气悬浮单元69侧往第2空气悬浮单元70侧按压基板。
上述第5～第7的各实施形态中，虽在图19(A)～图19(C)解除基板的吸附保持时，系将第1空气悬浮单元69往上方驱动，但亦可在基板保持框156将支承部82构成为能上下移动，藉由使支承部82上下移动而将基板从支承部82移交至第1空气悬浮单元69。
上述第5～第7的各实施形态中，虽使第1空气悬浮单元69上升而在使基板Pa从支承部82离开的状态下使支承部82退离，但只要基板Pa与支承部82间的摩擦抵抗低(亦即不致使基板受损的摩擦抵抗)亦可不使第1空气悬浮单元69上升而在基板Pa与支承部82抵接的状态下使支承部82退离。
上述第5及第7的各实施形态中，系使位于其上面较第1空气悬浮单元69上面略低的位置的第2空气悬浮单元70下方的第3空气悬浮单元75的上面，较第2空气悬浮单元70上面相对水平面大幅倾斜。因此，仅使第1空气悬浮单元69旋动于绕延伸于Y轴方向(或X轴方向)的既定轴线旋动，即能使第1空气悬浮单元69的上面位于与第2及第3空气悬浮单元70、75各自的上面相同平面上。因此，在不使第1空气悬浮单元69上下移动亦可的构成的情形(例如基板与支承部间的摩擦抵抗较低的情形或采用使支承部82相对本体部180上下移动的构成的情形)，亦可采用仅使第1空气悬浮单元69以延伸于Y轴方向(或X轴方向)的既定轴构件为支点而旋动的构成。此情形下，第1空气悬浮单元69的控制系容易。
上述第6实施形态中，第2空气悬浮单元70系于第1空气悬浮单元69的+X侧且为包含处于上述水平状态的第1空气悬浮单元69上面的水平面的上方，以其上面的+Y侧较-Y侧高的方式往θx方向倾斜配置。又，第3空气悬浮单元75系于第1空气悬浮单元69的+X侧且为包含处于上述水平状态的第1空气悬浮单元69上面的水平面的下方，以其上面的+Y侧较-Y侧低的方式往θx方向倾斜配置。因此，只要使第2及第3空气悬浮单元70、75各自的上面成为相对水平面(包含处于上述水平状态的第1空气悬浮单元69上面)为对称的位置关系，仅使第1空气悬浮单元69旋动于绕延伸于Y轴方向(X轴方向)的既定轴线旋动，即能使第1空气悬浮单元69的上面位于与第2及第3空气悬浮单元70、75各自的上面相同平面上。因此，在不使第1空气悬浮单元69上下移动亦可的构成的情形(例如基板与支承部间的摩擦抵抗较低的情形或采用使支承部82相对本体部180上下移动的构成的情形)，亦可采用仅使第1空气悬浮单元69以延伸于Y轴方向(或X轴方向)的既定轴构件为支点而旋动的构成。此情形下，能缩小在第1空气悬浮单元69与第2空气悬浮单元70之间、以及第1空气悬浮单元69与第3空气悬浮单元75之间的基板相对水平面的搬送角度，不论在搬入及搬出基板时的任一者，均能减小基板因自重移动时的加速度，其速度的控制系容易。
上述第5～第7的各实施形态中，虽第2空气悬浮单元70与第3空气悬浮单元75系于上下方向重迭配置，但例如亦可将第2空气悬浮单元70配置于第1空气悬浮单元69的+X侧，将第3空气悬浮单元75配置于第1空气悬浮单元69的+Y侧(或-Y侧)。此情形下，第1空气悬浮单元69系倾斜于θx方向而将曝光完毕的基板从基板保持框156搬出至第3空气悬浮单元75，第1空气悬浮单元69系倾斜于θy方向而从第2空气悬浮单元70将未曝光的基板搬入基板保持框156内。又，亦可将第3空气悬浮单元75配置于第1空气悬浮单元69的+X侧，将第2空气悬浮单元75配置于第1空气悬浮单元69的+Y侧(或-Y侧)。此情形下，第1空气悬浮单元69系倾斜于θy方向而将曝光完毕的基板从基板保持框156搬出至第3空气悬浮单元75，第1空气悬浮单元69系倾斜于θx方向而从第2空气悬浮单元70将未曝光的基板搬入基板保持框156内。
上述第5～第7的各实施形态中，基板保持框156的形状虽作成沿基板外周配置的俯视矩形框状，但并不限于此，亦可系例如俯视菱形框状、俯视椭圆框状等的沿基板外周配置的形状。又，基板保持框156亦可系例如俯视U字状等的沿基板外周一部分配置的形状。
上述第5～第7的各实施形态的基板交换装置中，虽基板的搬出路径与搬入路径系沿相异的平面，但亦可沿相同平面。以下说明具体例。如图25(A)所示，基板交换装置250中，系将基板搬出装置50b的第3空气悬浮单元75于基板保持框156的+Y侧斜下方、将基板搬入装置50a的第2空气悬浮单元70于基板保持框156的-Y侧斜上方，以该等的上面的+Y侧较-Y侧低且彼此位于相同平面上的方式，相对水平面倾斜于θx方向来配置。接着，如图25(B)所示，在使第1空气悬浮单元69的上面位于与第2及第3空气悬浮单元70、75各自的上面相同的平面上后，如图13(C)所示，将基板Pa沿此平面从第1空气悬浮单元69上搬送至第3空气悬浮单元75，且将基板Pb沿此平面从第2空气悬浮单元70上搬入第1空气悬浮单元69上。是以，能并行(同步)进行基板的搬出与搬入，而能极迅速地进行第1空气悬浮单元69上的基板交换。
此外，上述第1～第7的各实施形态中，虽设有在使第1空气悬浮单元69倾斜时的基板滑落的挡件76，但并不限于此，例如亦能构成为使第1空气悬浮单元69的空气悬浮装置能喷出气体且吸引气体，而使基板藉由真空吸附保持于此空气悬浮装置。
上述第1～第7的各实施形态中，虽设有用以将基板Pa从第1空气悬浮单元69上搬送至第3空气悬浮单元75上的基板进给装置73，但亦可取代此，而例如使基板Pa藉由其自重从第1空气悬浮单元69上滑动至第3空气悬浮单元75上。此情形下，最好系于第3空气悬浮单元75的基板搬出方向下游侧的端部设置挡件以防止基板从第3空气悬浮单元75上脱落，且使第3空气悬浮单元75相对XY平面的倾斜角度尽可能小以抑制基板与挡件冲撞时的冲击变大。
《第8实施形态》
其次，根据图26～图30说明第8实施形态。此处，对与上述第1实施形态相同或同等的构件使用相同或类似的符号，简略或省略其说明。
图26系概略显示本第8实施形态的液晶曝光装置210的构成，图27显示液晶曝光装置210所具有的基板载台装置的俯视图。
比较图26及图27与图1及图2可知，本第8实施形态的液晶曝光装置210除了基板交换装置250以外，其余系与前述的第1实施形态的曝光装置10相同的构成。
本第8实施形态的液晶曝光装置210，第1空气悬浮单元69系与第1实施形态相同的构成，同样地，藉由复数个Z线性致动器74被同步驱动(控制)，能在例如8台空气悬浮装置54的上面位于相同水平面的状态下移动于垂直方向(参照图28(A)～图28(C))。以下，第1空气悬浮单元69的姿势中，将例如8台空气悬浮装置54上面(第1空气悬浮单元69的上面)位于与定盘12的其他空气悬浮装置54的上面相同水平面上时的第1空气悬浮单元69的Z位置称为第1位置。
本第8实施形态的基板交换装置250，系在与第1空气悬浮单元69之间进行基板的交换的装置，如图29(A)所示，具备基板搬入装置50a与配置于基板搬入装置50a上方的基板搬出装置50b。
基板搬入装置50a于第1空气悬浮单元69的+X侧具备具有与第1空气悬浮单元69相同的构成及功能的第2空气悬浮单元70。亦即，第2空气悬浮单元70具有搭载于底座构件68上的复数(例如8台)的空气悬浮装置99。第2空气悬浮单元70所具有的例如8台空气悬浮装置99的上面，系以图29(A)所示的状态、亦即第1空气悬浮单元69位于上述第1位置的状态位于与第1空气悬浮单元69所具有的例如8台空气悬浮装置54上面(第1空气悬浮单元69上面)相同水平面上。
又，基板搬入装置50a如图29(A)及图29(B)所示，具有与前述第1实施形态的基板搬入装置50a同样地构成的包含皮带73a的基板进给装置73(图29(A)及图29(B)以外的其他图并未图示)。基板搬入装置50a，在于第2空气悬浮单元70上载置有基板P的状态下驱动皮带73a后，即藉由垫73c按压基板P，而沿例如8台空气悬浮装置99的上面移动(将基板P从第2空气悬浮单元70往第1空气悬浮单元69上压出)。
基板搬出装置50b于第2空气悬浮单元70上方(第1空气悬浮单元69的+X侧斜上方)具备具有与上述第1空气悬浮单元69相同的构成及功能的第3空气悬浮单元75。亦即，第3空气悬浮单元75具有搭载于底座构件68上的复数、例如8台空气悬浮装置99(参照图27)。第3空气悬浮单元75所具有的例如8台空气悬浮装置99的上面位于相同水平面上。第3空气悬浮单元75其上面的高度设定为如后述的位于较基板保持框56高的既定位置(后述的第2位置)的第1空气悬浮单元69上面相同高度(参照图30(B))。又，基板搬出装置50b，系于位于后述第2位置的第1空气悬浮单元69(参照图30(B))的+Y侧及-Y侧(或复数个空气悬浮装置54之间)等具有与上述基板搬入装置50a的基板进给装置73相同构成的基板进给装置73(参照图29(B))。
以上述方式构成的本第8实施形态的液晶曝光装置210，与第1实施形态的液晶曝光装置10同样地，系在主控制装置20(参照图7)的管理下，进行藉由未图示的掩膜装载器将掩膜M装载于掩膜载台MST、及藉由基板搬入装置50a将基板P装载于基板载台装置PST、以及对准测量等的准备作业后，即进行步进扫描方式的曝光动作。
本第8实施形态的液晶曝光装置210，在上述步进扫描方式的曝光动作结束后，曝光完毕的基板P系从基板保持框56被搬出，其他基板P被搬入基板保持框56，藉此进行基板保持框56所保持的基板P的交换。此基板P的交换，系在主控制装置20的管理下进行。以下，根据图30(A)～图30(D)说明基板P的交换动作一例。此外，为了简化图式，图30(A)～图30(D)中，基板进给装置73(参照图29(A)及图29(B))等的图示系省略。又，将从基板保持框56搬出的搬出对象的基板称为Pa，将其次搬入基板保持框56的搬入对象称为Pb来说明。如图29(A)所示，基板Pb于基板搬入装置50a的第2空气悬浮单元70上，以其+X侧端部(基板搬入方向上游侧的端部)抵接于基板搬入装置50a的基板进给装置73的垫73c的状态下被载置。又，在此状态下，基板Pb被进行在第2空气悬浮单元70上的位置调整，而在Y轴方向位于基板保持框56的一对X框构件80X各自之间。
在曝光处理结束后，基板Pa，藉由于与XY平面平行的方向驱动基板保持框56，而如图30(A)所示于第1空气悬浮单元69上移动。此时，如图28(C)所示，基板保持框56的Y轴方向的位置被定位成基板保持框56的支承部82不位于第1空气悬浮单元69上方(于上下方向不重迭)，且如图30(A)所示，基板保持框56的X轴方向的位置被定位成基板保持框56的Y框构件80Y不位于第1空气悬浮单元69上方(于上下方向不重迭)。其后，解除基板保持框156对基板Pa的吸附，第1空气悬浮单元69往+Z方向被驱动。此时，支承基板Pa的第1空气悬浮单元69系不接触基板保持框56地通过基板保持框56内(一对X框构件80X间)(参照图28(B))。接着，如图30(B)所示，在第1空气悬浮单元69上面成为与第3空气悬浮单元75上面相同高度时，第1空气悬浮单元69即停止。以下，将第1空气悬浮单元69上面成为与第3空气悬浮单元75上面相同高度时的第1空气悬浮单元69的Z位置称为第2位置。
此处，如图29(A)所示，基板搬出装置50b的基板进给装置73，在第1空气悬浮单元69上升前，该垫73c的X位置被调整成较基板Pa的-X侧端部略靠-X侧。主控制装置20藉由基板搬出装置50b的基板进给装置73，将基板Pa从第1空气悬浮单元69上沿以第1空气悬浮单元69上面与第3空气悬浮单元75上面形成的水平面(移动面)搬送至第3空气悬浮单元75上。主控制装置20如图30(C)所示，在基板Pa整体位于第3空气悬浮单元75上的前，系将第1空气悬浮单元69驱动于-Z方向而使的位于上述第1位置，并藉由基板搬入装置50a的基板进给装置73将基板Pb往-X方向送出。藉此，如图30(D)所示，基板Pb从第2空气悬浮单元70上沿以第1空气悬浮单元69上面与第2空气悬浮单元70上面形成的水平面(移动面)搬送至第1空气悬浮单元69上。此处，在此搬送前，如图28(A)所示，+Y侧的两个支承部82及-Y侧的两个支承部82分别往+Y方向及-Y方向退离(位于上述退离位置)，基板Pb在不接触于支承部82的状态下在第1空气悬浮单元69上被搬入基板保持框56内(一对X框构件80X间)。此外，被搬送至第3空气悬浮单元75上的基板Pa，藉由未图示的基板搬送装置搬送至例如涂布显影机装置等外部装置。
其次，主控制装置20，如图28(B)所示使支承基板Pb的第1空气悬浮单元69上升微小量后，将+Y侧的两个支承部82及-Y侧的两个支承部82分别往-Y方向及+Y方向驱动而使的位于上述支承位置。接着，主控制装置20如图28(C)所示，使支承基板Pb的第1空气悬浮单元69下降，使基板Pb支承于第1空气悬浮单元69且支承于4个支承部82后，使基板Pb真空吸附于4个支承部82而保持于基板保持框56。其后，进行对准测量、步进扫描方式的曝光处理。
如上所述，本第8实施形态的液晶曝光装置210，藉由反复进行上述图30(A)～图30(D)所示的基板交换动作，来对复数个基板连续进行曝光动作等。
如以上所说明，根据本第8实施形态的液晶曝光装置210，能得到与前述的第1实施形态同等的效果。又，根据本实施形态，系将第2及第3空气悬浮单元70、75于上下重迭配置，而能仅以使第1空气悬浮单元69相对第2及第3空气悬浮单元70、75上下移动的简易构成，在第1及第2空气悬浮单元69、70间、以及在第1及第3空气悬浮单元69、75间进行基板的搬送。而且，由于仅要使第1空气悬浮单元69在上述第1及第2位置的两位置间上下移动即可，因此其控制系简单。
又，第2空气悬浮单元70的上面由于位于与位于上述第1位置的第1空气悬浮单元69上面相同高度，因此在从第2空气悬浮单元70上将基板搬送(搬入)至第1空气悬浮单元69上后，能不使第1空气悬浮单元69上下移动即开始曝光处理。亦即，能从基板搬入动作迅速地移行至曝光动作。
又，在基板交换时，由于基板保持框56位于相对第1空气悬浮单元69于上下不重迭的位置，因此在使第1空气悬浮单元69上下移动时，不需使基板保持框56退离。
《第9实施形态》
其次，根据图31(A)～图31(E)说明第9实施形态。此处，系针对与前述第8实施形态相异的点进行说明，对与上述第8实施形态相同或同等的构件使用相同或类似的符号，简略或省略其说明。
相较于上述第8实施形态中基板搬入装置50a藉由基板进给装置73将基板Pb搬送至基板保持框56，本第9实施形态的液晶曝光装置，如图31(A)～图31(C)所示，系将基板保持框56驱动至基板搬入装置50a的第2空气悬浮单元70上，在第2空气悬浮单元70上将基板Pb移交至基板保持框56。因此，虽未图示，用以将基板保持框56驱动于X轴方向的X线性马达的固定子，较第1实施形态设定为于+X侧长既定长度。又，基板搬入装置50a不具有基板进给装置73。
第9实施形态的基板交换装置250中，基板搬入装置50a的第2空气悬浮单元70配置于第1空气悬浮单元69的+X侧，基板搬出装置50b的第3空气悬浮单元75配置于第2空气悬浮单元70下方(第1空气悬浮单元69的+X侧斜下方)。第2空气悬浮单元70的上面位于与位于上述第1位置的第1空气悬浮单元69上面相同高度。
第9实施形态的基板交换装置，在基板交换时，首先与上述第8实施形态同样地，在位于上述第1位置的第1空气悬浮单元69上解除基板保持框56对基板Pa的保持(参照图31(A))。其次，第1空气悬浮单元69下降，且基板保持框56藉由X线性马达93(参照图7)而被往+X方向驱动(参照图31(B))。此处，在基板保持框56被往+X方向驱动前，如图28(A)所示，4个支承部82位于上述退离位置，基板保持框56在不接触于基板Pb的状态下将基板Pb插入该一对X框构件80X间同时从第1空气悬浮单元69上移动至第2空气悬浮单元70上。另一方面，在第1空气悬浮单元69上面位于与第3空气悬浮单元75上面相同高度后，基板Pa与上述第8实施形态同样地从第1空气悬浮单元69上被搬送至第3空气悬浮单元75上(参照图31(C))。
此处，虽未图示，但第2空气悬浮单元70构成为能微幅驱动于上下方向，基板Pb与上述第8实施形态同样地被保持于移动至(位于)第2空气悬浮单元70上的基板保持框56。接着，在基板Pa移动至第3空气悬浮单元75后(更详细言的，系基板Pa从第1空气悬浮单元69上脱离后)，第1空气悬浮单元69上升而位于上述第1位置，且保持有基板Pb的基板保持框56被往-X侧驱动，基板Pb沿藉由第2空气悬浮单元70上面与第1空气悬浮单元69上面形成的水平面(移动面)从第2空气悬浮单元70上搬送至第1空气悬浮单元69上(参照图31(D))。搬送至第1空气悬浮单元69上的基板Pb与上述第1实施形态同样地被基板保持框56保持(参照图31(E))。其后，进行对准测量、步进扫描方式的曝光处理。此外，被搬送至第3空气悬浮单元75上的基板Pa，藉由未图示的基板搬送装置搬送至例如涂布显影机装置等外部装置。
根据本第9实施形态的液晶曝光装置，由于将基板Pb在第2空气悬浮单元70上保持于基板保持框56的状态下朝向第1空气悬浮单元69上搬送，因此与如上述第8实施形态使用皮带驱动式的情形相较能迅速地(上述第8实施形态中，由于系在XY方向不受拘束的状态下搬送因此难以高速搬送)使基板Pb移动。因此，能较上述第8实施形态缩短基板交换的循环时间。
又，相较于上述第8实施形态，能不变更基板保持框56的控制系统及测量系统而仅将X线性马达的固定子90于+X方向延长(亦即抑制成本上升)即能使基板保持框56移动至第2空气悬浮单元70上。又，于基板搬入装置50a不需设置基板进给装置73。
《第10实施形态》
其次，根据图32(A)～图32(C)说明第10实施形态。此处，系针对与前述第8实施形态相异的点进行说明，对与上述第8实施形态相同或同等的构件使用相同或类似的符号，简略或省略其说明。
本第10实施形态的液晶曝光装置，如图32(A)所示，具有前述基板保持框156作为基板保持框。基板保持框156刚性较基板保持框56高。基板保持框156以其一对X框构件80X与其一对Y框构件80Y包围基板P四方(外周)的状态藉由4个支承部82支承基板P。
又，第10实施形态，如图32(B)所示，第2空气悬浮单元70配置于其上面较基板保持框156高的位置。
第10实施形态的液晶曝光装置，在基板交换时，如图32(B)所示，与上述第8实施形态同样地在第1空气悬浮单元69上解除基板保持框156对基板Pa的保持后，支承基板Pa的第1空气悬浮单元69上升而位于上述第2位置。接着，基板Pa从第1空气悬浮单元69上被搬送至第3空气悬浮单元75上后，第1空气悬浮单元69下降。接着，如图32(C)所示，在第1空气悬浮单元69上面成为与第2空气悬浮单元70上面相同高度时(将此时的第1空气悬浮单元69的Z位置称为第3位置)，第1空气悬浮单元69即停止，而与上述第8实施形态同样地基板Pb从第2空气悬浮单元70上被搬送至第1空气悬浮单元69上。其次，支承基板Pb的第1空气悬浮单元69下降而位于上述第1位置，基板Pb与上述第8实施形态同样地保持于基板保持框156。其后，进行对准测量、步进扫描方式的曝光处理。此外，被搬送至第3空气悬浮单元75上的基板Pa，藉由未图示的基板搬送装置搬送至例如涂布显影机装置等外部装置。
如以上所说明，由于本第10实施形态与上述第8及第9的各实施形态相异，基板保持框156系以包围基板四方(外周)的状态保持基板，因此无法藉由使基板保持框156与基板于水平方向相对移动而直接将基板搬入基板保持框156内。因此，第10实施形态中，如上所述将第1及第2空气悬浮单元69、70间的基板搬送路径设定为从基板保持框156的Z位置脱离的位置，而能藉由使第1空气悬浮单元69相对基板保持框156上下移动，将基板搬入基板保持框156内。
《第11实施形态》
其次，根据图33(A)及图33(B)说明第11实施形态。相较于上述第8～第10的各实施形态中基板的搬入路径与搬出路径的高度相异，第11实施形态中，如图33(A)所示，基板的搬入路径与搬出路径的高度设定为相同高度。
第11实施形态的基板交换装置250中，如图33(A)所示，基板搬入装置50a的第2空气悬浮单元70及基板搬出装置50b的第3空气悬浮单元75，分别于基板保持框56的+Y侧及-Y侧的斜上方配置成各自的上面位于相同水平面上。
本第11实施形态的液晶曝光装置，在基板交换时，在位于上述第1位置的第1空气悬浮单元69上解除基板保持框56对基板Pa的保持后，使支承基板Pa的第1空气悬浮单元69(参照图33(A))上升，使第1空气悬浮单元69位于第2及第3空气悬浮单元70、75间而其上面与第2及第3空气悬浮单元70、75各自的上面成为相同高度(位于相同水平面上)(参照图33(B))。接着，在基板Pa与上述第8实施形态同样地从第1空气悬浮单元69上往第3空气悬浮单元75上开始搬送的同时，基板Pb与上述第8实施形态同样地从第2空气悬浮单元70上往第1空气悬浮单元69上开始搬送。此处，基板Pa及基板Pb的搬送速度设定为相同，基板Pa及基板Pb系保持一定间隔(基板Pb追随基板Pa)往相同方向(在图33(A)中为-Y方向)搬送。其次，支承基板Pb的第1空气悬浮单元69下降而位于上述第1位置，基板Pb与上述第8实施形态同样地保持于基板保持框56。其后，进行对准测量、步进扫描方式的曝光处理。此外，被搬送至第3空气悬浮单元75上的基板Pa，藉由未图示的基板搬送装置搬送至例如涂布显影机装置等外部装置。
根据第11实施形态的液晶曝光装置，由于在基板交换时第1空气悬浮单元69位于与第2及第3空气悬浮单元70、75两者相邻的位置，因此能并行地(同步)进行从第1空气悬浮单元69上往第3空气悬浮单元75的基板搬出及从第2空气悬浮单元70上往第1空气悬浮单元69上的基板搬入。因此，能极迅速地进行在第1空气悬浮单元69与基板交换装置50之间的基板交换。
此外，上述第8～第11的各实施形态的构成能适当变更。例如，上述第8～第10的各实施形态中，基板交换装置50虽系在第1空气悬浮单元69位于上述第1位置(或上述第3位置)时搬入基板，在位于上述第2位置时搬出基板，但亦可相反。此情形下，次一基板Pb准备于第3空气悬浮单元75上。接着，基板Pa从第1空气悬浮单元69上往第2空气悬浮单元70上水平移动搬出(使用如上述第8及第10实施形态的基板进给装置73，或如上述第9实施形态使用基板保持框56)，其次基板Pb沿藉由第1及第3空气悬浮单元69、75各自的上面形成的水平面(移动面)被搬送(搬入)。此外，上述第8及第9的各实施形态中，在基板Pa与支承部82之间的摩擦抵抗较高时，亦可例如以图28(C)～图28(A)的顺序使支承部82退离后，将基板Pa从第1空气悬浮单元69上往第2空气悬浮单元70上搬送。藉此，防止基板Pa受损。
上述第8及第10的各实施形态中，虽第3空气悬浮单元75配置于第2空气悬浮单元70上方，但亦可配置于下方。此情形下，上述第8实施形态中，由于无须使第1空气悬浮单元69的上面位于较基板保持框高的位置，因此基板保持框与第1空气悬浮单元69上下重迭亦无妨。因此，提升基板保持框的设计及基板保持框对第1空气悬浮单元69的配置的自由度。不过，此情形下，在使支承基板的第1空气悬浮单元69相对基板保持框56上下移动时，需先使支承部82退离。
上述第9实施形态中，第3空气悬浮单元75虽配置于第2空气悬浮单元70下方，但亦可配置于上方。此情形下，例如首先在上述第1位置使支承基板Pa的第1空气悬浮单元69上升而位于上述第2位置，且将基板保持框56往+X方向驱动而位于第2空气悬浮单元70上。此情形下，第1空气悬浮单元69的上下移动机构部，亦可构成为与基板保持框56不干涉地从上垂吊。其次，基板Pa从第1空气悬浮单元69上被搬出至第3空气悬浮单元75上，而在第2空气悬浮单元70上基板Pb保持于基板保持框56。其后，第1空气悬浮单元69下降而位于上述第1位置，且保持基板Pb的基板保持框56被往-X方向驱动而基板Pb从第2空气悬浮单元70上搬入至第1空气悬浮单元69上。
上述第10实施形态中，第2及第3空气悬浮单元70、75各自的上面虽位于较基板保持框156高的位置，但亦可位于较第1空气悬浮单元69低的位置(更详言的，当于第2及第3空气悬浮单元70、75的上面载置有基板时，该基板的Z位置较基板保持框156低的位置)。此情形下，由于无需使第1空气悬浮单元69的上面位于较基板保持框高的位置，因此基板保持框与第1空气悬浮单元69上下重迭亦无妨。因此，提升基板保持框的设计及基板保持框对第1空气悬浮单元69的配置的自由度。不过，在使支承基板的第1空气悬浮单元69相对基板保持框56上下移动时，需先使支承部82退离。
虽上述第8～第10的各实施形态中，第2空气悬浮单元70与第3空气悬浮单元75系于上下方向重迭配置(基板Pa及基板Pb被往在Z轴方向分离的彼此平行的一对水平轴方向各一侧及另一侧搬送)，但例如亦可第2空气悬浮单元70于第1空气悬浮单元69的+X侧且第3空气悬浮单元75于第1空气悬浮单元69的+Y侧(或-Y侧)配置成第2及第3空气悬浮单元70、75各自的上面的高度相异。此情形下，搬入对象的基板Pb被往-X方向搬送，搬出对象的基板Pa在与基板Pa相异的Z位置被往+Y方向(或-Y方向)搬送。亦即，基板Pa及基板Pb被往在俯视下彼此正交的方向搬送。又，亦可第3空气悬浮单元75于第1空气悬浮单元69的+X侧且第2空气悬浮单元70于第1空气悬浮单元69的+Y侧(或-Y侧)配置成第2及第3空气悬浮单元70、75各自的上面的高度相异。此情形下，基板Pb被往-Y方向(或+Y方向)搬送，基板Pa被往+X方向搬送。亦即，基板Pa及基板Pb被往在俯视下彼此正交的方向搬送。此外，上述情形下，在将基板搬送于Y轴方向时，需将第2或第3空气悬浮单元70、75的Z位置设定成能在从基板保持框(X框构件80X)的Z位置脱离的高度搬送基板。
上述第11实施形态中，虽基板的搬入及搬出方向为-Y方向，但例如亦可系+Y方向、+X方向或-X方向。当将基板的搬入及搬出方向设为+X方向或-X方向时，例如使第2及第3空气悬浮单元70、75的一方位于第1空气悬浮单元69的+X侧斜上方，使另一方位于第1空气悬浮单元69的-X侧斜上方，且将基板保持框56的Y框构件80Y固定于例如一对X框构件80X各自的上面等，而能将基板从对基板保持框56的X轴方向两侧搬入及搬出。
上述第11实施形态中，虽第2及第3空气悬浮单元70、75均配置于位于上述第1位置的第1空气悬浮单元69斜上方，但亦可配置于例如位于上述第1位置的第1空气悬浮单元69斜下方。此情形下，由于无需使第1空气悬浮单元69的上面位于基板保持框56上方，因此提升基板保持框的设计及对第1空气悬浮单元69的配置的自由度。
上述第11实施形态中，虽第2及第3空气悬浮单元70、75配置于第1空气悬浮单元69的+Y侧及-Y侧、亦即于Y轴方向分离配置(基板Pa及基板Pb往相同方向(例如-Y方向)移动)，但例如亦可第2空气悬浮单元70于第1空气悬浮单元69的+X侧且第3空气悬浮单元75于第1空气悬浮单元69的+Y侧(或-Y侧)配置成第2及第3空气悬浮单元70、75各自的上面的高度相同。此情形下，基板Pa被往+Y方向(或-Y方向)搬送，基板Pb在与基板Pa相同的Z位置被往-X方向搬送。亦即，基板Pa及基板Pb被往在俯视下彼此正交的方向搬送。又，亦可第3空气悬浮单元75于第1空气悬浮单元69的+X侧且第2空气悬浮单元70于第1空气悬浮单元69的+Y侧(或-Y侧)配置成第2及第3空气悬浮单元70、75各自的上面的高度相同。此情形下，基板Pa被往+X方向搬送，基板Pb在与基板Pa相同的Z位置被往-Y方向或+Y方向搬送。亦即，基板Pa及基板Pb被往彼此正交的方向搬送。
上述第8～第11的各实施形态中，虽在藉由基板保持框保持基板时，系使第1空气悬浮单元69上下移动(参照图28(A)～图28(C))或使第2空气悬浮单元70上下移动，但亦可在基板保持框将支承部82构成为能上下移动，且藉由使支承部82上下移动而使基板保持于基板保持框。
上述第8～第11的各实施形态中，虽在藉由基板保持框保持基板时，系使第1空气悬浮单元69上下移动或使第2空气悬浮单元70上下移动，但亦可取代此方式，例如使第1空气悬浮单元69或第2空气悬浮单元70的基板的悬浮量增减。
上述第10实施形态中，虽系将第2空气悬浮单元70配置成支承于其上面的基板Pb的Z位置为从基板保持框156的Z位置脱离的高度，但亦可取代此方式，例如使基板保持框156为可上下移动，且与上述第8及第9的各实施形态同样地使第2空气悬浮单元70上面位于与位于上述第1位置的第1空气悬浮单元69上面相同高度。藉此，使基板保持框156位于从第2空气悬浮单元70上的基板Pb的Z位置脱离的高度，而能使基板Pb从第2空气悬浮单元70上往位于上述第1位置的第1空气悬浮单元69上移动。
上述第8实施形态中，第3空气悬浮单元75上面虽位于与位于较基板保持框56高的位置的第1空气悬浮单元69上面相同的高度，但亦可取代此方式，使第3空气悬浮单元75上面位于与于基板保持框56内(一对X框构件80X间)处于插通状态的第1空气悬浮单元69上面相同高度。此情形下，系在第1空气悬浮单元69插通于基板保持框56的状态下第1空气悬浮单元69上面位于与第3空气悬浮单元75上面相同高度后，基板从第1空气悬浮单元69上被搬送至第3空气悬浮单元75上。因此，由于能缩短第1空气悬浮单元69的Z轴方向的移动行程，因此能在第1空气悬浮单元69与基板交换装置250之间迅速地交换基板。
上述第11实施形态中，第2及第3空气悬浮单元70、75各自的上面虽位于与位于较基板保持框56高的位置的第1空气悬浮单元69上面相同的高度，但亦可取代此方式，使第2及第3空气悬浮单元70、75各自的上面位于与于基板保持框56处于插通状态的第1空气悬浮单元69上面相同高度。藉此，由于能缩短第1空气悬浮单元69的Z轴方向的移动行程，因此能在第1空气悬浮单元69与基板交换装置250之间迅速地交换基板。
上述第9实施形态中，虽基板Pb在被基板保持框56保持的状态下搬入至第1空气悬浮单元69上，但亦可取代此方式，将基板Pa在被基板保持框56保持的状态下从第1空气悬浮单元69上搬出。此情形下，例如于第3空气悬浮单元75上准备基板Pb，在位于上述第1位置的第1空气悬浮单元69上保持基板Pa的基板保持框56被搬送至第2空气悬浮单元70上后，第1空气悬浮单元69即下降而位于上述第2位置。其次，在第2空气悬浮单元70上解除基板Pa的保持，且基板Pb从第3空气悬浮单元75上搬入第1空气悬浮单元69上。接着，在基板保持框56被搬送至第1空气悬浮单元69上后，支承基板Pb的第1空气悬浮单元69即上升而位于上述第1位置而基板Pb位于基板保持框56内。
上述第8及第9的各实施形态中，虽藉由仅使基板Pb往基板保持框水平移动或使基板保持框往基板Pb水平移动，而使基板Pb位于基板保持框内，但亦可取代此方式，例如使第1空气悬浮单元69上升或下降而位于从基板Pb及第2空气悬浮单元70的Z位置脱离的位置后，使支承基板Pb的第2空气悬浮单元70往基板保持框水平移动以使基板Pb位于基板保持框内。
上述第8～第11的各实施形态中，虽第1空气悬浮单元69一边被维持成其上面为水平一边被驱动于上下方向(垂直方向)，但并不限于此，例如亦可将第1空气悬浮单元69一边将其上面维持成水平一边驱动于相对水平面的倾斜方向(与水平面交叉的方向)。
上述第11实施形态中，虽使搬出对象的基板Pa与搬入对象的基板Pb的搬送开始时点为相同，但亦可错开。例如在使基板Pa的搬送开始时点较基板Pb早时，最好使基板Pb的搬送速度较基板Pa快(以追不上基板Pa的程度)。另一方面，例如在使基板Pa的搬送开始时点较基板Pb晚时，需将基板Pa的搬送速度设为基板Pb的搬送速度以上(以追不上基板Pb的程度)。
上述第11实施形态中，虽使基板Pa与基板Pb的搬送速度相同，但亦可使的相异。不过，基板Pa与基板Pb的搬送速度根据基板Pa与基板Pb的搬送开始时点、基板Pa与基板Pb起初之间隔设定为基板Pb无法追上基板Pa。
《第12实施形态》
其次，根据图34～图40(C)说明第12实施形态。此处，系对与上述第1实施形态相同或同等的构件使用相同或类似的符号，简略或省略其说明。
图34系概略显示本第12实施形态的液晶曝光装置310构成。
液晶曝光装置310与前述第1实施形态的液晶曝光装置10相异点在于，系取代前述的基板交换装置50而设有基板交换装置350(参照图35)，对应于此，取代藉由前述的复数个Z线性致动器74而上下移动的第1空气悬浮单元69而设有后述的第1空气悬浮单元169，以及取代基板保持框56而设有基板保持框256，且空气悬浮装置54的配置及数目亦相异，其他部分的构成则与液晶曝光装置10相同。以下，以相异点为中心进行说明。
如图35所示，复数个(例如34台)的空气悬浮装置54系从下方以非接触方式将基板P(不过系除了保持于定点载台52(参照图36)的基板P的被曝光部位以外的区域)支承成基板P与水平面大致平行。
本第12实施形态中，于Y轴方向以既定间隔排列的8台的空气悬浮装置54所构成的空气悬浮装置群系于X轴方向以既定间隔配置有4列。以下，为了说明方便，将构成空气悬浮装置群的8台空气悬浮装置54从-Y侧起称为第1～第8台。又，为了说明方便，将4列空气悬浮装置群从-X侧依序称为第1～第4列。又，于第2列的空气悬浮装置群与第3列的空气悬浮装置群之间，系有Y柱36通过，于搭载于该Y柱36上的定点载台52的+Y侧及-Y侧分别配置有各1台空气悬浮装置54。
复数个空气悬浮装置54均系藉由从其上面喷出加压气体(例如空气)而以非接触方式支承基板P，以防止基板P在沿XY平面移动时基板P的下面受损。此外，复数个空气悬浮装置54各自的上面与基板P下面间的距离，设定为较前述定点载台52的空气夹头装置62上面与基板P下面间的距离长(参照图34)。将复数个空气悬浮装置群中第3列及第4列各自的空气悬浮装置54的第3～6台空气悬浮装置54(合计8台空气悬浮装置54)总称为第1空气悬浮装置群81，将第1列及第2列各自的空气悬浮装置54的第3～6台空气悬浮装置54(合计8台空气悬浮装置54)总称为第2空气悬浮装置群83。又，将第1及第2空气悬浮装置群81、83合称为第1空气悬浮单元169。复数个(例如34台)的空气悬浮装置54如图34及图36所示，均透过各两支的柱状支承构件72于定盘12上固定成其上面位于彼此相同的水平面上。亦即，第1空气悬浮单元169无法上下移动。
基板保持框256，如图37(A)所示，包含由俯视矩形的框状构件构成的本体部280与从下方支承基板P的复数个、例如为4个的支承部82。本体部280具有一对X框构件80X与一对Y框构件80Y。一对X框构件80X由以X轴方向为长度方向的平行于XY平面的板状构件构成，于Y轴方向以既定间隔(较基板P的Y轴方向尺寸宽广之间隔)彼此平行配置。一对Y框构件80Y均由以Y轴方向为长度方向的平行于XY平面的板状构件构成，于X轴方向以既定间隔(较基板P的X轴方向尺寸宽广之间隔)彼此平行配置。如图36及图37(A)所示，+X侧的Y框构件80Y固定于一对X框构件80X各自的+X侧端部的上面，-X侧的Y框构件80Y固定于一对X框构件80X各自的-X侧端部的上面。如此，基板保持框256中，一对X框构件80X藉由一对Y框构件80Y连结。如图37(A)所示，于-Y侧的X框构件80X的-Y侧侧面安装有具有正交于Y轴的反射面的Y移动镜84Y，于-X侧的Y框构件80Y的-X侧侧面安装有具有正交于X轴的反射面的X移动镜84X。
4个支承部82中的2个以于X轴方向分离既定间隔(较基板P的X轴方向尺寸狭窄之间隔)的状态安装于-Y侧的X框构件80X，其他2个以于X轴方向分离既定间隔的状态安装于+Y侧的X框构件80X。支承部82由YZ剖面L字形的构件构成(参照图38(A))，藉由平行于XY平面的部分从下方支承基板P。支承部82，于与基板P的对向面具有未图示的吸附垫，以例如真空吸附保持基板P。4个支承部82分别透过未图示的Z致动器(以Z轴方向为驱动方向的致动器)安装于+Y侧或-Y侧X框构件80X。藉此，4个支承部82，如图38(A)及图38(B)所示，能相对安装有该等的X框构件80X移动于上下方向。Z致动器包含例如线性马达、气缸等。
如以上构成的基板保持框256，如图37(A)所示，藉由在俯视下以该一对X框构件80X及一对Y框构件80Y包围基板P四方(外周)的状态藉由4个支承部82均等地支承基板P的例如四角。因此，基板保持框256能将基板P以良好平衡性保持。
基板保持框256、亦即基板P在XY平面内(包含θz方向)的位置信息如图35所示，藉由包含对X移动镜84X照射测距光束的X干涉仪65X及对Y移动镜84Y照射测距光束的Y干涉仪65Y的基板干涉仪系统求出。
比较图37(A)及图37(B)与图4(A)及图4(B)后可知，将基板保持框256于X轴方向及Y轴方向以既定行程(沿XY平面)驱动(及于θz方向微幅驱动)的驱动单元58的构成与前述第1实施形态相同。因此，本第12实施形态的驱动单元58的详细说明系省略。
基板交换装置350如图35所示，系在与第1空气悬浮单元169之间进行基板交换的装置，包含基板搬入装置50a及基板搬出装置50b。
基板搬入装置50a于第2空气悬浮装置群83的-X侧具有包含与第1及第2空气悬浮装置群81、83的各个相同构成的空气悬浮装置群的第2空气悬浮单元70。基板搬出装置50b，于第2空气悬浮装置群83的+X侧具有包含与第1及第2空气悬浮装置群81、83的各个相同构成的空气悬浮装置群的第3空气悬浮单元75。亦即，第2及第3空气悬浮单元70、75分别具有搭载于底座构件68(由与XY平面平行的平板状构件构成)上的复数台、例如8台的空气悬浮装置99(参照图35)。此外，空气悬浮装置99系与空气悬浮装置54实质上相同者。第3空气悬浮单元75所具有的例如8台空气悬浮装置99的上面，如图39(A)及图39(B)所示位于与构成第1空气悬浮装置群81的例如8台的空气悬浮装置54上面(第1空气悬浮装置群81的上面)相同水平面上。同样地，第2空气悬浮单元70所具有的例如8台空气悬浮装置99的上面，位于与构成第2空气悬浮装置群83的例如8台的空气悬浮装置54上面(第2空气悬浮装置群83的上面)相同水平面上。
又，如图39(A)及图39(B)所示，基板搬出装置50b具有包含皮带73a的基板进给装置73(图39(A)及图39(B)外的其他图并未图示)。皮带73a卷挂于一对滑轮73b，藉由一对滑轮73b被旋转驱动而被驱动。于皮带73a上面固定有垫73c。
基板进给装置73设为能藉由未图示的升降装置相对第1空气悬浮装置群81上下移动。详言的，基板进给装置73能在固定于皮带73a上面的垫73c较第1空气悬浮装置群81上面往上方突出的上方移动极限位置(参照图39(B))与垫73c较第1空气悬浮装置群81上面位于下方的下方移动极限位置(参照图39(A))之间上下移动。此外，上述皮带73a及滑轮73b例如配置于第1空气悬浮装置群81的+Y侧及-Y侧(或者复数个空气悬浮装置54之间)等，基板进给装置73能不接触于第1空气悬浮装置群81地上下移动。
基板搬出装置50b，在基板P载置于第1空气悬浮装置群81上的状态下驱动位于上述上方移动极限位置的基板进给装置73(参照图39(B))的皮带73a后，即藉由垫73c按压基板P，而使的沿第1空气悬浮装置群81上面移动(将基板P从第1空气悬浮装置群81上压出至第3空气悬浮单元75上)。此外，虽图示省略，但基板搬入装置50a亦具有与基板搬出装置50b的基板进给装置73相同构成的基板进给装置(未图示)。
以上述方式构成的液晶曝光装置310(参照图34)，系在主控制装置20(参照图7)的管理下，藉由未图示的掩膜装载器将掩膜M装载于掩膜载台MST，以及藉由基板搬入装置50a(图34中未图示，参照图35)将基板P装载于基板载台装置PST。其后，藉由主控制装置20使用未图示的对准检测系统执行对准测量，在对准测量结束后，即进行步进扫描方式的曝光动作。
上述的曝光动作时的基板载台装置PST的动作由于与前述的第1实施形态的液晶曝光装置10相同，因此其说明省略。
本实施形态的液晶曝光装置310，在上述步进扫描方式的曝光动作结束后，曝光完毕的基板P系从基板保持框256被搬出，其他基板P被搬入基板保持框256，藉此进行基板保持框256所保持的基板P的交换。此基板P的交换，系在主控制装置20的管理下进行。以下，根据图40(A)～图40(C)说明基板P的交换动作一例。此外，为了简化图式，图40(A)～图40(C)中，基板进给装置73(参照图39(A)及图39(B))等的图示系省略。又，将从基板保持框256搬出的搬出对象的基板称为Pa，将其次搬入基板保持框256的搬入对象称为Pb来说明。基板Pb于基板搬入装置50a的第2空气悬浮单元70上，以其+X侧端部(基板搬入方向上游侧的端部)抵接于基板搬入装置50a的基板进给装置73的垫(未图示)的状态下被载置。又，在此状态下，基板Pb被进行在第2空气悬浮单元70上的位置调整，而在Y轴方向位于基板保持框256的+Y侧支承部82及-Y侧支承部82的各自与XY平面正交的部分之间。又，基板搬入装置50a及基板搬出装置50b各自的基板进给装置，均位于上述下方移动极限位置(参照图39(A))。在此状态下，于基板搬出装置50b，如图39(A)所示，该垫73c的位置被调整成其X位置位于较基板Pa的-X侧端部略靠-X侧。
在曝光处理结束后，基板Pa，藉由于与XY平面平行的方向驱动基板保持框256，而如图40(A)所示于第1空气悬浮单元69上移动。此时，如图40(A)及图38(A)所示，基板保持框256的Y轴方向的位置被定位成其4个支承部82不位于第1空气悬浮单元69上方(于上下方向不重迭)。其次，解除基板保持框256的4个支承部82对基板P的吸附保持，且基板搬入装置50a及基板搬出装置50b各自的基板进给装置从上述下方移动极限位置上升至上述上方移动极限位置。此后，如图38(B)所示，在基板保持框256中4个支承部82相对本体部280被往下方驱动而从基板Pa离开。此后，如图40(A)所示，基板Pa被基板搬出装置50b的基板进给装置73(参照图39(B))往+X方向驱动，而沿以第1空气悬浮装置群81的上面与第3空气悬浮单元75的上面形成的水平面(移动面)从第1空气悬浮装置群81上被搬送往第3空气悬浮单元75上，且基板保持框256被驱动单元58往-X方向驱动。又，与此同时地，基板Pb被基板搬入装置50a的基板进给装置往+X方向驱动，而沿以第2空气悬浮单元70的上面与第2空气悬浮装置群83的上面形成的水平面(移动面)从第2空气悬浮单元70上被搬送往第2空气悬浮装置群83上。基板保持框256在位于第2空气悬浮装置群83上时停止。
此外，基板保持框256中，由于如上所述一对Y框构件80Y配置于一对X框构件80X上(参照图38(A))，因此容许基板对基板保持框256于X轴方向的通过。因此，在如上述般，基板Pa与基板保持框256于X轴方向(于彼此分离的方向)相对移动时，基板Pa系通过基板保持框256的+X侧的Y框构件80Y下方而从一对X框构件80X间脱离。又，在如上述般，基板Pb与基板保持框256于X轴方向(于彼此接近的方向)相对移动时，基板Pb系通过基板保持框256的-X侧的Y框构件80Y下方而插入一对X框构件80X间。
在基板Pb及基板保持框256位于第2空气悬浮装置群83上的状态下(参照图40(C))，基板Pb如图38(B)所示，位于基板保持框256的+Y侧及-Y侧的支承部82的各自与XY平面正交的部分间。此处，4个支承部82相对本体部280被往上方驱动，基板Pb藉由被4个支承部82支承及真空吸附而保持于基板保持框256(参照图38(A))。其后，其后，进行对准测量、步进扫描方式的曝光处理。又，于已对第1空气悬浮装置群81移交了基板Pb的第2空气悬浮单元70上，载置次一基板Pb。此外，由于在此曝光处理前，基板搬入装置50a及基板搬出装置50b的基板进给装置系从上述上方移动极限位置下降至上述下方移动极限位置，因此不会有因基板进给装置妨碍曝光处理时的基板载台装置PST的动作的情形。又，搬送至第3空气悬浮单元75上的基板Pa藉由未图示的基板搬送装置搬送至例如涂布显影机装置等外部装置。
如上所述，本第12实施形态的液晶曝光装置310，藉由反复进行上述图40(A)～图40(C)所示的基板的交换动作，而对复数个基板连续进行曝光动作等。
如以上所说明，根据本第12实施形态的液晶曝光装置310，能得到与前述的第1实施形态同等的效果。又，藉由液晶曝光装置310，由于系使第2及第3空气悬浮单元70、75的上面位于与相邻于第2及第3空气悬浮单元70、75的第1空气悬浮单元169的上面相同的高度，因此仅使位于第1空气悬浮单元169上的基板Pa往第3空气悬浮单元75上水平移动即能从第1空气悬浮单元169上搬出，仅使位于第2空气悬浮单元70上的基板Pb往第1空气悬浮单元169上水平移动即能搬入第1空气悬浮单元169上。
亦即，由于基板Pa在曝光处理时系从支承基板的第1空气悬浮单元169上水平移动而直接搬出至第3空气悬浮单元75上，基板Pb系从第2空气悬浮单元70上水平移动而直接搬入至第1空气悬浮单元169上，因此能在短时间进行曝光处理动作与基板交换动作。
在基板搬出时，由于系在支承基板Pa的第1空气悬浮装置群81上使支承部82从基板Pa离开后，将基板Pa搬送至第3空气悬浮单元75上，因此可防止基板Pa受损。
《第13实施形态》
其次，根据图41(A)～图41(D)说明第13实施形态。此处，系针对与前述第12实施形态相异的点进行说明，对与上述第12实施形态相同或同等的构件使用相同或类似的符号，简略或省略其说明。
相较于上述第12实施形态中基板的搬入路径与搬出路径设定为相同高度，第13实施形态中，基板的搬入路径与搬出路径设定为相异高度。
第13实施形态的基板交换装置250’中，如图41(A)～图41(D)所示，第2及第3空气悬浮单元70、75系于第1空气悬浮装置群81的+X侧以上下分离既定距离的状态配置，且能藉由未图示的升降装置一体上下移动。以下，将第2及第3空气悬浮单元70、75合并称为空气悬浮单元对85来说明。空气悬浮单元对85中，第3空气悬浮单元75位于第2空气悬浮单元70上方，第2及第3空气悬浮单元70、75的上面均为水平。
在图41(A)所示状态下，于空气悬浮单元对85中第3空气悬浮单元75的上面位于与第1空气悬浮装置群81上面相同高度(将此时的空气悬浮单元对85的Z位置称为第1位置)。
本第13实施形态的液晶曝光装置，在基板交换时，首先在第1空气悬浮装置群81上与上述第12实施形态同样地解除基板保持框256对基板Pa的保持(参照图41(A))。其次，基板Pa从第1空气悬浮装置群81上往第3空气悬浮单元75上与上述第12实施形态同样地被搬送(参照图41(B))。接着，在基板Pa位于第3空气悬浮单元75上后(更详言的，基板Pa整体通过基板保持框256的+X侧Y框构件80Y下方后)，空气悬浮单元对85上升而第2空气悬浮单元70的上面在成为与第1空气悬浮装置群81上面相同高度时停止(参照图41(C)，将此时的空气悬浮单元对85的Z位置称为第2位置)。其后，基板Pb从第2空气悬浮单元70上往第1空气悬浮装置群81上沿着以第2空气悬浮单元70上面与第1空气悬浮装置群81上面形成的水平面(移动面)被搬送(参照图41(D))。此时，基板Pb一边被插入基板保持框256的+Y侧及-Y侧的支承部82正交于XY平面的部分间、一边被搬送。位于第1空气悬浮装置群81上的基板Pb与上述第12实施形态同样地保持于基板保持框256。其后，进行对准测量、步进扫描方式的曝光处理。于已将基板Pb移交至第1空气悬浮装置群81的第2空气悬浮单元70上载置次一基板Pb。又，位于第3空气悬浮单元75上的基板Pa藉由未图示的基板搬送装置搬送至例如涂布显影机装置等外部装置。其后，空气悬浮单元对85下降而位于上述第1位置，预备次一基板Pa的搬出。
根据本第13实施形态的液晶曝光装置，由于第2及第3空气悬浮单元70、75于第1空气悬浮装置群81(定盘12)的+X侧排列配置于上下，因此与第2及第3空气悬浮单元70、75各自配置于定盘12的+X侧及-X侧的上述第12实施形态相较，能缩短液晶曝光装置整体的X轴方向尺寸。
又，以仅使由第2及第3空气悬浮单元70、75构成的空气悬浮单元对85相对第1空气悬浮装置群81上下移动的简易构成，即能在第1空气悬浮装置群81与第2空气悬浮单元70之间、以及第1空气悬浮装置群81与第3空气悬浮单元75之间进行基板的搬送。而且，由于仅单纯使空气悬浮单元对85在Z轴方向的两位置间上下移动即可，其控制为简单。
又，由于在基板Pa位于第1空气悬浮装置群81上时，第3空气悬浮单元75上面位于与第1空气悬浮装置群81上面相同高度，因此能将基板Pa从第1空气悬浮装置群81上水平移动而直接搬送至第3空气悬浮单元75上。亦即，能从曝光动作立即移行至基板搬出动作。
此外，本第13实施形态中，由于基板保持框256具有+X侧的Y框构件80Y，因此无法使空气悬浮单元对85上升至基板P整体通过+X侧的Y框构件80Y下方。因此，例如亦可将基板保持框作成自基板保持框256去除+X侧Y框构件80Y的构成(俯视U字形的构成)。此种情形下，能在基板P的搬送中使空气悬浮单元对85上升。接着，亦可配合空气悬浮单元对85的上升开始基板Pb的搬入动作。藉此，能将基板对基板保持框256的搬出动作与搬入动作一部分并行地进行，能缩短基板交换的循环时间。
《第14实施形态》
其次，根据图42(A)及图42(B)说明第14实施形态。此处，系针对与前述第12实施形态相异的点进行说明，对与上述第12实施形态相同或同等的构件使用相同或类似的符号，简略或省略其说明。
相较于上述第12实施形态中使基板保持框256移动于X轴方向(扫描方向)而进行基板对基板保持框256的搬入，第14实施形态中，系使基板保持框256移动于Y轴方向方向(步进方向)而进行基板对基板保持框256的搬入。以下，将第3列及第4列的空气悬浮装置群各自的第5～第8台的空气悬浮装置54(合计8台空气悬浮装置54)总称为第3空气悬浮装置群87，将第3列及第4列空气悬浮装置54各自的第1～4台空气悬浮装置54(合计8台空气悬浮装置54)总称为第4空气悬浮装置群83，将第3及第4空气悬浮装置群87、89合称为第1空气悬浮单元269。
本第14实施形态的基板交换装置450，第2及第3空气悬浮单元70、75如图42(A)所示于定盘12(第1空气悬浮单元269)的+X侧排列配置于Y轴方向。详言的，第2及第3空气悬浮单元70、75分别与第4及第3空气悬浮装置群89、87相邻配置。亦即，第2及第3空气悬浮单元70、75各自的Y位置位于基板保持框256在Y轴方向的移动行程的范围内。又，第2及第3空气悬浮单元70、75各自的上面位于与第1空气悬浮单元269的复数个空气悬浮装置54上面相同水平面上。
本第14实施形态的基板交换装置，在基板交换时，保持于基板保持框256的基板Pa位于第3空气悬浮装置群87上。其次，在第3空气悬浮装置群87上解除基板保持框256对基板Pa的保持后，基板Pa从第3空气悬浮装置群87上往第3空气悬浮单元75上搬送(参照图42(A))。基板Pa位于第3空气悬浮单元75上后(更详言的，基板Pa整体位于较+X侧支承部82更靠+X侧的位置后)，基板保持框256被往-Y方向驱动而位于第4空气悬浮装置群89上。接着，基板Pb从第2空气悬浮单元70上往第4空气悬浮装置群89上搬送(参照图42(B))，在第4空气悬浮装置群89上保持于基板保持框256。其后，进行对准测量、步进扫描方式的曝光处理。此外，搬送至第3空气悬浮单元75上的基板Pa藉由未图示的基板搬送装置搬送至例如涂布显影机装置等外部装置。
根据本第14实施形态的液晶曝光装置，由于在基板交换时系将基板保持框256往Y轴方向、亦即步进方向(移动行程较扫描方向的X轴方向短)驱动，因此与上述第12实施形态相较，能缩短基板保持框256的移动行程。因此，能缩短从基板保持框256的基板Pa的搬出结束时至基板Pb往基板保持框256的搬入开始时的时间，藉此能谋求对基板保持框256的基板交换的迅速。
又，根据本第14实施形态，由于第2及第3空气悬浮单元70、75配置于+X侧，因此与第2及第3空气悬浮单元70、75分别配置于定盘12的+X侧及-X侧的上述第12实施形态相较，能缩短液晶曝光装置整体的X轴方向的尺寸。
此外，上述第12～第14的各实施形态的构成能适当变更。例如，上述第12～第14的各实施形态中，基板交换装置虽系从第1空气悬浮单元上往第3空气悬浮单元75上搬出基板，从第2空气悬浮单元70上往第1空气悬浮单元上搬入基板，但亦可相反。此情形下，搬入对象的基板Pb准备于第3空气悬浮单元75上。接着，基板Pa从第1空气悬浮单元上水平移动而被搬出至第2空气悬浮单元70，其次基板Pb从第3空气悬浮单元75上水平移动而被搬入至第1空气悬浮单元上。
上述第13实施形态中，第2空气悬浮单元70虽配置于第3空气悬浮单元75下方，但亦可配置于上方。此情形下，系在基板Pa从第1空气悬浮装置群81上水平移动而被搬出至第3空气悬浮单元75上后，空气悬浮单元对85下降使基板Pb从第2空气悬浮单元70上水平移动而被搬入至第1空气悬浮装置群81上。
上述第12及第14的各实施形态中，虽基板的搬出方向及搬入方向两者为X轴方向，但亦可例如使基板的搬出方向及搬入方向两者为Y轴方向。具体而言，例如将第2及第3空气悬浮单元70、75配置于在Y轴方向夹着第1空气悬浮单元的位置，并使基板的搬出方向及搬入方向为相同方向(使两者为+Y方向或-Y方向)。又，例如将第2及第3空气悬浮单元70、75于第1空气悬浮单元的+Y侧(或-Y侧)排列配置于X轴方向，并使基板的搬出方向及搬入方向为相反方向(使一方为+Y方向，另一方为-Y方向)。不过，为了将基板搬送于Y轴方向，例如需将基板保持框256作成绕通过其中心而与Z轴平行的轴线旋转90°的构成(不过，需将X框构件80X与Y框构件80Y的尺寸调换)，而作成能使基板于Y轴方向对基板保持框进出。
上述第13实施形态中，虽使基板的搬出方向及搬入方向两者为X轴方向，但亦可例如使基板的搬出方向及搬入方向两者为Y轴方向。具体而言，例如将空气悬浮单元对85可上下移动地设于第1空气悬浮单元的+Y侧(或-Y侧)，并使基板的搬出方向及搬入方向为相反方向(使一方为+Y方向，另一方为-Y方向)。不过，为了将基板搬送于Y轴方向，例如需作成能使基板于Y轴方向对基板保持框进出。
上述第12及第14的各实施形态中，虽基板的搬出方向及搬入方向两者为X轴方向，但亦可例如使基板的搬出方向及搬入方向的一方为X轴方向、使另一方为Y轴方向。具体而言，将第2及第3空气悬浮单元70、75的一方配置于第1空气悬浮单元的+X侧(或-X侧)，并将另一方配置于第3空气悬浮单元的+Y侧(或-Y侧)。不过，为了将基板搬送于X轴方向及Y轴方向，需作成能使基板于X轴方向及Y轴方向对基板保持框进出。
上述第12及第14的各实施形态中，虽在从基板保持框搬出基板时及使基板保持于基板保持框时使支承部82上下移动(参照图38(A)及图38(B))，但亦可将第1空气悬浮单元的空气悬浮装置群构成为能上下移动，并使此空气悬浮装置群上下移动。
上述第12及第14的各实施形态中，虽在从基板保持框搬出基板时及使基板保持于基板保持框时使支承部82上下移动(参照图38(A)及图38(B))，但亦可如图38(B)及图38(C)所示使支承部82移动于水平方向。
上述第12及第14的各实施形态中，虽在从基板保持框搬出基板时及使基板保持于基板保持框时使支承部82上下移动，但亦可使第1空气悬浮单元的空气悬浮装置群对基板的悬浮量增减。
上述第13实施形态中，空气悬浮单元对85虽被驱动于上下方向(垂直方向)，但亦可被驱动于相对水平面的倾斜方向(与水平面交叉的方向)。此情形下，为了使构成空气悬浮单元对85的第2及第3空气悬浮单元70、75各自能个别移动至与第1空气悬浮装置群81相邻的位置，需使第2及第3空气悬浮单元70、75在平行于XY平面(水平面)的方向的位置适当错开。
上述第13实施形态中，第2及第3空气悬浮单元70、75虽系一体上下移动，但亦可个别驱动于相对上下方向或水平面的交叉方向。
上述第12实施形态中，虽在第1及第2空气悬浮单元169、70间、及第1及第3空气悬浮单元169、75间的两者使用基板进给装置73搬送基板，但亦可在此等的至少一方使用基板保持框256来搬送基板(在使基板保持于基板保持框256的状态下搬送)。藉此，与如上述第12实施形态的基板进给装置73般使用皮带驱动式的情形相较能更迅速地(上述第12实施形态中，由于系在于XY方向不被拘束的状态下搬送，因此难以高速搬送)使基板移动。因此，能较上述第12实施形态缩短基板交换的循环时间。又，不需于基板搬入装置50a及基板搬出装置50b的至少一方设置基板进给装置73。具体而言，如图43(A)及图43(B)所示，藉由使用以将基板保持框256驱动于X轴方向的X线性马达的固定子90较上述第12实施形态于+X侧及-X侧的至少一方增长，而能使基板保持框256移动至第2及第3空气悬浮单元70、75上的至少一方(图43(A)及图43(B)中，X固定子90于+X侧及-X侧的两者增长)。此时，相较于上述第12实施形态，由于不需变更基板保持框256的控制系统及测量系统，因此能抑制成本上升。在基板搬出时使用基板保持框256时，系如图43(A)所示，使保持搬出对象的基板Pa的基板保持框256从第1空气悬浮单元169上移动至第3空气悬浮单元75上，在第3空气悬浮单元75上解除基板保持框256对基板Pa的保持。接着，仅使基板保持框256从第3空气悬浮单元75上移动至第1空气悬浮单元169上。在基板搬入时使用基板保持框256时，系如图43(B)所示，使基板保持框256从第1空气悬浮单元上移动至保持搬入对象的基板Pb的第2空气悬浮单元70上，在第2空气悬浮单元70上使基板Pb保持于基板保持框256。接着，使保持有基板Pb的基板保持框256从第2空气悬浮单元70上移动至第1空气悬浮单元169。此外，在基板搬出时即基板搬入时的两者使用基板保持框256时，例如，基板保持框256系在保持有基板Pa的状态下从第1空气悬浮单元169移动至第3空气悬浮单元75，在第3空气悬浮单元75上解除基板Pa的保持后，从第3空气悬浮单元75上经由第1空气悬浮单元169上移动至第2空气悬浮单元70上，在第2空气悬浮单元70上保持有基板Pb后，从第2空气悬浮单元70上移动至第1空气悬浮单元169上。
上述第14实施形态中，虽在第1及第2空气悬浮单元269、70间、以及第1及第3空气悬浮单元269、75间的两者使用基板进给装置73搬送基板，但亦可在此等的至少一方使用基板保持框256来搬送基板(在使基板保持于基板保持框256的状态下搬送)。具体而言，藉由使用以将基板保持框256驱动于X轴方向的X线性马达的固定子较上述第12实施形态于+X侧增长，而能使基板保持框256移动至第2及第3空气悬浮单元70、75上的至少一方。
上述第13实施形态中，虽在第1及第2空气悬浮单元169、70间、以及第1及第3空气悬浮单元169、75间的两者使用基板进给装置73搬送基板，但亦可在此等的至少一方使用基板保持框256来搬送基板(在使基板保持于基板保持框256的状态下搬送)。
上述第12及第14的各实施形态中，基板保持框虽使用俯视矩形框状，但并不限于此，亦可系例如俯视U字形、椭圆框状、菱形框状者等。不过，不论是何者，均需于基板保持框形成容许基板在X轴方向的通过的开口(在上述第12实施形态的情形，需于基板保持框的+X端及-X端形成上述开口，在上述第13及第14的各实施形态的情形，需于基板保持框的+X端形成上述开口)。
上述第14实施形态中，在进行基板对基板保持框256的进出时，虽系使基板保持框256相对第2及第3空气悬浮单元70、75于Y轴方向移动，但亦可取代此方式或进一步地使第2及第3空气悬浮单元70、75相对基板保持框256于Y轴方向移动。
此外，上述第1～第14的各实施形态(以下标记为上述各实施形态)的基板搬入装置50a及基板搬出装置50b(不过，除了第9实施形态的基板搬入装置以外)，虽均系藉由包含皮带73a的基板进给装置73来搬送基板，但只要能在空气悬浮单元上将基板驱动于一轴方向，驱动装置的构成则不限于此，例如亦可使用汽缸等其他的单轴致动器驱动基板。又，亦可使用夹头装置等在把持基板的状态下搬送。
又，上述各实施形态中，虽系使用复数个空气悬浮装置以非接触方式支承基板，但只要能在使基板沿水平面移动时基板下面受损，即能在滚珠轴承等的滚动体上使基板移动。
又，上述各实施形态的移动体装置(基板载台装置PST)亦能适用于曝光装置以外。例如使用于基板检查装置等。又，定点载台52亦可不一定要设置。基板保持框亦可无法旋转于θz方向(亦可于X可动子固定有保持框)。
又，上述各实施形态中，基板保持框在XY平面内的位置信息，系藉由包含雷射干涉仪(对设于基板保持框的移动镜照射测距光束)的雷射干涉仪系统来求出，但作为基板保持框的位置测量装置不限于此，亦可使用例如二维编码器系统。此情形下，例如可于基板保持框设置标尺，藉由固定于机体等的读头求出基板保持框的位置信息，或亦可于基板保持框设置读头，使用固定于例如机体等的标尺求出基板保持框的位置信息。
又，照明光，不限于ArF准分子雷射光(波长193nm)，亦能使用KrF准分子雷射光(波长248nm)等紫外光、F2雷射光(波长157nm)等真空紫外光。另外，作为照明光，可使用例如谐波，其系以掺有铒(或铒及镱两者)的光纤放大器，将从DFB半导体雷射或纤维雷射振荡出的红外线区或可见区的单一波长雷射光放大，并以非线形光学结晶将其转换波长成紫外光。又，亦可使用固态雷射(波长：355nm、266nm)等。
又，上述各实施形态中，虽已说明投影光学系统PL系具备复数支投影光学系统的多透镜方式的投影光学系统，但投影光学系统的支数不限于此，只要有一支已上即可。又，不限于多透镜方式的投影光学系统，亦可系使用了Offner型的大型反射镜的投影光学系统等。
又，上述各实施形态中，虽系说明使用投影倍率为等倍系统者来作为投影光学系统PL，但并不限于此，投影光学系统亦可系放大系统及缩小系统的任一者。
又，上述各实施形态中，虽说明了曝光装置为扫描步进机的情形，但并不限于此，亦可将上述各实施形态适用于合成照射区域与照射区域的步进接合方式的投影曝光装置。又，亦能适用于不使用投影光学系统的近接方式的曝光装置。
又，上述各实施形态中，虽使用于具光透射性的基板上形成既定遮光图案(或相位图案，减光图案)的光透射性掩膜(标线片)，但亦可使用例如美国发明专利第6,778,257号说明书所揭示的电子掩膜来代替此标线片，该电子掩膜(可变成形掩膜)系根据欲曝光图案的电子资料来形成透射图案、反射图案、或发光图案，其系使用例如非发光型影像显示元件(亦称为空间光调变器)的一种的DMD(Digital Micro-mirror Device)的可变成形掩膜。
又，曝光装置用途并不限定于将液晶显示元件图案转印至角型玻璃板的液晶用曝光装置，亦可广泛适用于用来制造例如半导体制造用的曝光装置、薄膜磁头、微型机器及DNA晶片等的曝光装置。又，除了制造半导体元件等微型元件以外，为了制造用于光曝光装置、EUV曝光装置、X射线曝光装置及电子射线曝光装置等的掩膜或标线片，亦能将上述各实施形态适用于用以将电路图案转印至玻璃基板或硅晶圆等的曝光装置。
此外，作为曝光对象的物体并不限玻璃板，亦可系例如晶圆、陶瓷基板、膜构件、或者空白掩膜等其他物体。又，曝光对象物为平板显示器用的基板时，该基板的厚度不特别限定，亦包含例如膜状(具有可挠性的片状构件)者。
此外，上述各实施形态的曝光装置，在一边长度为500mm以上的基板为曝光对象物时，特别有效。
此外，援用与至此为止的说明中所引用的曝光装置等相关的所有公报、国际公开公报、美国发明专利申请公开说明书及美国发明专利说明书的揭示作为本说明书记载的一部分。
《元件制造方法》
其次，说明在微影步骤使用上述各实施形态的液晶曝光装置的微型元件的制造方法。上述各实施形态的液晶曝光装置，可藉由在板体(玻璃基板)上形成既定图案(电路图案、电极图案等)而制得作为微型元件的液晶显示元件。
<图案形成步骤>
首先，系执行使用上述各实施形态的液晶曝光装置将图案像形成于感光性基板(涂布有光阻的玻璃基板等)的所谓光微影步骤。藉由此光微影步骤，于感光性基板上形成包含多数个电极等的既定图案。其后，经曝光的基板，藉由经过显影步骤、蚀刻步骤、光阻剥离步骤等各步骤而于基板上形成既定图案。
<彩色滤光片形成步骤>
其次，形成与R(Red)、G(Green)、B(Blue)对应的三个点的组多数个排列成矩阵状、或将R、G、B的三条条纹的滤光器组复数个排列于水平扫描线方向的彩色滤光片。
<单元组装步骤>
接着，使用在图案形成步骤制得的具有既定图案的基板、以及在彩色滤光片形成步骤制得的彩色滤光片等组装液晶面板(液晶单元)。例如于在图案形成步骤制得的具有既定图案的基板与在彩色滤光片形成步骤制得的彩色滤光片之间注入液晶，而制造液晶面板(液晶单元)。
<模组组装步骤>
其后，安装用以进行已组装完成的液晶面板(液晶单元)的显示动作的电路、背光等各零件，而完成液晶显示元件。
此时，在图案形成步骤中，由于系使用上述各实施形态的液晶曝光装置而能以高产能且高精度进行板体的曝光，其结果能提升液晶显示元件的生产性。

Claims (99)

1.一种移动体装置，其具备：
移动体，可保持物体的端部，与该物体一起至少在与水平面平行的既定二维平面内的既定范围移动；
物体支承装置，具有可在包含0度的至少两阶段变更其一面相对前述二维平面的倾斜角度的第1构件，并且从下方支承在前述既定范围内与前述移动体一起移动的前述物体；
第1支承装置，具有一面，可从下方支承前述物体，该一面与处于相对前述二维平面成第1角度的第1状态的前述第1构件的前述一面一起形成相对前述二维平面成前述第1角度的第1移动面；
第2支承装置，具有一面，可从下方支承前述物体，该一面与处于相对前述二维平面成第2角度的第2状态的前述第1构件的前述一面一起形成相对前述二维平面成前述第2角度的第2移动面；以及
搬送系统，包含使前述物体沿前述第1移动面移动的第1搬送系统与使前述物体沿前述第2移动面移动的第2搬送系统；
藉由前述第1及第2搬送系统的一方将前述物体从前述物体支承装置上搬出，且藉由前述第1及第2搬送系统的另一方将其他物体搬入前述物体支承装置上。
2.如权利要求1所述的移动体装置，其中，前述第1角度系0度，且在前述第1状态下，前述第1构件的前述一面与前述二维平面平行。
3.如权利要求2所述的移动体装置，其中，前述移动体能在前述第1构件上的区域与前述第1支承装置上的区域之间移动；并且
前述第1搬送系统系使用前述移动体将前述物体从前述第1构件上搬出至前述第1支承装置上或从前述第1支承装置上搬入前述第1构件上。
4.如权利要求2或3所述的移动体装置，其中，前述移动体包含沿前述物体的外周缘部的至少一部分配置的本体部与支承前述物体的支承部。
5.如权利要求4所述的移动体装置，其中，于前述本体部，形成有当前述第1构件的前述一面设定于前述第1状态时容许前述物体沿前述二维平面的方向而通过的开口部。
6.如权利要求4或5所述的移动体装置，其中，前述支承部，能在支承前述物体的支承位置与从该支承位置退离的退离位置之间移动。
7.如权利要求1所述的移动体装置，其中，前述第1角度及前述第2角度系为0度以外的角度。
8.如权利要求7所述的移动体装置，其中，前述物体从前述物体支承装置上的搬出及前述其他物体往前述物体支承装置上的搬入的各动作系从沿前述第1或第2移动面的斜上方往斜下方进行。
9.如权利要求7或8所述的移动体装置，其中，前述移动体包含沿前述物体的外周缘部的至少一部分配置的本体部与支承前述物体的支承部。
10.如权利要求9所述的移动体装置，其中，前述物体系从斜上方或斜下方插入前述本体部内并同时搬入前述物体支承装置上，且从前述物体支承装置上的前述本体部内往斜上方或斜下方搬出。
11.如权利要求9或10所述的移动体装置，其中，前述支承部，能在支承前述物体的支承位置与从该支承位置退离的退离位置之间移动。
12.如权利要求1至11项中任一所述的移动体装置，其中，前述第1搬送系统系使用在前述第1构件上的区域与前述第1支承装置上的区域之间驱动前述物体的第1驱动装置进行前述物体的搬出或前述其他物体的搬入；且
前述第2搬送系统系使用在前述第1构件上的区域与前述第2支承装置上的区域之间驱动前述物体的第2驱动装置进行前述物体的搬出或前述其他物体的搬入。
13.如权利要求1至12项中任一所述的移动体装置，其中，与前述第1及前述第2搬送系统的一方对前述物体的搬出动作并行地，开始前述第1及前述第2搬送系统的另一方对前述其他物体的搬入动作。
14.如权利要求1至13项中任一所述的移动体装置，其中，前述第1构件、前述第1支承装置、以及前述第2支承装置系以非接触方式支承前述物体。
15.如权利要求1至14项中任一所述的移动体装置，其中，前述第1及第2支承装置的至少一方能相对前述物体支承装置移动于与前述二维平面平行的方向。
16.如权利要求1至15项中任一所述的移动体装置，其中，前述物体往前述物体支承装置上的搬入动作与前述物体从前述物体支承装置上的搬出动作，至少一部分系并行进行。
17.如权利要求1至16项中任一所述的移动体装置，其中，在前述物体往前述物体支承装置上的搬入动作时及前述物体从前述物体支承装置上的搬出动作时的至少一方，前述移动体与前述物体支承装置的至少一部分系相对移动。
18.如权利要求1至17项中任一所述的移动体装置，其进一步具备:
调整装置，该调整装置配置于前述既定范围内，保持前述物体的一部分以调整该物体一部分在与前述二维平面交叉的方向的位置。
19.如权利要求18所述的移动体装置，其中，前述调整装置系对前述物体下面喷出气体且吸引相对前述物体的对向面与前述物体下面之间的气体而以非接触方式保持前述物体。
20.一种曝光装置，其具备：
权利要求18或19所述的移动体装置；以及
对前述物体中保持于前述调整装置的部位照射能量束以形成既定图案的图案化装置。
21.如权利要求20所述的曝光装置，其中，前述物体系用于平板显示器的制造的基板。
22.如权利要求21所述的曝光装置，其中，前述基板至少一边的长度为500mm以上。
23.一种平板显示器的制造方法，其包含：
使用权利要求21或22所述的曝光装置曝光前述基板；以及
显影曝光后的前述基板。
24.一种元件制造方法，其包含：
使用权利要求20至22项中任一所述的曝光装置曝光前述物体；以及
显影曝光后的前述物体。
25.一种移动体装置，其具备：
移动体，可保持物体的端部，与该物体一起至少在与水平面平行的既定二维平面内的既定范围移动；
物体支承装置，具有其一面与前述二维平面平行的第1构件，从下方支承在前述既定范围内与前述移动体一起移动的前述物体；
第1支承装置及第2支承装置，至少一方能在与前述二维平面交叉的方向相对前述第1构件移动，分别具有与前述二维平面平行的一面且能支承前述物体；以及
搬送系统，包含：使前述物体沿包含前述第1构件的前述一面与前述第1支承装置的前述一面的第1移动面移动的第1搬送系统以及与使前述物体沿包含前述第1构件的前述一面与前述第2支承装置的前述一面的第2移动面移动的第2搬送系统；
藉由前述第1及第2搬送系统的一方将前述物体从前述物体支承装置上搬出，且藉由前述第1及第2搬送系统的另一方将其他物体搬入前述物体支承装置上。
26.如权利要求25所述的移动体装置，其中，前述第1构件的前述一面，能在与前述二维平面交叉的方向移动于第1位置与异于该第1位置的第2位置之间。
27.如权利要求26所述的移动体装置，其中，包含前述第1支承装置的前述一面与位于前述第1位置的前述第1构件的前述一面而形成前述第1移动面。
28.如权利要求27所述的移动体装置，其中，前述移动体能在前述第1构件上的区域与前述第1支承装置上的区域之间移动；
前述第1搬送系统系使用前述移动体将前述物体从前述第1构件上搬出至前述第1支承装置上或从前述第1支承装置上搬入前述第1构件上。
29.如权利要求26至28项中任一所述的移动体装置，其中，包含前述第2支承装置的前述一面与位于前述第1位置的前述第1构件的前述一面而形成前述第2移动面。
30.如权利要求26至29项中任一所述的移动体装置，其中，包含前述第2支承装置的前述一面与位于前述第2位置的前述第1构件的前述一面而形成前述第2移动面。
31.如权利要求25至30项中任一所述的移动体装置，其中，前述第1及第2移动面位于相异的平面上。
32.如权利要求31所述的移动体装置，其中，前述第1及第2支承装置能相对前述物体支承装置移动于与前述二维平面交叉的方向。
33.如权利要求25至32项中任一所述的移动体装置，其中，前述第1搬送系统系使用在前述第1构件上的区域与前述第1支承装置上的区域之间驱动前述物体的第1驱动装置进行前述物体的搬入或搬出；
前述第2搬送系统系使用在前述第1构件上的区域与前述第2支承装置上的区域之间驱动前述物体的第2驱动装置进行前述物体的搬入或搬出。
34.如权利要求25至33项中任一所述的移动体装置，其中，前述第1及第2搬送系统的一方对前述物体的搬出动作与前述第1及第2搬送系统的另一方对前述其他物体的搬入动作，至少一部分系并行进行。
35.如权利要求25至30项中任一所述的移动体装置，其中，前述第1及第2移动面位于相同平面上。
36.如权利要求35所述的移动体装置，其中，在前述第1构件位于与前述第1及第2支承装置两者相邻的位置的状态下进行前述物体的搬出动作及前述物体的搬入动作。
37.如权利要求25至38项中任一所述的移动体装置，其中，前述第1构件、前述第1支承装置、以及前述第2支承装置系以非接触方式支承前述物体。
38.如权利要求25至37项中任一所述的移动体装置，其中，前述移动体包含沿前述物体的外周缘部的至少一部分配置的本体部与支承前述物体的支承部。
39.如权利要求38所述的移动体装置，其中，于前述本体部，形成有容许前述物体往沿前述第1及第2移动面的至少一方的方向通过的开口部。
40.如权利要求38或39所述的移动体装置，其中，前述支承部，能在支承前述物体的支承位置与从该支承位置退离的退离位置之间移动。
41.如权利要求25至37项中任一所述的移动体装置，其中，前述移动体包含沿前述物体的外周缘部的至少一部分配置的本体部与支承前述物体的支承部；
于前述移动体，形成有容许前述第1构件朝向与前述二维平面交叉的方向通过的开口部。
42.如权利要求41所述的移动体装置，其中，前述支承部，能在支承前述物体的支承位置与从该支承位置退离的退离位置之间移动。
43.如权利要求25至42项中任一所述的移动体装置，其进一步具备:
调整装置，该调整装置配置于前述既定范围内，并且保持前述物体的一部分以调整该物体一部分在与前述二维平面交叉的方向的位置。
44.如权利要求43所述的移动体装置，其中，前述调整装置系对前述物体下面喷出气体且吸引相对前述物体的对向面与前述物体下面之间的气体而以非接触方式保持前述物体。
45.一种曝光装置，其具备：
权利要求43或44所述的移动体装置；以及
对前述物体中保持于前述调整装置的部位照射能量束以形成既定图案的图案化装置。
46.如权利要求45所述的曝光装置，其中，前述物体系用于平板显示器的制造的基板。
47.如权利要求46所述的曝光装置，其中，前述基板至少一边的长度为500mm以上。
48.一种平板显示器的制造方法，其包含：
使用权利要求46或47所述的曝光装置曝光前述基板；以及
显影曝光后的前述基板。
49.一种元件制造方法，其包含：
使用权利要求45至47项中任一所述的曝光装置曝光前述物体；以及
显影曝光后的前述物体。
50.一种移动体装置，其具备：
移动体，可保持物体的端部，与该物体一起至少在与水平面平行的既定二维平面内的既定范围移动；
物体支承装置，从下方支承在前述既定范围内与前述移动体一起移动的前述物体；
第1支承装置，与前述物体支承装置的至少一部分一起形成第1移动面；
第2支承装置，与前述物体支承装置的至少一部分一起形成第2移动面；以及
搬送系统，包含：使前述物体沿前述第1移动面移动的第1搬送系统与使前述物体沿前述第2移动面移动的第2搬送系统，其中，
藉由前述第1及第2搬送系统的一方将前述物体从前述物体支承装置上搬出，且与前述物体的搬出至少一部分并行地藉由前述第1及第2搬送系统的另一方将其他物体搬入前述物体支承装置上，以及
在前述物体的搬出动作时及前述其他物体的搬入动作时的至少一方，前述移动体与前述物体支承装置的至少一部分系相对移动。
51.如权利要求50所述的移动体装置，其进一步具备:
调整装置，该调整装置配置于前述既定范围内，并且保持前述物体的一部分以调整该物体一部分在与前述二维平面交叉的方向的位置。
52.如权利要求51所述的移动体装置，其中，前述调整装置系对前述物体下面喷出气体且吸引相对前述物体的对向面与前述物体下面之间的气体而以非接触方式保持前述物体。
53.一种曝光装置，其具备：
权利要求51或52所述的移动体装置；以及
对前述物体中保持于前述调整装置的部位照射能量束以形成既定图案的图案化装置。
54.如权利要求53所述的曝光装置，其中，前述物体系用于平板显示器的制造的基板。
55.如权利要求54所述的曝光装置，其中，前述基板至少一边的长度为500mm以上。
56.一种平板显示器的制造方法，其包含：
使用权利要求54或55所述的曝光装置曝光前述基板；以及
显影曝光后的前述基板。
57.一种元件制造方法，其包含：
使用权利要求53至55项中任一所述的曝光装置曝光前述物体；以及
显影曝光后的前述物体。
58.一种移动体装置，其具备：
移动体，可保持物体的端部，与该物体一起至少在与水平面平行的既定二维平面内的既定范围移动；
物体支承装置，具有与前述物体下面对向的一面，并且使用前述一面从下方支承在前述既定范围内与前述移动体一起移动的前述物体；
第1支承装置，具有与前述物体支承装置的前述一面一起形成与前述二维平面平行的第1移动面的一面，能从下方支承前述物体；
第2支承装置，具有与前述物体支承装置的前述一面一起形成与前述二维平面平行的第2移动面的一面，能从下方支承前述物体；以及
搬送系统，包含：使前述物体沿前述第1移动面移动的第1搬送系统与使前述物体沿前述第2移动面移动的第2搬送系统；
藉由前述第1及第2搬送系统的一方将前述物体从前述物体支承装置上搬出，且藉由前述第1及第2搬送系统的另一方将其他物体搬入前述物体支承装置上。
59.如权利要求58所述的移动体装置，其中，前述移动体能在前述物体支承装置的前述一面上的区域与前述第1支承装置上的区域之间移动；并且
前述第1搬送系统系使用前述移动体将前述物体从前述物体支承装置的前述一面上搬出至前述第1支承装置上或将前述其他物体从前述第1支承装置上搬入前述物体支承装置的前述一面上。
60.如权利要求58或59所述的移动体装置，其中，前述第1搬送系统系使用在前述物体支承装置的前述一面上的区域与前述第1支承装置上的区域之间驱动前述物体的第1驱动装置进行前述物体的搬出或前述其他物体的搬入；
前述第2搬送系统系使用在前述物体支承装置的前述一面上的区域与前述第2支承装置上的区域之间驱动前述物体的第2驱动装置进行前述物体的搬出或前述其他物体的搬入。
61.如权利要求58至60项中任一所述的移动体装置，其中，前述第1及第2搬送系统的一方对前述物体的搬出动作与前述第1及第2搬送系统的另一方对前述其他物体的搬入动作，至少一部分系并行进行。
62.如权利要求58至61项中任一所述的移动体装置，其中，前述第1及第2移动面位于相同平面上。
63.如权利要求62所述的移动体装置，其中，前述第1及第2支承装置能相对前述物体支承装置移动于与前述二维平面平行的方向。
64.如权利要求58至63项中任一所述的移动体装置，其进一步具备:
调整装置，该调整装置配置于前述既定范围内，并且保持前述物体的一部分以调整该物体一部分在与前述二维平面交叉的方向的位置。
65.如权利要求64所述的移动体装置，其中，前述调整装置系对前述物体下面喷出气体且吸引相对前述物体的对向面与前述物体下面之间的气体而以非接触方式保持前述物体。
66.一种曝光装置，其具备：
权利要求64或65所述的移动体装置；以及
对前述物体中保持于前述调整装置的部位照射能量束以形成既定图案的图案化装置。
67.如权利要求66所述的曝光装置，其中，前述物体系用于平板显示器的制造的基板。
68.如权利要求67所述的曝光装置，其中，前述基板至少一边的长度为500mm以上。
69.一种平板显示器的制造方法，其包含：
使用权利要求67或68所述的曝光装置曝光前述基板；以及
显影曝光后的前述基板。
70.一种元件制造方法，其包含：
使用权利要求66至68项中任一所述的曝光装置曝光前述物体；以及
显影曝光后的前述物体。
71.一种曝光装置，系照射能量束以使物体曝光，其具备：
移动体，可保持前述物体的端部，与该物体一起至少在与水平面平行的既定二维平面内的既定范围移动；
物体支承装置，具有可在包含0度的至少两阶段变更其一面相对前述二维平面的倾斜角度的第1构件，并且从下方支承在前述既定范围内与前述移动体一起移动的前述物体；
第1支承装置，具有一面，可从下方支承前述物体，该一面与处于相对前述二维平面成第1角度的第1状态的前述第1构件的前述一面一起形成相对前述二维平面成前述第1角度的第1移动面；
第2支承装置，具有一面，可从下方支承前述物体，该一面与处于相对前述二维平面成第2角度的第2状态的前述第1构件的前述一面一起形成相对前述二维平面成前述第2角度的第2移动面；
搬送系统，包含使前述物体沿前述第1移动面移动的第1搬送系统与使前述物体沿前述第2移动面移动的第2搬送系统；以及
图案化装置，对前述物体照射能量束以形成既定图案，其中，
藉由前述第1及第2搬送系统的一方将前述物体从前述物体支承装置上搬出，且藉由前述第1及第2搬送系统的另一方将其他物体搬入前述物体支承装置上。
72.如权利要求71所述的曝光装置，其进一步具备:
调整装置，该调整装置配置于前述既定范围内，并且保持被前述能量束照射的前述物体的一部分以调整该物体一部分在与前述二维平面交叉的方向的位置。
73.如权利要求72所述的曝光装置，其中，前述调整装置系对前述物体下面喷出气体且吸引相对前述物体的对向面与前述物体下面之间的气体而以非接触方式保持前述物体。
74.一种元件制造方法，其包含：
使用权利要求71至73项中任一所述的曝光装置曝光前述物体；以及
显影曝光后的前述物体。
75.一种曝光装置，系照射能量束以使物体曝光，其具备：
移动体，可保持前述物体的端部，与该物体一起至少在与水平面平行的既定二维平面内的既定范围移动；
物体支承装置，具有其一面与前述二维平面平行的第1构件，从下方支承在前述既定范围内与前述移动体一起移动的前述物体；
第1支承装置及第2支承装置，至少一方能在与前述二维平面交叉的方向相对前述第1构件移动，并且分别具有与前述二维平面平行的一面且能支承前述物体；以及
搬送系统，包含：使前述物体沿包含前述第1构件的前述一面与前述第1支承装置的前述一面的第1移动面移动的第1搬送系统，以及与使前述物体沿包含前述第1构件的前述一面与前述第2支承装置的前述一面的第2移动面移动的第2搬送系统；以及
图案化装置，对前述物体照射能量束以形成既定图案，其中，
藉由前述第1及第2搬送系统的一方将前述物体从前述物体支承装置上搬出，且藉由前述第1及第2搬送系统的另一方将其他物体搬入前述物体支承装置上。
76.如权利要求75所述的曝光装置，其进一步具备:
调整装置，该调整装置配置于前述既定范围内，并且保持被前述能量束照射的前述物体的一部分以调整该物体一部分在与前述二维平面交叉的方向的位置。
77.如权利要求76所述的曝光装置，其中，前述调整装置系对前述物体下面喷出气体且吸引相对前述物体的对向面与前述物体下面之间的气体而以非接触方式保持前述物体。
78.一种元件制造方法，其包含：
使用权利要求75至77项中任一所述的曝光装置曝光前述物体；以及
显影曝光后的前述物体。
79.一种曝光装置，系照射能量束以使物体曝光，其具备：
移动体，可保持前述物体的端部，并且与该物体一起至少在与水平面平行的既定二维平面内的既定范围移动；
物体支承装置，从下方支承在前述既定范围内与前述移动体一起移动的前述物体；
第1支承装置，与前述物体支承装置的至少一部分一起形成第1移动面；
第2支承装置，与前述物体支承装置的至少一部分一起形成第2移动面；
搬送系统，包含：使前述物体沿前述第1移动面移动的第1搬送系统与使前述物体沿前述第2移动面移动的第2搬送系统；以及
图案化装置，对前述物体照射能量束以形成既定图案，其中，
藉由前述第1及第2搬送系统的一方将前述物体从前述物体支承装置上搬出，且与前述物体的搬出至少一部分并行地藉由前述第1及第2搬送系统的另一方将其他物体搬入前述物体支承装置上；
在前述物体的搬出动作时及前述其他物体的搬入动作时的至少一方，前述移动体与前述物体支承装置的至少一部分系相对移动。
80.如权利要求79所述的曝光装置，其进一步具备:
调整装置，该调整装置配置于前述既定范围内，并且保持被前述能量束照射的前述物体的一部分以调整该物体一部分在与前述二维平面交叉的方向的位置。
81.如权利要求80所述的曝光装置，其中，前述调整装置系对前述物体下面喷出气体且吸引相对前述物体的对向面与前述物体下面之间的气体而以非接触方式保持前述物体。
82.一种元件制造方法，其包含：
使用权利要求79至81项中任一所述的曝光装置曝光前述物体；以及
显影曝光后的前述物体。
83.一种曝光装置，系照射能量束以使物体曝光，其具备：
移动体，可保持前述物体的端部，与该物体一起至少在与水平面平行的既定二维平面内的既定范围移动；
物体支承装置，具有与前述物体下面对向的一面，使用前述一面从下方支承在前述既定范围内与前述移动体一起移动的前述物体；
第1支承装置，具有与前述物体支承装置的前述一面一起形成与前述二维平面平行的第1移动面的一面，能从下方支承前述物体；
第2支承装置，具有与前述物体支承装置的前述一面一起形成与前述二维平面平行的第2移动面的一面，能从下方支承前述物体；
搬送系统，包含：使前述物体沿前述第1移动面移动的第1搬送系统与使前述物体沿前述第2移动面移动的第2搬送系统；以及
图案化装置，对前述物体照射能量束以形成既定图案，其中，
藉由前述第1及第2搬送系统的一方将前述物体从前述物体支承装置上搬出，且藉由前述第1及第2搬送系统的另一方将其他物体搬入前述物体支承装置上。
84.如权利要求83所述的曝光装置，其进一步具备:
调整装置，该调整装置配置于前述既定范围内，保持被前述能量束照射的前述物体的一部分以调整该物体一部分在与前述二维平面交叉的方向的位置。
85.如权利要求84所述的曝光装置，其中，前述调整装置系对前述物体下面喷出气体且吸引相对前述物体的对向面与前述物体下面之间的气体而以非接触方式保持前述物体。
86.一种元件制造方法，其包含：
使用权利要求83至85项中任一所述的曝光装置曝光前述物体；以及
显影曝光后的前述物体。
87.一种物体交换方法，其包含：
使被物体支承装置从下方支承的物体的端部保持于能沿与水平面平行的既定二维平面移动的移动体的动作；
使用前述移动体使前述物体位于前述物体支承装置所具有的第1构件上的动作；
将前述第1构件设定为前述第1构件的一面相对前述二维平面成第1角度的第1状态的动作；
沿包含被设定为前述第1状态的前述第1构件的前述一面的相对前述二维平面成前述第1角度的第1移动面将前述物体从前述物体支承装置上搬出的动作；
将前述第1构件设定为前述一面相对前述二维平面成第2角度的第2状态的动作；以及
沿包含被设定为前述第2状态的前述第1构件的前述一面的相对二维平面成前述第2角度的第2移动面将其他物体搬入前述物体支承装置上的动作。
88.如权利要求87所述的物体交换方法，其中，前述第1及第2角度的一方为0度。
89.如权利要求88所述的物体交换方法，其进一步包含:
在前述第2角度为0度以外时，在前述物体的搬入后，使前述第1构件的姿势回归成前述一面与前述二维平面平行的前述第1状态的动作。
90.如权利要求87所述的物体交换方法，其中，前述第1及第2角度为0度以外的角度。
91.如权利要求87至90项中任一所述的物体交换方法，其中，将前述物体从前述物体支承装置上搬出的动作与将前述其他物体搬入前述物体支承装置上的动作，至少一部分系并行进行。
92.一种物体交换方法，其包含：
使被物体支承装置从下方支承的物体的端部保持于能沿与水平面平行的既定二维平面移动的移动体的动作，该物体支承装置具有其一面能在与前述二维平面平行且与前述二维平面交叉的方向移动的第1构件；
使用前述移动体使前述物体位于在第1位置的前述第1构件上的动作；
沿水平面将前述物体从前述物体支承装置上搬出的动作，该水平面包含位于前述第1位置或相对该第1位置在前述交叉的方向分离的第2位置的前述第1构件的前述一面；以及
沿水平面将其他物体搬入前述物体支承装置上的动作，该水平面包含位于相对前述第1位置在前述交叉的方向分离的第3位置的前述第1构件的前述一面。
93.如权利要求92所述的物体交换方法，其中，前述搬出的动作与前述搬入的动作，至少一部分系并行进行。
94.一种物体交换方法，其包含：
使被物体支承装置从下方支承的物体的端部保持于能沿与水平面平行的既定二维平面移动的移动体的动作，该物体支承装置具有其一面能在与前述二维平面平行且与前述二维平面交叉的方向移动的第1构件；
使用前述移动体使前述物体位于在第1位置的前述第1构件上的动作；
沿水平面将前述物体从前述物体支承装置上搬出的动作，该水平面包含位于相对前述第1位置在前述交叉的方向分离的第2位置的前述第1构件的前述一面；以及
沿水平面将其他物体搬入前述物体支承装置上的动作，该水平面包含位于前述第1位置或相对该第1位置在前述交叉的方向分离的第3位置的前述第1构件的前述一面。
95.如权利要求94所述的物体交换方法，其中，前述搬出的动作与前述搬入的动作，至少一部分系并行进行。
96.一种物体交换方法，其包含：
使被物体支承装置从下方支承的物体的端部保持于能沿与水平面平行的既定二维平面移动的移动体的动作，该物体支承装置具有与前述物体下面对向的与前述水平面平行的一面；
使用前述移动体使前述物体沿前述物体支承装置的前述一面移动的动作；
使前述物体在沿着前述物体支承装置的前述一面的第1路径上移动而从前述物体支承装置上搬出的动作；以及
使其他物体在与沿着前述物体支承装置的前述一面的前述第1路径相异的第2路径上移动而搬入前述物体支承装置上的动作。
97.如权利要求96所述的物体交换方法，其中，前述搬出的动作与前述搬入的动作，至少一部分系并行进行。
98.一种物体交换方法，其包含：
使被物体支承装置从下方支承的物体的端部保持于能沿与水平面平行的既定二维平面移动的移动体的动作，该物体支承装置具有能与前述物体下面对向的与前述水平面平行的一面。
使用前述移动体使前述物体位于前述物体支承装置的前述一面上的动作；
使能从下方支承前述物体的第1支承装置的一面位于包含前述物体支承装置的前述一面的水平面上的动作；
沿包含前述物体支承装置的前述一面及前述第1支承装置的前述一面的水平面将前述物体从前述物体支承装置上搬出至前述第1支承装置上的动作；
使能从下方支承其他物体的第2支承装置的一面位于包含前述物体支承装置的前述一面的水平面上的动作；以及
沿包含前述第2支承装置的前述一面及前述物体支承装置的前述一面将其他物体从前述第2支承装置上搬入前述物体支承装置上的动作。
99.如权利要求98所述的物体交换方法，其中，前述搬出的动作与前述搬入的动作，至少一部分系并行进行。
CN201180044021.8A 2010-09-13 2011-09-12 移动体装置、曝光装置、元件制造方法、平板显示器的制造方法、及物体交换方法 Active CN103097959B (zh)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710586007.XA CN107315321B (zh) 2010-09-13 2011-09-12 移动体装置、曝光装置、元件制造方法、平板显示器的制造方法、及物体交换方法
CN201710586312.9A CN107450280B (zh) 2010-09-13 2011-09-12 移动体装置、曝光装置、元件制造方法、平板显示器的制造方法、及物体交换方法
CN201811373746.1A CN109557771B (zh) 2010-09-13 2011-09-12 移动体装置、曝光装置、曝光方法、元件制造方法、平板显示器的制造方法及物体交换方法

Applications Claiming Priority (11)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US38207710P 2010-09-13 2010-09-13
US38214110P 2010-09-13 2010-09-13
US38211410P 2010-09-13 2010-09-13
US38213010P 2010-09-13 2010-09-13
US61/382,141 2010-09-13
US61/382,114 2010-09-13
US61/382,077 2010-09-13
US61/382,130 2010-09-13
US13/228,115 US20120064461A1 (en) 2010-09-13 2011-09-08 Movable body apparatus, exposure apparatus, device manufacturing method, flat-panel display manufacturing method, and object exchange method
US13/228,115 2011-09-08
PCT/JP2011/071171 WO2012036252A1 (en) 2010-09-13 2011-09-12 Movable body apparatus, exposure apparatus, device manufacturing method, flat-panel display manufacturing method, and object exchange method

Related Child Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710586007.XA Division CN107315321B (zh) 2010-09-13 2011-09-12 移动体装置、曝光装置、元件制造方法、平板显示器的制造方法、及物体交换方法
CN201811373746.1A Division CN109557771B (zh) 2010-09-13 2011-09-12 移动体装置、曝光装置、曝光方法、元件制造方法、平板显示器的制造方法及物体交换方法
CN201710586312.9A Division CN107450280B (zh) 2010-09-13 2011-09-12 移动体装置、曝光装置、元件制造方法、平板显示器的制造方法、及物体交换方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN103097959A true CN103097959A (zh) 2013-05-08
CN103097959B CN103097959B (zh) 2017-08-11

Family

ID=45807045

Family Applications (4)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201180044021.8A Active CN103097959B (zh) 2010-09-13 2011-09-12 移动体装置、曝光装置、元件制造方法、平板显示器的制造方法、及物体交换方法
CN201710586007.XA Active CN107315321B (zh) 2010-09-13 2011-09-12 移动体装置、曝光装置、元件制造方法、平板显示器的制造方法、及物体交换方法
CN201710586312.9A Active CN107450280B (zh) 2010-09-13 2011-09-12 移动体装置、曝光装置、元件制造方法、平板显示器的制造方法、及物体交换方法
CN201811373746.1A Active CN109557771B (zh) 2010-09-13 2011-09-12 移动体装置、曝光装置、曝光方法、元件制造方法、平板显示器的制造方法及物体交换方法

Family Applications After (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710586007.XA Active CN107315321B (zh) 2010-09-13 2011-09-12 移动体装置、曝光装置、元件制造方法、平板显示器的制造方法、及物体交换方法
CN201710586312.9A Active CN107450280B (zh) 2010-09-13 2011-09-12 移动体装置、曝光装置、元件制造方法、平板显示器的制造方法、及物体交换方法
CN201811373746.1A Active CN109557771B (zh) 2010-09-13 2011-09-12 移动体装置、曝光装置、曝光方法、元件制造方法、平板显示器的制造方法及物体交换方法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20120064461A1 (zh)
JP (5) JP5910980B2 (zh)
KR (3) KR102072079B1 (zh)
CN (4) CN103097959B (zh)
HK (1) HK1245904A1 (zh)
TW (4) TWI665528B (zh)
WO (1) WO2012036252A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111103765A (zh) * 2018-10-29 2020-05-05 佳能株式会社 曝光装置以及物品制造方法

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101862234B1 (ko) * 2009-08-20 2018-05-29 가부시키가이샤 니콘 물체 처리 장치, 노광 장치와 노광 방법, 및 디바이스 제조 방법
US20110042874A1 (en) * 2009-08-20 2011-02-24 Nikon Corporation Object processing apparatus, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method
US8699001B2 (en) * 2009-08-20 2014-04-15 Nikon Corporation Object moving apparatus, object processing apparatus, exposure apparatus, object inspecting apparatus and device manufacturing method
US8598538B2 (en) * 2010-09-07 2013-12-03 Nikon Corporation Movable body apparatus, object processing device, exposure apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method
US20120064461A1 (en) * 2010-09-13 2012-03-15 Nikon Corporation Movable body apparatus, exposure apparatus, device manufacturing method, flat-panel display manufacturing method, and object exchange method
DE102012103533A1 (de) * 2012-04-20 2013-10-24 Köra-Packmat Maschinenbau GmbH Vorrichtung zum Fördern eines Substrats und System zum Bedrucken eines Substrats
JP6035670B2 (ja) * 2012-08-07 2016-11-30 株式会社ニコン 露光方法、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法、並びに露光装置
WO2014024483A1 (ja) * 2012-08-08 2014-02-13 株式会社ニコン 物体交換方法、物体交換システム、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法
US10534277B2 (en) * 2014-03-26 2020-01-14 Nikon Corporation Movable body apparatus, exposure apparatus, manufacturing method of flat panel display, and device manufacturing method
JP6410208B2 (ja) * 2014-10-01 2018-10-24 日本電気硝子株式会社 形状測定装置
US10752449B2 (en) * 2015-03-30 2020-08-25 Nikon Corporation Object carrier device, exposure apparatus, manufacturing method of flat-panel display, device manufacturing method, object carrying method, and exposure method
JP6888103B2 (ja) 2017-01-20 2021-06-16 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ 非ブレーズドｄｍｄを伴う解像度強化型のデジタルリソグラフィ
WO2018180969A1 (ja) * 2017-03-31 2018-10-04 株式会社ニコン 物体交換装置、物体処理装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、物体交換方法、及び物体処理方法
US10254659B1 (en) * 2017-09-27 2019-04-09 Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd Exposure apparatus and method for exposure of transparent substrate
CN111164513B (zh) * 2017-09-29 2022-08-16 株式会社尼康 基板搬运、曝光装置、方法、平板显示器及元件制造方法
WO2019064585A1 (ja) * 2017-09-29 2019-04-04 株式会社ニコン 基板搬送装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、基板搬送方法、及び露光方法
KR102458992B1 (ko) * 2017-09-29 2022-10-25 가부시키가이샤 니콘 기판 반송 장치, 노광 장치, 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법, 디바이스 제조 방법, 기판 반송 방법, 및 노광 방법
CN109384062B (zh) 2018-09-19 2020-02-18 武汉华星光电技术有限公司 一种曝光机及其传送基板的方法
JP7196734B2 (ja) * 2019-03-29 2022-12-27 株式会社ニコン 基板搬送装置、露光装置、フラットパネルディスプレイ製造方法、デバイス製造方法、及び露光方法
JP7207096B2 (ja) * 2019-03-29 2023-01-18 株式会社ニコン 基板搬送装置、露光装置、フラットパネルディスプレイ製造方法、デバイス製造方法、及び露光方法
JP7287058B2 (ja) * 2019-03-29 2023-06-06 株式会社ニコン 基板搬送装置、露光装置、フラットパネルディスプレイ製造方法、デバイス製造方法、及び露光方法
CN111817497B (zh) * 2020-07-10 2022-01-21 深圳市汇顶科技股份有限公司 控制装置和运动机构
JP7433181B2 (ja) * 2020-09-23 2024-02-19 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 描画装置
JP7107352B2 (ja) * 2020-12-17 2022-07-27 株式会社ニコン 基板搬送装置、露光装置、フラットパネルディスプレイ製造方法、デバイス製造方法、基板搬送方法、及び露光方法
CN113108715B (zh) * 2021-04-13 2024-01-23 南京中安半导体设备有限责任公司 悬浮物的测量装置和气浮卡盘
US11899198B2 (en) 2022-05-23 2024-02-13 Applied Materials, Inc. Controlling light source wavelengths for selectable phase shifts between pixels in digital lithography systems

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1754795A (zh) * 2004-09-29 2006-04-05 株式会社岛津制作所 基板搬送装置和配置有这种基板搬送装置的真空处理装置
CN101124133A (zh) * 2004-04-14 2008-02-13 科福罗科学解决方案有限公司 用于调整距离的非接触支撑平台
US7363856B1 (en) * 1999-02-17 2008-04-29 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Flat bed platesetter system
JP2008159784A (ja) * 2006-12-22 2008-07-10 Sumitomo Heavy Ind Ltd ステージ装置
WO2008120785A1 (ja) * 2007-04-03 2008-10-09 Nsk Ltd. 露光装置及び露光方法
JP2010054849A (ja) * 2008-08-28 2010-03-11 Nsk Ltd スキャン露光装置およびスキャン露光方法

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62168024U (zh) * 1986-04-15 1987-10-24
KR100300618B1 (ko) 1992-12-25 2001-11-22 오노 시게오 노광방법,노광장치,및그장치를사용하는디바이스제조방법
JP2001215718A (ja) 1999-11-26 2001-08-10 Nikon Corp 露光装置及び露光方法
JP2002036373A (ja) * 2000-07-25 2002-02-05 Sanyo Electric Co Ltd 光造形装置
TW529172B (en) 2001-07-24 2003-04-21 Asml Netherlands Bv Imaging apparatus
JP2003324028A (ja) * 2002-04-30 2003-11-14 Jfe Steel Kk 平面磁気素子の製造方法
JP2004001924A (ja) * 2002-05-30 2004-01-08 Nikon Corp 搬送装置及び露光装置
JP2004231331A (ja) * 2003-01-29 2004-08-19 Dainippon Printing Co Ltd 基板の搬送方法及び基板の搬送装置
JP2006086442A (ja) * 2004-09-17 2006-03-30 Nikon Corp ステージ装置及び露光装置
JP4381949B2 (ja) * 2004-10-07 2009-12-09 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
JP4413789B2 (ja) * 2005-01-24 2010-02-10 東京エレクトロン株式会社 ステージ装置および塗布処理装置
JP4917780B2 (ja) * 2005-09-08 2012-04-18 住友化学株式会社 露光装置
JP4593536B2 (ja) * 2006-08-23 2010-12-08 大日本スクリーン製造株式会社 姿勢変換装置および基板搬送装置
JP2008174361A (ja) * 2007-01-19 2008-07-31 Tokyo Electron Ltd 基板搬送装置
WO2008129762A1 (ja) 2007-03-05 2008-10-30 Nikon Corporation 移動体装置、パターン形成装置及びパターン形成方法、デバイス製造方法、移動体装置の製造方法、並びに移動体駆動方法
US7607647B2 (en) 2007-03-20 2009-10-27 Kla-Tencor Technologies Corporation Stabilizing a substrate using a vacuum preload air bearing chuck
JP5150949B2 (ja) * 2007-06-18 2013-02-27 Ｎｓｋテクノロジー株式会社 近接スキャン露光装置及びその制御方法
US7806641B2 (en) * 2007-08-30 2010-10-05 Ascentool, Inc. Substrate processing system having improved substrate transport system
KR101431146B1 (ko) * 2008-05-09 2014-08-18 주식회사 디엠에스 약액도포장치
KR20100018950A (ko) 2008-08-08 2010-02-18 하명찬 타이어 가황기용 단열판
JP4954162B2 (ja) * 2008-08-29 2012-06-13 東京エレクトロン株式会社 処理システム
CN102341211A (zh) * 2009-03-03 2012-02-01 日立Via机械株式会社 工件的薄膜加工方法及薄膜加工装置
JP4916035B2 (ja) * 2009-08-28 2012-04-11 東京エレクトロン株式会社 基板搬送装置及び基板搬送方法
US20120064461A1 (en) * 2010-09-13 2012-03-15 Nikon Corporation Movable body apparatus, exposure apparatus, device manufacturing method, flat-panel display manufacturing method, and object exchange method

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7363856B1 (en) * 1999-02-17 2008-04-29 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Flat bed platesetter system
CN101124133A (zh) * 2004-04-14 2008-02-13 科福罗科学解决方案有限公司 用于调整距离的非接触支撑平台
CN1754795A (zh) * 2004-09-29 2006-04-05 株式会社岛津制作所 基板搬送装置和配置有这种基板搬送装置的真空处理装置
JP2008159784A (ja) * 2006-12-22 2008-07-10 Sumitomo Heavy Ind Ltd ステージ装置
WO2008120785A1 (ja) * 2007-04-03 2008-10-09 Nsk Ltd. 露光装置及び露光方法
JP2010054849A (ja) * 2008-08-28 2010-03-11 Nsk Ltd スキャン露光装置およびスキャン露光方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111103765A (zh) * 2018-10-29 2020-05-05 佳能株式会社 曝光装置以及物品制造方法

Also Published As

Publication number Publication date
TWI684833B (zh) 2020-02-11
TW201905604A (zh) 2019-02-01
CN103097959B (zh) 2017-08-11
TW201222165A (en) 2012-06-01
KR20180117218A (ko) 2018-10-26
KR20130108350A (ko) 2013-10-02
JP2012060134A (ja) 2012-03-22
JP2016136646A (ja) 2016-07-28
KR20200011614A (ko) 2020-02-03
JP6624402B2 (ja) 2019-12-25
JP5910980B2 (ja) 2016-04-27
KR101911727B1 (ko) 2018-10-30
US20120064461A1 (en) 2012-03-15
JP6409897B2 (ja) 2018-10-24
KR102072079B1 (ko) 2020-01-31
JP2017122939A (ja) 2017-07-13
TWI582538B (zh) 2017-05-11
TW202014808A (zh) 2020-04-16
JP2020038392A (ja) 2020-03-12
JP6292417B2 (ja) 2018-03-14
CN107315321A (zh) 2017-11-03
HK1245904A1 (zh) 2018-08-31
JP2019012846A (ja) 2019-01-24
CN107450280B (zh) 2019-05-31
JP6835191B2 (ja) 2021-02-24
CN107315321B (zh) 2019-03-22
TWI665528B (zh) 2019-07-11
CN109557771A (zh) 2019-04-02
TW201721301A (zh) 2017-06-16
CN107450280A (zh) 2017-12-08
TWI715384B (zh) 2021-01-01
KR102218118B1 (ko) 2021-02-19
WO2012036252A1 (en) 2012-03-22
CN109557771B (zh) 2021-12-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103097959A (zh) 移动体装置、曝光装置、元件制造方法、平板显示器的制造方法、及物体交换方法
CN103097957B (zh) 移动体装置、物体处理装置、曝光装置、平板显示器的制造方法、及元件制造方法
CN105842994B (zh) 曝光装置、移动体装置、平板显示器的制造方法、及元件制造方法
TWI533093B (zh) 移動體裝置、圖案形成裝置及其方法、元件製造方法、移動體裝置的製造方法、以及移動體驅動方法
CN101681809B (zh) 曝光装置、曝光方法以及器件制造方法
CN103119706B (zh) 曝光装置、物体的更换方法、曝光方法、以及元件制造方法
CN103782239B (zh) 基板处理装置及基板处理方法、曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法、及平板显示器的制造方法
CN102483579A (zh) 物体移动装置、物体处理装置、曝光装置、物体检查装置及元件制造方法
CN102483578A (zh) 物体处理装置、曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法
CN105372947A (zh) 移动体装置、物体处理装置、曝光装置、平板显示器的制造方法、及元件制造方法
CN103534787B (zh) 基板的更换装置
CN104662478B (zh) 物体交换方法、物体交换系统、曝光装置、平面显示器的制造方法、及组件制造方法
CN108139678A (zh) 移动体装置、曝光装置、平面显示器的制造方法、及元件制造方法、以及物体的移动方法
CN103765554B (zh) 移动体装置、曝光装置、平板显示器的制造方法、及元件制造方法
WO2023014646A1 (en) Multiple camera apparatus for photolithographic processing

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
REG Reference to a national code

Ref country code: HK

Ref legal event code: DE

Ref document number: 1179357

Country of ref document: HK

C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
REG Reference to a national code

Ref country code: HK

Ref legal event code: GR

Ref document number: 1179357

Country of ref document: HK