CN102346373A - 射线敏感性树脂组合物、固化膜、固化膜的形成方法及彩色滤光片 - Google Patents

射线敏感性树脂组合物、固化膜、固化膜的形成方法及彩色滤光片 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种射线敏感性树脂组合物、固化膜、固化膜的形成方法及彩色滤光片。本发明的目的是提供同时满足贮存稳定性和短时间低温焙烧，并且具有充分的分辨率、射线敏感性及显影性的射线敏感性树脂组合物、粘合性、耐光性、耐热性、耐化学药品性、透射率、平坦性、电压保持率及尺寸稳定性优异的固化膜、该固化膜的形成方法、及耐热性、耐化学药品性、电压保持率等优异的彩色滤光片。本发明公开了一种射线敏感性树脂组合物，其含有[A](A1)选自不饱和羧酸及不饱和羧酸酐构成的群组中的至少一种化合物和(A2)含有环氧基的不饱和化合物进行共聚而形成的碱可溶性树脂、[B]具有乙烯性不饱和键的聚合性化合物、[C]射线敏感性聚合引发剂、及[D]下述式(1)表示的化合物。

Description

射线敏感性树脂组合物、固化膜、固化膜的形成方法及彩色滤光片
技术领域
本发明涉及射线敏感性树脂组合物、固化膜、固化膜的形成方法及彩色滤光片。 
背景技术
近年，液晶显示元件在液晶电视、便携电话等方面的应用不断广大，要求液晶显示元件进一步大画面化、高亮度化、薄型化等。因此作为被用于显示元件的层间绝缘膜、保护膜、隔离物等的固化膜材料的射线敏感性树脂组合物，从缩短工序时间及削减成本方面考虑，需要高敏感度化及高分辨率化。另外，对于得到的固化膜，要求达到进一步的高平坦性、粘合性、高透射率化等(参考日本特开2009-36858号公报)。 
另一方面，电子纸等柔性显示器正在普及。作为该柔性显示器的基板，已研究了聚对苯二甲酸乙二酯等塑料基板。该基板在加热时伸张、收缩，存在着损害显示器功能的不良情况，因此必须达到固化膜焙烧工序的低温化。 
鉴于上述情况，已开发了栅绝缘膜用涂布液技术，其用于柔性显示器，含有即使进行低温烧制也能固化的聚酰亚胺前体(参考日本特开2009-4394号公报)。但是，该涂布液并不具备通过曝光显影形成图案的功能，因此不可形成微细的图案。而且会导致固化反应进行不充分，或者焙烧时间长达1小时以上，另外，得到 的固化膜也没有达到满足耐光性、耐热性、耐化学药品性、电压保持率等方面的水平。于是还考虑了如下策略：添加被作为环氧基类材料的固化剂使用的胺化合物，使得在低温下也能进行交联反应，但在添加一般的胺化合物时，会导致随时间经过而与组合物中存在的环氧基进行反应，使贮存稳定性变差。 
基于这种状况，还期待开发同时满足贮存稳定性和短时间低温焙烧，并且具有充分的分辨率、射线敏感性及显影性的射线敏感性树脂组合物，以及粘合性、耐光性、耐热性、耐化学药品性、透射率、平坦性、电压保持率及尺寸稳定性优异的固化膜。 
现有技术文献 
专利文献 
专利文献1：日本特开2009-36858号公报 
专利文献2：日本特开2009-4394号公报 
发明内容
本发明是基于以上情况做成的，其目的是提供同时满足贮存稳定性和短时间低温焙烧，并且具有充分的分辨率、射线敏感性及显影性的射线敏感性树脂组合物，以及粘合性、耐光性、耐热性、耐化学药品性、透射率、平坦性、电压保持率及尺寸稳定性优异的固化膜、该固化膜的形成方法、及耐热性、耐化学药品性、电压保持率等优异的彩色滤光片。 
用于解决上述问题的发明为： 
一种射线敏感性树脂组合物，其含有： 
[A](A1)从不饱和羧酸及不饱和羧酸酐组成的群中选出的至少一种化合物(以下也称为“(A1)化合物”)和(A2)含有环氧基的不饱和化合物(以下也称为“(A2)化合物”)进行共聚而形成的碱可溶性 树脂(以下也称为“[A]碱可溶性树脂”)、 
[B]具有乙烯性不饱和键的聚合性化合物(以下也称为“[B]聚合性化合物”)、 
[C]射线敏感性聚合引发剂、及 
[D]下述式(1)表示的化合物。 
Figure BSA00000551439600031
(式(1)中，A为氮原子或磷原子。R1～R4各自独立，为氢原子、碳原子数1～20的烷基、碳原子数6～18的芳基、或碳原子数7～30的芳烷基。X-为1价的阴离子。其中，上述烷基、芳基及芳烷基所具有的部分或全部氢原子可以被取代基取代)。 
该射线敏感性树脂组合物含有[A]碱可溶性树脂、[B]聚合性化合物、[C]射线敏感性聚合引发剂及[D]化合物。作为射线敏感性材料的该射线敏感性树脂组合物，可以通过利用了射线敏感性的曝光、显影容易地形成微细而精巧的图案，并且具有充分的分辨率及射线敏感性。另外，由于该射线敏感性树脂组合物含有[C]射线敏感性聚合引发剂，在低曝光量情况下也能提高耐热性等固化膜所需特性。而且由于该射线敏感性树脂组合物含有[D]化合物，有效地起到了固化催化剂作用，能够使该射线敏感性树脂组合物高水平地同时满足贮存稳定性和低温焙烧时对固化膜的固化促进。 
该射线敏感性树脂组合物优选被用于形成作为层间绝缘膜、保护膜或隔离物的固化膜，另外，本发明优选包含作为层间绝缘膜、保护膜或隔离物的固化膜。由该射线敏感性树脂组合物形成的作为层间绝缘膜、保护膜或隔离物的固化膜，粘合性、耐光性、 耐热性、耐化学药品性、透射率、平坦性、电压保持率及尺寸稳定性优异。 
本发明的彩色滤光片，具备该固化膜和层合于该固化膜上的由液晶取向剂形成的取向膜。本发明的彩色滤光片的耐热性、耐化学药品性、电压保持率等优异。 
上述液晶取向剂优选为含有带光取向性基团的射线敏感性聚合物的液晶取向剂、或含有不带光取向性基团的聚酰亚胺的液晶取向剂。 
本发明的固化膜的形成方法具备： 
(1)在基板上涂布该射线敏感性树脂组合物，形成涂膜的工序、 
(2)对上述涂膜的至少一部分进行射线照射的工序、 
(3)使进行了上述射线照射的涂膜显影的工序、及 
(4)对经过上述显影的涂膜进行焙烧的工序。 
如果采用本发明的形成方法，就可以形成粘合性、耐光性、耐热性、耐化学药品性、透射率、平坦性、电压保持率及尺寸稳定性得到很均衡地满足的固化膜。 
作为上述工序(4)的焙烧温度，优选为200℃以下。由于该射线敏感性树脂组合物含有如上所述作为固化促进剂的[D]化合物，适宜作为希望能够实现低温焙烧的柔性显示器等中使用的层间绝缘膜、保护膜及隔离物等固化膜的形成材料。 
本发明的彩色滤光片的形成方法还具备： 
(5)在经过上述工序(4)焙烧的涂膜上涂布液晶取向剂，通过在200℃以下加热而形成取向膜的工序。 
由于该形成方法还具备上述工序(5)，可以形成具备液晶取向用取向膜的彩色滤光片。 
还有，本说明书中的所谓“焙烧”是指加热至得到层间绝缘 膜、保护膜及隔离物等固化膜所需要的表面硬度。另外，“射线敏感性树脂组合物”中的“射线”是指包含可见光、紫外线、远紫外线、X射线、带电粒子束等的概念。 
如上所述，本发明的射线敏感性树脂组合物可以容易地形成微细而精巧的图案，同时满足了贮存稳定性和短时间低温焙烧，并且具有充分的分辨率、射线敏感性及显影性。另外，作为由该射线敏感性树脂组合物形成的固化膜，作为其所需特性的粘合性、耐光性、耐热性、耐化学药品性、透射率、平坦性、电压保持率、尺寸稳定性等优异。因此，该射线敏感性树脂组合物适宜作为希望进行低温焙烧的柔性显示器等中使用的层间绝缘膜、保护膜、隔离物等固化膜的形成材料。另外，具备形成了取向膜的该固化膜的彩色滤光片的耐热性、耐化学药品性、电压保持率等优异。 
具体实施方式
<射线敏感性树脂组合物> 
本发明的射线敏感性树脂组合物含有[A]碱可溶性树脂、[B]聚合性化合物、[C]射线敏感性聚合引发剂及[D]化合物。另外，该射线敏感性树脂组合物还可以含有不损害本发明效果的任选成分。以下对各种成分进行详细说明。 
<[A]碱可溶性树脂> 
[A]碱可溶性树脂可以通过在溶剂中及聚合引发剂的存在下，使(A1)化合物及(A2)化合物进行自由基聚合来合成。另外，对于[A]碱可溶性树脂的制造，也可以使作为(A3)化合物的上述(A1)及(A2)以外的不饱和化合物与(A1)化合物及(A2)化合物一起进行自由基共聚。以下对各化合物进行详细说明。还有，各化合物可以同时使用两种以上。 
[(A1)化合物] 
作为(A1)化合物，可以列举例如不饱和单羧酸、不饱和二羧酸、不饱和二羧酸的酐、多元羧酸的单[(甲基)丙烯酰氧基烷基]酯、两个末端带有羧基和羟基的聚合物的单(甲基)丙烯酸酯、带有羧基的不饱和多环式化合物及其酐等。 
作为不饱和单羧酸，可以列举例如丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸等。作为不饱和二羧酸，可以列举例如马来酸、富马酸、柠康酸、中康酸、衣康酸等。作为不饱和二羧酸的酐，可以列举例如上述作为二羧酸例示的化合物的酐等。作为多元羧酸的单[(甲基)丙烯酰氧基烷基]酯，可以列举例如琥珀酸单〔2-(甲基)丙烯酰氧基乙酯〕、邻苯二甲酸单〔2-(甲基)丙烯酰氧基乙酯〕等。作为两个末端带有羧基和羟基的聚合物的单(甲基)丙烯酸酯，可以列举例如ω-羧基聚己内酯单(甲基)丙烯酸酯等。作为带有羧基的不饱和多环式化合物及其酐，可以列举例如5-羧基双环[2.2.1]庚-2-烯、5，6-二羧基双环[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-5-甲基双环[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-5-乙基双环[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-6-甲基双环[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-6-乙基双环[2.2.1]庚-2-烯、5，6-二羧基双环[2.2.1]庚-2-烯酐等。 
在这些物质中，优选单羧酸、二羧酸的酐，从共聚反应性、对碱水溶液的溶解性及获取容易性方面考虑，更优选(甲基)丙烯酸、马来酸酐。 
作为[A]碱可溶性树脂中来源于(A1)化合物的结构单元的含有比例，优选相对于全部结构单元为5质量％～40质量％，更优选为5质量％～25质量％。通过使来源于(A 1)化合物的结构单元的含有比例为5质量％～40质量％，可以得到[A]碱可溶性树脂对碱水溶液的溶解性达到最佳化，同时具有优异的射线敏感性、显影性及分 辨率的射线敏感性树脂组合物。 
[(A2)化合物] 
(A2)化合物是具有自由基聚合性的含有环氧基的不饱和化合物。作为环氧基，可以列举环氧乙烷基(1，2-环氧结构)、氧杂环丁烷基(1，3-环氧结构)。 
作为含有环氧乙烷基的不饱和化合物，可以列举例如丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、α-乙基丙烯酸缩水甘油酯、α-正丙基丙烯酸缩水甘油酯、α-正丁基丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸-3，4-环氧丁酯、甲基丙烯酸-3，4-环氧丁酯、丙烯酸-6，7-环氧庚酯、甲基丙烯酸-6，7-环氧庚酯、α-乙基丙烯酸-6，7-环氧庚酯、邻乙烯基苄基缩水甘油醚、间乙烯基苄基缩水甘油醚、对乙烯基苄基缩水甘油醚、3，4-环氧环己基甲基丙烯酸酯等。 
作为含有氧杂环丁烷基的不饱和化合物，可以列举例如 
3-(丙烯酰氧基甲基)氧杂环丁烷、3-(丙烯酰氧基甲基)-2-甲基氧杂环丁烷、3-(丙烯酰氧基甲基)-3-乙基氧杂环丁烷、3-(丙烯酰氧基甲基)-2-三氟甲基氧杂环丁烷、3-(丙烯酰氧基甲基)-2-五氟乙基氧杂环丁烷、3-(丙烯酰氧基甲基)-2-苯基氧杂环丁烷、3-(丙烯酰氧基甲基)-2，2-二氟氧杂环丁烷、3-(丙烯酰氧基甲基)-2，2，4-三氟氧杂环丁烷、3-(丙烯酰氧基甲基)-2，2，4，4-四氟氧杂环丁烷、3-(2-丙烯酰氧基乙基)氧杂环丁烷、3-(2-丙烯酰氧基乙基)-2-乙基氧杂环丁烷、3-(2-丙烯酰氧基乙基)-3-乙基氧杂环丁烷、3-(2-丙烯酰氧基乙基)-2-三氟甲基氧杂环丁烷、3-(2-丙烯酰氧基乙基)-2-五氟乙基氧杂环丁烷、3-(2-丙烯酰氧基乙基)-2-苯基氧杂环丁烷、3-(2-丙烯酰氧基乙基)-2，2-二氟氧杂环丁烷、3-(2-丙烯酰氧基乙基)-2，2，4-三氟氧杂环丁烷、3-(2-丙烯酰氧基乙基)-2，2，4，4-四氟氧杂环丁烷等丙烯酸酯； 
3-(甲基丙烯酰氧基甲基)氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基甲基)-2-甲基氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基甲基)-3-乙基氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基甲基)-2-三氟甲基氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基甲基)-2-五氟乙基氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基甲基)-2-苯基氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基甲基)-2，2-二氟氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基甲基)-2，2，4-三氟氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基甲基)-2，2，4，4-四氟氧杂环丁烷、3-(2-甲基丙烯酰氧基乙基)氧杂环丁烷、3-(2-甲基丙烯酰氧基乙基)-2-乙基氧杂环丁烷、3-(2-甲基丙烯酰氧基乙基)-3-乙基氧杂环丁烷、3-(2-甲基丙烯酰氧基乙基)-2-三氟甲基氧杂环丁烷、3-(2-甲基丙烯酰氧基乙基)-2-五氟乙基氧杂环丁烷、3-(2-甲基丙烯酰氧基乙基)-2-苯基氧杂环丁烷、3-(2-甲基丙烯酰氧基乙基)-2，2-二氟氧杂环丁烷、3-(2-甲基丙烯酰氧基乙基)-2，2，4-三氟氧杂环丁烷、3-(2-甲基丙烯酰氧基乙基)-2，2，4，4-四氟氧杂环丁烷等甲基丙烯酸酯等。 
在这些物质中，从提高共聚反应性及射线敏感性树脂组合物的尺寸稳定性方面考虑，优选甲基丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸-6，7-环氧庚基、邻乙烯基苄基缩水甘油醚、间乙烯基苄基缩水甘油醚、对乙烯基苄基缩水甘油醚、3，4-环氧环己基甲基丙烯酸酯。 
作为[A]碱可溶性树脂中来源于(A2)化合物的结构单元的含有比例，优选相对于全部结构单元为10质量％～80质量％，更优选为15质量％～60质量％。通过使来源于(A2)化合物的结构单元的含有比例为10质量％～80质量％，可以形成具有优异的耐化学药品性的固化膜。 
[(A3)化合物] 
(A3)化合物是(A1)化合物及(A2)化合物以外的化合物，只要是具有自由基聚合性的不饱和化合物，就没有特别的限制。作为(A3) 化合物，可以列举例如甲基丙烯酸链状烷基酯、甲基丙烯酸环状烷基酯、带有羟基的甲基丙烯酸酯、丙烯酸环状烷基酯、甲基丙烯酸芳基酯、丙烯酸芳基酯、不饱和二羧酸二酯、双环不饱和化合物、马来酰亚胺化合物、不饱和芳香族化合物、共轭二烯、具有四氢呋喃骨架、呋喃骨架、四氢吡喃骨架、吡喃骨架、下述式(2)表示的骨架的不饱和化合物、下述式(3)表示的含有酚性羟基的不饱和化合物、其它的不饱和化合物等。 
Figure BSA00000551439600091
上述式(2)中，R5为氢原子或甲基。m为1以上的整数。 
上述式(3)中，R6为氢原子或碳原子数1～4的烷基。R7～R11各自独立，为氢原子、羟基、或碳原子数1～4的烷基。Y为单键、-COO-或-CONH-。p为0～3的整数。但是，R7～R11中的至少一个为羟基。 
作为上述甲基丙烯酸链状烷基酯，可以列举例如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸仲丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸异癸酯、甲基丙烯酸正月桂基酯、甲基丙烯酸十三烷基酯、甲基丙烯酸正硬脂酯等。 
作为甲基丙烯酸环状烷基酯，可以列举例如甲基丙烯酸酯环己酯、甲基丙烯酸酯2-甲基环己酯、三环[5.2.1.02，6]癸烷-8-基甲基丙烯酸酯、三环[5.2.1.02，6]癸烷-8-基氧乙基甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸异冰片酯等。 
作为带有羟基的甲基丙烯酸酯，可以列举例如丙烯酸羟甲酯、甲基丙烯酸酯2-羟基乙酯、甲基丙烯酸酯3-羟基丙酯、甲基丙烯酸酯4-羟基丁酯、二乙二醇单甲基丙烯酸酯、2，3-二羟基丙基甲基丙烯酸酯、2-甲基丙烯酰氧基乙基葡萄糖苷、4-羟基苯基甲基丙烯酸酯等。 
作为丙烯酸环状烷基酯，可以列举例如丙烯酸环己酯、2-甲基环己基丙烯酸酯、三环[5.2.1.02，6]癸烷-8-基丙烯酸酯、三环[5.2.1.02，6]癸烷-8-基氧乙基丙烯酸酯、丙烯酸异冰片酯等。 
作为甲基丙烯酸芳基酯，可以列举例如甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸苄酯等。 
作为丙烯酸芳基酯，可以列举例如丙烯酸苯酯、丙烯酸苄酯等。 
作为不饱和二羧酸二酯，可以列举例如马来酸二乙酯、富马酸二乙酯、衣康酸二乙酯等。 
作为双环不饱和化合物，可以列举例如双环[2.2.1]庚-2-烯、5-甲基双环[2.2.1]庚-2-烯、5-乙基双环[2.2.1]庚-2-烯、5-甲氧基双环[2.2.1]庚-2-烯、5-乙氧基双环[2.2.1]庚-2-烯、5，6-二甲氧基双环 [2.2.1]庚-2-烯、5，6-二乙氧基双环[2.2.1]庚-2-烯、5-叔丁氧羰基双环[2.2.1]庚-2-烯、5-环己基氧羰基双环[2.2.1]庚-2-烯、5-苯氧羰基双环[2.2.1]庚-2-烯、5，6-二(叔丁氧羰基)双环[2.2.1]庚-2-烯、5，6-二(环己基氧羰基)双环[2.2.1]庚-2-烯、5-(2’-羟基乙基)双环[2.2.1]庚-2-烯、5，6-二羟基双环[2.2.1]庚-2-烯、5，6-二(羟基甲基)双环[2.2.1]庚-2-烯、5，6-二(2’-羟基乙基)双环[2.2.1]庚-2-烯、5-羟基-5-甲基双环[2.2.1]庚-2-烯、5-羟基-5-乙基双环[2.2.1]庚-2-烯、5-羟基甲基-5-甲基双环[2.2.1]庚-2-烯等。 
作为马来酰亚胺化合物，可以列举例如N-苯基马来酰亚胺、N-环己基马来酰亚胺、N-苄基马来酰亚胺、N-(4-羟基苯基)马来酰亚胺、N-(4-羟基苄基)马来酰亚胺、N-琥珀酰亚胺基-3-马来酰亚胺苯甲酸酯、N-琥珀酰亚胺基-4-马来酰亚胺丁酸酯、N-琥珀酰亚胺基-6-马来酰亚胺己酸酯、N-琥珀酰亚胺基-3-马来酰亚胺丙酸酯、N-(9-吖啶基)马来酰亚胺等。 
作为不饱和芳香族化合物，可以列举例如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、间甲基苯乙烯、对甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、对甲氧基苯乙烯等。 
作为共轭二烯，可以列举例如1，3-丁二烯、异戊二烯、2，3-二甲基-1，3-丁二烯等。 
作为含有四氢呋喃骨架的不饱和化合物，可以列举例如四氢呋喃甲基(甲基)丙烯酸酯、2-甲基丙烯酰氧基-丙酸四氢呋喃甲酯、3-(甲基)丙烯酰氧基四氢呋喃-2-酮等。 
作为含有呋喃骨架的不饱和化合物，可以列举例如2-甲基-5-(3-呋喃基)-1-戊烯-3-酮、呋喃甲基(甲基)丙烯酸酯、1-呋喃-2-丁基-3-烯-2-酮、1-呋喃-2-丁基-3-甲氧基-3-烯-2-酮、6-(2-呋喃基)-2-甲基-1-己烯-3-酮、6-呋喃-2-基-己-1-烯-3-酮、丙烯酸-2-呋 喃-2-基-1-甲基-乙基酯、6-(2-呋喃基)-6-甲基-1-庚烯-3-酮等。 
作为具有四氢吡喃骨架的不饱和化合物，可以列举例如(四氢吡喃-2-基)甲基丙烯酸甲酯、2，6-二甲基-8-(四氢吡喃-2-基氧)-辛-1-烯-3-酮、2-甲基丙烯酸四氢吡喃-2-基酯、1-(四氢吡喃-2-氧)-丁基-3-烯-2-酮等。 
作为含有吡喃骨架的不饱和化合物，可以列举例如4-(1，4-二氧杂-5-氧代-6-庚烯)-6-甲基-2-吡喃、4-(1，5-二氧杂-6-氧代-7-辛烯)-6-甲基-2-吡喃等。 
作为含有上述式(2)表示的骨架的不饱和化合物，可以列举例如聚乙二醇(n＝2～10)单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇(n＝2～10)单(甲基)丙烯酸酯等。 
作为上述式(3)表示的含有酚性羟基的不饱和化合物，可以列举下述式(4)～(8)表示的化合物等。 
Figure BSA00000551439600121
上述式(4)中、q为1至3的整数。R6～R11与上述式(3)中含义相同。 
Figure BSA00000551439600131
上述式(5)中，R6～R11与上述式(3)中的含义相同。 
Figure BSA00000551439600132
上述式(6)中，r为1至3的整数。R6～R11与上述式(3)中的含义相同。 
Figure BSA00000551439600141
上述式(7)中，R6～R11与上述式(3)中的含义相同。 
Figure BSA00000551439600142
上述式(8)中，R6～R11与上述式(3)中的含义相同。 
作为其它的不饱和化合物，可以列举例如丙烯腈、甲基丙烯腈、氯乙烯、偏氯乙烯、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、醋酸乙烯基等。 
在这些(A3)化合物中，优选甲基丙烯酸链状烷基酯、甲基丙烯酸环状烷基酯、马来酰亚胺化合物、含有四氢呋喃骨架、呋喃骨架、四氢吡喃骨架、吡喃骨架、上述式(2)表示的骨架的不饱和化合物、上述式(3)表示的含有酚性羟基的不饱和化合物、不饱和芳香族化合物、丙烯酸环状烷基酯，从共聚反应性及对碱水溶液 的溶解性方面考虑，更优选苯乙烯、甲基丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸正月桂基酯、三环[5.2.1.02，6]癸烷-8-基甲基丙烯酸酯、对甲氧基苯乙烯、2-甲基环己基丙烯酸酯、N-苯基马来酰亚胺、N-环己基马来酰亚胺、四氢呋喃甲基(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇(n＝2～10)单(甲基)丙烯酸酯、3-(甲基)丙烯酰氧基四氢呋喃-2-酮、4-羟基苄基(甲基)丙烯酸酯、4-羟基苯基(甲基)丙烯酸酯、邻羟基苯乙烯、对羟基苯乙烯、α-甲基-对羟基苯乙烯。 
在[A]碱可溶性树脂中，作为来源于(A3)化合物的结构单元的含有比例，优选相对于全部结构单元为10质量％～80质量％，更优选为20质量％～70质量％。通过使来源于(A3)化合物的结构单元的含有比例为10质量％～80质量％，可以得到显影性及形成的固化物的耐化学药品性优异的射线敏感性树脂组合物。 
作为[A]碱可溶性树脂的重均分子量(Mw)，优选2.0×103～1×105，更优选5.0×103～5.0×104。通过使[A]碱可溶性树脂的Mw为2.0×103～1.0×105，可以提高该射线敏感性树脂组合物的射线敏感性及显影性。还有，在本说明书中聚合物的Mw及数平均分子量(Mn)按下述条件通过凝胶渗透色谱(GPC)进行测定。 
装置：GPC-101(昭和电工社) 
柱：结合GPC-KF-801、GPC-KF-802、GPC-KF-803及GPC-KF-804 
流动相：四氢呋喃 
柱温度：40℃ 
流速：1.0mL/分 
试样浓度：1.0质量％ 
试样注入量：100μL 
检测器：差示折射计 
标准物质：单分散聚苯乙烯 
作为用于合成[A]碱可溶性树脂的聚合反应中使用的溶剂，可以列举例如醇、二醇醚、乙二醇烷基醚醋酸酯、二乙二醇单烷基醚、二乙二醇二烷基醚、二丙二醇二烷基醚、丙二醇单烷基醚、丙二醇烷基醚醋酸酯、丙二醇单烷基醚丙酸酯、酮、酯等。 
作为醇，可以列举例如苄醇等； 
作为二醇醚，可以列举例如乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚等； 
作为乙二醇烷基醚醋酸酯，可以列举例如乙二醇单丁基醚醋酸酯、二乙二醇单乙基醚醋酸酯等； 
作为二乙二醇单烷基醚，可以列举例如二乙二醇单甲基醚、二乙二醇单乙基醚等；
作为二乙二醇二烷基醚，可以列举例如二乙二醇二甲基醚、二乙二醇二乙基醚、二乙二醇乙基甲基醚等； 
作为二丙二醇二烷基醚，可以列举例如二丙二醇二甲基醚、二丙二醇二乙基醚、二丙二醇乙基甲基醚等； 
作为丙二醇单烷基醚，可以列举例如丙二醇甲基醚、丙二醇乙基醚、丙二醇丙基醚、丙二醇丁基醚等； 
作为丙二醇烷基醚醋酸酯，可以列举例如丙二醇甲基醚醋酸酯、丙二醇乙基醚醋酸酯等； 
作为丙二醇单烷基醚丙酸酯，可以列举例如丙二醇甲基醚丙酸酯、丙二醇乙基醚丙酸酯、丙二醇丙基醚丙酸酯等； 
作为酮，可以列举例如甲基乙基酮、环己酮、4-羟基-4-甲基-2-戊酮、甲基异戊酮等； 
作为酯，可以列举例如醋酸乙酯、醋酸丁酯、2-羟基丙酸乙酯、2-羟基-2-甲基丙酸甲酯、2-羟基-2-甲基丙酸乙酯、羟基醋酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丙酯、乳酸丁酯、2-乙氧基丙 酸乙酯、2-乙氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸丁酯、2-丁氧基丙酸甲酯、2-丁氧基丙酸乙酯、2-丁氧基丙酸丙酯、2-丁氧基丙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸丙酯、3-甲氧基丙酸丁酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸丙酯、3-乙氧基丙酸丁酯、3-丙氧基丙酸甲酯等。 
在这些溶剂中，优选乙二醇烷基醚醋酸酯、二乙二醇单烷基醚、二乙二醇二烷基醚、丙二醇单烷基醚、丙二醇烷基醚醋酸酯，更优选二乙二醇二甲基醚、二乙二醇乙基甲基醚、丙二醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚醋酸酯。 
作为用于合成[A]碱可溶性树脂的聚合反应中使用的聚合引发剂，可以使用一般作为自由基聚合引发剂而公知的物质。作为自由基聚合引发剂，可以列举例如2，2’-偶氮二异丁腈、2，2’-偶氮二-(2，4-二甲基戊腈)、2，2’-偶氮二-(4-甲氧基-2，4-二甲基戊腈)等偶氮化合物；过氧化苯甲酰、过氧化月桂酰、过氧化新戊酸叔丁酯、1，1’-双(过氧化叔丁基)环己烷等有机过氧化物及过氧化氢。使用过氧化物作为自由基聚合引发剂时，也可以将过氧化物与还原剂同时使用作为氧化还原型引发剂。 
在用于制造[A]碱可溶性树脂的聚合反应中，为了调节分子量，可以使用分子量调节剂。分子量调节剂可以列举例如氯仿、四溴化碳等卤化烃类；正己基硫醇、正辛基硫醇、正十二烷基硫醇、叔十二烷基硫醇、巯基乙酸等硫醇类；二甲硫基代黄原精、二异丙基二硫代黄原精等黄原精类；异松油烯、α-甲基苯乙烯二聚体等。 
<[B]聚合性化合物> 
作为该射线敏感性树脂组合物中含有的[B]聚合性化合物，只要是具有乙烯性不饱和键的聚合性化合物，就没有特别的限制， 可以列举例如ω-羧基聚己内酯单(甲基)丙烯酸酯、乙二醇(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二苯氧基乙醇芴二(甲基)丙烯酸酯、二羟甲基三环癸烷二(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸2-羟基-3-(甲基)丙烯酰氧丙酯、2-(2’-乙烯氧基乙氧基)乙基(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三(2-(甲基)丙烯酰氧乙基)磷酸酯、环氧乙烷改性二季戊四醇六丙烯酸酯、琥珀酸改性季戊四醇三丙烯酸酯等，此外还有使下述化合物反应得到的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物等，该化合物分别为：具有直链烯基及脂环式结构，且具有两个以上异氰酸酯基的化合物和分子内具有一个以上羟基，且具有3～5个(甲基)丙烯酰氧基的化合物。 
作为[B]聚合性化合物的市售品，可以列举例如 
Aronix M-400、Aronix M-402、Aronix M-405、Aronix M-450、Aronix M-1310、Aronix M-1600、Aronix M-1960、Aronix M-7100、Aronix M-8030、Aronix M-8060、Aronix M-8100、Aronix M-8530、Aronix M-8560、Aronix M-9050、Aronix TO-1450、Aronix TO-1382(以上，东亚合成社)； 
KAYARAD DPHA、KAYARAD DPCA-20、KAYARAD DPCA-30、KAYARAD DPCA-60、KAYARAD DPCA-120、KAYARAD MAX-3510(以上，日本化药社)； 
Viscoat 295、Viscoat 300、Viscoat 360、Viscoat GPT、Viscoat 3PA、Viscoat400(以上，大阪有机化学工业社) 
作为氨基甲酸酯丙烯酸酯系化合物的New Frontier R-1150(第一工业制药社)； 
KAYARAD DPHA-40H、UX-5000(以上，日本化药社)； 
UN-9000H(根上工业社)、 
Aronix M-5300、Aronix M-5600、Aronix M-5700、M-210、Aronix M-220、Aronix M-240、Aronix M-270、Aronix M-6200、Aronix M-305、Aronix M-309、Aronix M-310、Aronix M-315(以上，东亚合成社)； 
KAYARAD HDDA、KAYARAD HX-220、KAYARAD HX-620、KAYARAD R-526、KAYARAD R-167、KAYARAD R-604、KAYARAD R-684、KAYARAD R-551、KAYARAD R-712、UX-2201、UX-2301、UX-3204、UX-3301、UX-4101、UX-6101、UX-7101、UX-8101、UX-0937、MU-2100、MU-4001(以上，日本化药社)； 
ア一トレジンUN-9000PEP、ア一トレジンUN-9200A、ア一トレジンUN-7600、ア一トレジンUN-333、ア一トレジンUN-1003、ア一トレジンUN-1255、ア一トレジンUN-6060PTM、ア一トレジンUN-6060P(以上，根上工业社)； 
SH-500B Viscoat 260、Viscoat 312、Viscoat 335HP(以上，大阪有机化学工业社)等。 
[B]聚合性化合物可以单独使用或混合两种以上使用。作为该射线敏感性树脂组合物中[B]聚合性化合物的含有量，优选相对于[A]碱可溶性树脂100质量份为20质量份～200质量份，更优选为40质量份～160质量份。通过使[B]聚合性化合物的含有量处于上述特定范围，该射线敏感性树脂组合物的粘合性优异，在低曝光量下也可以得到具有足够硬度的固化膜。 
<[C]射线敏感性聚合引发剂> 
该射线敏感性树脂组合物中含有的[C]射线敏感性聚合引发剂是对射线敏感、产生能够引发[B]聚合性不饱和化合物的聚合的活性种的成分。作为这种[C]射线敏感性聚合引发剂，可以列举O- 酰基肟化合物、苯乙酮化合物、联咪唑化合物等。还有，[C]射线敏感性聚合引发剂可以同时使用两种以上。 
作为O-酰基肟化合物，可以列举例如乙酮-1-〔9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基〕-1-(O-乙酰肟)、1-〔9-乙基-6-苯甲酰基-9H-咔唑-3-基〕-辛-1-酮肟-O-醋酸酯、1-〔9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基〕-乙-1-酮肟-O-苯甲酸酯、1-〔9-正丁基-6-(2-乙基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基〕-乙-1-酮肟-O-苯甲酸酯、乙酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-4-四氢呋喃基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-1-(O-乙酰肟)、乙酮-1-〔9-乙基-6-(2-甲基-4-四氢吡喃基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基〕-1-(O-乙酰肟)、乙酮-1-〔9-乙基-6-(2-甲基-5-四氢呋喃基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基〕-1-(O-乙酰肟)、乙酮-1-〔9-乙基-6-{2-甲基-4-(2，2-二甲基-1，3-二氧戊环基)甲氧基苯甲酰基}-9H-咔唑-3-基〕-1-(O-乙酰肟)等。在这些物质中，优选乙酮-1-〔9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基〕-1-(O-乙酰肟)、乙酮-1-〔9-乙基-6-(2-甲基-4-四氢呋喃基甲氧基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基〕-1-(O-乙酰肟)、乙酮-1-〔9-乙基-6-{2-甲基-4-(2，2-二甲基-1，3-二氧戊环基)甲氧基苯甲酰基}-9H-咔唑-3-基〕-1-(O-乙酰肟)。 
作为苯乙酮化合物，可以列举例如α-氨基酮化合物、α-羟基酮化合物。 
作为α-氨基酮化合物，可以列举例如2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉基苯基)-丁-1-酮、2-二甲基氨基-2-(4-甲基苄基)-1-(4-吗啉-4-基-苯基)-丁-1-酮、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基丙-1-酮等。 
作为α-羟基酮化合物，可以列举例如1-苯基-2-羟基-2-甲基丙-1-酮、1-(4-异丙基苯基)-2-羟基-2-甲基丙-1-酮、4-(2-羟基乙氧基)苯基-(2-羟基-2-丙基)酮、1-羟基环己基苯基酮等。 
在这些苯乙酮化合物中优选α-氨基酮化合物，更优选2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉基苯基)-丁-1-酮、2-二甲基氨基-2-(4-甲基苄基)-1-(4-吗啉-4-基-苯基)-丁-1-酮、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基丙-1-酮。 
作为联咪唑化合物，可以列举例如2，2’-双(2-氯苯基)-4，4’，5，5’-四(4-乙氧羰基苯基)-1，2’-联咪唑、2，2’-双(2-氯苯基)-4，4’，5，5’-四苯基-1，2’-联咪唑、2，2’-双(2，4-二氯苯基)-4，4’，5，5’-四苯基-1，2’-联咪唑、2，2’-双(2，4，6-三氯苯基)-4，4’，5，5’-四苯基-1，2’-联咪唑等。在这些物质中，优选2，2’-双(2-氯苯基)-4，4’，5，5’-四苯基-1，2’-联咪唑、2，2’-双(2，4-二氯苯基)-4，4’，5，5’-四苯基-1，2’-联咪唑、2，2’-双(2，4，6-三氯苯基)-4，4’，5，5’-四苯基-1，2’-联咪唑，更优选2，2’-双(2，4-二氯苯基)-4，4’，5，5’-四苯基-1，2’-联咪唑。 
作为[C]射线敏感性聚合引发剂的市售产品，可以列举例如2-甲基-1-(4-甲硫基苯基))-2-吗啉基丙-1-酮(IRGACURE 907、2-(4-甲基苄基)-2-(二甲基氨基)-1-(4-吗啉基苯基)-丁-1-酮(IRGACURE379)、1，2-辛二酮-1-[4-(苯硫基)-2-(O-苯甲酰基肟)](IRGACURE OXE01)、乙酮-1-〔9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基〕-1-(O-乙酰肟)(IRGACURE OXE02)(以上，Ciba Speciality Chemicals公司)等。 
作为该射线敏感性树脂组合物中[C]射线敏感性聚合引发剂的含有量，优选相对于[A]碱可溶性树脂100质量份为1质量份～40质量份，更优选为5质量份～30质量份。通过使[C]射线敏感性聚合引发剂的含有量为1质量份～40质量份，该射线敏感性树脂组合物为低曝光量的情况下也可以形成具有高硬度及粘合性的固化膜。 
<[D]化合物> 
通过使该射线敏感性树脂组合物含有[D]化合物，可以对[A] 碱可溶性树脂具有的环氧基等起到有效的固化催化剂作用，高水平地同时实现该射线敏感性树脂组合物的贮存稳定性和低温焙烧时对固化膜的固化促进。 
[D]化合物是上述式(1)表示的化合物。上述式(1)中，A为氮原子或磷原子。R1～R4各自独立，为氢原子、碳原子数1～20的烷基、碳原子数6～18的芳基、或碳原子数7～30的芳烷基。X-是1价阴离子。但是，上述烷基、芳基及芳烷基所具有的部分或全部氢原子可以被取代基取代。 
作为上述R1～R4表示的碳原子数1～20的烷基，可以列举例如直链状或支链状的甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、月桂基、十二烷基、十三烷基、十四烷基、十五烷基、十六烷基、十七烷基、十八烷基、十九烷基、二十烷基等。 
作为上述R1～R4表示的碳原子数6～18的芳基，可以列举例如苯基、萘基等。 
作为上述R1～R4表示的碳原子数7～30的芳烷基，可以列举例如苄基、苯乙基等。 
作为上述X-表示的1价阴离子，可以列举例如氯离子、溴离子、碘离子、氰离子、硝酸根离子、亚硝酸根离子、次氯酸根离子、亚氯酸根离子、氯酸根离子、过氯酸根离子、高锰酸根离子、碳酸氢根离子、磷酸二氢根离子、硫化氢根离子、硫氰酸根离子、羧酸根离子、磺酸根离子、苯氧阴离子、四氟硼酸盐离子、四芳基硼酸根离子、六氟锑酸根离子、双氰胺根离子等。 
作为A为氮原子时的铵盐，可以列举例如四甲基氯化铵、四丁基氯化铵、十二烷基二甲基苄基氯化铵、辛基三甲基氯化铵、癸基三甲基氯化铵、十二烷基三甲基氯化铵、十四烷基三甲基氯 化铵、十六烷基三甲基氯化铵、硬脂基三甲基氯化铵、溴化十六烷基三甲基铵、苄基三甲基氯化铵、苄基三乙基氯化铵、苯扎氯铵、苯扎溴铵、二癸基二甲基氯化铵、二硬脂基二甲基氯化铵等。 
作为A为磷原子时的鏻盐，可以列举例如四苯基鏻·四苯基硼酸盐、四苯基鏻四(对甲苯基)硼酸盐、四苯基鏻四(对乙基苯基)硼酸盐、四苯基鏻四(对甲氧基苯基)硼酸盐、四苯基鏻四(对乙氧基苯基)硼酸盐、四苯基鏻四(对叔丁氧基苯基)硼酸盐、四苯基鏻四(间甲苯基)硼酸盐、四苯基鏻四(间甲氧基苯基)硼酸盐、三(对甲苯基)苯基鏻四(对甲苯基)硼酸盐、四(对甲苯基)鏻四(对甲苯基)硼酸盐、三(对甲氧基苯基)苯基鏻四(对甲苯基)硼酸盐、四苯基鏻硫氰酸盐、丁基三苯基鏻硫氰酸盐、甲基三苯基鏻硫氰酸盐、对甲苯基三苯基鏻硫氰酸盐、四苯基鏻双氰胺盐、丁基三苯基鏻双氰胺盐、甲基三苯基鏻双氰胺盐、对甲苯基三苯基鏻双氰胺盐、苄基三苯基鏻六氟锑酸盐、对氯苄基三苯基鏻六氟锑酸盐、对甲基苄基三苯基鏻六氟锑酸盐、对甲氧基苄基三苯基鏻六氟锑酸盐、α-甲基苄基三苯基鏻六氟锑酸盐、肉桂基三苯基鏻六氟锑酸盐、2-羟基-5-硝基苄基三苯基鏻六氟锑酸盐、1-萘基甲基三苯基鏻六氟锑酸盐、3-三甲基甲硅烷基-4-三甲基甲硅烷氧基苄基三苯基鏻六氟锑酸盐、对甲氧基苄基三(对氯苯基)鏻六氟锑酸盐、对甲氧基苄基三(对甲基苯基)鏻六氟锑酸盐、肉桂基三(对氯苯基)鏻六氟锑酸盐、对甲氧基苄基三苯基鏻六氟磷酸盐、1-芘基甲基-三苯基鏻六氟锑酸盐、1-芘基甲基-丁基二苯基鏻六氟锑酸盐、9-蒽基甲基-三苯基鏻六氟锑酸盐、四丁基鏻癸烷盐、三(叔丁基)鏻四苯基硼酸盐、二叔丁基甲基鏻四苯基硼酸盐、对甲苯基三苯基鏻四(对甲苯基)硼酸盐、四苯基鏻四氟硼酸盐等。 
作为该射线敏感性树脂组合物中[D]化合物的含有量，优选相 对于[A]碱可溶性树脂100质量份为0.1质量份～10质量份，更优选为0.2质量份～5质量份。通过使[D]化合物的含有量为0.1质量份～10质量份，可以更高水平的实现该射线敏感性组合物的贮存稳定性和对固化膜的固化促进。 
<任选成分> 
作为该射线敏感性树脂组合物，除了[A]碱可溶性树脂、[B]聚合性化合物、[C]射线敏感性聚合引发剂及[D]化合物，还可以在不损害本发明效果的范围内，根据需要含有[E]每分子中具有2以上环氧乙烷基的化合物(以下也称为“[E]化合物”)、粘接助剂、表面活性剂、贮存稳定剂、耐热性提高剂等任选成分。这些各种任选成分可以单独使用，也可以混合使用两种以上。以下对各种成分进行详细说明。 
[[E]每分子中具有2个以上环氧乙烷基的化合物] 
[E]每分子中具有2个以上环氧乙烷基的化合物是为了进一步提高所获得的固化膜的硬度而添加的。作为[E]化合物，可以列举例如每分子中具有2个以上3，4-环氧环己基的化合物、其它[E]化合物等。 
作为每分子中具有2个以上3，4-环氧环己基的化合物，可以 
列举例如3，4-环氧环己基甲基-3’，4’-环氧环己烷甲酸酯、2-(3，4-环氧环己基-5，5-螺-3，4-环氧)环己烷-间二氧六环、双(3，4-环氧环己基甲基)己二酸酯、双(3，4-环氧-6-甲基环己基甲基)己二酸酯、3，4-环氧-6-甲基环己基-3’，4’-环氧-6’-甲基环己烷甲酸酯、亚甲基双(3，4-环氧环己烷)、二环戊二烯二环氧化物、乙二醇的二(3，4-环氧环己基甲基)醚、亚乙基双(3，4-环氧环己烷甲酸酯)、内酯改性3，4-环氧环己基甲基-3’，4’-环氧环己烷甲酸酯等。 
作为其它[E]化合物，可以列举例如 
双酚A二缩水甘油醚、双酚F二缩水甘油醚、双酚S二缩水甘油醚、氢化双酚A二缩水甘油醚、氢化双酚F二缩水甘油醚、氢化双酚AD二缩水甘油醚、溴化双酚A二缩水甘油醚、溴化双酚F二缩水甘油醚、溴化双酚S二缩水甘油醚等的双酚化合物的二缩水甘油醚； 
1，4-丁二醇二缩水甘油醚、1，6-己二醇二缩水甘油醚、甘油三缩水甘油醚、三羟甲基丙烷三缩水甘油醚、聚乙二醇二缩水甘油醚、聚丙二醇二缩水甘油醚等多元醇的多缩水甘油醚； 
通过对乙二醇、丙二醇、甘油等脂肪族多元醇加成一种或两种以上的环氧烷烃而得到的聚醚多元醇的多缩水甘油醚； 
苯酚酚醛清漆型环氧树脂； 
甲酚酚醛清漆型环氧树脂； 
多酚型环氧树脂； 
环状脂肪族环氧树脂； 
脂肪族长链二元酸的二缩水甘油酯； 
高级脂肪酸的缩水甘油酯； 
环氧化大豆油、环氧化亚麻籽油等。 
作为[E]化合物的市售产品，可以列举例如 
作为双酚A型环氧树脂，有エピコ一ト1001、1002、1003、1004、1007、1009、1010、828(以上，Japan Epoxy Resin社)等； 
作为双酚F型环氧树脂，有エピコ一ト807(Japan Epoxy Resin社)等； 
作为苯酚酚醛清漆型环氧树脂，有エピコ一ト152、154、157S65(以上，Japan Epoxy Resin社)、EPPN201、202(以上，日本化药社)等； 
作为甲酚酚醛清漆型环氧树脂，有EOCN102、103S、104S、1020、 1025、1027(以上，日本化药社)、エピコ一ト180S75(Japan Epoxy Resin社)等； 
作为多酚型环氧树脂，有エピコ一ト1032H60、XY-4000(以上，Japan Epoxy Resin社)等； 
作为环状脂肪族环氧树脂，有CY-175、177、179、Araldite CY-182、192、184(以上，Ciba Speciality Chemicals公司)、ERL-4234、4299、4221、4206(以上，U.C.C社)、SHODYNE 509(昭和电工社)、EPICLON 200、400(以上，大日本インキ社)、エピコ一ト871、872(以上，Japan Epoxy Resin社)、ED-5661、5662(以上，Celanese coating公司)等； 
脂肪族多缩水甘油醚，有Epolite 100MF(共荣社化学社)、Epiol TMP(日本油脂社)等。 
在这些物质中，优选苯酚酚醛清漆型环氧树脂、多酚型环氧树脂。 
作为[E]化合物的含有量，优选相对于[A]共聚物100质量份为50质量份以下，更优选为2质量份～50质量份，特别优选为5质量份～30质量份。通过使[E]化合物的含有量处于上述特定范围内，可以在不损害显影性的情况下进一步提高隔离物等的硬度。 
[粘接助剂] 
粘接助剂为是了进一步提高得到的层间绝缘膜、隔离物或保护膜等固化膜与基板的粘接性而使用的。作为这种粘接助剂，优选具有羧基、甲基丙烯酰基、乙烯基、异氰酸酯基、环氧乙烷基等反应性官能团的官能性硅烷偶联剂，例如可以列举三甲氧基甲硅烷基苯甲酸、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、γ-异氰酸酯丙基三乙氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、β-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷等。 
作为粘接助剂的含有量，相对于[A]碱可溶性树脂100质量份，优选为20质量份以下，更优选为15质量份以下。如果粘接助剂的含有量超过20质量份，则容易产生显影残留。 
[表面活性剂] 
表面活性剂是为了进一步提高该射线敏感性树脂组合物的涂膜形成性而使用的。作为表面活性剂，可以列举例如氟系表面活性剂、有机硅树脂系表面活性剂及其它的表面活性剂。作为上述氟系表面活性剂，优选末端、主链及侧链中的至少一个部位上具有氟烷基和/或氟化烯基的化合物，可以列举例如1，1，2，2-四氟-正辛基(1，1，2，2-四氟-正丙基)醚、1，1，2，2-四氟-正辛基(正己基)醚、六乙二醇二(1，1，2，2，3，3-六氟-正戊基)醚、八乙二醇二(1，1，2，2-四氟-正丁基)醚、六丙二醇二(1，1，2，2，3，3-六氟-正戊基)醚、八丙二醇二(1，1，2，2-四氟-正丁基)醚、全氟-正十二烷磺酸钠、1，1，2，2，3，3-六氟正癸烷、1，1，2，2，8，8，9，9，10，10-十氟正十二烷、及氟烷基苯磺酸钠、氟烷基磷酸钠、氟烷基羧酸钠、二甘油四(氟烷基聚氧乙烯醚)、氟烷基碘化铵、氟烷基甜菜碱、其它氟烷基聚氧乙烯醚、全氟烷基聚羟基乙醇、全氟烷基烷氧化物、羧酸氟烷基酯等。 
作为氟系表面活性剂的市售产品，可以列举例如BM-1000、BM-1100(以上，BM CHEMIE社)、メガファックF142D、メガファックF172、メガファックF173、メガファックF183、メガファックF178、メガファックF191、メガファックF471、メガファックF476(以上，大日本インキ化学工业社)、Fluorad FC-170C、Fluorad FC-171、Fluorad FC-430、Fluorad FC-431(以上，住友スリ一エム社)、サ一フロンS-112、サ一フロンS-113、サ一フロンS-131、サ一フロンS-141、サ一フロンS-145、サ一フロンS-382、サ一フロンSC-101、サ一フロンSC-102、サ一フロンSC-103、サ一フロンSC-104、サ一フロンSC-105、サ一フロンSC-106(以 上，旭硝子社)、F-Top EF301、F-Top EF 303、F-Top EF 352(以上，新秋田化成社)、フタ一ジェントFT-100、フタ一ジェントFT-110、フタ一ジェントFT-140A、フタ一ジェントFT-150、フタ一ジェントFT-250、フタ一ジェントFT-251、フタ一ジェントFT-300、フタ一ジェントFT-310、フタ一ジェントFT-400S、フタ一ジェントFTX-218、フタ一ジェントFTX-251(以上，ネオス社)等。 
作为有机硅树脂系表面活性剂的市售产品，可以列举例如ト一レシリコ一ンDC3PA、ト一レシリコ一ンDC7PA、ト一レシリコ一ンSH11PA、ト一レシリコ一ンSH21PA、ト一レシリコ一ンSH28PA、ト一レシリコ一ンSH29PA、ト一レシリコ一ンSH30PA、ト一レシリコ一ンSH-190、ト一レシリコ一ンSH-193、ト一レシリコ一ンSZ-6032、ト一レシリコ一ンSF-8428、ト一レシリコ一ンDC-57、ト一レシリコ一ンDC-190(以上，东レ·ダウコ一ニング·シリコ一ン社)、TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4446、TSF-4460、TSF-4452(以上，GE东芝シリコ一ン社)、有机硅氧烷聚合物KP341(信越化学工业社)等。 
作为其它表面活性剂，可以列举例如聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯油基醚等聚氧乙烯烷基醚；聚氧乙烯-正辛基苯基醚、聚氧乙烯-正壬基苯基醚等聚氧乙烯芳基醚；聚氧乙烯二月桂酸酯、聚氧乙烯二硬脂酸酯等聚氧乙烯二烷基酯等非离子系表面活性剂、(甲基)丙烯酸系共聚物ポリフロ一No.57、ポリフロ一No.95(以上，共荣社化学社)等。 
作为表面活性剂的含有量，优选相对于[A]碱可溶性树脂100质量份为1.0质量份以下，更优选为0.8质量份以下。如果表面活性剂的含有量超过1.0质量份，则容易导致膜的不均匀。 
[贮存稳定剂] 
作为贮存稳定剂，可以列举例如硫、醌类、氢醌类、多羟基化合物、胺、硝基亚硝基化合物等，更具体来说可列举4-甲氧基苯酚、N-亚硝基-N-苯基羟基胺铝等。 
作为贮存稳定剂的含有量，相对于[A]碱可溶性树脂100质量份优选为3.0质量份以下，更优选为1.0质量份以下。如果贮存稳定剂的含有量超过3.0质量份，则该射线敏感性树脂组合物的敏感度变差，可能导致图案形状的劣化。 
[耐热性提高剂] 
作为耐热性提高剂，可以列举例如N-(烷氧基甲基)甘脲化合物、N-(烷氧基甲基)三聚氰胺化合物等。 
作为N-(烷氧基甲基)甘脲化合物，可以列举例如N，N’，N”，N”’-四(甲氧基甲基)甘脲、N，N’，N”，N”’-四(乙氧基甲基)甘脲、N，N’，N”，N”’-四(正丙氧基甲基)甘脲、N，N’，N”，N”’-四(异丙氧基甲基)甘脲、N，N’，N”，N”’-四(正丁氧基甲基)甘脲、N，N’，N”，N”’-四(叔丁氧基甲基)甘脲等。在这些化合物中，优选N，N’，N”，N”’-四(甲氧基甲基)甘脲。 
作为N-(烷氧基甲基)三聚氰胺化合物，可以列举例如N，N，N’，N’，N”，N”-六(甲氧基甲基)三聚氰胺、N，N，N’，N’，N”，N”-六(乙氧基甲基)三聚氰胺、N，N，N’，N’，N”，N”-六(正丙氧基甲基)三聚氰胺、N，N，N’，N’，N”，N”-六(异丙氧基甲基)三聚氰胺、N，N，N’，N’，N”，N”-六(正丁氧基甲基)三聚氰胺、N，N，N’，N’，N”，N”-六(叔丁氧基甲基)三聚氰胺等。在这些化合物中，优选N，N，N’，N’，N”，N”-六(甲氧基甲基)三聚氰胺。作为市售产品，可以列举例如ニカラックN-2702、ニカラックMW-30M(以上，三和ケミカル社)等。 
作为耐热性提高剂的含有量，相对于[A]碱可溶性树脂100质 量份优选为50质量份以下，更优选为30质量份以下。如果耐热性提高剂的含有量超过50质量份，则该射线敏感性树脂组合物的敏感度变差，可能导致图案形状的劣化。 
<射线敏感性树脂组合物的配制方法> 
对于该射线敏感性树脂组合物，除了[A]碱可溶性树脂、[B]聚合性化合物、[C]射线敏感性聚合引发剂及[D]化合物，还可以根据需要按规定比例混合任选成分来进行配制。优选该射线敏感性树脂组合物按照溶解在适当的溶剂中，以溶液状态进行使用。 
作为该射线敏感性树脂组合物的配制中使用的溶剂，可以使用能够均匀地溶解或分散[A]碱可溶性树脂、[B]聚合性化合物、[C]射线敏感性聚合引发剂、[D]化合物及任选成分，并且不与各成分反应的溶剂。作这这种溶剂，可以列举上述作为能够用于合成[A]碱可溶性树脂的溶剂而例示的那种溶剂。溶剂可以单独使用或混合使用两种以上。 
从与各成分的溶解性、各成分的反应性、涂膜形成的容易性等方面考虑，优选二乙二醇单乙基醚醋酸酯、二乙二醇二乙基醚、二乙二醇乙基甲基醚、二乙二醇二甲基醚、丙二醇单甲基醚、乙二醇单丁基醚醋酸酯、丙二醇单甲基醚醋酸酯、二丙二醇单甲基醚醋酸酯、3-甲氧基丁基醋酸酯、环己醇醋酸酯、苄醇、3-甲氧基丁醇。 
另外，在上述溶剂的基础上，为了提高膜厚在面内的均匀性，可以并用高沸点溶剂。作为高沸点溶剂，可以列举例如N-甲基吡咯烷酮、N，N-二甲基乙酰胺、苄基乙基醚、二己基醚、己二酮、1-辛醇、1-壬醇、醋酸苄酯、安息香酸乙酯、草酸二乙酯、马来酸二乙酯、γ-丁内酯、碳酸亚丙酯等。在这些溶剂中，优选N-甲基吡咯烷酮、γ-丁内酯、N，N-二甲基乙酰胺。 
作为该射线敏感性树脂组合物的溶剂，在并用高沸点溶剂的 情况下，作为其含有量，相对于总溶剂量优选为50质量％以下，更优选为40质量％以下，特别优选为30质量％以下。高沸点溶剂的使用量为50质量％以下时，涂膜的膜厚均匀性、敏感度及膜残留率良好。 
将该射线敏感性树脂组合物配制为溶液状态时，作为固形物浓度(组合物溶液中存在的溶剂以外的成分)，可以根据使用目的及预期膜厚的值等设定为任意浓度(例如5质量％～50质量％)。作为更优选的固形物浓度，根据在基板上形成涂膜的方法而变化，对此在后文进行说明。对于这样配制的组合物溶液，可以使用孔径0.5μm左右的微孔滤器等过滤后，进行使用。 
<固化膜形成方法> 
该射线敏感性树脂组合物优选用于作为层间绝缘膜、保护膜或隔离物的固化膜的形成，另外，本发明优选包含作为层间绝缘膜、保护膜或隔离物的固化膜。由该射线敏感性树脂组合物形成的作为层间绝缘膜、保护膜或隔离物的固化膜的粘合性、耐光性、耐热性、耐化学药品性、透射率、平坦性、电压保持率及尺寸稳定性优异。 
本发明的固化膜的形成方法具备： 
(1)在基板上涂布该射线敏感性树脂组合物、形成涂膜的工序； 
(2)对上述涂膜的至少一部分照射射线的工序； 
(3)使经过了上述射线照射的涂膜显影的工序；及 
(4)对经过上述显影的涂膜进行焙烧的工序。 
根据本发明的形成方法，可以形成粘合性、耐光性、耐热性、耐化学药品性、透射率、平坦性、电压保持率、尺寸稳定性得到很均衡地满足的固化膜。以下对各工序进行详细说明。 
[工序(1)] 
本工序是在透明基板的单面上形成透明导电膜，在该透明导电膜上形成射线敏感性树脂组合物涂膜。作为透明基板，可以列举例如碱石灰玻璃、无碱玻璃等玻璃基板、由选自聚对苯二甲酸乙二酯、聚对苯二甲酸丁二酯、聚醚砜、聚碳酸酯、聚酰亚胺等塑料组成的树脂基板等。 
作为设置于透明基板单面上的透明导电膜，可以列举由氧化锡(SnO2)组成的NESA膜(美国PPG公司的注册商标)、由氧化铟-氧化锡(In2O3-SnO2)组成的ITO膜等。 
通过涂布法形成涂膜时，在上述透明导电膜上涂布该射线敏感性树脂组合物的溶液后，优选对涂布面进行加热(预烘焙)，从而可以形成涂膜。作为涂布法中使用的组合物溶液的固形物浓度，优选5质量％～50质量％，更优选10质量％～40质量％，特别优选15质量％～35质量％。作为该射线敏感性树脂组合物的涂布方法，可以采用例如喷涂法、辊涂法、旋转涂布法(旋涂法)、狭缝涂布法(缝模涂布法)、刮条涂布法、喷墨涂布法等适当的方法。在这些方法中，优选旋涂法、狭缝涂布法。 
作为预烘焙的条件，根据各种成分的种类、配合比例等变化，优选为70℃～120℃，1分钟～15分钟左右。涂膜预烘焙后的膜厚优选为0.5μm～10μm，更优选为1.0μm～7.0μm。 
[工序(2)] 
本工序是对形成的涂膜的至少一部分照射射线。此时，仅对涂膜的一部分进行照射时，可以采用例如透过具有规定图案的光掩模进行照射的方法。 
作为照射时使用的射线，可以列举可见光、紫外线、远紫外线等。其中优选波长在250nm～550nm范围内的射线，更优选包含365nm紫外线的射线。 
对于射线照射量(曝光量)，作为用照度计(OAI model 356，Optical Associates Inc.制)测定照射射线波长为365nm时的强度值，优选为100J/m2～5,000J/m2，更优选为200J/m2～3,000J/m2。 
作为该射线敏感性树脂组合物，与以往以知的组合物相比射线敏感性高，上述射线照射量为750J/m2以下时也可以得到所期望的膜厚、良好的形状、优异的粘合性及高硬度的作为层间绝缘膜、保护膜或隔离物等的固化膜。 
[工序(3)] 
本工序是使经过上述射线照射后的涂膜显影，从而除去不需要的部分，形成规定图案。作为显影时使用的显影液，可以列举例如氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠等无机碱、四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵等季铵盐等碱性化合物的水溶液。还可以在上述碱性化合物的水溶液中适量添加甲醇、乙醇等水溶性有机溶剂和/或表面活性剂进行使用。 
作为显影方法，可以是例如盛液法(旋覆浸没法)、浸泡法、喷淋法等中的任一种，作为显影时间，优选为常温下10秒～180秒左右。显影处理后，例如进行流水洗涤30秒～90秒，然后用压缩空气或压缩氮气风干，从而得到预期图案。 
[工序(4)] 
本工序是通过加热板、烘箱等适当的加热装置对得到的图案状涂膜进行焙烧(后烘焙)。作为焙烧温度，优选为100℃～200℃，更优选为150℃～180℃。作为焙烧时间，例如在加热板上时为5分钟～30分钟，在烘箱中时为30分钟～180分钟。作为该射线敏感性树脂组合物，由于如上所述含有[D]化合物，适宜用作希望能够实现低温焙烧的柔性显示器等中使用的层间绝缘膜、保护膜及隔离物等固化膜的形成材料。 
<彩色滤光片的形成方法> 
本发明的彩色滤光片具备该固化膜和层合在该固化膜上、由液晶取向剂形成的取向膜。本发明的彩色滤光片的耐热性、耐化学药品性、电压保持率等优异。 
[工序(5)] 
本发明的彩色滤光片的形成方法还具备； 
(5)在经过上述工序(4)焙烧的涂膜上涂布液晶取向剂，通过在200℃以下加热而形成取向膜的工序。 
由于该形成方法还具备上述工序(5)，可以形成具备液晶取向用取向膜的彩色滤光片。 
上述液晶取向剂优选为含有带光取向性基团的射线敏感性聚合物(以下也称为“[F]射线敏感性聚合物”)的液晶取向剂、或含有不带光取向性基团的聚酰亚胺(以下也称为“[G]聚酰亚胺”)的液晶取向剂。 
作为上述液晶取向剂的涂布方法，可以采用例如喷涂法、辊涂法、旋转涂布法(旋涂法)、狭缝涂布法(缝模涂布法)、刮条涂布法、喷墨涂布法等适当的方法。在这些方法中，优选旋涂法或狭缝涂布法。另外，涂布液晶取向剂后，可以通过加热涂布面形成取向膜。上述液晶取向剂均可以在低温(例如200℃以下)的加热温度下形成取向膜。另外，上述液晶取向剂还可以含有作为不损害本发明效果的任选成分的例如固化剂、固化催化剂、固化促进剂、环氧化合物、官能性硅烷化合物、表面活性剂、光敏剂等。以下，对[F]射线敏感性聚合物及[G]聚酰亚胺进行详细说明。 
<[F]射线敏感性聚合物> 
[F]射线敏感性聚合物带有的光取向性基团是通过光照而赋予膜以各向异性的官能团，通过光异性化反应或光二量化反应赋予 膜以各向异性。作为光取向性基团，可以列举例如具有来源于选自偶氮苯、均二苯代乙烯、α-亚氨基-β-酮酯、螺吡喃、螺噁嗪、桂皮酸、查耳酮、苯乙烯基吡啶、亚苄基苯并吡咯酮、香豆素、二苯基亚甲蓝及蒽的至少一种化合物的结构的基团。作为光取向性基团，优选具有来源于桂皮酸的结构的基团。 
作为[F]射线敏感性聚合物，优选光取向性基团直接或通过连接基团进行结合的聚合物。作为这种[F]射线敏感性聚合物，可以列举例如在聚酰胺酸、聚酰亚胺等聚合物上结合光取向性基团所形成的聚合物等。另外，作为[F]射线敏感性聚合物，可以列举含有聚酰胺酸、聚酰亚胺及其它的聚合物，且该其它的聚合物带有光取向性基团的物质。作为其它的聚合物的基本骨架，可以列举例如聚(甲基)丙烯酸酯、聚(甲基)丙烯酰胺、聚乙烯基醚、聚烯烃、聚有机硅氧烷等。 
作为[F]射线敏感性聚合物，优选将聚酰胺酸、聚酰亚胺、聚有机硅氧烷作为基本骨架的聚合物，更优选聚有机硅氧烷。[F]射线敏感性聚合物可以通过例如国际公开WO2009/025386号中记载的方法合成。 
<[G]聚酰亚胺> 
不带光取向性基团的[G]聚酰亚胺可通过不带光取向性基团的聚酰胺酸的脱水闭环酰亚胺化来合成。上述聚酰胺酸可以按照例如日本特开2010-97188号公报中记载的方法，使四羧酸二酐和二胺进行反应来合成。 
[G]聚酰亚胺可以是作为前体的聚酰胺酸带有的全部酰胺酸结构进行脱水团环形成的完全酰亚胺化物，也可以是仅一部分酰胺酸结构进行脱水闭环、同时存在酰胺酸结构和酰亚胺环结构的部分酰亚胺化物。作为[G]聚酰亚胺的酰亚胺化率，优选为30％以 上，更优选为50％以上99％以下，特别优选为65％以上99％以下。酰亚胺化率是用百分率表示的酰亚胺环结构数占聚酰亚胺的酰胺酸结构数和酰亚胺环结构数的合计的比例。 
本发明还优选包含具备形成了液晶取向用取向膜的固化膜的彩色滤光片。该彩色滤光片的耐热性、耐化学药品性、电压保持率等优异。作为形成这种彩色滤光片用取向膜的液晶取向剂，优选含有[F]射线敏感性聚合物。 
实施例 
以下基于实施例对本发明进行详细说明，但是该实施例并不是对本发明进行限定性地解释。 
<[A]碱可溶性树脂的合成> 
[合成例1] 
在配备了冷凝管及搅拌器的烧瓶中，加入7质量份2，2’-偶氮二(2，4-二甲基戊腈)及200质量份二乙二醇乙基甲基醚。接着加入作为(A1)化合物的甲基丙烯酸16质量份、作为(A2)化合物的甲基丙烯酸缩水甘油酯20质量份、及作为(A3)化合物的三环[5.2.1.02，6]癸烷-8-基甲基丙烯酸酯16质量份、甲基丙烯酸甲酯38质量份及苯乙烯10质量份，进行氮气置换后，慢慢搅拌，同时将溶液的温度升高到70℃，在该温度下保护4小时进行聚合，从而得到含有共聚物(A-1)的溶液(固形物浓度＝34.4质量％，Mw＝8,000、Mw/Mn＝2.3)。还有，固形物浓度是指共聚物质量占共聚物溶液总质量的比例。 
[合成例2] 
在配备了冷凝管及搅拌器的烧瓶中，加入8质量份2，2’-偶氮二(2，4-二甲基戊腈)及220质量份二乙二醇乙基甲基醚。接着加入作为(A1)化合物的甲基丙烯酸20质量份、作为(A2)化合物的甲基 丙烯酸缩水甘油酯20质量份、及作为(A3)化合物的甲基丙烯酸正月桂基酯30质量份及苯乙烯30质量份，进行氮气置换后，慢慢搅拌，同时将溶液的温度升高到70℃，在该温度下保持5小时进行聚合，从而得到含有共聚物(A-2)的溶液(固形物浓度＝31.9质量％，Mw＝8,000，Mw/Mn＝2.3)。 
[合成例3] 
在配备了冷凝管及搅拌器的烧瓶中，加入8质量份2，2’-偶氮二(2，4-二甲基戊腈)及220质量份二乙二醇乙基甲基醚。接着加入作为(A1)化合物的甲基丙烯酸20质量份、作为(A2)化合物的甲基丙烯酸缩水甘油酯50质量份、作为(A3)化合物的三环[5.2.1.02，6]癸烷-8-基甲基丙烯酸酯25质量份及苯乙烯5质量份，进行氮气置换后、慢慢搅拌，同时将溶液的温度升高到70℃，在该温度下保持5小时进行聚合，从而得到含有共聚物(A-3)的溶液(固形物浓度＝32.3质量％，Mw＝8,000，Mw/Mn＝2.3)。 
<射线敏感性树脂组合物的配制> 
实施例及比较例中使用的各种成分的详细情况如以下所示。 
<[B]聚合性化合物> 
B-1：二季戊四醇六丙烯酸酯 
B-2：多官能丙烯酸酯化合物的混合物(KAYARAD DPHA-40H、日本化药社) 
B-3：1，9-壬二醇二丙烯酸酯 
B-4：Aronix M-5300(东亚合成社) 
<[C]射线敏感性聚合引发剂> 
C-1：乙酮-1-〔9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基〕-1-(O-乙酰肟)(IRGACURE OXE02，Ciba Speciality Chemicals公司) 
C-2：1，2-辛二酮-1-[4-(苯硫基)-2-(O-苯甲酰基肟)](IRGACURE  OXE01，Ciba Speciality Chemicals公司) 
C-3：2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基丙-1-酮(IRGACURE907，Ciba Speciality Chemicals公司) 
C-4：2-二甲基氨基-2-(4-甲基苄基)-1-(4-吗啉-4-基-苯基)-丁-1-酮(IRGACURE 379，Ciba Speciality Chemicals公司) 
<[D]化合物> 
D-1：四甲基氯化铵 
D-2：十六烷基三甲基溴化铵 
D-3：四苯基鏻四(对甲苯基)硼酸盐 
D-4：丁基三苯基鏻硫氰酸盐 
D-5：四苯基鏻双氰胺盐 
D-6：丁基三苯基鏻双氰胺盐 
CD-1：三乙胺 
<[E]化合物> 
E-1：苯酚酚醛清漆型环氧树脂(エピコ一ト152，Japan Epoxy Resin社) 
E-2：苯酚酚醛清漆型环氧树脂(エピコ一ト157S65，Japan Epoxy Resin社) 
[实施例1～19及比较例1～4] 
将表1中所示种类、含有量的各种成分进行混合，再混合5质量份粘接助剂γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、0.5质量份表面活性剂(FTX-218、ネオス社)、及0.5质量份作为贮存稳定剂的4-甲氧基苯酚，按照使固形物浓度为30质量％的方式分别添加丙二醇单甲基醚醋酸酯后，利用孔径0.5μm的微孔过滤器过滤，从而配制成各射线敏感性树脂组合物。还有，表1中的“-”表示不使用该成分。 
<评价> 
使用配制的各射线敏感性树脂组合物进行以下评价。结果示于表2中。 
[分辨率] 
通过旋涂机在无碱玻璃基板上涂布射线敏感性树脂组合物溶液后，在100℃的热板上预烘焙2分钟，从而形成膜厚4.0μm的涂膜。然后对于得到的涂膜，透过具有直径在6μm～15μm范围内的尺寸不同的多个圆形残留图案的光掩模，用高压水银灯设定曝光量为700J/m2进行射线照射。然后，使用0.40质量％的四甲基氢氧化铵水溶液在25℃下将显影时间作为变量进行盛液法显影后，用纯水清洗1分钟。再于烘箱中按表1中记载的焙烧温度及焙烧时间进行后烘焙，从而形成图案状固化膜(以下有时也称为“固化膜形成工序”)。此时，对于8μm以下的光掩模，如果形成了图案，则视为A(良好)。另一方面，对于8μm以下的光掩模，未形成图案或未解像时判定为B(不良)。 
[显影性] 
在上述分辨率评价中，将曝光量700J/m2下的显影时间缩短为40秒时，未形成图案时判定为A(良好)，生成残渣时判定为B(不良)。 
[敏感度(J/m2)] 
使用具有多个直径15μm的圆形残留图案的光掩模，将曝光量作为变量，除此之外，按照与上述固化膜形成工序相同的方式进行操作，在基板上形成圆形残留图案。使用激光显微镜(VK-8500，キ一エンス社)测定圆形残留图案显影前和显影后的高度。由该值和下述式求出膜残留率(％)。 
膜残留率(％)＝(显影后的高度/显影前的高度)×100 
将该膜残留率达到90％以上时的最小曝光量作为敏感度(J/m2)。曝光量为750J/m2以下时判定为敏感度良好。 
[粘合性(个)] 
在上述分辨率评价的显影工序中，将显影液改为0.5质量％四甲基氢氧化铵水溶液、将显影时间改为180秒，透过8μm圆形的光掩模形成图案。使用激光显微镜(VK-8500，キ一エンス社)观察100个图案中未剥离的图案数(个)。 
[贮存稳定性] 
按与上述“分辨率”相同的方式进行操作，测定刚配制后的射线敏感性树脂组合物溶液形成的固化膜的膜厚(下述式中称为“刚配制后的膜厚”)。另外，将射线敏感性树脂组合物溶液在25℃下保存5天，5天后同样测定所形成的固化膜的膜厚(下述式中称为“5天后的膜厚”)。由下述式计算膜厚增加率(％)。 
膜厚增加率(％)＝(5天后的膜厚-刚配制后的膜厚)/(刚配制后的膜厚)×100 
膜厚增加率为2％以下时判定为A(良好)，膜厚增加率为3％以上时判定为B(不良)。 
[耐光性] 
在上述固化膜形成工序中，透过光掩模用700J/m2的曝光量进行曝光，按表1中记载的焙烧温度及焙烧时间进行后烘焙，从而得到涂膜，对于该涂膜，再利用UV照射装置(UVX-02516S1JS01，ウシオ社)按130mW的照度照射800,000(J/m2)，如果膜减量为2％以下则判定为A(良好)，如果为3％以上则判定为B(不良)。 
[耐热性(％)] 
在上述固化膜形成工序中，不透过光掩模按700J/m2的曝光量曝光，按表1中记载的焙烧温度及焙烧时间进行后烘焙，从而得 到涂膜，对于该涂膜，再在烘箱中于230℃下加热20分钟，用触针式膜厚测定机(Alpha-Step IQ，KLA Tencor公司)测定加热前后的膜厚，计算膜残留率(处理后的膜厚/处理前的膜厚×100)，将该膜残留率(％)作为耐热性。 
[耐化学药品性(％)] 
在上述固化膜形成工序中，不透过光掩模按700(J/m2)的曝光量曝光，按表1中记载的焙烧温度及焙烧时间进行后烘焙，从而得到涂膜，将该涂膜在加热到60℃的取向膜剥离液ケミクリ一ンTS-204(三洋化成工业社)中浸渍15分钟，进行水洗后，再于烘箱中在120℃下干燥15分钟。用触针式膜厚测定机(Alpha-Step IQ，KLA Tencor公司)测定进行该处理前后的膜厚，计算膜残留率(处理后的膜厚/处理前的膜厚×100)，将该膜残留率(％)作为耐化学药品性。 
[透射率(％)] 
在上述固化膜形成工序中，不透过光掩模按700(J/m2)的曝光量曝光，按表1中记载的焙烧温度及焙烧时间进行后烘焙，从而得到涂膜，对于该涂膜，使用分光光度计(150-20型双光束，日立制作所社)测定波长400nm下的透射率(％)。此时，透射率不足90％时视为透明性不良。 
[平坦性(nm)] 
在SiO2浸渍的玻璃基板上，使用颜料系彩色抗蚀剂(JCR RED689、JCR GREEN 706及CR 8200B，以上JSR社)，按如下方式形成红、绿及蓝3色的条状彩色滤光片。具体来说，使用旋涂器在SiO2浸渍的玻璃基板上涂布上述彩色抗蚀剂中的一种颜色，在加热板上于90℃下预烘焙150秒，形成涂膜。然后使用曝光机(Canon PLA501F，キヤノン社)，透过规定图案的掩模，按换算成i线为 2,000J/m2的曝光量照射ghi线(波长436nm、405nm、365nm的强度比＝2.7∶2.5∶4.8)，然后使用0.05质量％氢氧化钾水溶液进行显影，并用超纯水冲洗60秒。接着，再在烘箱中于230℃下热处理30分钟，从而形成单色的条状彩色滤光片。按3种颜色重复进行该操作，从而形成红、绿及蓝3色的条状彩色滤光片(条宽200μm)。 
按照测定长度2,000μm、测定范围2,000μm见方、测定方向为红、绿、蓝方向的条带线短轴方向及红·红、绿·绿、蓝·蓝的同色条带线长轴方向这两个方向、各个方向的测定点数n＝5(合计n数为10)，利用接触式膜厚测定装置(Alpha-Step KLA Tencor公司)测定彩色滤光片基板的表面凹凸时，为1.0μm。在形成了该彩色滤光片的基板上，用旋涂器涂布各射线敏感性树脂组合物，然后在加热板上于90℃预烘焙5分钟形成保护膜后，再在清洁烘箱中按表1中记载的焙烧温度及焙烧时间进行后烘焙，从而形成相对于彩色滤光片上表面来说膜厚约2.0μm的保护膜。 
对于这样形成的彩色滤光片上具有保护膜的基板，利用接触式膜厚测定装置(Alpha-Step KLA Tencor公司)测定保护膜的表面凹凸。该测定是按照测定长度2,000μm、测定范围2,000μm见方、测定方向为红、绿、蓝方向的条带线短轴方向及红·红、绿·绿、蓝·蓝的同色条带线长轴方向这两个方向、各个方向的测定点数n＝5(合计n数为10)进行实施，求出各个测定的最高部分和最底部分的高低差值(nm)的10次的平均值，评价保护膜的平坦化能力(平坦性)。该值为210nm以下时，判定为保护膜的平坦化能力良好。 
[电压保持率(％)] 
在表面形成了防止钠离子析出的SiO2膜，而且按规定形状蒸镀了ITO(铟-氧化锡合金)电极的钠玻璃基板上，旋涂各射线敏感性树脂组合物后，在90℃的清洁烘箱内进行10分钟的预烘焙，形 成膜厚2.0μm的涂膜。然后，不透过光掩模按500J/m2的曝光量对涂膜曝光。然后，将该基板在23℃的由0.04质量％的氢氧化钾水溶液组成的显影液中浸渍1分钟，显影后，用超纯水洗涤、风干，再按表1中记载的焙烧温度及焙烧时间进行后烘焙，使涂膜固化，形成永久固化膜。然后，将该形成了像素的基板和仅按规定形状蒸镀了ITO电极的基板，用混入了0.8mm的玻璃珠的密封剂进行粘合，然后注入Merck制液晶(MLC6608)，制作液晶盒。然后，将液晶盒放入60℃的恒温层中，用液晶电压保持率测定系统(VHR-1A型，东阳テクニカ社)测定液晶盒的电压保持率。此时施加的电压为5.5V的方形波、测定频率为60Hz。此处的电压保持率是指(16.7毫秒后的液晶盒电位差/0毫秒时施加的电压)的值。如果电压保持率为90％以下，就意味着液晶盒经过16.7毫秒的时间不能将施加电压保持在规定水平，不能使液晶充分取向，引起残留影像等“老化”的可能性大。 
[尺寸稳定性(ppm/℃)] 
经上述固化膜形成工序中，不透过光掩模按700J/m2的曝光量曝光，按表1中记载的焙烧温度及焙烧时间进行后烘焙，从而得到涂膜，对于该涂膜，利用设置了温度可变装置的椭率计(DVA-36LH，沟尻光学工业所)，在氮气氛下，使测定时的升温速度为10℃/分、使测定温度范围为20℃～200℃，测定在各个测定温度下膜厚的变化量，对温度作图，通过其直线近似求出斜率b，通过下述式求出线热膨胀系数a。在此，T表示初始膜厚。 
a(ppm/℃)＝b/T 
线热膨胀系数为200(ppm/℃)以下时，可判定为线热膨胀系数低，即使在各焙烧温度下进行后烘焙也能制成具有足够的尺寸稳定性的固化膜。 
Figure BSA00000551439600451
由表2的结果可知，与比较例1～4的组合物相比，实施例1～19的该射线敏感性树脂组合物具有良好的分辨率、显影性、敏感度、粘合性及贮存稳定性。另外可知，由该射线敏感性树脂组合物形成的固化膜无论是否是在200℃以下的低温焙烧而形成，均具有优异的耐光性、耐热性、耐化学药品性、透射率、平坦性、电压保持率及尺寸稳定性。 
工业实用性 
本发明的射线敏感性树脂组合物可以容易地形成微细而精巧的图案，同时满足了贮存稳定性和短时间低温焙烧，并且具有充分的分辨率、射线敏感性及显影性。另外，作为由该射线敏感性树脂组合物形成的固化膜，作为其所需特性的粘合性、耐光性、耐热性、耐化学药品性、透射率、平坦性、电压保持率、尺寸稳定性等优异。因此，该射线敏感性树脂组合物适宜作为希望进行低温焙烧的柔性显示器等中使用的层间绝缘膜、保护膜、隔离物等固化膜的形成材料。另外，具备形成了取向膜的该固化膜的彩色滤光片的耐热性、耐化学药品性、电压保持率等优异。 

Claims (8)

1.一种射线敏感性树脂组合物，其含有：
[A](A1)从不饱和羧酸及不饱和羧酸酐所组成的群中选出的至少一种化合物和(A2)含有环氧基的不饱和化合物进行共聚而形成的碱可溶性树脂；
[B]具有乙烯性不饱和键的聚合性化合物；
[C]射线敏感性聚合引发剂；及
[D]下述式(1)表示的化合物，
Figure FSA00000551439500011
式(1)中，A为氮原子或磷原子；R1～R4各自独立，为氢原子、碳原子数1～20的烷基、碳原子数6～18的芳基、或碳原子数7～30的芳烷基；X-为1价的阴离子，其中，上述烷基、芳基及芳烷基所具有的部分或全部氢原子可以被取代基取代。
2.权利要求1中所述的射线敏感性树脂组合物，其被用于形成作为层间绝缘膜、保护膜或隔离物的固化膜。
3.由权利要求2中所述的射线敏感性树脂组合物形成的作为层间绝缘膜、保护膜或隔离物的固化膜。
4.一种彩色滤光片，其具备权利要求3中所述的固化膜和层合于该固化膜上的由液晶取向剂形成的取向膜。
5.权利要求4中所述的彩色滤光片，上述液晶取向剂为含有带光取向性基团的射线敏感性聚合物的液晶取向剂、或含有不带光取向性基团的聚酰亚胺的液晶取向剂。
6.一种固化膜的形成方法，其具备：
(1)在基板上涂布权利要求2所述的射线敏感性树脂组合物，形成涂膜的工序、
(2)对上述涂膜的至少一部分进行射线照射的工序、
(3)使进行了上述射线照射的涂膜显影的工序、及
(4)对经过上述显影的涂膜进行焙烧的工序。
7.权利要求6中所述的固化膜的形成方法，上述工序(4)的焙烧温度为200℃以下。
8.一种彩色滤光片的形成方法，该方法还具备；
(5)在经过上述工序(4)焙烧的涂膜上涂布液晶取向剂，通过在200℃以下的加热而形成取向膜的工序。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108700734A (zh) * 2016-03-31 2018-10-23 东友精细化工有限公司 柔性滤色器

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6048670B2 (ja) * 2013-03-27 2016-12-21 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1420998A (zh) * 2000-03-29 2003-05-28 学校法人神奈川大学 光固化性·热固化性树脂组合物、其感光性干薄膜及使用其的图型形成方法
CN1696827A (zh) * 2004-05-12 2005-11-16 Jsr株式会社 放射线敏感性树脂组合物、间隔、及其形成方法以及液晶显示元件
CN101401039A (zh) * 2006-03-08 2009-04-01 富士胶片株式会社 感光性组合物、感光性膜、使用该感光性组合物的永久图案形成方法和印制电路板
CN101609256A (zh) * 2008-06-19 2009-12-23 Jsr株式会社 保护膜形成用感射线性树脂组合物及保护膜的形成方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4284753A (en) * 1980-04-14 1981-08-18 Shell Oil Company Heat curable polyepoxide-unsaturated aromatic monomer resin compositions
JPS62257927A (ja) * 1986-05-02 1987-11-10 Asahi Glass Co Ltd 硬化性エポキシ樹脂組成物
JP2841095B2 (ja) * 1990-01-25 1998-12-24 チッソ株式会社 液晶配向膜及び液晶表示素子
US6489374B1 (en) * 1998-08-21 2002-12-03 Ciba Specialty Chemicals Corporation Photoactivatable bases containing nitrogen
JP4501665B2 (ja) * 2004-12-14 2010-07-14 住友化学株式会社 感光性樹脂組成物
JP2007094059A (ja) * 2005-09-29 2007-04-12 Fujikura Ltd ソルダーレジスト組成物、絶縁保護皮膜及びプリント配線板
JP4793815B2 (ja) * 2005-12-28 2011-10-12 日本化薬株式会社 感光性樹脂組成物、並びにその硬化物
JP5454772B2 (ja) * 2008-11-17 2014-03-26 Ｊｓｒ株式会社 液晶配向剤、液晶配向膜およびその形成方法ならびに液晶表示素子
JP5451048B2 (ja) * 2008-12-05 2014-03-26 株式会社ダイセル 共重合体及び感光性樹脂組成物

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1420998A (zh) * 2000-03-29 2003-05-28 学校法人神奈川大学 光固化性·热固化性树脂组合物、其感光性干薄膜及使用其的图型形成方法
CN1696827A (zh) * 2004-05-12 2005-11-16 Jsr株式会社 放射线敏感性树脂组合物、间隔、及其形成方法以及液晶显示元件
CN101401039A (zh) * 2006-03-08 2009-04-01 富士胶片株式会社 感光性组合物、感光性膜、使用该感光性组合物的永久图案形成方法和印制电路板
CN101609256A (zh) * 2008-06-19 2009-12-23 Jsr株式会社 保护膜形成用感射线性树脂组合物及保护膜的形成方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108700734A (zh) * 2016-03-31 2018-10-23 东友精细化工有限公司 柔性滤色器
CN108700734B (zh) * 2016-03-31 2021-09-28 东友精细化工有限公司 柔性滤色器

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