CN102176981B - 基板清洗装置及其方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供基板清洗装置及其方法。基板清洗装置通过清洗带(12)的拂拭面(12a、12b)清洗基板(1)的侧缘部的表侧的清洗面(1a)和背侧的清洗面(1b)，基板清洗装置具有：将清洗带(12)按压到清洗面(1a)上的按压构件(11a)；将清洗带(12)按压到清洗面(1b)上的按压构件(11b)；通过按压构件(11a)与清洗面(1a)之间以及按压构件(11b)与清洗面(1b)之间的带路径；使清洗带(12)和基板(1)沿侧缘部的长度方向相对移动的移动装置。带路径使清洗带(12)以拂拭面(12a)与清洗面(1a)对置的状态沿与基板(1)的侧缘部的长度方向正交的方向通过按压构件(11a)与清洗面(1a)之间，然后进行翻转以使拂拭面(12b)与基板(1)的背侧对置，接着以拂拭面(12b)与清洗面(1b)对置的状态向与按压构件(11a)与清洗面(1a)之间的通过方向相同的方向通过按压构件(11b)与清洗面(1b)之间。

Description

基板清洗装置及其方法

技术领域

本发明涉及一种清洗分别位于玻璃基板等基板的侧缘部的表侧及背侧的清洗面的基板清洗装置及其方法，所述玻璃基板等例如在液晶显示装置及等离子显示装置中使用。 

背景技术

以往，在玻璃基板的制造中，如图13所示，在形成于玻璃基板51的侧缘部的多个电极52上安装有各种构件54。首先，如图13(a)所示，清洗分别位于配置有电极52的玻璃基板51的侧缘部的表侧和背侧的清洗面(需要清洗的面)。然后，如图13(b)所示，在电极52上贴附各向异性导电膜(ACF)53。并且，如图13(c)所示，隔着各向异性导电膜53向电极52热压接构件54。 

清洗基板的侧缘部的清洗面的基板清洗装置在专利文献1中被公开。所公开的基板清洗装置在通过按压构件将布制的清洗带按压到基板的侧缘部上的状态下，使基板沿其侧缘部的长度方向移动。由此，基板的侧缘部的清洗面由清洗带清洗。 

参照图14说明所公开的基板清洗装置的结构。该基板清洗装置具有：使基板61移动的基板移动装置62、清洗基板61的清洗装置63。基板移动装置62从下方支承基板61的中央部分。此外，基板移动装置62使基板61沿其侧缘部的长度方向移动。相对于清洗装置63的清洗部64，基板61通过基板移动装置62被定位在与该基板61的侧缘部的长度方向正交的方向上。清洗装置63在其清洗部64上具有分别配置在基板61的侧缘部的表侧和背侧的按压构件65a、65b。所述按压构件65a、65b向基板61的侧缘部的表侧和背侧按压清洗带66。清洗带66在基板61的侧缘部被清洗前由引导辊68从供给卷盘67a(67b)引导而朝向按压构件65a(65b)与基板61的侧缘部之间移动规定的输送量。在清洗带66移动前，向通过清 洗带66的移动而在按压构件65a(65b)与基板61的侧缘部之间移动的清洗带66的部分喷出清洗剂。完成清洗的清洗带66的部分通过引导辊68引导并最终卷取到回收辊69a(69b)。此外，基板清洗装置根据传感器70检测的清洗带66的表面的颜色确认向清洗带66喷出了适量的清洗剂。 

然而，该基板清洗装置对基板61的侧缘部的表侧和背侧各自的清洗面各使用一个清洗带66。因此，清洗带的带路径设有两个，从而使基板清洗装置大型化。此外，仅清洗带66的一侧的拂拭面用于清洗。因此，对基板的侧缘部清洗的成本高。 

在专利文献2中公开了能够解决该问题的基板清洗装置。该基板清洗装置通过清洗带的一侧的拂拭面清洗基板的侧缘部的表侧的清洗面，通过另一侧的拂拭面清洗该侧缘部的背侧的清洗面。为了实现上述功能，在从表侧的清洗面至背侧的清洗面的中途使清洗带扭转180度。 

在专利文献3中公开了与此不同的使清洗带扭转180度的基板清洗装置。该基板清洗装置将基板的表侧或背侧的任一侧的清洗面清洗两次。第一次的清洗通过清洗带的一侧的拂拭面执行，第二次的清洗通过另一侧的拂拭面执行。因此，清洗带被扭转了180度。 

【专利文献1】日本专利第3503512号公报 

【专利文献2】日本专利第4114416号公报 

【专利文献3】日本国际公开2006/106803号小册子 

然而，在专利文献2或专利文献3中公开的基板清洗装置中，清洗带扭转了180度。因此，存在清洗带上产生扭痕、扭转的状态的清洗带可能没有适当地清洗清洗面的问题。即，存在发生清洗不良的可能性。若发生清洗不良的情况，则基板的侧缘部的清洗成本当然变高。 

另外，可以考虑在不扭转清洗带的情况下通过一个清洗带的仅一侧的拂拭面清洗基板的侧缘部的表侧及背侧各自的清洗面。然而，这种情况下，清洗带的消耗量增加，即清洗带的更换频率增加，其结果是，清洗成本变高。 

因此，为了解决上述问题，本发明的目的在于，在不将清洗带扭转180度的情况下通过在清洗中使用该清洗带的两个拂拭面来适当地清洗分别基板的侧缘部的位于表侧和背侧的清洗面，且抑制其清洗成本。 

此外，近年来，液晶显示装置及等离子显示装置大型化，因此玻璃基板大型化。在处理大型的玻璃基板的情况下，需要利用使玻璃基板沿其侧缘部的长度方向移动的大型的装置，因此，使清洗带移动这种方法能够降低清洗成本因而优选。 

为此，需要准备下述装置，该装置中，清洗带、将清洗带按压到基板上的按压构件及清洗带的输送装置等作为一个单元构成，该装置使该单元沿基板的侧缘部的长度方向移动。此时，该单元特别是为了降低清洗成本，具体而言为了缩短清洗时间，以例如300～500mm/s的速度移动，为此其优选紧凑地构成。这是因为，若单元的尺寸大，则单元的起动、加速、减速及停止需要大的能量。 

因此，本发明的目的还在于，构成包括清洗带的、能够沿基板的侧缘部的长度方向高速地移动的紧凑的单元，通过该单元缩短清洗时间，从而抑制基板的侧缘部的清洗成本。特别是以抑制大型基板的清洗成本。 

发明内容

为了达成上述目的，本发明如以下这样构成。 

根据本发明的第一方案，提供一种基板清洗装置，其通过具备第一拂拭面和第二拂拭面的布制的清洗带来清洗基板的侧缘部的位于表侧的第一清洗面和位于背侧的第二清洗面，所述基板清洗装置具有： 

第一按压构件，其将清洗带按压到第一清洗面上； 

第二按压构件，其将清洗带按压到第二清洗面上； 

带路径形成构件，其形成通过第一按压构件与第一清洗面之间以及第二按压构件与第二清洗面之间的清洗带的带路径； 

带供给装置，其向带路径供给清洗带； 

带回收装置，其从带路径回收清洗带； 

带驱动装置，其驱动清洗带； 

清洗剂喷出装置，其向清洗带喷出清洗剂； 

移动装置，其使清洗带和基板沿该基板的侧缘部的长度方向相对移动， 

带路径包括： 

第一路径，其使清洗带以第一拂拭面与第一清洗面对置的状态沿与基板的侧缘部的长度方向正交的方向通过第一按压构件与第一清洗面之间； 

第二路径，其使通过第一路径后的清洗带翻转，以使第二拂拭面与基板的背侧对置； 

第三路径，其使通过第二路径后的清洗带以第二拂拭面与第二清洗面对置的状态沿与第一路径的清洗带的通过方向相同的方向通过第二按压构件与第二清洗面之间。 

根据本发明的第二方案，提供一种基板清洗装置，通过具备第一拂拭面和第二拂拭面的布制的清洗带来清洗基板的侧缘部的位于表侧的第一清洗面和位于背侧的第二清洗面，所述基板清洗装置具有： 

第一按压构件，其将清洗带按压到第一清洗面上； 

第二按压构件，其将清洗带按压到第二清洗面上； 

带路径形成构件，其形成通过第一按压构件与第一清洗面之间以及第二按压构件与第二清洗面之间的清洗带的带路径； 

带供给装置，其向带路径供给清洗带； 

带回收装置，其从带路径回收清洗带； 

带驱动装置，其驱动清洗带； 

清洗剂喷出装置，其向清洗带喷出清洗剂； 

移动装置，其使清洗带和基板沿该基板的侧缘部的长度方向相对移动， 

带路径包括： 

第一路径，其使清洗带以第一拂拭面与第一清洗面对置的状态沿与基板的侧缘部的长度方向正交的方向通过第一按压构件与第一清洗面之间； 

第二路径，其使通过第一路径后的清洗带翻转，以使第二拂拭面与基板的背侧对置； 

第三路径，其使通过第二路径后的清洗带以第二拂拭面与第二清洗面对置的状态通过第二按压构件与第二清洗面之间， 

带供给装置具有卷绕清洗带的供给卷盘， 

带回收装置具有卷取清洗带而将其回收的回收卷盘， 

供给卷盘与回收卷盘并列设置。 

根据本发明的第三方案，在第二方案所述的基板清洗装置的基础上，第三路径通过带路径形成构件形成为使清洗带沿与第一路径上的清洗带的通过方向相同的方向通过。 

根据本发明的第四方案，在第一方案至第三方案中的任一方案所述的基板清洗装置的基础上，带路径形成构件形成包括第四路径的带路径或包括第五路径的带路径，所述第四路径从第三路径通过第二路径的清洗带的宽度方向的侧方从而绕过该第二路径而到达带回收装置，所述第五路径从带供给装置通过第二路径的清洗带的宽度方向的侧方从而绕过该第二路径而到达第一路径。 

根据本发明的第五方案，在第一方案至第三方案中的任一方案所述的基板清洗装置的基础上，具有至少包括带供给装置、第一按压构件及第二按压构件以及带路径形成构件且以能够装卸的方式安装在基板清洗装置的主体上的清洗单元， 

在基板清洗装置的主体上具有：驱动带供给装置的驱动装置、驱动第一按压构件及第二按压构件的驱动装置。 

根据本发明的第六方案，在第一方案至第三方案中的任一方案所述的基板清洗装置的基础上，第二路径通过带路径形成构件形成为使清洗带沿着带供给装置的周围翻转。 

根据本发明的第七方案，在第一方案至第三方案中的任一方案所述的基板清洗装置的基础上，第一路径通过带路径形成构件形成为使清洗带沿从带供给装置离开的方向通过第一按压构件与第一清洗面之间， 

第二路径通过带路径形成构件形成为使通过第一路径后的清洗带沿着带供给装置的周围翻转， 

第三路径通过带路径形成构件形成为使清洗带沿与清洗带第一路径上的清洗带的通过方向相同的方向通过。 

根据本发明的第八方案，在第一方案至第三方案中的任一方案所述的基板清洗装置的基础上，具有： 

控制装置，其控制带驱动装置对清洗带的输送量； 

污浊检测装置，其检测通过第一按压构件与第一清洗面之间以后的清洗带的第二拂拭面的污浊， 

控制装置以使由污浊检测装置检测到规定以上的污浊的第二拂拭面的部分跳过第二按压构件与第二清洗面之间的方式控制清洗带的输送量。 

根据本发明的第九方案，在第八方案所述的基板清洗装置的基础上，在由控制装置控制的跳过的执行频率达到规定的频率以上时进行警告通知。 

根据本发明的第十方案，提供一种基板清洗方法，通过具备第一拂拭面和第二拂拭面且含浸有清洗剂的布制的清洗带来清洗基板的侧缘部的位于表侧的第一清洗面和位于背侧的第二清洗面，其中， 

在维持由第一按压构件将清洗带按压到第一清洗面上的状态以及由第二按压构件将清洗带按压到第二清洗面上的状态的同时，使清洗带和基板沿该基板的侧缘部的长度方向相对移动，从而清洗第一及第二清洗面， 

以如下方式驱动清洗带， 

使清洗带以第一拂拭面与基板的第一清洗面对置的状态沿与基板的侧缘部的长度方向正交的方向通过第一按压构件与第一清洗面之间， 

然后使清洗带翻转从而使第二拂拭面与基板的背侧对置， 

接着使清洗带以第二拂拭面与第二清洗面对置的状态沿与第一按压构件和第一清洗面之间的清洗带的通过方向相同的方向通过第二按压构件与第二清洗面之间。 

发明效果 

根据本发明，通过在不使清洗带翻转180度的情况下将该清洗带的两个拂拭面用于清洗，从而能够适当地清洗基板的侧缘部的分别位于表侧和背侧的清洗面，且能够抑制其清洗成本。 

此外，根据本发明，能够提供以并列设置的状态具备供给卷盘和回收卷盘从而紧凑地构成的能够高速移动的清洗单元。利用该清洗单元，清洗时间缩短，且能够抑制基板的侧缘部的清洗成本。此外，在大型基板的情况下，清洗时间缩短，无需采用使大型基板沿其侧缘部移动的大型的装置，由此能够进一步抑制清洗成本。 

附图说明

根据附图所涉及的优选实施方式所关联的以下记述能够明确本发明 的这些形态和特征。 

图1是本发明的第一实施方式所涉及的基板清洗装置的示意性的立体图。 

图2是将图1的局部放大图。 

图3中，(a)是该实施方式所涉及的基板清洗装置的示意性的侧视图，(b)是基板清洗装置的清洗部的侧视图。 

图4是该实施方式的清洗部的立体图。 

图5是该实施方式的清洗部的侧视图。 

图6是该实施方式的使清洗带驱动装置和回收卷盘同步的连动机构的示意图。 

图7是该实施方式的驱动按压构件的驱动机构的示意图。 

图8是表示该实施方式的基板清洗的流程的图。 

图9是该实施方式的变形例的示意性的立体图。 

图10是本发明的第二实施方式所涉及的基板清洗装置的示意性的立体图。 

图11是本发明的第三实施方式所涉及的基板清洗装置的示意性的立体图。 

图12中，(a)是本发明的第四实施方式所涉及的基板清洗装置的示意性的立体图，(b)是本发明的第四实施方式所涉及的基板清洗装置的变形例的示意性的立体图。 

图13是用于说明对玻璃基板进行构件安装的图。 

图14是现有例的基板清洗装置的示意性的侧视图。 

具体实施方式

以下，参照图1～图12对本发明所涉及的、清洗分别位于液晶显示装置的玻璃基板的侧缘部的表侧和背侧的清洗面的基板清洗装置进行说明。 

(第一实施方式) 

首先，参照图1～图8对本发明的第一实施方式所涉及的基板清洗装置进行说明。图1所示的基板清洗装置具有：将基板1搬入基板清洗装置的基板搬送装置2；使由基板搬送装置2接受的基板1移动的基板移动装置3；清洗分别位于基板1的侧缘部的表侧和背侧的清洗面(需要清洗的面)1a、1b(参照图4、图5)的清洗机构4。它们配设在基台5上。需要说明的是，完成清洗的基板1由设置在ACF贴附装置(未图示)上的类似于基板搬送装置2的基板搬送装置(未图示)从基板清洗装置搬出并向该ACF贴附装置搬入。 

基板搬送装置2具有：具备载置有基板1的一对支承臂6a、6a的叉状件6；使叉状件6沿基板搬送方向(X方向)移动的驱动机构7。驱动机构7具有：引导叉状件6的轨道7a；通过被电动机7c驱动而使叉状件6移动的进给丝杠机构7b。 

基板移动装置3具有：保持基板1的实质上为中央处的基板保持机构8；使基板保持机构8沿X轴方向及与该X轴方向正交的Y轴方向平行移动且使其以Z轴为中心地旋转的移动/旋转台9。该基板移动装置3在清洗开始前通过移动/旋转台9将分别位于基板1的侧缘部的表侧和背侧的清洗 面的长度方向(X轴方向)一端定位于清洗机构4的清洗部10。在清洗中，基板移动装置3通过移动/旋转台9使基板1沿其侧缘部的长度方向移动。由此，清洗机构4的清洗部10从清洗面的一端至另一端地清洗该清洗面。 

如图2～图5所示，清洗机构4的清洗部10具有按压构件11a、11b(第一及第二按压构件)。按压构件11a与处于被基板保持机构8保持的状态下的基板1的侧缘部的表侧的清洗面1a对置，按压构件11b与背侧的清洗面1b对置。按压构件11a将清洗带12按压到清洗面1a上。此外，按压构件11b将清洗带12按压到清洗面1b上。另外，基板1的电极t配设在基板1的表侧的清洗面1a(参照图4)上。按压构件11a、11b分别具有在与基板1对置的对置面(与清洗带12接触的面)13上沿与基板1的侧缘部的长度方向正交的方向(Y轴方向)延伸的突起13a(参照图4)。该突起13a构成为，在基板1沿其侧缘部的长度方向(X轴方向)移动时，以使清洗带12不与基板1一同沿该长度方向移动的方式将该清洗带12卡止。此外，按压构件11a、11b分别在对置面13上具备引导清洗带12的倾斜的引导面14。 

需要说明的是，按压构件11a、11b优选由耐药性及滑动性优良的聚甲醛(POM)等材料制作。 

清洗带输送机构15是使清洗带12在按压构件11a与清洗面1a之间及按压构件11b与清洗面1b之间间歇性地移动的机构。此外，清洗带输送机构15是供给清洗带12的装置的一部分，是从卷绕有清洗带12的供给卷盘16回收清洗带12的装置的一部分，也是朝向卷取清洗带12而将其回收的回收卷盘20输送清洗带12的机构。该清洗带输送机构15向与基板1的侧缘部的长度方向正交的方向输送清洗带12。 

清洗带输送机构15具有清洗带驱动装置17。清洗带驱动装置17具有：驱动清洗带12的驱动辊17a；将清洗带12按压到驱动辊17a上的夹带辊17b。清洗带驱动装置17在清洗开始前从供给卷盘16引出清洗带12，使清洗带12移动规定的移动量(输送量)。 

清洗带输送机构15还具有形成清洗带12的带路径的带路径形成构件18，该清洗带12的带路径从供给卷盘16通过按压构件11a与清洗面1a之间和按压构件11b与清洗面1b之间而到达回收卷盘20。带路径形成构 件18由多个引导辊18a～18h构成。 

如图3(b)所示，该带路径形成构件18形成如下路径(第一路径)，即，使清洗带12在一侧的拂拭面12a(第一拂拭面)与基板1的侧缘部的表侧的清洗面1a对置的状态下沿从按压构件11a的基板中央侧端11aa到达基板中央相反侧端11ab的方向地通过按压构件11a与清洗面1a之间。此外，如图2所示，带路径形成构件18形成如下的翻转路径19(第二路径)，即，使通过按压构件11a与清洗面1a之间后的清洗带12(严密地说为清洗带12的一部分)以另一侧的拂拭面12b与基板1的背侧对置的方式翻转(loop)。进而，带路径形成构件18形成如下路径(第三路径)，即，使翻转后的清洗带12(严密地说为清洗带12的一部分)在拂拭面12b与清洗面1b对置的状态下沿从按压构件11b的基板中央侧端11ba到达基板中央相反侧端11bb的方向通过按压构件11b与清洗面1b之间。 

通过按压构件11b与清洗面1b之间的清洗带12(严密地说为清洗带12的一部分)最终到达回收卷盘20。 

需要说明的是，在翻转路径19存在于从按压构件11b与清洗面1b之间至回收卷盘20的直线上的情况下，带路径形成构件18形成如下路径(第四路径)，即，从按压构件11b与清洗面1b之间通过翻转路径19的清洗带宽度方向的侧方，由此绕过翻转路径19而到达回收卷盘20。由此，避免清洗带12的带路径的交叉。 

或者，在翻转路径19存在于从供给卷盘16至按压构件11a与清洗面1a之间的直线上的情况下，带路径形成构件18形成如下路径(第五路径)，即，从供给卷盘16通过翻转路径19的清洗带宽度方向的侧方，由此绕过翻转路径19而到达按压构件11a与清洗面1a之间。由此，避免清洗带12的带路径的交叉。 

在本实施方式中，通过在单元框架22上设置供给卷盘16、清洗带驱动装置17、按压构件11a、11b、带路径形成构件18(多个引导辊18a～18h)，及回收卷盘20，从而构成一个清洗单元21。如向图1或图2的箭头A方向观察到的图7所示，该清洗单元21能够装卸地安装在设置于基台5上的清洗机构4的主体4a上(如盒式录音带那样构成)。因此，如图1、图2及图7所示，在主体4a上设置有保持单元框架22的单元固定构件23， 该框架22将清洗单元21固定在主体4a的规定的位置上。此外，供给卷盘16与回收卷盘20以各自的旋转中心线实质上一致的方式并列设置。 

需要说明的是，在本说明书中言及的“旋转中心线实质上一致”这一表述的意思是，供给卷盘16与回收卷盘20各自的旋转中心线处于同一直线上或以隔开比一方的卷盘的半径小的间隔的方式平行。需要说明的是，该表述并非限定为通用的轴支承两个卷盘16、20的情况。此外，该表述并非限定为两个卷盘16、20的旋转方向相同。 

如图6所示，清洗单元21具有使清洗带驱动装置17与回收卷盘20同步动作的连动机构24。该连动机构24由设置在清洗机构4的主体4a上的驱动工作缸25驱动。 

连动机构24具有包括L字形状的摆动杆26的连杆机构30，该摆动杆26具备垂直臂26a和水平臂26b。摆动杆266以能够以回收卷盘20的旋转中心线为中心地自由摆动的方式装入到连杆机构30内。该摆动杆26通过由驱动工作缸25使垂直臂26a的前端移动而进行摆动。此外，对垂直臂26a的前端朝向活塞杆的前端25a施力的弹簧27装入在连杆机构30内。通过该弹簧27维持垂直臂26a的前端与活塞杆的前端25a的接触。摆动杆26的水平臂26b在其前端经由连杆28与输送臂29的前端连结。该输送臂29以能够以清洗带驱动装置17的驱动辊17a的旋转中心线为中心地自由摆动的方式装入到连杆机构30内。 

连杆机构30还具有回收臂31。回收臂31以能够以回收卷盘20的旋转中心线为中心地自由摆动的方式装入到连杆机构30内。此外，回收臂31在其前端经由弹簧32与摆动杆26的水平臂26b连结。进而，回收臂31经由棘爪机构33与回收卷盘20连结。同样地，输送臂29经由棘爪机构34与驱动辊17a连结。 

参照图6说明连动机构24的动作。 

在清洗开始前，通过使驱动工作缸25的活塞杆前进，从而使摆动杆26向逆时针方向摆动。 

在活塞杆的前进结束后，活塞杆后退或成为自由状态。由此，摆动杆26被弹簧27牵引而向顺时针方向摆动。当摆动杆26向顺时针方向摆动时，回收臂31经由弹簧32向顺时针方向摆动。利用回收臂31的顺时针方向 的摆动，回收卷盘20经由棘爪机构33旋转。并且，回收卷盘20卷取与摆动杆26的顺时针方向的摆动量对应的量的清洗带12。 

当摆动杆26向顺时针方向摆动时，输送臂29经由连杆28向逆时针方向摆动。当输送臂29向逆时针方向摆动时，驱动辊17a经由棘爪机构33向逆时针方向旋转。并且，驱动辊17a与夹带辊17b配合动作而使夹持的清洗带12移动与摆动杆26的顺时针方向的摆动量对应的量。 

如图7所示，按压构件11a、11b经由安装块37a、37b固定在可动体36a、36b上，该可动体36a、36b沿着设置在单元框架22上的导轨35在Z轴方向上自由移动。此外，弹簧38配置在安装块37a、37b之间。进而，设置防止可动体36a、36b从导轨35脱落的限动件39a、39b。 

可动体36a、36b具备贯通单元框架22延伸的操作杆40a、40b。通过由设置在清洗机构4的主体4a上的驱动工作缸41a、41b的活塞杆的前端42a、42b对操作杆40a、40b的前端进行操作，从而所述的可动体36a、36b被驱动。 

通过驱动工作缸41a、41b对操作杆40a、40b进行操作，从而调节按压构件11a将清洗带12按压到清洗面1a上的力和按压构件11b将清洗带12按压到清洗面1b上的力。若以相同的控制来控制驱动工作缸41a、41b，则按压构件11a经由清洗带12按压清洗面1a的力与按压构件11b经由清洗带12按压清洗面1b的力相等。若以这种方式维持按压力相等的状态并通过基板移动装置3使基板1沿其侧缘部的长度方向移动，则由清洗带12同等程度地清洗清洗面1a、1b。另外，优选通过驱动工作缸41a、41b和弹簧38能够使按压构件11a、11b在基板1向其侧缘部的长度方向的移动中经由清洗带12与基板1的侧缘部持续接触。 

此外，如图2～图4所示，在比按压构件11a、11b的引导面14(参照图4)靠上游侧的清洗带12的部分设置有喷出乙醇、异丙醇等挥发性清洗剂的清洗剂喷出喷嘴43a、43b。清洗剂在清洗带12即将移动前，通过泵(未图示)从箱(未图示)经由管(未图示)向清洗剂喷出喷嘴43a、43b输送，并从清洗剂喷出喷嘴43a、43b朝向清洗带12喷出。喷出有清洗剂的清洗带12的部分47的颜色发生变化。检测该清洗带12的颜色的颜色检测传感器44a、44b设置在能够检测喷出有清洗剂的清洗带12的部 分47的颜色的位置。 

此外，如图2、图3(a)所示，检测清洗带12的污浊的污浊检测传感器45配置在形成翻转路径19的引导辊18d与18e之间。即，污浊检测传感器45对通过按压构件11a与基板1的清洗面1a之间以后且通过按压构件11b与清洗面1b之间以前的、清洗带12的拂拭面12b上的污浊进行检测。 

控制装置46配置在基台5内。控制装置46构成为控制基板搬送装置2、基板移动装置3、清洗机构4的驱动工作缸25、41a、41b及清洗剂的泵(未图示)。 

控制装置46根据颜色检测传感器44a、44b的检测信号确认对清洗带12的清洗剂的喷出量。并且，控制装置46根据确认结果来控制泵(未图示)，由此调节清洗剂的喷出量。 

此外，控制装置46根据污浊检测传感器45的检测信号判定清洗带12的污浊是否为规定以上的污浊。在为规定以上的污浊时，控制装置46对驱动工作缸25进行控制以使清洗带12的拂拭面12b的被检测出规定以上的污浊的部分跳过按压构件11b与清洗面1b之间。并且，控制装置46构成为当跳过的执行频率(例如，单位规定时间的跳过执行次数)超过规定的频率时进行警告通知。 

接下来，主要参照图8、辅助参照图1～图5对通过基板清洗装置清洗分别位于基板1的侧缘部的表侧和背侧的清洗面的流程进行说明。 

首先，基板1通过基板搬送装置2被搬入基板清洗装置，并被安置于基板移动装置3的基板保持机构8。然后，通过基板移动装置3使基板1的侧缘部(清洗面的长度方向一端)在按压构件11a、11b之间定位(步骤S1)。需要说明的是，此时，按压构件11a与11b分离而空出超过基板1的侧缘部的厚度的距离。 

从清洗剂喷出喷嘴43a、43b向清洗带12喷出规定量的清洗剂。(步骤S2)。另外，在清洗剂喷出后，通过颜色检测传感器44a、44b检测被喷出清洗剂的清洗带12的部分47并确认向清洗带12喷出了规定量的清洗剂。 

通过驱动工作缸25使清洗带12移动规定的输送量。由此，在按压构 件11a与清洗面1a之间及按压构件11b与清洗面1b之间配置喷出有清洗剂的清洗带12的部分(步骤S3)。 

确认完成了基板1的定位和清洗带12的移动(步骤S4)。 

如图5所示，通过驱动工作缸41a、41b使按压构件11a、11b将清洗带12按压到基板1的侧缘部。由此，维持清洗带12的拂拭面12a与基板1的侧缘部的表侧的清洗面1a接触的状态，并维持拂拭面12b与背侧的清洗面1b接触的状态(步骤S5)。 

通过基板移动装置3使基板1沿其侧缘部的长度方向移动。由此，清洗带12的拂拭面12a从位于基板1的侧缘部的表侧的清洗面1a的一端至另一端地对该清洗面1a进行清洗。与此同时，清洗带12的拂拭面12b从位于基板1的侧缘部的背侧的清洗面1b的一端至另一端地对该清洗面1b进行清洗(步骤S6)。需要说明的是，也可以通过使基板1沿长度方向至少进行一次往复动作而将基板1的侧缘部的清洗面1a、1b清洗。 

在清洗完成后，通过驱动工作缸41a、41b使按压构件11a、11b向从基板1离开的方向移动(步骤S7)。 

通过基板移动装置3使基板1以基板1的侧缘部从按压构件11a、11b之间移出的方式移动。然后，通过ACF贴附装置的基板搬送装置(未图示)使基板1从基板清洗装置搬出(步骤S8)。 

判定通过ACF贴附装置的基板搬送装置(未图示)搬出的基板1是否为组内的最后的基板(步骤S16)。当为最后的基板时结束，否则返回步骤S1。 

另外，在基板1上存在多个需要清洗的侧缘部时(例如，基板为长方形，四个侧缘部需要清洗时)，在执行步骤S16前，判定是否完成了全部侧缘部的清洗。在完成时进入步骤S16。否则，通过基板移动装置3使未清洗的侧缘部对位到按压构件11a、11b之间，并返回步骤S2。 

在清洗带的规定输送量的移动开始前或完成后(步骤S3即将开始前或完成后)，由污浊检测传感器45检测清洗带12的拂拭面12b的污浊(步骤S10)。 

污浊检测传感器45的污浊检测结果的数据存储到存储装置(未图示)中(步骤S11)。该存储装置存储有清洗带12的多个部分(以规定的输送 量间隔划分的多个部分)各自的污浊检测结果的数据。 

在清洗带12进行规定输送量的移动前(步骤S3开始前)，对在执行清洗带12的规定输送量的移动后位于按压构件11b与清洗面1b之间的清洗带12的部分判定污浊是否为规定以上的污浊(步骤S12)。该判定根据存储在存储装置中的清洗带12的多个部分各自的污浊检测结果的数据来执行。 

在清洗带12进行规定输送量的移动后位于按压构件11b与清洗面1b之间的清洗带12的部分的污浊不超过规定时，进入步骤S4。 

另一方面，当在清洗带12进行规定输送量的移动后(步骤S3执行后)位于按压构件11b与清洗面1b之间的清洗带12的部分的污浊为规定以上时，通过驱动工作缸25使清洗带12移动规定量(步骤S13)。由此，在执行步骤S3后，带有规定以上的污浊的清洗带12的部分不位于按压构件11b与清洗面1b之间(其结果是，清洗带12的带有规定以上的污浊的部分跳过按压构件11b与清洗面1b之间)。 

判定跳过的执行频率是否为规定的频率(例如，单位规定时间的跳过执行次数)以上(步骤S14)。在不为规定的频率以上时，返回步骤S12。另一方面，当为规定的频率以上时，进行警告通知(步骤S15)。通过该警告通知，作业者可知清洗带12发生故障。例如，作业者能够知晓发生过剩的清洗剂被喷出这样的故障(向拂拭面12a喷出的过剩的清洗剂在相反侧的拂拭面12b出现而出现的清洗剂作为污浊被检测这样的故障)。此外，作业者能够知晓在基板1的清洗开始前基板1的清洗面1a比通常更污浊这样的故障。 

根据本实施方式，清洗带12在拂拭面12a与清洗面1a对置的状态下，沿与基板1的侧缘部的长度方向正交的方向通过按压构件11a与清洗面1a之间。通过了按压构件11a与清洗面1a之间的清洗带12进行翻转而使拂拭面12b与基板1的背侧对置。翻转后的清洗带12以拂拭面12b与清洗面1b对置的状态沿与在按压构件11a与清洗面1a之间的通过方向相同的方向通过按压构件11b与清洗面1b之间。在该状态下，基板1沿其侧缘部的长度方向移动，由此清洗带12通过拂拭面12a清洗清洗面1a，与此同时，通过拂拭面12b清洗清洗面1b。从而，能够在不使清洗带12扭转  180度的情况下通过清洗带12适当地清洗清洗面1a、1b。此外，由于使用清洗带12的两个拂拭面12a和12b，因此可抑制清洗带12的消耗量，换言之，可减少清洗带12的更换频率。其结果是，基板1的清洗成本降低。 

此外，如图1、图2、图6及图7所示，供给卷盘16、清洗带驱动装置17、按压构件11a、11b、带路径形成构件18(多个引导辊18a～18h)及回收卷盘20设置在单元框架22上，由此构成一个清洗单元21。并且，如图7所示，该清洗单元21能够装卸地安装在设置于基台5上的清洗机构4的主体4a上。由此，通过更换安置有未使用的清洗带12的清洗单元21与清洗带用尽了的、安装在清洗机构4的主体4a上的清洗单元21，能够以短时间将未使用的清洗带12简单地安置在清洗机构4上。 

进而，由于供给卷盘16和回收卷盘20以各自的旋转中心线实质上一致的状态并列设置，因此与各自的旋转中心线实质上不一致的情况相比能够使基板清洗装置、尤其是清洗单元21紧凑化。 

此外，在清洗带12的拂拭面12b的污浊在局部为规定以上的污浊时，规定以上的污浊的部分跳过按压构件11b与清洗面1b之间。由此，规定以上的污浊的清洗带12的部分不会用于清洗面1b的清洗。其结果是，能够抑制清洗不良的发生。 

此外，清洗带12跳过按压构件11b与清洗面1b之间的次数为规定的频率以上时，进行警告通知。由此，作业者能够知晓道清洗带12发生故障。 

另外，通过按压构件11a向清洗面1a按压清洗带12且按压构件11b向清洗面1b按压清洗带12，从另一观点来看，基板1的侧缘部被两个按压构件11a、11b夹持。因此，基板移动装置3无需支承基板1的侧缘部。即，通过由基板移动装置3支承基板1的实质上的中央部且两个按压构件11a、11b支承基板1的侧缘部，由此基板1以稳定的姿态被支承。由此，能够使基板移动装置3结构紧凑。 

另外，由于清洗机构4构成为沿与基板1的移动方向正交的方向输送清洗带12，即以使两个卷盘16、20的径向与基板1的移动方向正交的方式设置在清洗单元21上，因此基板1的移动方向的尺寸小而结构紧凑。 

另外，按压构件11a、11b分别在与基板1对置的对置面(与清洗带12接触的面)13上具备突起13a，因此以使清洗带12不与基板1一同沿侧缘部的长度方向移动的方式将该清洗带12卡止。由此，即使基板1的移动速度提高，清洗带12也能够可靠地清洗基板1的侧缘部的清洗面。 

以上，对本发明的第一实施方式所涉及的基板清洗装置进行了说明，但本领域技术人员可以明确本实施方式的基板清洗装置可以如后述那样或以后述以外的其他方式进行各种变形。 

例如，如图6所示，驱动回收卷盘20和清洗带驱动装置17的驱动工作缸25也可以是电动机。此时，电动机经由齿轮或传动带来驱动回收卷盘20和清洗带驱动装置17。电动机优选能够控制旋转量的步进式电动机。 

此外，在上述的第一实施方式的情况下，如图1或图2所示，清洗带12通过按压构件11a、11b与清洗面1a、1b之间时的方向是与基板1的侧缘部的长度方向(基板1的移动方向)正交的方向，但也可以是与其不同的方向。例如，可以以使清洗带12沿基板1的侧缘部的长度方向通过按压构件11a、11b与清洗面1a、1b之间的方式构成基板清洗装置。 

进而，如图1或图2所示，在上述的第一实施方式的情况下，清洗带12通过按压构件11a与清洗面1a之间的方向与通过按压构件11b与清洗面1b之间的方向相同，但该两个通过方向也可以不同。但是，优选该两个通过方向为相同的方向。其理由是，例如如图2所示，对于通过翻转路径19而进行翻转的清洗带12而言，翻转开始时的清洗带12的移动方向与翻转结束时的移动方向为大致相同方向。而为了使两个通过方向不同，需要在翻转路径19之后将清洗带的移动方向改变大致180度的其他的路径，从而带路径整体变长。其结果是，基板清洗装置、尤其是清洗单元21变大。因此，使两个通过方向为相同方向可缩短包括翻转路径19的带路径整体，即能够使清洗单元21结构紧凑因而优选。 

进而，在上述的第一实施方式的情况下，如图5所示，同时执行通过清洗带12的拂拭面12a进行的清洗面1a的清洗和通过拂拭面12b进行的清洗面1b的清洗，但也可以不同时进行通过拂拭面12a进行的清洗和通过拂拭面12b进行的清洗。也可以在仅使用清洗带12的一侧的拂拭面12a清洗两个清洗面1a、1b，在一侧的拂拭面12a用完后，使用另一侧的拂拭 面12b来清洗两个清洗面1a、1b。 

图9中示出变形成能够这样进行清洗的基板清洗装置。需要说明的是，以下，在说明与上述第一实施方式所涉及的基板清洗装置不同的基板清洗装置时，对与上述第一实施方式的构成要素相同的构成要素标注相同的参照符号。另外，主要对与上述第一实施方式所涉及的基板清洗装置的不同点进行说明。 

图9所示的基板清洗装置具有如下带路径，即，清洗带12通过按压构件11a与位于基板1的侧缘部的表侧的清洗面之间，然后通过引导辊18h折返，接着通过按压构件11b与位于侧缘部的背侧的清洗面之间。即，构成为通过清洗带12的一侧的拂拭面的不同部分同时清洗两个清洗面。此外，该基板清洗装置与上述的第一实施方式同样地构成为以使清洗了基板1的侧缘部的表侧的清洗面的拂拭面的部分跳过按压构件11b与侧缘部的背侧的清洗面之间的方式输送清洗带(构成为拂拭面的相同部分不会清洗两个清洗面)。 

该基板清洗装置还构成为使卷取回收仅使用了一侧的拂拭面的清洗带12的回收卷盘20作为供给卷盘16使用，且在仅一侧的拂拭面用于清洗之后才将另一侧的拂拭面用于清洗。 

例如，如图9所示，清洗机构4构成为以使回收卷盘20卷取的清洗带12的已用于清洗的拂拭面朝向卷盘中心的方式驱动回收卷盘20。此外，清洗机构4构成为将供给卷盘16支承为能够向两个方向自由旋转。进而，构成为回收卷盘20可作为供给卷盘16使用。由此，能够按照以下的顺序将清洗带12的两侧的拂拭面用于清洗。 

首先，回收卷盘20将仅一侧的拂拭面已被用于清洗的清洗带12以已用于清洗的拂拭面朝向卷盘中心的方式卷取回收。然后，将完成回收清洗带12的回收卷盘20翻转并作为供给卷盘16而安置到清洗机构4上。然后，将供给卷盘16(回收卷盘20)所卷绕的清洗带12以未使用的拂拭面与基板1的侧缘部的表侧和背侧对置的方式安置到带路径形成构件18上。 

由此，能够仅使用清洗带12的一侧的拂拭面来清洗两个清洗面1a、1b，在一侧的拂拭面12a用尽后，使用另一侧的拂拭面12b来清洗两个清洗面1a、1b。 

此外，在上述的第一实施方式的情况下，如图4所示，在清洗中，基板1沿其侧缘部的长度方向移动，但也可以是清洗带12沿基板1的侧缘部的长度方向移动。 

具体而言，如图9所示的基板清洗装置那样，将使清洗单元21沿基板1的侧缘部的长度方向移动的清洗单元移动装置50设置在基板清洗装置中。通过该清洗单元移动装置50使清洗单元21沿基板1的侧缘部的长度方向移动，清洗带12能够沿侧缘部的长度方向移动。另外，优选清洗单元移动装置50构成为在清洗单元21被安装成能够装卸的情况下使清洗单元21移动。通过更换安置有未使用的清洗带12的清洗单元21与清洗带用尽了的安装于清洗单元移动装置50上的清洗单元21，能够简单地将未使用的清洗带12以短时间安置到清洗机构4上。 

在清洗单元21沿基板1的侧缘部的长度方向移动时，如图9所示，优选供给卷盘16与回收卷盘20以各自的旋转中心线C实质上一致的状态并列设置。 

作为一例，列举出下述情况：两个卷盘各自的旋转中心线实质上不一致，在沿旋转中心线延伸的方向(清洗单元21的移动方向)观察时，里侧的卷盘的一部分从跟前侧的卷盘的外周局部露出(跟前侧的卷盘的直径等于或大于里侧的卷盘的直径)。在该例子的情况下，与旋转中心线实质上一致而里侧的卷盘完全被跟前的卷盘隐藏的情况相比，由于存在露出部分，因此清洗单元21相对变大，而刚度相对降低。此外，在清洗单元21的移动中，卷盘及支承卷盘的构件容易晃动，例如，容易发生振动等。其结果是，难以使清洗单元21高速移动。 

清洗单元21通过清洗单元移动装置50而沿基板1的侧缘部的长度方向移动，且供给卷盘16和回收卷盘20在各自的旋转中心线实质上一致的状态下并列地设置在清洗单元21上，由此实现能够沿基板1的侧缘部的长度方向高速地、例如以300～500mm/s的速度移动的紧凑的清洗单元21。此外，清洗单元21因为结构紧凑，因此轻量且刚性高，从而能够抑制在高速移动中发生振动而顺畅地移动。此外，由于这样构成，因此清洗单元21在其起动、加速、减速及停止时无需大的能量。即，清洗单元移动装置50也可以形成紧凑的结构。 

另外，在考虑使清洗单元21沿基板1的侧缘部的长度方向高速移动而缩短清洗时间从而获得抑制清洗成本的结果时，优选清洗带12的带路径是带路径短的简单的路径。在构成为简单的带路径的情况下，带路径形成构件18即引导辊的数量变少，从而能够使清晰单元21轻量化。 

作为一例，可以列举出图9所示的带路径来作为可使清洗带21高速地移动的简单的带路径。图9所示的带路径形成为，清洗带12通过按压构件11a与位于基板1的侧缘部的表侧的清洗面之间，然后在引导辊18h的作用下而折返，接着通过按压构件11b与位于侧缘部的背侧的清洗面之间(带路径形成为利用清洗带12的一侧的拂拭面的不同部分来同时清洗两个清洗面)。利用该图9所示的简单的带路径，能够使清洗带21轻量化且高速地移动。 

此外，对于大型基板而言，利用这样的清洗单元21，在不使用使大型基板沿其侧缘部的长度方向移动的大型的基板移动装置的情况下就能够在短时间内清洗大型基板。其结果是，能够抑制大型基板的清洗成本。 

进而，也可以使基板1和清洗带12这双方沿基板的侧缘部的长度方向相对移动。 

此时，基板清洗装置具有基板移动装置3和图9所示的清洗单元移动装置50这双方。通过基板移动装置3使基板1向其长度方向的一侧移动，清洗单元移动装置50使清洗单元21向其长度方向的另一侧移动，从而能够更高速地执行清洗。 

(第二实施方式) 

接下来，参照图10说明本发明的第二实施方式所涉及的基板清洗装置。 

上述第一实施方式的基板清洗装置通过回收卷盘20卷取清洗带12而进行回收。相对于此，如图10所示，本实施方式的基板清洗装置取代回收卷盘20而具有回收清洗带12的清洗带回收装置48、收容清洗带回收装置48回收的清洗带12的回收箱49。 

清洗带回收装置48具有：牵引清洗带12的回收辊48a、将清洗带12按压到回收辊48a上的夹带辊48b。回收辊48a和夹带辊48b设置在清洗单元21的单元框架22上(装入于清洗单元21)。此外，回收辊48a构成 为与驱动辊17a同步旋转。 

回收箱49能够拆下地安装在清洗机构4的主体4a上。 

根据本实施方式，无需使用回收卷盘20即可回收清洗带12。 

(第三实施方式) 

参照图11说明本发明的第三实施方式所涉及的基板清洗装置。 

在上述的第一实施方式所涉及的基板清洗装置中，如图1或图2所示，利用带路径形成构件18使清洗带12在通过按压构件11a与清洗面1a之间以后在基板1与供给卷盘16之间的空间内翻转。相对于此，在本实施方式所涉及的基板清洗装置中，利用带路径形成构件18(多个引导辊18a～18h)使通过按压构件11a与清洗面1a之间以后的清洗带12沿着供给卷盘16的周围(径向外侧)进行翻转。 

根据本实施方式，若比较图2和图11可知，与第一实施方式相比，从按压构件11a与清洗面1a之间到引导辊18d的距离变长。由此，在利用拂拭面12a清洗清洗面1a后的清洗带12到达引导辊18d前，清洗剂从清洗带12充分地挥发。其结果是，能够抑制清洗带12的拂拭面12a上的污浊与清洗剂一同转印到引导辊18d～18g上。 

(第四实施方式) 

参照图12说明本发明的第四实施方式所涉及的基板清洗装置。另外，本实施方式与第三实施方式类似。 

在上述第三实施方式所涉及的基板清洗装置中，如图11所示，清洗带12向接近供给卷盘20的方向通过按压构件11a与清洗面1a之间，且向接近供给卷盘20的方向通过按压构件11b与清洗面1b之间。相对于此，在本实施方式所涉及的基板清洗装置中，如图12所示，清洗带12向从供给卷盘20离开的方向通过按压构件11a与清洗面1a之间，且向从供给卷盘20离开的方向通过按压构件11b与清洗面1b之间。 

另外，图12(a)是供给卷盘16和回收卷盘20以各自的旋转中心线实质上一致的方式并列设置的示例，图12(b)是供给卷盘16和回收卷盘20实质上配置在同一平面上的示例。 

根据本实施方式，如图12所示，形成翻转路径19的引导辊18c～18f能够在不接触清洗清洗面1a而污浊的拂拭面12a的情况下引导清洗带12 而使其翻转。其结果是，能够抑制多个引导辊18c～18f变得污浊。 

需要说明的是，通过将上述各种实施方式中的任意的实施方式适当组合，能够发挥各自具有的效果。 

本发明参照附图并关联优选的实施方式而充分地进行了说明，但熟练该技术的人员知晓各种变形或修改。应理解为，这样的变形或修改只要不脱离基于另附的权利要求书的本发明的范围则包含在本发明中。 

参照在2008年10月31日申请的日本专利申请No.2008-282313号及基于该申请主张优先权的申请即在2009年7月31日申请的日本专利申请No.2009-179099号的说明书、附图及权利要求书的公开内容的整体而将它们纳入本说明书中。 

工业上的可利用性 

不言而喻的是，本发明不局限于基板的侧缘部，对分别位于其他部分的表侧和背侧的清洗面也能够通过清洗带的两个拂拭面适当且高速地清洗。因此，本发明可适当地利用在需要进行基板的清洗的领域，例如在基板上安装构件的构件安装的领域。 

Claims (16)

1.一种基板清洗装置，通过具备第一拂拭面和第二拂拭面的布制的清洗带来清洗基板的侧缘部的位于表侧的第一清洗面和位于背侧的第二清洗面，所述基板清洗装置具有：

第一按压构件，其将清洗带按压到第一清洗面上；

第二按压构件，其将清洗带按压到第二清洗面上；

带路径形成构件，其形成通过第一按压构件与第一清洗面之间以及第二按压构件与第二清洗面之间的清洗带的带路径；

带供给装置，其向带路径供给清洗带；

带回收装置，其从带路径回收清洗带；

带驱动装置，其驱动清洗带；

清洗剂喷出装置，其向清洗带喷出清洗剂；

移动装置，其使清洗带和基板沿该基板的侧缘部的长度方向相对移动，

带路径包括：

第一路径，其使清洗带以第一拂拭面与第一清洗面对置的状态沿与基板的侧缘部的长度方向正交的方向通过第一按压构件与第一清洗面之间；

第二路径，其使通过第一路径后的清洗带翻转，以使第二拂拭面与基板的背侧对置；

第三路径，其使通过第二路径后的清洗带以第二拂拭面与第二清洗面对置的状态沿与第一路径上的清洗带的通过方向相同的方向通过第二按压构件与第二清洗面之间。

2.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其中，

带路径形成构件形成包括第四路径的带路径或包括第五路径的带路径，所述第四路径从第三路径通过第二路径的清洗带的宽度方向的侧方从而绕过该第二路径而到达带回收装置，所述第五路径从带供给装置通过第二路径的清洗带的宽度方向的侧方从而绕过该第二路径而到达第一路径。

3.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其中，

该基板清洗装置具有至少包括带供给装置、第一按压构件及第二按压构件以及带路径形成构件且以能够装卸的方式安装在基板清洗装置的主体上的清洗单元，

在基板清洗装置的主体上具有驱动带供给装置的驱动装置、驱动第一按压构件及第二按压构件的驱动装置。

4.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其中，

第二路径通过带路径形成构件形成为使清洗带沿着带供给装置的周围翻转。

5.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其中，

第一路径通过带路径形成构件形成为使清洗带沿从带供给装置离开的方向通过第一按压构件与第一清洗面之间，

第二路径通过带路径形成构件形成为使通过第一路径后的清洗带沿着带供给装置的周围翻转，

第三路径通过带路径形成构件形成为使清洗带沿与第一路径上的清洗带的通过方向相同的方向通过。

6.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其中，

所述基板清洗装置具有：

控制装置，其控制带驱动装置对清洗带的输送量；

污浊检测装置，其检测通过第一按压构件与第一清洗面之间以后的清洗带的第二拂拭面的污浊，

控制装置以使由污浊检测装置检测到规定以上的污浊的第二拂拭面的部分跳过第二按压构件与第二清洗面之间的方式控制清洗带的输送量。

7.根据权利要求6所述的基板清洗装置，其中，

在由控制装置控制的跳过的执行频率达到规定的频率以上时进行警告通知。

8.一种基板清洗装置，通过具备第一拂拭面和第二拂拭面的布制的清洗带来清洗基板的侧缘部的位于表侧的第一清洗面和位于背侧的第二清洗面，所述基板清洗装置具有：

第一按压构件，其将清洗带按压到第一清洗面上；

第二按压构件，其将清洗带按压到第二清洗面上；

带路径形成构件，其形成通过第一按压构件与第一清洗面之间以及第二按压构件与第二清洗面之间的清洗带的带路径；

带供给装置，其向带路径供给清洗带；

带回收装置，其从带路径回收清洗带；

带驱动装置，其驱动清洗带；

清洗剂喷出装置，其向清洗带喷出清洗剂；

移动装置，其使清洗带和基板沿该基板的侧缘部的长度方向相对移动，

带路径包括：

第一路径，其使清洗带以第一拂拭面与第一清洗面对置的状态沿与基板的侧缘部的长度方向正交的方向通过第一按压构件与第一清洗面之间；

第二路径，其使通过第一路径后的清洗带翻转，以使第二拂拭面与基板的背侧对置；

第三路径，其使通过第二路径后的清洗带以第二拂拭面与第二清洗面对置的状态通过第二按压构件与第二清洗面之间，

带供给装置具有卷绕清洗带的供给卷盘，

带回收装置具有卷取清洗带而将其回收的回收卷盘，

供给卷盘与回收卷盘并列设置。

9.根据权利要求8所述的基板清洗装置，其中，

第三路径通过带路径形成构件形成为使清洗带沿与第一路径上的清洗带的通过方向相同的方向通过。

10.根据权利要求8或9所述的基板清洗装置，其中，

带路径形成构件形成包括第四路径的带路径或包括第五路径的带路径，所述第四路径从第三路径通过第二路径的清洗带的宽度方向的侧方从而绕过该第二路径而到达带回收装置，所述第五路径从带供给装置通过第二路径的清洗带的宽度方向的侧方从而绕过该第二路径而到达第一路径。

11.根据权利要求8或9所述的基板清洗装置，其中，

该基板清洗装置具有至少包括带供给装置、第一按压构件及第二按压构件以及带路径形成构件且以能够装卸的方式安装在基板清洗装置的主体上的清洗单元，

在基板清洗装置的主体上具有驱动带供给装置的驱动装置、驱动第一按压构件及第二按压构件的驱动装置。

12.根据权利要求8或9所述的基板清洗装置，其中，

第二路径通过带路径形成构件形成为使清洗带沿着带供给装置的周围翻转。

13.根据权利要求8或9所述的基板清洗装置，其中，

第一路径通过带路径形成构件形成为使清洗带沿从带供给装置离开的方向通过第一按压构件与第一清洗面之间，

第二路径通过带路径形成构件形成为使通过第一路径后的清洗带沿着带供给装置的周围翻转，

第三路径通过带路径形成构件形成为使清洗带沿与第一路径上的清洗带的通过方向相同的方向通过。

14.根据权利要求8或9所述的基板清洗装置，其中，

所述基板清洗装置具有：

控制装置，其控制带驱动装置对清洗带的输送量；

污浊检测装置，其检测通过第一按压构件与第一清洗面之间以后的清洗带的第二拂拭面的污浊，

控制装置以使由污浊检测装置检测到规定以上的污浊的第二拂拭面的部分跳过第二按压构件与第二清洗面之间的方式控制清洗带的输送量。

15.根据权利要求14所述的基板清洗装置，其中，

在由控制装置控制的跳过的执行频率达到规定的频率以上时进行警告通知。

16.一种基板清洗方法，通过具备第一拂拭面和第二拂拭面且含浸有清洗剂的布制的清洗带来清洗基板的侧缘部的位于表侧的第一清洗面和位于背侧的第二清洗面，其中，

在维持由第一按压构件将清洗带按压到第一清洗面上的状态以及由第二按压构件将清洗带按压到第二清洗面上的状态的同时，使清洗带和基板沿该基板的侧缘部的长度方向相对移动，从而清洗第一清洗面及第二清洗面，

以如下方式驱动清洗带，

使清洗带以第一拂拭面与基板的第一清洗面对置的状态沿与基板的侧缘部的长度方向正交的方向通过第一按压构件与第一清洗面之间，

然后使清洗带翻转以使第二拂拭面与基板的背侧对置，

接着使清洗带以第二拂拭面与第二清洗面对置的状态沿与第一按压构件和第一清洗面之间的清洗带的通过方向相同的方向通过第二按压构件与第二清洗面之间。

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