CN102105974A - 用于传送物体的方法和装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及用于运送基本上扁平的、可自由移动的物体的方法和装置，其中至少该物体的保持和导向仅通过使用流动液体来实现。根据本发明的装置包括：至少一个处理表面，该处理表面具有带多个穿透开口的至少一个流入区域；以及至少一个用于在提供流入量之后排放液体的排放区域，但是该装置不具有非流体边缘、限制器或用于导向扁平物体的其它机械导向辅助。优选地，基于本发明的运送设备可用于扁平物体或基底的处理系统中或这些处理系统之间。进一步地，考虑到不同的运送液体具有各自相应的特征或者分别包括各自相应的物质或活性剂，还可以在传送的同时进行湿化学处理。

Description

用于传送物体的方法和装置

技术领域

本发明涉及用于传送基本上为扁平物体的方法和装置，其中通过使用流动液体进行传送。本发明还涉及用于传送这些物体的方法和装置，以及对这些物体的同时的湿化学处理。

背景技术

首先，在本发明的上下文中定义了对于理解本发明重要的几个术语，但是这些术语并不具有通常的确切意义。

扁平物体的“传送”包括在无需对将被传送的物体进行任何同时移动的情况下对该物体的位置进行局部改变并且对该位置进行简单保持，随后称为“携带”。

因此，“携带”或“持有”分别意味着扁平物体基本上是静止的，即，在任意方向上都没有传送速率。该装置提供了进行持有所需的(携带)力。

物体必须暴露于“进给件”，以便在期望的方向上移动，从而将相应的进给力施加于物体上。

为了使物体在进给期间保持预定进程或轨迹，必须对其进行额外的“导向”，这就是为什么将导向力作用于物体的原因。提供用于“导向”的导向力与运送所需的进给力是不同的。

在下文中，将使用术语“传送”来替代“持有、向前推进和/或导向”的全部意义。

“机械作用”意味着通过机械装置进行前述力的传送。这包括所有非流体方法，例如，由塑料或金属制成的装置，还包括由诸如凝胶之类的非常软的物质制成的装置。

当扁平物体没有被机械作用装置携带、持有或导向时，扁平物体是“可自由移动的”。

根据现有技术情况，用例如夹子、支架、暗盒等(在下文中也称为基底或简称为物体)固定扁平物体是众所周知的。具体而言，当扁平物体正在接受固定处理时，对这些物体的持有是必要的。对于已知装置特别不利的一点是，必须机械地接触基底以相对于重力支撑它和/或使它居中，即，将它固定在期望的位置。假设基底被放置在支撑物上，接触通常可能涉及基底的下侧。可选地或另外地，因为通常必须避免基底的横向脱离(breakout)，因此该接触可以包括一个或多个基底边缘。例如，通过流动的处理液使基底从下侧提起以使它漂浮在液体垫上，并且因此不能连续地放置在(机械作用的)支撑物上时，就是这种情况。此外，如果在持有期间在支撑物与物品之间建立了毛细作用力，那么也是不利的，这是因为在没有附加垫片的情况下这种毛细间隙自然地减小直到建立支撑物的机械接触为止。

在传送设备的环境中，扁平物体的柔和导向是感兴趣的，这是因为它们优选地用于在处理设备中和处理设备之间传送基底。此外，假如使用的液体具有适当的特性或者分别包括相应的物质或活性剂，优选地可以对传送同时进行湿化学处理。

在所述的每种情况下，必要的是，应用的传送设备尽量轻柔地将基底从一个处理设备传送到下一个处理设备、或者在一个设备内传送，例如，分别传送到处理液中并且从处理液中再次传送出来。必须将传送设备设计为使将被处理的区域(例如，基底的一侧)保持干净并且在传送的任何时候都不会被覆盖。在传送期间，必须保证在任何时候物体都遵循预定的传送轨迹。

具体地，在处理超出仅传送的情况下，基底必须在预定时间周期内经常与传送液和/或处理液，例如，清洗溶液、蚀刻溶液或涂层液体，接触。在传送期间，处理持续时间对结果具有重要影响。具体地，现有技术提供了下面两种方法以满足期望的处理持续时间。根据第一种方法是在处理期间基底基本上保持静止。处理持续时间是传送设备离开处理液(沐浴设备)中的基底的持续时间。根据第二种方法，在处理期间基底例如还通过沿着处理液表面传送的方式实质上进一步传送，所述处理液存在于具有一定长度(内联设备，内联方法)的水槽中。为此，通常使用下按固定器，其将避免通常较薄的基底的漂浮。在大多数情况下，在高吞吐量方面，内联方法是优选的。

通过中断洗器中的一个或多个基底的相对移动或者例如通过喷嘴等方式，可以实现在大多数情况下处理所需的处理液的混合或交换。在内联设备中，系统中基底和处理液之间的相对移动的存在是固有的；可以通过喷嘴或经由堰等对消耗液进行进一步持续交换。

在传送基底期间，如果通过链条、辊、滚轴、工件运输工具或夹子的方式，则可能产生多种问题。在传送期间，它们通常与可能的基底轨道丢失以及机械负载相关联。

将被传送的基底轨道丢失的原因可能是例如机械振动以及温度变化，它们可能导致传送设备的变形。另一个原因是最少量的基底导致摩擦力，该摩擦力不足以对进给力进行安全传送。首先，在传送期间，轨道丢失导致与其它基底或者导致与(横向)导向物碰撞的危险，所述其它基底或(横向)导向物通常也存在于这些设备中并且将避免基底脱离期望轨道。另外，捡起传送物品以用于进一步处理步骤或者重新定位被复杂化，从而不会自动地进行。

在本领域中，用于导向或传送扁平基底的装置是众所周知的，但是公开的解决方案通常在将被传送的物品和与携带和/或导向有关的传送设备之间提供机械接触。

例如，在EP 1 354 830B1中公开了具有上面已述的下按固定器的传送设备。其中，处理持续时间是由基底的(精确可调的)传送速率和容纳处理液的水槽的长度确定的。然而，基底是由导致前述问题的机械装置保持的。具有通常被设置在处理水槽外部的驱动器的传动轴会引起上述公开的设备及其类似所具有的缺点。由于传动轴突出穿过水槽壁而需要的密封层特别容易磨损，这是因为诸如HF或HCl之类的处理介质具有高侵蚀性。并且，长的传动轴略微偏转，这导致在传送基底期间的不准确性。

题为“Transport rolls，downholders，and transport system”的文献EP1 350 830A1中公开了用于传送易碎的、扁平基底的另一种装置。由于公开的传送辊的设计和材料选择，使得它对温度变化具有非常低的敏感性，并且允许扁平基底的柔和传送。然而，除了将被传送的物品所处的(机械作用的)辊，该发明还公开了所谓的轨道保持器。具体地，它们在轨道丢失期间与扁平的基底横向接触，然而，由于由此产生的机械暴露，因此这是不期望的。

文献DE 40 39 313A1中公开了一种用于特别柔和传送扁平基底的另一种装置。然而，经由沿着被设计为传送表面的表面流动的流动液薄层进行传送，因此，向前携带和推动基底。对于这种液体薄膜的产生，传送表面提供了倾斜间隙，液体通过倾斜间隙自下而上流动，并且因此流动到基底的下侧上。移动方向是由在传送方向上的间隙倾斜给定的。为了保证使将被传送的基底保留在传送设备上并且不会横向脱离，装置具有横向边缘作为沿着传送表面的两侧的导向物。当与导向物碰撞时，反作用导向力施加于基底上，以使基底被导向传送表面上，即使它横向地漂移。然而，如上所述，并不期望存在横向的、机械作用的限制器。此外，只能通过改变发射传送介质的压力和/或间隙的倾斜角度的方式在非常有限的范围内调节和维持传送速度。通过与导向物的不可预见的偶然碰撞降低了最初的传送速度，这导致传送的相应不精确的持续时间，并且在同时例如湿化学处理的情况下，导致不一致的处理结果。影响传送速度的倾斜角度是由在建造设备期间的设计确定，并且之后不会例如根据实际传送情况而改变。并且，在传送期间基底不可能暂时停止，这是因为由于不期望的传送介质的附随缺乏因此基底的下侧将不会与底板进行机械作用的实际接触。因此，公开的传送设备被专门地提供以用于传送，而未被用于处理基底。

最后，文献DE 693 965 61T2中公开了还基于射出的介质流作为传送装置的装置，然而，根据该装置，气态流体流动到具体地作为弯曲带的将被传送的物体上，并且通过指向传送方向的液体流提高和可选地移动气态流体。该文献还公开了用于导向物体的横向挡板。必须维持非常特定的压力状况以正确地操作设备，具体而言，这是通过对流体流出进行精确定位和定尺寸确定的。

文献DE 693 049 17T2还公开了允许在没有机械接触物体的情况下传送物体的系统，其基于特殊形成的流出开口，所述流出开口被设置为基本上与传送平面垂直。然而，该文献仅限于与传送平面机械接触，这是因为相应的挡板被提供用于对物体进行横向导向。该装置提供差动压力以能够在与水平方向不同的方向上传送物体。这导致在没有机械接触物体的情况下在朝向传送表面的方向上推动将被传送的物体，这是因为它同时漂浮在空气垫上，所述空气垫是通过被设置在传送表面中的流出开口产生的。差动压力也不能用于对物体进行导向，这是因为它仅在垂直于物体表面的方向上进行作用。进一步地，该设备仅意味着用于传送物体，而不是意味着在本申请的意义上的“处理”。

文献US 3,761,002或EP 0 408 021B1考虑了附加旋转。虽然文献US 3,761,002公开了空气垫，但是根据文献EP 0 408 021B1，横向包围物是用于避免将被传送的物体的横向漂离所需的。

本领域已知的其它设备通过下降产生前向传送所需的力成分，其中，唯一地，通过从下方施加的相应流入量实现基底的上升。然而，其未解决使基底避免横向脱离的机械作用导向物的问题。并且，由于使用自然下降仅引起了传送速度的不够精确的可调性。具体地，几乎不能提供某些移动轨迹，从而不够精确保持特定的处理持续时间。并且，如果没有其它辅助设备，则不可能暂停将被传送的基底。

发明内容

因此，本发明的目的是提供一种以可控的、优选地恒定的速度柔和传送扁平基底的方法和装置，其中，具体地，可以无需使用作为导向辅助设备的横向边缘、挡板等，以使基底的表面或边缘均不会与用于导向的机械作用的元件进行任意类型的接触。该方法和装置适合于传送独立的基底以及几个顺序放置和/或邻近放置的基底。优选地，基底的湿化学处理也可与传送同时进行。在装置中的停留时间将是精确可调的以保持期望的处理持续时间。进一步优选的是，不仅能够在传送方向上传递基底，还能够使它们暂时停止，并且基底不会或极少与环境进行机械作用接触。

权利要求1中所提出的方法以及权利要求6中提出的装置解决了该目的。因此，在传送基本上扁平的且能够自由移动的物体(例如基底)的过程中对该物体在液体上的保持和导向仅通过使用包括至少一个具有至少一个流入区域的处理表面和至少一个排放区域的装置而实现，其中，运送所需要的液体从上述至少一个处理表面的至少一个流入区域流出，以使液体在从至少一个排放区域排放之前先流到扁平物体上，以使在处理表面与扁平物体之间形成提供液体薄层的粘附力，通过该粘附力，可在无需机械导向辅助设备的情况下对物体进行保持并且以轨迹粘附的形式在液体薄层上导向。

根据优选的实施方式，使用机械装置用于由于至少一个扁平物体的液体流而发生的进给或进给支持，所述机械装置能够在传送方向上移动或者能够被停止，并且具体地用于精确控制进给速度以及可选择地用于维持执行例如湿化学处理的期望停止时间。根据本发明，仅通过处理表面和扁平物体的边缘区域之间的力(重力、浮升力、由液体薄层提供的粘附力)和正在使用的液体的表面张力(内聚力)引起的力之间平衡实现基底的横向导向。

根据本发明的方法以及根据本发明提出的装置有利地既适合于固定处理的情况又适合于传送基底的情况，可选地还在传送速度下进行同时处理。可以在几个处理设备中或之间进行传送。进一步地，本发明教导的应用在这种处理设备中特别有利，即，物体或基底必须经历使用水，尤其是高纯度的水，或液体化学品的高纯度湿处理。这些应用中通常很重要的是，基底表面不会在任何时候干燥，因为基底的表面纯度可能因此受限。

从各从属权利要求以及下面的详细描述和附图可以得到其它优选的实施方式。

本发明是基于这样的理解，即，在无需横向限制器、边缘或用于导向物体的其它机械导向辅助工具(例如，相应装置的构造元件)的情况下，可以在液体例如具体地在流动的液体或液体流上保持并以轨迹粘附的方式传送基本上扁平且能够自由移动的物体。

在对于本发明实施的实验的情况下，令人意外的发现是，可以将用于传送基底并且由流动液体形成的液体薄层提供为使在保持设备或传送设备上对将被传输的基本上扁平的物体进行自动保持和导向。

由于必要时可以在传送的情况下进行同时处理，因此在下文中使用统一术语“处理表面”，其中根据本发明的“处理”还包括“传送”或者仅指“传送”。

本发明的重要方面是提供了用于将物体安全保持在处理表面上并且尤其将其在处理表面上或者沿着处理表面以轨迹粘附的方式导向的力，例如，在例如水槽型装置或凹槽型装置的情况下，将物体与处理表面分隔以及并将物体维持在预定位置或预定轨迹。

根据第一实施方式，根据本发明的方法在上述情况下仅用于提供安全保持和导向扁平物体所需的保持导向力。

根据第二实施方式，根据本发明的方法还用于产生进给所需的进给力。

根据这两个实施方式，上述保持和轨迹粘附地导向仅通过使用优选地流动液体来实现，从而能够省略机械地即非流体地作用的横向边缘、限制器或者保持和导向物体的其它装置。通过这种方式，可以可靠地避免扁平物体的横向边缘的机械损坏。进一步地，在没有机械作用的限制器、导向辅助设备、固定器等例如设置在扁平物体上方和/或下方固定设备、夹子、真空吸盘等的情况下，也可以进行保持和导向。通过这种方式，可以基本上预防物体的通常非常触摸敏感的二维侧面的机械损坏。

根据本发明，物体的导向是由两种不同类型的流体即液体和气体的相互作用引起的，其中气体不是从处理表面发出的，而是与周围的环境空气有关。在这种情况下，保持和导向所需的粘附力在扁平物体的表面与处理表面之间形成。例如，如果物体未由同一种液体包围，则不是这种情况。在这里，是否有少量的一种类型的流体包含在另一种类型的流体中，例如液体中的气泡，是不重要的。

根据本发明，流动液体从存在于至少一个处理表面上的至少一个流入区域流出。流动液体被定向为流动到扁平物体上。液体可能基本上垂直地从处理表面流出并且因此垂直地碰撞到被设置为与处理表面平行的扁平物体上，从而仅提起物体。液体薄层的厚度优选地在0.1mm至0.3mm的范围内。可选择地，液体可能以一定的角度从处理表面流出，以使额外的移动分量作用于物体。

然后，液体流入至少一个排放区域。该排放区域的特征是例如处理表面的边界中的溢流边缘，或者还可以是处理表面上的排放开口。

根据本发明，可以在不与机械装置接触的情况下对基底进行引导和保持。尽管由于进给使得一个或几个挂钩可以接触基底的边缘，但是这些挂钩不是用于对基底进行导向和/或固定的机械装置。只要基底被完全设置在处理表面上并且由发射液体携带，那么它可以自由移动。这是例如基底的宽度比处理表面的宽度更窄的情况。根据本发明，当基底到达排放区域或者与处理表面和该排放区域之间的边界相交时，在扁平物体与至少一个排放区域之间形成力平衡。具体地，基于排放区域的表面和边界之间的粘附力的形成的力平衡导致扁平物体自动地即在没有机械设备的相互作用的情况下占据优选的位置，根据本发明，该位置分别对应于期望的固定位置或者遵循传送轨迹的预定位置。此外，当与该位置偏离时，可以例如通过力的外部应用的方式自动地返回的优选位置。具体地，在传送期间，可以在没有自动返回运动的情况下将这些力施加于物体上，从而导致离开预定传送轨迹。

必须对排放区域限定尺寸，从而可能至少排放发射到流入区域中的那些量的液体。

可选择地、另外地或专门地，根据本发明的作用可在于，喷嘴或等同作用的装置被设置在排出定向流的排放区域中以提升该区域中的液体水平高度，从而形成表示液体边界的“液体堰”，扁平物体可以仅在严重的外部影响的作用下滑过所述流体边界。液体、气体或液体-气体混合物可以经由这些喷嘴发射。可以连续地或脉冲地进行发射，以形成在第一情况下的连续流、在第二情况下的例如各自的液体脉冲或包含在液体中的气泡，它们特别有效地提升水平高度，并且另外在破裂期间在液体表面处产生大量小波形，通过所述小波形可以将扁平的物体从液体堰推回到处理表面。如果允许弄湿基底表面，则可以优选地使用这种类型的传送。

除了横向配置，这些堰可以作为一种替换或补充被设置在与传送方向垂直的方向上，并且可以在停止传送物体的操作期间被使用。在最简单的情况下，这些堰是由一行停止喷嘴构成，这些停止喷嘴基本上沿着与处理表面垂直的处理表面的整个宽度在基底表面的方向上发射。

根据本发明的方法的优选的实施方式，用于对扁平物体进行保持和导向的液体是处理液。通过这种方式，扁平物体的处理可以与上述的保持和导向同时进行。具体地，清洁步骤、涂层步骤或腐蚀步骤可以用作处理。

根据特别优选的实施方式，引起力平衡的各个力对称地作用于扁平物体上。这意味着流入区域和/或排放区域被分别对称地设置在或到处理表面上，并且因此被设置到将被固定或将被导向的物体。如果例如扁平物体具有方形或圆形的形状，那么在固定扁平物体的情况下，特别优选的是提供也是方形或圆形、圆周的或者甚至规则间断设计的排放区域。在导向的方面，特别优选的是，被使用的装置包括两个与处理表面横向的基本上等同设计的且对立放置的排放区域，以使具有至少一个优选地对称放置的流入区域的至少一个处理表面由两个排放区域横向包围，从而保证将被导向的扁平物体在指向排放区域的相应边缘处承受基本上相同的力。

根据另一个实施方式，力平衡未对称地作用于扁平的物体。这可以是例如一个或多个排放区域未对称地放置到扁平物体的情况，或者可以是在导向(当在进给方向上观察时)的情况下仅提供偏心的排放区域例如单方面地放置在相应的凹槽型装置的一个外侧缘处的排放区域的情况。实验还表明，在该情况下，形成根据本发明的力平衡以使扁平物体与排放区域之间的距离基本上保持恒定，从而使根据本发明的对物体的导向成为可能。可选择地，将处理表面的流入区域中的排出喷嘴导向溢出边缘上，以使基底导向期望的方向上并且不会以不可控的方式偏离处理表面的相对的边缘，在该情况下，处理表面中不存在排出区域。

根据本发明的方法的优选实施方式，提出除了前面所述的力平衡，还将进给力施加到扁平物体上以使其移动。

根据特别优选的实施方式，通过流动液体将进给力施加到扁平物体上。相对于固定或导向所需的力，独立地提供进给力，并且通过使液体在期望移动的方向上流动实现进给力。优选地，使用相同的液体用于保持和导向。特别优选的是，液体从相同的排放区域的相同排放开口流出。在这里，被设置为运动的液体用作各扁平物体的流体挂钩。通过液体的导向流动优选提供进给力表示了用于避免通常易碎的扁平物体的机械损坏的特别有效的装置。

具体地，在通过流动液体提供进给的情况下，进一步优选地，已经以在根据本发明的装置内部提供的进给速率进行了至根据本发明的装置的区域的输送并且具体地从基底到实际传送设备的运送。通过这种方式，已经避免了与运送有关的问题。这对于不同重量的基底馈入装置的情况是特别有利的，因为在暴露于分别相等的进给流的基底被区别地加快。在最坏的情况下，由此产生的不同速度会导致接下来的基底碰撞。

在处理内联设备中的基底的情况下，实验表明，处理结果具体地取决于处理持续时间的精确维持。仅通过同时也是处理液的传送液进行的轻柔传送通常不会导致对处理持续时间的不充分精确的维持。如果可以分离功能“处理”和“传送”，那么通过使用相同的介质对基底进行同时传送和处理仅在某些情况下是可能的。只有通过这种方式，才可以实现与通过液体薄层的产生施加的基底的基本速度基本上独立的传送速度的预定义或维持。

因此，根据本发明的方法的另一个实施方式，提出机械作用进给设备专门地或附加地例如支援地提供进给力，其中，如果将消除由液体流产生的进给，则进给设备自然也可用作停止或制动单元。该设备接触优选地在其对着进给方向和/或指向进给方向的边缘处的相应扁平物体。在圆形基底的情况下，优选地接触周围边缘的这些部分，这些部分分别直接对准进给方向或者仅仅与进给方向反向。优选地，与基底接触的进给设备的部分的形状适合于扁平物体的外部轮廓。通过这种方式，进给设备可以实现对各自物体的减速或加速，其中这与可选地存在的由流动液体薄层引起的进给速度基本上独立地进行。通过这种方式，因此还可能独立于可能存在的由流动液体引起的基流调节停留时间。

在根据本发明的装置的上下文中详细地描述了特别优选的进给设备。对于多个进给设备例如具体地由两部分组成的进给设备，其中基底从进给设备的第一部分传送到进给设备的下一个部分，相应的处理过程如下所述，其中描述是示例性地基于沿着一个分段的传送。很明显，其它纵向部件也可以与这种进给设备桥接。因此，在处理设备中使用这种进给设备是特别有利的，以使“分段”可以类似地与术语“处理设备”互换。

首先，将基底充分远地放入分段的入口，即，至少远到基底并使其向下的侧面在不与处理表面机械接触的情况下由液体垫的液体层支撑。因此，该放入本身还可以通过除了根据本发明提供的装置的其它装置影响。然而，优选的是在装配有根据本发明的装置的处理设备的上游，使用允许根据本发明的基底的传送非常轻柔和可控的装置。进一步优选的是传送速度适合于期望的进给速度。当将遵循基底的最宽部分的基底的锥形物至少稍微放置在分段的区域中时，该放入已经足够充分。换言之，例如，圆形基底的中心将在分段的边界上至少稍微凸出到分段的区域中。然后，可以利用根据本发明的进给设备将基底进一步移动到分段的区域中。

然后，对优选的多部分的进给设备的第一部分的挂钩进行控制以建立优选的基底的后部或者基底的后侧区域处的边缘中的接触。如上所述，这仅仅在将基底充分地放入分段的区域中时是可能的。

然后，可以通过多部分的进给设备的第一部分的挂钩在分段的区域中对基底进行传送。根据本发明，可以在该路径上对基底进行处理。当然还可以中断传送以例如允许基底在该分段的区域中的更长的停留时间。然而，根据本发明优选的是，在整个时间内维持挂钩与基底之间的永久接触。

接下来，可以将基底传送到优选地多部分的进给设备的至少一个较远部分。为此，必须控制两个部分的挂钩以使第一部分的一个或多个挂钩与基底的边缘接触直到该边缘还与上述一个较远部分的一个或多个挂钩接触为止。因此，至少在短时间内一个或多个传送挂钩以及接替挂钩与基底接触，从而保证在任何时候基底都不会发生不受控的移动。然而，通过挂钩对基底进行导向不是必须的，这是因为使用根据本发明的前述教导避免了基底的横向脱离。如果提供了超出一个分别用于传送和接替的挂钩，那么根据本发明将它们优选地放置为在横向方向上具有相对于彼此不同的各自距离，以防止在基底的传送期间进给设备的不同部分的挂钩发生碰撞。

当完成传送之后，通过多部分的进给设备的较远部分的挂钩在分段内对基底进行进一步传送。当然，在该进一步传送期间也可以对基底进行处理。如果期望，那么也可以停止进给。

最后，将基底充分馈送出分段的出口。当遵循基底的最宽部分的基底的锥形物至少稍微位于分段的区域外部时，馈送是充分的。因此，该步骤可以与前面所述的基底进入分段的区域的充分馈入步骤类比地理解。在根据本发明的又一个分段紧接着该分段的情况下，只有在前面所述的基底充分地馈入分段时，它才能接替该基底，这与将基底从前面的分段充分馈送出是等效的。

根据又一个实施方式，提出多部分进给设备的又一个部分的挂钩通过出口将基底从分段的区域馈送出，同时多部分进给设备的第一部分的挂钩将第二基底馈送入该区域。通过这种方式，可以同时使几个基底馈送通过该分段，从而实现对生产力的进一步改善。通过进给设备的各部分的不同可控性，还可以将基底传送到分段的区域中同时使第二基底暂时停留在该分段的区域中。在该情况下，只需保证相应的挂钩可及时用于对基底进行传送。这可以通过适时地将处理基底从分段的区域中馈送出来实现，或者通过提供多部分进给设备的又一部分或附加部分实现。

根据本发明的方法的特别优选的实施方式，提出至少传送速度并且如果可行则还包括施加于各自基底的进给速度并且如果进一步可行则还包括几个后续分段的流动速度可以彼此同步。通过这种方式，保证了从上游的配置分段馈送出的基底被安全地传送和控制到下一个配置分段。具体地，保证了不会由于堆积的基底或由于位于不利位置处的挂钩产生碰撞。

根据本发明提供的流动液体可以相对于可选的单面的或双面的扁平物体流动。在单面配置的情况下，流动薄层位于扁平物体下方以使扁平物体悬浮在如同液体垫上一样。

在双面配置的情况下，要保持和导向的扁平物体通过流动液体相对于两个侧面流动，其中各处理表面和流入区域被放置在物体的下方以及上方。因此，可以显示出扁平物体的夹层型的配置。

因此，通过流动液体本身以及通过一个或多个附加进给设备将进给提供到物体上是可能的。在第一种情况下，可以由附加的、优选地横向放置的开口例如喷嘴提供产生液体流动的进给。同样优选的是，对于后一种情况，提供了与液体填充区域横向啮合的进给设备，其中可选择地或另外地，开口，具体例如纵向槽，将被提供在两个处理表面的至少以一个中，进给设备的挂钩可以延伸通过该开口，并且能够作用于物体而完全或基本上无需使它们自身位于该物体处。

根据又一个实施方式，根据本发明的方法包括一种用于对扁平物体进行超声波处理或兆频超声波处理的步骤。可以在扁平物体的可选择地存在的移动之前、期间或之后进行该步骤，其中优选的是，在扁平物体的移动期间实施超声波处理或兆频超声波处理。

本发明还包括用于实施根据本发明的方法的装置。

因此，本发明公开了一种用于传送基本上扁平的且可在液体上自由移动的物体的装置，其中，根据本发明，当然，可以并排地和/或接连地传送几个基底。该装置包括至少一个具有带多个穿透开口的至少一个流入区域的处理表面，液体从穿透开口流向扁平物体，该装置还包括至少一个用于在提供流入之后排放液体的排放区域。

根据本发明，装置不包括非流体边缘、限制器或用于导向扁平物体的其它机械导向辅助设备，这是因为仅由液体的流动来保持和导向扁平物体。

对于根据本发明的装置的特殊设计，请参考前面所述的关于根据本发明的方法的描述和实施的陈述。

根据本发明，至少一个处理表面的至少一个流入区域将产生液体的流动，产生的液体流被导向为流向扁平物体，并且无需对其机械作用的情况下提起(在来自下方的流动的情况下)扁平物体。为此，流入区域包括相应的穿透开口；特别优选地是，包括大量穿透开口。液体以一定的压力和一定的流速从穿透开口流出。穿透开口优选地是圆形的或矩形的，并且特别优选地具有间隙型或缝隙型横截面。它们被统计地分配或规则地放置。例如，在期望较低的浮力或较低的进给的区域中，可以减少穿透开口的个数。此外，多孔材料例如烧结材料也可能作为穿透开口。为此，金属材料以及优选地这些基于塑料的材料是可用的。它们提供了大量的具有低横截面的统计分配的穿透开口，以使总体而言，大的流量可以流过所有这些穿透开口。这些材料的另一个优点是处理表面不必提供穿透开口开始的对立表面，但是，液体可以从侧面被压入多孔块，然后，在流出处理表面之前在多孔材料内侧分配。并且，包括处理表面的元件不必由携带进给通道的几个层构成，而仅由单层构成。

当液体流到扁平物体流动之后，排放区域首先用于接收液体。如在根据本发明的方法的上下文中所述，排放区域可以例如具有溢流边缘，或者还可以具有相应的排放开口，根据优选的实施方式，排放开口也可以被放置在处理表面的局部内侧。特别重要的是，排放区域的尺寸被设计为使排放区域可至少排放发射到处理表面上的那些量的液体，从而可以排出不期望的液体量。

溢流边缘被优选地设计为具有≤90°(直角)的边缘角度，其中优选地是导致更尖锐边缘的较小角度。当然，溢流边缘可以包括溢流边缘的不同实施方式，或者它可以不连续地被设计。

进一步的实施方式提出，在处理表面中存在槽，这些槽优选地在处理表面中部开始，并且从V型顶视图上看朝向处理表面的侧面向上延伸到排放区域中，所述排放区域相对于处理表面被横向地放置。单个通道的横截面可以优选地是矩形的。特别优选的是相对于彼此平行间隔放置的几个槽。“V”的顶端可以指向传送方向以及对着传送方向。因此，如果穿透开口分别位于处理表面上或者处理表面中，那么保证了特别快速的介质交换。

作为一种替代或补充，槽可以被设计为三角形，并且它们可以延伸到整个宽度上。

当然，在一个处理表面上并且在一个流入区域中，排放区域的所述实施方式的组合是可能的。

然而，在扁平物体被保持和导向但不由进给移动的固定设备的情况下，排放区域可以优选地由溢出边缘形成，该溢出边缘被周向地且连续或不连续地设计，并且可选择地可以包括槽。然而，必须保证，在操作根据本发明的装置期间，液体可在任何时候可以达到足够高的水平以使要保持和导向的物体不会与装置的其它元件具体例如处理表面发生机械接触。然而，在该上下文中，装置可包括机械定心辅助设备或者相似的作用元件，物体可以在实际处理之前被放置在作用元件上，或者可以通过作用元件对物体进行保持和导向直到前面所述的根据本发明的处理过程开始为止。物体还可能通过合适的装置被放置在根据本发明的装置的处理表面上，并且接下来根据本发明被处理或传送。

并且，在期望对扁平物体进行额外的进给的情况下，至少一个排放区域可以被设计为溢出边缘或堰。优选地，该区域被横向地放置在处理表面旁边，同时扁平物体在中间区域即处理边缘的双边边界之间沿着期望的、预定传送轨迹移动。在这里，一个单个的、连续地或非连续地设计的排放区域的配置以及几个(特别优选地对称放置的)排放区域的配置是可能的。

如上所述，根据本发明的装置不包括非流体边缘、限制器或用于导向扁平物体的其它机械导向辅助设备，并且仅通过液体的流动保持和导向根据本发明的方法的上下文中的扁平物体。

在将液态的液体薄层用作传送装置的优选实施方式的上下文中，液体分别从处理表面下方连续地流出以及可选择地还从处理表面的上方连续地流出，或者通过穿透开口流经处理表面。

通过优选地与在排出流入区域中的液体类似地方式可控地连续横向排放液体，在扁平物体和至少一个排放区域之间建立了作用，通过该作用，基底不能横向地脱离和离开处理表面。该作用保证在固定处理的情况下物体保持在预定位置处，并且保证在物体移动的情况下物体被导向或者物体在处理表面上轨迹粘附地遵循在预定传送方向上的预定传送轨迹。因此，该作用产生了这样的力，即，当该力与作用于物体上的其它力叠加时，该力使将物体导向期望位置的力得到平衡。此外，参照在上述根据本发明的方法的上下文中的相应描述。

根据优选的实施方式，作为扁平处理表面的部分的根据本发明的装置的流入区域由坚硬或柔软的材料制成。该表面可以例如由塑料、金属、陶瓷、木料、石头和复合材料及其组合制成。

根据一个实施方式，处理表面可以被设计为固定的。根据另一个实施方式，处理表面可以被设计为移动的，即，它可以是可降低的或可提升的，或者它可以是可倾斜的。通过这种方式，根据需要，可以创建最适合于相应任务、基底尺寸、基底质量等的环境。同样地，可以通过处理表面的相应倾斜影响液体的流动。此外，可以在内联设备中通过处理表面的暂时降低和提升来暂时停止或者减速或加速基底。并且，可以通过相应建立的“双向传输”的方式来实现对例如损坏的或破裂的物品的选择。

对于直径为156mm的基底，处理表面优选地长度为450mm，且的消耗量，即，流入和流出的流动液体，共计200l/h。特别优选的是，该量共计400l/h，这是因为通过这种方式，对于在传送期间的并行处理，并且特别是通过在排放区域的槽中使用特别有利的、前述的V型配置，还提供了良好的液体交换。

对于根据本发明的特别有效的粘贴作用的产生，使邻接处理表面的排放区域的定位适合于物体的宽度是重要的。在例如线形延伸的处理表面的情况下，处理表面的轨迹宽度因此适合于要传送的基底的宽度。如果这种情况未发生，那么，如果例如物体远窄于处理表面，则物体将在处理表面的宽度范围内横向地自由移动，然而，这可能具体地对于同时湿化学处理是有利的，这是因为，通过这种方式，处理液在要处理的基底表面下方可以进行更好地交换。只有当到达处理表面的边界时，才能形成根据本发明的效果，这避免了基底的进一步漂离。

根据优选的实施方式，将处理表面设计为比扁平物体的宽度多出不超出4mm。优选地，处理表面被设计为其宽度多出甚至不超出3mm。然而，如果处理表面比物体窄，那么这导致物体在处理表面的宽度范围内横向地自由移动，如上所述。然后，只有当到达处理表面的边界时，才形成根据本发明的作用。

根据又一方面，本发明涉及用于在流动液体的表面上传送扁平物体的方法，所述流动液体被馈送到溢出容器。因为来自该容器的液体由于其结构从横向容器壁的至少一个溢出边缘上流出并且流入至少一个排放区域，因此根据本发明的定位作用可以甚至在该特殊应用中有利地使用，以使不必使用相应的机械装置在液体上固定和轨迹粘附地导向物体。馈送到容器中的液体的流动方向根据需要专门提供了通常由传送构成的进给，由此，对于本领域相关技术人员，可以从本领域中得到大量用于产生期望的流动特性的适当装置。可选择地或辅助地，进给力还可以由根据本发明的至少一个进给设备提供。因此，根据本发明的作用以及根据本发明实现的优点还可以分别利用和提供以用于通过充满液体的水槽传送基本上扁平的物体。垂直于传送方向的水槽的宽度基本上与要传送的物体的宽度对应。对于作为处理表面的水槽的尺寸选择的进一步细节，具体地参照上一段。

对于前述溢出区域(溢出边缘)可选择地或另外地，该溢出区域可以由钻孔、穿孔带、格子状开口等构成，或者它可以包括这样的装置，即，液体还可以在该装置上或者通过该装置从处理表面流出。此外，还可以通过邻接流入区域的排放孔形成排放区域。根据本发明，在所有情况下，排放区域未被淹没是重要的，但是这些功能区域中的液体形成了溢出边缘。

根据本发明的装置的优选实施方式，该装置包括从排放区域吸入液体的主动抽吸器。通过这种方式，可以排放足量的液体，特别是在拥挤的情况下。此外，这个量可以由主动抽吸器的功率变化控制；例如，暂时限制该量以实现累积是有利的，因此，升降液体的高度以吸出如此多的液体从而暂时不对基底进行根据本发明的进一步传送是可能的。

根据在其中除了保持和导向之外还必须提供进给的又一实施方式，根据本发明的装置包括用于产生作用于扁平物体上的进给力的装置。当除了或者替代对物体进行保持和导向期望对物体进行移动时，这些装置通常是必须的。

根据优选的实施方式，进给是通过从处理表面的穿透开口中流出的液体提供的。这些开口优选地设计为孔或裂缝，并且它们可以与根据特别优选的实施方式的传送方向对准。此外，可以提供与传送方向反向对准的孔或裂缝。因此，本领域相关技术人员将了解到，作为整体的处理表面或者处理表面的单个区域可以装配有反向相对的孔和/或裂缝。根据本发明还提出，孔或裂缝可以分别地、分组地或整体地装载液体流。在本申请中，特别优选的是，在操作期间，分组的组成是可改变的，以使通过这种方式可以对进给力进行简单的控制。

更优选的是，穿透开口在其倾斜面和/或横截面上被设计为可改变的。还是通过这种方式，可以有目的地影响流动以操纵物体或者适应于它们的几何形状或质量或者为了期望的传送速度。除了垂直于处理表面的运行的穿透开口的方向，它们还可以优选地有角度地定向，以使流出液体在传送方向上或者在与传送方向相对的方向上具有一个成分。特别优选的是，倾斜角度为45°，由该角度造成了物体的相应进给。进一步优选的是，在处理表面的侧面方向上，从垂直位置测得的钻孔的倾斜角度总计30-45°。

然而，穿透开口的配置还可以是将通过液体流移动的基底设置为旋转的。为此，穿透开口将被放置在圆形路径上，其中，它们具有与该圆形路径相切的倾斜角。可以通过改变液体的量和/或倾斜角的度数影响旋转速度。

可以通过配置和控制指向传送方向的相反方向的穿透开口增强基底的停止或至少减速。通过这种方式，可以形成临时屏障，这允许更好地控制某一位置处的基底的停留时间。然后，通过关闭相应的穿透开口或者在传送方向上旋转穿透开口松开基底。

根据又一实施方式，进给力地由进给设备额外提供或仅由进给设备提供。这意味着作用于物体上的进给力不是或者至少不是仅通过流动液体和导向液体提供的。进给力与流动液体的至少部分去耦合以这种方式发生，即，特别允许对相应的传送速度进行更精确的控制。这尤其对内联处理设备的情况是至关重要的，因为处理结果通常是由处理持续时间影响的，因此必须精确维持处理持续时间。

因此，根据本发明可仅通过流动液体、仅通过附加进给设备或通过二者变体的组合提供进给。

根据特别优选的实施方式，根据本发明的装置的进给设备包括驱动装置，该驱动装置是从由传动带、凸轮、滑块导板、铰接链、气压缸和液压泵构成的组中选择的。此外，进给设备包括至少一个进给装置，该进给装置是从机械挡板、凸轮、凸纹、销和刮刀低轨构成的组中选择的。优选地，进给装置分别仅作用于垂直于传送方向的扁平物体的边缘上，并且具体地作用于后边缘上。进一步优选的是，进给装置的形状适合于扁平物体的相应边缘，以实现进给力的最佳可能的分布。

进给设备被设计以使它在传送方向上是可驱动的，并且可选择地还是可停止的。因此，作为替代或补充，可将如以传送方向为方向或者以传送方向的相反方向为方向的喷气嘴等其它装置和设备或者在传送方向上是可驱动的并且可停止的其它挂钩提供给上述进给装置，通过它们可以减速或加速物体的运动。并且，通过这种方式，可以根据需要在任意时候调节液体与要传送的物体之间的相对运动。

下面将详细描述具有一个挂钩的进给设备的几个特别优选的实施方式。

根据第一实施方式，包括器至少一个挂钩的进给设备被设置在处理平面上，并且挂钩被设计以使要处理的基底的边缘通过它们相应的末端接触。在该实施方式的上下文中，进给设备可以被设计为分离的结构部件或者出现在处理表面的上面可选的进一步处理表面的组成元件，以形成上层的液体垫。如果进给设备被设计为分离的结构部件，那么进一步的处理表面优选地具有至少一个挂钩的间隙，以使进给设备可以在传输通过分段期间持续地接触基底边缘。

根据第二实施方式，包括至少一个挂钩的进给设备被设置在作为处理表面的组成部分的处理平面的下方，以形成下层的液体垫。

根据第三实施方式，包括至少一个挂钩的进给设备被设置为平行于进给方向并且位于作为可能存在的处理腔的横向壁的组成部分的处理平面的侧面。

本领域相关技术人员了解到，根据本发明这些基本的实施方式可以根据实际的应用领域相互结合。

此外，根据本发明，不仅可以使用一个进给设备实现上述实施方式中的每一个，而且可以使用两个进给设备最优选地等同设计的两个进给设备实现上述实施方式中的每一个。

在上面的第一实施方式的上下文中，进给设备因此设计为分离的结构部件，优选地由两个部分组成的结构部件，其中每个部分具有至少一个挂钩。当几个分段依次转换并且分段超出某一最小长度时，多部分设计是特别需要的或有利的。当下一个基底将馈入分段的区域中并且同时前一个基底仍然部分地位于该分段上时，多部分进给设备并且具体地由两个部分构成的进给设备也是必须的。进给设备的多部分设计意味着它是由至少两个装置构成，这些装置基本上实现相同的任务，从而具有基本上相同的设计。这些部分之间最重要的差别是它们在分段的内部中的位置。通常，多部分进给设备的一个部分将被设置在分段的入口区域中，同时另一个部分位于分段的出口区域中。因此，一个部分主要用于将基底馈送到入口区域中，而另一个部分用于将基底馈送到出口区域中。如果分段包括几个处理平面或处理轨迹，那么可以给这些处理轨迹中的每一个提供一个或多个单独的进给设备。然而，优选地是尽可能结合进设备的部分，这在期望在并行轨迹上进行同步处理和传送时是容易实现的。

可选择地，上面的第一实施方式包括作为分离的结构部件的单个部分的进给设备，优选地它关于分段的处理平面的长度被大概放置在分段的处理平面的中心。为了保证挂钩与基底边缘的继续接触，它们优选地被设计为可伸缩的。因此，这保证挂钩可以与始终位于处理平面的高度处的基底接触。

根据本发明，多部分进给设备的每个部分包括挂钩。在这方面，根据本发明，只有挂钩与基底直接接触。

在上面的第一实施方式和第二实施方式的上下文中，进给设备优选地具有作为较低或较高处理表面的组成部分的多部分设计并且具体地两个部分设计，其中，每个部分包括两个挂钩，它们彼此平行地放置优选地相对于彼此以一定的距离平行地放置。并且在这里，一个部分被放置在分段的入口处，而另一部分被放置在分段的出口处。这些部分的相应挂钩可以从处理表面延伸，从而优选地以同步的方式接触基底边缘。在已经完成期望的进给之后，挂钩可以收缩到相应的处理表面中。

在上面的第三实施方式的上下文中，进给设备被设计为可能存在的处理腔的横向壁的组成部分，并且因此两个部分(在两个侧面上)。如上所述，挂钩从相应壁横向地延伸，以使它们也优选地以同步的方式接触基底边缘。

根据本发明，优选的是，指向相应进给方向的进给的速度可以被调节，以通过与液体垫的流动速度协作使基底持续地压在进给设备的挂钩上，这避免了基底以不可控的方式与一个或多个挂钩分离。

在提供上层液体垫的情况下，根据进给设备的具体实施方式，可以优选地提出，产生上层液体垫的进一步表面给至少一个挂钩提供了间隙。这些间隙与液体流出输出开口功能地去耦合，并且用于这样的目的，即，通过上面的容器操作的挂钩在其进给方向上始终安全地接触基底的边缘。在存在多部分进给设备例如两部分进给设备的情况下，上层的处理表面将因此提供几个例如两个间隙。

处理表面中的间隙个数通常对应于根据本发明的进给设备的部分的个数以及部分的挂钩的相应个数。这些间隙根据挂钩必须执行的移动作用，并且在每个部分至少两个挂钩的情况下，它们相对于彼此基本上是平行的。根据本发明，每个部分仅一个挂钩已经足够，这是因为物体的安全导向和固定已经通过前面所述的过程实现。根据在每个部分不止一个挂钩的情况下优选的实施方式，具有至少两个挂钩的多部分进给设备具体地两个部分的进给设备的一个相应部分的间隙与另一个垂直于传送方向的间隙彼此分离，其中，在两部分进给设备的情况下，相应的距离特别优选地是不同的，以排除不同部分的挂钩的接触。具体地，这在将基底从多部分进给设备具体地两部分进给设备的第一部分的挂钩转移到另一部分的挂钩的情况下是必须的。因此，多部分进给设备具体地两部分进给设备的挂钩的间隙被放置在处理表面中，以排除不同的合作部分的挂钩的接触。

由于其挂钩配置，因此每个部分适合于优选地在位于边缘处的后部或背部区域处接触基底，并且在进给方向上移动。特别优选的是，该接触对称地啮合基底；然而，只要通过非对称引起的旋转部件不会变得如此大以使根据本发明的定位作用是过度的，那么也可使用非对称的力应用实现进给。因此，从基底的角度看，推力优选地在任意时候作用于基底上，而从多部分进给设备的单个部分看，推动移动也是可能的，即，具体地，如果放置在出口区域中的进给设备的一部分在仍然位于分段的中间的后部处接触基底。然而，作用在基底上的力仅为压缩力。

特别优选的是，挂钩被设计为棒状并且具有球或球面分段型接触区域，以在挂钩与基底边缘之间尽可能只发生点接触或线接触，而不发生面接触。此外，已经提出，部分的多个挂钩被设置为公共运动，在基底接触的过程中，通过该公共运动，表面区域相对于基底边缘的定位在处理期间通常是安全可调节的。换句话说，该运动必须是适合的，以通常正确地调节接触区域相对于处理平面的高度。优选地，本领域所熟知的链接运动或结合运动可以用于该目的。该任务可以通过平行四边形型运动被特别有效地解决。然而，线性导向设备或机器导向设备在原则上也适合于该目的，但是由于成本和复杂度的原因是较不优选的。

前面所述的描述是示例性地根据沿着分段的传送。应该清楚的是，其它纵向部分也可以装配这种进给设备。特别优选的是，在处理设备中使用这种进给设备。

又一优选实施方式提出，物体在分离的部分或分段中传送，其中，用于停止或减速扁平物体的设备被放置在分段边界处。例如，这些部分可以分别通过可选地可关闭的设备例如可关闭的排放凹槽、可降低的溢出边缘或者可降低的和/或可关闭的穿孔带与其它部分分离。可以提供的是，通过相应的分段边界可以将仅至少一个处理表面、至少一个排放区域或这两个区域划分为单个分段。

如果物体将经过必须保持彼此分离的具有不同液体的几个分离的湿区域，那么还可进一步提出，所述的分段边界是由气态流体形成。通过这种方式，可以避免从一个分段到下一个分段的液体介质的溢出，而要传送的物体可以将该中间堰横穿在液体垫上。优选地，这些气态液体垫在传送方向上具有比基底长度更短的长度，以便仍然保证通过液体的导向。

因此，前面所述的用于固定或导向的作用也可用于对要传送的物体进行可控的分离。如果由于效率的原因几个基底将接着在一个轨迹中以最小可能距离传送通过一个设备或在几个设备之间传递，那么保证基底不会彼此碰撞而引起对彼此的损坏是重要的。

该设计也可进一步用于步进式传送以允许固定的处理时间。为此，装置包括记录彼此相邻的基底之间的距离并且将这些值馈送给适当的控制器单元的相应传感器是有利的，所述控制器单元反过来以适当的方式控制用于停止的设备和/或进给设备的驱动装置。

根据该实施方式，通过暂时溢出可选择地存在的排放凹槽，例如，通过相应地增加传送量或者通过减少或关闭相应凹槽的排放开口，可以进行例如对流体的影响。通过这种方式，基底在传送方向上的阻力消失，并且传送物品被再次加速。

此外，优选的是，千赫兹或兆赫兹域中的超声波可以通过处理表面被耦合到液体中。为此，根据本发明的装置可选择地包括相应的超和/或超音波收发机。它们可以被放置以使声音以直接的方式到达扁平物体，或者它们可以被放置以使扁平物体进行间接辐射，例如，通过可选择地存在的液体水槽的侧壁的激励或通过反射的方式。

根据又一实施方式，根据本发明还提出，流动液体不仅提供在扁平物体下方，而且提供在扁平物体上方，以使装置具有夹层结构型设计。因此，根据本发明的装置还具有两个处理表面，从而由于位于底部上的重力使它足以仅提供一个排放区域。

最后，优选的是，该装置还包括至少一个用于控制流动的设备，通过该设备传送液或处理液的流动速度可以分别由流入量和/或流入速度和/或流出量和/或流出速度和/或吸入和/或液体薄层的水平的局部和/或整体改变的影响。

通过附图对本发明进行详细地解释。

附图说明

图1示出了根据本发明的装置的处理表面的优选实施方式的顶视图。

图2示出了具有根据本发明提供的进给设备的第一实施方式的根据本发明的装置。

图3示出了具有根据本发明提供的进给设备的第二实施方式的根据本发明的装置。

图4示出了具有根据本发明提供的进给设备的不同实施方式的根据本发明的装置的前视图。

图5示出了根据本发明的装载了基底的装置的两个并行运行的处理表面的透视图。

图6示出了根据本发明的装载了基底并且是单面分段的装置的两个并行运行的处理表面的透视图。

图7示出了根据本发明的装载了基底的装置的两个并行运行的处理表面的另一个实施方式的透视图。

图8示出了根据本发明的装置的优选实施方式的顶视图(图8A)以及其断面图(图8B)。

图9示出了根据本发明的装置的又一个实施方式的断面图。

图10示出了用于停止基底的设备的优选实施方式。

图11A和图11B分别示出了处理表面的边界区域或处理表面的细节中的情形的概况。

图12示出了具有发出液体F的两个处理表面7的本发明的装置的实施方式的断面图，其中处理表面之一被放置在基底1的下方，而另一个处理表面被放置在基底1的上方。

具体实施方式

图1示出了具有边缘排放区域的根据本发明的装置的处理表面的优选实施方式的顶视图。在所示的实施方式中，处理表面7包括在处理表面7上居中设置的流入区域2，并且由位于两侧的两个排放区域3界定边界。流入区域2包括大量穿透孔6，其在所示的实施方式中被规则地放置。此外，小的钻孔被示为入口。

图1还表明，根据本发明的装置可以由独立的分段构成，这些分段分别被设计为如图1所示，并且可以依次放置。因此，有利地提供了覆盖区域8，该覆盖区域被设计为使分段的一端刚好覆盖在下一分段的起点。为此，覆盖区域被形成在一端上，作为另一端的覆盖的负片。

在图2中，示出了根据本发明的装置的实施方式，根据该实施方式的装置包括根据本发明提供的进给设备4的第一实施方式。该进给设备包括被设计为辊和带的驱动装置4’，并且挂钩形式的进给设备4”被连接于设计为小平板的该进给设备。小平板仅在背离传送方向T的后边缘处接触基底1。

图3示出了具有刮刀地轨的根据本发明提供的进给设备的第二实施方式。条形挂钩被连续地设计，以使它们接触相应基底1的整个后边缘。条的下侧在处理表面上刮擦。各刮刀地轨彼此分离，并且分别与两侧上的相应传动带连接。

图4示出了具有根据本发明的提供的进给设备的不同实施方式的根据本发明的装置的相应前视图。

由“I”指示的图示示出了位于流入区域2和基底1上方的进给设备4”。因此，挂钩向下指向它们与基底的后边缘接触之处，并且将进给力V施加于该处，在该图示中，该进给力V指向绘图平面中。

由“II”指示的图示示出了位于基底1下方的进给设备4”。在所示的图示中，驱动装置4’在凹槽中运行，这些凹槽沿着传送方向T通过流入区域。进给装置4”被连接于驱动装置，以使它们向上延伸到基底的传送区域并且在那里接触到基底的后边缘。

在由“III”指示的图示中，被设计为挂钩的进给设备4”以一定角度被设计，以使它们接触相应基底1的后拐角以及后边缘的一部分。

图5示出了承载有基底1的根据本发明的装置的两个并行运行的处理表面7的透视图。图中所示的液面波指示存在于流入区域2中和排放入排放区域3中的液体F，并且更精确地，排放入几个排放凹槽3′中液体F。有利地，集中放置的排放凹槽3′同时用作用于两个处理表面7的排放凹槽。未示出将收集在排放凹槽中的液体从排放凹槽排出的钻孔。

在图6中，示出了承载了基底并且是单面分段的根据本发明的装置的两个并行运行的处理表面的透视图。右侧示出的处理表面的分段通过分段边界9彼此分离。根据所示的实施方式，这些分段边界9被设计为排放凹槽3′。如果从穿透开口6中流出的液体F(未示出)的量太小，那么基底1不能越过分段边界9。一旦液体的量因此增加从而增加了液体高度，那么基底1可以通过分段边界9。可选择地，分段边界可以具有可封闭的排放开口，当该排放开口被封闭时，填充排放凹槽3′以使基底1能够通过分段边界9。

图7示出了承载有基底1的根据本发明的装置的两个并行运行的处理表面7的又一个实施方式的透视图。在这里所描绘的实施方式基本上与图1所示的实施方式的顶视图相对应，其中放置在图的左侧的处理表面表示具有V型槽的优选实施方式。

图8示出了具有基底1的根据本发明的装置的优选实施方式的顶视图(图8A)。在处理表面7上存在几行穿透开口6，它们与放置在下方的未示出的进给和排放系统相连。还示出了剖切线，图8B示出了该剖切线的相关联的侧视图。能够清楚地看到有角度的穿透开口6，其中一部分在传送方向T上倾斜且指向右侧，而另一部分与此相反。还能够看到，在同一行穿透开口6上，即，在与处理表面7的侧面分别等距处中，提供了不同的倾斜。因此，如果这些穿透开口6在组中是可控的，那么这些穿透开口6可以选择性地用于加速或减速基底。进一步提供的是，如果期望并且根据倾斜的方向，装置总体上可以倾斜10°以给基底施加附加的加速力或减速力。

图9示出了根据本发明的装置沿着垂直于传送方向T的平面的断面图。基底1位于处理表面7上。液体F通过穿透开口6离开到达处理表面7上，并且形成了携带基底1的液体薄层。在穿透开口6的下方存在具有入口13的穴12，其中入口为各个穿透开口6供应液体。液体横向地离开处理表面7进入相应的排放凹槽3′。

在图10中，示出了用于停止基底的设备的优选实施方式。该图被描绘为又一个断面图，该断面图是沿着平行于传送方向T且垂直于处理表面7的表面的平面绘制的。此外，在图的左半部分，所示的基底1直接接近于彼此跟随的两个分段的分段边界9。由于穿透开口6在传送方向T上倾斜，因此通过穴12流入穿透开口6并且进一步流到处理表面7上的液体给基底施加进给力V。然而，在分段边界9处存在液体优选地排放入的排放凹槽3′形式的凹槽，以使基底1不会通过该凹槽。然而，如果例如通过带14的下侧上的过压而使可垂直移动的带14上升到处理表面7的水平，那么排放凹槽3′将关闭并且基底1可以通过。

图11A和图11B分别示出了处理表面的边界区域中的情形的概况或者处理表面的细节Y。分别示出的基底1位于处理表面7上并且被定位为使它稍微延伸超过处理表面7的边界并且延伸到排放凹槽3′的区域中。基底则通过从其下侧抵靠其流动的液体升起。在边界区域中，液体主要流入排放凹槽3′，但是还将基底1的下侧弄湿。将下侧弄湿的薄液体薄层的表面张力逐渐减小自由表面以达到更加有利的状态。只要基底边缘1′未在处理表面7的边界上延伸过多，那么所述液体薄层到达基底边界1′，然而，它不能在基底1的上面的方向上通过。由于在该通常尖锐的边缘处形成的且将液体薄层的边界固定到基底的边缘的毛细效应，因此，液体薄层可以仅通过在处理表面7的方向上拉动基底1(导向力K)减小其表面，因而如根据本发明所期望的产生了自动定位的效果。

在利用处理液传送的情况下，如果正确地调节几何结构和流动参数，那么基底的单面处理是可实现的，其中，如果期望，那么边界也被弄湿。

在图12中，示出了具有两个发出液体F的处理表面7的根据本发明的装置的实施方式的断面图，其中一个处理表面放置在基底1的下方，而另一个处理表面放置在基底1的上方。同样，通过相应的穴12对穿透开口6供给液体F，液体F抵靠着基底1的两个侧面流动以使其现在保持在两个侧面上。与处理表面7相邻处，存在设置在两个侧面上的排放区域3，液体可以在离开传送间隙之后排放到排放区域3中。

本发明允许通过仅使用优选地流动的液体，即，在没有机械作用的非流体横向边缘、限制器或用于保持或导向物体的其它机械导向辅助设备的帮助的情况下，对基本上扁平的物体进行保持和导向。通过这种方式，可以可靠地避免对扁平物体的扁平侧面，具体地，扁平物体的横向圆周边缘，的机械损坏。此外，本发明允许在传送期间同时对物体进行湿化学处理。对于进给，本发明还优选地允许通过流动液体提供进给力。可选择地，具体地关于必须精确维持的处理持续时间，可以提供进给设备，该进给设备用于具体地在同时处理物体的情况下维持精确的处理持续时间。本发明还允许不仅在传送方向上移动基底，而且将基底暂停，从而基底不会或极少与环境例如机械限位器发生机械作用。

引用和缩写列表

1基底，扁平物体

1′基底边缘

2流入区域

3排放区域

3′排放凹槽

4进给设备

4′驱动装置

4″进给装置

5超/超音波处理

6穿透开口

7处理表面

8重叠区域

9分段边界

10角度

11喷嘴钻孔

12穴

13入口

14带

F传送或处理液，液体

V进给力

K导向力

T传送方向

Claims (20)

1.一种使用装置在液体上运送至少一个基本上扁平且能够自由移动的物体(1)的方法，所述装置包括：

至少一个处理表面，所述处理表面具有至少一个流入区域(2)；以及

至少一个排放区域(3)；

其中，需要被运送的液体(F)从所述至少一个处理表面的至少一个流入区域(2)流出，以使所述液体在从所述至少一个排放区域(3)排放之前先流到所述扁平物体(1)上，从而在所述处理表面与所述扁平物体(1)之间形成提供液体(F)薄层的粘附力，通过所述粘附力，在无需机械导向辅助设备的情况下就能将物体(1)在所述液体薄层上保持并以轨迹粘附的形式导向。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述液体(F)是处理液。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，还对所述扁平物体(1)施加进给力(V)以移动所述扁平物体(1)。

4.根据权利要求3所述的方法，其中，所述进给力(V)被流体地提供。

5.根据权利要求3或4所述的方法，其中，由进给设备(4)额外地或专门地提供所述进给力(V)。

6.一种用于在液体上传送基本上扁平的且能够自由移动的物体(1)的装置，包括：

至少一个处理表面，所述处理表面具有至少一个带多个穿透开口(6)的流入区域(2)，液体(F)能够从所述穿透开口(6)流出到所述扁平物体(1)上；以及

至少一个排放区域(3)，用于排放流入的所述流体(F)；

其中，所述装置不包括任何非流体边缘、限制器或用于保持和导向所述扁平物体(1)的其它机械导向辅助设备，并且仅通过所述液体(F)的流动对所述扁平物体(1)进行保持和导向。

7.根据权利要求6所述的装置，其中，所述流入区域(2)形成为扁平的所述处理表面(7)的一部分。

8.根据权利要求6或7中的任意一项所述的装置，其中，所述处理表面(7)被形成为固定的。

9.根据权利要求6至8中的任意一项所述的装置，其中，所述处理表面(7)比所述扁平物体(1)多出的宽度不超出4mm，并且优选地不超出3mm。

10.根据权利要求6至9中的任意一项所述的装置，其中，所述排放区域(3)由钻孔构成，或者形成为排放凹槽、穿孔带或格子型开口。

11.根据权利要求6至10中的任意一项所述的装置，其中，所述装置还包括从所述排放区域(3)吸入液体(F)的主动抽吸器。

12.根据权利要求6至11中的任意一项所述的装置，还包括用于产生作用于所述扁平物体(1)上的进给力(V)的装置。

13.根据权利要求12所述的装置，其中，所述进给力(V)由所述处理表面(7)的流入区域(2)的倾斜的穿透开口(6)提供。

14.根据权利要求13所述的装置，其中，所述穿透开口(6)被设计为在其倾斜面和/或横截面中是可改变的。

15.根据权利要求12至14中的任意一项所述的装置，其中，由进给设备(4)额外地或专门地提供所述进给力(V)。

16.根据权利要求15所述的装置，其中所述进给设备(4)包括：

驱动装置(4′)，所述驱动装置(4′)是从由传动带、铰接链、气压缸和液压泵构成的组中选择的；以及

至少一个进给装置(4″)，所述进给装置(4″)是从由机械挡板、凸轮、凸纹、销和刮刀低轨构成的组中选择的，其中，优选地，所述进给装置(4″)仅分别作用于与所述传送方向(T)垂直的所述扁平物体(1)的边缘上。

17.根据权利要求15或16所述的装置，其中，所述进给设备(4)被设计为使所述进给设备(4)在所述传送方向(T)上是可驱动的，并且可选地还是可停止的。

18.根据权利要求6至17中的任意一项所述的装置，其中，所述至少一个处理表面(7)和/或所述至少一个排放区域(3)能够被分为具有分段边界(9)的各个分段，其中用于停止所述扁平物体(1)的设备被设置在所述分段边界(9)处。

19.根据权利要求18所述的装置，其中，所述用于停止的所述设备被设计为可关闭的排放凹槽、可降低的溢出边缘或者可降低的和/或可关闭的穿孔带。

20.根据权利要求6至19中的任意一项所述的装置，其中，另外地，至少一个处理表面(7)被设置在所述扁平物体(1)的上方。

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