CN102007188A - 有机物被覆合成云母粉体、其制备方法以及使用其的化妆品 - Google Patents
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Abstract
本发明提供在合成云母粉体表面通过有机表面处理剂化学牢固键合有机物被覆层，使用感和防水性优异的有机物被覆合成云母粉体，进一步，提供当使用具有Si-H基的有机硅树脂作为有机表面处理剂时，基本上不会因为残留Si-H基而生成氢的有机物被覆合成云母粉体。所述有机物被覆合成云母粉体可通过具备如下工序的制备方法制得：使合成云母粉体与铵离子在水中接触后，通过固液分离除去液相，将固相于200℃以下干燥，使NH3挥发的预处理工序，和使有机表面处理剂附着于预处理过的合成云母粉体的表面后，进行烧结处理，在合成云母粉体表面形成有机物被覆层的被覆工序。
Description
相关申请
本申请要求2008年4月17日申请的日本专利申请第2008-107888号的优先权，将其引入本文作为参考。
技术领域
本发明提供将有机表面处理剂烧结于合成云母粉体表面，在该合成云母粉体表面形成有经化学牢固键合的有机物被覆层的有机物被覆合成云母粉体及其制备方法，特别是涉及有机物被覆合成云母粉体的使用感和防水性的改良，以及当使用具有Si-H基的有机表面处理剂时的残留Si-H基的减少。
背景技术
云母粉体由于为板状粒子，所以在肌肤上的伸展好，密着性高，因此作为填充颜料的一种被大量掺混于粉底等化妆用化妆品中。
目前，云母的人工合成已成为可能。与天然云母的结晶结构一样含有OH的合成云母需要在加压下熔融原料混合物，但由于用氟取代了天然云母结晶中的OH的氟云母可在常压下熔融合成，所以工业合成的云母大部分为氟云母，合成云母通常指这种氟云母。例如，在合成云母中，在化妆品中常掺混的合成钾金云母[理论式：KMg3(AlSi3O10)F2]为具有将天然金云母[理论式：KMg3(AlSi3O10)(OH)2]的OH取代为F的结构的合成氟金云母。
由于合成云母与天然云母相比不含杂质，所以与天然云母相比具有白色度高颜色不易发暗的特征。在化妆品领域所使用的合成云母中，目前所担心的是溶出氟离子导致的安全性和对组合物的品质造成的影响，将在100℃、1小时的热水溶出试验中的氟离子溶出量为20ppm以下作为使用标准。因此，当作为化妆品用途使用时，为抑制合成云母的氟离子溶出，于600～1350℃下进行加热(专利文献1)。
但是，若将合成云母粉体如上所述地进行高温加热以降低氟离子溶出量，则表面活性也降低。认为合成云母表面发生重结晶化或无定形化，其表面所吸附的OH基减少是原因之一。因此，合成云母粉体与天然云母相比与有机表面处理剂的反应性较低，难以赋予充分的防水性。
例如，在粉底等化妆化妆品(メ一キヤツプ粧料)中掺混颜料等粉体时，为防止皮脂或汗液的润湿，即难以脱妆，使有机硅树脂或硅烷偶联剂等疏水性有机表面处理剂附着于粉体表面，将其烧结，进行有机表面处理剂的交联聚合和向粉体表面的键合，赋予防水性。
但是，当对上述表面活性低的合成云母粉体进行这种通过有机表面处理剂进行的被覆处理时，有机表面处理剂难以与粉体表面发生键合反应，无法得到充分的防水性。另外，虽然可通过提高烧结温度或延长烧结时间来促进合成云母粉体表面与有机表面处理剂的键合反应，但也促进了有机表面处理剂之间的交联聚合反应，被覆层中的有机链减少，其结果不仅使用感降低，而且无法得到充分的防水性。
作为有机表面处理剂的代表性物质，包括具有Si-H基的有机硅树脂(有机含氢聚硅氧烷)。若将具有Si-H基的有机硅树脂烧结，则Si-H基与吸附于无机粉体表面的OH基反应而通过化学键被牢固地固定，而且有机硅树脂之间通过Si-H基之间或Si-H基与Si-CH3基等有机甲硅烷基的反应以及Si-CH3基之间的反应发生交联聚合，最终在粉体表面形成经化学键合的有机物被覆层。
当使用具有Si-H基的有机硅树脂时，有时可对上述合成云母粉体赋予防水性。
但是，即使可赋予防水性，由于被覆层中残留有Si-H基，所以随时间流逝生成氢气，出现产品容器膨胀或产品变质等产品稳定性方面的问题。然而，若要减少Si-H基的残留，则要进行高温和/或长时间的烧结处理，则存在被覆层中的有机链减少，从而导致使用感或防水性下降的问题。
在专利文献2中，在空气中、200℃左右的加热温度下Si-H基并未完全消失，在500℃以上的加热下有机硅由于燃烧而被转化为二氧化硅，疏水性降低，所以提议于260～500℃下加热。于是，通过在这样的温度范围进行烧结处理可制得的氢生成量不足0.1ml/g、相对于水的接触角为110度以上的被覆硅的云母或金云母。但是，在专利文献2中未记载被覆硅的合成云母的实施例。
由于合成云母如上所述与天然云母相比表面活性较低，所以如专利文献2所示，即使于260～500℃下进行烧结处理，仍难以将氢生成量抑制到0.1ml/g以下，或例如即使可以抑制，由于因过剩烧结对交联聚合反应的促进，仍存在被覆层中的有机链减少造成使用感粗糙、硬，防水性不足的问题。另外，从制备费用的观点出发，需要尽可能在低温·短时间下的烧结。
另一方面，在专利文献3中记载了在已活化的无机粉体基质上烧结含有防水防油剂和反应性助剂的被覆层形成的被覆粉体，无机粉体的表面活化可通过100～1000℃的加热实现。
但是，如上所述，就合成云母粉体而言无法通过加热处理来活化，相反地表面活性降低。
另外，在专利文献3中记载了相对于通过加热活化的无机粉体基质，根据需要通过用碱或酸进行蚀刻或导入官能团可更容易地发生与防水防油剂或反应性助剂的反应。
但是，根据本发明人的研究，已明确当用KOH等碱处理合成云母粉体时，烧结有机表面处理剂后的使用感和防水性显著降低，当用枸橼酸等酸进行处理时，合成云母粉体的氟离子溶出性显著增大，合成云母粉体的品质受到损害。
在先技术文献
专利文献
专利文献1：日本特公平7-115858号公报
专利文献2：日本特开2001-262004号公报
专利文献3：日本专利第2597492号说明书
发明概要
发明所要解决的课题
鉴于上述背景技术而进行本发明，其目的在于，提供在合成云母粉体表面通过有机表面处理剂化学牢固键合有机物被覆层，使用感和防水性优异的有机物被覆合成云母粉体，进一步提供当使用含有Si-H基的有机硅树脂作为有机表面处理剂时，基本上不会因为Si-H基残留而生成氢，且使用感和防水性也优异的有机物被覆合成云母粉体。
解决课题的手段
为解决上述课题，本发明人进行深入研究的结果发现：若使用铵离子对合成云母粉体表面进行预处理，则表面活性提高，在比较低的温度下易与有机表面处理剂反应，制得柔然且兼具非常良好的使用感和高防水性的有机物被覆合成云母粉体。另外，还发现：当使用含有Si-H基的有机硅树脂时，可制得柔软且兼具非常良好的使用感和高防水性，同时也没有生成氢的顾虑的有机物被覆合成云母粉体，从而完成本发明。
即，本发明的有机物被覆合成云母粉体的制备方法的特征在于，具备：
预处理工序，其中，在水中使合成云母粉体与铵离子接触后，通过固液分离除去液相，将固相于200℃以下干燥，使NH3挥发，和
被覆工序，其中，在使有机表面处理剂附着于预处理过的合成云母粉体的表面后，进行烧结处理，在合成云母粉体表面形成有机物被覆层。
另外，本发明提供有机物被覆合成云母粉体的制备方法，其特征在于，在上述方法中，铵离子供给源为NH3或水溶性铵盐。
另外，本发明提供有机物被覆合成云母粉体的制备方法，其特征在于，在上述任一项中记载的方法中，相对于合成云母粉体，使用换算成氮为1～30％质量的铵离子。
另外，本发明提供有机物被覆合成云母粉体的制备方法，其特征在于，在上述任一项中记载的方法中，有机表面处理剂为有机硅树脂、硅烷偶联剂、钛酸酯偶联剂、铝酸酯偶联剂或全氟烷基烷氧基硅烷。
另外，本发明提供有机物被覆合成云母粉体的制备方法，其特征在于，在上述任一项中记载的方法中，烧结温度为100～260℃。
另外，本发明提供有机物被覆合成云母粉体的制备方法，其特征在于，在上述任一项中记载的方法中，有机表面处理剂为有机硅树脂，烧结温度为170～260℃。
另外，本发明提供有机物被覆合成云母粉体的制备方法，其特征在于，在上述任一项中记载的方法中，有机表面处理剂含有具有Si-H基的有机硅树脂。
另外，本发明提供有机物被覆合成云母粉体的制备方法供，其特征在于，在上述任一项中记载的方法中，有机表面处理剂中的[Si(R)2O]单元∶[SiH(R)O]单元(R分别为相同或不同的一价烃基)的摩尔比为1∶0.05～1∶0.30的范围。
另外，本发明提供有机物被覆合成合成云母粉体的制备方法，其特征在于，在上述方法中，R为甲基。
另外，本发明提供有机物被覆合成云母粉体的制备方法，其特征在于，在上述任一项中记载的方法中，
待预处理的合成云母粉体在100℃、1小时的热水溶出试验中的氟离子溶出量为20ppm以下，在250℃下的叔丁醇分解率不足20％，
预处理过的合成云母粉体在100℃、1小时的热水溶出试验中的氟离子溶出量为20ppm以下，在250℃下的叔丁醇分解率为20％以上。
另外，本发明提供有机物被覆合成云母粉体的制备方法，其特征在于，在上述任一项中记载的方法中，在预处理工序中除去合成云母粉体表面的层间阳离子的20％以上。
本发明提供有机物被覆合成云母粉体，其特征在于，所述有机物被覆合成云母粉体通过上述任一项中记载的方法制得，所述有机物被覆合成云母粉体中的含碳量为烧结处理前的有机表面处理剂附着合成云母粉体中的含碳量的40～60％质量。
另外，本发明提供有机物被覆合成云母粉体，其中在上述有机物被覆合成云母粉体中，使用具有Si-H基的有机硅树脂作为有机表面处理剂，且有机物被覆合成云母粉体的氢生成量不足0.1ml/g。
本发明提供有机物被覆合成云母粉体，所述有机被覆合成云母粉体通过在使有机表面处理剂附着于合成云母粉体表面后烧结而制得，
其特征在于，有机物被覆合成云母粉体中的含碳量为烧结前的有机表面处理剂附着合成云母粉体中的含碳量的40～60％质量。
另外，本发明提供有机被覆合成云母粉体，其特征在于，有机表面处理剂为有机硅树脂、硅烷偶联剂、钛酸酯偶联剂、铝酸酯偶联剂、全氟烷基烷氧基硅烷。
另外，本发明提供有机物被覆合成云母粉体，其中，在上述任一项中记载的有机物被覆合成云母粉体中，有机表面处理剂含有具有Si-H基的有机硅树脂，且有机物被覆合成云母粉体的氢生成量不足0.1ml/g。
另外，本发明提供有机物被覆合成云母粉体，其特征在于，在上述有机物被覆合成云母粉体中，有机表面处理剂中的[Si(R)2O]单元∶[SiH(R)O]单元(R分别为相同或不同的一价烃基)的摩尔比为1∶0.05～1∶0.30的范围。
另外，本发明提供有机物被覆合成云母粉体，其特征在于，在上述有机物被覆合成云母粉体中，R为甲基。
另外，本发明提供有机物被覆合成云母粉体，其特征在于，在上述任一项中记载的有机被覆合成云母粉体中，在100℃、1小时的热水溶出试验中的氟离子溶出量为20ppm以下。
本发明的化妆品组合物的特征在于，使用上述任一项中记载有机物被覆合成云母粉体。
本发明的有机表面处理剂被覆处理用合成云母粉体的特征在于，在100℃、1小时的热水溶出试验中的氟离子溶出量为20ppm以下，且在250℃下的叔丁醇分解率为20％以上。
另外，本发明提供有机表面处理剂被覆处理用合成云母粉体，其特征在于，在上述有机表面处理剂被覆处理用合成云母粉体中，合成云母粉体表面的层间阳离子被除去20％以上。
发明的效果
根据本发明，由于用铵离子对合成云母粉体进行预处理，使合成云母粉体表面活化，所以有机表面处理剂易于在比较低的温度下反应。因此，即使不进行过剩的烧结，被覆层仍牢固键合于粉体表面，与此同时被覆层中残留有比较多的有机链。其结果是可制得柔软且具有非常良好的使用感和高的防水性的有机物被覆合成云母粉体。另外，当有机表面处理剂为具有Si-H基的有机硅树脂时，在将因Si-H基残留造成的氢生成量降低至不足0.1ml/g的同时，牢固地形成有机链比较多地残留的被覆层，所以可制得不存在因Si-H基残留导致的随时间流逝生成氢的问题、柔软且具有非常良好的使用感和高的防水性的有机物被覆合成云母粉体。另外，由于通过本发明的预处理和被覆处理氟离子溶出量并未增大，所以可制得氟离子溶出量为20ppm以下的有机物被覆合成云母粉体。因此，本发明的有机硅树脂被覆合成云母粉体特别适合用于化妆品组合物。
附图简述
[图1]示出在用氨或KOH预处理过的合成云母粉体或无预处理的合成云母粉体上将具有Si-H基的有机表面处理剂进行烧结处理时的烧结温度、烧结时间与(a)氢生成量以及(b)C量残留率的关系的图。
[图2]示出在用碳酸铵预处理过的合成云母粉体上将具有Si-H基的有机表面处理剂进行烧结处理时的烧结温度、烧结时间与(a)氢生成量以及(b)C量残留率关系的图。
[图3]示出在合成云母粉体的铵预处理中的干燥温度与制得的有机物被覆合成云母粉体的C量残留率的关系的图。
[图4]示出在对天然无机粉体进行铵预处理时的对C量残留率、氢生成量的影响的图。
[图5]示出在预处理工序中未进行通过固液分离除去液相时的C量残留率、氢生成量的图。
实施发明的最佳方式
本发明的有机物被覆合成云母粉体是在合成云母粉体表面烧结有机表面处理剂形成有机物被覆层而成的，由于有机物被覆层化学牢固键合于合成云母粉体表面，且被覆层中残留有比较多的有机链，所以兼具不粗糙的柔软使用感和高防水性。
如下所述，这样的有机物被覆合成云母粉体可通过将合成云母粉体用铵离子进行预处理后，用有机表面处理剂进行被覆处理来制得。
本发明的有机物被覆合成云母粉体中的含碳量优选为烧结前的有机表面处理剂附着合成云母粉体中的含碳量的40～60％质量，进一步优选为45～60％质量。
若含碳量不足40％，则可感觉到粉体的粗糙，防水性也下降。而当多于60％时，即使是用铵离子预处理过的合成云母粉体，有时也会出现合成云母与有机表面处理剂的键合不充分，防水性差的情况。
另外，当有机表面处理剂为具有Si-H基的有机硅树脂时，优选具有如下特征。
(a)有机物被覆合成云母粉体中的含碳量为烧结前的有机表面处理剂附着合成云母粉体中的含碳量的40～60％质量，进一步为45～60％质量。
(b)有机物被覆合成云母粉体的氢生成量不足0.1ml/g。
若含碳量不足40％，则可感觉到粉体的粗糙，防水性也下降。而当多于60％时，即使是用铵离子预处理过的合成云母粉体，氢生成量也可能会达到0.1ml/g以上。
本发明的有机物被覆合成云母粉体可通过如下方法制得：将合成云母粉体用铵离子进行预处理后，用有机表面处理剂进行被覆处理。
<预处理工序>
在水中使合成云母粉体与铵离子接触后，通过固液分离除去液相，将得到的固相于200℃以下干燥，使NH3挥发。
通过这样的预处理工序，合成云母粉体的表面活性提高。例如，当以叔丁醇分解率作为表面活性的指标时，通常用作化妆品原料的合成云母粉体的叔丁醇分解率通常为5％以下，最多为10％，与之相对的是，当将其用铵离子预处理过时，可使叔丁醇分解率达到20％以上、甚至35％以上。
若列举代表例进行说明，则首先将合成云母粉体投入水中，制备浆料。浆料中的合成云母粉体浓度无特殊限制，但通常优选制成1～30％质量。
然后，向浆料中投入铵离子供给源。作为铵离子供给源，优选于200℃以下可从粉体表面挥发的物质，例如除氨外，可列举出碳酸铵、碳酸氢铵、甲酸铵、醋酸铵等水溶性铵盐，但优选为氨、碳酸铵或碳酸氢铵。在本发明中，可使用1种以上的铵离子供给源。
相对于合成云母粉体，换算为氮，优选使用1～30％质量的铵离子供给源，进一步优选使用1～20％质量的铵离子供给源。当过少时，无法充分获得本发明的效果，另一方面即使过剩掺混，也无法期待与之相对应的效果的提高，铵盐的挥发需要长时间完成。
需说明的是，铵离子供给源也可预先制成水溶液后投入。另外，合成云母粉体与铵离子的接触也可通过向铵离子供给源的水溶液中添加合成云母粉体制成浆料来进行。
合成云母粉体与铵离子的解除通常于室温下进行1～10分钟左右即可。通过与铵离子的接触，合成云母粉体表面的层间阳离子的至少一部分被铵离子所取代。
然后，固液分离除去液相，将得到的固相于200℃以下干燥。固液分离的方法无特殊限制，可采用过滤或离心等公知的方法。通过除去液相，被铵离子取代的层间阳离子和过剩的铵离子被排除到体系外。此时，从提高反应性的观点出发，优选合成云母粉体表面的层间阳离子被除去20％以上。
另外，通过干燥，将合成云母粉体表面取代·吸附的铵离子作为氨除去，在合成云母粉体的表面生成反应位点(OH基)。此时，若干燥温度过高，则在合成云母表面生成的反应位点消失，无法得到本发明的效果。因此，干燥温度优选为200℃以下，进一步优选为180℃。需说明的是，作为干燥方法，也可进行减压干燥、冷冻干燥等。
另外，若合成云母表面残留有铵离子，则在烧结有机表面处理剂时可促进有机表面处理剂之间的交联聚合反应，C量残留率降低，导致防水性和使用感不足。因此，在预处理工序中事先完全除去合成云母表面的铵离子是重要的。
在本发明中，作为构成原料的合成云母粉体，可使用公知的物质，也可使用通过熔融法、水热法、固体间反应法等任一种方法制得的物质。通常优质的结晶合成云母粉体可通过如下方法制得：将含有钾、钠、镁、铝、硅、氟等的化合物以一定比例混合，在将其熔融、结晶、冷却后进行机械粉碎，然后进行热处理、水洗、干燥。
合成云母可用下列通式表示。
X1/3～1 Y2～3(Z4 O10)F2
(式中X表示选自Na+、K+、Li+、Ca2+、Rb+、Sr2+的1种以上离子，Y表示选自Mg2+、Fe2+、Ni2+、Mn2+、Al3+、Fe3+、Li+的1种以上离子，Z表示选自Al3+、Si4+、Ge4+、Fe3+、B3+的1种以上离子。)
具体而言，例如可列举出如下物质。
KMg3(AlSi3O10)F2 钾金云母
KMg21/2(Si4O10)F2 钾四硅云母
KMg2Li(Si4O10)F2 钾带云母
K2/3Mg21/3Li2/3(Si4O10)F2
NaMg3(AlSi3O10)F2 钠金云母
NaMg2Li(Si4O10)F2 钠带云母
NaMg21/2(Si4O10)F2 钠四硅云母
Na1/3Mg22/3Li1/3(Si4O10)F2 钠锂蒙脱石
合成云母粉体的一般制备方法如下：将通过熔融合成法制得的数mm～数cm的层状结晶体用干式粉碎机(例如颚式破碎机、锤式破碎机)粗粉碎后，进一步用微粉碎机粉碎。例如，在合成氟云母的情况下，将约40份的二氧化硅、约30份的氧化镁、约13份的氧化铝和约17份的氟硅酸钾混合，于1,400～1,500℃下熔融，进一步于1,300～1,400℃下结晶，制得合成氟金云母。将制得的合成氟金云母的块状矿石粉碎，如果需要的话，则进行分级，从而制得合成云母粉体。
另外，在化妆品用途中，使用在100℃、1小时的热水溶出试验中的氟离子溶出量为20ppm以下的合成云母粉体。作为将氟离子溶出量降低至20ppm以下的方法，可利用公知的技术。例如，作为优选的方法之一，可列举出如上述专利文献1所示在600～1350℃的高温下进行加热处理的方法。
本发明的预处理工序以及下述被覆处理工序对氟离子溶出量无影响，可维持原料合成云母粉体的氟离子溶出量。
本发明中使用的合成云母粉体的粒径无特殊限制，可适宜选择，但通常优选使用平均粒径为5～50μm，长径比为2～300的粉体。
<被覆处理工序>
在被覆处理工序中，使有机表面处理剂附着于如上所述地预处理过的合成云母粉体表面后，通过加热进行烧结处理，制得有机物被覆合成云母粉体。
作为使有机表面处理剂附着于合成云母粉体表面的方法，无特殊限制，可采用公知的方法。例如，可列举出将有机表面处理剂混合、喷雾或浸渍于合成云母粉体的方法。或者，也可将有机表面处理剂溶解于挥发性溶剂，将其与合成云母粉体混合、喷雾或浸渍后使挥发性溶剂挥发。另外，为使附着均一，也可采用适当的机械混合手段(例如捏合机或球磨等)进行搅拌。附着通常可在室温下进行。
作为有机表面处理剂，可使用公知的化合物作为防水处理剂。例如可列举出有机硅树脂、硅烷偶联剂、钛酸酯偶联剂、铝酸酯偶联剂、全氟烷基烷氧基硅烷等。另外，有机表面处理剂也可以是含有2种以上化合物的混合物。
若列举具体例，则作为有机硅树脂，可列举出聚二甲基硅氧烷(ジメチコンdimethicone)、聚甲基硅氧烷(メチコンmethicone)、(聚二甲基硅氧烷/聚甲基硅氧烷)共聚物、三乙氧基甲硅烷基乙基聚二甲基甲硅烷氧基乙基聚二甲基硅氧烷、三乙氧基甲硅烷基乙基聚二甲基甲硅烷氧基乙基己基聚二甲基硅氧烷、(丙烯酸酯/丙烯酸三癸酯/甲基丙烯酸三乙氧基甲硅烷基丙酯/甲基丙烯酸聚二甲基硅氧烷)共聚物((アクリレ一ツ/アクリル酸トリデシル/メタクリル酸トリエトキシシリルプロピル/メタクリル酸ジメチコン)コポリマ一)或PEG-11甲基醚聚二甲基硅氧烷、聚甘油-3二硅氧烷聚二甲基硅氧烷、(硬脂氧基聚甲基硅氧烷/聚二甲基硅氧烷)共聚物、PEG/PPG-10/3油醚聚二甲基硅氧烷等改性硅树脂，三甲基甲硅烷氧基硅酸(トリメチルシロキシケイ酸)、甲基苯基硅树脂、聚二甲基硅氧烷交联聚合物、(聚二甲基硅氧烷/乙烯基聚二甲基硅氧烷)交联聚合物、(丙烯酸烷酯/聚二甲基硅氧烷)共聚物等丙烯基硅树脂，(氨基乙基氨基丙基聚甲基硅氧烷/聚二甲基硅氧烷)共聚物等氨基改性硅树脂。
作为硅烷偶联剂，可列举出甲基三甲氧基甲硅烷、甲基三乙氧基甲硅烷、乙基三甲氧基甲硅烷、乙基三乙氧基甲硅烷、二甲基二甲氧基甲硅烷、四乙氧基甲硅烷、二甲基二乙氧基甲硅烷、异丁基三甲氧基甲硅烷、正癸基三甲氧基甲硅烷、辛基三甲氧基甲硅烷、十八烷基三乙氧基甲硅烷、辛基三乙氧基甲硅烷、三乙氧基辛基甲硅烷等。
作为钛酸酯偶联剂，可列举出三硬脂酰基钛酸异丙酯(isopropoxy titanium tristearate，イソプロポキシチタニウムトリステアレ一ト)、异硬脂酰基钛酸三异丙酯(triisopropoxy titanium isostearate，トリイソプロポキシチタニウムイソステアレ一ト)、三棕榈酰基钛酸异丙酯(isopropoxy titanium tripalmitate，イソプロポキシチタニウムトリパルミチレ一ト)、三肉豆蔻酰基钛酸异丙酯(isopropoxy titanium trimyristate，イソプロポキシチタニウムトリミリスチレ一ト)等。
作为铝酸酯偶联剂，可列举出(十八烷-9-烯基乙酰乙酸根合-01’，03)二丙烷-2醇合铝(アセトアルコキシアルミニウムジイソプロピレ一トaluminium 9-octadecenylaceto-acetate diisopropoxide)等。
作为全氟烷基烷氧基硅烷，可列举出三氟丙基三甲氧基甲硅烷、三氟丙基三乙氧基甲硅烷、十三氟辛基三甲氧基甲硅烷、十三氟辛基三乙氧基甲硅烷等。
在将这样的有机表面处理剂被覆现有的合成云母粉体时，由于合成云母表面的反应性低，所以无法充分获得防水性，即使为促进有机表面处理剂的反应而进行长时间和/或高温烧结，不仅有机物被覆层中的有机链减少，使用感下降，而且难以获得充分的防水性。
就通过本发明的特定方法预处理过的合成云母粉体而言，由于表面的反应性高，所以即使是这样的有机表面处理剂，也可在比较低的温度下于短时间内反应，牢固形成可维持较高的有机链残留率的被覆层，因此可制得具有柔软的使用感和防水性的有机物被覆合成云母粉体。
烧结温度通常可在100℃～260℃的范围进行设定，但在作为有机表面处理剂使用硅烷偶联剂、钛酸酯偶联剂、铝酸酯偶联剂、全氟烷基烷氧基硅烷时，作为烧结温度，优选为100℃～170℃。若过低，则有时有机表面处理剂无法充分反应，无法得到防水性。另一方面，若过高，则有机表面处理剂之间的交联聚合反应过度进行，C量残留率降低，结果导致使用感粗糙、变硬，防水性也降低。
当有机表面处理剂为有机硅树脂时，烧结温度优选为170～260℃。若过低，则有时有机表面处理剂无法充分反应，无法得到防水性。或者，对于具有Si-H基的有机硅树脂的情况，若烧结温度过低，则Si-H基无法充分减少，不能达到不足0.1ml/g。另一方面，若过高，则有机硅树脂之间的交联聚合反应过度进行，C量残留率降低，其结果导致使用感粗糙、变硬，而且防水性也下降。
作为具有Si-H基的有机硅树脂，可使用公知的化合物，也可以是含有2种以上硅化合物的混合物。作为优选的实例，可列举出有机硅树脂中的[Si(R)2O]单元∶[SiH(R)O]单元的摩尔比为1∶0.05～1∶0.30范围的化合物。R为有机含氢聚硅氧烷中通常使用的一价烃基，例如可列举出碳原子数为1～6的烃基，代表性地可列举出甲基、苯基等。在本发明中，特别优选为甲基。
作为这样的有机硅树脂涂布剂，例如可列举出下式(1)所表示的甲基含氢聚硅氧烷。
(式中，m+n＝20～30，m∶n比为1∶0.05～1∶0.30。)
另外，作为有机硅树脂，也可使用具有1个以上Si-H基的聚合度为30以下的甲基含氢聚硅氧烷和不具有Si-H基的二甲基聚硅氧烷的混合物，其中可使用如下混合物：以混合物整体计，[Si(CH3)2O]单元∶[SiH(CH3)O]单元的摩尔比为1∶0.05～1∶0.30的范围。
虽然这样的有机硅树脂的有机链含有率高，但由于Si-H基含有率小，所以反应性较低。因此，当被覆于现有的合成云母粉体时，Si-H基易残留，若希望降低氢生成量，则需要长时间和/或高温烧结，结果被覆层中的有机链减少，难以获得良好的使用感和充分的防水性。
就通过本发明的方法预处理过的合成云母粉体而言，由于表面的反应性高，所以即使是这样的有机硅树脂，Si-H基也可在比较低的温度下在短时间内发生反应而被消耗，在粉体表面牢固形成维持有较高的有机链残留率的有机物被覆层，制得的具有柔软的使用感和防水性的有机物被覆合成云母粉体。
有机表面处理剂的使用量无特殊限制，但优选使用能够被覆整个合成云母表面的量。相对于100％质量的原料合成云母粉体，通常使用0.5～10％质量、优选使用1～5％质量的有机表面处理剂。若使用量过少，则防水性有时会不足。另一方面，即使过剩使用，也无法期待效果增大，反而在附着于合成云母粉体时有时会引起合成云母粉体粒子的凝集，损害制得的有机物被覆合成云母粉体的触感。另外，对于具有Si-H基的有机硅树脂的情况，若过剩使用，则有时难以达到0.1ml/g以下。
就如上制得的本发明的有机物被覆合成云母粉体而言，有机物被覆层牢固键合于粉体表面，无法剥离，并且有机物被覆层中的有机链的残留率较高。因此，具有不粗糙或硬的柔软的使用感，防水性也优异。另外，即使使用具有Si-H基的有机硅树脂，由于Si-H基基本无残留，所以也不会随时间流逝生成氢。
另外，若使用氟离子溶出量为20ppm以下的合成云母粉体作为起始原料，则由于预处理和被覆处理不会使氟离子溶出量增大，所以氟离子溶出量可维持在20ppm以下。
因此，本发明的有机硅树脂被覆合成云母粉体适合用于化妆品用途，特别是在粉底或扑面粉等化妆用化妆品中有用。
实施例
以下列举具体实例来进一步说明本发明，但被发明不被其所限定。需说明的是，本发明中采用的试验方法如下所示。
试验方法
(表面活性)
在内径为4mm的Pyrex(パイレツクス)(注册商标)玻璃管中用石英棉固定20mg的粉体，于250℃下通入0.3μl的叔丁醇，测定其分解率。需说明的是，在分析中使用岛津制作所制气相色谱GC-14B，采用色谱柱PEG-20M(3mm×2m)、柱温80℃、流速30ml/分，以氮作为载气。表面活性的评价以叔丁醇分解率来表示。若分解率的值大，则表示表面活性高，若值小，则表示表面活性低。
(氢生成量)
在常温、大气压下向容器中加入10g的有机硅树脂被覆合成云母粉体，添加5ml的苯，然后在封闭体系下滴加26％质量的氢氧化钾·乙醇溶液从而生成氢气，计算出该被覆粉体每单位质量的氢气生成量(ml/g)。
(C量残留率)
将0.1g的有机表面处理剂被覆合成云母粉体封入镍胶囊中，与钨助燃剂一同加入陶瓷坩埚中，采用堀场制作所制高频感应加热炉式碳·硫分析装置EMIA-520测定粉体中的含碳量。相对于根据所使用的有机表面处理剂的量计算出的烧结前的含碳量，计算出C量残留率(％质量)。
(氟离子溶出量)
根据医药部外品原料规格2006的溶出氟量的测定，用烧瓶取5g的受试粉体，加入100ml的水，加热回流1小时，向滤液中加入镧·茜素氨羧络合试剂和丙酮、水进行调整后，测定吸光度，通过与空白进行比较计算出相对于受试粉体质量的氟离子溶出量(ppm)。
(使用感)
按照如下标准评价在肌肤上的使用感。
○：良好(不粗糙或不硬，柔软感优异)
△：稍差(稍稍感觉到粗糙或硬，柔软感差)
×：差(感觉到粗糙或硬，无柔软感)
(防水性)
向可密封的具塞试管中加入10ml的离子交换水，向其中添加0.1g的粉体样品。用手振荡，静置后，以1日后的浑浊情况作为防水性进行评价。评价标准如下所示。
○：良好(粉体聚集于气液界面，水相透明。)
△：稍差(水相稍有浑浊。也存在部分粉体沉降的情况)
×：差(水相浑浊。部分粉体悬浮于水相，而大部分沉降，或粉体全部沉降)
另外，在各个试验中进行的预处理、被覆处理根据如下方法进行。
(1)预处理
将100g的合成氟金云母粉体(Topy Industries，Ltd.(トピ一工業(株))制PDM-10S，平均粒径：12μm，氟溶出量：14ppm)与900g的水混合，搅拌，制备浆料。向其中添加预处理剂，于室温搅拌10分钟。然后，通过过滤进行固液分离，除去液相，将得到的固相于150℃下干燥3小时，使水分和NH3挥发。
(2)被覆处理
将3g的有机表面处理剂溶于3g的溶剂中，添加到97g的合成云母干燥粉体中，混合，使之均匀地附着于粉体。将其于230℃下进行烧结处理，制得有机物被覆合成。
试验例1无预处理的情况
表1为不进行预处理而进行被覆处理制得的有机物被覆合成云母粉体的C量残留率、氢生成量、使用感、防水性。
需说明的是，使用0.55g的甲基含氢聚硅氧烷(信越化学工业(株)制KF-9901，聚合度：20～30(规格值))与2.45g的二甲基聚硅氧烷(信越化学工业(株)制KF-96A-30cs，聚合度：约20)的混合物([Si(R)2O]单元∶[SiH(R)O]单元＝1∶0.11(摩尔比))作为有机表面处理剂，使用异丙醇作为溶剂。
[表1]
如表1所示，若使用具有Si-H基的有机硅树脂被覆处理通常的合成云母粉体，则即使可制得使用感或防水性良好的有机物被覆合成云母粉体，氢生成量仍然多。另外，若要使氢生成量不足0.1ml/g，则由于有机表面处理剂之间的交联聚合反应，被覆层中的有机链减少，导致使用感、防水性下降。
因此，对合成云母粉体的预处理进行了研究。
试验例2预处理剂的影响
评价使用各种预处理剂处理得到的合成云母粉体的叔丁醇分解率和氟离子溶出量的结果如表2所示。所使用的预处理剂和使用量如下所示。
25％氨水：相对于合成云母，换算成氮为0.5、1、10、30％质量
碳酸氢铵：相对于合成云母，换算成氮为10％质量
碳酸铵：相对于合成云母，换算成氮为10％质量
氢氧化钾：相对于合成云母，10％质量
枸橼酸：相对于合成云母，10％质量
[表2]
*PDM-9WA：トピ一工業(株))制，平均粒径：12μm，F溶出量：15ppm
如试验例2-10所示，当不使用预处理剂时，基本上未见表面活性。
与之相对的是，如试验例2-1～试验例2-7所示，对于使用铵离子预处理过的合成云母，无论预处理剂的种类，表面活性均提高，特别是相对于合成云母使用换算成氮为1～30％质量的铵进行预处理时，表面活性显著提高。另外，未见氟离子溶出量因预处理而增大。
另外，如试验例2-8所示，使用氢氧化钾作为预处理剂的合成云母也与使用铵离子的合成云母一样，氟离子溶出量未增大而可见表面活性提高效果。
另一方面，如试验例2-9所示，使用枸橼酸作为预处理剂的合成云母粉体未出现表面活性提高效果，造成氟离子溶出量大幅增大。
接着，使用预处理制得的合成云母干燥粉体作为被覆用粉体，采用与上述试验例1同样的方法进行被覆处理，制得有机物被覆合成云母粉体。于230℃烧结1小时的结果如表3所示。
[表3]
如表3所示，当不使用预处理剂时，虽然在230℃、1小时的烧结处理下使用感或防水性良好，但氢生成量多(试验例2-10a)。
与之相对的是，当使用通过氨、碳酸氢铵、碳酸铵预处理过的合成云母粉体时，通过230℃、1小时的烧结处理可制得使用感和防水性良好，且氢生成量为不足0.1ml/g的极低程度的有机物被覆合成云母粉体(试验例2-3a、试验例2-5a～2-7a)。
另一方面，当使用通过KOH预处理过的合成云母粉体时，虽然可制得氢生成量不足0.1ml/g的有机物被覆合成云母粉体，但其触感硬、粗糙，而且也无防水性(试验例2-8a)。
如上所述，可知可通过使用铵离子预处理合成云母粉体从而活化表面，容易地制得使用感和防水性非常良好，且无氢生成的有机物被覆合成云母粉体。
试验例3氢生成量和C量残留率
图1是对在试验例2中改变烧结时间制得的有机物被覆合成云母粉体的(a)氢生成量和(b)C量残留率进行研究的结果。
由图1可知，当无预处理时(试验例2-10a)，若延长烧结时间，则氢生成量缓慢降低，通过10小时的烧结可使氢生成量减少至不足0.1ml/g。因此，即使无预处理，若长时间进行烧结处理，也可充分减少氢生成量，但随着烧结时间的增大，C量残留率也逐渐降低，通过10小时的烧结可低于40％。如上述表1所示，若C量残留率低于40％，则可感觉到粗糙和坚硬，柔软的触感变差，而且防水性也降低。
与之相对的是，当使用氨进行预处理时(试验例2-3a)，通过1小时的烧结氢生成量迅速降低至不足0.1ml/g。此时，C量残留率虽然降低至烧结前的约50％左右，但即使烧结时间变长，C量残留率也不进一步降低而保持稳定，维持了良好的使用感和防水性。需说明的是，当使用碳酸氢铵或碳酸铵进行预处理时，可确认与使用氨进行预处理的情况同样的倾向。
另一方面，当使用KOH进行预处理时(试验例2-8a)，与氨处理一样，通过1小时的烧结可将氢生成量减少至不足0.1ml/g，但同时残留C量显著降低至烧结前的约10％，使用感和防水性显著降低。
虽然产生这种现象的原因尚不明确，但可作出例如如下推断。即，当无预处理时，由于合成云母粉体表面的反应性低，所以导致Si-H基残留。于是，为减少Si-H基，导致需要过度的烧结，有机硅树脂之间的交联聚合过度进行，C量残留率降低。
与之相对的是，当使用铵离子进行预处理时，由于合成云母粉体表面被活化，所以Si-H基容易在粉体表面发生反应而被消耗，结果有机硅树脂之间的过度交联聚合受到抑制，因此可达成Si-H基的减少和C量的残留。
另一方面，当使用KOH进行预处理时，作为强碱的KOH残留于粉体表面。因此，KOH作为催化剂发挥功能，在烧结处理中显著促进有机硅树脂之间的交联聚合，从而导致C量残留率显著降低，基本上形成接近二氧化硅的组成。
试验例4烧结温度
图2是在试验例2-7a(预处理剂：碳酸铵)中改变烧结温度和时间时的氢生成量(a)和C量残留率(b)。
由图2可知，当烧结温度为300℃时，通过1小时的烧结可将氢生成量减少至不足0.1ml/g，但同时C量残留率显著降低至烧结前的约25％，导致使用感和防水性不足。
另一方面，当烧结温度为150℃时，即使在15小时以上的烧结下也无法将氢生成量减少至不足0.1ml/g。
与之相对的是，当烧结温度为170～260℃时，在比较短的时间(例如10小时以内)内可将氢生成量减少至不足0.1ml/g，且可将C量残留率维持在烧结前的40％以上，得到良好的使用感和防水性。
因此，对于有机硅树脂的情况，为制得兼具不足0.1ml/g的氢生成量和良好的使用感及防水性的有机物被覆合成云母粉体，烧结温度优选为170～260℃的范围。
另外，如下表4所示，若C量残留率降低，则使用感也下降，若C量残留率低于40％，则可感觉到粗糙和坚硬，柔软的触感变差。另外，若C量残留率降低，则防水性也下降。
因此，优选C量残留率为40％以上，进一步优选为45％以上。
另一方面，由图1～2可知，若要过度地维持高C量残留率，则无法使氢生成量不足0.1ml/g，所以C量残留率优选为60％以下。
[表4]
试验例5有机表面处理剂
在试验例2-3a中，使用[Si(R)2O]单元∶[SiH(R)O]单元＝1∶0.11(摩尔比)、聚合度为25的甲基含氢聚硅氧烷单体代替硅树脂混合物，制得有机物被覆合成云母粉体(试验例2-3b)。
其结果如表5所示，在C量残存率、氢生成量、使用感、防水性的任一方面均未确认与使用甲基含氢聚硅氧烷+二甲基聚硅氧烷混合硅树脂时(试验例2-3a)存在差异。
如上所述，当使用具有Si-H基的有机硅树脂作为有机表面处理剂时，无论是甲基含氢聚硅氧烷、二甲基聚硅氧烷混合物或甲基含氢聚硅氧烷单体，通过符合[Si(R)2O]单元∶[SiH(R)O]单元的摩尔比可同样使用。
[表5]
另外，下述表6是在试验例2-3a(预处理剂：氨)或试验例2-10a(无预处理剂)中，使用不具有Si-H基的有机硅树脂于230℃进行1小时烧结处理的结果(但是，使用不是有机硅树脂的有机表面处理剂的试验例2-3f～2-3g和试验例2-10f～2-10g为120℃、1小时)。
如表6所示，当使用现有的表面活性低的合成云母粉体时，无论通过任何有机表面处理剂进行被覆处理，也无法制得防水性高的有机物被覆合成云母粉体(试验例2-10c～试验例2-10g)。而且，由表7可知，即使提高烧结温度或延长烧结时间，有机链也减少，不仅导致使用感降低，而且防水性也未提高。这是由于仅促进了有机表面处理剂的交联聚合，而未促进被覆层与粉体表面的键合的缘故。
与之相对的是，通过采用本发明的方法预处理过的表面活性高的合成云母粉体，可容易地制得C量残留率为40～60％，具有良好的使用感，且防水性也优异的有机物被覆合成云母粉体(试验例2-3c～试验例2-3g)。
另外，使用如试验例2-3f～2-3g所示的硅烷偶联剂也可在更低的温度下进行烧结。
[表6]
*有机表面处理剂、溶剂
聚二甲基硅氧烷：
信越化学工业(株)制KF-96-1,000CS
三乙氧基甲硅烷基乙基聚甲基甲硅烷氧基乙基聚二甲基硅氧烷：
信越化学工业(株)制KF-9908
聚二甲基硅氧烷交联聚合物：
Dow Corning Toray Co.，Ltd.(東レ·ダウコ一ニング(株))制9045
Silicone Elastomer Blend
辛基三乙氧基甲硅烷：
信越化学工业(株)制AES-3083
十三氟辛基三乙氧基甲硅烷：
Evonik Degussa Japan Co.，Ltd.(エボニツクデグサジヤパン
(株))制DYNASYLAN F8261
IPA：异丙醇
[表7]
试验例6在预处理中的层间阳离子的去除
为研究预处理对合成云母表面前造成何种作用，分析了通上述试验例2的预处理除去的液相中的溶解元素。另外，就溶解元素浓度而言，Si通过重量法求得，其它元素通过ICP发光分析法求得。结果如表8所示。
[表8]
| 溶解元素 | NH3处理 | 碳酸铵处理 | 枸橼酸处理 | 纯水处理 |
| K | 0.43 | 0.49 | 0.49 | 0.25 |
| Mg | 0.14 | 0.05 | 1.85 | 0.11 |
| Al | 0.08 | 0.00 | 1.37 | 0.04 |
| Si | 1.53 | 0.57 | 1.32 | 0.30 |
(单位mmol/L)
如表8所示，在通过铵离子进行的预处理下(NH3、碳酸铵)，与通过纯水进行处理的情况相比，合成云母内部的八面体构成元素(Mg、Al)的溶出量并无差异，而合成云母表层部的四面体构成元素(Si)和吸附于四面体层表面的层间阳离子(K)的溶出量较多。
另一方面，在枸橼酸处理的情况下，内部元素(Mg、Al)、表层部元素(K、Si)的溶出量均增多。
因此，在酸处理下，由于不仅对合成云母表面[(001)面]，而且对其端面(端面)也发挥作用，所以氟离子变得容易从端面溶出，而在铵离子处理下，由于仅对合成云母表面发挥作用，所以对氟离子溶出基本无影响。
另外，在计算溶出到预处理的废液中(约0.9L)的K原子占存在于合成云母表面的全部K原子数的比例时，如表9所示，通过铵离子处理，合成云母表面的K原子被除去30％以上。认为这是因为粉体表面的K离子被铵离子所取代，游离的K离子通过除去液相被排除到体系外。
吸附于合成云母粉体表面的层间阳离子成为有机表面处理剂接近四面体层的障碍。因此，推测除反应位点形成作用外，铵离子处理引起的层间阳离子去除作用也有助于合成云母粉体表面与有机表面处理剂的反应性提高。
因此，优选通过预处理除去20％以上、进一步优选通过预处理除去30％以上的合成云母粉体表面的层间阳离子。
[表9]
| NH3 | 碳酸铵 | 纯水 | |
| K溶出率 | 33.2 | 37.1 | 18.7 |
*存在于合成云母表面的K量的计算方法：
(001)面比表面积(3.47m2/g)＝BET比表面积(实测值3.6m2/g)-端面比表面积(理论值0.13m2/g)
根据Wyckoff晶格常数：
[Crystal Structure vol.4.344页(1996)]，以的(001)面上存在1个K原子计，计算出每100g粉体的表面K数。
表面K数(个/100g粉体)＝(3.47×100)/(5.31×9.21×10-20)＝7.1×1020
需说明的是，端面表面积通过使用电子显微镜测定的所使用的合成云母粉体(Topy Industries，Ltd.制PDM-10S)的粒子厚度的均值和通过激光衍射式粒度分布测定仪测定的粒度分布值计算得出。
试验例7预处理中的干燥温度
图3是表示改变预处理中的干燥温度时的C量残留率变化的图。需说明的是，在图3中，相对于合成云母粉体，在预处理中使用的NH3浓度为2.2％质量或4.6％质量(换算成N为1.8％质量或3.8％质量)。除烧结时间设定为5小时以外，其它条件与上述试验例2-3a相同。
由图3可知，若将浆料脱水后的干燥温度过高，则制得的有机物被覆合成云母粉体中的C量残留率显著减少。
虽然尚不清楚其明确的原因，但可作例如如下推断。即，通过与铵离子的接触，在合成云母表面生成的反应位点由于高温干燥而减少，合成云母粉体的表面活性降低。此外，如上述试验例6所示，通过使用铵离子的预处理除去合成云母粉体表面的层间阳离子(钾离子)，使障碍减少。认为当在这样的合成云母粉体上烧结有机表面处理剂时，有机表面处理剂之间易于进行反应，C量残留率是降低的。
由以上结果可知，在本发明的预处理中重要的是在低温下使NH3挥发，优选于200℃以下、进一步优选于180℃以下进行干燥。
试验例8与天然无机粉体的比较
图4是在试验例2-3a中使用天然的无机粉体(绢云母、滑石粉)代替合成云母粉体时的结果。
如图4所示，即使对天然无机粉体进行本发明的预处理，基本未见对制得的有机物被覆粉体的C量残留率、氢生成量存在影响。
试验例9固液分离的影响
在试验例2-3a中，在采用NH3的预处理工序中除了不通过过滤进行固液分离而直接于150℃进行干燥以外，采用同样方法制得有机物被覆合成云母粉体。
其结果如图5所示，即使使用NH3进行预处理，当不通过固液分离进行液相的去除时(试验例9)，其C量残留率、氢生成量显示出与无预处理时(试验例2-10a)相同的行为，未见效果。推测这是由于未通过除去液相来充分除去合成云母表面的K离子的缘故。
掺混例1粉状粉底
使用上述试验例2-3a以及作为比较的C量残留率低的试验例2-8a和试验例2-7a5的有机物被覆合成云母粉体作为受试粉体，制备固态的粉状粉底。处方如下所示。
<处方>
(1)受试粉体 55质量份
(2)氧化钛 7
(3)白云母 3
(4)滑石粉 20
(5)尼龙粉末 2
(6)红色氧化铁 0.5
(7)黄色氧化铁 1
(8)黑色氧化铁 0.1
(9)硅酮油 1
(10)棕榈酸2-乙基己酯 9
(11)倍半油酸山梨坦 1
(12)防腐剂 0.3
(13)香料 0.1
<制法>
将上述成分1～8用亨舍尔混合机混合，向该混合物中添加已加热溶解混合的成分9～13并混合后，用粉碎机粉碎，将其在150kg/cm2的压力下于直径为53mm的中皿中成型，制得粉状粉底。
(使用性评价)
对于采用上述处方制备的粉底，由15名专门小组成员按照以下1-5的5个等级对将各个样品涂布于肌肤上时的柔软性和在肌肤上的延展性进行功能评价。
1···差
2···稍差
3···普通
4···稍好
5···好
结果以15人的5级评价的平均值计，按照如下标准进行评价。
◎····4.5-5.0
○····3.5-4.4
□····2.5-3.4
△····1.5-2.4
×····1.0-1.4
[表10]
| 受试粉体 | C量残留率(％) | 柔软性 | 延展性 |
| 试验例2-3a | 51 | ◎ | ○ |
| 试验例2-8a | 9 | × | × |
| 试验例2-7a5 | 26 | △ | △ |
由表10可知，使用本发明的有机物被覆合成云母粉体(试验例2-3a)制备的粉底与使用比较例的粉体(试验例2-8a、试验例2-7a5)的情况相比，非常柔软，延展性好，触感优异。
掺混例2乳化粉底
使用上述试验例2-3a以及作为比较的氢生成量高的试验例2-7a1和C量残留率低的试验例2-7a5的有机物被覆合成云母粉体作为受试粉体，制备乳化粉底。受试处方如下所示。
<处方>
(A)环戊硅氧烷 14.38质量份
二甲基聚硅氧烷(10cs) 12.00
角鲨烷 4.00
三异辛酸甘油酯 3.00
生育酚 适量
二硬脂基二甲铵锂蒙脱石 0.20
(ジステアリルジモニウムヘクトライト)
(B)防水性处理氧化钛 7.00
防水性处理红色氧化铁 0.20
防水性处理黄色氧化铁 1.00
防水性处理黑色氧化铁 0.20
受试粉体 15.00
(C)离子交换水 31.70
枸橼酸三钠 2.00
1，3-丁二醇 5.00
对羟基苯甲酸酯 适量
甘油 3.00
<制法>
将成分(A)加热溶解后，添加成分(B)的粉，用匀质混合机使之分散。进一步添加预先溶解·加热的成分(C)，用匀质混合机进行乳化，冷却至室温，制成乳化粉底。
(使用性评价)
对于在密封容器内于50℃保持1个月的上述乳化粉底，采用与上述掺混例1同样的评价标准进行柔软性、化妆持久性的功能评价。另外，对容器的变化也进行考察。
[表11]
由表11可知，使用本发明的有机物被覆合成云母粉体(试验例2-3a)制备的乳化粉底与试验例2-7a5相比，非常柔软，化妆持久性也好。另外，不同于试验例2-7a1，也确认见生成氢所造成的容器膨胀。
Claims (22)
1.有机物被覆合成云母粉体的制备方法，其特征在于，具备：
预处理工序，其中，使合成云母粉体与铵离子在水中接触后，通过固液分离除去液相，将固相于200℃以下干燥，使NH3挥发，和
被覆工序，其中，使有机表面处理剂附着于预处理过的合成云母粉体的表面后，进行烧结处理，在合成云母粉体表面形成有机物被覆层。
2.权利要求1的有机物被覆合成云母粉体的制备方法，其特征在于，铵离子供给源为NH3或水溶性铵盐。
3.权利要求1或2的有机物被覆合成云母粉体的制备方法，其特征在于，相对于合成云母粉体，使用换算成氮为1～30％质量的铵离子。
4.权利要求1～3中任一项的有机物被覆合成云母粉体的制备方法，其特征在于，有机表面处理剂为有机硅树脂、硅烷偶联剂、钛酸酯偶联剂、铝酸酯偶联剂或全氟烷基烷氧基硅烷。
5.权利要求1～4中任一项的有机物被覆合成云母粉体的制备方法，其特征在于，烧结温度为100～260℃。
6.权利要求1～5中任一项的有机物被覆合成云母粉体的制备方法，其特征在于，有机表面处理剂为有机硅树脂，烧结温度为170～260℃。
7.权利要求1～6中任一项的有机物被覆合成云母粉体的制备方法，其特征在于，有机表面处理剂含有具有Si-H基的有机硅树脂。
8.权利要求6或7的有机物被覆合成云母粉体的制备方法，其特征在于，有机表面处理剂中的[Si(R)2O]单元∶[SiH(R)O]单元的摩尔比为1∶0.05～1∶0.30的范围，其中，R分别为相同或不同的一价烃基。
9.权利要求8的有机物被覆合成云母粉体的制备方法，其特征在于，R为甲基。
10.权利要求1～9中任一项的有机物被覆合成云母粉体的制备方法，其特征在于，待预处理的合成云母粉体在100℃、1小时的热水溶出试验中的氟离子溶出量为20ppm以下，在250℃下的叔丁醇分解率为不足20％，
预处理过的合成云母粉体在100℃、1小时的热水溶出试验中的氟离子溶出量为20ppm以下，在250℃下的叔丁醇分解率为20％以上。
11.权利要求1～10中任一项的有机物被覆合成云母粉体的制备方法，其特征在于，在预处理工序中除去合成云母粉体表面的层间阳离子的20％以上。
12.通过权利要求1～11中任一项的方法制得的有机物被覆合成云母粉体，其特征在于，所述有机物被覆合成云母粉体中的含碳量为烧结前的有机表面处理剂附着合成云母粉体中的含碳量的40～60％质量。
13.权利要求12的有机物被覆合成云母粉体，其中，使用具有Si-H基的有机硅树脂作为有机表面处理剂，且有机物被覆合成云母粉体的氢生成量不足0.1ml/g。
14.有机物被覆合成云母粉体，所述有机物被覆合成云母粉体通过使有机表面处理剂附着于合成云母粉体表面后进行烧结而制得，
其特征在于，有机物被覆合成云母粉体中的含碳量为烧结前的有机表面处理剂附着合成云母粉体中的含碳量的40～60％质量。
15.权利要求14的有机物被覆合成云母粉体，其特征在于，有机表面处理剂为有机硅树脂、硅烷偶联剂、钛酸酯偶联剂、铝酸酯偶联剂、全氟烷基烷氧基硅烷。
16.权利要求14或15的有机物被覆合成云母粉体，其中，有机表面处理剂含有具有Si-H基的有机硅树脂，且有机物被覆合成云母粉体的氢生成量不足0.1ml/g。
17.权利要求16的有机物被覆合成云母粉体，其特征在于，有机表面处理剂中的[Si(R)2O]单元∶[SiH(R)O]单元的摩尔比为1∶0.05～1∶0.30的范围，其中，R分别为相同或不同的一价烃基。
18.权利要求17的有机物被覆合成云母粉体，其特征在于，R为甲基。
19.权利要求12～18中任一项的有机物被覆合成云母粉体，其特征在于，在100℃、1小时的热水溶出试验中的氟离子溶出量为20ppm以下。
20.化妆品组合物，其特征在于，使用权利要求12～19中任一项的有机物被覆合成云母粉体。
21.有机表面处理剂被覆处理用合成云母粉体，其特征在于，在100℃、1小时的热水溶出试验中的氟离子溶出量为20ppm以下，且250℃下的叔丁醇分解率为20％以上。
22.权利要求21的有机表面处理剂被覆处理用合成云母粉体，其特征在于，合成云母粉体表面的层间阳离子的20％以上被除去。
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104194415A (zh) * | 2014-08-25 | 2014-12-10 | 华南理工大学 | 一种疏水亲油改性的合成云母及其制备方法 |
| CN113717547A (zh) * | 2021-08-27 | 2021-11-30 | 湖北新蓝天新材料股份有限公司 | 一种珠光颜料用硅化处理剂及其硅化方法 |
| CN114180593A (zh) * | 2021-12-14 | 2022-03-15 | 滁州格锐矿业有限责任公司 | 一种化妆品用高光合成云母粉及其制备工艺 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5491922B2 (ja) * | 2010-01-06 | 2014-05-14 | Ｔｏｔｏ株式会社 | 光触媒塗装体 |
| JP5943796B2 (ja) * | 2012-09-27 | 2016-07-05 | 株式会社マンダム | ジェル状皮膚用化粧料 |
| CN107337885B (zh) * | 2017-06-23 | 2019-10-01 | 石家庄优士科电子科技有限公司 | 多晶硅铸锭石英坩埚高纯石英砂涂层粘结剂及其制备方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6200580B1 (en) * | 1997-09-10 | 2001-03-13 | Miyoshi Kasei, Inc. | Powdered base material treated with organic silicon compounds and their method for producing |
| JP2001262004A (ja) * | 2000-01-14 | 2001-09-26 | Shiseido Co Ltd | シリコーン処理粉体、その製造方法及びそれを用いた組成物 |
| JP2005187229A (ja) * | 2003-12-24 | 2005-07-14 | Topy Ind Ltd | 合成金雲母粉体、その製法及び該粉体を含有する化粧料 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08686B2 (ja) * | 1986-11-27 | 1996-01-10 | 株式会社資生堂 | 改質粉体 |
| WO1988005453A1 (en) * | 1987-01-26 | 1988-07-28 | Shiseido Company Ltd. | Synthetic mica powder, process for its production, and cosmetics containing said synthetic mica powder |
| JP2597492B2 (ja) | 1987-12-18 | 1997-04-09 | ポーラ化成工業株式会社 | メークアップ化粧料 |
| JPH05170429A (ja) * | 1991-12-18 | 1993-07-09 | Mitsubishi Materials Corp | 粘土架橋多孔体及びその製造方法 |
| JP2842170B2 (ja) | 1993-10-26 | 1998-12-24 | 株式会社大林組 | 天然植栽用コンテナ及びその連続敷設方法 |
| TWI278323B (en) * | 2000-01-14 | 2007-04-11 | Shiseido Co Ltd | Silicone-treated powder, process of production thereof and composition containing the same |
| US7470318B2 (en) * | 2006-07-21 | 2008-12-30 | Basf Corporation | Synthetic mica based pearlescent pigments containing ferrites |
| JP4234167B2 (ja) | 2006-10-23 | 2009-03-04 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション | Ｒｆｉｄタグ付物品収容ケースおよびｒｆｉｄシステム |
-
2009
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- 2009-04-16 EP EP09733371A patent/EP2284225A4/en not_active Withdrawn
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6200580B1 (en) * | 1997-09-10 | 2001-03-13 | Miyoshi Kasei, Inc. | Powdered base material treated with organic silicon compounds and their method for producing |
| JP2001262004A (ja) * | 2000-01-14 | 2001-09-26 | Shiseido Co Ltd | シリコーン処理粉体、その製造方法及びそれを用いた組成物 |
| JP2005187229A (ja) * | 2003-12-24 | 2005-07-14 | Topy Ind Ltd | 合成金雲母粉体、その製法及び該粉体を含有する化粧料 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104194415A (zh) * | 2014-08-25 | 2014-12-10 | 华南理工大学 | 一种疏水亲油改性的合成云母及其制备方法 |
| CN104194415B (zh) * | 2014-08-25 | 2016-04-13 | 华南理工大学 | 一种疏水亲油改性的合成云母及其制备方法 |
| CN113717547A (zh) * | 2021-08-27 | 2021-11-30 | 湖北新蓝天新材料股份有限公司 | 一种珠光颜料用硅化处理剂及其硅化方法 |
| CN114180593A (zh) * | 2021-12-14 | 2022-03-15 | 滁州格锐矿业有限责任公司 | 一种化妆品用高光合成云母粉及其制备工艺 |
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