CN101859575B - 光斑位置控制设备和光斑位置控制方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种光斑位置控制设备和方法。光斑位置控制设备包括：第一光源；第二光源；分束器，将第二光源的光束分为m个光束；光学系统，使第一光源的第一光束和m个光束通过共同物镜照射盘形记录介质，其中交替形成具有相等宽度的凹槽和槽脊以形成螺旋形状/同心形状的凹槽，光学系统使m束光束照射盘形记录介质，以使m个光束光斑的间隔为1/m轨道间距；跟踪控制机构，通过改变光轴和记录介质间的关系跟踪控制光束；光接收单元，分别接收m个光束；误差信号生成器，基于接收信号生成表示m束光束的光斑位置相对轨道的径向位置误差的误差信号；误差信号选择器，选择至少一个误差信号；及伺服控制器，基于误差信号控制跟踪控制机构以跟踪伺服光束。

Description

光斑位置控制设备和光斑位置控制方法

技术领域

本发明涉及一种用于控制光照射盘形记录介质的光斑位置的光斑位置控制设备，更具体地，本发明涉及一种适合用于基于与信息记录/再现光不同的光的照射来控制信息记录/再现位置的光斑位置控制设备及其方法。

背景技术

例如，日本未审查专利申请公开No.2005-250038号和No.2007-79438公开了一种全息图记录/再现系统，其利用信号光和参考光之间的干涉条纹来执行数据记录。在该全息图记录/再现系统中，在记录时，通过使根据记录数据经过空间光调制(例如，光强度调制)的信号光和与信号光不同的参考光照射全息图记录介质，从而执行数据记录。

此外，在再现时，用参考光照射全息图记录介质。以这种方式，通过用参考光照射全息图记录介质，可以获得形成与在全息图记录介质上的干涉条纹对应的折射光。换言之，因此可以获得与记录数据对应的再现光(再现信号光)。通过使用例如诸如CCD(电荷耦合器件)传感器或者CMOS(互补金属氧化物半导体)传感器等的图像传感器来检测所获得的再现光，记录数据得以被再现。

类似于相关技术中针对诸如CD(致密盘)或者DVD(数字多功能盘)等的光盘的记录/再现系统，在全息图记录/再现系统中，认为数据记录形成于记录介质上的轨道中。换言之，类似于相关技术中光盘的情况，在轨道上执行诸如跟踪伺服控制等的记录/再现位置控制，以使得在光盘上的适当位置记录数据。

参照图17的横截面结构图描述了在执行记录/再现位置控制的情况下所用的全息图记录介质的结构的示例。

图17示出了具有反射层的反射性全息图记录介质100的结构的示例。

如图中所示，在全息图记录介质100中，分别形成记录层106和位置控制信息记录层，其中在记录层106中，由前述信号光和参考光之间的干涉条纹来记录全息图，而在位置控制信息记录层中，记录了用于通过基底110上的凸凹部分的横截面结构进行的位置控制的地址信息等。

更具体地，在全息图记录介质100中，覆盖层105、记录层106、反射层107、中间层108、反射层109和基底110从上层开始以此顺序形成。

当通过在再现时照射用于全息图再现的激光(上述参考光)获得与记录层106上记录的全息图对应的再现图像时，形成为记录层106的下层的反射层107用于将再现的图像作为反射光返回至设备侧。

此外，以螺旋或者同心的形状在基底110上形成用于引导记录层106的全息图记录/再现位置的轨道。例如，通过利用凹坑列(pit columns)记录诸如地址信息等的信息来形成轨道。

设置形成为基底110的上层的反射层109以便获得与凹坑列对应的反射光。此外，中间层108由例如诸如树脂等的粘性材料制成。

允许用于在记录层106上执行全息图记录/再现的记录/再现光和用于从位置控制信息记录层中获得反射光的位置控制光单独照射具有横截面结构的全息图记录介质100。

这里，如果只有一束光同时用于全息图记录/再现和位置控制，则在再现时，与基底110(反射层109)的凸凹部分的横截面形状相对应的分量作为噪声与全息图的再现图像重叠，从而可以使再现性能劣化。为此，在全息图记录/再现系统中，执行位置控制以使得允许用于从位置控制信息记录层获得反射光的位置控制光和全息图记录/再现光单独照射。

此外，在位置控制光与全息图记录/再现光分开照射的情况下，采用其不同的波段。如果采用同一波段的位置控制光和记录/再现光，则可能由于位置控制光的照射而发生记录层106的感光。为了防止这种现象，采用不同的波段。

例如，具有波长λ大约为405nm的蓝紫光激光用作全息图记录/再现光，而具有波长λ大约为650nm的红光激光用作位置控制光。

这里，为了通过位置控制光的照射从位置控制信息记录层获得反射光，位置控制光必须到达反射层109，所述反射层通过反映基底110的凸凹部分的横截面形状而形成。换言之，位置控制光必须透过在反射层109之上形成的反射层107。

另一方面，反射层107必须反射全息图记录/再现光，以使得与记录层106上记录的全息图对应的再现图像作为反射光返回设备侧。

考虑到这一点，具有波长选择性的反射层用作反射层107，所述反射层反射作为上述记录/再现光的蓝紫光激光，并且透射作为上述位置控制光的红光激光。因此，位置控制光到达反射层109，以使得用于位置控制的反射光适当地返回至设备侧；并且记录层106上记录的全息图的再现图像在反射层107上反射，以使得反射光适当地返回设备侧。

这里，如图18中所示，在通过使用与全息图记录/再现光分开的光执行记录/再现位置控制的情况下，在记录/再现设备侧，全息图记录/再现光和位置控制光合并在同一光轴中，并且使合并的光照射全息图记录介质100。此外，基于位置控制光的反射光执行跟踪伺服控制。

以这种方式，全息图记录/再现光和位置控制光合并在同一光轴上，并且使合并的光照射全息图记录介质100。接着，基于位置控制光的反射光实现位置控制，以使得全息图记录/再现位置被控制为沿着轨道(凹坑列)形成在全息图记录介质100上的位置。

但是，上述相关技术中的控制全息图记录/再现位置的方法是一种基于位置控制光的光轴和记录/再现光的光轴彼此一致的假定的方法。因此，例如，在图19所示的由于老化改变或者温度改变导致两个光轴之间出现失准的情况中，不能将全息图记录/再现位置控制在依照轨道的精确位置处。

换言之，从这一点理解，在利用前述方法执行位置控制的相关技术的全息图记录/再现系统中，在再现时不能精确跟踪所记录的全息图列(hologram column)。结果，不能适当地执行全息图再现。

此外，即使在对由不同于当前设备的设备对其执行了记录的光盘执行再现时，也可能发生由两个光轴之间的失准引起的全息图记录位置和再现位置之间的失准的问题。例如，在不同设备中在全息图记录时位置控制光和记录/再现光之间的轴失准量是α的情况下，如果当前设备中的位置控制光和记录/再现光之间的轴失准量是β，则由不同设备记录的全息图不能由当前设备适当地再现。

因此，考虑采用一种用于校正全息图记录位置和再现位置之间的失准的过程。

作为具体的过程，有一种单独提供诸如调节器等的调整机构的过程，所述调整机构用于调整记录/再现光的轴位置，并且在再现时调整记录/再现光(参考光)的轴位置以便与记录全息图的实际位置一致。

更具体地，在采用这一过程的情况下，在执行全息图再现之前，通过由调节器(调整机构)晃动记录/再现光(参考光)的轴位置来执行用于指定将获得最大再现光量的轴位置的校准。换言之，因此，可以指定实际记录全息图的位置。接着，通过将记录/再现光的轴位置调整至所获得的位置，可以校正全息图记录位置和再现位置之间的失准。

但是，在采用该过程的情况下，必须提供用于调整记录/再现光的轴位置的调节器(调整机构)。因此，增加了设备的生产成本。

此外，很高的调整精确度对于记录位置和再现位置之间的失准的校正是必要的。在全息图再现时，虽然记录/再现光(参考光)在所记录的全息图上的照射位置的失准很小，但是也可能发生折射效率的降低(即，再现光量的减少)。更具体地，很高的调整精确度，例如大约亚微米的精确度，对于记录/再现光的轴位置的校正是必要的。

由于这样很高精度的调整是必要的，因此在采用提供用于调整轴位置的单独调整机构的过程的情况中，其技术可能难以实现。此外，调整机构可能是高精度、高强度的机构，从而进一步增加设备的生产成本。

发明内容

根据本发明的一个实施例，提供了一种具有以下结构的光斑位置控制设备。

所述光斑位置控制设备包括第一光源和第二光源。

此外，所述光斑位置控制设备包括分束器，所述分束器将从第二光源发出的光束分为m束光束。

此外，光斑位置控制设备包括光学系统，所述光学系统使从第一光源发出的第一光束和由分束器产生的m束光束通过共同物镜照射盘形记录介质，其中在盘形记录介质的径向上交替形成凹槽和槽脊，以使得所述凹槽形成为螺旋形状或者同心形状，其中所述光学系统允许所述m束光束照射盘形记录介质，以使得m束光束照射盘形记录介质的照射点在径向上的间隔为根据凹槽的形成而形成在盘形记录介质上的轨道的间距的1/m。

此外，光斑位置控制设备包括跟踪控制机构，所述跟踪控制机构被配置为通过在径向上改变通过物镜和盘形记录介质照射的光束的光轴之间的相对位置关系，来对通过物镜照射的光束执行跟踪控制。

此外，光斑位置控制设备包括从盘形记录介质分别接收通过物镜照射的m束光束。

此外，所述光斑位置控制设备包括误差信号生成单元，所述误差信号生成单元基于由光接收单元获得的接收信号来生成误差信号，所述误差信号表示所述m束光束的光斑位置相对于盘形记录介质上形成的轨道的径向位置误差。

此外，所述光斑位置控制设备包括误差信号选择器，所述误差信号选择器从误差信号生成单元生成的误差信号中选择至少一个误差信号。

此外，所述光斑控制设备包括伺服控制器，所述伺服控制器基于由误差信号选择器选择的误差信号来控制跟踪控制机构，以执行对通过物镜照射的光束的跟踪伺服。

本发明的主要特征如下：

1)采用径向上交替形成有相等宽度的凹槽和槽脊的盘形记录介质。

2)第二光的m束分出光束的照射光斑的半径间隔设置为盘形记录介质的轨道间距的1/m。

3)分别接收分为m束的第二光束，以便生成光束的光斑位置在径向上的与轨道相对应的误差信号。

4)从所生成的误差信号中选择一个误差信号，并且基于所选择的误差信号应用跟踪伺服。

这里，在满足条件1)和2)的情况中，如果分别对光斑的误差信号执行跟踪伺服，则迹线位置(伺服对象位置)变为移位了1/m轨道间距的位置。从这一关系中可以理解，根据本发明，可以从与轨道间距的m个分出部分相对应的位置以及通常为轨道的中心中选择光斑的迹线位置。换言之，根据本发明，通过用于跟踪伺服的跟踪误差信号的选择，可以以诸如1/m轨道间距的宽度的细微精度来选择光斑的迹线位置。

从该关系中可以理解，根据本发明，可以实现能够以1/m轨道间距的宽度为单位在径向上控制第一光的迹线位置的跟踪伺服控制。换言之，可以以比超过相关技术的光学限制的精度更精细的单位来控制全息图记录/再现光的迹线位置。

根据本发明，在通过对允许与第一光(记录/再现光)单独照射的第二光(来自第二光源的光：位置控制光)执行照射位置控制来控制第一光的照射位置的情况中，可以以比轨道间距更精细的单位，高精度地执行用于校正采用第一光的照射的信息记录位置和再现位置之间的失准的第一光的照射位置的调整。

此外，根据本发明，可以基于第二光，由跟踪伺服来执行第一光的照射位置的调整。换言之，作为用于调整第一光的照射位置的调整机构，可以采用已经提供的跟踪控制机构以便实现跟踪伺服。因此，和相关技术不同，不一定向第一光侧提供单独的轴位置调整机构。换言之，在这一点上，与相关技术的设备相比可以降低设备的生产成本。

附图说明

图1是示出了根据本发明的一个实施例的盘形记录介质的横截面结构的横截面图；

图2是示出了在根据所述实施例的盘形记录介质上形成的位置控制信息记录层的表面的局部放大(平面)图；

图3是示出了位置控制信息记录层的一部分的透视横截面图；

图4A至4C是示出了地址信息的格式的图；

图5是示出了根据本发明的一个实施例的全息图记录/再现系统的主要结构和记录/再现设备的位置控制光学系统的框图；

图6是示出了通过空间光调制(SLM)设置的区域的图；

图7A和7B是示出了用于校正(调整)全息图记录位置和全息图再现位置之间的失准的详细过程的图；

图8是示出了三光束(主光束、第一分光束和第二分光束)的照射光斑位置与盘形记录介质上形成的槽脊和凹槽之间的关系的图；

图9A和9B是示出了主光束光斑、第一分光束光斑和第二分光束光斑组在径向上运动的状态与根据径向运动而获得的光束光斑的跟踪误差信号之间的关系的图；

图10是示出了包括反相信号的总共六种类型的跟踪误差信号的图；

图11是示出了与所选择的六种类型的跟踪误差信号相对应的光斑位置的图；

图12是示出了所选择的跟踪误差信号和用于地址读取的光斑之间的关系的图；

图13是示出了根据一个实施例的记录/再现设备的内部结构的图(主要抽取并且仅示出了用于实现位置控制的信号处理系统的结构)；

图14是示出了根据修改示例的记录/再现设备的内部结构的图(主要抽取并且仅示出了用于实现位置控制的信号处理系统的结构)；

图15是示出了采用5个光斑的修改示例的图；

图16是示出了在采用5个光斑的情况下(在径向运动时)各个误差信号的波形的图；

图17是示出了相关技术中全息图记录介质的横截面结构的图；

图18是示出了照射全息图记录介质的位置控制光和记录/再现光之间的关系的图；以及

图19是示出了照射全息图记录介质的位置控制光和记录/再现光之间的光轴失准的图。

具体实施方式

下文中将描述实现本发明的实施例(以下称为实施例)。

此外，将按照以下顺序进行描述。

1.记录介质的结构

1-1.横截面结构

1-2.位置控制信息记录层的结构

1-3.地址信息的格式

2.记录/再现设备的结构

2-1.全息图记录/再现系统和位置控制光学系统

2-2.光斑位置的精细调整的过程

2-3.光斑位置控制的结构

3.实施例的总结

4.修改示例

1.记录介质的结构

1-1.横截面结构

图1示出了作为根据本发明的一个实施例的盘形记录介质的实施例的全息图记录介质HM的横截面结构。

首先，根据该实施例的全息图记录介质HM是反射型记录介质，其包括反射层L3和反射层L5。此外，在全息图记录介质HM上分别形成记录层L2和位置控制信息记录层，在所述记录层L2中执行全息图记录/再现，而在所述位置控制信息记录层中记录用于通过图中基底L6上的凸凹部分的横截面结构进行位置控制的地址信息等。

此外，根据该实施例的全息图记录介质HM被配置为盘形记录介质。

如图中所示，在全息图记录介质HM中，覆盖层L1、记录层L2、反射层L3、中间层L4、反射层L5和基底L6以此顺序从上层起形成。

覆盖层L1用例如塑料基底或者玻璃基底构造。提供覆盖层L1以便保护记录层L2。

选择例如光敏聚合物作为记录层L2的材料。通过利用来自后面在图5中描述的作为光源的激光器2的蓝紫光激光(例如，具有大约405nm的波长λ)来执行全息图记录/再现。

此外，当通过在再现时照射蓝紫光激光作为参考光来获得与记录层L2上记录的干涉条纹(数据)相对应的再现图像时，反射层L3用于将再现图像作为反射光返回至记录/再现设备侧。

提供基底L6和反射层L5以便控制记录/再现位置。

用于引导记录层L2的记录/再现位置的凹坑列以螺旋形或者同心形形成在基底L6上。在这种情况下，如后面所述，通过根据凹坑存在与否图案记录诸如地址信息等的信息来形成凹坑列。

反射层L5形成在基底L6的表面(浅表面)上，其中在基底L6的表面上通过采用例如溅射法或者气相沉积法来形成凹坑列。形成在反射层L5和反射层L3之间的中间层L4由例如粘性材料比如树脂制成。

这里，如后面所述，在该实施例中，利用反射光来执行位置控制(跟踪伺服控制等)，其中通过用来自图5中所示的作为光源的第二激光器20的红光激光(例如，具有大约650nm的波长λ)照射全息图记录介质HM来获得反射光，因此由蓝紫光激光控制全息图记录/再现位置。

在这种情况下，为了适当地执行位置控制，红光激光必须到达反射层L5，反射层L5的横截面设置有用于位置控制的凸凹部分。换言之，红光激光必须透射过形成为反射层L5的上层的反射层L3。

另一方面，反射层L3必须反射蓝紫光激光，以使得与反射层L2上记录的全息图相对应的再现光作为反射光返回至记录/再现设备侧。

考虑到这一点，使用以下具有波长选择性的反射层作为反射层L3：所述反射层反射用于全息图记录/再现的蓝紫光激光，并透射用于位置控制的红光激光。换言之，反射层被配置为具有反射蓝紫光激光特定波段的光并透射该波段以外的光的波长选择性。

由于具有波长选择性的反射层L3，使得红光激光可以适当地到达反射层L5；在记录/再现设备侧适当地检测到用于位置控制的反射光；并且在记录/再现设备中适当地检测到记录层L2上记录的全息图的再现光。

1-2.位置控制信息记录层的结构

图2是示出了全息图记录介质HM的位置控制信息记录层(其通过将基底L6的凸凹部分反映到反射层l5中而形成)的局部放大表面的图(平面图)。

在图2中，图中的水平位置是全息图记录介质HM的径向和用于引导光斑位置的轨道的排列方向，轨道根据后面描述的凹槽G的形成而形成。

此外，与径向垂直的方向(竖直方向)是形成轨道的方向(轨道形成方向：圆周方向)。根据全息图记录介质HM的旋转的驱动而在与轨道形成方向平行的方向上移动用于位置控制的红光激光的光斑。

如图2中所示，在全息图记录介质HM的位置控制信息记录层上，凹槽G和槽脊L在径向上交替排列。更具体地，在位置控制信息记录层上，凹槽G形成为螺旋形状或者同心形状，从而在径向上交替形成凹槽G和槽脊L。

此外，在该实施例中，凹槽G和槽脊L被配置为具有相同的宽度n。换言之，由于宽度n，凹槽G形成为螺旋形状或者同心形状，以使得其在径向上的形成间距为2n。

此外，在该实施例中，在槽脊L侧执行通过凹坑形成而进行的地址信息的记录。此外，后面将描述在该实施例的情况下记录地址信息的详细方法。

这里，槽脊(L)形成间距等于凹槽(G)形成间距(＝2n)。从这里可以理解，在这种情况下所形成的轨道的间距(轨道间距)为2n。

图3是示出了全息图记录介质HM的基底L6的局部放大部分的透视横截面图。

这里，如果用于位置控制信息记录层的再现波长(在这种情况下，即前述红光激光的波长)由λ表示，则在该实施例中，如图中所示，凹槽G的深度设置为λ/8，凹坑的深度设置为λ/4。

如后面所述，在该实施例中，生成推挽信号作为跟踪误差信号。就推挽信号的信号振幅而言，λ/8的深度设置是最有利的，并且λ/4的深度设置是最不利的。

如后面所述，可以通过凹槽G的深度设置和凹坑的深度设置来实现稳定的跟踪伺服。

这里，形成具有图2和3中所示的结构的位置控制信息记录层，并且基底L6的切割通过两光束切割方法来执行。更具体地，在这种情况下，在切割时采用两光束切割方法，其中光斧之间的间隔设置为n；采用凹槽形成激光束和凹坑形成激光束；并且(凹槽形成激光器的功率)∶(凹坑形成激光器的功率)＝1∶2。

1-3.地址信息的格式

接着，将参照图4A至4C来描述位置控制信息记录层上记录的地址信息的形成的示例。

在图4A至4C中，图4A是示出了形成槽脊L的凹坑的方式的图。

首先，在该实施例中，不采用像CD(致密盘)或者DVD(数字多功能盘)那样的根据凹坑和间隔的长度来记录信息的方式，而是根据预定的凹坑可形成位置处的凹坑存在与否图案来执行信息记录。

更具体地，首先，在本实施例中，为了将凹坑对跟踪错误信号的影响抑制到尽可能小，凹坑长度设置为最短长度。在该实施例中，由于位置控制信息记录层的记录/再现条件设置为类似于DVD情形中的条件(波长λ＝大约650nm，孔径数值NA＝大约0.60)，因此最短凹坑长度为3T。

此外，在该实施例中，一个凹坑可形成位置分配给多个单元间隔，其中最短凹坑长度设置为一个单元间隔的长度。更具体地，在这一情况中，每6个单元间隔分配(即，每隔5个单元间隔出现)一个凹坑可形成位置。

在图4A中，标记“*”表示与凹坑可形成位置相对应的单元间隔；标记“*”之间的标记“0”表示与凹坑不可形成位置相对应的单元间隔。

此外，在该实施例中，采用一种根据凹坑可形成位置处的凹坑存在与否来表示信道数据中的“0”和“1”的格式。换言之，一个凹坑可形成位置分配给与一个信道位相对应的信息。

在该实施例中，数据位的一位由具有多个信道位“0”和“1”的数据图案表示。

更具体地，在该实施例中，如图4B中所示，数据位的“0”和“1”由四个信道位表示。例如，4信道位图案“1011”可以表示数据位“0”；并且4信道位图案“1101”表示数据位“1”。

这里，重要的一点是信道位“0”不是连续排列的。换言之，在记录/再现设备侧，根据凹坑形成周期生成时钟。此时，如果信道位“0”连续排列(即，如果未形成凹坑的凹坑可形成位置连续排列)，则不能获得适当的时钟。为此，在该实施例中，例如通过前述数据位的定义来满足信道位“0”不连续排列的条件。换言之，由于前述数据位的定义，可以抑制时钟可靠性的降低。

图4C示出了同步图案的示例。

例如，如图中所示，同步图案由12个信道位表示。前8位表示与数据位的定义不匹配的信道位图案“11111111”，后4信道位图案表示一种同步的类型。更具体地，如果8位之后的4信道位图案为“1011”，则同步的类型为同步1，如果为“0111”，则类型为同步2。

在根据本实施例的全息图记录介质HM中，在上述同步之后记录地址信息。

这里，记录的地址信息至少包括径向位置信息和角位置信息。

2.记录/再现设备的结构

2-1.全息图记录/再现系统和位置控制光学系统

图5主要只示出从在根据前述实施例的全息图记录介质HM上执行全息图记录/再现的记录/再现设备的内部结构中抽取的全息图记录/再现系统和位置控制光学系统的结构。

首先，在根据该实施例的记录/再现设备中，采用所谓的共轴模式作为全息图记录/再现模式。换言之，信号光和参考光布置在同一轴上，并且通过使信号光和参考光照射设置在预定位置处的全息图记录介质HM来执行利用干涉条纹的信息记录。此外，在再现时，通过使参考光照射全息图记录介质HM来执行利用干涉条纹所记录的信息的再现。

在图5中，用于驱动全息图记录介质HM的旋转的主轴马达29布置在记录/再现设备中。当全息图记录介质HM加载在记录/再现设备上时，保持由主轴马达29驱动全息图记录介质HM旋转的状态。

通过使图中的第一激光器2照射加载的全息图记录介质HM来记录或者再现全息图页。

第一激光器2用例如带外部谐振腔的激光二极管构造，以发出具有大约405nm波长λ的蓝紫激光。下文中，将来自作为光源的第一激光器2的激光称为记录/再现激光或者第一激光。

从第一激光器2发出的记录/再现激光穿过隔离器3和包含在IS(图像稳定)功能单元4中的AOM(声光调制器)4A→AOD(声光偏转器)4B。接着，由扩束器5将记录/再现激光的光束直径调整至必要的值。记录/再现激光通过反射镜6→反射镜7入射到SLM(空间光调制器)8。

此外，后面将描述IS功能单元4。

SLM 8对入射记录/再现光执行空间光调制，以便生成前述参考光和信号光。采用例如布置有多个微反射镜的折射型空间光调制器或者用于通过使用液晶面板以像素为单位执行空间光调制的设备作为SLM 8。因此，可以生成反映记录数据的信号光或者具有预定强度图案的参考光。

这里，在采用共轴模式作为全息图记录/再现模式的情况下，在SLM8中，如下设置图6中所示的区域。

如图6中所示，在SLM 8中，在中心部分形成圆形信号光区域A2，并且通过沿着信号光区域A2的外圆周部分形成环形间隙区域A3来限定环形参考光区域A1。信号光区域A2是设置为信号光生成区域的区域。类似地，参考光区域A1是设置为参考光生成区域的区域。

此外，间隙区域A3设置为用于防止参考光区域A1的光束与信号光区域A2的光束相互干涉从而产生噪声的缓冲区域。

返回图5，SLM 8被配置为在记录时基于来自调制控制器27的驱动信号DS生成信号光和参考光，并在再现时给予驱动信号DS生成参考光。

在记录时，调制控制器27为各个像素分配驱动信号值，以使得信号光区域A2中的像素图案(例如，各个像素的开/关图案)变为与SLM中的输入记录数据相对应的图案。此外，调制控制器27为各个像素分配驱动信号值，以使得参考信号光区域A1中的像素图案变为预定图案，并且使得包括间隙区域A3的其他区域中的所有像素变为关。接着，作为以上指定的值的驱动信号DS施加到SLM 8。因此，在记录时，从SLM 8生成具有与记录的数据相对应的强度图案的信号光和具有预定光强度图案的参考光。

此外，在再现时，设置驱动信号值以使得只有参考光区域A1中的像素图案变为预定图案，而使得其他区域变为关，并且驱动SLM 8的像素。因此，只有参考光从SLM 8中输出。

在SLM 8中经历了空间光调制的光入射到偏振分束器9，如图中所示。偏振分束器9透射从SLM 8入射的记录/再现激光。

穿过偏振分束器9的激光通过中继镜10→中继镜11的中继镜系统入射到分色镜12。

分色镜12具有波长选择性，并且被配置为透射通过中继镜系统入射的记录/再现激光并反射来自作为光源的后面描述的第二激光器20的位置控制激光。

因此，穿过中继镜系统的记录/再现激光穿过分色镜12。

穿过分色镜12的记录/再现激光的光轴通过反射镜13弯曲90°，因而记录/再现激光入射到1/4波片。接着，允许穿过1/4波片的记录/再现激光通过物镜15照射全息图记录介质HM。

物镜15被维持为可以由焦距调节器16B在焦距方向上(远离或者接近全息图记录介质HM的方向)移置。此外，物镜15、焦距调节器16B和1/4波片14以及反射镜13被配置为可以由跟踪调节器16A在跟踪方向上(全息图记录介质HM的径向)整体移置。

来自后面描述的伺服电路38的跟踪驱动信号TD和焦距驱动信号FD(参照图13)施加到跟踪调节器16A和焦距调节器16B。因此，执行对通过物镜15照射全息图记录介质HM的光和全息图记录介质HM之间在径向上的相对位置关系的控制，以及对聚焦通过物镜15照射全息图记录介质HM的光的控制，以使得可以实现用于聚焦和跟踪的伺服操作或者跟踪跳转操作。

此外，虽然为了使图示简明而进行了省略，但是在实际情况中，还提供用于改变包括物镜15在内的光学拾波器OP和全息图记录介质HM之间在跟踪方向上的位置关系的滑动机构。

这里，在记录时采用前述SLM 8的空间光调制中，基于来自作为光源的第一激光器2的记录/再现激光来生成信号光和参考光。换言之，在记录时，允许信号光和参考光照射全息图记录介质HM。因此，通过信号光和参考光之间的干涉条纹(全息图)将数据记录在全息图记录介质HM(记录层L2)上。

此外，在再现时，只通过SLM 8生成参考光，并且允许参考光通过上述光路径照射全息图记录介质。根据参考光在全息图记录介质HM上的照射，可以获得对应于干涉条纹的折射光(再现图像)。允许所获得的再现图像作为反射光从全息图记录介质HM上形成的反射层L3返回至设备侧。

返回光通过物镜15转换为平行光。接着，返回光通过1/4波片14→反射镜13→分色镜12→中继镜11→中继镜10入射到偏振分束器9。

这里，从全息图记录介质HM入射到偏振分束器9的返回光通过1/4波片14和全息图记录介质HM上形成的反射层(L3)的作用转换为线偏振光，所述线性偏振光的偏振方向垂直于在前向路径中穿过偏振分束器9的线性偏振光。因此，来自全息图记录介质HM的返回光由偏振分束器9反射。

由偏振分束器9反射的返回光通过中继镜17→中继镜18的中继镜系统入射到图像传感器19，如图中所示。

图像传感器19用例如CCD(电荷耦合器件)传感器或者CMOS(互补金属氧化物半导体)传感器构造，以接收从全息图记录介质HM入射的返回光并将返回光转换为电信号，从而获取图像信号。因此，所获取的图像信号被配置为反映在记录时分配给信号光的光强度图案(即，“0”“1”图案)。换言之，由图像传感器19检测到的图像信号变成全息图记录介质HM上记录的数据的读取信号。

此外，通过图像传感器19获得的读取信号(图像信号)由读取信号D-img表示。

数据再现单元28输入有通过图像传感器19获得的读取信号D-img，并执行预定信号处理(解码处理)，以再现以二进制值“0”和“1”的组合构造的记录数据。

此外，在“0”和“1”记录数据的生成过程中，以SLM 8的数据像素为单位对图像传感器19的读取信号D-img执行识别数据“0”和“1”的信号处理方法。以这种方式，有多种方法作为从图像传感器19的输出中再现记录数据“0”和“1”的再现信号处理方法，因此，本发明不特定限于此。

这里，保持全息图记录/再现方法的以上描述，描述了前述IS功能单元4。

类似于本实施例的情况，在执行全息图记录/再现、同时驱动全息图记录介质HM旋转的情况中，为了使记录/再现激光连续照射记录介质上的同一位置预定时间，每隔预定间隔执行记录/再现激光的扫描。换言之，通过执行激光的扫描，例如，在记录时，可以更稳定地形成干涉条纹；在再现时，增加了检测到的光量，从而可以更稳定地执行读取。因此，通过使记录/再现激光照射记录介质上的同一位置仅预定时间来执行每隔预定间隔的扫描的功能称为IS(图像稳定)功能。

在图5中，IS功能单元4包括AOM 4A和AOD 4B以及用于控制驱动这些部件的IS控制器4C，如图中所示。

AOM 4A由例如具有大约一百几十MHz的频率的高频信号驱动。AOM 4A被配置为具有透射率随高频信号的振幅改变而变化的装置(声光介质)。

此外，虽然AOD 4B根据类似于AOM 4A的高频信号驱动，但是AOD4B被配置为具有声光介质，所述声光介质被配置为根据高频信号的频率改变而改变光的偏转角。AOD 4B通过偏转角的控制来执行入射激光的扫描。

这里，对于IS功能，为了使激光顺序照射各个位置预定时间，可能需要设置激光光斑从一个位置到另一个位置移动的空白周期。如果允许激光在空白周期内连续照射，则大量记录介质可能起反应。特别地，在记录时，与激光光斑的移动相关联的潜在图像可能保持在完成记录的全息图上(折射光栅)，这导致噪声。

为此，为了实现IS功能，可能需要提供用于执行激光扫描的单元(AOD 4B)和用于通过在空白周期内极大降低激光的透射率来防止记录材料的起反应的光闸(shutter)(AOM 4A)。

在IS功能单元4中，IS控制器4C通过产生偏转角和激光透射率的改变来控制AOM 4A和AOD 4B的驱动，以便实现前述图像稳定功能。更具体地，AOD 4B施加有具有锯齿波形的驱动信号，以便每隔预定间隔获取扫描操作，另一方面，AOM 4A施加有具有方波形的驱动信号，以便使激光在AOD 4B的扫描周期内透射并且使激光在扫描周期之间的空白周期内被阻挡。因此，实现了IS功能。

此外，如图中所示，可以使用机械光闸而不是AOM 4A。

接着，描述用于采用记录/再现激光来控制记录/再现位置的光学系统。

在图5中，位置控制光学系统包括第二激光器20、光栅21、准直透镜22、偏振分束器23、聚光透镜24、透镜25和光接收单元26。

第二激光器20被配置为发出具有波长与从作为光源的第一激光器2发出的记录/再现激光不同的激光。更具体地，在这种情况下，第二激光器20被配置为前述具有大约650nm波长的红光激光。

从第二激光器20发出的光(位置控制激光)通过光栅21→准直透镜22入射到偏振分束器23。

光栅21将从第二激光器20发出的光束分为三束光束，即主光束、第一分光束和第二分光束。三束光束入射到准直透镜22。

此外，在图5中，为了简化图示，采用三束光束的位置控制激光束共同由一个光通量表示。

入射到偏振分束器23的位置控制激光穿过偏振分束器23并入射到分色镜12。

如上所述，分色镜12被配置为反射来自第二激光器20的位置控制激光。类似于前述记录/再现激光，允许由分色镜12反射的位置控制激光通过反射镜13→1/4波片14→物镜15而照射全息图记录介质HM。

这里，在根据本实施例的记录/再现设备中，调整光学系统以使得三束光束中布置在中心的主光束的光轴与通过分色镜12的记录/再现激光的光轴一致。

此外，从描述中可以理解，分色镜12是用于合并同一光轴上的记录/再现激光和主光束并执行在全息图记录介质HM上的照射的器件。

由于反射层L3具有波长选择性，因此允许通过物镜15照射全息图记录介质HM的位置控制激光到达布置为其下层的反射层L5(位置控制信息记录层)。换言之，结果，可以获得反映位置控制信息记录层上形成的凸凹部分(凹槽G或者凹坑)的反射光。允许来自反射层L5的反射光(返回光)通过物镜15返回设备侧。

穿过物镜15的位置控制激光的返回光通过1/4波片14→反射镜13而入射到分色镜12。位置控制激光的返回光由分色镜12反射，而反射的光入射到偏振分束器23。类似于前述偏振分束器9，入射返回光由偏振分束器23反射。结果，允许位置控制激光的返回光通过聚焦镜24→透镜25照射在光接收单元26的光接收表面上，如图中所示。

光接收单元26接收照射位置控制激光的返回光，以获得与全息图记录介质HM的位置控制信息记录层的凸凹部分相对应的接收信号D-pd。

这里，在该实施例中，位置控制激光分为三束光束。光接收单元26包括用于分别接收后面要描述的三束光束的反射光束的三个检测器(光电检测器26M、26S1和26S2)。因此，作为光接收单元26的接收信号D-pd，可以从检测器获得分别接收的信号D-pdM、D-pds1和D-pds2。

可以基于由光接收单元26获得的位置控制激光的接收信号(反射光信号)D-pd，执行根据下文中描述的实施例的光斑位置的精细调整控制和地址信息检测。

此外，下面将描述用于执行根据该实施例的光斑位置的精细调整和地址信息检测的详细结构。

2-2.光斑位置的精细调整的过程

保持记录/再现设备的结构的描述，下文中描述根据本实施例的光斑位置的精细调整的过程。

这里，如以上参照图19所述，在通过使用与全息图记录/再现光不同的光束控制全息图记录/再现位置的情况下，由于例如老化改变或者温度改变可能出现两个光轴之间的失准。此外，在出现这样的光轴之间的失准的情况下，虽然通过使用位置控制激光的反射光来执行诸如跟踪伺服等的位置控制，但是存在不能控制全息图记录/再现位置为沿着期望的凹坑列的精确位置的问题。

换言之，考虑到这一点，在相关技术的全息图记录/再现系统中，在再现时，不能精确地跟踪所记录的全息图列，从而不能适当地执行全息图再现。

此外，在对其中由不同于当前设备的设备执行了记录的盘执行再现的情况下，也可能出现由于两个光轴之间的失准引起的全息图记录位置和再现位置之间失准的问题。例如，在另外的设备中在全息图记录时位置控制光和记录/再现光之间的轴失准量为α的情况下，如果当前设备中的位置控制光和记录/再现光之间的轴失准量为β，则另外的设备所记录的全息图不能由当前设备适当地再现。

因此，在全息图记录/再现系统中，需要提供用于校正全息图记录位置和再现位置之间的失准的过程。

但是，在这里注意到，在全息图再现时，所记录的全息图上的记录/再现光(参考光)的照射位置的极小失准导致折射效率的降低(即，再现光量的减少)。换言之，因此，当执行关于全息图记录位置的再现位置的校正时，可能需要以很高的精度执行调整。

更具体地，调整精度可以设置为例如大约亚微米的精度。

通过将这一点考虑在内，在该实施例中，提出了一种用于光斑位置的精细调整的过程，其非常适合用于执行全息图记录位置和再现位置之间的失准的校正的情况。

首先，参照图7描述用于校正全息图记录位置和全息图再现位置之间的不同的详细过程。

图7A图示了全息图记录位置和全息图再现位置之间的失准。

首先，在如上所述出现全息图记录/再现光和位置控制光之间的轴失准的情况下，在记录时虽然在凹坑列(地址)上执行全息图记录，但是实际记录的全息图列(全息图记录位置)没有形成在目标凹坑列(前述在图19中的状态)上。在这种情况下，如果在再现时两个光轴之间的失准量与记录时的失准量相同，则没有问题。但是，再现时的轴位置失准量不总是与记录时的相同(由于温度改变或者设备之间的差异)。因此，如图7A中所示，即使在通过在再现时跟踪目标凹坑列来执行再现的情况下，实际全息图记录位置和再现位置之间出现失准，则也不能执行适当的再现。

因此，通过一种过程来检测实际记录位置和再现位置之间的失准量，并且在此之后，如图7B中所示，将失准量设置为目标校正量，并将伺服位置偏移校正量。相应地，执行校正以使得记录/再现光的照射位置可以位于实际记录位置处。

这里，如后面描述中所阐述的，在根据本实施例的记录/再现设备中，根据跟踪伺服的记录/再现光的跟踪位置(主光束的跟踪位置)被设置，以便被选择为小于轨道间距的间隔。因此，根据伺服位置的偏移的调整宽度可以被设置为很小。换言之，因此，可以以超过相关技术的光学极限的更高的精确度来执行校正。

这里，在该情况下，可以例如在全息图记录介质HM上形成的槽脊L上执行全息图记录。换言之，在该情况下，在记录时，通过基于中心主光束的反射光的跟踪伺服控制，执行全息图记录，同时允许主光束的照射光斑跟踪槽脊L(理想地，光斑的位置与记录/再现光的照射位置一致)。例如，在槽脊L上执行全息图记录的情况中，径向上的全息图记录间距与所形成的槽脊L的间距(轨道间距)一致。

在这种情况中，认为通过跟踪伺服位置的选择来执行轴位置的精细调整，由于调整宽度可以实现为随着轨道间距变小而更加精细，优选地，将轨道间距减小到例如基本上为光学极限。

但是，在轨道间距减小到基本上为光学极限的情况下，如果执行记录以使得全息图记录间距等于所形成的槽脊L的间距，则全息图记录间距过度减小。通常，全息图记录间距比在DVD情况中可获得的最小轨道间距要宽。因此，如果执行记录以使得(全息图记录间距)＝(轨道间距)，则可能不能适当地再现全息图。

因此，在该实施例中，执行全息图记录以使得记录间距比轨道间距宽。

例如，在径向上适当的全息图记录间距设置为对应于10个轨道的(在该情况中，10个槽脊L)情况中，可以采用在轨道的一个圆周上完成记录、之后在顺序地跳转10个轨道时执行记录的过程来进行全息图记录。换言之，通过重复在轨道的一个圆周上记录→跳转10个轨道→在跳到位置的一个轨道圆周上记录→跳转10个轨道→在跳到位置的一个轨道圆周上记录执行全息图记录。

在采用根据该实施例的全息图记录介质HM的情况下，如果设置(全息图记录间距)＝(轨道间距)，则可能不能执行适当的全息图再现。因此，执行全息图记录以使得径向上的记录间距比轨道间距宽。

因此，可以通过在再现之前执行例如校准来获得实现全息图再现位置的校正所必需的目标校正量。更具体地，如果通过在再现位置附近的位置处关于要再现的轨道(在该情况中为槽脊L)晃动再现位置来指定将获得最大全息图再现光量的位置，则达到该位置的失准量为目标校正量。

此外，在该实施例中，提出了用于执行再现位置的校正的精细调整的过程，但是没有提出用于再现位置的校正的过程。换言之，在该实施例中，提出了用于实现再现位置的校正所必需的再现位置的精细调整的过程。

因此，在该实施例中，可以采用任何过程作为用于获取目标校正量的过程，本发明不限于前述过程。

接着，保持以上描述，参照图8至11详细描述用于再现位置的精细调整的过程。

首先，图8阐明了图5中描述的三束光束(主光束、第一分光束和第二分光束)照射的光斑的位置关系以及全息图记录介质HM上形成的槽脊L和凹槽G。

这里，在下文的描述中，位置控制信息记录层上由主光束照射的光斑由主光束光斑M表示。此外，位置控制信息记录层上由第一分光束照射的光斑由第一分光束光斑S1表示，位置控制信息记录层上由第二分光束照射的光斑由第二分光束光斑S2表示。

如图8中所示，关于主光束光斑M、第一分光束光斑S1和第二分光束光斑S2，主光束光斑M布置在中心部分；第一分光束光斑S1布置在主光束光斑M的左侧；第二分光束光斑S2布置在主光束光斑M的右侧。换言之，第一分光束光斑S1和第二分光束光斑S2布置在在与径向不同的方向上远离主光束光斑M的位置处。

此外，在该实施例中，三个光束光斑的各个半径间隔设置为预定间隔。更具体地，三个光束光斑的各个半径间隔设置为轨道间距(在这种情况下为所形成的槽脊L的间距)的1/3。

在这种情况下，由于轨道间距为2n，如图中所示，第一分光束光斑S1和第二分光束光斑S2相对于主光束光斑M的半径排列间隔每一个均为“2n/3”。

这里，为了更好地理解，在图5中所示的记录/再现设备中，调整光学系统以便实现主光束光斑M、第一分光束光斑S1和第二分光束光斑S2之间的排列间隔。

在该实施例中，关于以前述排列间隔布置的主光束光斑M、第一分光束光斑S1和第二分光束光斑S2，分别在光斑位置处生成跟踪误差信号。

更具体地，生成基于来自主光束光斑M的反射光的跟踪误差信号TE-m、基于来自第一分光束光斑S1的反射光的跟踪误差信号TE-s1和基于来自第二分光束光斑S2的反射光的跟踪误差信号TE-s2。

图9A示出了一组主光束光斑M、第一分光束光斑S1和第二分光束光斑S2根据图5中所示的跟踪调节器16A的驱动在位置控制信息记录层上在径向上运动的行为，图9B示出了根据径向上的运动而获得的跟踪误差信号TE-m、TE-s1和TE-s2之间的关系。

此外，图9A还在一个页面中示出了在径向上运动的一组光斑M、S1和S2处于其运动位置中的状态。

此外，在图9A和9B之后的图中，为了简化图示，光斑M、S1和S2的形状选择为椭圆形。

这里，如果考虑基于一个光斑的反射光生成的跟踪误差信号TE，则在光斑的中心与槽脊L的中心一致的状态下跟踪误差信号TE的振幅值为0，从而根据光斑从槽脊L和凹槽G之间的边界到凹槽G的中心的运动，振幅值从最大峰值变为0。此外，根据光斑从槽脊L和凹槽G之间的边界到槽脊L的中心的运动，振幅值从最小值变为0。

换言之，在这种情况下，对于跟踪误差信号TE，其一个波形周期可以通过槽脊L之间的一次横越来获得(横越一个轨道)。

此时，如果跟踪误差信号TE的一个波形周期用相位0°到360°代表，则可以将跟踪误差信号TE的振幅值为最大峰值的槽脊L和凹槽G之间的边界定义为具有相位90°的位置。类似地，可以分别将跟踪误差信号TE的振幅值再次变为0的凹槽G的中心以及跟踪误差信号TE的振幅值为最小峰值的凹槽G和槽脊L之间的边界定义为具有相位180°的位置以及具有相位270°的位置。

以这种方式，槽脊L之间的位置可以定义为具有0°到360°相位的任意一个位置。以下，可以基于跟踪误差信号TE的相位定义的、与槽脊L(轨道)之间的位置对应的0°到360°相位称为“轨道相位”。例如，0°(＝360°)的轨道相位表示槽脊L的中心，而180°的轨道相位表示凹槽G的中心。

这里，在该实施例中，光束光斑M、S1和S2在径向上彼此分开1/3轨道间距(所形成的槽脊L的间距)。换言之，按照轨道相位，可以将三个光束光斑限定为使得光束光斑被布置为移位120°轨道相位。

因此，当光束光斑M、S1和S2的组合如图9A中所示地在径向上运动时，跟踪误差信号TE-m、TE-s1和TE-s2的相位如图9B中所示地移位120°。

更具体地，在图9A中，由于图中光束光斑M、S1和S2的组合在向右方向上运动，因此布置在主光束光斑M的左边的第一分光束光斑S1的跟踪误差信号TE-s1具有落后于跟踪误差信号TE-m的相位120°的相位。此外，布置在主光束光斑M的右边的第二分光束光斑S2的跟踪误差信号TE-s2具有超前跟踪误差信号TE-m的相位120°的相位。

此外，由于光束光斑M、S1和S2被配置为其相位移位120°轨道相位，因此可以获得以下功能。

这里，图9A示出了主光束光斑M的中心根据在径向上的运动而位于0°、120°、240°和360°轨道相位的位置处的状态。由于光束光斑M、S1和S2被布置为移位120°轨道相位，因此在主光束光斑M位于120°轨道相位的位置(即，轨道间距1/3的位置)处的状态下，第一分光束光斑S1的中心与0°轨道相位的位置(即槽脊L的中心)一致。此外，在主光束光斑M位于240°轨道相位的位置(即，轨道间距2/3的位置)处的状态下，第二分光束光斑S2的中心与360°(＝0°)轨道相位的位置(即槽脊L的中心)一致。

从这一关系可以理解，在该实施例中，基于从第一分光束光斑S1的反射光生成的跟踪误差信号TE-s1来施加跟踪伺服，以使得第一分光束光斑S1的中心与槽脊L的中心一致，从而可以获得主光束光斑M的位置追踪120°轨道相位的位置的状态。

类似地，基于从第二分光束光斑S2的反射光生成的跟踪误差信号TE-s2施加跟踪伺服，以使得第二分光束光斑S2的中心与槽脊L的中心一致，从而可以获得主光束光斑M的位置追踪240°轨道相位的位置的状态。

此外，如果基于从主光束光斑M的反射光生成的跟踪误差信号TE-m执行跟踪伺服，则主光束光斑M的中心可以追踪槽脊L的中心。

结果，通过采用从三个光束光斑M、S1和S2的反射光束生成三种类型的跟踪误差信号TE-m、TE-s1和TE-s2，从跟踪误差信号TE中选择一个跟踪误差信号TE，并且基于所选择的跟踪误差信号TE来施加跟踪伺服的过程，主光束光斑M的跟踪位置可以选择为将轨道间距划分为三个部分的位置中的任意位置。换言之，因此，可以实现比超过相关技术的光学极限的宽度更精细的调整宽度。

这里，例如，在校准以获得目标校正量时，通过关于要再现的轨道晃动要通过轨道跟踪误差TE的选择而选择的全息图再现位置来计算将获得最大再现光量的再现位置(由轨道的数目和轨道的相位指定)。接着，采用要再现的轨道和所获得的位置之间的轨道数目以及轨道相位的失准量作为目标校正量。

换言之，由于要选择的轨道跟踪误差TE根据目标校正量的信息确定，因此如果基于跟踪误差信号TE执行跟踪伺服，则可以以比超过轨道间距的精确度更精细的调整宽度自动实现全息图再现位置的调整(校正)。

包括反相信号的总共六种类型的跟踪误差信号的生成

前述三种类型跟踪误差信号TE-m、TE-s1和TE-s2的选择基本上用于再现位置的选择。此外，在该实施例中，如后面图10中所示，生成了三种类型跟踪误差信号TE-m、TE-s1和TE-s2的反相信号。因此，获得了总共六种类型的跟踪误差信号TE。接着，从六种类型的跟踪误差信号TE中选择一种跟踪误差信号TE，并且执行跟踪伺服。结果，可以通过采用使得轨道间距划分为6个部分的位置作为要再现的位置来执行再现位置的选择。

如图10中所示，跟踪误差信号TE-m的反相信号用跟踪误差信号TE-mo表示。此外，跟踪误差信号TE-s1的反相信号用跟踪误差信号TE-s1o表示，而跟踪误差信号TE-s2的反相信号用跟踪误差信号TE-s2o表示。

这里，反相信号与原始信号具有反相的关系。换言之，与原始信号的相位差为180°。

从这里可以理解，如果基于跟踪误差信号TE-mo执行跟踪伺服，则主光束光斑M的位置设置为从基于原始信号(即跟踪误差信号TE-m)执行跟踪伺服的情况中的轨道相位0°移位轨道相位180°的位置。

此外，如果基于跟踪误差信号TE-s1o执行跟踪伺服，则主光束光斑M的位置设置为从基于原始信号(即跟踪误差信号TE-s1)执行跟踪伺服的情况中的轨道相位120°移位180°的轨道相位300°的位置。

类似地，如果基于跟踪误差信号TE-s2o执行跟踪伺服，则主光束光斑M的位置设置为从基于原始信号(即跟踪误差信号TE-s2)执行跟踪伺服的情况中的轨道相位240°移位180°的轨道相位60°的位置。

图11示出了在选择前述六种类型的跟踪误差信号TE的情况下的光斑位置。

如图11中所示，通过从六种类型的跟踪误差信号TE中选择一种跟踪误差信号TE并执行跟踪伺服，主光束光斑M的位置可以从0°(360°)、60°、120°、180°、240°和300°轨道相位的位置中选择。

更具体地，可以通过跟踪误差信号TE-m的选择来选择0°(360°)轨道相位的位置；可以通过跟踪误差信号TE-s2o的选择来选择60°轨道相位的位置；可以通过跟踪误差信号TE-s1的选择来选择120°轨道相位的位置；可以通过跟踪误差信号TE-mo的选择来选择180°轨道相位的位置；可以通过跟踪误差信号TE-s2的选择来选择240°轨道相位的位置；并且可以通过跟踪误差信号TE-s1o的选择来选择300°轨道相位的位置。

利用地址信息读取的光斑的选择

这里，在如图12中所示地选择迹线位置的情况中，光束光斑和形成了凹坑地槽脊L之间的位置关系根据所选择的迹线位置而改变。

因此，为了读取槽脊L上记录的地址信息，必须根据所选择的迹线位置(误差信号TE)来选择用于地址读取的光斑。

图12示出了所选择的跟踪误差信号TE和用于地址读取的光斑之间的关系。

在图12中，示出了在基于所选择的跟踪误差信号TE执行跟踪伺服时六种类型的跟踪误差信号TE和光斑(M、S1和S2)的轨道之间的关系，并且在图中用着色的光斑示出了用于地址信息读取的光斑。

如图12中所示，预先确定了“所选择的跟踪误差信号TE”和“要用于地址信息读取的光斑”之间的关系。

在根据本实施例的记录/再现设备中，基于预定关系的信息来执行采用与从前述目标校正量中选择的跟踪误差信号TE相对应的光斑的反射光信号的地址信息读取(和时钟生成)。

这里，如参照图12所理解的，根据所选择的跟踪误差信号TE，可以存在用于地址读取的两个光斑。在选择与设置了要用于地址读取的两个或者更多个光斑的情况相对应的跟踪误差信号TE的情况中，两个光斑的反射光信号中具有良好信号质量的信号用于地址读取(和时钟生成)。

2-3.用于光斑位置控制的结构

接着，描述用于实现根据上述实施例的光斑位置控制(精细调整过程)的结构。

图13主要仅示出了从根据该实施例的记录/再现设备的内部结构中抽取的用于执行光斑位置控制的信号处理系统的结构。

首先，在图13中，虽然示出了图5中示出的光学拾波器OP中的光接收单元26，但是光接收单元26被提供有主光电检测器26M、第一子光电检测器26S1和第二子光电检测器26S2。主光电检测器26M接收照射全息图记录介质HM的主光束的反射光。此外，第一子光电检测器26S1接收照射全息图记录介质HM的第一分光束的反射光，类似地，第二子光电检测器26S2接收照射全息图记录介质HM的第二分光束的反射光。

在该实施例中，主光电检测器26M、第一子光电检测器26S1和第二子光电检测器26S2的每个均用4划分检测器构造。

在光学拾波器OP之外，布置有接收信号D-pdM从主光电检测器26M向其输入的主信号生成电路30、接收信号D-pdS1从第一子光电检测器26S1向其输入的第一信号生成电路31和接收信号D-pdS2从第二子光电检测器26S2向其输入的第二信号生成电路32。

此外，在光学拾波器OP之外，布置有反相电路33、反相电路34、反相电路35、选择器36、地址检测/时钟生成电路37、伺服电路38和控制器39。

主信号生成电路30基于作为接收信号D-pdM的来自主光电检测器26M的光接收装置的接收信号，生成为生成地址信息和生成时钟所必需的和信号、跟踪误差信号TE和聚焦误差信号FE。

更具体地，和信号成为光接收装置的接收信号的和信号。此外，生成推挽信号作为跟踪误差信号TE。

从以上描述中可以理解，主信号生成电路30生成的跟踪误差信号TE为跟踪误差信号TE-m。如图所示，跟踪误差信号TE-m施加到选择器36和反相电路33。

此外，主信号生成电路30生成的和信号称为sum-M信号。sum-M信号施加到地址检测/时钟生成电路37。

此外，聚焦误差信号FE施加到伺服电路38。

第一信号生成电路31基于作为接收信号D-pdS1的来自第一光电检测器26S1的光接收装置的接收信号来生成和信号和跟踪误差信号TE。

第一信号生成电路31生成的跟踪误差信号TE成为前述跟踪误差信号TE-s1。如图所示，跟踪误差信号TE-s1施加到选择器36和反相电路34。

此外，第一信号生成电路31生成的和信号称为sum-S1信号。sum-S1信号施加到地址检测/时钟生成电路37。

第二信号生成电路32基于作为接收信号D-pdS2的第二光电检测器26S2的光接收装置的接收信号，生成和信号及跟踪误差信号TE。

第二信号生成电路32生成的跟踪误差信号TE成为前述跟踪误差信号TE-s2。跟踪误差信号TE-s2施加到选择器36和反相电路35。

此外，第二信号生成电路32生成的和信号称为sum-S2信号。sum-S2信号施加到地址检测/时钟生成电路37。

反相电路33、34、35的每一个将所施加的跟踪误差信号TE-m、TE-s1及TE-s2的极性反相，以将反相信号施加到选择器36。因此，六种类型的跟踪误差信号TE(即跟踪误差信号TE-m、TE-mo、TE-s1、TE-s1o、TE-s2和TE-s2o)施加到选择器36。

选择器36从六种类型的跟踪误差信号TE中选择并输出由控制器39指示的一个跟踪误差信号TE。由选择器36选择并输出的跟踪误差信号TE施加到伺服电路38。

伺服电路38基于选择器36选择和输出的跟踪误差信号TE来执行伺服操作以生成跟踪伺服信号，并将基于跟踪伺服信号生成的跟踪驱动信号TD施加到光学拾波器OP中的跟踪调节器16A(参照图5)。

基于跟踪驱动信号TD来控制跟踪调节器16A的驱动，以使得允许主光束光斑M跟踪如图12中所示的轨道间距的6个分出位置中的任何一个。

此外，响应于来自控制器39的轨道跳转指令，伺服电路38关断跟踪伺服回路以输出跳转脉冲作为跟踪驱动信号TD，从而执行轨道间的跳转操作(在该情况中，在槽脊L之间)。

此外，伺服电路38基于从前述主信号生成电路30施加的聚焦误差信号FE来执行伺服操作以生成聚焦伺服信号。因此，伺服电路38通过将聚焦驱动信号FD施加到光学拾波器OP中的聚焦调节器16B来执行聚焦伺服控制。

此外，虽然图中省略了，但是如上所述，在实际情况中提供了用于在跟踪方向上移动整个光学拾波器OP的螺纹机构，伺服电路38根据基于跟踪误差信号TE或者控制器39的搜索操作控制而生成的螺纹误差信号来控制螺纹机构的驱动，以使得整个光学拾波器OP在跟踪方向上移动。

地址检测/时钟生成电路37基于sum-M信号、sum-S1信号以及sum-S2信号来检测(读取)全息图记录介质HM的位置控制信息记录层上记录的地址信息，并生成时钟。

根据来自控制器39的命令从sum-M信号、sum-S1信号以及sum-S2信号中选择一个和信号，并且基于所选择的和信号来执行地址信息检测和时钟生成。

这里，如以上参照图4所述，在该实施例的情况下，记录表示在槽脊L上以预定间隔设置的凹坑可形成位置处的凹坑存在与否的1信道位信息作为地址信息。因此，地址检测/时钟生成电路37通过执行预定间隔的凹坑可形成位置处的凹坑存在与否识别(H/L识别)，来执行对于所选择的和信号中的1信道位的“0”和“1”的数据识别。接着，地址检测/时钟生成电路37通过基于其结果并根据以上参照图4所述的格式执行地址解码处理，来检测(读取)记录的地址信息。由地址检测/时钟生成电路37获得的地址信息施加到控制器39。

此外，通过利用所选择的一个和信号作为输入信号(参考信号)执行PLL处理来生成时钟。虽然没有示出，但是地址检测/时钟生成电路37生成的时钟作为操作时钟施加到必要的部件。

控制器39被配置为包括例如CPU(中央处理单元)、ROM(只读存储器)、RAM(随机存取存储器)等的微型计算机。控制器39通过基于存储在例如ROM等内的程序来执行计算处理和控制处理而控制整个记录/再现设备。

例如，控制器39通过控制选择器36和伺服电路38来执行全息图记录/再现位置控制。

更具体地，在全息图记录时，如上所述地执行用于在径向上优化全息图记录间距的记录控制处理。更具体地，例如，如上所述，执行重复在一个轨道圆周上记录→跳转10个轨道→在跳到位置的一个轨道圆周上记录→跳转10个轨道→在跳到位置的一个轨道圆周上记录的控制。

此外，目标位置根据要针对全息图记录介质HM记录或者再现数据的状态指定，并执行搜索操作控制。

这里，所指定的“目标位置”是径向上的位置，其反映了通过预先执行的校准所获得的“目标校正量”。换言之，虽然使主光束光斑M的位置与要再现的地址(即，数据记录地址：槽脊L)一致，但是由于实际再现位置(记录/再现光的位置)可能与实际记录位置失准，如以上图7A中所示，因此与要再现的地址偏离预先通过校准获得的目标校正量的位置被设置为“目标位置”。通过对所设置的“目标位置”执行搜索操作控制，可以校正实际记录位置和再现位置之间的失准。

在指定“目标位置”之后，在以下过程中例如执行搜索操作控制。

1)通过整个光学拾波器OP的移动而移动到目标位置附近

2)聚焦伺服开

3)利用主光束光斑M的跟踪误差信号来引导跟踪伺服

4)可以通过施加3)中的跟踪伺服来读取地址(径向位置)，从而根据地址和“目标位置”之间的误差来执行跟踪误差信号TE的轨道跳转和重新选择。

控制器39指示伺服电路38以执行操作1)和2)。此外，为了实现操作3)，控制器39指示选择器36选择跟踪误差信号TE-m，并指示伺服电路38开始引导跟踪伺服。

此外，为了实现操作4)，控制器39输入操作3)中由地址检测/时钟生成电路37根据跟踪伺服的应用而检测到的地址信息，基于该地址信息计算为了跳转到“目标位置”所必需的跳转轨道的数目，并且指示伺服电路38执行计算出的跳转轨道的数目的轨道跳转操作。此外，在这种情况下，由于通过利用跟踪误差信号TE-m来执行轨道伺服的引导以使得主光束光斑M与轨道相位0°的位置(槽脊L的中心)一致，因此控制器39指示选择器36选择与“目标位置”相对应的跟踪误差信号TE。换言之，从以上描述中可以理解，由于“目标位置”是表示相对于要再现的轨道(槽脊L的中心)的失准轨道数目和失准的轨道相位的量(即，要选择的跟踪误差信号TE的差)的信息，因此在执行轨道跳转之后，还指示根据“目标位置”的跟踪误差信号TE的选择。

此外，为了更好的理解，为了从地址读取位置跳转到“目标位置”所必需的跳过轨道的数目可以是“0”。此外，“目标位置”的跟踪相位可以是0°(在槽脊L的中心)。因此，在操作4)中，如果需要，可以执行轨道跳转或者跟踪误差信号TE的重新选择。

此外，在该实施例的情况中，没有沿着每个轨道的圆周执行全息图记录，而是如上所述，沿着多个圆周执行记录以便实现适当的间距。

换言之，因此，控制器39对“目标位置”执行搜索操作控制，并且之后通过采用与记录时相同的方法来控制要移动的光斑的位置。更具体地，在采用用于在每次完成一个圆周记录时执行轨道跳转的记录过程的情况下，控制器39控制伺服电路38每次完成一个圆周再现时在预定时刻执行轨道跳转。

此外，控制器39还指示地址检测/时钟生成电路37选择与选择器36所选择的跟踪误差信号TE相对应的和信号。控制器39指示地址检测/时钟生成电路37基于表示以上参照图13描述的跟踪误差信号TE和要采用的光斑(sum-M、sum-S1以及sum-S2中的任意一个)之间的预定关系的信息，选择与选择器36所选择的跟踪误差信号TE相对应的和信号。

此外，如上所述，根据所选择的跟踪误差信号TE，可以存在要采用的两个光斑(和信号)。因此，在这种情况下，控制器39指示地址检测/时钟生成电路37选择两个和信号。

在指示地址检测/时钟生成电路37选择两个和信号的情况中，从信号中选择具有良好信号质量的信号。更具体地，地址检测/时钟生成电路37监视所指示的两个和信号，以选择具有良好信号质量的一个和信号。

3.实施例的总结

在上述实施例中，给定以下条件。

1)采用在径向上交替形成具有相等宽度的凹槽G和槽脊L的全息图记录介质HM。

2)位置控制激光的三束分出光束的光束光斑的半径间隔设置为全息图记录介质HM的轨道间距(在这种情况下，所形成的槽脊L的间距)的1/3。

3)分别接收三个分出光束，从而生成与光束对应的跟踪误差信号TE。

4)基于所确定的校正量的信息从生成的误差信号TE中选择一个误差信号TE，并基于所选择的误差信号TE施加跟踪伺服。

在满足条件1)和2)的情况下，如果通过采用从分光束中的第一分光束的接收信号生成的跟踪误差信号TE-s1来执行跟踪伺服，则主光束光斑M的中心被配置为跟踪从第一分光束跟踪轨道的光斑S1的中心移位1/3轨道间距的位置。另一方面，如果通过采用从第二分光束的接收信号生成的跟踪误差信号TE-s2来执行跟踪伺服，则主光束光斑M的中心被配置为跟踪从第二分光束跟踪轨道的光斑S2的中心移位1/3轨道间距的位置。此外，如果通过采用从主光束的接收信号生成的跟踪误差信号TE-m来执行跟踪伺服，则主光束光斑M的中心被配置为跟踪轨道的中心。

以这种方式，关于主光束光斑M的跟踪位置，有三种状态可以选择，即：主光束光斑M的中心跟踪轨道的中心的状态，主光束光斑M的中心跟踪在一个方向上从轨道的中心移位1/3轨道间距的位置的状态，以及主光束光斑M的中心跟踪在另一个方向上从轨道的中心移位1/3轨道间距的位置的状态。换言之，通过选择用于跟踪伺服的跟踪误差信号，可以以1/3轨道间距的精细宽度来选择主光束光斑M的跟踪位置。

此外，在该实施例中，从光束光斑M、S1和S2处的反射光束生成跟踪误差信号TE-m、TE-s1和TE-s2，并且还生成跟踪误差信号TE-mo、TE-s1o和TE-s2o作为其反相信号(相位反转的信号)，从而生成总共六种类型的跟踪误差信号TE。接着，通过从六种类型的跟踪误差信号TE中选择一个跟踪误差信号，可以以1/6轨道间距的精细宽度来选择主光束光斑M的跟踪位置。

根据该实施例，全息图记录/再现光的跟踪位置可以控制在超过相关技术中的光学极限的精细单位，诸如1/3或者1/6轨道间距等。

此外，根据该实施例，可以通过基于位置控制光的跟踪伺服来执行全息图记录/再现光的跟踪位置的调整。换言之，可以采用设置为实现跟踪伺服的跟踪控制机构(在这种情况下，图5中所示的跟踪调节器16A)，作为用于调整全息图记录/再现光的跟踪位置的调整机构。因此，与相关技术不同，可以不向全息图记录/再现光侧单独提供轴位置调整机构。因此，换言之，与相关技术中的情况相比可以降低设备的生产成本。

此外，在该实施例中，当位置控制光的波长设置为λ时，凹坑的深度和凹槽G的深度可以设置为λ/4和λ/8。但是，因此可以提高跟踪误差信号TE的振幅，并且可以改善信号质量。

换言之，因此可以实现更稳定的跟踪伺服。

此外，在该实施例中，在轨道形成方向(圆周方向)上的具有预定间隔的位置被设置为凹坑可形成位置之后，地址信息以凹坑存在与否图案记录在凹坑可形成位置处。因此，例如，与通过组合凹坑和空间的长度来记录信息的情况相比，可以形成短凹坑以便分散。结果，可以极大地减少在通过凹坑时在跟踪误差信号TE中生成的噪声分量。换言之，因此可以改善跟踪误差信号TE的质量，从而可以稳定跟踪伺服。

4.修改示例

虽然此前参照实施例描述了本发明，但是本发明不限于上述实施例。

例如，本发明可以如下配置为图14中所示的修改示例。

图14主要仅示出了从根据修改示例的记录/再现设备的内部结构中抽取的用于实现位置控制的信号处理系统的结构。

此外，由于根据修改示例的记录/再现设备的结构中的全息图记录/再现系统和位置控制光学系统的结构与以上实施例(图5)中描述的结构相同，因此省略其描述。

此外，在图14中，与图13中描述的前述元件相同的元件用相同的参考标号表示，并且省略其描述。

根据修改示例的记录/再现设备可以以比轨道间距的1/6的宽度更精细的单位执行位置控制。

如图14中所示，根据该修改示例的记录/再现设备与图13中所示的记录/再现设备的不同在于，选择器36选择并且输出的跟踪误差信号TE通过加法器40施加到伺服电路38。

提供加法器40，以便向跟踪误差信号TE添加必要的偏移。在这种情况下，加法器40加到跟踪误差信号TE上的偏移值由控制器39指示。此外，在这种情况下，由于向跟踪误差信号TE添加了偏移，因此加法器40输入有具有负极性的偏移值。换言之，加法器40用作减法器。

在这种情况下，控制器39向加法器40分配偏移值，偏移值被确定为使得主光束光斑M的移动量(全息图再现位置的移动量)不超过1/6轨道间距的宽度。因此，可以以比1/6轨道间距的宽度更精细的精度执行再现位置调整。

这里，在以比1/6轨道间距更精细的精度执行调整的情况下，在为再现执行的校准中获得的“目标校正量”可以以比1/6轨道间距的宽度更精细的单位设置。更具体地，在这种情况下，在校准中，全息图再现位置通过跟踪误差信号TE的选择，以1/6跟踪间距的宽度移动，并且根据1/6轨道间距的位置(轨道相位)的状态，在根据偏移值移动的位置处检测全息图再现光量。换言之，在这种情况下，“目标校正量”是表示与要再现的地址(槽脊L的中心)的轨道失准的数目、所选择的跟踪误差信号TE以及偏移值的组合的信息。

因此，控制器39根据校准中获得的“目标校正量”来计算目标地址(槽脊L)、要选择的跟踪误差信号TE和由偏移值表示的“目标位置”，并且之后执行前述搜索操作控制和向加法器40分配偏移值，以使得主光束光斑M位于“目标位置”处。

因此，可以以比超过1/6轨道间距的宽度的情况中更精细的精度执行再现位置调整，从而可以以更高的精度执行实际记录位置和再现位置之间的失准的校正。

此外，这里，在以将偏移分配给跟踪误差信号TE为示例的情况中，偏移可以分配给跟踪伺服回路。例如，偏移可以分配给跟踪驱动信号TD。

在这种情况下，分配给跟踪驱动信号TD的偏移的极性可以设置为与偏移分配给跟踪误差信号TE的情况中的极性不同。

此外，在之前的描述中，以对槽脊L执行地址信息记录的情况为示例，可以对凹槽G执行地址信息记录。

此外，在之前的描述中，通过采用从中心主光束的反射光生成的聚焦误差信号FE来执行聚焦伺服。但是，例如，在执行更精确的聚焦伺服的情况中，可以根据划分轨道的位置将偏移分配给聚焦伺服回路。

换言之，在通过采用与中心主光束相对应的聚焦误差信号FE来执行聚焦伺服的情况中，在除了轨道中心(轨道相位0°)的位置以外的位置处可能出现实际聚焦点和理想聚焦点之间的误差。因此，在这种情况下，例如，对于除了轨道中心的位置以外的位置，可以向聚焦伺服回路分配根据位置预定的偏移。

此外，在以上描述中，用于位置控制的光束光斑的数目示例性的设置为3。但是，例如，如后面图15中所示，可以采用5个光束光斑。

更具体地，在这种情况下，采用通过光栅获得的0阶光束(主光束光斑)和1阶光束(侧光束光斑)，此外还可以采用2阶光束。5个光束光斑可以用光束光斑SL2、SL1、M(主)、SR1和SR2顺序地从内圆周侧向外表示。此外，在图中示出了光束光斑的中心(黑色圆圈)。

在这种情况中，如图中所示，如果设置为轨道间距＝2n，则在径向上5个光束光斑之间的间隔设置为“2n/5”。

在采用以2n/5的间隔排列5个光斑的情况下，图16中示出了根据径向上的光斑移动的跟踪误差信号的波形。在图16中，跟踪误差信号TE-m、TE-sl1、TE-sl2、TE-sr1和TE-sr2通过分别从光束光斑M、SL2、SL1、SR1和SR2接收反射光光束而生成。

如图中所示，跟踪误差信号TE之间的相位差为360°÷5＝72°。

在这种情况下，可以从通过将轨道间距划分为5个部分所获得的位置中选择再现位置。更具体地，再现位置可以调整为根据跟踪误差信号TE-m的选择的轨道相位0°的位置、根据跟踪误差信号TE-sl1的选择的轨道相位72°的位置、根据跟踪误差信号TE-sl2的选择的轨道相位144°的位置、根据跟踪误差信号TE-sr2的选择的轨道相位216°的位置和根据跟踪误差信号TE-sr1的选择的轨道相位288°的位置。

此外，在类似于以上情况采用5个光斑的情况下，可以适用采用反向信号的过程。例如，如果跟踪误差信号TE-m、TE-sl1、TE-sl2、TE-sr1和TE-sr2的反相信号用跟踪误差信号TE-mo、TE-sl1o、TE-sl2o、TE-sr1o和TE-sr2o表示，则10种类型的跟踪误差信号TE的相位如下。即，当跟踪误差信号TE-m的相位设置为0时，TE-sr2o＝36°、TE-sl1＝72°、TE-sr1o＝108°、TE-sl2＝144°、TE-mo＝180°、TE-sr2＝216°、TE-sl1o＝252°、TE-sr1＝288°以及TE-sl2o＝324°。

因此，在该情况下，再现位置可以调整为根据跟踪误差信号TE-m的选择的轨道相位0°的位置、根据跟踪误差信号TE-sr2o的选择的轨道相位36°的位置、根据跟踪误差信号TE-sl1的选择的轨道相位72°的位置、根据跟踪误差信号TE-sr1o的选择的轨道相位108°的位置、根据跟踪误差信号TE-sl2的选择的轨道相位144°的位置、根据跟踪误差信号TE-mo的选择的轨道相位180°的位置、根据跟踪误差信号TE-sr2的选择的轨道相位216°的位置、根据跟踪误差信号TE-sl1o的选择的轨道相位252°的位置、根据跟踪误差信号TE-sr1的选择的轨道相位288°的位置和根据跟踪误差信号TE-sl20的选择的轨道相位324°的位置。换言之，从这里可以清楚地理解，在这种情况下，可以以1/10倍轨道间距的精度精细地调整再现位置。

此外，虽然这里以光斑的数目设置为5个的情况作为示例，但是根据本发明的用于光斑位置控制的位置控制光(第二光)的光斑数目不限于3个或者5个。如果采用至少多个光斑，则可以通过采用比轨道间距小的调整宽度来执行再现位置调整。

此外，即使在光斑的数目不设置为3的情况下，也可以通过类似地像前述修改示例分配偏移来执行更精细的调整。

此外，在之前的描述中，以根据本发明的光斑位置控制设备应用于全息图记录/再现设备的情况为示例。如果设备被配置为通过第一光的照射来执行信息再现(和记录)并通过基于第二光的照射结果使用第一光来控制再现(和记录)位置，则根据本发明的光斑位置控制设备还可以适当地用于其它设备。

本申请包含与2009年4月10日向日本专利局提交的日本在先专利申请JP 2009-095990中公开的主题有关的主题，所述日本在先专利申请的整体内容通过引用合并于此。

本领域的技术人员应该理解，根据设计要求和其他因素，可以进行各种修改、组合、子组合和改变，只要这些修改、组合、子组合和改变在所附权利要求或其等同内容的范围内。

Claims (5)

1.一种光斑位置控制设备，包括：

第一光源；

第二光源；

分束器，所述分束器将从所述第二光源发出的光束分为m束光束；

光学系统，所述光学系统使从所述第一光源发出的第一光束和由所述分束器生成的所述m束光束通过共同物镜照射盘形记录介质，其中在所述盘形记录介质的径向上交替形成具有相等宽度的凹槽和槽脊，以使得所述凹槽形成为螺旋形状或者同心形状，其中所述光学系统使所述m束光束照射所述盘形记录介质，以使得照射所述盘形记录介质的所述m束光束的照射光斑在所述径向上的间隔为所述盘形记录介质上的轨道的间距的1/m，所述轨道根据所述凹槽的形成而在所述盘形记录介质上形成；

跟踪控制机构，所述跟踪控制机构被配置为通过在所述径向上改变通过所述物镜照射的光束的光轴和所述盘形记录介质之间的相对位置关系来对通过所述物镜照射的光束执行跟踪控制；

光接收单元，所述光接收单元从所述盘形记录介质分别接收通过所述物镜照射的m束光束；

误差信号生成单元，所述误差信号生成单元基于由所述光接收单元获得的接收信号来生成跟踪误差信号，所述跟踪误差信号表示所述m束光束的光斑位置相对于所述盘形记录介质上形成的轨道的径向位置误差；

误差信号选择器，所述误差信号选择器从由所述误差信号生成单元生成的所述跟踪误差信号中选择至少一个跟踪误差信号；以及

伺服控制器，所述伺服控制器基于所述误差信号选择器选择的跟踪误差信号来控制所述跟踪控制机构，以执行对通过所述物镜照射的光束的跟踪伺服，

其中，在所述盘形记录介质中，在所述凹槽或者槽脊的任意一个上在圆周方向上以预定间隔分隔的位置被设置为凹坑可形成位置，并且根据所述凹坑可形成位置处的凹坑存在与否的图案来执行地址信息记录，

其中所述光斑位置控制设备还包括：

凹坑存在与否反映信号生成单元，所述凹坑存在与否反映信号生成单元基于由所述光接收单元获得的接收信号来生成反映所述凹坑存在与否的凹坑存在与否反映信号；以及

地址检测单元，所述地址检测单元基于所述凹坑存在与否反映信号、通过检测凹坑可形成位置处的所述凹坑存在与否的图案来执行地址信息检测。

2.根据权利要求1所述的光斑位置控制设备，还包括反相信号生成单元，所述反相信号生成单元生成由所述误差信号生成单元生成的跟踪误差信号的反相信号，

其中所述误差信号选择器从由所述误差信号生成单元和所述反相信号生成单元生成的跟踪误差信号中选择一个跟踪误差信号。

3.根据权利要求1所述的光斑位置控制设备，还包括偏移分配单元，所述偏移分配单元基于指定的校正量的信息向跟踪伺服回路分配偏移。

4.根据权利要求1所述的光斑位置控制设备，

其中所述凹坑存在与否反映信号生成单元从所述光接收单元获得的所述接收信号生成所述凹坑存在与否反映信号，所述凹坑存在与否反映信号反映所述m束光束的光斑位置处的凹坑存在与否，并且

其中所述地址检测单元基于根据所述误差信号选择器选择的跟踪误差信号而从由所述凹坑存在与否反映信号生成单元生成的所述凹坑存在与否反映信号中选择的一个凹坑存在与否反映信号，来执行所述地址信息检测。

5.一种光斑位置控制设备中的光斑位置控制方法，所述光斑位置控制设备包括：第一光源；第二光源；分束器，所述分束器将从所述第二光源发出的光束分为m束光束；光学系统，所述光学系统使从所述第一光源发出的第一光束和由所述分束器生成的所述m束光束通过共同物镜照射盘形记录介质，其中在所述盘形记录介质的径向上交替形成具有相等宽度的凹槽和槽脊，以使得所述凹槽形成为螺旋形状或者同心形状，其中所述光学系统使所述m束光束照射所述盘形记录介质，以使得照射所述盘形记录介质的所述m束光束的照射光斑在所述径向上的间隔为所述盘形记录介质上的轨道的间距的1/m，所述轨道根据所述凹槽的形成而在所述盘形记录介质上形成；以及跟踪控制机构，所述跟踪控制机构被配置为通过在所述径向上改变通过所述物镜照射的光束的光轴和所述盘形记录介质之间的相对位置关系来对通过所述物镜照射的光束执行跟踪控制，所述光斑位置控制方法包括以下步骤：

从所述盘形记录介质接收通过所述物镜照射的m束光束；

基于通过所述接收获得的接收信号来生成跟踪误差信号，所述跟踪误差信号表示所述m束光束的光斑位置相对于在所述盘形记录介质上形成的轨道的径向位置误差；

从所生成的所述跟踪误差信号中选择至少一个跟踪误差信号；以及

基于所选择的跟踪误差信号来控制所述跟踪控制机构以执行对通过所述物镜照射的所述光束的跟踪伺服，

其中，在所述盘形记录介质中，在所述凹槽或者槽脊的任意一个上在圆周方向上以预定间隔分隔的位置被设置为凹坑可形成位置，并且根据所述凹坑可形成位置处的凹坑存在与否的图案来执行地址信息记录，

其中所述光斑位置控制方法还包括：

基于通过所述接收获得的接收信号来生成反映所述凹坑存在与否的凹坑存在与否反映信号；以及

基于所述凹坑存在与否反映信号、通过检测凹坑可形成位置处的所述凹坑存在与否的图案来执行地址信息检测。

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