CN101833201A - 扫描线序号的标注方法和掩膜板 - Google Patents

Abstract

本发明实施例公开了一种扫描线序号的标注方法和掩膜板，涉及液晶显示器技术领域，解决了当液晶面板的尺寸较大时，无法通过数据扫描线的序号准确定位像素点的问题。在对光刻胶进行曝光时，在扫描线对应位置的旁边形成线编号的光刻胶保留图案、以及光刻胶保留区域；在所述光刻胶保留区域打码形成区域编号的光刻胶保留图案；对经过曝光和打码的光刻胶进行显影处理，并刻蚀掉显影处理后露出的金属；剥离剩余的光刻胶以露出线编号和区域编号。本发明实施例主要用在液晶面板的生产中，特别是用在大尺寸的液晶面板生产。

Description

扫描线序号的标注方法和掩膜板

技术领域

本发明涉及液晶显示器技术，尤其涉及扫描线序号的标注方法和掩膜板。

背景技术

薄膜晶体管(TFT)阵列基板上的数据扫描线和栅极扫描线一般需要编上序号，以便生产过程中对数据扫描线和栅极扫描线进行辨识、以及在后续检修过程中准确定位各个像素点。

目前对于数据扫描线的序号进行标注的方法为：在进行栅极扫描线的掩膜构图工艺所采用的掩膜板上设有数字图形，这些数字图形需要预先设计在后续形成的数据扫描线旁边，并且数字部分不透光，这样就可以在栅极扫描线所在的层上形成金属的数字图案。由于形成的数字图案对应设在数据扫描线的旁边，在数据扫描线形成之后，除了数据扫描线金属层和栅金属层外，其他的材料都是透明的，这样就可以看到数据扫描线的旁边的数字，从而实现了对数据扫描线序号的标注。

如果需要对栅极扫描线序号进行标注，则可以在形成栅极扫描线的同时，在栅极扫描线旁边形成数字图案。

TFT-LCD(TFT液晶显示器)技术的迅猛发展，液晶面板的尺寸也在不断增大，各TFT-LCD的厂家纷纷建设新的生产线，以生产出更大尺寸的液晶面板，然而，要新建一条新的生产线，投资相当巨大。

为了节约新建生产线的成本，在目前的生产线上来生产较大尺寸的液晶面板成了一个行之有效的解决办法，下面举例说明在目前的生产线上来生产较大尺寸的液晶面板的办法。

图1所示的为一个制作栅极扫描线的掩膜板，图中的虚线界定出的局部曝光区域1、局部曝光区域2和局部曝光区域3，上述3个局部曝光区域内实线所表示的区域均为该掩膜板具有制作栅极扫描线所需图形的区域，该三个局部曝光区域之间的黑条用来遮光，以防止在采用其中一个局部曝光区域进行曝光时，遮光板不能准确地遮住其他两个局部曝光区域。其中，局部曝光区域1的左边和局部曝光区域3的右边的阴影部分是将栅极扫描线从像素区域中引出并集中的区域；局部曝光区域1右边的灰色部分、局部曝光区域2两侧灰色部分和局部曝光区域3左边的灰色部分为曝光可重叠的区域。

图2所示的为一个制作数据扫描线的掩膜板，和图1有如下不同：制作数据扫描线的掩膜板每个区域上方的阴影部分是将数据扫描线从像素区域中引出并集中的区域，但是没有了局部曝光区域1的左边和局部曝光区域3的右边的阴影部分。

假设以图1中的掩膜板制作栅极扫描线，其具体过程为：

如图3所示，首先采用该掩膜板的局部曝光区域1对沉积有栅金属的基板进行曝光，其曝光的区域见图中虚线界定的A部分；然后利用该掩膜板的局部曝光区域2对沉积有栅金属的基板进行曝光，其曝光的区域见图中虚线界定的B部分，并且曝光先后顺序为从左至右；最后利用该掩膜板的局部曝光区域3对沉积有栅金属的基板进行曝光，其曝光的区域见图中虚线界定的C部分。

在目前的生产线生产大尺寸的液晶面板过程中，发明人发现现有技术中至少存在如下问题：由于掩膜板的某一局部曝光区域需要利用多次，以便完成整块基板的曝光处理，如果这个时候在掩膜板直接设有数字图形，这将导致利用掩膜板同一局部曝光区域进行曝光的地方形成相同的序号，进而导致数据扫描线的序号是循环重复的，不能在不同区域形成具有区别的数据扫描线的序号，当液晶面板的尺寸较大时，就没有办法通过数据扫描线的序号准确定位像素点。

发明内容

本发明的实施例提供一种扫描线序号的标注方法和掩膜板，使得在不同区域形成具有区别的扫描线序号，以便于准确定位像素点。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

一种扫描线序号的标注方法，包括：

(1)在对光刻胶进行曝光时，在扫描线对应位置的旁边形成线编号的光刻胶保留图案、以及光刻胶保留区域；

(2)在所述光刻胶保留区域打码形成区域编号的光刻胶保留图案；

(3)对经过曝光和打码的光刻胶进行显影处理，并刻蚀掉显影处理后露出的金属；

(4)剥离剩余的光刻胶以露出线编号和区域编号。

一种掩膜板，包括透光基板，所述透光基板上设有形成扫描线的图形区域，所述图形区域包括在扫描线对应位置旁边形成线编号的光刻胶保留图案的图形、以及在扫描线对应位置旁边形成光刻胶保留区域的图形。

如果在进行刻蚀的时候采用了正性光刻胶，本发明实施例提供的扫描线序号的标注方法和掩膜板，由于通过掩膜板进行曝光的过程中将一块区域的光线通过挡光块挡住，以便形成光刻胶保留区域，然后通过打码的方式在光刻胶上所述挡光块对应的光刻胶保留区域形成区域编号；在曝光的同时在扫描线对应位置旁边形成了线编号的光刻胶保留图案。这种形成区域编号的方式可以改变打码过程中所用打码机的镜头就可以改变所形成的区域编号，如此一来，即使采用掩膜板的某一局部曝光区域多次对光刻胶进行曝光，以便生产尺寸较大的液晶面板，也可以在光刻胶保留区域打码出不同的区域编号，这样就可以通过这些不同的区域编号和线编号就可以区分出各个曝光区域之间的扫描线了，以便准确定位像素点。

如果在进行刻蚀的时候采用了负性光刻胶，则需要将上述的挡光块改为透光区域，以便光线照射到光刻胶上形成光刻胶保留区域；而后续的打码过程则需要将区域编号的图案部分作为透光部分，以便形成区域编号，

本发明实施例的方案可以运用到数据扫描线和/或栅极扫描线的掩膜板构图工艺中，可以在不同区域形成具有区别的数据扫描线序号和/或栅极扫描线序号。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术中制作栅极扫描线的掩膜板；

图2为现有技术中制作数据扫描线的掩膜板；

图3为现有技术中制作栅极扫描线的过程示意图；

图4为本发明实施例中沉积有栅金属层和光刻胶的基板截面示意图；

图5为本发明实施例中制作栅极扫描线的掩膜板；

图6为本发明实施例中制作栅极扫描线的过程示意图；

图7为本发明实施例中打码出区域编号的基板示意图；

图8为本发明实施例中曝光后光刻胶的表面放大图；

图9为本发明实施例中打码后光刻胶的表面放大图；

图10为本发明实施例中剥离光刻胶后的表面放大图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

实施例1：

本发明实施例提供的扫描线序号标注方法既可以用于栅极扫描线序号的标注，也可用于数据扫描线序号的标注。下面结合附图，详细介绍在制作栅极扫描线的同时对数据扫描线序号进行标注的方法，并且本实施例中所采用的光刻胶为正性光刻胶。

首先，如图4所示，在较大尺寸的玻璃基板10上沉积栅金属层11，然后在所述栅金属层11上涂敷光刻胶12。

由于玻璃基板10尺寸较大，需要对上述光刻胶12进行分区域的曝光，其采用的掩膜板如图5所示，该掩膜板包括局部曝光区域4、局部曝光区域5和局部曝光区域6，该三个局部曝光区域内实线部分为具有制作栅极扫描线图形的区域。为了能够对数据扫描线序号进行标注，本实施例中掩膜板上对应于每个数据扫描线旁边的位置设置有数字图案(即线编号的图形)，这些数字图案的数字部分具有遮光性，这样就能够在数据扫描线对应位置旁边形成线编号的光刻胶保留图案；并且，该掩膜板在数据扫描线对应位置的旁边设置有具有遮光性的挡光块，以便形成光刻胶保留区域，使得后续工艺中能够在光刻胶保留区域打码并形成区域编号的光刻胶保留图案。具体而言，可以在每个数据扫描线对应位置的旁边设置挡光块，也可以只在其中部分数据扫描线对应位置的旁边设置挡光块，而这个挡光块和线编号的图案可以采用但不限于上下排列方式、左右排列等方式。

图5中标号7的部分为标注数据扫描线序号的部分，虚线圆内表示放大视图的黑色框区域表示具有遮光性的挡光块，而数字1表示形成线编号的光刻胶保留图案对应图形。

由于上述进行的掩膜构图工艺是制作栅极扫描线的，所以，在基板上还没有数据扫描线，但是可以通过设计的方案和图纸预先知道数据扫描线的位置，所以，可以将具有遮光性的挡光块和数字图案设置在预知数据扫描线位置的旁边。

如图6所示，通过掩膜板的局部曝光区域按照图6中从左至右的顺序对光刻胶进行曝光，具体曝光顺序如下：先利用掩膜板的局部曝光区域4对虚线界定的A部分进行曝光，然后利用掩膜板的局部曝光区域5对虚线界定的B部分按照从左至右的顺序进行曝光，最后利用掩膜板的局部曝光区域6对虚线界定的C部分进行曝光。其中掩膜板的每个局部曝光区域包括非重复曝光区和重复曝光区，非重复曝光区对应于图6中的白色区域部分，重复曝光区域对应于图6中的灰色区域部分，而图6中的阴影区域为栅极扫描线引出的集中区域。经过曝光之后，在光刻胶上与挡光块对应的位置就形成了光刻胶保留区域。

随后，在所述光刻胶保留区域上打码形成区域编号的光刻胶保留图案，如图7所示，如果每个局部曝光区域中的非重复曝光区和重复曝光区都只设置了一个挡光块，那么就可以在非重复曝光区和重复曝光区都打出一个区域编号的光刻胶保留图案。最后得到的区域编号如图7所示，非重复曝光区从左至右的区域编号为Z0、Z1、Z2、Z3、Z4、Z5、Z6、Z7；重复曝光区从左至右的区域编号为SZ0、SZ1、SZ2、SZ3、SZ4、SZ5、SZ6。上述打码过程中区域编号的图形部分是不透光的，而其他部分是透光的，这样可以保证光刻胶保留区域内区域编号的图案对应的光刻胶部分保留，以便在后续工艺中形成区域编号。

接着，对经过曝光和打码的光刻胶进行显影处理，通过化学作用将经过光线照射的光刻胶溶解去掉，将没有经过光照的光刻胶固化，其中溶解去掉的光刻胶包括曝光过程中经过光照的光刻胶、以及打码过程中经过光照的光刻胶。

在经过显影处理后，溶解掉光刻胶的部分将会露出栅金属层，本过程需要将露出的刻蚀掉，具体刻蚀方法可以采用干法刻蚀，也可以采用湿法刻蚀。特别需要说明的是：在打码过程中由于区域编号的光刻胶保留图案的图形是不透光的，所以上面的光刻胶也没有被溶解掉，故而最后就在栅金属层形成一个金属材质的区域编号。

最后，剥离上述基板上剩余的光刻胶，以露出栅极扫描线、区域编号和线编号，其中线编号为通过掩膜板曝光时形成的，而区域编号则是通过打码形成。

上述实施例中采用了正性光刻胶进行刻蚀工艺，在实际运用时，可能采用负性光刻胶进行刻蚀。如果采用负性光刻胶进行刻蚀，则所有经过光照的光刻胶将不会显影处理时被溶解掉，而没有经过光照的光刻胶将在显影处理时被溶解掉，所以，需要将上述掩膜板更换成对应负性光刻胶采用的掩膜板，而且上述实施例中所述的挡光板则需要替换为透光区域，以便在光刻胶上形成光刻胶保留区域。最后打码出区域编号的光刻胶保留图案的时候，则需要将区域编号的图案部分设计为透光的，而其他部分设计为不透光的。

下面就以数据扫描线为1920×3RGB＝5760条为例，解释如何准确定位数据扫描线。

在最后洗掉剥离基板上剩余的光刻胶后，会露出栅极扫描线、区域编号和线编号，其中线编号为通过掩膜板曝光时形成的，而区域编号则是通过打码形成。下面以其中区域编号为Z0的非重复曝光区为例具体说明区域编号和线编号的形成过程，具体的局部图如图8、图9和图10所示，图8、图9和图10表示出了其中3根数据扫描线的区域编号和线编号情况。

在通过掩膜板进行曝光后光刻胶形成了如图8所示的状态，其中图8中白色部分为预先知道的数据扫描线的位置，灰色区域为栅金属层的其他部分，而线编号1、2、3是经过曝光后在光刻胶上形成的图案，并且该图案处的光刻胶是不会被显影处理所洗掉的；黑色区域为光刻胶保留区域。

在通过打码形成区域编号以后光刻胶形成了如图9所示的状态，其中图9中白色部分为预先知道的数据扫描线的位置，线编号1、2、3是经过曝光后在光刻胶上形成了光刻胶保留图案，黑色区域内的白色部分为打码形成的图案，并且该图案处的光刻胶是不会被显影处理所洗掉的。

在经过剥离光刻胶后，形成了如图10所示的状态，其中Z0、1、2、3均为留下的金属，而灰色条为预先知道的数据扫描线的位置。

如图7所示，灰色区域代表局部曝光区域4和局部曝光区域5、或者局部曝光区域5和局部曝光区域6通过拼接形成的区域，在本实施例中用重复曝光区表示；图7中的白色区域用非重复曝光区表示。如果图中虚线界定的A部分的非重复曝光区、B部分非重复曝光区和左边的重复曝光区、C部分的重复曝光区和非重复曝光区均设置了720条数据扫描线，其线编号从左往右排列顺序均为1、2……720；并且所有重复曝光区内的数据扫描线线编号从左往右排列顺序为1，2……42。也就是说，所有灰色区域对应数据扫描线的线编号均为1至42，而第一个白色区域对应数据扫描线的线编号为1至720，其他白色区域对应数据扫描线的线编号为43至720。

对于任意一条区域编号为Zi(i＝0)线编号为j(j＝1、2……720)的数据扫描线，以及区域编号为Zi(i＝1、2……7)线编号为j(j＝43、44……720)，其所对应的数据扫描线序号就应该是Z(i，j)，换算成为1～5760中的序号n＝i×720+j。如Z(0，1)就是第n＝0×720+1＝1条数据扫描线；再如Z(7，720)就是第n＝7×720+720＝5760条数据扫描线。

对于任意一条区域编号为SZi(i＝0、1……6)线编号为j(j＝1、2……42)的数据扫描线，其所对应的数据线序号就应该是SZ(i，j)，换算成为1～5760中的序号m＝720+i×720+j。如SZ(0，1)就是第n＝720+0×720+1＝721条数据扫描线，它位于从图7中从左往右数的第一个重复曝光区的第1条数据扫描线；再如SZ(6，42)就是第n＝720+6×720+42＝5082条数据扫描线，它位于从左往右数的第七个重复曝光区的第42条数据扫描线。这样就对这七个重复曝光区的数据扫描线也进行了区分。

按照上面的对应关系，该图中的数据扫描线序号从左到右依次排列如下：

Z(0，1)……Z(0，720)，SZ(0，1)……SZ(0，42)，

Z(1，43)……Z(1，720)，SZ(1，1)……SZ(1，42)，

Z(2，43)……Z(2，720)，SZ(2，1)……SZ(2，42)，

Z(3，43)……Z(3，720)，SZ(3，1)……SZ(3，42)，

Z(4，43)……Z(4，720)，SZ(4，1)……SZ(4，42)，

Z(5，43)……Z(5，720)，SZ(5，1)……SZ(5，42)，

Z(6，43)……Z(6，720)，SZ(6，1)……SZ(6，42)，

Z(7，43)……Z(7，720)。

在采用上述方法进行数据扫描线序号的标注后，虽然加工过程中使用掩膜板的局部曝光区域进行了多次曝光，使得最后形成的线编号是循环重复的，但是由于每个区域中都打码出不同的区域编号，通过这个区域编号和曝光出的线编号进行组合，就可以分辨出不同的数据扫描线。如此一来，即使通过很多相同的掩膜板生产尺寸较大的液晶面板，也可以在各个区域内扫描线上打码出不同的区域编号，这样就可以通过这些不同的区域编号就可以区分出各个曝光区域之间的数据扫描线了。

在准确定位数据扫描线之后，如果对栅极扫描线也进行区域编号，则也可以通过栅极扫描线的区域编号准确定位出栅极扫描线，进而准确定位出各个像素点。

在实际运用时，可在掩膜板上设置挡光块的数量并不限定，只需要通过打码出的标号和原有的数字组合能够准确定位数据扫描线即可，最多的时候可以每条数据扫描线旁边都设置一个挡光块，并在后续打码的过程中在每个挡光块对应的光刻胶保留区域打出不同的编码，以便能够准确区分各个数据扫描线。

上述实施例主要叙述了数据扫描线序号的标注，对于栅极扫描线序号的标注没有详细说明。在具体应用时，由于本实施例中栅极扫描线序号可以在掩膜板的一个局部曝光区域(如：局部曝光区域1或局部曝光区域3)中形成，不存在序号循环的问题，所以，栅极扫描线序号可以采用现有技术中的方式标注。但是，当液晶面板的尺寸达到栅极扫描线序号不能在一个局部曝光区域制作时，也可以采用本发明实施例中的方法在栅极扫描线旁边预留一个光刻胶保留区域，以便通过打码的方式形成区域编号，这样就可以完成栅极扫描线序号的标注。

实施例2：

本发明实施例提供的扫描线序号标注方法既可以用于栅极扫描线序号的标注，也可用于数据扫描线序号的标注。下面结合附图，详细介绍在制作数据扫描线的过程对数据扫描线序号进行标注的方法，并且本实施例中所采用的光刻胶为正性光刻胶。

其具体的标注过程和实施例1相似，只是在制作完成源/漏金属层后，在源/漏金属层上涂敷光刻胶，然后通过掩膜板曝光，该掩膜板上对应于数据扫描线旁边的位置设有挡光块，以便在光刻胶上形成光刻胶保留区域。

然后采用实施例1中的方式在所述光刻胶保留区域打码形成区域编号，其具体打码出的区域编号可以为但不限于实施例1中的区域编号。

接着，对经过曝光和打码的光刻胶进行显影处理，通过化学作用将经过光线照射的光刻胶溶解去掉，将没有经过光照的光刻胶固化，其中溶解去掉的光刻胶包括曝光过程中经过光照的光刻胶、以及打码过程中经过光照的光刻胶。

在经过显影处理后，溶解掉光刻胶的部分将会露出源/漏金属层，本过程需要将露出的刻蚀掉，具体刻蚀方法可以采用干法刻蚀，也可以采用湿法刻蚀。特别需要说明的是：在打码过程中由于区域编号的图形是不透光的，所以上面的光刻胶也没有被溶解掉，故而最后就在源/漏金属层形成一个金属材质的区域编号。

最后，剥离上述基板上剩余的光刻胶，以露出数据极扫描线、源/漏电极和区域编号。

在该方法进行数据扫描线序号的标注后，虽然加工过程中使用掩膜板的局部曝光区域进行了多次曝光，使得最后形成的线编号是循环重复的，但是由于每个区域中都打码出不同的区域编号，通过这个区域编号和曝光出的线编号进行组合，就可以分辨出不同的数据扫描线。如此一来，即使通过很多相同的掩膜板生产尺寸较大的液晶面板，也可以在各个区域内扫描线上打码出不同的区域编号，这样就可以通过这些不同的区域编号就可以区分出各个曝光区域之间的数据扫描线了。

上述实施例中采用了正性光刻胶进行刻蚀工艺，在实际运用时，可能采用负性光刻胶进行刻蚀。如果采用负性光刻胶进行刻蚀，则所有经过光照的光刻胶将不会显影处理时被溶解掉，而没有经过光照的光刻胶将在显影处理时被溶解掉，所以，需要将上述掩膜板更换成对应负性光刻胶采用的掩膜板，而且上述实施例中所述的挡光板则需要替换为透光区域，以便在光刻胶上形成光刻胶保留区域。最后打码出区域编号的时候，则需要将区域编号的图案部分设计为透光的，而其他部分设计为不透光的。

在本实施例中只是对数据扫描线制作了区域编号，如果本实施例中制作的TFT阵列基板上在制作栅极扫描线没有进行序号的标注，则可以在数据扫描线时制作出对应于栅极扫描线的区域编号和线编号。其中线编号的制作方式和现有技术一样采用曝光同时形成的方式，而区域编号则需要采用本实施例提供的方式形成，具体而言，就是在曝光时形成光刻胶保留区域，然后通过打码方式在光刻胶保留区域形成区域编号。

实施例3：

本发明实施例提供一种掩膜板，包括透光基板，所述透光基板上设有形成扫描线的图形区域，所述图形区域包括在扫描线对应位置旁边形成线编号的光刻胶保留图案的图形、以及在扫描线对应位置旁边形成光刻胶保留区域的图形。

如果采用正性光刻胶来进行掩膜构图工艺，则上述形成光刻胶保留区域的图形为挡光块，上述形成线编号的光刻胶保留图案的图形为具有遮光性的图形，下面详细对采用正性光刻胶进行掩膜构图工艺的情况进行详细说明

也就是说，在掩膜板上的扫描线旁边对应的区域设计了具有遮光性的挡光块和具有遮光性的线编号图形，使得光线不能照射到挡光块和线编号图形挡住的区域，这样就可以在光刻胶上形成线编号的光刻胶保留图案，并且能够通过后续的打码技术在挡光块挡住的区域进行打码，以打出相应的区域编号的光刻胶保留图案。

本实施例中的掩膜板可以是制作栅极扫描线用的掩膜板，也可以是制作数据扫描线用的掩膜板。如果该掩膜板为制作栅极扫描线的掩膜板，该掩膜板上对应于栅极扫描线和/或数据扫描线旁边的位置设有具有遮光性的挡光块；如果该掩膜板为制作数据扫描线的掩膜板，该掩膜板上也可以对应于数据扫描线和/或栅极扫描线旁边的位置设有具有遮光性的挡光块。

本实施例中可以在掩膜板的一个局部曝光区域只设置一个挡光块，也可以设置多个，最多的情况下，可以在每个数据扫描线对应的挡光条旁边都设置一个挡光块。这里详细介绍一下采用掩膜板的局部曝光区域进行分区曝光的情况，这种情况下所采用的掩膜板包括至少两个对光刻胶进行分区曝光的局部曝光区域，所述局部曝光区域包括非重复曝光区和重复曝光区(详细见附图5)，并且在所述非重复曝光区和重复曝光区内分别形成至少一个挡光块，其中，图5虚线圆内表示的放大视图中黑色部分为挡光块。

利用本实施例本实施例中的掩膜板制作扫描线，能够在扫描线旁边形成一个光刻胶保留区域，以便后续打码过程中制作区域编号。虽然加工过程中使用掩膜板的局部曝光区域进行了多次曝光，使得最后形成的线编号是循环重复的，但是由于每个区域中都打码出不同的区域编号，通过这个区域编号和曝光出的线编号进行组合，就可以分辨出不同的数据扫描线。

上述实施例中的掩膜板适合用于采用正性光刻胶进行刻蚀的工艺程序，在实际运用时，如果采用负性光刻胶进行刻蚀，由于负性光刻胶经过光照的部分将不会显影处理时被溶解掉，而没有经过光照的部分将在显影处理时被溶解掉，所以，需要将上述掩膜板更换成对应负性光刻胶采用的掩膜板。而且上述实施例中形成光刻胶保留区域的图形则需要替换为透光区域，以便在光刻胶上形成光刻胶保留区域。最后打码出区域编号的时候，则需要将区域编号的图案部分设计为透光的，而其他部分设计为不透光的。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。

Claims (9)

1.一种扫描线序号的标注方法，其特征在于，包括：

(1)在对光刻胶进行曝光时，在扫描线对应位置的旁边形成线编号的光刻胶保留图案、以及光刻胶保留区域；

(2)在所述光刻胶保留区域打码形成区域编号的光刻胶保留图案；

(3)对经过曝光和打码的光刻胶进行显影处理，并刻蚀掉显影处理后露出的金属；

(4)剥离剩余的光刻胶以露出线编号和区域编号。

2.根据权利要求1所述的扫描线序号的标注方法，其特征在于，若所述光刻胶为正性光刻胶，所述(1)具体包括：

(11)在沉积有源/漏金属层或者栅金属层的基板上涂敷光刻胶；

(12)通过掩膜板对光刻胶进行曝光；该掩膜板上在栅极扫描线和/或数据扫描线对应位置的旁边设有具有遮光性的挡光块和线编号的遮光图案，该挡光块对应光刻胶的区域为光刻胶保留区域，该线编号的遮光图案对应线编号的光刻胶保留图案。

3.根据权利要求1所述的扫描线序号的标注方法，其特征在于，若所述光刻胶为负性光刻胶，所述(1)具体包括：

(11′)在沉积有源/漏金属层或者栅金属层的基板上涂敷光刻胶；

(12′)通过掩膜板对光刻胶进行曝光；该掩膜板上在栅极扫描线和/或数据扫描线对应位置的旁边设有透光区域和线编号的透光图案，该透光区域对应光刻胶的区域为光刻胶保留区域，该线编号的透光图案对应线编号的光刻胶保留图案。

4.根据权利要求2或3所述的扫描线序号的标注方法，其特征在于，所述基板上的光刻胶包括非重复曝光区和重复曝光区，所述(12)或(12′)中通过掩膜板对光刻胶进行曝光为：使用掩模板对光刻胶进行分区曝光，分别形成所述非重复曝光区和重复曝光区的线编号的光刻胶保留图案，同时在所述各非重复曝光区和重复曝光区形成至少一个光刻胶保留区域，该光刻胶保留区域在栅极扫描线和/或数据扫描线对应位置的旁边。

5.根据权利要求1所述的扫描线序号的标注方法，其特征在于，所述(2)具体包括：通过打码机对所述光刻胶保留区域进行光照形成区域编号，其中，光刻胶保留区域中该区域编号的图案对应的光刻胶部分保留。

6.一种掩膜板，包括透光基板，所述透光基板上设有形成扫描线的图形区域，其特征在于，所述图形区域包括在扫描线对应位置旁边形成线编号的光刻胶保留图案的图形、以及在扫描线对应位置旁边形成光刻胶保留区域的图形。

7.根据权利要求6所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板为制作数据扫描线或栅极扫描线的掩膜板，该掩膜板上在栅极扫描线和/或数据扫描线对应位置的旁边设有形成光刻胶保留区域的图形和形成线编号的光刻胶保留图案的图形。

8.根据权利要求6所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板包括至少两个对光刻胶进行分区曝光的局部曝光区域，所述局部曝光区域包括非重复曝光区和重复曝光区，并且在所述非重复曝光区和重复曝光区内分别形成至少一个形成光刻胶保留区域的图形和形成线编号的光刻胶保留图案的图形。

9.根据权利要求6至8任意一项所述的掩膜板，其特征在于，若光刻胶为正性光刻胶，所述形成光刻胶保留区域的图形为挡光块，所述形成线编号的光刻胶保留图案的图形为具有遮光性的图形；若光刻胶为负性光刻胶，所述形成光刻胶保留区域的图形为透光区域，所述形成线编号的光刻胶保留图案的图形为具有透光性的图形。

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