CN108363271B - 掩膜板、信号线及数字标识的制备方法、基板及显示装置 - Google Patents

掩膜板、信号线及数字标识的制备方法、基板及显示装置 Download PDF

Info

Publication number
CN108363271B
CN108363271B CN201810215487.3A CN201810215487A CN108363271B CN 108363271 B CN108363271 B CN 108363271B CN 201810215487 A CN201810215487 A CN 201810215487A CN 108363271 B CN108363271 B CN 108363271B
Authority
CN
China
Prior art keywords
unit
pattern
identification
digital
patterns
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201810215487.3A
Other languages
English (en)
Other versions
CN108363271A (zh
Inventor
王文超
胡波
王宝强
朴相镇
徐旭
徐姗姗
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Fuzhou BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Fuzhou BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd, Fuzhou BOE Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN201810215487.3A priority Critical patent/CN108363271B/zh
Publication of CN108363271A publication Critical patent/CN108363271A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN108363271B publication Critical patent/CN108363271B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G03F1/76Patterning of masks by imaging
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2022Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

本发明的实施例提供一种掩膜板、信号线及数字标识的制备方法、基板及显示装置,涉及显示技术领域,可解决大尺寸拼接产品难以形成连续数字标识的问题。该掩膜板包括依次排列的第一、第二和第三单元,各单元分别包括:X1、X2和X3个走线图案;第一单元还包括:X1个数字标识图案,数字为按照由小到大的顺序排列的X1个连续整数;第二单元还包括:X2个标识组,每个标识组均包含N个数字标识图案,X2个标识组中所有数字标识图案的数字为N*X2个连续整数;X2个标识组中位于相同排列位置处的数字标识图案的数字为由小到大排列的X2个连续整数;第三单元还包括:X3个数字标识图案,数字为按照由小到大的顺序排列的X3个连续整数。

Description

掩膜板、信号线及数字标识的制备方法、基板及显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种掩膜板、信号线及数字标识的制备方法、基板及显示装置。
背景技术
显示装置中的基板上设置有多根信号线,通常需要为每根信号线标注数字编号,各数字编号按照信号线的排列方式一般由小到大依次排列在每根信号线的一端或两端,如“1”、“2”、“3”……“108”、“109”、“110”等,以便在基板的制备及后续检测中对各信号线进行辨识。
信号线和数字编号的制备过程通常需要采用掩膜板(Mask)对光刻胶进行曝光、显影,并对光刻胶露出的导电层进行刻蚀以形成信号线和数字序号的具体图案。
对于应用于大尺寸显示装置中的基板,受制于掩膜板的制备及曝光对位机的限制,掩膜板难以制备成相应的大尺寸结构,即掩膜板的有效区域无法在一次曝光时覆盖整个基板。现有技术中针对这一情况,通常是将大尺寸的基板划分成若干区域,采用拼接曝光的方式对基板上的中间区域的各个部分进行依次曝光,由于掩膜板中间的同一单元(即重复单元)对基板上相应区域进行了依次曝光,因此,对于重复单元对应于基板上中间区域依次划分的各个部分中待形成的各信号线无法进行由小到大的连续数字编号,导致采用拼接曝光方式形成的基板上中间区域的各信号线无法形成对应的数字编号,增加基板的制备及后续检测的操作困难。
发明内容
鉴于此,为解决现有技术的问题,本发明的实施例提供一种掩膜板、信号线及数字标识的制备方法、基板及显示装置,采用本发明实施例提供的掩膜板进行拼接曝光后形成的信号线具有连接的数字标识,可解决大尺寸拼接产品难以形成连续数字标识的问题。
为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:
第一方面、本发明实施例提供一种掩膜板,包括:依次排列的第一单元、第二单元和第三单元;所述第一单元包括:X1个走线图案;所述第二单元包括:X2个走线图案;所述第三单元包括:X3个走线图案;X1、X3≥1,X2≥3;所述X1个走线图案、所述X2个走线图案和所述X3个走线图案均平行排列;所述第一单元还包括:位于所述X1个走线图案的一端且分别标记每个走线图案的X1个数字标识图案;沿所述第一单元指向所述第三单元的方向,所述X1个数字标识图案的数字为按照由小到大的顺序排列的X1个连续整数;所述第二单元还包括:位于所述X2个走线图案的一端且分别标记每个走线图案的X2个标识组,每个标识组均包含N个数字标识图案,所述X2个标识组中所有数字标识图案的数字为N*X2个连续整数,N≥2;其中,沿所述第一单元指向所述第三单元的方向,所述X2个标识组中位于相同排列位置处的数字标识图案的数字为由小到大排列的X2个连续整数,所述第二单元中的第1个标识组中的N个数字标识图案的最小数字比所述第一单元中的最后1个数字标识图案的数字大1;所述第三单元还包括:位于所述X3个走线图案的一端且分别标记每个走线图案的X3个数字标识图案;沿所述第一单元指向所述第三单元的方向,所述X3个数字标识图案的数字为按照由小到大的顺序排列的X3个连续整数,且所述第三单元中的第1个数字标识图案的数字比所述第二单元中的最后1个标识组中的N个数字标识图案的最大数字大1。
可选的,包括有所述X1个走线图案、所述X2个走线图案和所述X3个走线图案的所有走线图案的同一端设置有所述X1个数字标识图案、所述X2个标识组和所述X3个数字标识图案。
可选的,沿所述第一单元指向所述第三单元的方向,每个标识组中的所述N个数字标识图案的数字均由大到小依次排列;其中,所述第一单元还包括:位于最后1个数字标识图案靠近所述第二单元一侧的(N-1)个保护图案,所述(N-1)个保护图案与所述第二单元中的最后1个标识组中的除第1个数字标识图案之外的其余(N-1)个数字标识图案一一对应;所述保护图案用于在所述第二单元重复拼接曝光时,保护所述第二单元前一次曝光后与最后1个标识组中其余(N-1)个数字标识图案对应区域的光刻胶;和/或,所述第三单元还包括:位于第1个数字标识图案靠近所述第二单元一侧的(N-1)个保护图案,所述(N-1)个保护图案与所述第二单元中的第1个标识组中的除最后1个数字标识图案之外的其余(N-1)个数字标识图案一一对应;所述保护图案用于在所述第二单元重复拼接曝光时,保护所述第二单元后一次曝光时与第1个标识组中其余(N-1)个数字标识图案对应区域的光刻胶。
可选的,当采用所述掩膜板进行曝光的光刻胶为正性光刻胶时,所述数字标识图案为不透光的数字,所述保护图案为遮光块,且所述遮光块的面积大于对应的所述不透光的数字的面积;或者,当采用所述掩膜板进行曝光的光刻胶为负性光刻胶时,所述数字标识图案为透光的数字,所述保护图案为透光块,所述透光块的面积大于对应的所述透光的数字的面积。
可选的,所述第一单元还包括:位于所述X1个走线图案的另一端且分别标记每个走线图案的X1个数字标识图案,同一个走线图案两端的所述数字标识图案的数字相同;所述第二单元还包括:位于所述X2个走线图案的一端且分别标记每个走线图案的X2个标识组,每个标识组均包含N个数字标识图案,同一个走线图案两端的所述标识组包括的N个数字标识图案的排列方式和数字均相同;所述第三单元还包括:位于所述X3个走线图案的另一端且分别标记每个走线图案的X3个数字标识图案,同一个走线图案两端的所述数字标识图案的数字相同。
第二方面、本发明实施例还提供了一种信号线及数字标识的制备方法,包括:在衬底基板上依次形成导电膜层和光刻胶层;所述光刻胶层划分为依次排列的第一区域、N个第二区域和第三区域,N≥2,沿所述第一区域指向所述第三区域的方向,所述N个第二区域包括:依次排列的第1个第二区域至最后1个第二区域;所述制备方法还包括:通过上述任一项所述的掩膜板对所述光刻胶层进行曝光,包括:使所述掩膜板的所述第一单元、所述第二单元分别与所述光刻胶层的所述第一区域、第1个第二区域正对应,对所述第一区域、所述第1个第二区域进行曝光;当N=2时,使所述掩膜板的所述第二单元、所述第三单元分别与所述光刻胶层的所述最后1个第二区域、所述第三区域正对应,对所述最后1个第二区域、所述第三区域进行曝光;当N>2时,使所述掩膜板的所述第二单元与所述光刻胶层的所述N个第二区域中除首尾两个所述第二区域之外的其余(N-2)个第二区域依次正对应,对所述其余(N-2)个第二区域依次进行曝光;使所述掩膜板的所述第二单元、所述第三单元分别与所述光刻胶层的所述最后1个第二区域、所述第三区域正对应,对所述最后1个第二区域、所述第三区域进行曝光;对经过曝光后的所述光刻胶层进行显影,并对所述光刻胶层经过所述显影后露出的所述导电膜层的区域进行刻蚀,形成:位于所述第一区域中的X1根信号线、位于所述X1根信号线的一端且分别标记每根信号线的X1个导电数字标识;和,位于每个所述第二区域中的X2根信号线、分别位于所述第1个第二区域中的前(X2-1)根信号线的一端的(X2-1)个导电标识组、分别位于所述最后1个第二区域中的后(X2-1)根信号线的一端的(X2-1)个导电标识组、分别位于其余每个所述第二区域中除首尾两根所述信号线之外的其余(X2-2)根信号线的一端的(X2-2)个导电标识组,每个导电标识组均包含N个导电数字标识;和,位于所述第三区域中的X3根信号线、位于所述X3根信号线的一端且分别标记每根信号线的X3个导电数字标识;去除残留的所述光刻胶层。
可选的,形成的包括有所述X1根信号线、所述X2根信号线和所述X3根信号线的所有信号线的同一端设置有所述X1个导电数字标识、所述X2个导电标识组和所述X3个导电数字标识。
可选的,在沿所述掩膜板的所述第一单元指向所述第三单元的方向,每个标识组中的所述N个数字标识图案的数字均由大到小依次排列;其中,所述第一单元还包括:位于最后1个数字标识图案靠近所述第二单元一侧的(N-1)个保护图案,所述(N-1)个保护图案与所述第二单元中的最后1个标识组中的除第1个数字标识图案之外的其余(N-1)个数字标识图案一一对应的情况下,对经过曝光后的所述光刻胶层进行显影,并对所述光刻胶层经过所述显影后露出的所述导电膜层的区域进行刻蚀,还包括:在前(N-1)个所述第二区域中,形成位于每个所述第二区域中的最后1根信号线一端的最后1个导电标识组;其中,沿所述第一区域指向所述第三区域的方向,在每个所述最后1个导电标识组的第1个排列位置处形成与第一重叠标识图案对应的第一导电数字重叠标识,其余(N-1)个排列位置处分别依次形成与其余(N-1)个数字标识图案一一对应的导电数字标识;所述第一重叠标识图案为所述掩膜板的所述第二单元重复拼接曝光时,所述第一单元的最后1个数字标识图案与所述第二单元的最后1个标识组中的第1个数字标识图案重叠在一起的图案;和/或,在沿所述掩膜板的所述第一单元指向所述第三单元的方向,每个标识组中的所述N个数字标识图案的数字均由小到大依次排列;其中,所述第三单元还包括:位于第1个数字标识图案靠近所述第二单元一侧的(N-1)个保护图案,所述(N-1)个保护图案与所述第二单元中的第1个标识组中的除最后1个数字标识图案之外的其余(N-1)个数字标识图案一一对应的情况下,对经过曝光后的所述光刻胶层进行显影,并对所述光刻胶层经过所述显影后露出的所述导电膜层进行刻蚀,还包括:在后(N-1)个所述第二区域中,形成位于每个所述第二区域中的第1根信号线一端的第1个导电标识组;其中,沿所述第一区域指向所述第三区域的方向,在每个所述第1个导电标识组的最后1个排列位置处形成与第二重叠标识图案对应的第二导电数字重叠标识,其余(N-1)个排列位置处分别依次形成与其余(N-1)个数字标识图案一一对应的导电数字标识;所述第二重叠标识图案为所述掩膜板的所述第二单元重复拼接曝光时,所述第三单元的第1个数字标识图案与所述第二单元的第1个标识组中的最后1个数字标识图案重叠在一起的图案。
第三方面、本发明实施例还提供了一种基板,包括:衬底基板;所述基板还包括:位于所述衬底基板上采用上述任一项所述的制备方法形成的所述信号线和所述导电数字标识。
第四方面、本发明实施例还提供了一种显示装置,包括上述的基板。
基于此,本发明实施例提供的上述掩膜板,利用中间的第二单元作为拼接曝光时的重复单元,在重复单元中的走线图案一端同时放置了用于标记多次曝光后形成的所有信号线的数字标识图案,使得通过中间重复单元曝光后形成的信号线具有可辨识出的连续编号的导电数字标识,实现了大尺寸拼接产品上的信号线由小到大的连续数字编号,从而方便工厂以及客户直观地查看具体信号线对应的导电数字标识。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例1提供的一种掩膜板的结构示意图一;
图2为本发明实施例1提供的一种掩膜板的结构示意图二;
图3为采用本发明实施例1提供的一种掩膜板对光刻胶层进行曝光过程的示意图一;
图4为采用本发明实施例1提供的一种掩膜板对光刻胶层进行曝光过程的示意图二;
图5为本发明实施例1提供的一种掩膜板的结构示意图三;
图6为本发明实施例2提供的一种信号线及数字标识的制备方法中采用的具体掩膜板的结构示意图一;
图7为采用图6所示的掩膜板进行曝光的过程示意图;
图8为本发明实施例2提供的一种信号线及数字标识的制备方法中采用的具体掩膜板的结构示意图二;
图9为采用图8所示的掩膜板进行曝光的过程示意图;
图10为本发明实施例2提供的一种信号线及数字标识的制备方法中采用的具体掩膜板的结构示意图三;
图11为采用图10所示的掩膜板进行曝光的过程示意图;
图12为本发明实施例2提供的一种信号线及数字标识的制备方法中采用的具体掩膜板的结构示意图四;
图13为采用图12所示的掩膜板进行曝光的过程示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
需要指出的是,除非另有定义,本发明实施例中所使用的所有术语(包括技术和科学术语)具有与本发明所属领域的普通技术人员共同理解的相同含义。还应当理解,诸如在通常字典里定义的那些术语应当被解释为具有与它们在相关技术的上下文中的含义相一致的含义,而不应用理想化或极度形式化的意义来解释,除非这里明确地这样定义。
例如,本发明专利申请说明书以及权利要求书中所使用的术语“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性,仅是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同,而不排除其他元件或者物件。“上/上方”、“下/下方”、“行/行方向”以及“列/列方向”等指示的方位或位置关系的术语为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于说明本发明的技术方案的简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。例如在某些情况下,涉及“行方向”的实施例可以在“列方向”的情况下实施等等,相反亦如此。将本专利所述方案进行90°旋转或镜像后亦属本专利权利范畴。
实施例1
如图1或图2所示,本发明实施例1提供一种掩膜板01,包括:依次排列的第一单元11、第二单元12和第三单元13;第一单元11包括:X1个走线图案110;第二单元12包括:X2个走线图案120;第三单元13包括:X3个走线图案130;X1、X3≥1,X2≥3;X1个走线图案110、X2个走线图案120和X3个走线图案130均平行排列;第一单元11还包括:位于X1个走线图案110的一端且分别标记每个走线图案110的X1个数字标识图案111;沿第一单元11指向第三单元13的方向,X1个数字标识图案111的数字为按照由小到大的顺序排列的X1个连续整数;第二单元12还包括:位于X2个走线图案120的一端且分别标记每个走线图案120的X2个标识组121,每个标识组121均包含N个数字标识图案1210,X2个标识组121中所有数字标识图案1210的数字为N*X2个连续整数,N≥2;其中,沿第一单元11指向第三单元13的方向,X2个标识组121中位于相同排列位置处的数字标识图案1210的数字为由小到大排列的X2个连续整数,第二单元12中的第1个标识组121中的N个数字标识图案1210的最小数字比第一单元11中的最后1个数字标识图案110的数字大1;第三单元13还包括:位于X3个走线图案130的一端且分别标记每个走线图案130的X3个数字标识图案131;沿第一单元11指向第三单元13的方向,X3个数字标识图案131的数字为按照由小到大的顺序排列的X3个连续整数,且第三单元13中的第1个数字标识图案131的数字比第二单元12中的最后1个标识组121中的N个数字标识图案的最大数字大1。
需要说明的是,掩膜板(Mask)通常由紫外光可透过的部分和紫外光不可透过的部分构成,采用上述掩膜板对光刻胶层进行曝光(Scan)、显影后,位于各单元中的走线图案和数字标识图案能够使得光刻胶层上形成具有对应图案的光刻胶走线和光刻胶数字标识(即由光刻胶构成的包括有数字的图案),通过对被光刻胶走线和光刻胶数字标识露出的导电膜层的区域进行刻蚀后,从而形成具有对应图案的信号线和导电数字标识。
其中,上述掩膜板上的走线图案(Pattern)和数字标识图案(Pattern)的透光性与待曝光的光刻胶层的具体曝光特性相对应,即:
当采用掩膜板进行曝光的光刻胶为正性光刻胶时,根据正性光刻胶曝光前不溶解于显影液、曝光后可溶解于显影液的特性,为形成光刻胶走线和光刻胶数字标识,掩膜板上各单元中的走线图案和数字标识图案为紫外光不可透过的部分,其余部分为紫外光可透过的部分,以使得光刻胶层经过上述掩膜板曝光、显影后,形成与走线图案和数字标识图案对应的一个个光刻胶走线和一个个光刻胶数字标识。
当采用掩膜板进行曝光的光刻胶为负性光刻胶时,根据负性光刻胶曝光前可溶解于显影液、曝光后不溶解于显影液的特性,为形成光刻胶走线和光刻胶数字标识,掩膜板上各单元中的走线图案和数字标识图案为紫外光可透过的部分,其余部分为紫外光不可透过的部分,即与应用于正性光刻胶的掩膜板的透光区域相反,以使得光刻胶层经过上述掩膜板曝光、显影后,同样可形成与走线图案和数字标识图案对应的一个个光刻胶走线和一个个光刻胶数字标识。
这里,上述图1和图2仅以应用于正性光刻胶的掩膜板为例进行示意,即掩膜板上各单元中的走线图案(图1中以附图标记110、120及130标记出的走线图案)和数字标识图案(图1中以附图标记111、1210及131标记出的数字标识图案)均为紫外光不可透过的部分;对于应用于负性光刻胶的掩膜板,其紫外光透过部分和不可透过部分的设置方式与上述图1中示意出的掩膜板的设置方式相反,具体结构不再赘述。
进一步需要说明的,上述分别标记每个走线图案110的X1个数字标识图案111、分别标记每个走线图案120的X2个标识组121以及分别标记每个走线图案130的X3个数字标识图案131可以位于所有走线图案的同一端,例如为图1或图2中所示的纸面的上端,以便于后续形成的所有信号线的导电数字标识的读取。
当然,X1个数字标识图案111、X2个标识组121以及X3个数字标识图案131可以分别位于所有走线图案的不同一端。本发明实施例1对此不作限定,只要采用上述掩膜板对导电膜层进行构图工艺处理可形成相应的信号线及导电数字标识即可。
这里,上述的构图工艺是对膜层进行处理以形成具有特定图案的工艺,典型的构图工艺是应用一次掩膜板,通过对光刻胶曝光、显影、刻蚀光刻胶露出的膜层部分、去除光刻胶的工艺。
为简便起见,参考图1或图2所示,下面以N=2,即上述掩膜板中的中间的第二单元12重复曝光两次为例,对本发明实施例1提供的上述掩膜板能够在形成大尺寸拼接产品中的各信号线的同时,还可形成对应于各信号线的连续数字标识的曝光原理作具体说明。
首先,上述图1或图2中仅以基板(如Glass)上待形成的信号线数量示例的为110根为例,掩膜板上各单元中的走线图案数量分别为:X1=40、X2=20、X3=30,即(40+2*20+30)=110。掩膜板的具体结构为:
第一单元中的40个走线图案分别标记为第1个走线图案(对应于基板上待形成的第1根信号线)、第2个走线图案(对应于基板上待形成的第2根信号线)……以此类推,第39个走线图案(对应于基板上待形成的第39根信号线)、第40个走线图案(对应于基板上待形成的第40根信号线)。
分别标记每个走线图案的40个数字标识图案依次为数字1的数字标识图案(对应于基板上待形成的数字1的导电数字标识)、数字2的数字标识图案(对应于基板上待形成的数字2的导电数字标识)……以此类推,数字39的数字标识图案(对应于基板上待形成的数字39的导电数字标识)、数字40的数字标识图案(对应于基板上待形成的数字40的导电数字标识)。
第二单元经过两次曝光,其中的20个走线图案分别标记为第41个走线图案(对应于基板上待形成的第41根和第61根信号线)、第42个走线图案(对应于基板上待形成的第42根和第62根信号线)……以此类推,第59个走线图案(对应于基板上待形成的第59根和第79根信号线)、第60个走线图案(对应于基板上待形成的第60根和第80根信号线)。
由于上述掩膜板的第二单元是重复曝光的,因此,为了在基板上的第41根至第80根信号线的一端均能形成相应的导电数字标识,发明人在设计上述掩膜板时,在掩膜板的重复区域(即第二单元)同时放置了中间排序的数字41至80的数字标识图案。
即:第41个走线图案的一端同时放置了由数字41和数字61这两个数字构成的第1个标识组,相应的,采用第二单元每次曝光后形成的基板上对应于第41个走线图案的一根信号线的一端同时存在由数字41和数字61这两个数字构成的第1个导电标识组;第42个走线图案的一端同时放置了由数字42和数字62这两个数字构成的第2个标识组,相应的,采用第二单元每次曝光后形成的基板上对应于第42个走线图案的一根信号线的一端同时存在由数字42和数字62这两个数字构成的第2个导电标识组……以此类推,第59个走线图案的一端同时放置了由数字59和数字79这两个数字构成的第59个标识组,相应的,采用第二单元每次曝光后形成的基板上对应于第59个走线图案的一根信号线的一端同时存在由数字59和数字79这两个数字构成的第59个导电标识组;第60个走线图案的一端同时放置了由数字60和数字80这两个数字构成的第60个标识组,相应的,采用第二单元每次曝光后形成的基板上对应于第60个走线图案的一根信号线的一端同时存在由数字60和数字80这两个数字构成的第60个导电标识组。
进一步的,参考图1所示,在第二单元12中,用于标记每个走线图案120的一个标识组中的N个数字标识图案1210可以采用统一的沿第一单元11指向第三单元13的水平方向排列。由于标记第二单元12的每个走线图案120的标识组中需要水平放置两个数字标识图案1210,为减少后续基板上形成的导电数字标识所占用的基板的面积,第二单元12中的每个数字标识图案1210的面积可小于第一单元11和第三单元13中的数字标识图案的面积。
示例的,第二单元12中由两个数字标识图案1210构成的一个标识组的面积可等于或接近第一单元11和第三单元13中的一个数字标识图案的面积。
或者,当基板上位于待形成的信号线周边的区域面积较大时,参考图2所示,在第二单元12中,用于标记每个走线图案120的一个标识组中的N个数字标识图案1210可以采用统一的与前述图1中所示的水平方向相垂直的竖直方向排列。
这样一来,采用第二单元经过两次曝光后,在基板上形成的中间第41至第80共2*20根信号线上的数字标识是重复放置的,由于通过第一单元曝光后形成的信号线是1至40的编号,则与第40根信号线紧邻的第41根信号线上虽然形成有41和61这两个导电数字标识构成的一个导电标识组,但是相关技术人员根据经验仍然可以判断出第41根信号线的有效数字标识应该为41,而61为无效的数字标识。
这里,不论每个标识组中的N个数字标识图案采用参考上述图1所示的水平排列的方式或参考上述图2所示的竖直排列的方式,每个标识组中包含的N个数字标识图案之间均可进一步设置出一定的分隔间隙,以降低形成的导电数字标识的读取难度。
基于此,本发明实施例1提供的上述掩膜板,利用中间的第二单元作为拼接曝光时的重复单元,在重复单元中的走线图案一端同时放置了用于标记多次曝光后形成的所有信号线的数字标识图案,使得通过中间重复单元曝光后形成的信号线具有可辨识出的连续编号的导电数字标识,实现了大尺寸拼接产品上的信号线由小到大的连续数字编号,从而方便工厂以及客户直观地查看具体信号线对应的导电数字标识。
进一步的,为便于工厂以及客户直观地查看形成的所有信号线对应的导电数字标识,参考上述图1或图2所示,包括有X1个走线图案110、X2个走线图案120和X3个走线图案130的所有走线图案的同一端设置有上述的X1个数字标识图案111、X2个标识组121和X3个数字标识图案131。
如图3或图4所示,采用上述掩膜板对基板上的光刻胶层进行曝光时,光刻胶层划分为依次排列的第一区域、N个第二区域和第三区域;其中,第一区域、第二区域和第三区域分别与掩膜板上的第一单元、第二单元和第三单元一一对应。由于光刻胶层中间的第二区域有N个,其中,图3中仅以N=2为例,图4中仅以N=3为例,每个第二区域即为一个重复区域,为了对基板上光刻胶层中间的N个第二区域进行曝光,掩膜板中间的第二单元需要经过N次曝光,每次曝光对应于一个第二区域。
由于N个第二区域沿第一区域指向第三区域的方向依次排列,故第二单元每次曝光时也是沿从第一单元指向第三单元的方向依次挪动至对应于每个第二区域的上方,以完成对下方的一个第二区域中的光刻胶的曝光。
进一步参考图3所示,当N=2时,在光刻胶层上,第一区域和靠近第一区域的第1个第二区域是紫外光通过上述掩膜板上的第一单元、第二单元进行一次曝光的,第三区域和靠近第三区域的最后1个第二区域是紫外光通过上述掩膜板上的第三单元、第二单元进行一次曝光的。
进一步参考图4所示,当N>2(例如N=3时),在光刻胶层上,第一区域和靠近第一区域的第1个第二区域是紫外光通过上述掩膜板上的第一单元、第二单元进行一次曝光的,第三区域和靠近第三区域的最后1个第二区域是紫外光通过上述掩膜板上的第三单元、第二单元进行一次曝光的,光刻胶层上的中间(N-2)个第二区域是紫外光仅通过上述掩膜板上的第二单元依次进行(N-2)次曝光的。
在对掩膜板进行第1次曝光时,虽然曝光设备的发光区域被控制在掩膜板的第一单元和第二单元上方,以使紫外光通过掩膜板的第一单元和第二单元对下方的光刻胶层的第一区域和靠近第一区域的第1个第二区域进行曝光,但是由于曝光设备的局限性,部分光线会通过掩膜板的第三单元靠近第二单元边缘,使得第三单元中第1个数字标识图案下方的光刻胶层也被连带着曝光了,导致光刻胶层经过曝光、显影后,后(N-1)个第二区域中的每根第1根信号线的一端难以形成原本设定的导电数字标识。
同样的,在对掩膜板进行第2次曝光时,无论第2次曝光的是掩膜板上的第二单元和第三段单元(即针对N=2的情况)或者,曝光的是掩膜板上的单独的一个第二单元(即针对N>2的情况),受限于曝光设备的局限性,部分光线会通过掩膜板的第一单元靠近第二单元边缘,使得第一单元中最后1个数字标识图案下方的对应于前次曝光形成的光刻胶层的第二区域的也被连带着再次曝光了,导致后续光刻胶层显影后,前(N-1)个第二区域中的每根最后1根信号线的一端无法形成原本设定的导电数字标识。
因此,为了保护拼接曝光区域靠近拼接线附近的光刻胶,本发明实施例1提供的上述掩膜板进一步做如下设计:
如图5所示,为便于编号的设计,沿第一单元11指向第三单元13的方向,每个标识组121中的N个数字标识图案1210的数字均由大到小依次排列,即图5中的每个标识组中的2个数字标识图案的数字按照从(61 41)、(62 42)……到(79 59)、(80 60)的方式进行排列,图5中仅以N=2为例进行示意。
其中,上述第一单元11还包括:位于最后1个数字标识图案111靠近第二单元12一侧的(N-1)个保护图案112,(N-1)个保护图案112与第二单元12中的最后1个标识组121中的除第1个数字标识图案1210之外的其余(N-1)个数字标识图案1210一一对应;该保护图案112用于在第二单元12重复拼接曝光时,保护第二单元12前一次曝光后与最后1个标识组121中其余(N-1)个数字标识图案1210对应区域的光刻胶;
这样一来,参考图3所示,当上述掩膜板的第一单元、第二单元对光刻胶层上的第一区域、第1个第二区域进行曝光后,在后一次掩膜板的第二单元、第三单元对光刻胶层上的第2个第二区域、第三区域进行曝光时,掩膜板的第一单元中位于最后1个数字标识图案靠近第二单元12一侧的1个保护图案(即图3中靠近数字“40”的“■”)能够在第二单元12重复拼接曝光时,保护第二单元12前一次曝光后与最后1个标识组121中其余(N-1)个数字标识图案1210对应区域的光刻胶,而掩膜板的第二单元的最后一个标识组的数字80的图案对光刻胶层的第1个第二区域进行曝光后,在第二单元对光刻胶层的第2个第二区域进行曝光时,靠近的第一单元的最后一个数字40的图案又对之前数字80的图案曝光过的区域进行了重复曝光,最终显影后的光刻胶数字为80与40重叠在一起的无效数字,从而使得第二单元第1次曝光后的光刻胶层上的第1个第二区域经过后续的显影处理后,在最后1根光刻胶走线的一端能够形成有效标记该光刻胶走线的数字为60。
上述保护图案对于N>2的参考图4所示的掩膜方式同样适用,本发明实施例1对此不再赘述。
和/或,参考图5所示,上述第三单元13还包括:位于第1个数字标识图案131靠近第二单元12一侧的(N-1)个保护图案132,(N-1)个保护图案132与第二单元12中的第1个标识组121中的除最后1个数字标识图案1210之外的其余(N-1)数字标识图案1210一一对应;该保护图案132用于在第二单元12重复拼接曝光时,保护第二单元12后一次曝光时与第1个标识组121中其余(N-1)个数字标识图案1210对应区域的光刻胶。
这样一来,参考图3所示,当上述掩膜板的第一单元、第二单元对光刻胶层上的第一区域、第1个第二区域进行曝光后,第三单元的第1个数字标识图案131(该数字例如为81)和靠近第二单元12一侧的一个保护图案132(即图3中靠近数字“81”的“■”)对下方的光刻胶层也进行了曝光,其中,保护图案用于保护下方的光刻胶。当上述掩膜板的第二单元、第三单元对光刻胶层上的第2个第二区域、第三区域进行曝光时,第二单元第2次曝光时的第1个标识组对之前第三单元的第1个数字标识图案和保护图案已经曝光的光刻胶进行了再次曝光,其中,保护图案与第1个标识组中的第1个数字标识图案相对应,能够在显影后形成有效的光刻胶数字标识,即数字61,而第三单元的第1个数字标识图案(即数字81)与第1个标识组中的其余数字标识图案(即数字41)相对应,这部分的光刻胶经过了数字81和数字41这两个图案的重复曝光,最终显影后形成的光刻胶数字为81与41重叠在一起的无效数字,从而使得第二单元第2次曝光后的光刻胶层上的第2个第二区域经过后续的显影处理后,在第1根光刻胶走线的一端能够形成有效标记该光刻胶走线的数字为61。
上述保护图案对于N>2的参考图4所示的掩膜方式同样适用,本发明实施例1对此不再赘述。
需要说明的,当采用掩膜板进行曝光的光刻胶为正性光刻胶时,数字标识图案为不透光的数字,保护图案为遮光块(Block),且遮光块的面积大于对应的不透光的数字的面积,以使得重复拼接曝光时遮光块能够完全覆盖住待保护的光刻胶区域。
或者,当采用掩膜板进行曝光的光刻胶为负性光刻胶时,数字标识图案为透光的数字,保护图案为透光块,透光块的面积大于对应的透光的数字的面积,以使得重复拼接曝光时透光块能够完全覆盖住待保护的光刻胶区域。
上述图3至图5仅以采用掩膜板进行曝光的光刻胶为正性光刻胶时,数字标识图案为不透光的数字,相应的保护图案为遮光块(即不透光可阻挡紫外光)为例进行说明,本发明实施例对于采用掩膜板进行曝光的光刻胶为负性光刻胶的情况同样适用,具体说明不再赘述。
进一步的,以上仅以掩膜板中沿第一单元指向第三单元的方向,每个标识组中的N个数字标识图案的数字均由大到小依次排列的情况为例,对第一单元和/或第二单元中的保护图案及其设置方式进行了说明,本发明实施例1提供的上述掩膜板对于沿第一单元指向第三单元的方向,每个标识组中的N个数字标识图案的数字均由小到大依次排列的情况同样适用,第一单元和/或第二单元中的保护图案及其设置方式相应地调整为:
第一单元还包括:位于最后1个数字标识图案远离第二单元一侧的(N-1)个保护图案,(N-1)个保护图案与第二单元中的最后1个标识组中的除最后1个数字标识图案之外的其余(N-1)数字标识图案一一对应;保护图案用于在第二单元重复拼接曝光时,保护第二单元前一次曝光后形成的与其余(N-1)个数字标识图案对应的光刻胶数字;和/或,第三单元还包括:位于第1个数字标识图案远离第二单元一侧的(N-1)个保护图案,(N-1)个保护图案与第二单元中的第1个标识组中的除第1个数字标识图案之外的其余(N-1)数字标识图案一一对应;保护图案用于在第二单元重复拼接曝光时,保护第二单元后一次曝光时待形成的与其余(N-1)个数字标识图案对应的光刻胶区域。
各单元中的保护图案作用可参见前述说明,此处不再赘述。
为了更便于工厂以及客户在基板的不同侧直观地查看具体信号线对应的导电数字标识,本发明实施例1进一步优选为,上述第一单元还包括:位于X1个走线图案的另一端且分别标记每个走线图案的X1个数字标识图案,同一个走线图案两端的数字标识图案的数字相同;上述第二单元还包括:位于X2个走线图案的一端且分别标记每个走线图案的X2个标识组,每个标识组均包含N个数字标识图案,同一个走线图案两端的标识组包括的N个数字标识图案的排列方式和数字均相同;上述第三单元还包括:位于X3个走线图案的另一端且分别标记每个走线图案的X3个数字标识图案,同一个走线图案两端的数字标识图案的数字相同。
即所有走线图案的两端均有一套数字标识图案,以使得在基板上形成的所有信号线的两端也均有一套导电数字标识。
实施例2
进一步的,本发明实施例2提供了一种信号线及数字标识的制备方法,包括:
步骤S1、在衬底基板上依次形成导电膜层和光刻胶层;其中,光刻胶层划分为依次排列的第一区域、N个第二区域和第三区域,N≥2,沿第一区域指向第三区域的方向,N个第二区域包括:依次排列的第1个第二区域至最后1个第二区域;
步骤S2、通过上述实施例1提供的掩膜板对上述的光刻胶层进行曝光,包括:
步骤S21、使掩膜板的第一单元、第二单元分别与光刻胶层的第一区域、第1个第二区域正对应,对第一区域、第1个第二区域进行曝光;
步骤S22、当N=2时,使掩膜板的第二单元、第三单元分别与光刻胶层的最后1个第二区域、第三区域正对应,对最后1个第二区域、第三区域进行曝光;
步骤S22或者为:当N>2时,使掩膜板的第二单元与光刻胶层的N个第二区域中除首尾两个第二区域之外的其余(N-2)个第二区域依次正对应,对其余(N-2)个第二区域依次进行曝光;使掩膜板的第二单元、第三单元分别与光刻胶层的最后1个第二区域、第三区域正对应,对最后1个第二区域、第三区域进行曝光;
步骤S3、对经过曝光后的光刻胶层进行显影,并对光刻胶层经过显影后露出的导电膜层的区域进行刻蚀,形成:
位于第一区域中的X1根信号线、位于X1根信号线的一端且分别标记每根信号线的X1个导电数字标识;和,位于每个第二区域中的X2根信号线、分别位于第1个第二区域中的前(X2-1)根信号线的一端的(X2-1)个导电标识组、分别位于最后1个第二区域中的后(X2-1)根信号线的一端的(X2-1)个导电标识组、分别位于其余每个第二区域中除首尾两根信号线之外的其余(X2-2)根信号线的一端的(X2-2)个导电标识组,每个导电标识组均包含N个导电数字标识;和,位于第三区域中的X3根信号线、位于X3根信号线的一端且分别标记每根信号线的X3个导电数字标识;
步骤S4、去除残留的光刻胶层。
进一步的,为便于连续数字编号的读取,在上述掩膜板中,包括有X1个走线图案、X2个走线图案和X3个走线图案的所有走线图案的同一端设置有上述的X1个数字标识图案、X2个标识组和X3个数字标识图案;相应的,在基板上,形成的包括有X1根信号线、X2根信号线和X3根信号线的所有信号线的同一端设置有X1个导电数字标识、X2个导电标识组和X3个导电数字标识。
在上述基础上进一步的,在沿掩膜板的第一单元指向第三单元的方向,每个标识组中的N个数字标识图案的数字均由大到小依次排列;其中,第一单元还包括:位于最后1个数字标识图案靠近第二单元一侧的(N-1)个保护图案,(N-1)个保护图案与第二单元中的最后1个标识组中的除第1个数字标识图案之外的其余(N-1)数字标识图案一一对应的情况下,
上述步骤S3还包括:在前(N-1)个第二区域中,形成位于每个第二区域中的最后1根信号线一端的最后1个导电标识组;其中,沿第一区域指向第三区域的方向,在每个最后1个导电标识组的第1个排列位置处形成与第一重叠标识图案对应的第一导电数字重叠标识,其余(N-1)个排列位置处分别依次形成与其余(N-1)个数字标识图案一一对应的导电数字标识;第一重叠标识图案为掩膜板的第二单元重复拼接曝光时,第一单元的最后1个数字标识图案与第二单元的最后1个标识组中的第1个数字标识图案重叠在一起的图案。
和/或,
在沿掩膜板的第一单元指向第三单元的方向,每个标识组中的N个数字标识图案的数字均由小到大依次排列;其中,第三单元还包括:位于第1个数字标识图案靠近第二单元一侧的(N-1)个保护图案,(N-1)个保护图案与第二单元中的第1个标识组中的除最后1个数字标识图案之外的其余(N-1)数字标识图案一一对应的情况下,
上述步骤S3还包括:在后(N-1)个第二区域中,形成位于每个第二区域中的第1根信号线一端的第1个导电标识组;其中,沿第一区域指向第三区域的方向,在每个第1个导电标识组的最后1个排列位置处形成与第二重叠标识图案对应的第二导电数字重叠标识,其余(N-1)个排列位置处分别依次形成与其余(N-1)个数字标识图案一一对应的导电数字标识;第二重叠标识图案为掩膜板的第二单元重复拼接曝光时,第三单元的第1个数字标识图案与第二单元的第1个标识组中的最后1个数字标识图案重叠在一起的图案。
下面提供上述制备方法的详细描述过程:
1、以N=2为例:
如图6所示,掩膜板上第一单元11中X1个数字标识图案的数字分别为A1……A2,第二单元12中的X2个标识组中的数字分别为(A5A3)……(A6A4),第三单元13中X3个数字标识图案的数字分别为A7……A8。A2靠近第二单元12的一侧还设置有对应于A4的一个遮光块,A7靠近第二单元12的一侧还设置有对应于A5的一个遮光块。A1……A2、A3……A4、A5……A6、A7……A8为由小到大依次排列的整数。
如图7所示,采用上述掩膜板对光刻胶层进行第1次曝光、第2次曝光。其中,A2旁边的遮光块“■”用于保护第1次曝光后用于形成A4图案的光刻胶,A7旁边的遮光块“■”用于保护第2次曝光后用于形成A5图案的光刻胶。
对采用上述掩膜板曝光后的光刻胶层进行显影,并对衬底基板上的导电膜层进行刻蚀后,在形成的(X1+2*X2+X3)根平行排列的信号线的一端或两端依次排列的导电数字标识为:(A1)……(A2■)、(A5A3)……(@A4)、(A5@)……(A6A4)、(■A7)……(A8)。
其中,A4旁边的“@”表示掩膜板上的A6和A2的图案在光刻胶的同一区域进行了重复曝光后经过显影、刻蚀后的形成的数字A6和A2重叠在一起的无效数字,不代表该无效数字的具体图案;A5旁边的“@”表示掩膜板上的A7和A3的图案在光刻胶的同一区域进行了重复曝光后经过显影、刻蚀后的形成的数字A7和A3重叠在一起的无效数字,不代表该无效数字的具体图案。
这样一来,在对信号线进行编号读取时,可以判断出紧邻A2的信号线的有效标识应该为A3而不是A5,同理,可以判断出紧邻A7的信号线的有效标识应该为A6而不是A4,从而使得形成的各信号线具有从A1……A2、A3……A4、A5……A6、A7……A8按照由小到大顺序排列的连续数字标识。
这里,上述的括号仅为区分相邻的标识,可以根据基板上信号线布线的密集程度及信号线周边空余区域的大小,灵活设计掩膜板上是否需要在设置数字标识图案的同时在每个数字标识图案和标识组两侧设置用于分隔的括号等图案,本发明实施例2对此不作限定。
2、以N=3为例:
如图8所示,掩膜板上第一单元11中X1个数字标识图案的数字分别为A1……A2,第二单元12中的X2个标识组中的数字分别为(A7A5A3)……(A8A6A4),第三单元13中X3个数字标识图案的数字分别为A9……A10。A2靠近第二单元12的一侧还设置有依次对应于A6、A4的两个遮光块,A9靠近第二单元12的一侧还设置有依次对应于A7、A5的遮光块。A1……A2、A3……A4、A5……A6、A7……A8、A9……A10为由小到大依次排列的整数。
如图9所示,采用上述掩膜板对光刻胶层进行第1次曝光、第2次曝光和第3次曝光。其中,A2旁边的两个遮光块“■”用于保护第1和第2次曝光后用于形成A6、A4图案的光刻胶,A9旁边的两个遮光块“■”用于保护第2和第3次曝光后用于形成A7、A5图案的光刻胶。对采用上述掩膜板曝光后的光刻胶层进行显影,并对衬底基板上的导电膜层进行刻蚀。
在形成的(X1+3*X2+X3)根平行排列的信号线的一端或两端依次排列的导电数字标识为:(A1)……(A2■■)、(A7A5A3)……(@A6A4)、(A7A5@)……(@A6A4)、(A7A5@)……(A8A6A4)、(■■A9)......(A10)。
其中,A6、A4旁边的“@”表示掩膜板上的A8和A2的图案在光刻胶的同一区域进行了重复曝光后经过显影、刻蚀后的形成的数字A8和A2重叠在一起的无效数字,不代表该无效数字的具体图案;A7、A5旁边的“@”表示掩膜板上的A9和A3的图案在光刻胶的同一区域进行了重复曝光后经过显影、刻蚀后的形成的数字A9和A3重叠在一起的无效数字,不代表该无效数字的具体图案。
这样一来,在对信号线进行编号读取时,可以判断出紧邻A2的信号线的有效标识应该为A3而不是A5或A7,靠近A1第1次出现的(@A6A4)应该读取A4而不是A6,靠近A1第1次出现的(A7A5@)应该读取A5而不是A7,之后的数字依次类推地读取,从而使得形成的各信号线具有从A1……A2、A3……A4、A5……A6、A7……A8、A9……A10按照由小到大顺序排列的连续数字标识。
这里,上述的括号仅为区分相邻的标识,可以根据基板上信号线布线的密集程度及信号线周边空余区域的大小,灵活设计掩膜板上是否需要在设置数字标识图案的同时在每个数字标识图案和标识组两侧设置用于分隔的括号等图案,本发明实施例2对此不作限定。
3、以N>3为例:
如图10所示,掩膜板上第一单元11中X1个数字标识图案的数字分别为A1……A2,第二单元12中的X2个标识组中的N个数字分别为(A5+2nA3+2n……A5A3)……(A6+2nA4+2n……A6A4),第三单元13中X3个数字标识图案的数字分别为A7+2n……A8+2n。A2靠近第二单元12的一侧还设置有对应于除第1个A6+2n之外的后(n+1)个数字的(n+1)个遮光块,A7+2n靠近第二单元12的一侧还设置有对应于除最后1个A3之外的前(n+1)个数字的(n+1)个遮光块。A1……A2、A3……A4、A5……A6、…….A3+2n……A4+2n、A5+2n……A6+2n、A7+2n……A8+2n为由小到大依次排列的整数;其中,n=N-2。
如图11所示,采用上述掩膜板对光刻胶层进行第1次曝光、第2次曝光……第(N-1)次、第N次曝光。其中,A2旁边的(n+1)个遮光块“■”用于保护前(N-1)次曝光后用于形成A4+2n、……A6、A4图案的光刻胶,A7+2n旁边的(n+1)个遮光块“■”用于保护后(N-1)次曝光后用于形成A5+2n、A3+2n、……A5图案的光刻胶。
示例的,当N=4,即n=2时,掩膜板的结构如图12所示,其中,第一单元11中X1个数字标识图案的数字分别为A1……A2,第二单元12中的X2个标识组中的N个数字分别为(A9A7A5A3)……(A10A8A6A4),第三单元13中X3个数字标识图案的数字分别为A11……A12。A2靠近第二单元12的一侧还设置有对应于除第1个A10之外的后3个数字的3个遮光块,A11靠近第二单元12的一侧还设置有对应于除最后1个A3之外的前3个数字的3个遮光块。A1……A2、A3……A4、A5……A6、…….A7……A8、A9……A10、A11……A12为由小到大依次排列的整数。
如图13所示,采用上述掩膜板对光刻胶层进行第1次曝光、第2次曝光、第3次、第4次曝光。其中,A2旁边的3个遮光块“■”用于保护前3次曝光后用于形成A8、A6、A4图案的光刻胶,A11旁边的3个遮光块“■”用于保护后3次曝光后用于形成A9、A7、A5图案的光刻胶。
对采用上述掩膜板曝光后的光刻胶层进行显影,并对衬底基板上的导电膜层进行刻蚀。在形成的(X1+3*X2+X3)根平行排列的信号线的一端或两端依次排列的导电数字标识为:(A1)……(A2■■■)、(A9A7A5A3)……(@A8A6A4)、(A9A7A5@)……(@A8A6A4)、(A9A7A5@)……(@A8A6A4)、(A9A7A5@)……(@A8A6A4)、(■■■A11)......(A12)。
其中,A8、A6、A4旁边的“@”表示掩膜板上的A10和A2的图案在光刻胶的同一区域进行了重复曝光后经过显影、刻蚀后的形成的数字A10和A2重叠在一起的无效数字,不代表该无效数字的具体图案;A9、A7、A5旁边的“@”表示掩膜板上的A11和A3的图案在光刻胶的同一区域进行了重复曝光后经过显影、刻蚀后的形成的数字A11和A3重叠在一起的无效数字,不代表该无效数字的具体图案。
这样一来,在对信号线进行编号读取时,可以判断出紧邻A2的信号线的有效标识应该为A3而不是A5、A7或A9,靠近A1第1次出现的(@A8A6A4)应该读取A4而不是A8或A6,靠近A1第1次出现的(A9A7A5@)应该读取A5而不是A9或A7,之后的数字依次类推地读取,从而使得形成的各信号线具有从A1……A2、A3……A4、A5……A6、A7……A8、A9……A10、A11……A12按照由小到大顺序排列的连续数字标识。
这里,上述的括号仅为区分相邻的标识,可以根据基板上信号线布线的密集程度及信号线周边空余区域的大小,灵活设计掩膜板上是否需要在设置数字标识图案的同时在每个数字标识图案和标识组两侧设置用于分隔的括号等图案,本发明实施例2对此不作限定。
实施例3
本发明实施例3提供了一种基板,包括:衬底基板,以及位于衬底基板上采用上述实施例2所述的制备方法形成的各信号线和各导电数字标识。
该基板具体可以为应用于显示装置中的阵列基板,该信号线具体可以为数据线和/或扫描线,即数据线及其导电数字标识可以采用上述实施例2所述的制备方法形成,导电数字标识可以设置于数据线的一端或两端;和/或,扫描线及其导电数字标识可以采用上述实施例2所述的制备方法形成,导电数字标识可以设置于扫描线的一端或两端。
需要说明的是,由于数据线与扫描线位于不同层,二者之间还设置有多层绝缘层,故用于标记数据线的导电数字标识与用于标记扫描线的导电数字标识相互之间不会产生影响。
实施例4
本发明实施例4提供了一种显示装置,包括上述实施例3所述的基板。
上述显示装置可以是液晶显示装置或有机电致发光显示装置,具体可以为显示器、电视、数码相框、手机、平板电脑、导航仪、智能手表等具有任何显示功能的产品或者部件。
以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (8)

1.一种掩膜板,包括:依次排列的第一单元、第二单元和第三单元;所述第一单元包括:X1个走线图案;所述第二单元包括:X2个走线图案;所述第三单元包括:X3个走线图案;X1、X3≥1,X2≥3;所述X1个走线图案、所述X2个走线图案和所述X3个走线图案均平行排列;其特征在于,
所述第一单元还包括:位于所述X1个走线图案的一端且分别标记每个走线图案的X1个数字标识图案;沿所述第一单元指向所述第三单元的方向,所述X1个数字标识图案的数字为按照由小到大的顺序排列的X1个连续整数;
所述第二单元还包括:位于所述X2个走线图案的一端且分别标记每个走线图案的X2个标识组,每个标识组均包含N个数字标识图案,所述X2个标识组中所有数字标识图案的数字为N*X2个连续整数,N≥2;其中,沿所述第一单元指向所述第三单元的方向,所述X2个标识组中位于相同排列位置处的数字标识图案的数字为由小到大排列的X2个连续整数,所述第二单元中的第1个标识组中的N个数字标识图案的最小数字比所述第一单元中的最后1个数字标识图案的数字大1;
所述第三单元还包括:位于所述X3个走线图案的一端且分别标记每个走线图案的X3个数字标识图案;沿所述第一单元指向所述第三单元的方向,所述X3个数字标识图案的数字为按照由小到大的顺序排列的X3个连续整数,且所述第三单元中的第1个数字标识图案的数字比所述第二单元中的最后1个标识组中的N个数字标识图案的最大数字大1;
所述第一单元还包括:位于所述X1个走线图案的另一端且分别标记每个走线图案的X1个数字标识图案,同一个走线图案两端的所述数字标识图案的数字相同;
所述第二单元还包括:位于所述X2个走线图案的一端且分别标记每个走线图案的X2个标识组,每个标识组均包含N个数字标识图案,同一个走线图案两端的所述标识组包括的N个数字标识图案的排列方式和数字均相同;
所述第三单元还包括:位于所述X3个走线图案的另一端且分别标记每个走线图案的X3个数字标识图案,同一个走线图案两端的所述数字标识图案的数字相同。
2.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,沿所述第一单元指向所述第三单元的方向,每个标识组中的所述N个数字标识图案的数字均由大到小依次排列;其中,
所述第一单元还包括:位于最后1个数字标识图案靠近所述第二单元一侧的(N-1)个保护图案,所述(N-1)个保护图案与所述第二单元中的最后1个标识组中的除第1个数字标识图案之外的其余(N-1)个数字标识图案一一对应;所述保护图案用于在所述第二单元重复拼接曝光时,保护所述第二单元前一次曝光后与最后1个标识组中其余(N-1)个数字标识图案对应区域的光刻胶;
和/或,
所述第三单元还包括:位于第1个数字标识图案靠近所述第二单元一侧的(N-1)个保护图案,所述(N-1)个保护图案与所述第二单元中的第1个标识组中的除最后1个数字标识图案之外的其余(N-1)个数字标识图案一一对应;所述保护图案用于在所述第二单元重复拼接曝光时,保护所述第二单元后一次曝光时与第1个标识组中其余(N-1)个数字标识图案对应区域的光刻胶。
3.根据权利要求2所述的掩膜板,其特征在于,
当采用所述掩膜板进行曝光的光刻胶为正性光刻胶时,所述数字标识图案为不透光的数字,所述保护图案为遮光块,且所述遮光块的面积大于对应的所述不透光的数字的面积;
或者,当采用所述掩膜板进行曝光的光刻胶为负性光刻胶时,所述数字标识图案为透光的数字,所述保护图案为透光块,所述透光块的面积大于对应的所述透光的数字的面积。
4.一种信号线及数字标识的制备方法,包括:在衬底基板上依次形成导电膜层和光刻胶层;所述光刻胶层划分为依次排列的第一区域、N个第二区域和第三区域,N≥2,沿所述第一区域指向所述第三区域的方向,所述N个第二区域包括:依次排列的第1个第二区域至最后1个第二区域;其特征在于,所述制备方法还包括:
通过如权利要求1至3任一项所述的掩膜板对所述光刻胶层进行曝光,包括:
使所述掩膜板的所述第一单元、所述第二单元分别与所述光刻胶层的所述第一区域、第1个第二区域正对应,对所述第一区域、所述第1个第二区域进行曝光;
当N=2时,
使所述掩膜板的所述第二单元、所述第三单元分别与所述光刻胶层的所述最后1个第二区域、所述第三区域正对应,对所述最后1个第二区域、所述第三区域进行曝光;
当N>2时,
使所述掩膜板的所述第二单元与所述光刻胶层的所述N个第二区域中除首尾两个所述第二区域之外的其余(N-2)个第二区域依次正对应,对所述其余(N-2)个第二区域依次进行曝光;
使所述掩膜板的所述第二单元、所述第三单元分别与所述光刻胶层的所述最后1个第二区域、所述第三区域正对应,对所述最后1个第二区域、所述第三区域进行曝光;
对经过曝光后的所述光刻胶层进行显影,并对所述光刻胶层经过所述显影后露出的所述导电膜层的区域进行刻蚀,形成:
位于所述第一区域中的X1根信号线、位于所述X1根信号线的一端且分别标记每根信号线的X1个导电数字标识;和,
位于每个所述第二区域中的X2根信号线、分别位于所述第1个第二区域中的前(X2-1)根信号线的一端的(X2-1)个导电标识组、分别位于所述最后1个第二区域中的后(X2-1)根信号线的一端的(X2-1)个导电标识组、分别位于其余每个所述第二区域中除首尾两根所述信号线之外的其余(X2-2)根信号线的一端的(X2-2)个导电标识组,每个导电标识组均包含N个导电数字标识;和,
位于所述第三区域中的X3根信号线、位于所述X3根信号线的一端且分别标记每根信号线的X3个导电数字标识;
去除残留的所述光刻胶层。
5.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,形成的包括有所述X1根信号线、所述X2根信号线和所述X3根信号线的所有信号线的同一端设置有所述X1个导电数字标识、所述X2个导电标识组和所述X3个导电数字标识。
6.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于,
在沿所述掩膜板的所述第一单元指向所述第三单元的方向,每个标识组中的所述N个数字标识图案的数字均由大到小依次排列;其中,所述第一单元还包括:位于最后1个数字标识图案靠近所述第二单元一侧的(N-1)个保护图案,所述(N-1)个保护图案与所述第二单元中的最后1个标识组中的除第1个数字标识图案之外的其余(N-1)个数字标识图案一一对应的情况下,
对经过曝光后的所述光刻胶层进行显影,并对所述光刻胶层经过所述显影后露出的所述导电膜层的区域进行刻蚀,还包括:
在前(N-1)个所述第二区域中,形成位于每个所述第二区域中的最后1根信号线一端的最后1个导电标识组;其中,沿所述第一区域指向所述第三区域的方向,在每个所述最后1个导电标识组的第1个排列位置处形成与第一重叠标识图案对应的第一导电数字重叠标识,其余(N-1)个排列位置处分别依次形成与其余(N-1)个数字标识图案一一对应的导电数字标识;所述第一重叠标识图案为所述掩膜板的所述第二单元重复拼接曝光时,所述第一单元的最后1个数字标识图案与所述第二单元的最后1个标识组中的第1个数字标识图案重叠在一起的图案;
和/或,
在沿所述掩膜板的所述第一单元指向所述第三单元的方向,每个标识组中的所述N个数字标识图案的数字均由小到大依次排列;其中,所述第三单元还包括:位于第1个数字标识图案靠近所述第二单元一侧的(N-1)个保护图案,所述(N-1)个保护图案与所述第二单元中的第1个标识组中的除最后1个数字标识图案之外的其余(N-1)个数字标识图案一一对应的情况下,
对经过曝光后的所述光刻胶层进行显影,并对所述光刻胶层经过所述显影后露出的所述导电膜层进行刻蚀,还包括:
在后(N-1)个所述第二区域中,形成位于每个所述第二区域中的第1根信号线一端的第1个导电标识组;其中,沿所述第一区域指向所述第三区域的方向,在每个所述第1个导电标识组的最后1个排列位置处形成与第二重叠标识图案对应的第二导电数字重叠标识,其余(N-1)个排列位置处分别依次形成与其余(N-1)个数字标识图案一一对应的导电数字标识;所述第二重叠标识图案为所述掩膜板的所述第二单元重复拼接曝光时,所述第三单元的第1个数字标识图案与所述第二单元的第1个标识组中的最后1个数字标识图案重叠在一起的图案。
7.一种基板,包括:衬底基板;其特征在于,所述基板还包括:位于所述衬底基板上采用如权利要求4至6任一项所述的制备方法形成的所述信号线和所述导电数字标识。
8.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求7所述的基板。
CN201810215487.3A 2018-03-15 2018-03-15 掩膜板、信号线及数字标识的制备方法、基板及显示装置 Active CN108363271B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810215487.3A CN108363271B (zh) 2018-03-15 2018-03-15 掩膜板、信号线及数字标识的制备方法、基板及显示装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810215487.3A CN108363271B (zh) 2018-03-15 2018-03-15 掩膜板、信号线及数字标识的制备方法、基板及显示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN108363271A CN108363271A (zh) 2018-08-03
CN108363271B true CN108363271B (zh) 2021-02-23

Family

ID=63000361

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810215487.3A Active CN108363271B (zh) 2018-03-15 2018-03-15 掩膜板、信号线及数字标识的制备方法、基板及显示装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN108363271B (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110471259B (zh) * 2019-06-19 2021-12-14 上海华力微电子有限公司 芯片拼接方法

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101833201A (zh) * 2009-03-12 2010-09-15 北京京东方光电科技有限公司 扫描线序号的标注方法和掩膜板
CN202177777U (zh) * 2011-05-16 2012-03-28 京东方科技集团股份有限公司 一种液晶显示器用掩膜板
CN102687078A (zh) * 2010-01-25 2012-09-19 夏普株式会社 曝光装置、液晶显示装置及其制造方法
CN102819183A (zh) * 2012-08-24 2012-12-12 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板、采用掩膜板制作阵列基板的方法、阵列基板
CN103189799A (zh) * 2010-12-03 2013-07-03 夏普株式会社 显示面板用基板和基板曝光方法
CN105676495A (zh) * 2016-04-14 2016-06-15 深圳市华星光电技术有限公司 检测单元、阵列基板、液晶显示装置以及检测方法
CN106201072A (zh) * 2016-06-30 2016-12-07 厦门天马微电子有限公司 一种触控显示装置
CN206773687U (zh) * 2017-04-28 2017-12-19 厦门天马微电子有限公司 触控显示面板和触控显示装置

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3789351B2 (ja) * 2001-11-30 2006-06-21 株式会社日立製作所 反射型液晶表示装置及びその製造方法
KR101725893B1 (ko) * 2014-06-24 2017-04-12 엘지디스플레이 주식회사 터치스크린 패널 일체형 표시장치 및 제조방법

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101833201A (zh) * 2009-03-12 2010-09-15 北京京东方光电科技有限公司 扫描线序号的标注方法和掩膜板
CN102687078A (zh) * 2010-01-25 2012-09-19 夏普株式会社 曝光装置、液晶显示装置及其制造方法
CN103189799A (zh) * 2010-12-03 2013-07-03 夏普株式会社 显示面板用基板和基板曝光方法
CN202177777U (zh) * 2011-05-16 2012-03-28 京东方科技集团股份有限公司 一种液晶显示器用掩膜板
CN102819183A (zh) * 2012-08-24 2012-12-12 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板、采用掩膜板制作阵列基板的方法、阵列基板
CN105676495A (zh) * 2016-04-14 2016-06-15 深圳市华星光电技术有限公司 检测单元、阵列基板、液晶显示装置以及检测方法
CN106201072A (zh) * 2016-06-30 2016-12-07 厦门天马微电子有限公司 一种触控显示装置
CN206773687U (zh) * 2017-04-28 2017-12-19 厦门天马微电子有限公司 触控显示面板和触控显示装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN108363271A (zh) 2018-08-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106940490B (zh) 一种彩膜基板及其制备方法、显示装置
TWI553534B (zh) 電容式觸控面板及其製作方法及觸控顯示裝置
EP1921490A1 (en) Method of forming identification marks for a display substrate and a display device using the same
CN108271417B (zh) 触控基板、触控面板、触控显示装置、掩模板、制造方法
CN106909258B (zh) 一种触摸屏功能片引线的结构及其制作方法
KR20140070104A (ko) 터치스크린 패널의 제조방법
US20160306450A1 (en) Method for manufacturing touch panel, touch panel and touch display device
US20160048238A1 (en) Display substrate and manufacturing method thereof, and display device
US20170060303A1 (en) Method for manufacturing touch panel, touch panel and touch display device
CN103033975A (zh) 一种掩膜板以及利用掩膜板构图的方法
CN109614008B (zh) 双面图案化的方法及触控面板的制造方法
CN108363271B (zh) 掩膜板、信号线及数字标识的制备方法、基板及显示装置
TWI442152B (zh) 顯示裝置及其製造方法
JP2014016935A (ja) フィルム状静電容量型タッチパネルの製造方法
CN103049122B (zh) 显示装置及其制作方法
CN106129071B (zh) 一种阵列基板的制作方法及相应装置
CN102422212A (zh) 液晶面板的制造方法、液晶面板用玻璃基板和具备该液晶面板用玻璃基板的液晶面板
CN115718405A (zh) 显示基板的制备方法、显示基板、显示面板和显示装置
KR101513649B1 (ko) 표시 기판 및 이의 제조 방법
KR20070065077A (ko) 터치 스크린 패널 및 이의 제조 방법
CN107045258B (zh) 光罩以及采用所述光罩在产品表面制作日期编码的方法
KR101390767B1 (ko) 표시소자 제조방법
KR20140022501A (ko) 터치 스크린 패널의 전극 형성방법 및 그러한 방법으로 형성된 전극을 갖는 터치 스크린 패널
CN111983889B (zh) 掩膜板装置、显示器、曝光机
CN113970978B (zh) 大型触控感应图案的制造方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant