CN202177777U - 一种液晶显示器用掩膜板 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种液晶显示器用掩膜板，用于解决大尺寸、高分辨率、高刷新频率液晶面板在生产过程中，使用小尺寸掩膜板进行组合曝光时，曝光交界线缝合程度不好，影响显示质量甚至造成不良品的技术问题。本实用新型提供的数据线层掩膜板将数据线曝光时的曝光交界线的位置调整至像素中，有效解决大尺寸、高分辨率、高刷新频率液晶面板制造过程中组合曝光的问题，使两次曝光交界线两条数据线之间的距离和数据线宽度不受影响，从而提高显示质量以及良品率，降低生产成本。

Description

一种液晶显示器用掩膜板

技术领域

本实用新型涉及掩膜板设计技术，尤其涉及一种液晶显示器用掩膜板。

背景技术

随着液晶显示的发展，对液晶面板的尺寸、分辨率、刷新频率也提出了越来越高的要求。然而，对于大尺寸、高分辨率、高刷新频率的液晶面板来说，在实际的生产中，掩膜板的尺寸总是小于面板尺寸，一块完整的液晶面板总是由掩膜板多次组合曝光而形成的。在组合曝光的过程中，曝光交界线(Stitch)的曝光精度就显得尤为重要，如果两次曝光交界线掩膜板的缝合程度不好，就会对该部分的像素图案造成影响，从而影响显示质量，甚至造成良品率下降。

图1是现有技术中为了提高刷新频率而采取的像素设计，像素设计采用对称的结构，图1中每个方块表示一个子像素，上下两个子像素共用一条栅线，上下两个子像素的数据分别由左右两边的数据线提供。该像素设计中为了增加开口率以及分辨率，两条数据线之间的距离很小，一般为几个微米；而且曝光时，曝光交界线刚好位于两条数据线之间，如图2所示。图2中的虚线即为两次曝光的曝光交界线，由于两条数据线之间的距离很小，因此，对曝光交界线的曝光精度要求非常高，如果缝合程度不好，就会对该部分的像素图案造成影响，从而影响显示质量，甚至造成良品率下降。

发明内容

有鉴于此，本实用新型的目的在于提供一种液晶显示器用掩膜板，解决现有技术中掩膜板设计对曝光交界线的曝光精度要求非常高，容易对部分像素图案造成影响，产生不良品的技术问题。

为达到上述目的，本实用新型的技术方案是这样实现的：

本实用新型提供一种液晶显示器用掩膜板，该掩膜板两个曝光区域之间的交界线位于子像素的像素区内。

基于本实用新型一具体实施例，所述掩膜板两个曝光区域之间包含交界区域，所述交界区域的与数据线相邻的两条边分别到所述交界区域两侧的两根数据线之间的中心点的距离之和(L1+L2)等于每个子像素在横向或纵向的宽度。

进一步地，所述交界区域完全不透光，用于对曝光区域边界外不需要曝光的区域进行保护。

4、根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述交界区域的与数据线相邻的两条边分别到所述交界区域两侧的两根数据线或栅线之间的中心点的距离相等，即L1和L2相等。

基于本实用新型另一具体实施例，所述掩膜板两个曝光区域之间包含交界区域，所述交界区域的与数据线相邻的两条边分别到所述交界区域两侧的两根数据线之间的中心点的距离之和(L1+L2)大于每个子像素在横向或纵向的宽度。

进一步地，所述交界区域完全不透光，用于对曝光区域边界外不需要曝光的区域进行保护。

进一步地，所述交界区域的与数据线相邻的两条边分别到所述交界区域两侧的两根数据线之间的中心点的距离相等，即L1和L2相等。

进一步地，在所述曝光区域中至少两相邻的子像素的像素区之间设置有两根数据线或两根栅线。

进一步地，所述两根数据线或两根栅线彼此相平行。

本实用新型将数据线曝光时的曝光交界线的位置调整至像素中，可以有效解决大尺寸、高分辨率、高刷新频率液晶面板制造过程中组合曝光的问题，使两次曝光交界线两条数据线之间的距离和数据线宽度不受影响，从而提高显示质量以及良品率，降低生产成本。

附图说明

图1为现有技术像素设计示意图；

图2为现有技术中曝光交界线(stitch)的位置示意图；

图3为本实用新型实施例提供的数据线层掩膜板的示意图；

图4为本实用新型实施例提供的数据线层掩膜板交界区域(D)与其它曝光区域(A、B、C)之间的位置关系图；

图5为使用本实用新型实施例提供的数据线层掩膜板进行A与B交界线曝光的过程示意图；

图6为另一使用本实用新型实施例提供的数据线层掩膜板进行A与B交界线曝光的过程示意图。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明白，以下举实施例并参照附图，对本实用新型进一步详细说明。

本实用新型提供的数据线层掩膜板，由于将曝光交界线的位置调整至像素中间，位于子像素之间的距离很小的两条数据线都是由一次曝光形成，因此可以保证两条数据线之间的距离和宽度。

在本实用新型一优选实施例中，一块完整的掩膜板由A、B、C三个曝光区域组成，如图3所示，掩膜板上A与B、B与C之间还包含交界区域，交界区域如图4中的D所示。其中A、B、C区域用以形成液晶显示器数据线层图案，D区域完全不透光，用于对曝光区域边界外不需要曝光的区域进行保护。

本实用新型将现有技术中位于两条数据线之间的交界区域D移到了子像素中间，即本实用新型中，两个曝光区域之间的曝光交界线位于子像素中间。

以图4为例，本实用新型一优选实施例中，交界区域D的两边分别与两边两根数据线之间的中心的距离之和(L1+L2)等于每个子像素在横向或纵向的宽度(L)，优选地，交界区域D的两边分别与两边两根数据线之间的中心的距离(L1、L2)相等，即L1＝L2。

以图4为例，本实用新型一优选实施例中，由于曝光时存在误差，为了增加工艺的空白Margin，交界区域D的两边分别与两边两根数据线之间的中心的距离之和(L1+L2)大于每个子像素在横向或纵向的宽度(L)，即L1+L2＞L，约十几个um，优选地，交界区域的两边分别与两边两根数据线之间的中心的距离(L1、L2)相等，即L1＝L2。

利用本实用新型的掩膜板对玻璃基板进行曝光的过程为：

步骤1、利用掩膜板的B区域对玻璃基板进行曝光，此时A和C区域被遮光板(Blade)遮挡不进行曝光。

步骤2、利用掩膜板的A区域对玻璃基板上B区域旁边未曝光的区域进行曝光，此时B和C区域被遮光板(Blade)遮挡不进行曝光。

步骤3、重复利用掩膜板的A、B或C区域对玻璃基板上需要曝光的区域进行曝光，就可以完成整个大尺寸面板的数据线层的曝光。

曝光后形成的Stitch左右两边数据线之间的中心距离大于等于一个子像素的宽度L。

曝光时，在基板上A与B、B与B、B与C交界线的曝光过程相同，以A与B交界线的曝光过程来说明，如图5所示，先曝光B区域，然后利用A区域对玻璃基板上B区域旁边未曝光的区域进行曝光。

A与B交界线的曝光过程也可以如图6所示，先曝光A区域，B和C区域被遮光板遮挡不进行曝光(由于作图空间有限因此图5和图6中未画出C区域)，然后利用B区域对玻璃基板上A区域旁边未曝光的区域进行曝光，A和C区域被遮光板遮挡不进行曝光，曝光后形成的Stitch与左右两边数据线之间的中心距离大于等于一个子像素的宽度L。

本实用新型也可以先采用掩膜板A、B、C区域中的任一区域对玻璃基板进行曝光，然后根据需要分别再利用A、或B、或C区域进行曝光。

以上所述，仅为本实用新型的较佳实施例而已，并非用于限定本实用新型的保护范围。

Claims (9)

1.一种液晶显示器用掩膜板，其特征在于，

掩膜板两个曝光区域之间的交界线位于子像素的像素区内。

2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，

所述掩膜板两个曝光区域之间包含交界区域，所述交界区域的与数据线相邻的两条边分别到所述交界区域两侧的两根数据线之间的中心点的距离之和(L1+L2)等于每个子像素在横向或纵向的宽度。

3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述交界区域完全不透光，用于对曝光区域边界外不需要曝光的区域进行保护。

4.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，

所述交界区域的与数据线相邻的两条边分别到所述交界区域两侧的两根数据线或栅线之间的中心点的距离相等，即L1和L2相等。

5.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，

所述掩膜板两个曝光区域之间包含交界区域，所述交界区域的与数据线相邻的两条边分别到所述交界区域两侧的两根数据线之间的中心点的距离之和(L1+L2)大于每个子像素在横向或纵向的宽度。

6.根据权利要求5所述的掩膜板，其特征在于，所述交界区域完全不透光，用于对曝光区域边界外不需要曝光的区域进行保护。

7.根据权利要求5所述的掩膜板，其特征在于，

所述交界区域的与数据线相邻的两条边分别到所述交界区域两侧的两根数据线之间的中心点的距离相等，即L1和L2相等。

8.根据权利要求1至7任一项所述的掩膜板，其特征在于，在所述曝光区域中至少两相邻的子像素的像素区之间设置有两根数据线或两根栅线。

9.根据权利要求8所述的掩膜板，其特征在于，所述两根数据线或两根栅线彼此相平行。 

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