CN108271417B - 触控基板、触控面板、触控显示装置、掩模板、制造方法 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种触控基板，包括：衬底基板；以及衬底基板上的触控电极层，其包括具有多个第一网格电极图案的第一区域、具有与所述多个第一网格电极图案对应的多个第二网格电极图案的第二区域、以及第一区域和第二区域之间的接口区域。所述多个第一网格电极图案中的每一个包括具有第一线宽的多个第一网格电极线。对应的第二网格电极图案包括与所述多个第一网格电极线对应并且具有第一线宽的多个第二网格电极线。接口区域中的第一网格电极线具有不小于第一线宽的第二线宽。

Description

触控基板、触控面板、触控显示装置、掩模板、制造方法

技术领域

本发明涉及触控显示技术，更具体地，涉及触控基板、具有该触控基板的触控面板和触控显示装置、掩模板、及其制造方法。

背景技术

近年来，大尺寸触控显示面板变得流行。传统触控显示面板通常将氧化铟锡用作触控电极材料。然而，对于大尺寸触控显示面板而言，使用氧化铟锡触控电极存在一些问题。由于氧化铟锡材料的电阻相对较大，因此大尺寸触控显示面板需要具有相对大厚度的氧化铟锡触控电极。相对大的厚度导致显示面板中透光率较低。具有由其它材料制成的触控电极的高显示质量大尺寸触控显示面板已成为研发重点。

发明内容

一方面，本公开提供了一种触控基板，包括：衬底基板；衬底基板上的触控电极层，其包括具有多个第一网格电极图案的第一区域、具有与所述多个第一网格电极图案对应的多个第二网格电极图案的第二区域、以及在第一区域和第二区域之间的接口区域；所述多个第一网格电极图案中的每一个包括具有第一线宽的多个第一网格电极线，对应的第二网格电极图案包括与所述多个第一网格电极线对应并且具有第一线宽的多个第二网格电极线；所述多个第一网格电极线从第一区域延伸进入接口区域；一对对应的第一网格电极线和第二网格电极线在接口区域中彼此电连接；其中接口区域中的第一网格电极线具有不小于第一线宽的第二线宽。

可选地，接口区域中的第一网格电极线相对于对应的第二网格电极线偏移。

可选地，接口区域中的第一网格电极线相对于对应的第二网格电极线偏移了小于第一线宽的偏移宽度。

可选地，接口区域的沿着从第二区域至第一区域的方向的宽度在约1mm至约5mm的范围内。

可选地，接口区域中的第一网格电极线具有实质上均匀的宽度；第二线宽与第一线宽实质上相同。

可选地，第一网格电极线与第二网格电极线在接口区域中彼此直接连接。

可选地，第一网格电极线与第二网格电极线通过宽度大于第一线宽和第二线宽的接口电极块电连接。

可选地，触控电极层还包括沿着触控电极层的边缘的外围网格电极图案，其包括线宽大于第一线宽的多个外围网格电极线。

可选地，第一线宽和第二线宽为约8μm；外围网格电极线的线宽在约13μm至约20μm的范围内。

可选地，触控电极层是金属网格触控电极层，所述多个第一网格电极图案是多个第一金属网格电极图案，所述多个第二网格电极图案是多个第二金属网格电极图案。

可选地，触控电极层为触控感应电极层；触控基板还包括触控扫描电极层和位于触控感应电极层和触控扫描电极层之间的绝缘层；触控扫描电极层包括：具有多个第三网格电极图案的第三区域、具有与所述多个第三网格电极图案对应的多个第四网格电极图案的第四区域、以及第三区域和第四区域之间的第二接口区域；所述多个第三网格电极图案中的每一个包括具有第三线宽的多个第三网格电极线，对应的第四网格电极图案包括与所述多个第三网格电极线对应并且具有第三线宽的多个第四网格电极线；所述多个第三网格电极线从第三区域延伸进入第二接口区域；一对对应的第三网格电极线和第四网格电极线在第二接口区域中彼此电连接；其中接口区域中的第三网格电极线具有不小于第三线宽的第四线宽。

另一方面，本公开提供了一种用于制造网格电极触控电极层的掩模板，包括：多个第一掩模图案，所述多个第一掩模图案中的每一个包括具有第一线宽的多个第一掩模线；以及第二掩模图案，其包括具有第二线宽的多个第二掩模线，第二线宽大于第一线宽，所述多个第二掩模线沿着掩模板的边缘布置。

可选地，第一线宽为约8μm；第二线宽在约13μm至约20μm的范围内。

另一方面，本公开提供了一种制造触控电极层的方法，包括：在衬底基板上形成包括导电电极材料的导电电极材料层；在导电电极材料层的远离衬底基板的一侧形成包括光刻胶材料的光刻胶层；将上述掩模板置于光刻胶层的第一区域上；第一区域对应于所述多个第一掩模图案；利用掩模板对光刻胶层的第一区域进行曝光；对第一区域中的曝光后的光刻胶层进行显影，以得到这样的光刻胶图案，其包括第一区域中的与所述多个第一掩模图案对应的第一部分和第一区域中的位于第一部分之外的第二部分，第二部分中的光刻胶材料被去除；以及去除第二部分中的导电电极材料层，从而形成第一区域中的多个第一网格电极图案；所述多个第一网格电极图案中的每一个包括具有第一线宽的多个第一网格电极线。

可选地，掩模板置于光刻胶层的第一区域和外围区域上；外围区域对应于第二掩模图案；利用掩模板对光刻胶层的第一区域和外围区域进行曝光；并且光刻胶图案还包括外围区域中的与第二掩模图案对应的第三部分和外围区域中的位于第三部分之外的第四部分，第四部分中的光刻胶材料被去除；所述方法还包括：去除第四部分中的导电电极材料层，从而形成外围区域中的外围网格电极图案；外围网格电极图案包括具有第二线宽的多个外围网格电极线，第二线宽大于第一线宽。

可选地，所述方法还包括：将掩模板置于光刻胶层上；掩模板的与所述多个第一掩模图案对应的第一部分置于光刻胶层的第二区域上；掩模板的与第二掩模图案对应的第二部分置于光刻胶层的接口区域上；第二区域与第一区域不重叠；接口区域与第一区域重叠；在接口区域中所述多个第二掩模线完全覆盖所述多个第一网格电极线；利用掩模板对光刻胶层的第二区域和接口区域进行曝光；对第二区域和接口区域中的曝光后的光刻胶层进行显影，以得到这样的光刻胶图案，其包括第二区域中的与所述多个第一掩模图案对应的第五部分、接口区域中的与第二掩模图案对应的第六部分、以及第二区域和接口区域中的位于第五部分和第六部分之外的第七部分；第六部分中的光刻胶材料被去除；以及去除第六部分中的导电电极材料层，从而形成第二区域中的多个第二网格电极图案；所述多个第二网格电极图案中的每一个包括与所述多个第一网格电极线对应的多个第二网格电极线；接口区域中的所述多个第一网格电极线保留而未被去除；一对对应的第一网格电极线和第二网格电极线在接口区域中彼此电连接；接口区域中保留的第一网格电极线具有不小于第一线宽的第三线宽。

另一方面，本公开提供了一种制造触控面板的方法，包括：在衬底上形成黑矩阵层；以及根据上述方法来形成触控电极层；其中形成黑矩阵层包括：在衬底基板上形成包括黑矩阵材料的黑矩阵材料层；黑矩阵材料层的远离衬底基板的一侧形成第二光刻胶层；将第二掩模板置于第二光刻胶层的第一区域上；第二掩模板具有与黑矩阵层的一部分对应的第一透光部分以及位于黑矩阵层之外的第二透光部分；利用挡板遮挡与第二透光部分对应的区中的第二光刻胶层使其免遭曝光；利用第二掩模板和挡板对第二光刻胶层的第一区域进行曝光；对第一区域中的曝光后的第二光刻胶层进行显影，以得到与第一透光部分对应的第二光刻胶图案；位于第一区域中的与第一透光部分对应的区之外的光刻胶材料被去除；以及去除第一区域中与第一透光部分对应的区之外的的黑矩阵材料。

可选地，所述方法还包括：在第二光刻胶层的其它区域中重复形成黑矩阵层的步骤，直到形成黑矩阵层。

可选地，触控电极层是触控感应电极层；所述方法还包括：根据上述方法形成触控扫描电极层；以及在触控感应电极层与触控扫描电极层之间形成绝缘层。

另一方面，本公开提供了一种触控面板，包括本文所述的触控基板或通过本文所述的方法制造的触控基板。

另一方面，本公开提供了一种触控显示装置，包括本文所述的触控面板。

附图说明

以下附图仅是根据所公开的各实施例的用于说明目的的示例，而不旨在限制本发明的范围。

图1A至图1B示出了根据本公开的一些实施例中的构图工艺。

图2A至图2B示出了根据本公开的一些实施例中的构图工艺。

图3A至图3B示出了根据本公开的一些实施例中的构图工艺。

图4A至图4B示出了根据本公开的一些实施例中的构图工艺。

图5A至图5B示出了根据本公开的一些实施例中的构图工艺。

图6A至图6C示出了根据本公开的一些实施例中的构图工艺。

图7A至图7B示出了根据本公开的一些实施例中的构图工艺。

图8A至图8B示出了根据本公开的一些实施例中的构图工艺。

图9是示出根据本公开的一些实施例中的触控基板的结构的图。

图10是图9中的虚线区Z的放大视图。

图11是示出根据本公开的一些实施例中的接口区域周围的触控电极层的结构的图。

图12是示出根据本公开的一些实施例中的触控基板的结构的图。

图13是示出根据本公开的一些实施例中的触控基板的结构的图。

图14是示出根据本公开的一些实施例中的掩模板的结构的图。

图15是示出根据本公开的一些实施例中的掩模板的结构的图。

图16示出了利用根据本公开的一些实施例中的掩模板对光刻胶层进行曝光的处理。

图17A至图17E示出了根据本公开的一些实施例中的在触控面板中形成黑矩阵层的处理。

具体实施方式

现在将参照以下实施例更加具体地描述本公开。需注意，以下对一些实施例的描述仅出于示意和描述的目的而呈现于此。其不旨在是穷尽性的或者受限于所公开的确切形式。

用于形成触控电极层的传统掩模板小于大尺寸(例如，65英寸或更大)触控面板。在制造具有金属网格触控电极层的大尺寸触控面板时，为了获得完整的触控电极层，需要在基板的不同区域上将使用同一掩模板的构图工艺重复多次。通常，在部分重叠的两个相邻区域中相继执行两次构图工艺。若在两个不重叠的区域中相继执行两次构图工艺，则在两个区域中形成的金属网格电极不是电连接的。

图1A至图1B示出了根据本公开的一些实施例中的构图工艺。参见图1A,在第一构图工艺中，在第一构图区域PR1(包括重叠构图区域OR)中形成第一网格电极线MEL1。一旦形成第一网格电极线MEL1，就利用具有掩模线ML2的掩模板执行第二构图工艺。如图1A所示，在第二构图区域PR2中执行第二构图工艺，第二构图区域PR2与第一构图区域PR1重叠，形成重叠构图区域OR。掩模线ML2与在第一构图工艺中形成的第一网格电极线MEL1不重叠。

参见图1B，当完成第二构图工艺时，去除(例如，在第二构图工艺期间刻蚀)重叠构图区域OR中的第一网格电极线MEL1。在重叠构图区域OR之外的第二构图区域PR2中形成第二网格电极线MEL2。如图1B所示，第一网格电极线MEL1和第二网格电极线MEL2不是电连接的。

图2A至图2B示出了根据本公开的一些实施例中的构图工艺。参见图2A,在第一构图工艺中，在第一构图区域PR1(包括重叠构图区域OR)中形成第一网格电极线MEL1。一旦形成第一网格电极线MEL1，就利用具有掩模线ML2的掩模板执行第二构图工艺。如图2A所示，在第二构图区域PR2中执行第二构图工艺，第二构图区域PR2与第一构图区域PR1重叠，形成重叠构图区域OR。掩模线ML2与在第一构图工艺中形成的第一网格电极线MEL1部分重叠。

参见图2B，当完成第二构图工艺时，去除(例如，在第二构图工艺期间刻蚀)重叠构图区域OR中的第一网格电极线MEL1的一部分。在重叠构图区域OR之外的第二构图区域PR2中形成第二网格电极线MEL2。如图2B所示，重叠构图区域OR中的第一网格电极线MEL1的线宽小于重叠构图区域OR之外的第一网格电极线MEL1的线宽。

图3A至图3B示出了根据本公开的一些实施例中的构图工艺。参见图3A,在第一构图工艺中，在第一构图区域PR1(包括重叠构图区域OR)中形成第一网格电极线MEL1。第一网格电极线MEL1与要在第二构图工艺中使用的掩模线ML2呈一角度。一旦形成第一网格电极线MEL1，就利用具有掩模线ML2的掩模板执行第二构图工艺。如图3A所示，在第二构图区域PR2中执行第二构图工艺，第二构图区域PR2与第一构图区域PR1重叠，形成重叠构图区域OR。掩模线ML2与在第一构图工艺中形成的第一网格电极线MEL1部分重叠。

参见图3B，当完成第二构图工艺时，去除(例如，在第二构图工艺期间刻蚀)重叠构图区域OR中的第一网格电极线MEL1的一部分。在重叠构图区域OR之外的第二构图区域PR2中形成第二网格电极线MEL2。如图3B所示，重叠构图区域OR中的第一网格电极线MEL1为开路，并且第二网格电极线MEL2不与位于重叠构图区域OR之外的第第一网格电极线MEL1电连接。

图4A至图4B示出了根据本公开的一些实施例中的构图工艺。与图3A所示的工艺类似，图4A中的掩模线ML2与在第一构图工艺中形成的第一网格电极线MEL1仅部分重叠。结果，当完成第二构图工艺时，去除重叠构图区域OR中的第一网格电极线MEL1的一部分。重叠构图区域OR中的第一网格电极线MEL1具有不均匀的宽度。

因此，在制造具有金属网格触控电极层的大尺寸触控面板的过程中，在重叠构图区域出现许多问题，导致触控面板中缺陷发生率高。因此，本发明特别提供了一种触控基板、具有该触控基板的触控面板和触控显示装置、掩模板、及其制造方法，其基本消除了由于大尺寸触控面板制造的局限和缺陷而导致的问题中的一个或多个。

图5A至图5B示出了根据本公开的一些实施例中的构图工艺。参见图5A，在第一构图工艺中，在第一构图区域PR1(包括重叠构图区域OR)中形成第一网格电极线MEL1。一旦形成第一网格电极线MEL1，就利用具有掩模线ML2的掩模板执行第二构图工艺。如图5A所示，在第二构图区域PR2中执行第二构图工艺，第二构图区域PR2与第一构图区域PR1重叠，形成重叠构图区域OR。掩模线ML2具有位于重叠构图区域OR中的第一部分和位于在重叠构图区域OR之外的第二构图区域PR2中的第二部分。掩模线ML2的第一部分的宽度大于第一网格电极线MEL1的宽度。此外，第一部分的宽度足以使其覆盖(例如，完全覆盖)重叠构图区域OR中的第一网格电极线MEL1。

参见图5B，当完成第二构图工艺时，重叠构图区域OR中的第一网格电极线MEL1保持完好，即，在第二构图工艺中不去除重叠构图区域OR中的第一网格电极线MEL1。在重叠构图区域OR之外的第二构图区域PR2中形成第二网格电极线MEL2。如图5B所示，重叠构图区域OR中的第一网格电极线MEL1具有均匀线宽，该线宽不小于位于重叠构图区域OR之外的第一网格电极线MEL1的线宽。可选地，重叠构图区域OR中的第一网格电极线MEL1的宽度与位于重叠构图区域OR之外的第一网格电极线MEL1的宽度基本相同。在图5A中，第一部分具有矩形形状。第一网格电极线MEL1和第二网格电极线MEL2在重叠构图区域OR电连接。

图6A至图6C示出了根据本公开的一些实施例中的构图工艺。参见图6A，在第一构图工艺中，在第一构图区域PR1(包括重叠构图区域OR)中形成第一网格电极线MEL1。第一网格电极线MEL1与要在第二构图工艺中使用的掩模线ML2呈一角度。掩模线ML2具有位于重叠构图区域OR中的第一部分和位于重叠构图区域OR之外的第二构图区域PR2中的第二部分。掩模线ML2的第一部分的宽度大于第一网格电极线MEL1的宽度，并且足以使其覆盖(例如，完全覆盖)重叠构图区域OR中的第一网格电极线MEL1。第一部分具有平行四边形形状。重叠构图区域OR中的第一网格电极线MEL1的宽度与重叠构图区域OR之外的第一网格电极线MEL1的宽度基本相同。第一网格电极线MEL1和第二网格电极线MEL2在重叠构图区域OR电连接。

在图6A中，位于重叠构图区域OR中的掩模线ML2的第一部分沿着与位于第二构图区域PR2中的掩模线ML2的第二部分基本平行的方向延伸。参见图6C，一些实施例中的掩模线ML2的第一部分沿着与位于重叠构图区域OR中的第一网格电极线MEL1基本平行的方向延伸。掩模线ML2的第一部分的宽度大于第一网格电极线MEL1的宽度，并且足以使其覆盖(例如，完全覆盖)重叠构图区域OR中的第一网格电极线MEL1。可选地，第一部分具有平行四边形形状。通过该设计，第一网格电极线MEL1可以被宽度比在图6A中的宽度小的掩模线ML2的第一部分覆盖。

掩模线ML2的第一部分可具有任何合适形状。图7A至图7B示出了根据本公开的一些实施例中的构图工艺。如图7A所示，掩模线ML2的第一部分的宽度大于第一网格电极线MEL1的宽度，并且足以使其覆盖(例如，完全覆盖)重叠构图区域OR中的第一网格电极线MEL1。第一部分具有矩形形状。

在图5A至图5B、图6A至图6C、以及图7A至图7B中，第一网格电极线MEL1和第二网格电极线MEL2在重叠构图区域OR中彼此直接连接。可选地，它们可以通过接口电极块电连接。图8A至图8B示出了根据本公开的一些实施例中的构图工艺。参见图8A，掩模线ML2的第一部分覆盖重叠构图区域OR和第二构图区域PR2中的小区域。结果，当完成第二构图工艺时，在第二构图区域PR2中形成接口电极块IEB。第一网格电极线MEL1与第二网格电极线MEL2电连接。

因此，一方面，本公开提供了一种触控基板，其包括衬底基板和位于衬底基板上的触控电极层。在一些实施例中，触控电极层包括：第一区域，其具有多个第一网格电极图案；第二区域，其具有与所述多个第一网格电极图案对应的多个第二网格电极图案；以及接口区域，其位于第一区域和第二区域之间；所述多个第一网格电极图案中的每一个包括具有第一线宽的多个第一网格电极线，对应的第二网格电极图案包括与所述多个第一网格电极线对应的具有第一线宽的多个第二网格电极线；所述多个第一网格电极线从第一区域延伸进入接口区域；一对对应的第一网格电极线和第二网格电极线在接口区域中彼此电连接。

图9是示出根据本公开的一些实施例中的触控基板的结构的图。参见图9，触控基板的触控电极层包括第一区域R1、第二区域R2以及在第一区域R1和第二区域R2之间的接口区域IR。在第一区域R1中，触控电极层包括多个第一网格电极图案MEP1。在第二区域R2中，触控电极层包括与所述多个第一网格电极图案MEP1对应的多个第二网格电极图案MEP2。如图9所示，所述多个第一网格电极图案MEP1中的每一个包括具有第一线宽的多个第一网格电极线MEL1。所述多个第二网格电极图案MEP2中的每一个包括具有第一线宽的多个第二网格电极线MEL2。所述多个第一网格电极线MEL1从第一区域R1延伸进入接口区域IR。一对对应的第一网格电极线MEL1和第二网格电极线MEL2在接口区域IR中彼此电连接。接口区域IR中的第一网格电极线MEL1具有不小于第一线宽的第二线宽，即，接口区域IR中的第一网格电极线MEL1不窄于第一区域R1中的第一网格电极线MEL1或者第二区域R2中的第二网格电极线MEL2。可选地，接口区域IR中的第一网格电极线MEL1的宽度与第一区域R1中的第一网格电极线MEL1的宽度和第二区域R2中的第二网格电极线MEL2的宽度基本相同。

图10是图9中的虚线区Z的放大视图。参见图10，第一网格电极线MEL1在第一区域R1中具有第一线宽W1，第二区域R2中的第二网格电极线MEL2与第一区域R1中的第一网格电极线MEL1的宽度基本相同，即，第二网格电极线MEL2同样具有第一线宽W1。接口区域IR中的第一网格电极线MEL1具有第二线宽W2。第二线宽W2不小于第一线宽W1。如图10所示，第二线宽W2与第一线宽W1基本相同。此外，接口区域IR中的第一网格电极线MEL1具有基本均匀的宽度。

可选地，接口区域IR中的第一网格电极线MEL1相对于对应的第二网格电极线MEL2偏移了偏移宽度OD。偏移宽度OD小于第一线宽W1。可选地，偏移宽度OD小于第一线宽W1的一半，例如，小于第一线宽W1的四分之一。

接口区域IR可具有任何合适宽度。可选地，接口区域IR对应于结合图5A至图5B、图6A至图6C、以及图7A至图7B讨论的由第一构图区域PR1和第二构图区域PR2共享的重叠构图区域OR。可选地，接口区域的沿着从第二区域至第一区域的方向的宽度IRW在约1mm至约5mm的范围内，例如，在约1mm至约3mm的范围内。

在图10中，第一网格电极线MEL1和第二网格电极线MEL2在接口区域IR中彼此直接连接。在一些实施例中，第一网格电极线和第二网格电极线通过接口电极块电连接。图11是示出根据本公开的一些实施例中的接口区域周围的触控电极层的结构的图。参见图11，第一网格电极线MEL1和第二网格电极线MEL2通过接口电极块IEB电连接。接口电极块IEB沿着与第一网格电极线MEL1和第二网格电极线MEL2的宽度方向基本平行的方向具有宽度IEBW。可选地，宽度IEBW大于第一线宽W1和第二线宽W2。

图12是示出根据本公开的一些实施例中的触控基板的结构的图。参见图12，实施例中的触控基板的触控电极层还包括具有多个外围网格电极线PMEL的外围网格电极图案PMEP。外围网格电极图案PMEP沿着触控电极层的边缘布置，即，外围网格电极图案PMEP不与另一触控电极图案相邻。可选地，外围网格电极图案PMEP的外围网格电极线PMEL沿着触控电极层的边缘与多条触控电极信号线(未在图12中示出)连接。

外围网格电极线的线宽大于第一网格电极线或第二网格电极线的第一线宽。例如，在一些触控电极层中，第一线宽和第二线宽为约8μm；外围网格电极线的线宽在约13μm至约20μm的范围内。可选地，外围网格电极线具有约16μm的线宽。

可使用各种合适的导电电极材料来制作本公开中的触控电极层的网格电极图案。在一些实施例中，用于制作网格电极图案的导电电极材料为透明导电电极材料。用于制作触控电极层的网格电极图案的导电电极材料的示例包括但不限于金属网、银纳米线、碳纳米管、纳米网、石墨烯和诸如聚(3,4-乙烯二氧噻吩)聚苯乙烯磺酸(PEDOT：PSS)之类的导电聚合物。可选地，网格电极图案由诸如纳米银网之类的金属网制成。

在一些实施例中，触控电极层可包括一个以上的外围网格电极图案或一个以上的接口区域。图13是示出根据本公开的一些实施例中的触控基板的结构的图。参见图13，实施例中的触控电极层包括第一区域R1、第二区域R2、第三区域R3和第四区域R4。第一区域R1、第二区域R2、第三区域R3和第四区域R4可以是例如利用同一掩模板的四个构图工艺的结果。例如，第一区域R1可在第一构图工艺中形成，第二区域R2在接着第一构图工艺的第二构图工艺中形成，第三区域R3在接着第二构图工艺的第三构图工艺中形成，第四区域R4在最后的构图工艺中形成。第一构图工艺可在第一构图区域中进行，第二构图工艺可在第二构图区域中进行，第二构图区域与第一构图区域重叠，并且重叠构图区域与第二接口区域IR2的一部分(第二接口区域IR2的右半部分)对应。第三构图工艺可在第三构图区域中进行，第三构图区域与第一构图区域重叠，并且重叠构图区域与第一接口区域IR1的一部分(第一接口区域IR1的下半部分)对应。第四构图工艺可在第四构图区域中进行，第四构图区域与第二构图区域重叠，并且重叠构图区域与第一接口区域IR1的一部分(第一接口区域IR1的上半部分)对应。第四构图区域也与第三构图区域重叠，并且重叠构图区域与第二接口区域IR2的一部分(第二接口区域IR2的左半部分)对应。

如图13所示，实施例中的触控电极层包括两个接口区域，即，第一接口区域IR1和第二接口区域IR2。第一接口区域IR1位于第一区域R1和第三区域R3之间以及第二区域R2和第四区域R4之间。触控电极层包括两个外围网格电极图案，即，第一外围网格电极图案PMEP1和第二外围网格电极图案PMEP2。第一外围网格电极图案PMEP1沿着触控电极层的第一边缘，第二外围网格电极图案PMEP2沿着触控电极层的第二边缘。

在一些实施例中，触控基板为互电容触控基板。触控基板包括触控感应电极层和触控扫描电极层、以及位于触控感应电极层和触控扫描电极层之间的绝缘层。可选地，触控感应电极层为具有触控感应电极图案的如本文所述的网格电极层，触控扫描电极层同样是具有触控扫描电极图案的如本文所述的网格电极层。例如，在一些实施例中，触控感应电极层包括具有多个第一网格电极图案的第一区域、具有与所述多个第一网格电极图案对应的多个第二网格电极图案的第二区域、以及在第一区域和第二区域之间的第一接口区域；所述多个第一网格电极图案中的每一个包括具有第一线宽的多个第一网格电极线，对应的第二网格电极图案包括与所述多个第一网格电极线对应的具有第一线宽的多个第二网格电极线；所述多个第一网格电极线从第一区域延伸进入第一接口区域；一对对应的第一网格电极线和第二网格电极线在第一接口区域中彼此电连接。触控扫描电极层包括具有多个第三网格电极图案的第三区域、具有与所述多个第三网格电极图案对应的多个第四网格电极图案的第四区域、以及在第三区域和第四区域之间的第二接口区域；所述多个第三网格电极图案中的每一个包括具有第三线宽的多个第三网格电极线，对应的第四网格电极图案包括与所述多个第三网格电极线对应的具有第三线宽的多个第四网格电极线；所述多个第三网格电极线从第三区域延伸进入第二接口区域；一对对应的第三网格电极线和第四网格电极线在第二接口区域中彼此电连接。第一接口区域中的第一网格电极线具有不小于第一线宽的第二线宽。第二接口区域中的第三网格电极线具有不小于第三线宽的第四线宽。可选地，第一线宽与第二线宽基本相同。可选地，第三线宽与第四线宽基本相同。可选地，第一线宽、第二线宽、第三线宽和第四线宽均基本相同。

另一方面，本公开提供了一种用于制造本文所述的网格电极触控电极层的掩模板。在一些实施例中，掩模板包括：多个第一掩模图案，所述多个第一掩模图案中的每一个包括具有第一线宽的多个第一掩模线；以及第二掩模图案，其包括具有第二线宽的多个第二掩模线，第二线宽大于第一线宽，所述多个第二掩模线沿着掩模板的边缘布置。

图14是示出根据本公开的一些实施例中的掩模板的结构的图。参见图14，实施例中的掩模板包括多个第一掩模图案MP1和第二掩模图案MP2。所述多个第一掩模图案MP1中的每一个包括具有第一线宽的多个第一掩模线ML1。第二掩模图案MP2包括具有第二线宽的多个第二掩模线ML2，第二线宽大于第一线宽。如图14所示，所述多个第二掩模线ML2沿着掩模板的边缘布置。

可选地，第一线宽为约8μm；第二线宽在约13μm至约20μm的范围内。可选地，第二线宽为约16μm。

图15是示出根据本公开的一些实施例中的掩模板的结构的图。参见图15，实施例中的掩模板包括多个第一掩模图案MP1、第二掩模图案MP2和第三掩模图案MP3。所述多个第一掩模图案MP1中的每一个包括具有第一线宽的多个第一掩模线ML1。第二掩模图案MP2包括具有第二线宽的多个第二掩模线ML2，第二线宽大于第一线宽。第三掩模图案MP3包括具有第三线宽的多个第三掩模线ML3，第三线宽大于第一线宽。如图15所示，所述多个第二掩模线ML2沿着掩模板的第一边缘布置，所述多个第三掩模线ML3沿着掩模板的第二边缘布置。

可选地，第一线宽为约8μm；第二线宽在约13μm至约20μm的范围内；第三线宽在约13μm至约20μm的范围内。可选地，第二线宽为约16μm。可选地，第三线宽为约16μm。

在一些实施例中，可利用本公开的掩模板来制造没有外围网格电极图案的触控电极层，该外围网格电极图案具有线宽大于第一线宽的多个外围网格电极线。图16示出了利用根据本公开的一些实施例中的掩模板对光刻胶层进行曝光的处理。如图16所示，在衬底基板上沉积导电电极材料层(未在图16中明确示出)，在导电电极材料层上形成光刻胶层，并且在第一构图区域(例如，与图13中的第一区域R1对应的区域)放置图15的掩模板用于曝光和显影。实施例中的掩模板包括多个第一掩模图案MP1、第二掩模图案MP2和第三掩模图案MP3。所述多个第一掩模图案MP1中的每一个包括具有第一线宽的多个第一掩模线ML1。第二掩模图案MP2包括具有第二线宽的多个第二掩模线ML2，第二线宽大于第一线宽。第三掩模图案MP3包括具有第三线宽的多个第三掩模线ML3，第三线宽大于第一线宽。如图16所示，第二掩模图案MP2和第三掩模图案MP3置于衬底基板之外。因此，外围网格电极图案将不会沿着触控电极层的边缘形成。

在一些实施例中，为了在触控电极层的第一区域(例如，要执行曝光、显影和后续刻蚀步骤的光刻胶层的第一区域)形成所述多个第一网格电极图案，可使用第二掩模板。可选地，第二掩模板是仅包括所述多个第一掩模图案而不包括第二掩模图案的掩模板。一旦形成触控电极层的第一区域中的所述多个第一网格电极图案，则将具有第二掩模图案(其包括具有较大线宽的多个第二掩模线)的掩模板用于在触控电极层的其他区域中形成网格电极图案。

另一方面，本公开提供了一种制造触控电极层的方法。在一些实施例中，所述方法包括：在衬底基板上形成包括导电电极材料的导电电极材料层；在导电电极材料层的远离衬底基板的一侧形成包括光刻胶材料的光刻胶层；将掩模板置于光刻胶层的第一区域上以进行曝光；对曝光后的光刻胶层进行显影；以及去除曝光区中的光刻胶层和导电电极材料层，从而形成多个第一网格电极图案。

可选地，可使用“常规”掩模板(即，仅具有所述多个第一掩模图案而不具有第二掩模图案的掩模板)来执行要构图的光刻胶层的第一区域中的第一构图步骤。可选地，倘若第二掩模图案置于衬底基板之外或者光刻胶层之外并且置于导电电极材料层的下面，可使用如本文所述的具有多个第一掩模图案和第二掩模图案的掩模板来执行要构图的光刻胶层的第一区域中的第一构图步骤。结果，在第一区域中仅形成多个第一网格电极图案。可选地，将在衬底基板上形成所述多个第一网格电极图案和外围网格电极图案。在一些示例中，使用如本文所述的具有多个第一掩模图案和第二掩模图案的掩模板来执行要构图的光刻胶层的第一区域中的第一构图步骤。掩模板置于光刻胶层的第一区域和外围区域上；外围区域对应于第二掩模图案；利用掩模板对光刻胶层的第一区域和外围区域进行曝光。对第一区域和外围区域中的光刻胶层进行曝光和显影，从而形成多个第一网格电极图案和外围网格电极图案。在一些实施例中，使用如本文所述的具有所述多个第一掩模图案和第二掩模图案的掩模板来执行第一构图步骤之后的后续构图步骤。

因此，在一些实施例中，制造触控电极层的方法包括：在衬底基板上形成包括导电电极材料的导电电极材料层；在导电电极材料层的远离衬底基板的一侧形成包括光刻胶材料的光刻胶层；将具有多个第一掩模图案和第二掩模图案的掩模板置于光刻胶层的第一区域上。第一区域对应于所述多个第一掩模图案。所述多个第一掩模图案中的每一个包括具有第一线宽的多个第一掩模线，第二掩模图案包括具有第二线宽的多个第二掩模线，第二线宽大于第一线宽。所述多个第二掩模线沿着掩模板的边缘排列。

可选地，所述方法还包括：利用掩模板对光刻胶层的第一区域进行曝光；对第一区域中的曝光后的光刻胶层进行显影，以得到这样的光刻胶图案，其包括第一区域中的与所述多个第一掩模图案对应的第一部分和第一区域中的位于第一部分之外的第二部分，第二部分中的光刻胶材料被去除；以及去除第二部分中的导电电极材料层，从而形成第一区域中的多个第一网格电极图案。所述多个第一网格电极图案中的每一个包括具有第一线宽的多个第一网格电极线。

在一些实施例中，掩模板置于光刻胶层的第一区域和外围区域上；外围区域对应于第二掩模图案；利用掩模板对光刻胶层的第一区域和外围区域进行曝光。如此获得的光刻胶图案包括第一区域中的与所述多个第一掩模图案对应的第一部分、第一区域中的位于第一部分之外的第二部分、外围区域中的与第二掩模图案对应的第三部分、以及外围区域中的位于第三部分之外的第四部分。一旦去除了第二部分和第四部分中的光刻胶材料，就(例如，通过刻蚀)去除第二部分和第四部分中的导电电极材料层。在第一区域中形成所述多个第一网格电极图案，在外围区域中形成外围网格电极图案。所述多个第一网格电极图案中的每一个包括具有第一线宽的多个第一网格电极线，外围网格电极图案包括具有第二线宽的多个外围网格电极线，第二线宽大于第一线宽。

然后使用具有所述多个第一掩模图案和一个或多个第二掩模图案的掩模板来执行后续构图步骤。在一些实施例中，制造触控电极层的方法包括将掩模板置于光刻胶层上。掩模板的与所述多个第一掩模图案对应的第一部分置于光刻胶层的第二区域上。掩模板的与第二掩模图案对应的第二部分置于光刻胶层的接口区域上。第二区域与第一区域不重叠。接口区域与第一区域重叠，即，接口区域是第一区域邻接第二区域的部分。掩模板布置在光刻胶层上，使得接口区域中所述多个第二掩模线完全覆盖所述多个第一网格电极线，即，接口区域中的所述多个第一网格电极线在衬底基板上的投影完全位于接口区域中的所述多个第二掩模线在衬底基板上的投影内(因为第二掩模线的线宽大于第一网格电极线的线宽)。所述方法还包括：利用掩模板对光刻胶层的第二区域和接口区域进行曝光；对第二区域和接口区域中的曝光后的光刻胶层进行显影，以得到这样的光刻胶图案，其包括第二区域中的与所述多个第一掩模图案对应的第五部分、接口区域中的与第二掩模图案对应的第六部分、以及第二区域和接口区域中的位于第五部分和第六部分之外的第七部分。去除第六部分中的光刻胶材料以暴露出第六部分中的光刻胶层下面的导电电极材料层。然后去除(例如，刻蚀)第六部分中的导电电极材料层。在构图步骤中形成的网格电极图案包括第二区域中的多个第二网格电极图案。所述多个第二网格电极图案中的每一个包括与所述多个第一网格电极线对应的多个第二网格电极线。因为第二掩模线的线宽大于第一网格电极线的线宽，所以接口区域中的所述多个第一网格电极线保留下来未被去除(例如，受光刻胶层保护且未被刻蚀)。一对对应的第一网格电极线和第二网格电极线在接口区域中彼此电连接。接口区域中保留的第一网格电极线的线宽不小于(例如，基本等于)第一线宽。

可选地，接口区域中的第一网格电极线形成为相对于对应的第二网格电极线偏移了偏移宽度。可选地，偏移宽度小于第一线宽。可选地，偏移宽度小于第一线宽的一半，例如，小于第一线宽的四分之一。

可选地，接口区域沿着从第二区域至第一区域的方向的宽度在约1mm至约5mm的范围内。

可选地，接口区域中的第一网格电极线具有与第一线宽基本相同的基本均匀的宽度。

可选地，第一网格电极线和第二网格电极线在接口区域中彼此直接连接。

可选地，第一网格电极线和第二网格电极线通过宽度大于第一线宽和第二线宽的接口电极块电连接。为了形成这样的触控电极层，可使用具有三部分的掩模板。掩模板的与所述多个第一掩模图案对应的第一部分置于光刻胶层的第二区域上。掩模板的与第二掩模图案对应的第二部分置于光刻胶层的接口区域上。掩模板的与接口电极块对应的第三部分置于光刻胶层的第二区域上(例如，参见图8A至图8B)。第三部分位于第一部分和第二部分之间。掩模板可包括与所述多个第二掩模线和所述多个第一掩模线对应的多个接口掩模块。每对对应的接口掩模块和第二掩模线可以可选地为整体件(如图8A至图8B所示)。接口区域与第一区域重叠，即，接口区域为第一区域邻接第二区域的部分。掩模板布置在光刻胶层上，使得在接口区域中所述多个第二掩模线完全覆盖所述多个第一网格电极线，即，接口区域中的所述多个第一网格电极线在衬底基板上的投影完全位于接口区域中的所述多个第二掩模线在衬底基板上的投影内(因为第二掩模线的线宽大于第一网格电极线的线宽)。所述方法还包括：利用掩模板对光刻胶层的第二区域和接口区域进行曝光；对第二区域和接口区域中的曝光后的光刻胶层进行显影，以得到这样的光刻胶图案，其包括第二区域中的与所述多个第一掩模图案和所述多个接口掩模块对应的第五部分、接口区域中的与第二掩模图案对应的第六部分、以及第二区域和接口区域中的位于第五部分和第六部分之外的第七部分。去除第六部分中的光刻胶材料以暴露出第六部分中的位于光刻胶层下面的导电电极材料层。然后去除(例如，刻蚀)第六部分中的导电电极材料层。在构图步骤中形成的网格电极图案包括第二区域中的多个第二网格电极图案和多个接口电极块。所述多个第二网格电极图案中的每一个包括与所述多个第一网格电极线对应的多个第二网格电极线。因为第二掩模线的线宽大于第一网格电极线的线宽，所以接口区域中的所述多个第一网格电极线保留下来未被去除(例如，受光刻胶层保护且未被刻蚀)。一对对应的第一网格电极线和第二网格电极线通过宽度大于第一线宽的接口电极块在接口区域中彼此电连接。接口区域中保留的第一网格电极线的线宽不小于(例如，基本等于)第一线宽。

可选地，如此形成的触控电极层包括外围网格电极图案，其包括沿着触控电极层的一个或多个边缘、线宽大于第一线宽的多个外围网格电极线。可选地，第一线宽为约8μm；外围网格电极线的线宽在约13μm至约20μm的范围内，例如，为16μm。

可使用各种合适的导电电极材料和各种合适的制造方法来制作触控电极层。例如，可例如通过溅射或气相沉积或溶液涂布在衬底上沉积导电电极材料，并对其进行构图。用于制作触控电极层的网格电极图案的导电电极材料的示例包括但不限于金属网、银纳米线、碳纳米管、纳米网、石墨烯和诸如聚(3,4-乙烯二氧噻吩)聚苯乙烯磺酸(PEDOT：PSS)之类的导电聚合物。可选地，网格电极图案由诸如纳米银网之类的金属网制成。

可选地，触控基板为互电容触控基板。所述方法包括：形成触控感应电极层；形成触控扫描电极层；以及形成触控感应电极层和触控扫描电极层之间的绝缘层。可以根据本文所述的制造触控电极层的方法来执行形成触控感应电极层的步骤和形成触控扫描电极层的步骤。

可选地，在形成触控电极层时使用的光刻胶材料为正性光刻胶材料。

另一方面，本公开提供了一种制造触控面板的方法。在一些实施例中，制造触控面板的方法包括：在衬底上形成黑矩阵层；以及根据本文所述的制造触控电极层的方法来形成触控电极层。因为用于形成黑矩阵层的掩模板也小于大尺寸显示面板，所以同样需要多个构图步骤来形成黑矩阵层。

图17A至图17E示出了根据本公开的一些实施例中的形成触控面板中的黑矩阵层的处理。参见图17A至图17E，实施例中的方法包括四个曝光步骤，Exp-1、Exp-2、Exp-3和Exp-4。在曝光之前，所述方法包括：在衬底基板上形成包括黑矩阵材料的黑矩阵材料层；以及在黑矩阵材料层的远离衬底基板的一侧形成光刻胶层。参见图17A，在第一曝光步骤Exp-1中，将掩模板MP置于光刻胶层PR的第一区域R1上。掩模板MP具有与黑矩阵层的一部分对应的第一透光部分LTP1、以及位于黑矩阵层之外的第二透光部分LTP2(对于通过处理形成的黑矩阵层BM，参见图17E)。

如图17A所示，所述方法还包括：利用挡板BP遮挡与第二透光部分LTP2对应的区中的光刻胶层PR使其免遭曝光。例如，挡板BP可置于UV光和掩模板MP之间，例如，位于掩模板MP的远离光刻胶层PR的一侧。可选地，挡板BP可置于掩模板MP和光刻胶层PR之间，例如，位于光刻胶层PR的靠近掩模板MP的一侧并且位于掩模板MP的靠近光刻胶层PR的一侧。

一旦将挡板BP置于光刻胶层PR上，所述方法还包括：利用掩模板MP和挡板BP对光刻胶层PR的第一区域R1进行曝光；对第一区域R1中的曝光后的光刻胶层PR进行显影，以得到与第一透光部分LTP1对应的光刻胶图案。去除第一区域R1中的位于与第一透光部分LTP1对应的区之外的光刻胶材料。随后，去除第一区域R1中的位于与第一透光部分LTP1对应的区之外的黑矩阵材料，从而形成黑矩阵的一部分。

如图17B至图17D所示，在光刻胶层PR的第二区域R2、第三区域R3和第四区域R4中重复构图步骤。如图17E所示，当完成四个构图步骤时，形成黑矩阵层BM。

可选地，在形成黑矩阵层时使用的光刻胶材料为负性光刻胶材料。

另一方面，本公开提供了一种具有本文所述的触控基板或者通过本文所述的方法制造的触控基板的触控面板。

另一方面，本公开提供了一种具有本文所述的触控面板或者通过本文所述的方法制造的触控面板的触控显示装置。合适的触控显示装置的示例包括但不限于电子纸、移动电话、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相册、GPS等。

已出于示意和描述目的呈现了对本发明实施例的上述描述。其并非旨在穷举或将本发明限制为所公开的确切形式或示例性实施例。因此，上述描述应当被认为是示意性的而非限制性的。显然，许多修改和变形对于本领域技术人员而言将是显而易见的。选择和描述这些实施例是为了解释本发明的原理和其最佳方式的实际应用，从而使本领域技术人员能够通过各种实施例以及适用于特定用途或所构思的实施方式的各种修改来理解本发明。本发明的范围旨在由所附权利要求及其等同形式限定，其中除非另有说明，否则所有术语以其最宽的合理意义解释。因此，术语“发明”、“本发明”等不一定将权利范围限制为具体实施例，并且对本发明示例性实施例的参考不隐含对本发明的限制，并且不应推断出这种限制。本发明仅由随附权利要求的精神和范围限定。此外，这些权利要求可涉及使用跟随有名词或元素的“第一”、“第二”等术语。这种术语应当理解为一种命名方式而不应解释为对由这种命名方式修饰的元素的数量进行限制，除非已给出具体数量。所描述的任何优点和益处不一定适用于本发明的全部实施例。应当认识到的是，本领域技术人员在不脱离随附权利要求所限定的本发明的范围的情况下可以对所描述的实施例进行变型。此外，本公开中没有元件和组件是意在贡献给公众的，无论该元件或组件是否明确地记载在随附权利要求中。

Claims (20)

1.一种触控基板，包括：

衬底基板；以及

衬底基板上的触控电极层，其包括具有多个第一网格电极图案的第一区域、具有与所述多个第一网格电极图案对应的多个第二网格电极图案的第二区域、以及在第一区域和第二区域之间的接口区域；所述多个第一网格电极图案中的每一个包括具有第一线宽的多个第一网格电极线，对应的第二网格电极图案包括与所述多个第一网格电极线对应并且具有第一线宽的多个第二网格电极线；所述多个第一网格电极线从第一区域延伸进入接口区域；一对对应的第一网格电极线和第二网格电极线在接口区域中彼此电连接；

其中接口区域中的第一网格电极线具有不小于第一线宽的第二线宽；

其中接口区域中的第一网格电极线相对于对应的第二网格电极线偏移。

2.根据权利要求1所述的触控基板，其中接口区域中的第一网格电极线相对于对应的第二网格电极线偏移了小于第一线宽的偏移宽度。

3.根据权利要求1所述的触控基板，其中接口区域的沿着从第二区域至第一区域的方向的宽度在1mm至5mm的范围内。

4.根据权利要求1所述的触控基板，其中接口区域中的第一网格电极线具有实质上均匀的宽度；第二线宽与第一线宽实质上相同。

5.根据权利要求1所述的触控基板，其中第一网格电极线与第二网格电极线在接口区域中彼此直接连接。

6.根据权利要求1所述的触控基板，其中第一网格电极线与第二网格电极线通过宽度大于第一线宽和第二线宽的接口电极块电连接。

7.根据权利要求1所述的触控基板，其中触控电极层还包括沿着触控电极层的边缘的外围网格电极图案，其包括线宽大于第一线宽的多个外围网格电极线。

8.根据权利要求7所述的触控基板，其中第一线宽和第二线宽为8μm；外围网格电极线的线宽在13μm至20μm的范围内。

9.根据权利要求1所述的触控基板，其中触控电极层是金属网格触控电极层，所述多个第一网格电极图案是多个第一金属网格电极图案，所述多个第二网格电极图案是多个第二金属网格电极图案。

10.根据权利要求1所述的触控基板，其中触控电极层为触控感应电极层；触控基板还包括触控扫描电极层和位于触控感应电极层和触控扫描电极层之间的绝缘层；触控扫描电极层包括：

具有多个第三网格电极图案的第三区域、具有与所述多个第三网格电极图案对应的多个第四网格电极图案的第四区域、以及第三区域和第四区域之间的第二接口区域；所述多个第三网格电极图案中的每一个包括具有第三线宽的多个第三网格电极线，对应的第四网格电极图案包括与所述多个第三网格电极线对应并且具有第三线宽的多个第四网格电极线；所述多个第三网格电极线从第三区域延伸进入第二接口区域；一对对应的第三网格电极线和第四网格电极线在第二接口区域中彼此电连接；

其中接口区域中的第三网格电极线具有不小于第三线宽的第四线宽。

11.一种触控面板，包括：权利要求1至10中任一项所述的触控基板和黑矩阵。

12.一种触控显示装置，包括权利要求11所述的触控面板。

13.一种用于制造如权利要求1所述的触控电极层的掩模板，包括：

多个第一掩模图案，所述多个第一掩模图案中的每一个包括具有第一线宽的多个第一掩模线；以及

第二掩模图案，其包括具有第二线宽的多个第二掩模线，第二线宽大于第一线宽，所述多个第二掩模线沿着掩模板的边缘布置。

14.根据权利要求13所述的掩模板，其中第一线宽为8μm；第二线宽在13μm至20μm的范围内。

15.一种制造触控电极层的方法，包括步骤：

在衬底基板上形成包括导电电极材料的导电电极材料层；

在导电电极材料层的远离衬底基板的一侧形成包括光刻胶材料的光刻胶层；

将权利要求13至14中任一项所述的掩模板置于光刻胶层的第一区域上；第一区域对应于所述多个第一掩模图案；

利用掩模板对光刻胶层的第一区域进行曝光；

对第一区域中的曝光后的光刻胶层进行显影，以得到这样的光刻胶图案，其包括第一区域中的与所述多个第一掩模图案对应的第一部分和第一区域中的位于第一部分之外的第二部分，第二部分中的光刻胶材料被去除；以及

去除第二部分中的导电电极材料层，从而形成第一区域中的多个第一网格电极图案；所述多个第一网格电极图案中的每一个包括具有第一线宽的多个第一网格电极线。

16.根据权利要求15所述的方法，其中掩模板置于光刻胶层的第一区域和外围区域上；外围区域对应于第二掩模图案；利用掩模板对光刻胶层的第一区域和外围区域进行曝光；并且

光刻胶图案还包括外围区域中的与第二掩模图案对应的第三部分和外围区域中的位于第三部分之外的第四部分，第四部分中的光刻胶材料被去除；

所述方法还包括：

去除第四部分中的导电电极材料层，从而形成外围区域中的外围网格电极图案；外围网格电极图案包括具有第二线宽的多个外围网格电极线，第二线宽大于第一线宽。

17.根据权利要求15所述的方法，还包括步骤：

将掩模板置于光刻胶层上；掩模板的与所述多个第一掩模图案对应的第一部分置于光刻胶层的第二区域上；掩模板的与第二掩模图案对应的第二部分置于光刻胶层的接口区域上；第二区域与第一区域不重叠；接口区域与第一区域重叠；在接口区域中所述多个第二掩模线完全覆盖所述多个第一网格电极线；

利用掩模板对光刻胶层的第二区域和接口区域进行曝光；

对第二区域和接口区域中的曝光后的光刻胶层进行显影，以得到这样的光刻胶图案，其包括第二区域中的与所述多个第一掩模图案对应的第五部分、接口区域中的与第二掩模图案对应的第六部分、以及第二区域和接口区域中的位于第五部分和第六部分之外的第七部分；第六部分中的光刻胶材料被去除；以及

去除第六部分中的导电电极材料层，从而形成第二区域中的多个第二网格电极图案；所述多个第二网格电极图案中的每一个包括与所述多个第一网格电极线对应的多个第二网格电极线；接口区域中的所述多个第一网格电极线保留而未被去除；

一对对应的第一网格电极线和第二网格电极线在接口区域中彼此电连接；

接口区域中保留的第一网格电极线具有不小于第一线宽的第三线宽。

18.一种制造触控面板的方法，包括步骤：

在衬底上形成黑矩阵层；以及

根据权利要求15至17中任一项所述的方法来形成触控电极层；

其中形成黑矩阵层的步骤包括：

在衬底基板上形成包括黑矩阵材料的黑矩阵材料层；

在黑矩阵材料层的远离衬底基板的一侧形成第二光刻胶层；

将第二掩模板置于第二光刻胶层的第一区域上；第二掩模板具有与黑矩阵层的一部分对应的第一透光部分以及位于黑矩阵层之外的第二透光部分；

利用挡板遮挡与第二透光部分对应的区中的第二光刻胶层使其免遭曝光；

利用第二掩模板和挡板对第二光刻胶层的第一区域进行曝光；

对第一区域中的曝光后的第二光刻胶层进行显影，以得到与第一透光部分对应的第二光刻胶图案；位于第一区域中的与第一透光部分对应的区之外的光刻胶材料被去除；以及

去除第一区域中的与第一透光部分对应的区之外的黑矩阵材料。

19.根据权利要求18所述的方法，还包括：

在第二光刻胶层的其它区域中重复形成黑矩阵层的步骤，直到形成黑矩阵层。

20.根据权利要求18所述的方法，其中触控电极层是触控感应电极层；所述方法还包括：根据权利要求16至18中任一项所述的方法形成触控扫描电极层；以及在触控感应电极层与触控扫描电极层之间形成绝缘层。

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