CN103189799A - 显示面板用基板和基板曝光方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供能从规定位置朝向规定方向准确地开始进行曝光的显示面板用基板和基板曝光方法。本发明的显示面板用基板具备：排列有多个像素的显示区域；以及与上述显示区域相邻的边框区域，在上述边框区域内具备对准标记，上述对准标记的中心位于从上述显示区域离开2mm以上的位置。

Description

显示面板用基板和基板曝光方法

技术领域

本发明涉及显示面板用基板和基板曝光方法。更详细地，涉及适于在取向膜的光取向处理工序等中进行的扫描曝光的显示面板用基板和针对该基板的曝光方法。

背景技术

对在液晶显示面板的TFT阵列基板和彩色滤光片基板的表面所形成的取向膜实施取向处理，以使液晶分子在规定方向取向。作为该取向处理的方法，以往一般使用基于纤维材料的摩擦，但是最近作为取代其的取向处理的方法而使用光取向处理。

光取向处理是通过从规定方向对取向膜照射光而对取向膜的表面赋予规定的取向特性的处理。此外，在本说明书中，所谓“光”并不限定于可见光线，而包含作为波长比可见光线短的电磁波的紫外线（紫外光）。作为光取向处理中的曝光方法，例如可列举如下方法：将设有规定形状的开口部的掩模以覆盖于基板整个面的方式配置，从该掩模的上方照射光。

在这样的曝光方法中，伴随基板尺寸的大型化，掩模的尺寸也需要增大，导致掩模的高价格化。另外，当掩模大型化时，容易产生由挠曲引起的开口部的位置偏移。

对此，提出如下曝光方法：其一边使用形成有狭缝状开口部的小型的掩模对基板表面的一部分区域照射光，一边使基板移动（参照专利文献1、2）。根据该曝光方法，基板表面的特定区域呈条状被曝光。另外，在该曝光方法中，在一边照射光一边使基板移动的期间，对形成于基板表面的图案进行拍摄，使用所拍摄的图像监视实际上照射的位置。由此，使得实际上曝光的区域不会偏离应曝光的区域，另外在偏离的情况进行校正。

并且，当实施这样的曝光方法时，为了使得在基板的曝光开始位置的附近能精度良好地进行曝光，在基板上形成有对准标记。在专利文献1中公开了：对于成为曝光对象的基板，在像素图案形成为格子状的区域的外侧，且在该区域的最近处，形成用于预先校正掩模相对于基板的位置、角度的作为对准标记的假图案。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：特开2007－41175号公报

专利文献2：国际公开第2007/113933号

发明内容

发明要解决的问题

即使如专利文献1那样在像素图案形成为格子状的区域的外侧，且在该区域的周边的最近处配置有对准标记的情况下，也有时曝光开始位置偏离应曝光的区域，产生被称为“跟踪不良”的曝光位置的偏移，因此有进一步改进的余地。

本发明是鉴于上述现状而完成的，其目的在于：提供能从规定位置朝向规定方向准确地开始曝光的显示面板用基板和基板曝光方法。

用于解决问题的方案

本发明人对一边使用形成有狭缝状开口部的小型的掩模对基板表面的一部分区域照射光一边使基板移动的曝光方法（换言之为扫描曝光）进行各种研讨，结果注意到在基板的曝光开始位置的附近不能精度良好地进行曝光。即，本发明人发现：在像素图案形成为格子状的区域（换言之，为曝光区域）的外侧，且在曝光区域的最近处配置有对准标记的状态下，在识别对准标记后直至完成掩模校正的期间，有时曝光区域会到达掩模下。因此，本发明人在从显示区域离开2mm以上的位置配置对准标记的中心，由此能在曝光区域到达掩模下之前完成掩模的位置和方向的调整，能从规定位置朝向规定方向准确地开始进行曝光，想到能很好地解决上述问题，结果完成了本发明。

即，本发明是显示面板用基板，具有：排列有多个像素的显示区域；以及与上述显示区域相邻的边框区域，

在上述边框区域内具备对准标记，

上述对准标记的中心位于从上述显示区域离开2mm以上的位置。

本发明的显示面板用基板适合用作应用扫描曝光的基板，上述对准标记在扫描曝光时适合用于定位。如果构成读取例如与上述对准标记的位置和方向有关的信息，调整光掩模的位置、方向的曝光系统，则能提高曝光精度。

另外，本发明是基板曝光方法，利用具备光源、光掩模、工作台以及摄像装置的曝光机对载置于上述工作台上的上述显示面板用基板进行扫描曝光，

上述扫描曝光是一边使上述显示面板用基板和上述光掩模中的至少一方移动，一边通过设于上述光掩模的透光部对上述显示区域照射从上述光源发出的光，

在上述基板曝光方法中，

在上述显示区域内进行扫描曝光前，利用上述摄像装置读取与上述对准标记的位置和方向有关的信息，

在上述光掩模从上述边框区域向上述显示区域移动的期间，基于上述信息调整上述光掩模的位置和/或方向。

此外，在本说明书中，所谓边框区域只要是显示面板用基板内的除显示区域之外的区域，则没有特别限定，例如，可列举显示面板用基板的外周区域。另外，在显示面板用基板是母玻璃基板，显示面板用基板内配置有多个显示区域的情况下，上述边框区域可以包含多个显示区域间的区域，也可以不包含。

优选上述对准标记的中心位于从上述显示区域离开50mm以内的位置。当使对准标记的中心配置于从显示区域离开50mm以上时，即使基于对准标记将掩模的位置和方向调整为最佳状态，到达显示区域的时间点的掩模的位置和方向也有可能偏离最佳状态。

作为本发明的一方式，可列举如下方式：上述显示面板用基板在上述边框区域内具备配线，上述对准标记配置于上述配线与上述显示区域之间的区域。根据该方式，能防止显示区域和对准标记的距离过大，且能防止将边框区域内的配线误识别为对准标记。

此外，上述对准标记只要是能利用摄像装置读取与位置和方向有关的信息的标记即可，其形状和材质没有特别限定。例如，作为本发明的一方式，可列举如下方式：上述对准标记利用呈列状延伸的遮光部件形成。因为是呈列状延伸的图案，所以对于得到与位置和方向两者相关的信息是有效的，因为是遮光体，所以对于利用摄像装置得到信息是有效的。另外，因为是单纯的形状，所以摄像装置识别不到的可能性小。

作为本发明的一方式，可列举如下方式：上述对准标记与显示区域内的对准图案平行地延伸。根据该方式，摄像装置能以设于边框区域内的上述对准标记为线索，准确且容易地识别显示区域内的对准图案。此外，上述对准标记和上述对准图案平行地延伸是指：由上述对准标记所包含的直线部分和上述对准图案所包含的直线部分所形成的角度不足3°，优选不足1°。

作为本发明的一方式，可列举如下方式：上述对准标记具有与显示区域内的对准图案平行的150μm以上的直线部分。如果在上述对准标记中设置与像素相同程度的长度的直线部分，则能利用摄像装置准确的决定与位置和方向有关的信息。

作为本发明的一方式，可列举如下方式：上述对准标记与显示区域内的对准图案平行地配置，且配置成虚线状。根据该方式，摄像装置能以设于边框区域内的上述对准标记为线索，准确且容易地识别显示区域内的对准图案。

作为本发明的一方式，可列举如下方式：上述显示面板用基板是用于液晶显示面板的基板，具备取向膜。光取向处理中的曝光状态与液晶显示装置的显示质量密切关联，所以如果通过在边框区域内设置上述对准标记而使光取向处理中的曝光的准确性提高，则能使液晶显示装置的显示质量优化。

发明效果

根据本发明的显示面板用基板和使用其的基板曝光方法，能从规定位置朝向规定方向准确地开始进行曝光，所以在基板的曝光开始位置的附近也能精度良好地进行曝光。

附图说明

图1是示出在实施方式1的曝光方法中对显示区域曝光前的状态的立体示意图。

图2是示出在实施方式1的曝光方法中对显示区域曝光中的状态的立体示意图。

图3是将形成于实施方式1的显示面板用基板的对准标记和与阵列基板对应的显示区域的端部放大示出的俯视示意图。

图4是示出在实施方式1的曝光方法中将显示面板用基板的方向和设于光掩模的透光部的中心线调整为平行前的状态的俯视示意图。

图5是概念性地示出实施方式1的曝光机的主要部分的构成的侧视图。

图6是示意性地示出针对使用实施方式1的曝光方法的阵列基板的光取向处理的图。

图7是示意性地示出针对使用实施方式1的曝光方法的彩色滤光片基板的光取向处理的图。

图8是针对将图6所示的阵列基板和图7所示的彩色滤光片基板贴合而构成的液晶显示面板示意性地示出各像素内的液晶分子的取向方向的图。

图9是示出用于实施方式1的曝光方法的阵列基板用光掩模的构成的俯视示意图。

图10是示出图9的光掩模和形成于阵列基板的图案的尺寸和位置的关系的图。

图11是示出用于实施方式1的曝光方法的彩色滤光片基板用光掩模和形成于彩色滤光片基板的图案的尺寸和位置的关系的图。

图12是将实施方式2的形成于显示面板用基板的对准标记放大示出的俯视示意图。

图13是将实施方式3的形成于显示面板用基板的对准标记放大示出的俯视示意图。

图14是将实施方式4的形成于显示面板用基板的对准标记放大示出的俯视示意图。

具体实施方式

实施方式1

参照图1～11对本实施方式的显示面板用基板和使用该基板的曝光方法进行说明。

图1是示出在实施方式1的曝光方法中对显示区域曝光前的状态的立体示意图，图2是示出在实施方式1的曝光方法中对显示区域曝光中的状态的立体示意图。

本实施方式的基板的曝光方法使用被称为所谓的“扫描（scan）曝光”的方式。如图1和2所示，使用形成有狭缝状透光部的掩模50，一边通过该掩模50的透光部对母玻璃基板10的表面照射紫外线一边使母玻璃基板10移动。图1、2中的箭头示出母玻璃基板10的移动方向。本实施方式的曝光方法可应用于针对形成于母玻璃基板10的取向膜实施光取向处理的工序。

母玻璃基板10用于制造液晶显示面板的阵列基板或者彩色滤光片基板，能从1张母玻璃基板10切出6张阵列基板或者彩色滤光片基板。此外，在本实施方式中，作为显示面板用基板，以母玻璃基板10为例进行了说明，但是本发明的显示面板用基板也可以是单个的阵列基板、单个的彩色滤光片基板。

在母玻璃基板10上与各阵列基板或者彩色滤光片基板对应地设有6个显示区域11。在与阵列基板对应的显示区域，相互交叉的源极信号线和栅极信号线形成为网眼状，在由源极信号线和栅极信号线所划分的各像素区域形成有薄膜晶体管和像素电极。在与彩色滤光片基板对应的显示区域，黑矩阵形成为网眼状，在由黑矩阵所划分的各像素区域形成有彩色滤光片。并且，在母玻璃基板的表面，形成有能应用光取向处理的取向膜。

在母玻璃基板10的外周区域（边框区域）设有对准标记13。该对准标记13在本实施方式的曝光方法的实施中，在开始向显示区域11曝光前，根据基板10的位置和方向预先调整掩模50的位置和方向。通过这样的调整，在对显示区域11开始进行曝光的时间点，掩模50不会急剧地较大地变位，能实现曝光位置的精度的提高，能防止曝光不均的产生。另外，因为显示区域11内的图案复杂，有可能在开始对显示区域11曝光时破坏识别显示区域11内的规定的跟踪用图案（对准图案），但是利用配置于边框区域内的规定位置的对准标记13事先进行调整，能提高跟踪用图案（对准图案）的捕捉精度。

对准标记13的中心设于从显示区域11离开2mm～50mm的位置。根据本发明人的实验，当与显示区域11相邻地配置对准标记13时（对准标记13的长度为2mm，对准标记13的中心和显示区域11的边界的距离为1mm），有80％以上的比例不能准确进行显示区域11内的跟踪用图案（对准图案）的识别。另外，当将对准标记13配置于从显示区域11离开52mm的位置时，不能准确地进行显示区域11内的跟踪用图案（对准图案）的识别的比例为1～2％程度。但是，当考虑显示装置用基板的其他设计上的要素时，多数情况难以为了配置对准标记13而将边框区域设置50mm以上。另外，在上述实验结果中，不合格率为1～2％程度，但是当对准标记13的中心和显示区域11的间隔过大时，有可能不合格率增加。

另外，读取对准标记13时的偏差量（在该时间点需要校正的量）最大为50μm程度。另一方面，一般的装置的动作状况是，例如，对位时的掩模的最大移动速度为1mm/sec，其加速度为25mm/sec²，基板的运送速度为90mm/sec。从该条件出发，可以说，为了校正50μm的偏移，对准标记13的中心和显示区域11的距离需要6.3mm。但是，例如基板的运送速度不限于90mm/se，一般的范围为50mm/sec～200mm/sec。从这些情况出发，优选对准标记13的中心和显示区域11的距离的下限为5mm以上，更优选为8mm以上。优选对准标记13的中心和显示区域11的距离的上限为20mm以下。另外，从提高识别率的观点出发，优选对准标记13配置于边框区域内的配线与显示区域之间的区域。

对准标记13的尺寸没有特别限定。对准标记13的宽度优选为10μm以上，另外，优选为50μm以下。对准标记13的基板运送方向的长度优选为150μm以上，更优选为500μm以上，另外，优选为10mm以下。从使曝光机识别对准标记13的观点出发，对准标记13的基板运送方向上的长度通常可以为1mm以下。

图3是将实施方式1的形成于显示面板用基板的对准标记和与阵列基板对应的显示区域的端部放大示出的俯视示意图。如图3所示，如果所曝光的母玻璃基板用于制造阵列基板，则在从与阵列基板对应的显示区域11离开2mm～50mm的位置形成宽度为15μm、长度为500μm程度的矩形图案作为对准标记13。矩形图案13是单纯的形状，所以在摄像装置识别不到的可能性小的方面有利。矩形图案13与源极信号线15在同一工序中形成，包含与源极信号线15相同的材料。

源极信号线15以2条为1组地配置，矩形图案13形成于该矩形图案13的中心线与在显示区域11所形成的1组源极信号线15的中心线一致的位置。通过使矩形图案13和1组源极信号线15的中心线一致，可防止摄像装置捕捉不到1组源极信号线15。摄像装置在显示区域11内将1组源极信号线15设为跟踪用图案（对准图案），由此针对显示区域11内的整体进行准确的曝光。

另外，如果所曝光的母玻璃基板用于制造彩色滤光片基板，则能在从与彩色滤光片基板对应的显示区域11离开2mm～50mm的位置形成宽度为15μm、长度为500μm程度的矩形图案作为对准标记13。该矩形图案13与黑矩阵在同一工序中形成，形成于该矩形图案13的中心线与在显示区域11所形成的黑矩阵的中心线一致的位置。摄像装置在显示区域11内将黑矩阵作为跟踪用图案（对准图案），由此针对显示区域11内的整体进行准确的曝光。

如上所述，在本实施方式的显示面板用基板中，在形成源极信号线15或者黑矩阵的工序中，能一并形成对准标记13。因此，不必追加用于形成对准标记13的特别工序，也不会导致基板制造的成本和时间的增加。

图4是示出在实施方式1的曝光方法中将显示面板用基板的方向和设于光掩模的透光部的中心线调整为平行前的状态的俯视示意图。如图4所示，在基板10相对于其运送方向（参照图4中的箭头）倾斜且与光掩模50的狭缝状透光部的中心线不平行的状态下，不能沿着设于基板10的像素的排列方向对显示区域11曝光。如果基板的运送方向的长度为2460mm，则在基板的前端与后端之间，实际上产生250μm程度的位置偏移，与此相对，跟踪用图案（对准图案）从规定位置偏移5μm以上，则难以进行识别。

相对于此，在本实施方式中，在基板10的显示区域11到达光掩模下前，对位于比显示区域11靠光掩模50侧2mm～50mm位置的对准标记13的位置和方向进行确认。并且，基于该确认结果，不停止基板10的运送地以基板10的运送方向和光掩模50的狭缝状的透光部的中心线处于期望角度（例如平行）的方式，对基板10和光掩模50中的至少一方的位置和角度进行调整。由此，能从规定位置朝向规定方向准确地开始进行曝光，所以在作为基板的曝光开始位置的显示区域11的端部也能精度良好地曝光。

图5是概念性地示出实施方式1的曝光机的主要部分的构成的侧视图。曝光机具备：对基板10照射紫外线的曝光单元51；以及用于载置基板10使其移动的工作台55。

曝光单元51具备发出紫外线的紫外线光源，构成为能隔着掩模50对基板10的表面以规定的照射角照射紫外线。光源只要根据照射对象适当选择即可，也可以是发出可见光线的光源。

另外，各曝光单元51具备摄像机构53、存储机构、对照机构以及掩模移动机构。摄像机构53能对基板10的表面进行拍摄。能应用例如CCD相机等。存储机构能预先存储成为曝光的对位基准的基准图像。对照机构对摄像机构53拍摄的图像和基准图像进行比较对照，算出实际曝光的位置和应曝光的位置的偏差。掩模移动机构基于利用对照机构对偏差的算出结果，校正掩模50的位置和/或角度。此外，对照机构取代使用基准图像，而利用对拍摄基板10的结果和拍摄掩模50的结果进行比较对照的方法，也同样地能校正掩模50的位置和/或角度。

掩模50是例如板状的部件，在规定位置设有规定尺寸形状的透光部。因此，当基板10被运送而通过掩模50的正下方时，仅通过了掩模50的透光部的正下方的区域被曝光。其结果是，基板10表面的规定的细长的线状区域被曝光。作为透光部，只要能使光（在本实施方式中为紫外线）透射，则没有特别限定，例如，可以是设于掩模的开口，也可以是形成有透明膜的部分。

另外，如图1所示，曝光机具备多个掩模50（换言之为曝光单元51）。并且，曝光单元51相对于基板10的行进方向垂直地排列。由此，能遍及基板10的整个宽度以1次扫描进行曝光。此外，各曝光单元51能分别独立地进行上述动作。

接着，对使用曝光机针对本实施方式的基板实施本发明的实施方式的曝光方法的动作进行说明。

首先，在工作台55上载置基板10。此时，以对准标记13位于利用工作台55的基板10的行进方向（图1中的箭头所指的方向）的最前方的方式放置基板10。

当开始利用工作台55进行基板10的运送时，首先形成于基板10的表面的对准标记13进入各曝光单元51的摄像机构53的视野，摄像机构53对其进行拍摄。对照机构对摄像机构53拍摄的对准标记13的图像和存储机构存储的基准图像进行比较对照，算出应曝光的位置和实际曝光的位置的偏差。并且校正机构基于该算出结果校正掩模50的位置（特别是相对于基板10的行进方向为直角方向的位置）、角度（特别是相对于基板10的行进方向的角度）。

对准标记13的中心线与形成于显示区域11的1组源极信号线15或者黑矩阵的中心线一致（参照图3）。因此，当使用对准标记13校正掩模50的位置、角度时，可得到与对形成于显示区域11的1组源极信号线15或者黑矩阵进行拍摄并校正了的情况相同的效果。此外，1组源极信号线15或者黑矩阵在显示区域11曝光时被用作作为摄像机构的拍摄对象的对准图案。

在对准标记13到达能利用摄像机构53所拍摄的位置的时间点，基板10的显示区域11没有到达掩模50的正下方。即，还没有开始进行曝光。因此，即使掩模50由于使用对准标记13的校正而较大地移动，对针对显示区域11的曝光也不带来任何影响。

当基板10进一步行进时，基板10的显示区域11进入到摄像机构53的视野。这样，摄像机构53能对形成于显示区域11的对准图案进行拍摄，基于该对准图案进行掩模50的位置和角度的校正。另外，几乎与此同时，基板10的显示区域11到达被曝光的位置。如上所述，在基板10到达该位置之前，利用对准标记13进行掩模50的位置和角度的校正。因此，在到达该位置的时间点，掩模50的位置和角度不会较大地变化。其结果是，在针对显示区域11曝光的开始位置的附近，能实现曝光位置的精度的提高，能防止曝光不均的产生。

下面，一边运送基板10一边断续地进行形成于显示区域11的对准图案的拍摄、基于拍摄的图像和基准图像的比较对照的曝光位置的偏差的算出、以及基于算出结果的掩模50的位置和角度的校正。其结果是，通过基板10的1次运送，能对规定的线状部位实施曝光。

这样，本实施方式的曝光方法在对显示区域11开始进行曝光前，使用预先形成于显示区域11的外侧的对准标记13校正掩模50的位置和角度。

为了实现这样的动作，基板10的对准标记13形成于在将基板10载置于工作台55上进行运送时能由曝光单元51的摄像机构53进行拍摄的位置。另外，形成于基板10的对准标记13的数量设为与曝光机具备的曝光单元51的数量相等的数量。

本实施方式的曝光方法可应用于实施光取向处理的工序。光取向处理能应用于各种显示模式的液晶显示面板，但尤其适合于扭转向列型垂直取向（Vertical Alignment Twisted Nematic（VATN））模式的液晶显示面板。下面，参照图6～8说明利用本实施方式的曝光方法制作VATN模式的液晶显示面板的方法。此外，在图6～8中，为了便于说明，使形成于显示区域11的图案比图3所示的图案更简化。

图6是示意性地示出针对使用实施方式1的曝光方法的阵列基板的光取向处理的图。应用于本实施方式的像素的结构没有特别限定。在此，以使用一般构成的像素为例进行说明：在由源极信号线19和栅极信号线17所包围的区域形成有像素电极21，利用薄膜晶体管控制像素的驱动。关于阵列基板，如图6所示，假设在各像素内在1其两侧的源极信号线19的大致中间（图中的线A）一为二而形成的2个区域。并且，针对各个区域，从相对于像素面的法线倾斜了规定角度θ的方向照射紫外线。紫外线相对于各区域的照射方向设为如下方向：在将分别照射的紫外线的光轴投影到像素面的情况下，这些投影的光轴与源极信号线19平行且相互相差180°。

图7是示意性地示出针对使用实施方式1的曝光方法的彩色滤光片基板的光取向处理的图。如图7所示，在彩色滤光片基板上呈格子状地形成有黑矩阵23，在由格子所区分的各像素内形成有彩色滤光片层。关于彩色滤光片基板，假设在使彩色滤光片基板与阵列基板贴合时与阵列基板的栅极信号线17处于平行的、构成像素边界的2边的大致中间（图中的线B）一为二而形成的2个区域。并且，针对各个区域，从相对于像素面的法线倾斜了规定角度θ的方向照射紫外线。紫外线相对于各区域的照射方向设为如下方向：在将分别照射的紫外线的光轴投影到像素面的情况下，这些投影的光轴与阵列基板的栅极信号线17平行且相互相差180°。

图8是针对将图6所示的阵列基板和图7所示的彩色滤光片基板贴合而构成的液晶显示面板示意性地示出各像素内的液晶分子的取向方向的图。当如上所述将实施了取向处理的基板彼此贴合而构成液晶显示面板时，如图8所示，填充于基板之间的液晶分子按照在各基板的各区域所实施的取向处理的方向、即紫外线的照射方向进行取向。其结果是，在各像素内形成有液晶分子的取向方向相互不同的多个畴区域。图8中的箭头示出位于与两基板面等距离的位置的液晶分子的取向方向。

图9是示出用于实施方式1的曝光方法的阵列基板用光掩模的构成的俯视示意图。图10是示出图9的光掩模和形成于阵列基板的图案的尺寸和位置的关系的图。此外，在图10中，为便于说明，使形成于显示区域11的图案比图3所示的图案更简化。

如图9所示，阵列基板用光掩模60是大致长方形的板状部件。并且，紫外线能通过的狭缝状的透光部61以规定的间距Px平行地形成多个。如图10所示，间距Px设定为与形成于阵列基板的源极信号线19的间距相等。另外，透光部61的宽度（短侧的尺寸）Lx设定为源极信号线19的间距的约1/2的尺寸。

图11是示出用于实施方式1的曝光方法的彩色滤光片基板用光掩模和形成于彩色滤光片基板的图案的尺寸和位置的关系的图。

彩色滤光片基板用光掩模70具备与阵列基板用光掩模60大致相同的构成（参照图9）。即，紫外线能通过的狭缝状的透光部71以规定的间距Py平行地形成多个。间距Py设定为与形成于彩色滤光片基板的黑矩阵23的间距（在此，在与阵列基板重合的情况下，与阵列基板的栅极信号线17平行的边的间距）相等。另外，透光部71的宽度（短侧的尺寸）Ly设定为黑矩阵23的间距的约1/2的尺寸。

当使用这样的掩模60、70，利用上述的曝光方法对各基板进行曝光时，各基板都是各像素的一半区域通过基板的一次移动而被曝光。然后，使曝光位置错开透光部的半间距的量，改变紫外线的照射角度，对剩下的一半区域进行曝光。其结果是，各像素的各一半区域在相互不同的方向上被进行取向处理。

实施方式2

本实施方式示出配置于显示面板用基板的边框区域的对准标记的另一例。图12是将实施方式2的形成于显示面板用基板的对准标记放大示出的俯视示意图。如图12所示，在本实施方式中，在呈面状配置的部件中设有宽度（W）为15μm、长度（L）为500μm程度的狭缝状的缺口部（去除部），该缺口部被用作对准标记。作为上述呈面状配置的部件，如果是设于从与阵列基板对应的显示区域离开2mm～50mm的位置，可使用与源极信号线在同一工序所形成的金属部件，如果是设于从与彩色滤光片基板对应的显示区域离开2mm～50mm的位置的情况，可使用与黑矩阵在同一工序所形成的遮光部件。缺口部的中心线形成于与在显示区域所形成的源极信号线或者黑矩阵的中心线一致的位置。

实施方式3

本实施方式示出配置于显示面板用基板的边框区域的对准标记的另一例。图13是将实施方式3的形成于显示面板用基板的对准标记放大示出的俯视示意图。如图13所示，在本实施方式中，对准标记具有H字形状，在宽度（W）为15μm、长度（L）为500μm程度的直线部的上端和下端，以呈直角的方式在其中点分别连接着在左右方向延伸的直线部。如果是设于从与阵列基板对应的显示区域离开2mm～50mm的位置的情况，可使用与源极信号线在同一工序所形成的金属部件，如果是设于从与彩色滤光片基板对应的显示区域离开2mm～50mm的位置的情况，可使用与黑矩阵在同一工序所形成的遮光部件。对准标记的中心线形成于与在显示区域所形成的源极信号线或者黑矩阵的中心线一致的位置。H字形状的对准标记在难以产生与其他图案的混淆的方面有利。

实施方式4

本实施方式示出配置于显示面板用基板的边框区域的对准标记的另一例。图14是将实施方式4的形成于显示面板用基板的对准标记放大示出的俯视示意图。如图14所示，在本实施方式中，对准标记是宽度（W）为15μm、全长（L）为500μm程度的虚线状的图案。如果是设于与阵列基板对应的显示区域离开2mm～50mm的位置的情况，可使用与源极信号线在同一工序所形成的金属部件，如果是设于从与彩色滤光片基板对应的显示区域离开2mm～50mm的位置的情况，可使用与黑矩阵在同一工序所形成的遮光部件。对准标记的中心线形成于与在显示区域所形成的源极信号线或者黑矩阵的中心线一致的位置。

上述的各实施方式可以在不脱离本发明的技术思想的范围内实施各种变更，例如，可以利用其他实施方式所记载的构成置换特定的实施方式所记载的构成，也可以组合各实施方式彼此。

在上述各实施方式中，对于阵列基板，示出了一边使基板在源极信号线的延伸方向移动一边曝光的构成，但是也可以是使其一边在栅极信号线的延伸方向移动一边曝光的构成。在该情况下，只要变更对准标记所形成的位置、调换上述说明中的“栅极信号线”和“源极信号线”即可。

在上述各实施方式中，例示了实施光取向处理的工序，但是本发明的显示面板用基板和使用该基板的曝光方法可以应用于彩色滤光片基板的制作、阵列基板的制作。在这些情况下也是，通过将本发明应用于对准标记的配置，能得到同样的效果。

作为制作彩色滤光片基板的情况，例如可列举用于形成黑矩阵的图案的曝光、用于形成各颜色的彩色滤光片的图案的曝光。彩色滤光片的颜色没有特别限定，可以是红色、绿色、蓝色这3种颜色，而且可以是红色、绿色、蓝色、黄色这4种颜色。在该情况下，光的照射角度（θ）没有特别限定，可以是0°。

作为制作阵列基板的情况，例如可列举用于形成栅极信号线、源极信号线、绝缘膜等图案的曝光。可以在成为图案基础的各种薄膜上涂敷抗蚀剂进行曝光，而且，如果成为图案基础的各种薄膜是感光性材料，则可以直接曝光。另外，在配线等的形成中，通过呈脉冲状地反复照射进行曝光的光，也能形成除直线以外的复杂的图案。

此外，本申请以2010年12月3日申请的日本专利申请2010－270563号为基础，基于巴黎公约乃至进入国的法规要求优先权。该申请的内容的全部作为参照编入到本申请中。

附图标记说明

10：母玻璃基板

11：显示区域

13：对准标记（矩形图案）

15：源极信号线

17：栅极信号线

19：源极信号线

21：像素电极

23：黑矩阵

50：掩模

51：曝光单元

53：摄像机构

55：工作台

60：阵列基板用光掩模

61：透光部

70：彩色滤光片基板用光掩模

71：透光部

Claims (9)

1.一种显示面板用基板，其特征在于，

具有：排列有多个像素的显示区域；以及与上述显示区域相邻的边框区域，

在上述边框区域内具备对准标记，

上述对准标记的中心位于从上述显示区域离开2mm以上的位置。

2.根据权利要求1所述的显示面板用基板，其特征在于，上述对准标记的中心位于从上述显示区域离开50mm以内的位置。

3.根据权利要求1或2所述的显示面板用基板，其特征在于，

上述显示面板用基板在上述边框区域内具备配线，

上述对准标记配置于上述配线与上述显示区域之间的区域。

4.根据权利要求1～3中的任一项所述的显示面板用基板，其特征在于，上述对准标记利用呈列状延伸的遮光部件形成。

5.根据权利要求1～4中的任一项所述的显示面板用基板，其特征在于，上述对准标记与显示区域内的对准图案平行地延伸。

6.根据权利要求1～5中的任一项所述的显示面板用基板，其特征在于，上述对准标记具有与显示区域内的对准图案平行的150μm以上的直线部分。

7.根据权利要求1～3中的任一项所述的显示面板用基板，其特征在于，上述对准标记与显示区域内的对准图案平行地配置，且配置成虚线状。

8.根据权利要求1～7中的任一项所述的显示面板用基板，其特征在于，上述显示面板用基板是用于液晶显示面板的基板，具备取向膜。

9.一种基板曝光方法，其特征在于，

利用具备光源、光掩模、工作台以及摄像装置的曝光机，对载置于上述工作台上的权利要求1～8中的任一项所述的显示面板用基板进行扫描曝光，

上述扫描曝光是一边使上述显示面板用基板和上述光掩模中的至少一方移动，一边通过设于上述光掩模的透光部对上述显示区域照射从上述光源发出的光，

在上述基板曝光方法中，

在上述显示区域内进行扫描曝光前，利用上述摄像装置读取与上述对准标记的位置和方向有关的信息，

在上述光掩模从上述边框区域向上述显示区域移动的期间，基于上述信息调整上述光掩模的位置和/或方向。

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