CN109507851B - 显示面板和显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种显示面板和显示装置，显示面板包括阵列基板和与阵列基板对盒设置的对侧基板，阵列基板和对侧基板之间设有液晶层，在阵列基板上具有阵列排布的多个子像素区域，在对侧基板上面向液晶层的一侧设有至少一个追踪图案，追踪图案具有曝光时用于对对侧基板进行对位追踪的有效追踪部，有效追踪部的延伸方向沿对侧基板在曝光时的移动方向，且有效追踪部的延伸方向与子像素区域的排列方向平行。本发明在BM‑Less技术中利用UV2A技术进行配向时，能够使掩膜板和待曝光基板进行对位及追踪。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板和显示装置。
背景技术
液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)是目前市场上应用最为广泛的显示产品，液晶显示器主要包括液晶显示面板和背光模块，其中，液晶显示面板主要包括阵列基板、彩膜基板以及填充在阵列基板和彩膜基板之间的液晶，彩膜基板主要包括用于通过色阻单元(R/G/B)形成有色光的彩色滤光层、用于防止像素边缘漏光的黑色矩阵(BlackMatrix，BM)、以及用于维持盒厚的隔垫物(Photo Spacer，PS)。
COA(Color Filter on Array)技术是将彩色滤光层制备在阵列基板上的技术。由于COA结构的显示面板不存在彩膜基板与阵列基板的对位问题，因此可以降低显示面板制备过程中对盒制程的难度，避免了对盒时的误差，因此黑色矩阵可以设计为窄线宽，提高了开口率。进一步的，一种新型的BM-Less技术是基于COA技术上将BM与PS集合于同一BPS材料且同一制程完成并设计在Array基板上的一种技术，与传统的液晶显示技术比较，将黑色矩阵、隔垫物及彩色滤光层全部设计在阵列基板侧，这样不仅可以避免对盒制程中由于对盒精度的误差，或者曲面显示技术中由于面板弯曲造成的平移带来的露光，更重要的是节省一道材料及制程，缩短生产时间，降低了产品成本。此外，随着大型显示面板的发展，更佳的视觉表现也越来越高，而紫外线诱导多区域垂直配向(Ultraviolet Induced Multi-domain Vertical Alignment，UV2A)技术是具有多项优点的显示技术，制程简单且有着更广的视角与更快的应答速度，若是搭配BM-Less技术则可以更好的降低成本与提升光学品味。UV2A技术为液晶垂直配向的一种方法，紫外光(UV)通过掩膜版(Mask)，对像素(pixel)中不同区域进行照光，配向膜发生光化学反应，在液晶滴入后，可使液晶形成一定角度的预倾角。在UV2A制程中，需使用掩膜板对像素中不同的区域曝光，为保证精确性，曝光时在基板平移过程中，掩膜板需要与待曝光基板中特定的图形作对位及追踪。
然而，上述的BM-Less技术在利用UV2A技术进行配向时，彩膜基板侧无彩色滤光层、黑色矩阵以及隔垫物，因而掩膜板和待曝光的基板难以实现对位及追踪。
发明内容
本发明提供一种显示面板和显示装置，在BM-Less技术中利用UV2A技术进行配向时，能够使掩膜板和待曝光基板进行对位及追踪。
第一方面，本发明提供一种显示面板，包括阵列基板和与阵列基板对盒设置的对侧基板，阵列基板和对侧基板之间设有液晶层，在阵列基板上具有阵列排布的多个子像素区域，在对侧基板上面向液晶层的一侧设有至少一个追踪图案，追踪图案具有曝光时用于对对侧基板进行对位追踪的有效追踪部，有效追踪部的延伸方向沿对侧基板在曝光时的移动方向，且有效追踪部的延伸方向与子像素区域的排列方向平行。
第二方面，本发明提供一种显示装置，包括如上述所述的显示面板。
本发明的显示面板和显示装置，显示面板包括阵列基板和与阵列基板对盒设置的对侧基板，阵列基板和对侧基板之间设有液晶层，在阵列基板上具有阵列排布的多个子像素区域，在对侧基板上面向液晶层的一侧设有至少一个追踪图案，追踪图案具有曝光时用于对对侧基板进行对位追踪的有效追踪部，有效追踪部的延伸方向沿对侧基板在曝光时的移动方向，且有效追踪部的延伸方向与子像素区域的排列方向平行。在基于BM-Less技术而利用UV2A技术进行配向时，即使在对侧基板上无彩色滤光层、黑色矩阵以及隔垫物，但由于设置有追踪图案，该追踪图案可以在曝光时和掩膜板上的掩膜板对位图案配合，以实现掩膜板和待曝光的对侧基板的对位及追踪，以实现掩膜板相对于阵列基板的准确定位。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作以简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明提供的显示面板中阵列基板的多畴显示配向的示意图；
图2为本发明实施例一提供的显示面板中对侧基板的多畴显示配向的示意图；
图3为本发明实施例一提供的显示面板中另一种追踪图案的结构示意图；
图4为本发明实施例二提供的显示面板中对侧基板的多畴显示配向的示意图；
图5为本发明实施例二提供的显示面板中另一种追踪图案的结构示意图。
附图标记说明：
1—对侧基板；
2—导电膜层；
3—第一基板；
5—阵列基板；
6—掩膜板；
8—追踪图案形成层；
21、81—子区域；
22、82—追踪图案；
51—子像素区域；
52—黑色矩阵；
61—掩膜图形；
62—掩膜板对位图案；
221、821—有效追踪部；
222、822—子封闭图形；
223、823—子封闭图形边缘。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
随着大型显示面板的发展，更佳的视觉表现也越来越高，而UV2A是目前最流行之一的显示技术，有着更广的视角与更快的应答速度。
UV2A的关键技术在于对阵列基板和其对侧基板进行曝光。如上所述，本申请的显示面板基于BM-Less技术，将黑色矩阵、隔垫物及彩色滤光层全部设计在阵列基板侧。首先以对阵列基板进行光配向为例来进行说明，图1所示为本发明实施例提供的显示面板中阵列基板的多畴显示配向的示意图。在图1中，字母“R”代表子像素区域51阵列排布的行方向，字母“C”代表子像素区域51阵列排布的列方向。如图1所示，阵列基板5包括多个阵列排布的子像素区域51和设于多个子像素区域51之间纵横交错的黑色矩阵52，在阵列基板5上，多个阵列排布的子像素区域51的排列方向指子像素区域51阵列排布的行方向或者列方向。多畴显示配向方法将在阵列基板5侧的一颗子像素区域51分为不同的畴(区域)，对各个畴采用不同的配向方向，以获得较大的视野角。与之对应地，掩膜板6上设有多个长条状的掩膜图形61，其沿所述列方向延伸，掩膜图形61的宽度例如是子像素区域51的行方向尺寸的一半，其长度可以是阵列基板5沿所述列方向的长度的一半。
对于阵列基板5上的各个子像素区域51的不同区域进行不同方向的曝光时，为了确保在曝光扫描的过程中，掩膜板6上的掩膜图形61与阵列基板5的相应子像素区域51精准对位，在掩膜板6上会设计多个对位图案，此处以设有一个掩膜板对位图案62为例进行说明，当然掩膜板对位图案62的个数可以根据实际需要选择多个。掩膜板对位图案62与掩膜图形61平行设置，在阵列基板5上，可以以位于阵列基板最左端部的黑色矩阵52作为对位图案，在曝光扫描的过程中，UV光源位于掩膜板6上方，掩膜板6固定不动，阵列基板5相对于掩膜板沿子像素区域51的列方向匀速移动，对阵列基板5进行光配向。利用电荷耦合元件、即CCD(Charge-Coupled Device)图像传感器可以追踪到阵列基板5上的作为对位图案的黑色矩阵52以及掩膜板6上的掩膜板对位图案62，在曝光过程中，需要保证所述掩膜板对位图案62始终与所述黑色矩阵52对齐，以实现掩膜板6相对于阵列基板5不发生偏移。
当然，在图1只显示出了设于子像素区域周围的黑色矩阵52，实际在阵列基板5侧还包括隔垫物、彩色滤光层等，也可以选择隔垫物、彩色滤光层作为阵列基板5侧的对位图案。此外，在上述曝光过程中，阵列基板5在曝光时的移动方向沿所述列方向，这样可以对各子像素区域51在行方向的一半区域、例如右半个区域进行曝光，曝光完毕后，可以将掩膜板6沿所述行方向向左移动半颗像素区域的距离，并重复同样的曝光过程，这样可以对各子像素区域51在行方向的另一半区域、例如左半个区域进行曝光。在上述过程中，以曝光方向沿列方向为例，说明了对阵列基板5上的各子像素区域51的左半个区域和右半个区域分别进行了曝光的过程。这里仅作为例示介绍了掩膜板6如何对阵列基板5进行定位追踪的过程。当然，对阵列基板5的曝光方法不限于此，也可以选择使用另外的掩膜板，该掩膜板上也设有和列方向平行的掩膜图案，并且该掩膜图案的宽度方向和子像素区域51在列方向的长度相匹配，在掩膜板上也设有与所述掩膜图形平行的掩膜板对位图案；此时，曝光方向可以沿行方向，分别对阵列基板5中的子像素区域51的上半部分和下半部分进行曝光。此过程和上述图1的曝光过程类似，此处不再赘述。
另外，上述阵列基板5上，多个阵列排布的子像素区域51的排列方向中，以横向作为阵列排布的行方向，以纵向作为阵列排布的列方向，但本发明不限于此，也可以是以纵向作为阵列排布的行方向，以横向作为阵列排布的列方向。
上面详细描述了阵列基板5的多畴显示配向过程。而对于对侧基板，同样也要进行上述的多畴显示配向，即对侧基板上与所述子像素区域51对应的每个区域内，也需要分为不同的区域，对各个区域采用不同的配向方向。但是如前述所述，BM-Less技术中，在利用UV2A技术进行配向时，对侧基板上无彩色滤光层、黑色矩阵以及隔垫物，因而掩膜板和待曝光的对侧基板难以实现对位及追踪。本发明就是为了解决上述问题而提出的。
实施例一
图2为本发明实施例一提供的显示面板中对侧基板的多畴显示配向的示意图；为了便于理解光配向过程，在图2中，以虚线划分出了与阵列基板5侧阵列排布的子像素区域51相对应的各个子区域21，与阵列基板侧相对应地，字母“R”可以代表各个子区域21阵列排布的行方向，字母“C”代表各个子区域21阵列排布的列方向。同时，在本实施例中，阵列基板5中子像素区域51的排列方向，可以包括子像素区域51阵列排布的行方向或列方向，具体的，在多个阵列排布的子像素区域51的排列方向中，以横向作为阵列排布的行方向，以纵向作为阵列排布的列方向，当然，本发明不限于此，也可以是以纵向作为阵列排布的行方向，以横向作为阵列排布的列方向。另外，在图2中，以对侧基板1在曝光时的移动方向为所述列方向为例进行说明。
本实施例的显示面板，包括阵列基板5和与阵列基板5对盒设置的对侧基板1，阵列基板5和对侧基板1之间设有液晶层，在阵列基板5上具有阵列排布的多个子像素区域51，在对侧基板1上面向所述液晶层的一侧设有至少一个追踪图案22，追踪图案22具有曝光时用于对对侧基板1进行对位追踪的有效追踪部221，有效追踪部221的延伸方向沿对侧基板1在曝光时的移动方向，且有效追踪部221的延伸方向与子像素区域51的排列方向平行。
这样设置，在基于BM-Less技术而利用UV2A技术进行配向时，即使在对侧基板1上无彩色滤光层、黑色矩阵以及隔垫物，但由于设置有追踪图案22，该追踪图案22可以在曝光时和掩膜板6上的掩膜板对位图案62配合，以实现掩膜板6和待曝光的对侧基板1的对位及追踪，以实现掩膜板6相对于对侧基板1的准确定位。
具体的，用掩膜板6对对侧基板1进行多畴显示配向的过程与上述对阵列基板5的多畴显示配向过程类似，在曝光的初始阶段，首先利用设置在对侧基板1上的嵌合对位标记(未图示)和曝光台上的相应的嵌合对位标记相对位，使掩膜板6上的掩膜图形61和与其相对应的子区域21进行精准对位，即使得掩膜图形61的延伸方向平行于子区域21排布的列方向(子像素区域51排布的列方向)，然后开始曝光过程，在曝光过程中，只要对侧基板1的移动方向始终沿子区域21排布的列方向(子像素区域51排布的列方向)就可以保证掩膜板6和对侧基板1的相对位置不发生偏移。
在曝光过程中，想要使对侧基板1沿着区域21排布的列方向匀速移动，需要用掩膜板6对对侧基板1上的追踪图案22进行追踪，即始终保证掩膜板6上的掩膜板对位图案62和有效追踪部221对齐，因此有效追踪部221的延伸方向沿对侧基板1在曝光时的移动方向。
此外，由于有效追踪部221的延伸方向与子像素区域51的排列方向、例如列方向平行，就能保证对侧基板1在曝光时的移动方向沿子像素区域51的排列方向、例如列方向，这样在曝光的过程中，就可以保证掩膜板6和对侧基板1的相对位置不发生偏移。此外，在图2中，以对侧基板在曝光时的移动方向为所述列方向为例进行说明，当然，也可以是对侧基板在曝光时的移动方向为所述行方向。其曝光过程和原理与上述过程类似，此处不再赘述。此外，在图中，以设有一个追踪图案22为例进行说明，在实际曝光过程中，可以根据实际需要，设有多个追踪图案22和掩膜对位图案62，并且多个追踪图案22的有效追踪部221的延伸方向彼此平行。
作为一个可选的实施方式，图2中示出了追踪图案22为封闭图形的例子，具体的，追踪图案22的其中一个边缘，例如在行方向上靠右的一个边缘为所述的有效追踪部221，在实际的曝光过程中，需要该有效追踪部221始终和掩膜板6上的掩膜板对位图案62对齐，以保证对侧基板1的移动方向沿子区域21排布的列方向(子像素区域51排布的列方向)。这里的追踪图案22可以是任意的图形，例如矩形、半圆形、三角形等，只要其中有一个边缘能够形成为满足如上述条件的有效追踪部221即可。其中，当追踪图案22为矩形时，矩形的长度方向的一个边缘可以为有效追踪部221。
此外，这里列举出的有效追踪部221是追踪图案22的其中一个边缘，当然，在追踪图案22的大小尺寸和掩膜对位图案62大致相同、差别不大的情况下，例如追踪图案22的行方向宽度和掩膜对位图案62的行方向宽度大致相同的情况下，可以是整个追踪图案22都为有效追踪部221。或者也存在有追踪图案22的大小尺寸较小的情况，在此种情况下，利用CCD图像传感器所捕捉到的追踪图案22也较小，不足以区分出其行方向的两个边缘，此时也可以将整个追踪图案22都视为有效追踪部221。
可选的，追踪图案22也可以由多个子图形构成，图3为本发明实施例一提供的显示面板中另一种追踪图案的结构示意图；在图3中，与阵列基板侧相对应地，字母“R”可以代表各个子区域21阵列排布的行方向，字母“C”代表各个子区域21阵列排布的列方向。如图3所示，追踪图案22可以包括多个子封闭图形222，多个子封闭图形222均具有沿对侧基板1在曝光时的移动方向依次排列的子封闭图形边缘223，多个边缘可以形成在一条直线上，并构成有效追踪部221。在这里，多个子封闭图形222例如可以是三角形、矩形、梯形等任意的形状，只要他们的至少一条边缘形成在一条直线上，且该直线满足上述的有效追踪部221的延伸方向沿对侧基板1在曝光时的移动方向，且有效追踪部221的延伸方向与子像素区域51的排列方向平行即可。
此外，这里列举出的有效追踪部221是各子封闭图形222的其中一个子封闭图形的边缘223，当然，在各子封闭图形222的大小尺寸和掩膜对位图案62大致相同、差别不大的情况下，例如各子封闭图形222的行方向宽度和掩膜对位图案62的行方向宽度大致相同的情况下，可以是多个子封闭图形222共同构成的追踪图案22整体都为有效追踪部221。或者也存在有各子封闭图形222的大小尺寸较小的情况，在此种情况下，利用CCD图像传感器所捕捉到的各子封闭图形222也较小，不足以区分出其在行方向上的两个边缘，此时也可以将多个子封闭图形222共同构成的追踪图案22整体都视为有效追踪部221。此外，图3中以具有3个子封闭图形222，并且分别为矩形、三角形为例进行了说明，但实际中可以根据需要选择子封闭图形222的个数和形状。
下面介绍对侧基板1的具体结构，如图2所示，对侧基板1包括第一基板3和导电膜层2，导电膜层2设置在第一基板3的面向液晶层的一侧，在导电膜层2上设置有镂空区域，所述镂空区域形成追踪图案22。具体的，在本实施例中，对侧基板1由第一基板3和导电膜层2两层构成，在图2中，导电膜层朝向掩膜板6的一侧为面向液晶层的一侧。所述的追踪图案由镂空区域形成，即追踪图案22是未形成有导电膜层的部分。这里的导电膜层2可以通过溅射沉积而形成，因此，对于导电膜层2中，不管是镂空的追踪图案22区域，还是未形成有追踪图案22的区域都在一个工序中形成，因此与先形成全膜面的导电膜层，再刻蚀出追踪图案22相比，减少了一个工序，也能防止刻蚀过程中对第一基板3的损害，也减少了成本。
此外，对于导电膜层2，可以选择ITO导电膜或者IZO导电膜。为了保证对侧基板1中所包括的导电膜层的全面导通性，优选镂空的追踪图案22由多个间隔设置的子封闭图形222形成。然而，考虑到对对侧基板1追踪定位的准确性，优选追踪图案22由完整的封闭图形形成。此时，可以选择导电膜层2延伸至整个所述第一基板3而形成，并且追踪图案22设置在导电膜层2上的对应于阵列基板1的显示区域的位置，其中多个阵列排布的子像素区域51位于所述显示区域内。这样，对于导电膜层2上未与所述显示区域对应的位置，由于导电膜的图案连续，因此不会影响到整个导电膜层2的导电性。
下面说明本实施例的显示面板中的对侧基板1的多畴显示配向过程。
如图2所示，曝光的初始阶段，首先利用设置在对侧基板1上的嵌合对位标记(未图示)和曝光台上的相应的嵌合对位标记相对位，使掩膜板6上的掩膜图形61和与其相对应的子区域21进行精准对位，即使得掩膜图形61的延伸方向平行于子区域21排布的列方向(子像素区域51排布的列方向)，然后开始曝光过程，UV光源位于掩膜板6上方，掩膜板6固定不动，对侧基板1相对于掩膜板6沿子像素区域51的列方向匀速移动，就可以保证掩膜板6和对侧基板1的相对位置不发生偏移。具体的，在曝光扫描的过程中，利用电荷耦合元件、即CCD(Charge-Coupled Device)图像传感器可以追踪到对侧基板1上的作为对位图案的追踪图案22以及掩膜板6上的掩膜板对位图案62，在曝光过程中，需要保证所述掩膜板对位图案62始终与追踪图案22对齐，以保证掩膜板6相对于对侧基板1不发生偏移。
当然，在上述曝光过程中，对侧基板1在曝光时的移动方向沿所述列方向，这样可以对各子区域21在行方向的一半区域、例如右半个区域进行曝光，曝光完毕后，可以将掩膜板6沿所述行方向向左移动半颗像素区域的距离，并重复同样的曝光过程，这样可以对各子区域21在行方向的另一半区域、例如左半个区域进行曝光。当对阵列基板5上的各子像素区域51分为上半部分和下半部分分别进行了曝光时，搭配对对侧基板1上的各子区域21进行如上所述的曝光，就可以实现整个显示面板的四畴结构。当然，对于在显示面板中形成八畴等的曝光过程与上述过程类似，此处不再赘述。
在本实施例中，显示面板包括阵列基板和与阵列基板对盒设置的对侧基板，阵列基板和对侧基板之间设有液晶层，在阵列基板上具有阵列排布的多个子像素区域，在对侧基板上面向液晶层的一侧设有至少一个追踪图案，追踪图案具有曝光时用于对对侧基板进行对位追踪的有效追踪部，有效追踪部的延伸方向沿对侧基板在曝光时的移动方向，且有效追踪部的延伸方向与子像素区域的排列方向平行。在基于BM-Less技术而利用UV2A技术进行配向时，即使在对侧基板上无彩色滤光层、黑色矩阵以及隔垫物，但由于设置有追踪图案，该追踪图案可以在曝光时和掩膜板上的掩膜板对位图案配合，以实现掩膜板和待曝光的对侧基板的对位及追踪，以实现掩膜板相对于对侧基板的准确定位。
实施例二
本实施例对于追踪图案的设置位置以及对侧基板的结构进行了改进，其余部分与实施例一相同。
图4为本发明实施例二提供的显示面板中对侧基板的多畴显示配向的示意图。可选的，如图4所示，对侧基板1包括依次层叠设置的第一基板3、追踪图案形成层8和导电膜层2，与实施例一不同的是，导电膜层2是形成在追踪图案形成层8上的全膜面的导电膜层，追踪图案22设置在追踪图案形成层8上。
在本实施例中，导电膜层2为透明的导电膜层，以便图像捕捉元件可以透过导电膜层2捕捉到追踪图案形成层8上的追踪图案。可选的，可以选择ITO导电膜或者IZO导电膜形成该层。导电膜层2和追踪图案形成层8均设置在第一基板3的面向液晶层的一侧，即图4中的第一基板4的上侧，在追踪图案形成层8上设置有镂空区域，镂空区域形成至少一个追踪图案82。
具体的，在图4中，对侧基板1包括第一基板3、追踪图案形成层8和导电膜层2，在追踪图案形成层8上设置有镂空区域，所述镂空区域形成追踪图案82。即追踪图案82是未形成有追踪图案形成层的部分。这里的追踪图案形成层8可以通过溅射沉积而形成，因此，对于追踪图案形成层8中，不管是镂空的追踪图案82区域，还是未形成有追踪图案82的区域都在一个工序中形成，因此与先形成全膜面的追踪图案形成层8，再刻蚀出追踪图案82相比，减少了一个工序，也能防止刻蚀过程中对第一基板3的损害，也减少了成本。
此外，对于追踪图案形成层8，可以选择有机绝缘层或者无机绝缘层。在本实施例中，由于追踪图案形成层8形成在导电膜层2和第一基板3之间，并不会影响到导电膜层2的导电性，因此，追踪图案82可以是由多个间隔设置的子封闭图形822形成。也可以是由完整的封闭图形形成。然而，考虑到对对侧基板1追踪定位的准确性，优选追踪图案82由完整的封闭图形形成。
在图4中，为了便于理解光配向过程，在追踪图案形成层8上以虚线划分出了与阵列基板5侧阵列排布的子像素区域51相对应的各个子区域81。同时，与阵列基板侧相对应地，字母“R”可以代表各个子区域81阵列排布的行方向，字母“C”代表各个子区域81阵列排布的列方向。在本实施例中，阵列基板5中的子像素区域51的排列方向可以包括子像素区域51阵列排布的行方向或列方向，具体的，在多个阵列排布的子像素区域51的排列方向中，以横向作为阵列排布的行方向，以纵向作为阵列排布的列方向，当然，本发明不限于此，也可以是以纵向作为阵列排布的行方向，以横向作为阵列排布的列方向。另外，在图4中，以对侧基板1在曝光时的移动方向为所述列方向为例进行说明。
本实施例的显示面板，包括阵列基板5和与阵列基板5对盒设置的对侧基板1，阵列基板5和对侧基板1之间设有液晶层，在阵列基板5上具有阵列排布的多个子像素区域51，在对侧基板1上面向所述液晶层的一侧设有至少一个追踪图案82，追踪图案82具有曝光时用于对对侧基板1进行对位追踪的有效追踪部821，有效追踪部821的延伸方向沿对侧基板1在曝光时的移动方向，且有效追踪部821的延伸方向与子像素区域51的排列方向平行。
这样设置，在基于BM-Less技术而利用UV2A技术进行配向时，即使在对侧基板1上无彩色滤光层、黑色矩阵以及隔垫物，但由于设置有追踪图案82，该追踪图案82可以在曝光时和掩膜板6上的掩膜板对位图案62配合，以实现掩膜板6和待曝光的对侧基板1的对位及追踪，以实现掩膜板6相对于对侧基板1的准确定位。
具体的，用掩膜板6对对侧基板1进行多畴显示配向的过程和原理与实施例一类此，此处不再赘述。此外，图4中以具有一个追踪图案82为例进行说明，实际操作过程中，可以根据需要选择追踪图案82的个数，以及与其相配合的掩膜板对位图案62的个数。
作为一个可选的实施方式，图4中示出了追踪图案82为封闭图形的例子，具体的，追踪图案82的其中一个边缘，例如在行方向上靠右的一个边缘为所述的有效追踪部821，在实际的曝光过程中，需要该有效追踪部821始终和掩膜板6上的掩膜板对位图案62对齐，以保证对侧基板1的移动方向沿子区域81排布的列方向(子像素区域51排布的列方向)。这里的追踪图案82可以是任意的图形，例如矩形、半圆形、三角形等，只要其中有一个边缘能够形成为满足如上述条件的有效追踪部821即可。其中，当追踪图案82为矩形时，矩形的长度方向的一个边缘可以为有效追踪部821。
此外，这里列举出的有效追踪部821是追踪图案82的其中一个边缘，当然，在追踪图案82的大小尺寸和掩膜对位图案62大致相同、差别不大的情况下，例如追踪图案82的行方向宽度和掩膜对位图案62的行方向宽度大致相同的情况下，可以是整个追踪图案82都为有效追踪部221。或者也存在有追踪图案82的大小尺寸较小的情况，在此种情况下，利用CCD图像传感器所捕捉到的追踪图案82也较小，不足以区分出其行方向的两个边缘，此时也可以将整个追踪图案82都视为有效追踪部821。
可选的，追踪图案82也可以由多个子图形构成，图5为本发明实施例二提供的显示面板中另一种追踪图案的结构示意图；在图5中，与阵列基板侧相对应地，字母“R”可以代表各个子区域81阵列排布的行方向，字母“C”代表各个子区域81阵列排布的列方向。如图5所示，追踪图案82可以包括多个子封闭图形822，多个子封闭图形822均具有沿对侧基板1在曝光时的移动方向依次排列的子封闭图形边缘823，多个边缘可以形成在一条直线上，并构成有效追踪部821。在这里，多个子封闭图形822例如可以是三角形、矩形、梯形等任意的形状，只要他们的至少一条边缘形成在一条直线上，并且该直线满足上述的有效追踪部821的延伸方向沿对侧基板1在曝光时的移动方向，且有效追踪部821的延伸方向与子像素区域51的排列方向平行即可。此外，对于各个子封闭图形822的形状和个数也可以根据实际需要选择。
此外，这里列举出的有效追踪部821是各子封闭图形822的其中一个子封闭图形边缘823，当然，在各子封闭图形822的大小尺寸和掩膜对位图案62大致相同、差别不大的情况下，例如各子封闭图形822的行方向宽度和掩膜对位图案62的行方向宽度大致相同的情况下，可以是多个子封闭图形822共同构成的追踪图案82整体都为有效追踪部821。或者也存在有各子封闭图形822的大小尺寸较小的情况，在此种情况下，利用CCD图像传感器所捕捉到的各子封闭图形822也较小，不足以区分出其行方向的两个边缘，此时也可以将多个子封闭图形822共同构成的追踪图案82整体都视为有效追踪部821。
下面说明本实施例的显示面板中的对侧基板1的多畴显示配向过程。
如图4所示，曝光的初始阶段，首先利用设置在对侧基板1上的嵌合对位标记(未图示)和曝光台上的相应的嵌合对位标记相对位，使掩膜板6上的掩膜图形61和与其相对应的子区域81进行精准对位，即使得掩膜图形61的延伸方向平行于子区域81排布的列方向(子像素区域51排布的列方向)，然后开始曝光过程，UV光源位于掩膜板6上方，掩膜板6固定不动，对侧基板1相对于掩膜板6沿子像素区域51的列方向匀速移动，就可以保证掩膜板6和对侧基板1的相对位置不发生偏移。具体的，在曝光扫描的过程中，利用电荷耦合元件、即CCD(Charge-Coupled Device)图像传感器可以追踪到对侧基板1上的作为对位图案的追踪图案82以及掩膜板6上的掩膜板对位图案62，在曝光过程中，需要保证所述掩膜板对位图案62始终与追踪图案82对齐，以保证掩膜板6相对于对侧基板1不发生偏移。
当然，在上述曝光过程中，对侧基板1在曝光时的移动方向沿所述列方向，这样可以对各子区域81在行方向的一半区域、例如右半个区域进行曝光，曝光完毕后，可以将掩膜板6沿所述行方向向左移动半颗像素区域的距离，并重复同样的曝光过程，这样可以对各子区域81在行方向的另一半区域、例如左半个区域进行曝光。当对阵列基板5上的各子像素区域51分为上半部分和下半部分分别进行了曝光时，搭配对对侧基板1上的各子区域81进行如上所述的曝光，就可以实现整个显示面板的四畴结构。当然，对于在显示面板中形成八畴等的曝光过程与上述过程类似，此处不再赘述。
在本实施例中，对侧基板包括依次层叠设置的第一基板、追踪图案形成层和导电膜层，导电膜层为透明导电膜层，导电膜层和所述追踪图案形成层均设置在第一基板的面向所述液晶层的一侧，在追踪图案形成层上设置有镂空区域，镂空区域形成所述至少一个追踪图案。在本实施例中，由于追踪图案形成层形成在导电膜层和第一基板之间，并不会影响到导电膜层的导电性，因而追踪图案的形状和配置位置均不受到限制，设计自由度较大。
实施例三
本实施例提供一种显示装置，具体可以为柔性显示装置，该显示装置可以为显示器件以及包括显示器件的电视、数码相机、手机、平板电脑、智能手表、电子书、导航仪等任何具有显示功能的产品或者部件。本实施例的显示装置包括实施例一或实施例二所述的显示面板。
其中，显示面板的具体结构、工作原理已在前述实施例一和实施例二中进行了详细说明，此处不再赘述。
本实施例的显示装置包括如上述实施例一或实施例二所述的显示面板，因此本实施例的显示装置在基于BM-Less技术而利用UV2A技术进行配向时，即使在对侧基板上无彩色滤光层、黑色矩阵以及隔垫物，但由于设置有追踪图案，该追踪图案可以在曝光时和掩膜板上的掩膜板对位图案配合，以实现掩膜板和待曝光的对侧基板的对位及追踪，以实现掩膜板相对于对侧基板的准确定位。
最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。
Claims (6)
1.一种显示面板，包括阵列基板和与所述阵列基板对盒设置的对侧基板，所述阵列基板和所述对侧基板之间设有液晶层，其特征在于，
在所述阵列基板上具有阵列排布的多个子像素区域，在所述对侧基板上面向所述液晶层的一侧设有至少一个追踪图案，所述追踪图案具有曝光时用于对对侧基板进行对位追踪的有效追踪部，所述有效追踪部的延伸方向沿所述对侧基板在曝光时的移动方向，且所述有效追踪部的延伸方向与所述子像素区域的排列方向平行；
所述对侧基板包括依次层叠设置的第一基板、追踪图案形成层和导电膜层，所述导电膜层为透明导电膜层，所述导电膜层和所述追踪图案形成层均设置在所述第一基板的面向所述液晶层的一侧，在所述追踪图案形成层上设置有镂空区域，所述镂空区域形成所述至少一个追踪图案，其中，所述追踪图案形成层和所述导电膜层通过溅射沉积而形成。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述追踪图案为封闭图形，所述追踪图案的其中一个边缘为所述有效追踪部。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述追踪图案为矩形。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述追踪图案包括多个子封闭图形，所述多个子封闭图形均具有沿所述对侧基板在曝光时的移动方向延伸的边缘，所述多个沿所述对侧基板在曝光时的移动方向延伸的边缘构成所述有效追踪部。
5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述追踪图案形成层是有机绝缘层或者无机绝缘层。
6.一种显示装置，其特征在于，包括上述权利要求1-5任一项所述的显示面板。
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