CN102725680A - 基板、针对基板的曝光方法、光取向处理方法 - Google Patents

基板、针对基板的曝光方法、光取向处理方法 Download PDF

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Abstract

提供能对所有曝光对象区域高精度地照射光能量的基板和曝光方法。使用具有多个曝光单元(52)的曝光装置(5)，上述曝光单元(52)具备光源(521)和形成有能使从光源(521)发出的光能量透过的透光图案(5221)的掩模(522)，一边使基板(1)与曝光单元(52)相对地移动一边通过形成于掩模(522)的透光图案(5221)对基板(1)照射光能量，并且在掩模(522)跨于某种尺寸的显示区域(11a)和其它尺寸的显示区域(11b)的曝光单元(52)中，将形成于基板(1)的对准图案(12)用作控制掩模(522)的定位的基准，对某种尺寸的显示区域(11a)和其它尺寸的显示区域(11b)两者照射光能量。

Description

基板、针对基板的曝光方法、光取向处理方法
技术领域
本发明涉及基板、针对基板的曝光方法、光取向处理方法，详细地说，涉及液晶显示面板用的基板或者用于制造液晶显示面板的基板中的适于光取向处理的基板、针对该基板的曝光方法以及采用该曝光方法的光取向处理方法。
背景技术
一般的液晶显示面板具备两个显示面板用的基板，具备如下构成：这两个基板隔开规定的微小间隔相对配设，在它们之间填充有液晶。一般，在液晶显示面板用的基板形成有用于规定液晶的取向的取向膜。取向膜在显示面板用的基板的制造过程中形成，被实施取向处理。该取向处理广泛采用摩擦。摩擦是利用包括纤维材料等的摩擦滚子对取向膜的表面进行摩擦等，由此形成规定的微小凹凸(＝伤)的方法(＝摩擦的方法)。
最近开始使用光取向作为取代摩擦的取向处理。光取向是对取向膜从规定方向照射光能量(例如紫外线等)来调整取向膜的表面性状的方法。光取向的光能量照射方式例如能用如下构成：以覆盖基板表面的方式载置设有规定形状的图案的掩模，从其上方照射紫外线等(参照专利文献1)。除此以外，也会使用如下方式：用具备具有规定的图案的掩模和具有光源的投影光学系统的曝光装置，一边使投影光学系统产生的光通过掩模照射到基板，一边使掩模及投影光学系统与基板相对地移动。
在一边使投影光学系统及掩模与基板相对地移动一边照射光能量的方式中，在照射光能量的期间控制掩模的位置以使掩模在相对于与基板的相对地移动的方向成直角的方向上不发生位置偏移。掩模的位置的控制方法例如使用如下方法。在使投影光学系统及掩模与基板进行相对地移动的期间，继续测定形成于基板的规定要素(例如形成于显示区域的扫描线、数据线、黑矩阵等)与设于掩模的对准标记之间的距离(特别是与相对地移动的方向成直角的方向上的距离)。并且，控制掩模的位置以使该距离维持规定的值。
然而，现在广泛使用从一个母基板制造多个显示面板用的基板的方法。在这种制造方法中，在显示面板用的基板的制造工序中，在一个母基板上形成多个显示区域。然后，在形成有多个显示区域的母基板(即分割前的母基板)上形成取向膜，对形成的取向膜实施取向处理。
当对形成有多个显示区域的母基板应用一边使投影光学系统和掩模与母基板相对地移动一边照射光能量的方式的光取向时，有时会产生如下问题。
在设于掩模的对准标记位于某一个显示区域的内侧的期间，能计测形成于某一个显示区域的规定要素与设于掩模的对准标记之间的距离。因此，能进行掩模的位置的控制。
当在母基板上形成有多个显示区域时，有时掩模会跨于多个显示区域(特别是与相对地移动的方向成直角方向上排列的多个显示区域)。在这种情况下，通过一个掩模对多个显示区域同时并行地照射光能量。在此会成为如下状态：掩模的一部分和设于掩模的对准标记位于某一个显示区域的外侧，但是掩模的另一部分位于其它显示区域。在该状态下，无法控制或者难以控制掩模的位置，因此无法或者难以控制对另一个显示区域的光能量的照射位置。
并且，当光能量的照射位置偏离时，取向膜无法以规定形态使液晶取向。特别是，在上述另一个显示区域中，在设于掩模的对准标记位于某一个显示区域的内侧的期间被照射光能量的部分与位于任一显示区域的外侧的期间被照射光能量的部分之间，取向处理的状态有可能不同。其结果是制造出的显示面板(应用了上述另一个显示区域的显示面板)会发生显示不均、漏光等，显示质量可能会降低。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：特开2005-024649号公报
发明内容
发明要解决的问题
鉴于上述实际情况，本发明提供在对形成有多个曝光对象区域的基板照射光能量时能高精度地对全部曝光对象区域照射光能量的基板、曝光方法以及光取向处理方法，或者提供在隔着掩模对形成有多个显示区域的基板进行光取向时掩模跨于多个显示区域的情况下，能高精度地对该多个显示区域照射光能量的基板、曝光方向以及光取向处理方法。
用于解决问题的方案
为了解决上述问题，本发明的基板的要旨在于，形成有：某种尺寸的多个曝光对象区域；以及与上述某种尺寸不同的其它尺寸的多个曝光对象区域，并且在形成有上述某种尺寸的多个曝光对象区域的范围与形成有上述其它尺寸的多个曝光对象区域的范围之间，形成有在对上述曝光对象区域曝光时成为控制光能量的照射位置的基准的对准图案。
优选构成为在上述对准图案的轮廓中包括直线部分，上述直线部分沿着形成有上述某种尺寸的多个曝光对象区域的范围与形成有上述其它尺寸的曝光对象区域的范围的边界。
能应用如下构成：上述对准图案形成为沿着形成有上述某种尺寸的多个曝光对象区域的范围与形成有上述其它尺寸的曝光对象区域的范围的边界的带状或者线状。
本发明的基板的要旨在于，形成有：排列有某种尺寸的多个曝光对象区域的列；以及与排列有上述某种尺寸的多个曝光对象区域的列相邻而排列有与上述某种尺寸不同的其它尺寸的多个曝光对象区域的列，并且在排列有上述某种尺寸的多个曝光对象区域的列与排列有上述其它尺寸的多个曝光对象区域的列之间，形成有在对上述曝光对象区域曝光时成为控制光能量的照射位置的基准的对准图案。
优选构成为排列有上述某种尺寸的多个曝光对象区域的列与排列有上述其它尺寸的多个曝光对象区域的列是平行的，在上述对准图案的轮廓中，包括与排列有上述某种尺寸的多个曝光对象区域的列和排列有上述其它尺寸的多个曝光对象区域的列平行的直线部分。
能应用如下构成：排列有上述某种尺寸的多个曝光对象区域的列与排列有上述其它尺寸的多个曝光对象区域的列是平行的，上述对准图案形成为与排列有上述某种尺寸的多个曝光对象区域的列及排列有上述其它尺寸的多个曝光对象区域的列平行的带状或者线状。
本发明的基板的要旨在于，是用于制造具有用于显示图像的显示区域的多个显示面板用的基板的拼版基板，形成有：某种尺寸的多个上述显示区域；以及与上述某种尺寸不同的其它尺寸的多个上述显示区域，并且在形成有某种尺寸的多个上述显示区域的范围与形成有上述其它尺寸的多个上述显示区域的范围之间，形成有在对上述显示区域曝光时成为控制光能量的照射位置的基准的对准图案。
优选构成为在上述对准图案的轮廓中包括直线部分，上述直线部分沿着形成有上述某种尺寸的多个上述显示区域的范围与形成有上述其它尺寸的多个上述显示区域的范围的边界。
能应用如下构成：上述对准图案形成为沿着形成有上述某种尺寸的多个上述显示区域的范围与形成有上述其它尺寸的多个上述显示区域的范围的边界的带状或者线状。
优选构成为在上述显示区域中排列有多个像素，在上述对准图案中包括与上述多个像素的排列方向平行的直线部分。
能应用如下构成：在上述显示区域中多个像素电极在相互正交的两个方向上矩阵状地排列，并且形成有与上述多个像素的排列方向中的一方平行的扫描线和与上述多个像素的排列方向中的另一方平行的数据线，在上述对准图案的轮廓中，包括与上述多个像素的排列方向中的一方和上述扫描线平行的直线部分，或者包括与上述多个像素的排列方向中的另一方和上述数据线平行的直线部分。
能应用如下构成：上述对准图案由与上述扫描线或者上述数据线相同的材料形成。
能应用如下构成：在上述显示区域中，形成有具有相互正交的多个带状或者线状的部分的黑矩阵和彩色显示用的着色层，并且在上述对准图案的轮廓中，包括与上述相互正交的带状或者线状的部分的方向中的任一方平行的直线部分。
能应用如下构成：上述对准图案由与上述黑矩阵或者上述着色层相同的材料形成。
本发明的基板的要旨在于，是用于制造具有用于显示图像的显示区域的多个显示面板用的基板的拼版基板，形成有：排列有某种尺寸的多个上述显示区域的列；以及与排列有上述某种尺寸的多个上述显示区域的列相邻而排列有与上述某种尺寸不同的其它尺寸的多个上述显示区域的列，在排列有上述某种尺寸的多个上述显示区域的列与排列有上述其它尺寸的多个上述显示区域的列之间，形成有在对上述显示区域曝光时成为控制光能量的照射位置的基准的对准图案。
优选构成为排列有上述某种尺寸的多个上述显示区域的列与排列有上述其它尺寸的多个上述显示区域的列是平行的，在上述对准图案的轮廓中，包括与排列有上述某种尺寸的多个上述显示区域的列和排列有上述其它尺寸的多个上述显示区域的列平行的直线部分。
能应用如下构成：排列有上述某种尺寸的多个上述显示区域的列与排列有上述其它尺寸的多个上述显示区域的列是平行的，上述对准图案形成为与排列有上述某种尺寸的多个上述显示区域的列和排列有上述其它尺寸的多个上述显示区域的列平行的带状或者线状。
优选构成为在上述显示区域中排列有多个像素，在上述对准图案中包括与上述多个像素的排列方向平行的直线部分。
能应用如下构成：在上述显示区域中多个像素电极在相互正交的两个方向上矩阵状地排列，并且形成有与上述多个像素的排列方向中的一方平行的扫描线和与上述多个像素的排列方向中的另一方平行的数据线，在上述对准图案的轮廓中，包括与上述多个像素的排列方向中的一方和上述扫描线平行的直线部分，或者包括与上述多个像素的排列方向中的另一方和上述数据线平行的直线部分。
能应用如下构成：上述对准图案由与上述扫描线或者上述数据线相同的材料形成。
能应用如下构成：在上述显示区域中，形成有具有相互正交的多个带状或者线状的部分的黑矩阵和彩色显示用的着色层，并且在上述对准图案的轮廓中，包括与上述相互正交的带状或者线状的部分的方向中的任一方平行的直线部分。
能应用如下构成：上述对准图案由与上述黑矩阵或者上述着色层相同的材料形成。
本发明的曝光方法的要旨在于，是对上述基板(具有多个曝光对象区域的基板)的曝光方法，使用具有多个曝光单元的曝光装置，上述曝光单元具有：光源；掩模，其形成有能使上述光源产生的光能量透过的透光图案，一边使上述基板与上述曝光单元相对地移动一边通过形成于上述掩模的上述透光图案对上述基板照射光能量，并且上述掩模跨于上述某种尺寸的曝光对象区域和上述其它尺寸的曝光对象区域的上述曝光单元将上述对准图案用作控制上述掩模的定位的基准，对上述某种尺寸的曝光对象区域和上述其它尺寸的曝光对象区域两者照射光能量。
本发明的曝光方法的要旨在于，是对上述基板(具有多个曝光对象区域的基板)的曝光方法，使用具有多个曝光单元的曝光装置，上述曝光单元具备：光源；掩模，其形成有能使上述光源产生的光能量透过的透光图案和用于控制光能量的照射位置的基准图案；以及拍摄装置，其能拍摄上述基准图案和上述基板，一边使上述基板与上述曝光单元相对地移动一边通过形成于上述掩模的上述透光图案对上述基板照射光能量，并且上述掩模跨于上述某种尺寸的曝光对象区域和上述其它尺寸的曝光对象区域的上述曝光单元利用上述拍摄装置拍摄上述对准图案和上述基准图案来算出上述对准图案与上述基准图案之间的距离，根据上述算出的距离来调整上述掩模的位置，对上述某种尺寸的曝光对象区域和上述其它尺寸的曝光对象区域两者照射光能量。
本发明的曝光方法的要旨在于，是对上述基板(具有多个显示区域的基板)的曝光方法，使用具有多个曝光单元的曝光装置，上述曝光单元具备：光源；以及掩模，其形成有能使上述光源产生的光能量透过的透光图案，一边使上述基板与上述曝光单元相对地移动一边通过形成于上述掩模的上述透光图案对上述基板照射光能量，并且上述掩模跨于上述某种尺寸的显示区域与上述其它尺寸的显示区域的上述曝光单元将上述对准图案用作控制上述掩模的定位的基准，对上述某种尺寸的显示区域和上述其它尺寸的显示区域两者照射光能量。
本发明的曝光方法的要旨在于，是对上述基板(具有多个显示区域的基板)的曝光方法，使用具有多个曝光单元的曝光装置，上述曝光单元具备：光源；掩模，其形成有能使上述光源产生的光能量透过的透光图案和用于控制光能量的照射位置的基准图案；以及拍摄装置，其能拍摄上述基准图案和上述基板，一边使上述基板与上述曝光单元相对地移动一边通过形成于上述掩模的上述透光图案对上述基板照射光能量，并且上述掩模跨于上述某种尺寸的显示区域与上述其它尺寸的显示区域的上述曝光单元利用上述拍摄装置拍摄上述对准图案和上述基准图案来算出上述对准图案与上述基准图案之间的距离，根据上述算出的距离来调整上述掩模的位置，对上述某种尺寸的显示区域和上述其它尺寸的显示区域两者照射光能量。
本发明的光取向处理方法的要旨在于，使用上述任一曝光方法，对沿着上述基板与上述曝光单元的上述相对地移动的方向排列的多个像素各自的一部分区域，通过形成于上述掩模的上述透光图案从某个方向照射光能量，对上述多个像素各自的另一部分区域从与上述某个方向不同的其它方向通过形成于上述掩模的上述透光图案照射光能量。
发明效果
根据本发明的基板和本发明的曝光方法，在一个掩模跨于尺寸相互不同的多个曝光对象区域或者多个显示区域的情况下，也能实现对多个曝光对象区域或者多个显示区域分别维持光能量的照射位置和范围的精度。即，在一个掩模跨于尺寸相互不同的多个曝光对象区域或者多个显示区域的情况下，如果控制掩模的位置是采用形成于多个曝光对象区域或者多个显示区域中的某一区域中的规定要素，当掩模位于该某一曝光对象区域或者某一显示区域的外侧时就难以高精度地控制掩模的位置。因此，有可能会降低对其它某一曝光对象区域或者其它某一显示区域的光能量的照射位置和范围的精度。与此相对，根据本发明的基板和本发明的曝光方法，将对准图案用于曝光中的光能量的照射位置和范围的控制，由此对尺寸相互不同的多个曝光对象区域或者多个显示区域中的哪一个也能继续高精度地控制掩模的位置。
根据本发明的光取向处理方法，能对形成于全部显示区域的像素高精度地照射光能量。因此，在形成于基板的全部显示区域中，在形成在一个像素中形成的取向状态相互不同的多个区域时，能抑制在取向状态不同的多个区域彼此的边界发生取向紊乱。因此，在从一个基板制造的全部显示面板中能防止或者抑制发生液晶取向的紊乱。因此，能实现维持或者提高从一个基板制造的多个显示面板的显示质量。另外，能防止或者抑制从一个基板制造的多个显示面板中含有次品。
附图说明
图1是示意性地示出本发明的实施方式的基板的构成的俯视图。
图2是提取示出本发明的实施方式的基板的显示区域一部分的俯视示意图，(a)示出形成于本发明的实施方式的第一基板的显示区域的像素的构成，(b)示出形成于本发明的实施方式的第二基板的显示区域的像素的构成。
图3是示意性地示出形成有三种尺寸的显示区域的基板的构成的俯视图。
图4是示意性地示出以单一尺寸形成有朝向相互不同的多个显示区域的基板的构成的俯视图。
图5是示意性地示出在本发明的实施方式的曝光方法(本发明的实施方式的取向处理方法)中使用的曝光装置的主要部位的构成的俯视图，是从通常的设置形态的侧方观察的图。
图6是示意性地示出在本发明的实施方式的曝光方法(本发明的实施方式的取向处理方法)中使用的曝光装置的主要部位的构成的俯视图，是从通常的设置形态的上方观察的图。
图7是示意性地示出掩模的构成的俯视图。
图8是示意性地示出掩模的一部分进入在与扫描方向成直角的方向上相邻的显示区域中的一方，掩模的另一部分进入在与扫描方向成直角的方向上相邻的显示区域中的另一方的状态的俯视图。
图9是示意性地示出对本发明的实施方式的基板的各像素照射光能量的形态的图，(a)是示出对本发明的实施方式的第一基板照射光能量的形态的立体图，(b)是示出对本发明的实施方式的第二基板照射光能量的形态的立体图，(c)是示意性地示出本液晶显示面板的一个像素中的液晶的朝向(＝取向的状态)的俯视图。
图10(a)是示意性地示出对本发明的实施方式的第一基板1a应用本发明的实施方式的曝光方法时所用的掩模的透光图案的构成的俯视图，(b)是示意性地示出透光图案与设于本发明的实施方式的第一基板的显示区域的像素的图案的尺寸和位置的关系的俯视图。
图11是示意性地示出对本发明的实施方式的第二基板应用本发明的实施方式的曝光方法时所用的掩模与形成于本发明的实施方式的第二基板的显示区域的黑矩阵的位置和尺寸的关系的俯视图。
具体实施方式
以下参照附图详细说明本发明的实施方式。
本发明的实施方式的基板1是用于制造液晶显示面板用的基板的基板(或者用于制造液晶显示面板的基板)。本发明的实施方式的曝光方法是在利用光取向方式对取向膜实施取向处理的工序(＝对取向膜照射光能量来进行取向的工序)中，对取向膜照射光能量的曝光方法。在本发明的实施方式的基板1上形成取向膜，然后用本发明的实施方式的曝光方法对所形成的取向膜实施取向处理。即，本发明的实施方式的基板1是具有适于光取向方式的取向处理的构成(特别是适于采用了本发明的实施方式的曝光方法的取向处理的构成)的基板。
首先，简单说明从本发明的实施方式的基板1制造的液晶显示面板。为了便于说明，有时将从本发明的实施方式的基板1制造的液晶显示面板称为“本液晶显示面板”。
本液晶显示面板具备两个液晶显示面板用的基板。两个液晶显示面板用的基板中的一方采用TFT阵列基板，另一方采用彩色滤光片。在TFT阵列基板和彩色滤光片中分别形成有显示区域和面板边框区域。显示区域是能显示图像的区域，多个像素按规定的形态(例如矩阵状)排列。在显示区域的表面形成有取向膜。对取向膜实施取向处理。面板边框区域是以包围显示区域的方式形成的区域。在面板边框区域形成有规定的配线、遮光膜等。此外，在面板边框区域不形成取向膜(可以不形成取向膜)。并且，TFT阵列基板和彩色滤光片隔开规定的微小间隔相对贴合，并且在它们之间填充有液晶。填充的液晶的分子由取向膜规定排列的方向。
图1是示意性地示出本发明的实施方式的基板1的构成的俯视图。此外，有时将用于制造TFT阵列基板的基板记为“本发明的实施方式的第一基板”1a，将用于制造彩色滤光片的基板记为“本发明的实施方式的第二基板”1b来加以区别。另外，在记为“本发明的实施方式的基板”1的情况下，意味着用于制造TFT阵列基板的基板(＝包括本发明的实施方式的第一基板1a)和用于制造彩色滤光片的基板(＝包括本发明的实施方式的第二基板1b)两者。
本发明的实施方式的基板1是拼版基板。即，从本发明的实施方式的第一基板1a制造多个TFT阵列基板。另外，从本发明的实施方式的第二基板1b制造多个彩色滤光片。因此，在本发明的实施方式的基板1中形成有多个“在分别成为一个液晶显示面板用的基板的状态下作为显示区域的区域”11a、11b。为了便于说明，有时将这些区域单记为“显示区域”11a、11b。
能从本发明的实施方式的基板1制造具有相互不同的尺寸的显示区域的液晶显示面板用的基板(或者液晶显示面板)。因此，如图1所示，在本发明的实施方式的基板1中形成有相互不同的尺寸的显示区域11a、11b。具体地说，形成有某种尺寸的多个显示区域11a和与某种尺寸不同的尺寸的其它尺寸的多个显示区域11b。因此，能从本发明的实施方式的基板1制造具有某种尺寸的显示区域11a的液晶显示面板用的基板和具有其它尺寸的显示区域11b的液晶显示面板用的基板这两种显示区域的尺寸的液晶显示面板用的基板(或者液晶显示面板)。
这些显示区域11a、11b是本发明的实施方式的曝光方法中的“曝光对象区域”。即，本发明的实施方式的基板1具有形成有尺寸相互不同的多个曝光对象区域的构成。
如图1所示，某种尺寸的多个显示区域11a以集中地矩阵状地排列于靠本发明的实施方式的基板1的一侧的方式形成。另一方面，其它尺寸的多个显示区域11b以集中地矩阵状地排列于靠另一侧的方式形成。在图1中示出如下构成：某种尺寸的多个显示区域11a靠Y轴方向上的一侧形成，其它尺寸的多个显示区域11b靠Y轴方向上的另一侧形成。
并且，在形成有某种尺寸的多个显示区域11a的范围与形成有其它尺寸的多个显示区域11b的范围之间形成有对准图案12。对准图案12是在利用本发明的实施方式的曝光方法照射光能量时作为用于控制光能量的照射位置的基准的图案。
对准图案12是沿着规定的方向延伸的细长的带状或者细线状的图案。具体地说，对准图案12是沿着形成有某种尺寸的多个显示区域11a的范围与形成有其它尺寸的多个显示区域11b的范围的边界延伸(在图1中X轴方向上延伸)的带状或者线状的图案(要素)。在对准图案12的轮廓中含有沿着上述规定的方向(X轴的方向)延伸的直线部分。该直线部分形成为涵盖本发明的实施方式的基板1的规定的方向(X轴的方向)的大致整个长度。例如，如果对准图案12是形成为大致长方形的构成，则长方形的长边的一方或者两方就是上述“直线部分”。
下面简单说明本发明的实施方式的基板1的显示区域11a、11b的构成。图2是提取示出本发明的实施方式的基板1的显示区域11a、11b的一部分的俯视示意图，图2(a)示出形成于本发明的实施方式的第一基板1a的显示区域11a、11b的像素的构成，图2(b)示出形成于本发明的实施方式的第二基板1b的显示区域11a、11b的像素的构成。
如图2(a)所示，在本发明的实施方式的第一基板1a的显示区域11a、11b中设有多个像素电极111、多个扫描线112、多个数据线113以及多个开关元件114(具体地说，例如薄膜晶体管)。此外，还会设有其它规定要素，省略说明和图示。多个像素电极111以在相互正交的两个方向上展开的形态(＝矩阵状地排列的形态)形成。多个扫描线112相互隔开规定的间隔平行地形成。多个数据线113也相互隔开规定的间隔平行地形成。多个扫描线112的延伸方向与多个数据线113的延伸方向形成为直角。并且，在各扫描线112与各数据线113的交叉点附近设有开关元件114。各开关元件114和各像素电极111由漏极线115连接。此外，多个像素电极111的排列方向(矩阵的行方向或者列方向)与多个扫描线112的延伸方向是平行的，多个像素电极111的排列方向与多个数据线113的延伸方向是平行的。
如图2(b)所示，在本发明的实施方式的第二基板1b的各显示区域11a、11b中设有黑矩阵117、规定颜色的着色层119以及共用电极。此外，还会设有其它规定要素，省略说明和图示。黑矩阵117是包括具有遮光性的材料并形成为格子状的要素(＝结构物)。即，在黑矩阵117中，多个开口部1171以矩阵状地排列的形态形成。并且，在形成于黑矩阵117的开口部1171形成有彩色显示用的规定颜色的着色层119。在黑矩阵117和规定颜色的着色层119的表面形成有共用电极。
此外，上述构成是一个例子，并不限定显示区域11a、11b的构成(显示区域11a、11b中形成的像素等的构成)。要点在于只要是在显示区域11a、11b中排列有多个像素，并且形成与像素的排列方向平行延伸的要素的构成即可。在本发明的实施方式的第一基板1a中，扫描线112和数据线113是在像素(像素电极111)的排列方向上平行延伸的要素。在本发明的实施方式的第二基板1b中，黑矩阵117是在像素(黑矩阵117的开口部1171和形成于黑矩阵117的开口部1171的规定颜色的着色层119)的排列方向上平行延伸的要素。
设定为形成于各显示区域11a、11b的像素的排列方向与对准图案12的延伸方向(准确地说是对准图案12的轮廓中包含的直线的延伸方向)是平行的。即，在形成于各显示区域11a、11b的像素矩阵状地排列的构成中，设定为矩阵的行方向或者列方向与对准图案12的延伸方向(＝对准图案12的轮廓中包含的直线的延伸方向)平行。
在本发明的实施方式的第一基板1a的各显示区域11a、11b中，多个像素电极111矩阵状(＝以在相互正交的两个方向(在图1中为X轴方向和Y轴方向)上展开的方式)排列。另外，多个扫描线112和多个数据线113以在正交的方向上延伸的方式形成。并且，像素电极111的排列方向(＝矩阵的行方向和列方向中的一方)与多个扫描线112的延伸方向平行，像素电极111的排列方向(＝矩阵的行方向和列方向中的另一方)与多个数据线113的延伸方向平行。因此，在本发明的实施方式的第一基板1a中，形成于各显示区域11a、11b的像素(像素电极111)的排列方向、扫描线112或者数据线113以及对准图案12(＝对准图案12的轮廓中包含的直线的延伸方向)是平行的。
在本发明的实施方式的第二基板1b的各显示区域11a、11b中，形成有黑矩阵117和规定颜色的着色层119。黑矩阵117是格子状的结构物，多个开口部1171以矩阵状地排列的形态(＝在相互正交的两个方向(在图1中为X轴方向和Y轴方向)上展开的形态)形成。即，黑矩阵117具有形成为相互平行地在规定的方向上延伸的直线状的多个线状的部分或者带状的部分(以下称为“细线”)1172以及相互平行地在与上述规定的方向成直角的方向上延伸的多个细线1173。并且，在各开口部1171形成有规定颜色的着色层119。并且，开口部1171的排列方向(＝矩阵的行方向和列方向中的一方)与对准图案12的延伸方向是平行的。即，在规定的方向上延伸的多个细线1172和在与上述规定的方向成直角的方向上延伸的多个细线1173中的任一方与对准图案12的延伸方向(＝对准图案12的轮廓中包含的直线的延伸方向)是平行的。
此外，在图1和上述说明中，示出了在本发明的实施方式的基板1上形成有两种尺寸的显示区域11a、11b的构成，但是显示区域11a、11b的尺寸的种类和数量不限。例如，可以是形成有单一尺寸的显示区域的构成，也可以是形成有三种以上尺寸的显示区域的构成。并且，在何种构成中均在规定的位置形成有具有上述构成的对准图案12。
即，如下用其它方法来表现本发明的实施方式的基板1的构成。
在本发明的实施方式的基板1中形成有多个显示区域11a、11b。将该多个显示区域11a、11b中的沿着规定的方向(图1中X轴的方向)直列地并排(＝排成一列)的显示区域11a、11b的一群称为“显示区域的列”。即，在本发明的实施方式的基板1中，多个“显示区域的列”以相互平行并列(在图1中在Y轴方向上并排)的方式形成。
此外，如上所述，显示区域11a、11b是本发明的实施方式的曝光方法中的曝光对象区域，因此“显示区域的列”是“曝光对象区域的列”。
并且，对准图案12形成于“显示区域的列(曝光对象区域的列)”中包含的各显示区域11a、11b的位置和范围(特别是，沿着各“显示区域的列”中的显示区域11a、11b的排列方向(图1中X轴方向)的方向上的位置和范围)相互不同的“显示区域的列”彼此之间。换言之，对准图案12形成于沿着“显示区域的列”中的显示区域11a、11b彼此之间的区域的位置和范围(特别是沿着各“显示区域的列”中的显示区域11a、11b的排列方向(图1中X轴方向)的方向上的位置和范围)不同的“显示区域的列”彼此之间。
该对准图案12(＝对准图案12的轮廓中包含的直线)与“显示区域的列”中的显示区域11a、11b的排列方向平行地延伸。例如，对准图案12形成为沿着“显示区域的列”中的显示区域11a、11b的排列方向延伸的带状或者线状。
例如如图1所示，在形成有两种尺寸的显示区域11a、11b的构成中，包括某种尺寸的显示区域11a的“显示区域的列”和包括其它尺寸的显示区域11b的“显示区域的列”各自规定的方向上的(＝X轴方向上的)显示区域的位置和范围(＝显示区域11a、11b彼此之间的区域的位置和范围)是不同的。因此，对准图案12形成于包括某种尺寸的显示区域11a的“显示区域的列”与包括其它尺寸的显示区域11b的“显示区域的列”之间。
另一方面，在图1示出的本发明的实施方式的基板1中，相邻的两列的“显示区域的列”均包括相同的尺寸的显示区域11a、11b的情况下，显示区域11a、11b的位置和范围(＝显示区域11a、11b彼此之间的区域的位置和范围)是相同的。因此，在包括相互相同尺寸的显示区域11a、11b的“显示区域的列”彼此之间不形成有对准图案12(＝可以不形成对准图案12)。
因此，如图1所示，在本发明的实施方式的基板1中，对准图案12形成于包括某种尺寸的显示区域11a的“显示区域的列”和与其相邻并包括其它尺寸的显示区域11b的“显示区域的列”之间。
图3是示意性地示出形成有三种尺寸的显示区域11c、11d、11e的基板1c的构成的俯视图。如图3所示，具有第一尺寸的多个显示区域11c形成为集中地以矩阵状或者在X轴方向上直列排列于靠规定的方向(图3中Y轴方向)的一侧，具有第二尺寸的多个显示区域11d形成为集中地以矩阵状或者在X轴方向上直列排列于靠规定的方向(图3中Y轴方向)的另一侧，在它们之间，具有第三尺寸的多个显示区域11e形成为集中地以矩阵状或者在X轴方向上直列排列。第一尺寸、第二尺寸和第三尺寸分别是相互不同的尺寸(至少，第一尺寸与第三尺寸是不同的尺寸，第二尺寸与第三尺寸是不同的尺寸)。
并且，在形成有具有第一尺寸的显示区域11c的范围与形成有具有第三尺寸的显示区域11e的范围之间形成有对准图案12。同样，在形成有具有第二尺寸的显示区域11d的范围与形成有具有第三尺寸的显示区域11e的范围之间形成有对准图案12。该对准图案12的构成与上述同样。
在形成有具有第一尺寸的显示区域11c的范围与形成有具有第三尺寸的显示区域11e的范围的边界，包括具有第一尺寸的显示区域11c的“显示区域的列”与包括具有第三尺寸的显示区域11e的“显示区域的列”相邻。并且，包括具有第一尺寸的显示区域11c的“显示区域的列”与包括具有第三尺寸的显示区域11e的“显示区域的列”在“显示区域的列”中的显示区域11c、11e的位置和范围(＝显示区域11c、11e彼此之间的区域的位置和范围)相互不同。因此，在形成有具有第一尺寸的显示区域11c的范围与形成有具有第三尺寸的显示区域11e的范围之间(即，在相互相邻的包括具有第一尺寸的显示区域11c的“显示区域的列”与包括具有第三尺寸的显示区域11e的“显示区域的列”之间)形成有对准图案12。
同样，在形成有具有第二尺寸的显示区域11d的范围与形成有具有第三尺寸的显示区域11e的范围的边界，包括具有第二尺寸的显示区域11d的“显示区域的列”与包括具有第三尺寸的显示区域11e的“显示区域的列”相邻。并且，包括具有第二尺寸的显示区域11d的“显示区域的列”与包括具有第三尺寸的显示区域11e的“显示区域的列”在“显示区域的列”中的显示区域11d、11e的位置和范围(＝显示区域11d、11e彼此之间的区域的位置和范围)相互不同。因此，在形成有具有第二尺寸的显示区域11d的范围与形成有具有第三尺寸的显示区域11e的范围之间(即，在相互相邻的包括具有第二尺寸的显示区域11d的“显示区域的列”与包括具有第三尺寸的显示区域11e的“显示区域的列”之间)形成有对准图案12。
另一方面，在包括具有相互相同的尺寸的显示区域11c、11d、11e的“显示区域的列”彼此之间不形成(或者可以不形成)对准图案12。即，在包括具有第一尺寸的显示区域11c的“显示区域的列”彼此之间、包括具有第二尺寸的显示区域11d的“显示区域的列”彼此之间以及包括具有第三尺寸的显示区域11e的“显示区域的列”彼此之间不形成(或者可以不形成)对准图案12。
图4是示意性地示出形成有单一尺寸的多个显示区域11f、11g的基板1d的构成的俯视图。如图4所示，即使是仅形成有单一尺寸的显示区域11f、11g的构成，在包括朝向相互不同的多个显示区域11f、11g的情况下会形成对准图案12。
即，如图4所示，在形成有某种朝向的多个显示区域11f的范围与形成有与上述某种朝向不同的其它朝向的多个显示区域11g的范围之间，沿着这些范围的边界形成有对准图案12。换言之，在包括某种朝向的多个显示区域11f的“显示区域的列”与包括其它朝向的多个显示区域11g的“显示区域的列”之间，沿着显示区域11f、11g的排列方向的显示区域11f、11g的位置和范围(＝显示区域11f、11g彼此之间的区域的位置和范围)相互不同。因此，在包括某种朝向的多个显示区域11f的“显示区域的列”和与其相邻并包括其它朝向的多个显示区域11g的“显示区域的列”之间形成有对准图案12。对准图案12的构成如上所述。
这样，显示区域的尺寸的种类不限。要点在于构成为在沿着规定方向(在此均为沿着X轴方向)的显示区域的位置和范围(＝显示区域彼此之间的区域的位置和范围)不同的范围之间形成有对准图案12即可。
此外，对准图案12的材料没有特别限定。例如能应用如下构成。
在本发明的实施方式的第一基板1a中，对准图案12由与扫描线112或者数据线113中的一方相同的材料形成。并且，能应用在形成扫描线112的工序中一并形成对准图案12的构成，或者在形成数据线113的工序中一并形成对准图案12的构成。
另一方面，在本发明的实施方式的第二基板1b中，对准图案12由与黑矩阵117相同的材料，或者与某个颜色的着色层119相同的材料形成。并且，能应用在形成黑矩阵117的工序中一并形成对准图案12的构成，或者在形成规定颜色的着色层119的工序中一并形成对准图案12。
要点在于对准图案12只要是能由照相机等拍摄装置识别的图案即可(只要是至少能识别对准图案12的轮廓中包含的直线的图案即可)，材料、形成方法不限。
下面说明本发明的实施方式的曝光方法和本发明的实施方式的取向处理方法(＝应用了本发明的实施方式的曝光方法的取向处理方法)。
图5和图6是示意性地示出本发明的实施方式的曝光方法(本发明的实施方式的取向处理方法)中所用的曝光装置5(以下有时称为“本曝光装置”5)的主要部位的构成的俯视图。具体地说，图5是从通常设置形态的侧方观察本曝光装置5的图，图6是在通常设置形态中从上方观察本曝光装置5的图。此外，说明与本发明的实施方式的曝光方法的实施有关的部分，省略其它的部分、详细的动作等。省略说明的部分能应用以往公知的构成。
本曝光装置5具备工作台51、工作台控制系统(图略)、多个曝光单元52以及对准用光源53。在此示出并说明本曝光装置5具备10台曝光单元52的构成，但这是例示，曝光单元52的数量不限。
工作台51能载置本发明的实施方式的基板1，并且能使所载置的本发明的实施方式的基板1在其面方向上往复运动。工作台控制系统具有驱动工作台51的驱动部、控制驱动部的控制部等。此外，工作台51和工作台控制系统能应用以往公知的构成。因此，省略说明。
各曝光单元52具备光源521、曝光头525、掩模522、拍摄装置523、图像解析装置524以及掩模位置控制部526。
光源521能产生规定波段的光能量。光源521所产生的光能量的波段根据曝光对象物而设定。例如应用能产生紫外线的光源。曝光头525能使从光源521发出的光能量以规定的角度向外部照射。
掩模522例如是形成为板状的构件。图7是示意性地示出掩模522的构成的俯视图。在掩模522中形成有透光图案5221和基准图案5222。
透光图案5221是在规定的部位具有规定的尺寸形状，能使光源521产生的光能量透过的图案。透光图案5221的数量、尺寸和形状根据光能量的照射对象物的形状、位置、光能量的照射范围和位置等适当设定。具体构成在后面说明。
基准图案5222是在掩模522的位置的控制中用作基准的图案。在基准图案5222的轮廓中，包括与后述的“扫描方向”平行延伸的直线部分。除此以外的构成例如基准图案5222的轮廓的尺寸和形状没有特别限定。要点在于具有能由拍摄装置拍摄的直线部分的构成即可。例如，如图7所示，能应用如下构成：在掩模522中形成有能使光能量透过的开口部5223，在该开口部5223形成有沿着“扫描方向”延伸的带状或者线状的基准图案5222。此外，基准图案5222的数量不限。
拍摄装置523能将曝光对象物(＝本发明的实施方式的基板1)的表面和形成于掩模522的基准图案5222收入一个视野内来进行拍摄。如上所述，在掩模522中形成有开口部5223，在该开口部5223形成有基准图案5222。因此，能通过开口部5223拍摄本发明的实施方式的基板1的表面，并且能拍摄基准图案5222。拍摄装置523能应用例如公知的各种CCD照相机。并且，配设成形成于掩模522的基准图案5222进入拍摄装置523的视野的一部分。
图像解析装置524能解析拍摄装置523所拍摄的图像。具体地说，能算出利用拍摄装置523拍摄的图像中映现的掩模522的基准图案5222的轮廓与形成于本发明的实施方式的基板1的规定要素的轮廓(具体地说是对准图案12的轮廓中包含的直线)之间的距离(在此为相对于后述的“扫描方向”成直角的方向上的距离)。图像解析装置524由装入本曝光装置5的CPU、存储器等硬件和在该硬件上工作的软件实现。图像解析装置524的图像解析方法能应用以往公知的方法。因此省略详细的说明。
掩模位置控制部526能调整掩模522的位置(在此为相对于后述的“扫描方向”成直角的方向上的位置)。因此，掩模位置控制部526具有能使掩模522在与扫描方向成直角的方向上往复运动的驱动部和控制该驱动部的控制部等。此外，掩模位置控制部526能应用公知的掩模位置调整部。因此，省略详细的说明。
对准用光源53是在拍摄装置523拍摄本发明的实施方式的基板1的表面和掩模522的基准图案5222时使用的光源。如图5所示，配设在本发明的实施方式的基板1的下侧的位置。并且，构成为对准用光源53发出的光透过本发明的实施方式的基板1和掩模522的开口部5223到达拍摄装置523(图7中的箭头a示意性地示出对准用光源53发出的光)。
并且，各曝光单元52能使光源521所产生的光能量通过曝光头525、形成于掩模522的透光图案5221，从规定的方向照射曝光对象物的表面。图中的箭头b示意性地示出光源521所产生的光。
这种构成的本曝光装置5能一边使载置于工作台51的曝光对象物(＝本发明的实施方式的基板1)相对于各曝光单元52移动，一边对曝光对象物的规定的位置和范围照射光能量。将工作台51和载置于工作台51的曝光对象物(＝本发明的实施方式的基板1)与各曝光单元52相对地移动的方向称为“扫描方向”。
并且，如图6所示，多个曝光单元52在与扫描方向成直角的方向上排列。例如应用沿着与扫描方向成直角的方向锯齿状排列的构成、大致直列排列的构成等。因此，能利用各曝光单元52对本发明的实施方式的基板1的与扫描方向成直角的方向上的整个长度照射光能量。因此，使本发明的实施方式的基板1相对于各曝光单元52移动，由此能对本发明的实施方式的基板1的整个区域照射光能量。
此外，各曝光单元52能独立动作。至少，掩模位置控制部526能从其它曝光单元52的掩模位置控制部526独立动作。因此，各曝光单元52能分别单独控制掩模522的位置。
下面说明本发明的实施方式的曝光方法的动作。
首先，将本发明的实施方式的基板1载置于工作台51。本发明的实施方式的基板1的朝向为使形成于本发明的实施方式的基板1的对准图案12的轮廓中包含的直线的延伸方向与扫描方向平行的朝向。当以这种朝向被载置时，形成于显示区域11a、11b的像素的排列方向(＝矩阵的行方向或者列方向)与扫描方向平行。
当利用工作台51开始搬运本发明的实施方式的基板1时，工作台51和本发明的实施方式的基板1相对于曝光单元52移动。即，工作台51及本发明的实施方式的基板1与曝光单元52沿着工作台51的移动方向(＝扫描方向)相对地移动。
在此，将各曝光单元52的动作分为三个组来进行说明。
第一组是隔着掩模522临时仅对单一显示区域11a、11b照射光能量的曝光单元52的组。即，在属于第一组曝光单元52中，仅对某一个“显示区域的列”中包括的多个显示区域11a、11b照射光能量，不同时对多个“显示区域的列”中包括的显示区域11a、11b照射光能量。
第二组是会隔着掩模522同时对多个显示区域11a、11b(准确地说是多个“显示区域的列”中包括的显示区域11a、11b)照射光能量的曝光单元52的组。其中，多个显示区域11a、11b全部是相同尺寸的显示区域11a、11b的组。即，是仅对具有上述某种尺寸的多个显示区域11a照射光能量，或者仅对具有上述其它尺寸的多个显示区域11b照射光能量的组。
第三组是会隔着掩模522同时对多个显示区域11a、11b(准确地说是多个“显示区域的列”中包括的显示区域11a、11b)照射光能量的曝光单元52的组。不过，是多个显示区域11a、11b中包括相互不同的尺寸的显示区域11a、11b的组。即，是会对具有上述某种尺寸的多个显示区域11a和具有上述其它尺寸的多个显示区域11b两者照射光能量的组。
当本发明的实施方式的基板1与各曝光单元52开始相对地移动时，各曝光单元52的掩模522的一部分或者全部位于形成于本发明的实施方式的基板1的显示区域11a、11b的内侧。
其中，一部分曝光单元52的掩模522在与其扫描方向成直角的方向上的全长收纳于一个显示区域11a、11b的与扫描方向成直角的方向上的两端的内侧。这种曝光单元52的组是第一组。
当本发明的实施方式的基板1与各曝光单元52相对地移动时，第一组曝光单元52由拍摄装置523拍摄形成于显示区域11a、11b的规定要素(结构物)和形成于掩模522的基准图案5222。
并且，图像解析装置524识别形成于显示区域11a、11b的规定要素中的与扫描方向平行地延伸的规定要素(即与对准图案12平行地延伸的要素)的轮廓和形成于掩模522的基准图案5222的轮廓，算出它们之间的距离(与扫描方向成直角的方向上的距离)。
具体地说，在本发明的实施方式的第一基板1a中，算出形成于显示区域11a、11b的扫描线112或者数据线113的轮廓(＝扫描线112和数据线113中的在与扫描方向平行的方向上延伸((即与对准图案12平行地延伸的))的线的轮廓)与形成于掩模522的基准图案5222的轮廓之间的距离。另一方面，在本发明的实施方式的第二基板1b中，算出形成于显示区域11a、11b的黑矩阵117中的与扫描方向平行地延伸的带状或者细线状的部分的轮廓与形成于掩模522的基准图案5222的轮廓之间的距离。
掩模位置控制部526根据图像解析装置524所算出的上述距离来调整掩模522的位置(在此为与扫描方向成直角的方向上的位置)。即，掩模位置控制部526调整掩模522的位置，以使上述距离维持规定的距离(或者上述距离收纳于规定的公差内)。
然后在本发明的实施方式的基板1与曝光单元52相对地移动期间继续进行这种动作。
由此，透过形成于掩模522的透光图案5221的光能量照射到本发明的实施方式的基板1的显示区域11a、11b的规定的范围。即，对光能量的照射位置进行定位。其结果是，能通过形成于掩模522的透光图案5221对沿着本发明的实施方式的基板1的显示区域11a、11b的像素的排列的方向的细长带状的区域高精度地照射光能量。
此外，当本发明的实施方式的基板1与掩模522相对地移动时，掩模522会位于在相对地移动的方向上相邻的显示区域11a、11b彼此之间(＝在对准图案12的延伸方向上相邻的显示区域11a、11b彼此之间)。在该期间，拍摄装置523无法拍摄形成于显示区域11a、11b的规定要素。因此，掩模位置控制部526不能或者难以高精度地调整掩模522的位置。然而，显示区域11a、11b彼此之间是不需要照射光能量的区域(＝不是“曝光对象区域”)，因此也可以不用高精度地控制掩模522的位置。
这样，如果将形成于显示区域11a、11b的规定要素用作控制掩模522的位置的基准，就能对显示区域11a、11b高精度地控制光能量的照射位置。
第二组曝光单元52的掩模522会进入在与扫描方向成直角的方向上并排的多个显示区域11a、11b的内侧。具体地说，例如有时掩模522的一部分进入在与扫描方向成直角的方向上相互相邻的显示区域11a、11b中的一方内侧，掩模522的另一部分进入在与扫描方向成直角的方向上相互相邻的显示区域11a、11b中的另一方内侧。即，掩模522会跨于相互相邻的“显示区域的列”中包括的多个显示区域11a、11b。不过，第二组曝光单元52的掩模会跨于相同尺寸的多个显示区域11a、11b，但是不跨于相互不同的尺寸的多个显示区域11a、11b。换言之，这种曝光单元52是第二组。
第二组曝光单元52在本发明的实施方式的基板1与各曝光单元52相对地移动的期间利用拍摄装置523拍摄在与扫描方向成直角的方向上相互相邻的多个显示区域11a、11b中的一个中形成的规定要素(结构物)和形成于掩模522的基准图案5222。
并且，图像解析装置524识别掩模522所跨的多个显示区域11a、11b中的任一个中形成的规定要素中的与扫描方向平行地延伸的规定要素的轮廓和形成于掩模522的基准图案5222的轮廓，算出它们之间的距离(与扫描方向成直角的方向上的距离)。
以后的动作与第一组曝光单元是相同的。
在属于第二组的曝光单元52中，当本发明的实施方式的基板1与掩模522相对地移动时，有时掩模522位于在相对移动的方向上相邻的显示区域11a、11b彼此之间。在该期间，与第一组同样，拍摄装置523无法拍摄在多个显示区域11a、11b中的任一个中形成的规定要素。因此，掩模位置控制部526不能或者难以高精度地调整掩模522的位置。然而，显示区域11a、11b彼此之间是不需要照射光能量的区域，因此也可以不用高精度地控制掩模522的位置。
此外，如上所述，在属于第二组的曝光单元52中，掩模522所跨的多个显示区域11a、11b(＝在与扫描方向成直角的方向上相邻的显示区域11a、11b)全部是相同的尺寸。换言之，掩模522所跨的多个“显示区域的列”的显示区域11a、11b的位置和范围(或者，显示区域11a、11b彼此之间的位置和范围)(在此是扫描方向上的位置和范围)全部相同。因此，当本发明的实施方式的基板1与曝光单元52相对地移动时，掩模522同时进入在与扫描方向成直角的方向上并排的多个显示区域11a、11b，并且同时出到外侧。
因此，即使是用掩模522所跨的多个显示区域11a、11b中的特定一个中形成的规定要素作为调整掩模522的位置的基准的构成，在掩模522的一部分位于上述显示区域11a、11b中的特定的一个的外侧的期间，掩模522的另一部分也位于其它显示区域11a、11b的外侧。这样，这样，能对掩模522所跨的全部显示区域11a、11b(例如，对在与扫描方向成直角的方向上相邻的两个显示区域11a、11b)维持光能量的照射位置的精度。
有时第三组曝光单元52的掩模522会进入在与扫描方向成直角的方向上并排的多个显示区域11a、11b的内侧。具体地说，例如有时掩模522的一部分进入在与扫描方向成直角的方向上相邻的显示区域11a、11b中的一方的内侧，掩模522的另一部分进入在与扫描方向成直角的方向上相邻的显示区域11a、11b中的另一方的内侧。并且，在该多个显示区域11a、11b中包括相互不同的尺寸的区域。换言之，这种曝光单元52的组是第三组曝光单元52。
图8是示意性地示出掩模522的一部分进入在与扫描方向成直角的方向上相邻的显示区域11a、11b中的一方，掩模522的另一部分进入在与扫描方向成直角的方向上相邻的显示区域11a、11b中的另一方的状态的俯视图。此外，在图中，用虚线表示掩模522的透光图案5221和基准图案5222。
当本发明的实施方式的基板1与各曝光单元52相对地移动时，第三组曝光单元52的拍摄装置523拍摄对准图案12和形成于掩模522的基准图案5222。
并且，第三组曝光单元52的图像解析装置524识别对准图案12的轮廓中的直线部分和形成于掩模522的基准图案5222的轮廓，算出它们之间的距离(与扫描方向成直角的方向上的距离)E。
以后的动作除了用对准图案12作为控制掩模522的位置的基准的构成以外，与第一组或者第二组曝光单元52相同。
如图8所示，在第三组曝光单元52中，当本发明的实施方式的基板1与掩模522相对地移动时，有时掩模522的一部分位于某个“显示区域的列”中包括的显示区域11a、11b(图8中，某种尺寸的显示区域11a)彼此之间，而掩模522的另一部分位于其它“显示区域的列”中包括的显示区域11a、11b(图8中，其它尺寸的显示区域11b)的内侧。在该期间中，第三组曝光单元52也能以对准图案12为基准继续进行掩模522的位置的控制。因此，第三组曝光单元52能实现对全部显示区域11a、11b维持光能量的照射位置的精度。
即，当第三组曝光单元52进行与第二组曝光单元52相同的动作时，会产生如下问题。如上所述，有时第三组曝光单元52的掩模522的一部分会位于属于某个“显示区域的列”的显示区域11a、11b彼此之间(＝显示区域11a、11b的外侧)，而掩模522的另一部分位于属于其它“显示区域的列”的显示区域11a、11b的内侧。假如将属于某个“显示区域的列”的显示区域11a、11b中形成的规定要素用作控制掩模522的位置的基准，则当掩模522位于属于该某个“显示区域的列”的显示区域11a、11b彼此之间时，会降低控制掩模522的位置的精度。因此，有时难以对属于其它“显示区域的列”的显示区域11a、11b维持光能量的照射位置的精度。
特别是如果将形成于一方显示区域11a、11b的规定要素用作控制掩模522的位置的基准，在掩模522的基准图案5222处于该一方显示区域11a、11b之外时，曝光单元52的拍摄装置523会失去控制掩模522的位置的基准。因此，在掩模522的基准图案5222处于该一方显示区域11a、11b之外时，有时掩模522会发生剧烈的位置偏移。此时，如果掩模522的一部分位于另一方显示区域11a、11b的内侧，则照射到该另一方显示区域11a、11b的光能量会发生剧烈的位置偏移。因此，有可能在该另一方显示区域11a、11b中形成光能量的照射位置局部偏离的部分。
与此相对，根据本发明的实施方式的曝光方法则不会发生这种问题。如上所述，对准图案12形成为涵盖本发明的实施方式的基板1的大致整个长度。因此，如果将对准图案12用作控制掩模522的位置的基准，则在掩模522的一部分位于属于某个“显示区域的列”的显示区域11a、11b的外侧的期间，也能维持控制掩模522的位置的精度。因此，能实现对全部显示区域11a、11b维持光能量的照射位置的精度。
这样，根据本发明的实施方式的曝光方法，能对形成于本发明的实施方式的基板1(即拼版基板)的全部显示区域11a、11b维持光能量的照射位置的精度。特别是，即使是形成有相互不同的尺寸的显示区域11a、11b的基板，也能对全部尺寸的显示区域11a、11b维持光能量的照射位置的精度。而且能防止发生掩模522的剧烈的位置偏移。因此，能谋求从本发明的实施方式的基板1制造的液晶显示面板用的基板(或者，液晶显示面板)的质量的维持(＝质量的均匀化)、提高，或者防止产生次品。
下面说明对本发明的实施方式的基板1的曝光的详细内容(即，本发明的实施方式的取向处理方法的详细内容)。如上所述，本发明的实施方式的曝光方法能应用于为了进行光取向而对取向膜照射光能量的方法。并且，用本发明的实施方式的曝光方法来实现取向分割。取向分割是通过在液晶显示面板的一个像素内形成多个取向状态来谋求视野角特性的平均化的方法。
用本发明的实施方式的曝光方法对一个像素内的每个规定的区域从相互不同的方向照射光能量。取向膜的取向根据光能量的照射方向决定，因此如果对一个像素内的取向膜从相互不同的方向照射光能量，就会对一个像素内的取向膜形成取向状态相互不同的多个区域。
图9是示意性地示出对本发明的实施方式的基板的各像素照射光能量的形态的立体图。图9(a)示出对本发明的实施方式的第一基板1a照射光能量的形态，图9(b)示出对本发明的实施方式的第二基板1b照射光能量的形态。并且，图9(c)是示意性地示出本液晶显示面板的一个像素中的液晶的朝向(＝取向的状态)的俯视图。
如图9(a)所示，对于本发明的实施方式的第一基板1a，假定在设于各像素的两侧的数据线113彼此的大致中间分割的两个区域。并且，对各区域从相互不同的方向照射光能量。具体地说，为相对于像素的法线倾斜的方向(在图9(a)中，倾斜角度为θ)。并且，在将分别照射的光能量的光轴投影到像素的面的情况下，这些投影的光轴与数据线113大致平行，朝向相反。此外，该角度θ的具体值能适当地设定，没有特别限定。
对于本发明的实施方式的第二基板1b的像素，假定在划分各像素的黑矩阵117的四边中的在与上述本发明的实施方式的第一基板1a贴合时与本发明的实施方式的第一基板1a的扫描线112平行的二边的大致中央分为两部分而形成的两个区域。并且，对各个区域从相互不同的方向照射光能量。具体地说，对各区域照射的光能量以相对于像素的面的法线成规定的角度θ倾斜。并且，在将照射的光能量的光轴投影到像素的面的情况下，投影的光能量的光轴与本发明的实施方式的第一基板1a的扫描线112平行，并且朝向相互相反。该角度θ的具体值与本发明的实施方式的第一基板1a同样能适当地设定，没有特别限定。
当将本发明的实施方式的第一基板1a和本发明的实施方式的第二基板1b贴合时，如图9(c)所示，填充于两基板1a、1b之间的液晶的朝向根据对各基板1a、1b的各像素的各区域的取向膜实施的取向的朝向(＝光能量的照射的朝向)而决定。其结果是，在各像素内形成有液晶的朝向相互不同的多个区域(本发明的实施方式中是四个区域)。
图10(a)是示意性地示出对本发明的实施方式的第一基板1a应用本发明的实施方式的曝光方法时所用的掩模522a(以下称为“第一掩模”)的透光图案5221a的构成的俯视图。图10(b)是示意性地示出形成于第一掩模522a的透光图案5221a与设于本发明的实施方式的第一基板1a的显示区域11a、11b中的像素的图案的尺寸和位置的关系的俯视图。
如图10(a)所示，第一掩模522a是大致长方形的板状的构件。并且，形成为能透过光能量的狭缝状的多个透光图案5221a以规定的间距Pa排列。如图10(b)所示，该透光图案5221a的间距Pa设定为与形成于本发明的实施方式的第一基板1a的显示区域11a、11b的数据线113或者扫描线112的间距相等(在图10(a)中示出设定为与数据线113的间距相等的构成)。另外，各透光图案5221a的尺寸(在此为透光图案5221a的排列方向上的尺寸)La设定为上述间距Pa的约1/2。
图11是示意性地示出对本发明的实施方式的第二基板1b应用本发明的实施方式的曝光方法时所用的掩模522b(以下称为“第二掩模”)和形成于本发明的实施方式的第二基板1b的显示区域11a、11b的黑矩阵117的位置和尺寸的关系的俯视图。
第二掩模522b的透光图案5221b整体上具有与第一掩模522a的透光图案5221a同样的构成(参照图10(a))。即，形成为能透过光能量的狭缝状的透光图案5221b隔开规定的间距Pb排列。该透光图案5221b的间距设定为与形成于本发明的实施方式的第二基板1b的显示区域11a、11b的黑矩阵117的间距(在此是与本发明的实施方式的第一基板1a贴合时，与本发明的实施方式的第一基板1a的扫描线112平行的边的间距)相等。另外，透光图案5221b的尺寸Lb(在此为沿着透光图案5221b的排列方向的尺寸)设定为上述间距Pb的约1/2的尺寸。
用第一掩模522a利用本发明的实施方式的曝光方法对形成于本发明的实施方式的第一基板1a的取向膜照射光能量(＝实施取向处理)。同样，用第二掩模522b利用本发明的实施方式的曝光方法对形成于本发明的实施方式的第二基板1b的取向膜照射光能量(＝实施取向处理)。
对本发明的实施方式的第一基板1a的曝光如下。在第一组和第二组曝光单元52中，拍摄装置523拍摄形成于某一个显示区域11a、11b的规定要素(＝扫描线112或者数据线113)和第一掩模522a的基准图案5222。并且，图像解析装置524算出规定要素的轮廓与基准图案5222的轮廓之间的距离，掩模位置控制部526根据算出的距离控制第一掩模522a的位置。在第三组曝光单元52中，拍摄装置523拍摄对准图案12和第一掩模522a的基准图案5222。并且，图像解析装置524算出对准图案12的轮廓的直线部分与基准图案5222的轮廓之间的距离，掩模位置控制部526根据算出的距离控制第一掩模522a的位置。
对本发明的实施方式的第二基板1b的曝光如下。在第一组和第二组曝光单元52中，拍摄装置523拍摄形成于某一个显示区域11a、11b的黑矩阵117和第二掩模522b的基准图案5222。并且，图像解析装置524算出黑矩阵117中的与扫描方向平行的线状或者带状的部分的轮廓与基准图案5222的轮廓之间的距离。掩模位置控制部526根据算出的距离控制第二掩模522b的位置。在第三组曝光单元52中，拍摄装置523拍摄对准图案12和第二掩模522b的基准图案5222。并且，图像解析装置524算出对准图案12的轮廓的直线部分与基准图案5222的轮廓之间的距离，掩模位置控制部526根据算出的距离控制第二掩模522b的位置。
利用这种动作，能对形成于本发明的实施方式的基板1的显示区域11a、11b的像素的规定的一部分(＝与扫描方向成直角的方向上的一半区域)高精度地照射光能量。
本发明的实施方式的第一基板1a和本发明的实施方式的第二基板1b均利用第一次扫描对形成于显示区域11a、11b的各像素的一半区域(＝各像素的假定的两个区域中的一方)照射光能量。然后，在第二次扫描中，将第一掩模522a与本发明的实施方式的第一基板1a以及第二掩模522b与本发明的实施方式的第二基板1b的位置(＝在与扫描方向成直角的方向上的位置)错开上述间距La、Lb的约1/2，对各像素的剩下一半区域(＝各像素的假定的两个区域中的另一方)照射光能量。其结果是对各像素的半个区域分别实施不同方向的取向处理。
根据本发明的实施方式的曝光方法，能对全部显示区域高精度地照射光能量。另外，能防止掩模发生剧烈的位置偏移。因此，能在取向分割中，在各区域的边界防止或者抑制发生漏光等，谋求提高液晶显示面板的显示质量。因此，能提供高质量的液晶显示面板。
下面简单说明应用本发明的实施方式的基板1的制造方法和本发明的实施方式的基板1的液晶显示面板(＝本液晶显示面板)的制造方法的整体流程。
本发明的实施方式的第一基板1a(即用于制造TFT阵列基板的基板)的制造方法的整体流程如下。
首先，在包括玻璃等的透明基板的表面设定多个“在分别成为一个液晶显示面板用的基板的状态下成为显示区域的区域”(如上所述，简称“显示区域”)，在各显示区域11a、11b中形成有扫描线112和开关元件114(＝薄膜晶体管)的栅极电极。在相同的工序中，在显示区域11a、11b的外侧形成有对准图案12。此外，也可以构成为对准图案12在与该工序不同的其它工序中形成。
具体地说，首先，涵盖透明基板的单侧表面的整个面地形成包括铬、钨、钼、铝等的单层或者多层的导体膜(以下称为第一导体膜)。该第一导体膜的形成方法能应用公知的各种溅射法等。此外，该第一导体膜的厚度没有特别限定，例如能应用300nm程度的厚度。
然后将形成的第一导体膜在显示区域11a、11b中图案化为扫描线112和开关元件114的栅极电极的形状。另外，在显示区域11a、11b的外侧图案化为对准图案12的形状。第一导体膜的图案化能应用公知的各种湿式蚀刻。在第一导体膜包括铬的构成中，能应用采用了(NH4)2[Ce(NH3)6]+HNO3+H2O液的湿式蚀刻。
然后在经过了上述工序的透明基板的表面形成绝缘膜(＝栅极绝缘膜)。绝缘膜能应用厚度300nm程度的SiNx(氮化硅)等。绝缘膜的形成方法能应用等离子体CVD法等。当形成绝缘膜时，在显示区域11a、11b中，利用绝缘膜覆盖扫描线112和开关元件114的栅极电极。
然后，在显示区域11a、11b中，在绝缘膜表面的规定位置形成规定形状的半导体膜。具体地说，该半导体膜形成于隔着绝缘膜与栅极电极重叠的位置。该半导体膜具有包括第一子半导体膜和第二子半导体膜的二层结构。第一子半导体膜能应用厚度为100nm程度的非晶硅等。第二子半导体膜能应用厚度为20nm程度的n+型的非晶硅等。
第一子半导体膜在通过蚀刻来形成源极配线、漏极配线等的工序中发挥蚀刻阻挡层的功能。第二子半导体膜用于使第一子半导体膜与源极电极、漏极电极(它们在后面的工序中形成)的欧姆接触变良好。
该半导体膜(第一子半导体膜和第二子半导体膜)的形成方法能应用等离子体CVD法和光刻法。
即，首先用等离子体CVD法将半导体膜(第一子半导体膜和第二子半导体膜)的材料沉积在经过了上述工序的透明基板的单侧表面从而形成半导体膜。然后，利用光刻法等将形成的半导体膜(第一子半导体膜和第二子半导体膜)图案化为规定的形状。具体地说，在形成的半导体膜的表面形成光致抗蚀剂材料的层。形成光致抗蚀剂材料的层能采用旋涂法等。然后，对形成的光致抗蚀剂材料的层用光掩模实施曝光处理，然后实施显影处理。这样，在显示区域11a、11b中的半导体膜的表面保留规定图案的光致抗蚀剂材料的层。
然后，将图案化的光致抗蚀剂材料的层用作掩模来进行半导体膜的图案化。该图案化能应用例如使用HF+HNO3溶液的湿式蚀刻、使用Cl2和SF6气体的干式蚀刻。由此，半导体膜(第一子半导体膜和第二子半导体膜)形成于隔着绝缘膜与栅极电极重叠的位置。
然后，在显示区域11a、11b中，用相同的材料以相同的工序形成数据线113、漏极配线和开关元件114的漏极电极。此外，在对准图案12不在上述“在各显示区域11a、11b中形成扫描线112和开关元件114(＝薄膜晶体管)的栅极电极的工序”中形成的情况下，能应用在该工序中同时形成对准图案12的构成。
具体地说，在经过了上述工序的透明基板的表面形成第二导体膜。该第二导体膜具有包括钛、铝、铬、钼等的二层以上的层叠结构。在本发明的实施方式的第一基板1a中，第二导体膜具有二层结构。即，第二导体膜具有包括离透明基板近的一侧的第一子导体膜和远的一侧的第二子导体膜的二层结构。第一子导体膜能应用钛等。第二子导体膜能应用铝等。
第二导体膜的形成方法能应用公知的各种溅射法等。第二导体膜的图案化能应用使用了Cl2和BCl3气体的干式蚀刻和使用了磷酸、醋酸、硝酸的湿式蚀刻。通过该图案化形成包括第二导体膜的数据线113、漏极配线、漏极电极。在该图案化中，将第一子半导体膜用作蚀刻阻挡层，也对第二子半导体膜进行蚀刻。然后，在该工序中同时将对准图案12图案化。
经过以上的工序，在显示区域11a、11b中形成有开关元件114(即，栅极电极、源极电极、漏极电极和绝缘膜)、扫描线112和数据线113。
然后，在经过了上述工序的透明基板上形成钝化膜。该钝化膜能应用厚度为300nm程度的SiNx(氮化硅)。钝化膜的形成方法能应用等离子体CVD法等。
进而在钝化膜的表面形成有机绝缘膜。有机绝缘膜能应用丙烯酸类的树脂材料。将形成的有机绝缘膜通过光刻法等图案化为规定的图案。具体地说，在显示区域11a、11b中形成用于将像素电极111和漏极配线电连接的开口部(即接触孔)。当将有机绝缘膜图案化来形成开口部时，通过开口部露出钝化膜的规定的部分。
然后将图案化后的有机绝缘膜用作掩模将钝化膜和绝缘膜图案化。通过该图案化除去钝化膜和绝缘膜中的从有机绝缘膜的开口部露出的部分。由此在钝化膜中形成开口部(＝接触孔)。该钝化膜和绝缘膜的图案化能应用使用了CF4+O2气体或SF6+O2气体的干式蚀刻。
然后，在显示区域11a、11b形成像素电极111。像素电极111能应用例如厚度为100nm程度的ITO(Indium Tin Oxide：铟锡氧化物)。另外像素电极111的形成方法能应用公知的各种溅射法。
经过以上的工序来制造本发明的实施方式的第一基板1a。
本发明的实施方式的第二基板1b(即用于制造彩色滤光片的基板)的制造方法的整体流程如下。本发明的实施方式的第二基板1b的制造方法包括黑矩阵形成工序、着色层形成工序、保护膜形成工序以及透明电极(共用电极)形成工序。
黑矩阵形成工序的内容例如用树脂BM法时如下。首先，在透明基板的表面涂敷BM抗蚀剂(所谓含有黑色着色剂的感光性树脂组合物)等。然后将涂敷的BM抗蚀剂用光刻法等形成为规定的图案。由此，在“成为一个显示面板用的基板的状态下成为显示区域的区域”(如上所述，简称“显示区域”)中形成规定的图案的黑矩阵117。在该工序中，同时形成对准图案12。此外，也可以是在该工序中不形成对准图案12的构成(后述)。
在着色层形成工序中，形成彩色显示用的红色、绿色、蓝色的各颜色的着色层119。例如用着色感材法时如下。首先，在形成有黑矩阵117的透明基板的表面涂敷着色感材(所谓在感光性材料中分散有规定颜色的颜料的溶液)。然后，用光刻法等将涂敷的着色感材形成规定的图案。然后对红色、绿色、蓝色的各色进行该工序。由此形成各颜色的着色层119。此外，在着色层形成工序中，有时会一并形成用于规定单元间隙的隔离物。即，有时会在相对基板的规定的部位(例如黑矩阵117的表面)形成包括着色感材的柱状的结构物(＝隔离物)。
然后，在是黑矩阵形成工序中不形成对准图案12的构成的情况下，在着色层形成工序中形成对准图案12。即，与形成红色、绿色、蓝色的着色层中的任一个同时形成对准图案12。
黑矩阵形成工序中使用的方法不限于树脂BM法。例如能应用铬BM法、重叠法等公知的各种方法。在着色层形成工序中使用的方法也不限于着色感材法。能应用例如印刷法、染色法、电镀法、转印法、蚀刻法等公知的各种方法。另外，也可以使用先形成着色层119然后形成黑矩阵117的背面曝光法。
在保护膜形成工序中，在黑矩阵117和着色层119的表面形成保护膜。例如，能在经过了上述工序的透明基板的表面应用用旋涂法涂敷保护膜材料的方法(全面涂敷法)、用印刷或者光刻法等来形成规定图案的保护膜的方法(图案化法)等。保护膜材料能应用例如丙烯酸树脂、环氧树脂等。此外，也可以是不形成保护膜的构成。
在透明电极(共用电极)膜形成工序中，在保护膜的表面(在不形成保护膜的构成中是黑矩阵117和各颜色的着色层119的表面)形成共用电极。例如如果用掩模法，则在经过了上述工序的透明基板的表面配置掩模，通过溅射等蒸镀铟锡氧化物(ITO：Indium TinOxide)等来形成透明电极(共用电极)。
经过这种工序来制造本发明的实施方式的第二基板1b。
下面说明本液晶显示面板的制造方法。
首先，在经过上述工序制造的本发明的实施方式的第一基板1a和本发明的实施方式的第二基板1b各自的显示区域11a、11b的表面形成取向膜。然后对形成的取向膜实施取向处理。该取向处理采用本发明的实施方式的曝光方法。然后，将本发明的实施方式的第一基板1a和本发明的实施方式的第二基板1b贴合，并且在它们之间填充液晶。然后，截断为一个个液晶显示面板。
首先用取向材料涂敷装置等对本发明的实施方式的基板1的显示区域11a、11b的表面涂敷取向材料。所谓取向材料是指含有成为取向膜的原料的物质的溶液。取向膜能应用例如聚酰亚胺。因此，取向材料能应用以聚酰亚胺为溶质的溶液。取向材料涂敷装置能应用喷墨方式的印刷装置(分注器)。涂敷的取向材料用取向膜烧成装置等进行加热并烧成。然后对烧成的取向膜实施取向处理。该取向处理采用本发明的实施方式的曝光方法(＝本发明的实施方式的取向处理方法)。
然后，用密封图案化装置等在本发明的实施方式的第一基板1a或者本发明的实施方式的第二基板1b上以围绕各显示区域11a、11b的方式涂敷密封材料。
然后用隔离物撒布装置等在本发明的实施方式的第一基板1a或者本发明的实施方式的第二基板1b的表面撒布用于将单元间隙均匀保持为规定值的隔离物(例如具有规定直径的塑料珠等)。此外，如果是在本发明的实施方式的第二基板1b的表面形成柱状的隔离物的构成，则不撒布隔离物。
然后，用液晶滴下装置等在本发明的实施方式的第一基板1a或者本发明的实施方式的第二基板1b的表面的被密封材料包围的区域滴下液晶。
然后，在减压气氛下将本发明的实施方式的第一基板1a和本发明的实施方式的第二基板1b贴合。然后使密封材料固化。例如，在采用紫外线固化型的密封材料的情况下，在贴合后对密封材料照射紫外线。
然后截断为一个个液晶显示面板。截断的一个个液晶显示面板在经过规定的检查(例如点亮检查等)后，对其两侧的表面以正交尼科尔的形态贴附偏振膜。另外，在检查完成后，截断设有检查用的端子的区域。
经过这种工序来制造本液晶显示面板。
根据通过本发明的实施方式的曝光方法实施了取向处理的液晶显示面板，对于从一个基板制造的全部液晶显示面板能谋求取向状态的均匀化。特别是在从一个本发明的实施方式的基板制造不同尺寸的液晶显示面板的情况下，能谋求取向状态的均匀化。因此，能提供显示质量高的液晶显示面板。
根据本发明的基板和本发明的曝光方法，在一个掩模跨于尺寸相互不同的多个曝光对象区域或者多个显示区域的情况下，也能谋求对多个曝光对象区域或者多个显示区域分别维持光能量的照射位置和范围的精度。
即，在一个掩模跨于尺寸相互不同的多个曝光对象区域或者多个显示区域的情况下，将形成于多个曝光对象区域或者多个显示区域中的某一个中的规定要素用于控制掩模的位置，则当掩模位于该某一曝光对象区域或者某一显示区域的外侧时，难以高精度地控制掩模的位置。因此，有可能会降低对其它某一曝光对象区域或者其它某一显示区域照射光能量的位置和范围的精度。
与此相对，根据本发明的基板和本发明的曝光方法，将对准图案用于控制曝光的光能量的照射位置和范围，由此对尺寸相互不同的多个曝光对象区域或者多个显示区域中的任一个，也能继续高精度地控制掩模的位置。
根据本发明的光取向处理方法，能对形成于全部显示区域的像素高精度地照射光能量。因此，在形成于基板的全部显示区域中形成在一个像素中形成的取向状态相互不同的多个区域时，能防止或者抑制在取向状态不同的多个区域彼此的边界发生取向的紊乱。因此，能在从一个基板制造的全部显示面板中防止或者抑制发生液晶的取向紊乱。因此，能谋求维持或者提高从一个基板制造的多个显示面板的显示质量。另外，能防止或者抑制从一个基板制造的多个显示面板中包括次品。
以上参照附图详细说明了本发明的实施方式，但是本发明不受上述实施方式任何限定，在不脱离本发明主旨的范围中能进行各种改变。
例如，在上述实施方式中示出了光取向的曝光方法，但是只要是一边使曝光对象物与掩模相对地移动一边进行曝光的工序即可，对取向处理以外的工序也能应用。

Claims (27)

1.一种基板，其特征在于，
形成有：某种尺寸的多个曝光对象区域；以及
与上述某种尺寸不同的其它尺寸的多个曝光对象区域，并且
在形成有上述某种尺寸的多个曝光对象区域的范围与形成有上述其它尺寸的多个曝光对象区域的范围之间，形成有在对上述曝光对象区域曝光时成为控制光能量的照射位置的基准的对准图案。
2.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，
在上述对准图案的轮廓中包括直线部分，上述直线部分沿着形成有上述某种尺寸的多个曝光对象区域的范围与形成有上述其它尺寸的曝光对象区域的范围的边界。
3.根据权利要求1或者权利要求2所述的基板，其特征在于，
上述对准图案形成为沿着形成有上述某种尺寸的多个曝光对象区域的范围与形成有上述其它尺寸的曝光对象区域的范围的边界的带状或者线状。
4.一种基板，其特征在于，
形成有：排列有某种尺寸的多个曝光对象区域的列；以及
与排列有上述某种尺寸的多个曝光对象区域的列相邻而排列有与上述某种尺寸不同的其它尺寸的多个曝光对象区域的列，并且
在排列有上述某种尺寸的多个曝光对象区域的列与排列有上述其它尺寸的多个曝光对象区域的列之间，形成有在对上述曝光对象区域曝光时成为控制光能量的照射位置的基准的对准图案。
5.根据权利要求4所述的基板，其特征在于，
排列有上述某种尺寸的多个曝光对象区域的列与排列有上述其它尺寸的多个曝光对象区域的列是平行的，在上述对准图案的轮廓中，包括与排列有上述某种尺寸的多个曝光对象区域的列和排列有上述其它尺寸的多个曝光对象区域的列平行的直线部分。
6.根据权利要求4或者权利要求5所述的基板，其特征在于，
排列有上述某种尺寸的多个曝光对象区域的列与排列有上述其它尺寸的多个曝光对象区域的列是平行的，上述对准图案形成为与排列有上述某种尺寸的多个曝光对象区域的列和排列有上述其它尺寸的多个曝光对象区域的列平行的带状或者线状。
7.一种基板，其特征在于，
是用于制造具有用于显示图像的显示区域的多个显示面板用的基板的拼版基板，
形成有：某种尺寸的多个上述显示区域；以及
与上述某种尺寸不同的其它尺寸的多个上述显示区域，并且
在形成有某种尺寸的多个上述显示区域的范围与形成有上述其它尺寸的多个上述显示区域的范围之间，形成有在对上述显示区域曝光时成为控制光能量的照射位置的基准的对准图案。
8.根据权利要求7所述的基板，其特征在于，
在上述对准图案的轮廓中包括直线部分，上述直线部分沿着形成有上述某种尺寸的多个上述显示区域的范围与形成有上述其它尺寸的多个上述显示区域的范围的边界。
9.根据权利要求7或者权利要求8所述的基板，其特征在于，
上述对准图案形成为沿着形成有上述某种尺寸的多个上述显示区域的范围与形成有上述其它尺寸的多个上述显示区域的范围的边界的带状或者线状。
10.根据权利要求7所述的基板，其特征在于，
在上述显示区域中排列有多个像素，
在上述对准图案中包括与上述多个像素的排列方向平行的直线部分。
11.根据权利要求10所述的基板，其特征在于，
在上述显示区域中多个像素电极在相互正交的两个方向上矩阵状地排列，并且形成有与上述多个像素的排列方向中的一方平行的扫描线和与上述多个像素的排列方向中的另一方平行的数据线，
在上述对准图案的轮廓中，包括与上述多个像素的排列方向中的一方和上述扫描线平行的直线部分，或者包括与上述多个像素的排列方向中的另一方和上述数据线平行的直线部分。
12.根据权利要求11所述的基板，其特征在于，
上述对准图案由与上述扫描线或者上述数据线相同的材料形成。
13.根据权利要求10所述的基板，其特征在于，
在上述显示区域中，形成有具有相互正交的多个带状或者线状的部分的黑矩阵和彩色显示用的着色层，并且
在上述对准图案的轮廓中，包括与上述相互正交的带状或者线状的部分的方向中的任一方平行的直线部分。
14.根据权利要求13所述的基板，其特征在于，
上述对准图案由与上述黑矩阵或者上述着色层相同的材料形成。
15.一种基板，其特征在于，
是用于制造具有用于显示图像的显示区域的多个显示面板用的基板的拼版基板，
形成有：排列有某种尺寸的多个上述显示区域的列；以及
与排列有上述某种尺寸的多个上述显示区域的列相邻而排列有与上述某种尺寸不同的其它尺寸的多个上述显示区域的列，
在排列有上述某种尺寸的多个上述显示区域的列与排列有上述其它尺寸的多个上述显示区域的列之间，形成有在对上述显示区域曝光时成为控制光能量的照射位置的基准的对准图案。
16.根据权利要求15所述的基板，其特征在于，
排列有上述某种尺寸的多个上述显示区域的列与排列有上述其它尺寸的多个上述显示区域的列是平行的，
在上述对准图案的轮廓中，包括与排列有上述某种尺寸的多个上述显示区域的列和排列有上述其它尺寸的多个上述显示区域的列平行的直线部分。
17.根据权利要求15或者权利要求16所述的基板，其特征在于，
排列有上述某种尺寸的多个上述显示区域的列与排列有上述其它尺寸的多个上述显示区域的列是平行的，上述对准图案形成为与排列有上述某种尺寸的多个上述显示区域的列和排列有上述其它尺寸的多个上述显示区域的列平行的带状或者线状。
18.根据权利要求15所述的基板，其特征在于，
在上述显示区域中排列有多个像素，
在上述对准图案中包括与上述多个像素的排列方向平行的直线部分。
19.根据权利要求16所述的基板，其特征在于，
在上述显示区域中多个像素电极在相互正交的两个方向上矩阵状地排列，并且形成有与上述多个像素的排列方向中的一方平行的扫描线和与上述多个像素的排列方向中的另一方平行的数据线，
在上述对准图案的轮廓中，包括与上述多个像素的排列方向中的一方和上述扫描线平行的直线部分，或者包括与上述多个像素的排列方向中的另一方和上述数据线平行的直线部分。
20.根据权利要求19所述的基板，其特征在于，
上述对准图案由与上述扫描线或者上述数据线相同的材料形成。
21.根据权利要求16所述的基板，其特征在于，
在上述显示区域中，形成有具有相互正交的多个带状或者线状的部分的黑矩阵和彩色显示用的着色层，并且
在上述对准图案的轮廓中，包括与上述相互正交的带状或者线状的部分的方向中的任一方平行的直线部分。
22.根据权利要求21所述的基板，其特征在于，
上述对准图案由与上述黑矩阵或者上述着色层相同的材料形成。
23.一种曝光方法，其特征在于，
是针对权利要求1至权利要求6中的任一项所述的基板的曝光方法，
使用具有多个曝光单元的曝光装置，上述曝光单元具有：光源；掩模，其形成有能使上述光源产生的光能量透过的透光图案，
一边使上述基板与上述曝光单元相对地移动一边通过形成于上述掩模的上述透光图案对上述基板照射光能量，并且
上述掩模跨于上述某种尺寸的曝光对象区域和上述其它尺寸的曝光对象区域的上述曝光单元将上述对准图案用作控制上述掩模的定位的基准，对上述某种尺寸的曝光对象区域和上述其它尺寸的曝光对象区域两者照射光能量。
24.一种曝光方法，其特征在于，
是针对权利要求1至权利要求6中的任一项所述的基板的曝光方法，
使用具有多个曝光单元的曝光装置，上述曝光单元具备：光源；掩模，其形成有能使上述光源产生的光能量透过的透光图案和用于控制光能量的照射位置的基准图案；以及拍摄装置，其能拍摄上述基准图案和上述基板，
一边使上述基板与上述曝光单元相对地移动一边通过形成于上述掩模的上述透光图案对上述基板照射光能量，并且
上述掩模跨于上述某种尺寸的曝光对象区域和上述其它尺寸的曝光对象区域的上述曝光单元利用上述拍摄装置拍摄上述对准图案和上述基准图案来算出上述对准图案与上述基准图案之间的距离，根据上述算出的距离来调整上述掩模的位置，对上述某种尺寸的曝光对象区域和上述其它尺寸的曝光对象区域两者照射光能量。
25.一种曝光方法，其特征在于，
是针对权利要求7至权利要求22中的任一项所述的基板的曝光方法，
使用具有多个曝光单元的曝光装置，上述曝光单元具备：光源；以及掩模，其形成有能使上述光源产生的光能量透过的透光图案，
一边使上述基板与上述曝光单元相对地移动一边通过形成于上述掩模的上述透光图案对上述基板照射光能量，并且
上述掩模跨于上述某种尺寸的显示区域与上述其它尺寸的显示区域的上述曝光单元将上述对准图案用作控制上述掩模的定位的基准，对上述某种尺寸的显示区域和上述其它尺寸的显示区域两者照射光能量。
26.一种曝光方法，其特征在于，
是针对权利要求7至权利要求22中的任一项所述的基板的曝光方法，
使用具有多个曝光单元的曝光装置，上述曝光单元具备：光源；掩模，其形成有能使上述光源产生的光能量透过的透光图案和用于控制光能量的照射位置的基准图案；以及拍摄装置，其能拍摄上述基准图案和上述基板，
一边使上述基板与上述曝光单元相对地移动一边通过形成于上述掩模的上述透光图案对上述基板照射光能量，并且
上述掩模跨于上述某种尺寸的显示区域与上述其它尺寸的显示区域的上述曝光单元利用上述拍摄装置拍摄上述对准图案和上述基准图案来算出上述对准图案与上述基准图案之间的距离，根据上述算出的距离来调整上述掩模的位置，对上述某种尺寸的显示区域和上述其它尺寸的显示区域两者照射光能量。
27.一种取向处理方法，其特征在于，
使用权利要求25或者权利要求26所述的曝光方法，
对沿着上述基板与上述曝光单元的上述相对地移动的方向排列的多个像素各自的一部分区域，通过形成于上述掩模的上述透光图案从某个方向照射光能量，对上述多个像素各自的另一部分区域从与上述某个方向不同的其它方向通过形成于上述掩模的上述透光图案照射光能量。
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