CN105892156A - 对透明基板进行曝光的方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种对透明基板进行曝光的方法，包括：将第一光罩、第二光罩与透明基板的相对位置固定；分别利用第一光罩、第二光罩产生偏振方向不同的光线对透明基板的不同区域进行曝光。通过上述方式，本发明能够简化曝光制程工艺，缩短制程时间，使生产效率得到提高。

Description

对透明基板进行曝光的方法
技术领域
本发明涉及液晶技术领域，特别是涉及一种对透明基板进行曝光的方法。
背景技术
高世代玻璃基板，为了提高玻璃利用率，降低成本，采用混合排版(Multi Mode Glass，简写MMG)技术，即在玻璃基板上排布不同尺寸的板(panel)，通过这种方式，可使丢弃的基板面积较小，玻璃基板切割效率高，因此得到液晶面板厂商青睐。
通常不同尺寸的panel在大玻璃基板上排列的方式不同，从而导致在进行光配向时，所需偏振光的偏振方向不同。在传统的光配向制程中，这种混合尺寸的光配向制程往往用到光罩。先对一个尺寸panel进行配向时，用光罩挡住其他方式排布的panel。因此需要进行多次光照配向，这样会造成制程时间增加，使生产效率降低。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种对透明基板进行曝光的方法，能够简化制程工艺，缩短制程时间，提高生产效率。
为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种对透明基板进行曝光的方法，包括：将第一光罩、第二光罩与所述透明基板的相对位置固定；分别利用所述第一光罩、第二光罩产生偏振方向不同的光线对所述透明基板的不同区域进行曝光。
其中，所述将第一光罩、第二光罩与所述透明基板的相对位置固定包括：将所述透明基板设置于所述第一光罩、第二光罩之间，且三者相互平行；所述分别利用所述第一光罩、第二光罩产生偏振方向不同的光线对所述透明基板的不同区域进行曝光包括：利用第一光源产生的光线穿过所述第一光罩照射到所述透明基板上；利用第二光源产生的光线穿过所述第二光罩照射到所述透明基板上。
其中，所述第一光罩、第二光罩均包括透光区域和遮光区域，并且所述第一光罩的透光区域、遮光区域分别对应所述第二光罩的遮光区域、透光区域。
其中，所述将第一光罩、第二光罩与所述透明基板的相对位置固定包括：将所述第一光罩、第二光罩、透明基板水平放置；或将所述第一光罩、第二光罩、透明基板竖直放置。
其中，所述分别利用所述第一光罩、第二光罩产生偏振方向不同的光线对所述透明基板的不同区域进行曝光包括：分别利用所述第一光罩、第二光罩产生偏振方向不同的光线同时对所述透明基板的不同区域进行曝光。
其中，所述分别利用所述第一光罩、第二光罩产生偏振方向不同的光线对所述透明基板的不同区域进行曝光的步骤，包括：分别利用所述第一光罩、第二光罩产生偏振方向不同的光线对所述透明基板的不同区域进行曝光，并控制所述偏振方向不同的光线的光强度，以使得所述透明基板的不同区域曝光的程度相等。
其中，所述分别利用所述第一光罩、第二光罩产生偏振方向不同的光线对所述透明基板的不同区域进行曝光的步骤，包括：分别利用所述第一光罩、第二光罩产生偏振方向垂直的光线对所述透明基板的不同区域进行曝光。
其中，所述透明基板的不同区域的尺寸不同。
其中，所述分别利用所述第一光罩、第二光罩产生偏振方向不同的光线对所述透明基板的不同区域进行曝光包括：分别利用所述第一光罩、第二光罩产生偏振方向不同的光线对所述透明基板的不同区域进行曝光，实现光配向。
本发明的有益效果是：区别于现有技术的情况，本发明将第一光罩、第二光罩与所述透明基板的相对位置固定；分别利用所述第一光罩、第二光罩产生偏振方向不同的光线对所述透明基板的不同区域进行曝光。由于不需要分开两次使用第一光罩、第二光罩，直接将第一光罩、第二光罩以及透明基板都固定，利用第一光罩、第二光罩产生偏振方向不同的光线对透明基板的不同区域进行曝光，通过这种方式，能够简化曝光制程工艺，缩短制程时间，使生产效率得到提高。
附图说明
图1是本发明对透明基板进行曝光的方法一实施方式的流程图；
图2是本发明对透明基板进行曝光的方法中玻璃基板竖直放置时光配向一实施方式的结构示意图；
图3是本发明对透明基板进行曝光的方法中玻璃基板水平放置时光配向一实施方式的结构示意图；
图4是8.5世代线玻璃基板混合排版8片43inch和8片22inch两种尺寸的示意图；
图5是利用本发明对透明基板进行曝光的方法对图4进行光配向时需要使用到的两张光罩的示意图；
图6是现有技术中传统两次光照玻璃基板进行光配向的示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施方式对本发明进行详细说明。
参阅图1，图1是本发明对透明基板进行曝光的方法一实施方式的流程图，包括：
步骤S101：将第一光罩、第二光罩与透明基板的相对位置固定。
步骤S102：分别利用第一光罩、第二光罩产生偏振方向不同的光线对透明基板的不同区域进行曝光。
根据实际应用需要，将第一光罩、第二光罩与透明基板的相对位置固定，可以将第一光罩、第二光罩分别固定在透明基板的两侧，也可以将第一光罩、第二光罩固定在透明基板的同一侧。
第一光罩、第二光罩可以透过不同方向的偏振光，且分别对应透明基板不同的曝光区域。这至少有两种方式实现，一种是提供不同方向的偏振光，让不同方向的偏振光分别透过第一光罩和第二光罩；另一种是第一光罩和第二光罩可以附带偏光器的作用，光线分别通过第一光罩和第二光罩后分别产生不同偏振方向的偏振光。
因此，透过第一光罩、第二光罩后，产生偏振方向不同的光线，这些偏振方向不同的光线可以对透明基板的不同区域进行曝光。
由于不需要分开两次使用第一光罩、第二光罩，直接将第一光罩、第二光罩以及透明基板都固定，利用第一光罩、第二光罩产生偏振方向不同的光线对透明基板的不同区域进行曝光，通过这种方式，能够简化曝光制程工艺，缩短制程时间，使生产效率得到提高。
其中，步骤S101具体可以包括：将透明基板设置于第一光罩、第二光罩之间，且三者相互平行；将透明基板设置于第一光罩、第二光罩之间，也即是将第一光罩、第二光罩设置在透明基板的两侧，通过这种方式，能够为同时曝光透明基板的不同区域提供条件，从而为进一步缩短制程时间，提高生产效率提供技术准备，且能够使得第一光罩、第二光罩固定的位置空间更加便利。
此时，步骤S102可以具体是：利用第一光源产生的光线穿过第一光罩照射到透明基板上；利用第二光源产生的光线穿过第二光罩照射到透明基板上。
其中，第一光罩、第二光罩均包括透光区域和遮光区域，并且第一光罩的透光区域、遮光区域分别对应第二光罩的遮光区域、透光区域。也即是说，第一光罩的透光区域，在第二光罩中为遮光区域；第一光罩的遮光区域，在第二光罩中为透光区域。
其中，步骤S101还可以是：将第一光罩、第二光罩、透明基板水平放置；或将第一光罩、第二光罩、透明基板竖直放置。
如果第一光罩、第二光罩在透明基板的同一侧，则有两种方案，分别是将第一光罩、第二光罩、透明基板水平放置，第一光罩、第二光罩同时在透明基板的上边或下边；或将第一光罩、第二光罩、透明基板竖直放置，第一光罩、第二光罩同时在透明基板的左边或右边。
如果第一光罩、第二光罩在透明基板的两侧，也有两种方案：分别是将第一光罩、第二光罩、透明基板水平放置，第一光罩、第二光罩分别在透明基板的上边和下边；或将第一光罩、第二光罩、透明基板竖直放置，第一光罩、第二光罩分别在透明基板的左边和右边。
其中，步骤S102还可以包括：分别利用第一光罩、第二光罩产生偏振方向不同的光线同时对透明基板的不同区域进行曝光。
也就是说，在对透明基板的不同区域进行曝光的时候，利用第一光罩、第二光罩产生偏振方向不同的光线同时曝光，这样有利于缩短制程时间。
其中，步骤S102还可以包括：分别利用第一光罩、第二光罩产生偏振方向不同的光线对透明基板的不同区域进行曝光，并控制偏振方向不同的光线的光强度，以使得透明基板的不同区域曝光的程度相等。
透明基板的两侧，或者同一侧的不同地方，对光线的透过情况可能存在差别，为了使得透明基板的不同区域曝光的程度相等，可以控制不同偏振方向的光线的光强度，例如：对于透光性不好的区域，可以增大光线的光强度。
其中，步骤S102还可以包括：分别利用第一光罩、第二光罩产生偏振方向垂直的光线对透明基板的不同区域进行曝光。也即是说，经过第一光罩、第二光罩后，产生的偏振光的偏振方向是互相垂直的，通过这种方式，可以得到经过曝光后，方向垂直的图案。
其中，透明基板的不同区域的尺寸不同。
其中，步骤S102可以包括：分别利用第一光罩、第二光罩产生偏振方向不同的光线对透明基板的不同区域进行曝光，实现光配向。
下面以光配向为例，来具体说明本申请的方法。其中，透明基本以玻璃基板为例，光源以紫外偏振光为例。在玻璃基板的两侧分别固定第一光罩和第二光罩，并分别配置偏振方向不同的紫外偏振光源。具体实施方案分别为：
方案一：玻璃基板竖直放置，玻璃基板左右两侧的UV偏振光分别透过左右竖直的第一光罩、第二光罩，同时对玻璃基板不同尺寸的区域进行光配向。参见图2，图2是玻璃基板竖直放置时光配向一实施方式的结构示意图，从左到右依次为UV偏振光源1(箭头所示)、第一光罩2(阴影区域为遮光区域，涂覆有不透光材料)、玻璃基板3(A区和B区分别对应着玻璃基板不同尺寸的区域)、第二光罩4(阴影区域为遮光区域，涂覆有不透光材料)、UV偏振光源5，其中玻璃基板3和第一光罩2、第二光罩4可用夹具固定。
方案二：玻璃基板水平放置，玻璃基板上下两侧的UV偏振光分别透过上下水平的第一光罩、第二光罩，同时对玻璃基板不同尺寸的区域进行光配向。参见图3，图3是玻璃基板水平放置时光配向一实施方式的结构示意图，从上到下依次为UV偏振光源10、第一光罩20(阴影区域为遮光区域，涂覆有不透光材料)、玻璃基板30(A区和B区分别对应着玻璃基板不同尺寸的区域)、第二光罩40(阴影区域为遮光区域，涂覆有不透光材料)、UV偏振光源50，其中玻璃基板30和第一光罩20、第二光罩40可用夹具固定。
以8.5世代线玻璃基板(2.5m*2.2m)为例，如图4所示，一片8.5代线玻璃基板可以混合排版8片43inch(图4中的A区)和8片22inch(图4中的B区)两种尺寸，混合排版可以让玻璃基板的利用率更高。图5是图4的玻璃基板光配向过程中需要使用到的两张光罩，其中阴影区域为遮光区域以遮蔽不需要照光的区域，箭头表示紫外偏振光的偏振方向，以满足不同区域的光配向需求。图6是现有技术中平面转换(In-Plane Switching，简写IPS)/边缘场开关(Fringe Field Switching，简写FFS)面板传统两次光照玻璃基板300进行光配向(Photo Alignment)的示意图，在第一次光照时，需要用第一光罩200挡住B区，然后用紫外偏振光100给A区进行光配向，同理在第二次光照时，用第二光罩400挡住A区，再用紫外偏振光500给B区完成光配向，这个时候即完成了整个玻璃基板300A区和B区的光配向过程。
本申请可以通过图2或图3的方案，一次性即可完成整个玻璃基板A区和B区的光配向过程。在一次光照过程中即可完成同时对整个玻璃基板的光配向，并且无需改变制程或者新的光罩，大大提升生产效率。考虑到阵列基板(例如薄膜晶体管(Thin Film Transistor，简写TFT)基板)或彩色滤光片(Color Filter，简写CF)基板两侧紫外光透过率可能不同，可以适当增加TFT或CF基板外侧的紫外光的光强度，以保证光配向过程中照射到配向膜上的紫外光强度相等，提高制程的均一性。
总的来说，本申请在确保光配向效果的同时，可以提高生产效率，降低液晶面板的制作工艺和生产成本。
以上所述仅为本发明的实施方式，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (9)

1.一种对透明基板进行曝光的方法，其特征在于，包括：
将第一光罩、第二光罩与所述透明基板的相对位置固定；
分别利用所述第一光罩、第二光罩产生偏振方向不同的光线对所述透明基板的不同区域进行曝光。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，
所述将第一光罩、第二光罩与所述透明基板的相对位置固定包括：
将所述透明基板设置于所述第一光罩、第二光罩之间，且三者相互平行；
所述分别利用所述第一光罩、第二光罩产生偏振方向不同的光线对所述透明基板的不同区域进行曝光包括：
利用第一光源产生的光线穿过所述第一光罩照射到所述透明基板上；利用第二光源产生的光线穿过所述第二光罩照射到所述透明基板上。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述第一光罩、第二光罩均包括透光区域和遮光区域，并且所述第一光罩的透光区域、遮光区域分别对应所述第二光罩的遮光区域、透光区域。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，
所述将第一光罩、第二光罩与所述透明基板的相对位置固定包括：
将所述第一光罩、第二光罩、透明基板水平放置；或
将所述第一光罩、第二光罩、透明基板竖直放置。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，
所述分别利用所述第一光罩、第二光罩产生偏振方向不同的光线对所述透明基板的不同区域进行曝光包括：
分别利用所述第一光罩、第二光罩产生偏振方向不同的光线同时对所述透明基板的不同区域进行曝光。
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述分别利用所述第一光罩、第二光罩产生偏振方向不同的光线对所述透明基板的不同区域进行曝光的步骤，包括：
分别利用所述第一光罩、第二光罩产生偏振方向不同的光线对所述透明基板的不同区域进行曝光，并控制所述偏振方向不同的光线的光强度，以使得所述透明基板的不同区域曝光的程度相等。
7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述分别利用所述第一光罩、第二光罩产生偏振方向不同的光线对所述透明基板的不同区域进行曝光的步骤，包括：分别利用所述第一光罩、第二光罩产生偏振方向垂直的光线对所述透明基板的不同区域进行曝光。
8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述透明基板的不同区域的尺寸不同。
9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述分别利用所述第一光罩、第二光罩产生偏振方向不同的光线对所述透明基板的不同区域进行曝光包括：
分别利用所述第一光罩、第二光罩产生偏振方向不同的光线对所述透明基板的不同区域进行曝光，实现光配向。
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