JP2011081227A

JP2011081227A - 液晶表示装置の製造方法、液晶表示装置、電子機器

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Publication number: JP2011081227A
Application number: JP2009234078A
Authority: JP
Inventors: Hiromi Saito; 広美齋藤
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2009-10-08
Filing date: 2009-10-08
Publication date: 2011-04-21

Abstract

【課題】マスクを用いることなく、部材に分割配向された配向膜を形成する。
【解決手段】配向膜が形成される部材を複数の領域に分割し、分割された前記複数の領域を、第１の方向に配向処理する第１配向領域と第２の方向に配向処理する第２配向領域とに分類し、直線偏光を照射することにより異方性が生じる配向膜材料を含有する液状材料を前記第１配向領域に塗布し乾燥することにより第１の膜を形成し、前記第１の膜に対して、前記直線偏光を第１照射方向に照射して前記配向膜材料に異方性を持たせて、前記第１の方向に配向処理された第１配向膜を形成し、その後、前記配向膜材料を含有する液状材料を前記第２配向領域に塗布し乾燥することにより第２の膜を形成し、前記第２の膜に対して、前記直線偏光を第２照射方向に照射して前記配向膜材料に異方性を持たせて、前記第１の方向とは異なる第２の方向に配向処理された第２配向膜を形成する配向膜形成工程を含む。
【選択図】図２

Description

本発明は、液晶表示装置の製造方法、液晶表示装置、電子機器に関するものである。

液晶表示装置（ＬＣＤ）は、一対の基材間に配置された液晶セル内に含まれる液晶分子の配向方向に変化を生じさせ、これにより生じる液晶セル内の光学的屈折率の変化を利用した表示装置である。かかる構成の表示装置において、その表示特性を向上させるためには、液晶セル内の液晶分子が規則正しく配列されていることが重要である。このように規則正しく液晶セル内において液晶分子を配列させるために、液晶セルを挟む基材の表面状態が液晶分子の相互作用により規制されている必要がある。この液晶分子を一定方向に配列させる方法として、配向膜となる配向膜材料に直線偏光を照射し、配向膜材料に異方性を持たせて、一定方向に配向処理して配向膜を形成する方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。

特開平５−２３２４７３号公報

しかしながら、上記の方法では、例えば、基材を複数の領域に分割させ、分割配向させる場合には、分割する領域毎に対応したマスクを用意し、このマスクを用いて領域毎に直線偏光を照射する必要があり、製造工程が煩雑化してしまう、という課題があった。

本発明は、上記課題を少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。

［適用例１］本適用例にかかる液晶表示装置の製造方法は、配向膜が形成される部材を複数の領域に分割し、分割された前記複数の領域を、第１の方向に配向処理する第１配向領域と第２の方向に配向処理する第２配向領域とに分類し、直線偏光を照射することにより異方性が生じる配向膜材料を含有する液状材料を前記第１配向領域に塗布し乾燥することにより第１の膜を形成し、前記第１の膜に対して、前記直線偏光を第１照射方向に照射して前記配向膜材料に異方性を持たせて、前記第１の方向に配向処理された第１配向膜を形成し、その後、前記配向膜材料を含有する液状材料を前記第２配向領域に塗布し乾燥することにより第２の膜を形成し、前記第２の膜に対して、前記直線偏光を第２照射方向に照射して前記配向膜材料に異方性を持たせて、前記第１の方向とは異なる第２の方向に配向処理された第２配向膜を形成する配向膜形成工程を含むことを特徴とする。

この構成によれば、マスクを用いることなく、複数に分割された領域に配向方向が異なる配向膜を形成することができる。

［適用例２］本適用例にかかる液晶表示装置の製造方法は、配向膜が形成される部材を複数の領域に分割し、分割された前記複数の領域を、第１の方向に配向処理する第１配向領域と第２の方向に配向処理する第２配向領域とに分類し、第１の波長を有する直線偏光を照射することにより異方性が生じる第１の配向膜材料を含有する第１の液状材料を前記第１配向領域に塗布し乾燥することにより第１の膜を形成し、第２の波長を有する直線偏光を照射することにより異方性が生じる第２の配向膜材料を含有する第２の液状材料を前記第２配向領域に塗布し乾燥することにより第２の膜を形成し、前記第１の波長を有する直線偏光を前記第１の膜に照射して前記第１の配向膜材料に異方性を持たせて、前記第１の方向に配向処理された第１配向膜を形成し、前記第２の波長を有する直線偏光を前記第２の膜に照射して前記第２の配向膜材料に異方性を持たせて、第２の方向に配向処理された第２配向膜を形成する配向膜形成工程を含むことを特徴とする。

［適用例３］本適用例にかかる液晶表示装置の製造方法は、配向膜が形成される部材を複数の領域に分割し、分割された前記複数の領域を、第１の方向に配向処理する第１配向領域と第２の方向に配向処理する第２配向領域とに分類し、直線偏光を照射することにより異方性が第１の方向に生じる第１の配向膜材料を含有する第１の液状材料を前記第１配向領域に塗布し乾燥することにより第１の膜を形成し、前記直線偏光を照射することにより異方性が第２の方向に生じる第２の配向膜材料を含有する第２の液状材料を前記第２配向領域に塗布し乾燥することにより第２の膜を形成し、前記直線偏光を前記第１の膜および前記第２の膜の双方に照射して前記第１の配向膜材料および前記第２の配向膜材料にそれぞれ異方性を持たせて、前記第１の方向に配向処理された第１配向膜を形成するとともに、前記第２の方向に配向処理された第２配向膜を形成する配向膜形成工程を含むことを特徴とする。

［適用例４］上記適用例にかかる液晶表示装置の製造方法では、前記部材が、複数の基材が配置されたベース基板であることを特徴とする。

この構成によれば、例えば、大きさが異なる基材が複数配置されたベース基板の各領域に配置された基板毎に、配向方向が異なる配向膜を容易に形成することができる。

［適用例５］上記適用例にかかる液晶表示装置の製造方法では、前記部材が、基材であることを特徴とする。

この構成によれば、容易に基材の領域を多分割して配向方向が異なる配向膜を形成することができる。

［適用例６］上記適用例にかかる液晶表示装置の製造方法では、前記部材が、画素部であることを特徴とする。

この構成によれば、容易に画素部を多分割して配向方向が異なる配向膜を形成することができるとともに、マルチドメイン配向を形成することができる。

［適用例７］本適用例にかかる液晶表示装置は、上記の液晶表示装置の製造方法を用いて製造されたことを特徴とする。

この構成によれば、表示性能に優れた液晶表示装置を提供することができる。

［適用例８］本適用例にかかる電子機器は、上記の液晶表示装置を搭載したことを特徴とする。

この構成によれば、表示性能に優れた電子機器を提供することができる。この場合、電子機器は、例えば、パーソナルコンピューター、携帯電話機、テレビ受像機等、各種の電子製品がこれに該当する。

液晶表示装置の構成を模式的に示す縦断面図。第１実施形態における部材としてのベース基板における配向パターンを示す模式図。第１実施形態における液晶表示装置の製造方法を示す工程図。液滴吐出装置の構成を示す斜視図。液滴吐出ヘッドの構成を示し、（ａ）は、断面斜視図、（ｂ）は断面図。電子機器としてのモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピューターの構成を示す斜視図。第２実施形態における部材としての基材における配向パターンを示す模式図。第２実施形態における液晶表示装置の製造方法を示す工程図。第３実施形態における部材としての画素部における配向パターンを示す模式図。第３実施形態における液晶表示装置の製造方法を示す工程図。

以下、図面を参照しつつ、第１〜第３実施形態について説明する。なお、説明に用いる図面において、特徴的な部分を分かりやすく示すために、図面中の構造の寸法や縮尺を実際の構造に対して異ならせている場合がある。また、各実施形態において同様の構成要素については、同じ符号を付し、その詳細な説明を省略する場合がある。

［第１実施形態］
（液晶表示装置の構成）
まず、第１実施形態について説明する。図１は、本実施形態にかかる液晶表示装置の構成を示す断面図である。図１に示すように、液晶表示装置１Ａは、ＣＦ基材１００と、ＣＦ基材１００に対向して配置された素子基材１０１と、ＣＦ基材１００と素子基材１０１との間に設けられた液晶層２等を備えている。ＣＦ基材１００は、基板９と、基板９の一方面に形成されたカラーフィルター層（図示せず）と、カラーフィルター層上に形成された第１透明電極膜５と、第１透明電極膜５上に形成された配向膜３Ａ等を備えている。素子基材１０１は、基材１０と、基材１０の一方面に形成された素子や配線等を含む素子層（図示せず）と、素子層上に形成された第２透明電極膜６と、第２透明電極膜６上に形成された配向膜４Ａ等を備えている。そして、配向膜３Ａと配向膜４Ａとが互いに対向するようにＣＦ基材１００と素子基材１０１とが配置され、配向膜３Ａと配向膜４Ａとの間に液晶層２が封止されている。また、各基板９，１０の他方面には、第１及び第２偏光板７Ａ，８Ａが形成されている。なお、ＣＦ基材１００と素子基材１０１は、図示しないシール材によって互いに接着されている。

液晶層２は、主として、液晶材料で構成されている。液晶層２を構成する液晶材料としては、ネマチック液晶、スメクチック液晶など配向し得るものであればいかなる液晶材料を用いても構わない。なお、マルチドメイン方式の液晶表示装置の場合、ネマチック液晶を形成させるものが好ましく、例えば、フェニルシクロヘキサン誘導体液晶、ビフェニル誘導体液晶、ビフェニルシクロヘキサン誘導体液晶、テルフェニル誘導体液晶、フェニルエーテル誘導体液晶、フェニルエステル誘導体液晶、ビシクロヘキサン誘導体液晶、アゾメチン誘導体液晶、アゾキシ誘導体液晶、ピリミジン誘導体液晶、ジオキサン誘導体液晶、キュバン誘導体液晶等が挙げられる。さらに、これらネマチック液晶分子にモノフルオロ基、ジフルオロ基、トリフルオロ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基などのフッ素系置換基を導入した液晶分子も含まれる。

配向膜３Ａ，４Ａは、液晶層２を構成する液晶材料（液晶分子）の（電圧無印加時における）配向状態を規制する機能を有している。このような配向膜３Ａ、４Ａは、後述する本実施形態の液晶表示装置の製造方法の配向膜形成工程において、直線偏光を照射することにより異方性が生じる配向膜材料を主材料として構成される。この配向膜材料としては、例えば、直線偏光の照射により分解する分解型のもの、直線偏光の照射により異性化する異性化型のもの、および、直線偏光の照射により重合する重合型のもの等が挙げられ、これらのうちの何れか１種が選択される。

具体的には、分離型の配向膜材料としては、例えば、ポリイミド等が挙げられる。また、異性化型の配向膜材料としては、例えば、アゾベンゼンおよびスチルベン等が挙げられる。さらに、重合型の配向膜材料としては、例えば、桂皮酸、パラメトキシ桂皮酸を側鎖に有するポリビニルエステルおよびクマリン等が挙げられる。

配向膜３Ａ，４Ａは、その平均厚さが０．０１〜１０μｍであるのが好ましく、０．０１〜０．１μｍであるのがより好ましく、０．０１〜０．０５μｍであるのがさらに好ましい。平均厚さが前記下限値未満であると、配向膜としての機能が十分に発揮されないおそれがある。一方、平均厚さが前記上限値を超えると、駆動電圧が高くなり、消費電力が大きくなるおそれがある。

第１及び第２透明導電膜５，６は、これらの間で通電を行うことにより、液晶層２の液晶分子を駆動する（配向を変化させる）機能を有する。第１及び第２透明導電膜５，６間での通電の制御は、透明導電膜に接続された制御回路（図示せず）から供給する電圧を制御することにより行われる。第１及び第２透明導電膜５，６は、導電性を有しており、例えば、インジウムティンオキサイド（ＩＴＯ）、インジウムジンクオキサイド（ＩＺＯ）酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ₂）等で構成されている。

基板９，１０は、前述した液晶層２、配向膜３Ａ，４Ａ、第１及び第２透明導電膜５，６、第１及び第２偏光板７Ａ，８Ａを支持する機能を有している。基板９，１０の構成材料は、特に限定されず、例えば、石英ガラス等のガラスやポリエチレンテレフタレート等のプラスチック材料等が挙げられる。この中でも特に、石英ガラス等のガラスで構成されたものであるのが好ましい。これにより、そり、たわみ等の生じにくい、より安定性に優れた液晶表示装置１Ａを得ることができる。

第１及び第２偏光板７Ａ，８Ａの構成材料としては、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）等が挙げられる。また、前記材料にヨウ素をドープしたもの等を用いてもよい。

第１及び第２偏光板７Ａ，８Ａとしては、例えば、上記材料で構成された膜を一軸方向に延伸したものを用いることができる。このような第１及び第２偏光板７Ａ，８Ａを配置することにより、通電量の調節による光の透過率の制御をより確実に行うことができる。第１及び第２偏光板７Ａ，８Ａの偏光軸の方向は、通常、配向膜３Ａ，４Ａの配向方向に応じて決定される。

ところで、上記の基材９，１０は、通常、大判の基板（ベース基板）に複数配置されており、この大判の基板から基材９，１０を個々に切り出して、単体の基材９，１０を形成している。また、上記大判の基板には、それぞれ大きさが異なる複数の基材が配置される場合がある（いわゆる、共取り方式）。この場合において、配向膜３Ａ，４Ａの配向パターン（配向方向）が基材毎、或いは、配置された領域毎に異なることがある。以下、具体的に説明する。

図２は、部材としてのベース基板における配向パターンを示す模式図である。図２に示すように、ベース基板４００には、例えば、複数のＣＦ基材１００が配置されている。本実施形態では、ベース基板４００に、比較的取り付け面積が広い第１ＣＦ基材１００ａと、第１ＣＦ基材１００ａよりも取り付け面積が狭い第２ＣＦ基材１００ｂと、第２ＣＦ基材１００ｂよりもさらに取り付け面積が狭い第３ＣＦ基材１００ｃがそれぞれ複数個配置されている。なお、素子基材１０１についても上記同様に適用することができる。この場合、ベース基板４００において、取り付け面積がそれぞれ異なる第１素子基材１０１ａと、第２素子基材１０１ｂと、第３素子基材１０１ｃに適用される（図２参照）。

また、図２に示すように、ベース基板４００は、複数の領域に分割され、分割された複数の領域が、第１配向領域４０１と第２配向領域４０２とに分類されている。本実施形態のベース基板４００では、配向膜３Ａ（３Ａａ，３Ａｂ）が形成された２つの領域に分割され、分割された２つの領域が、第１配向領域４０１と第２配向領域４０２とに分類されている。そして、第１配向領域４０１に配置された第１ＣＦ基材１００ａには、第１の方向４１０（平行方向）に配向処理された第１配向膜３Ａａが形成され、第２配向領域４０２に配置された第２および第３ＣＦ基材１００ｂ，１００ｃには、第２の方向４２０（垂直方向）に配向処理された第２配向膜３Ａｂが形成されている。

（液晶表示装置の製造方法）
次に、液晶表示装置の製造方法について説明する。図３は、液晶表示装置の製造方法の配向膜形成工程を示す工程図である。なお、本実施形態では、ベース基板４００に配置された複数のＣＦ基材１００（第１〜第３ＣＦ基材１００ａ，１００ｂ，１００ｃ）に配向膜３Ａを形成する方法について主に説明する。なお、ベース基板４００に配置された複数の素子基材１００に配向膜４Ａを形成する方法は、配向膜３Ａの形成方法と同様の方法を用いて形成可能であるため、説明を省略する。

本実施形態の液晶表示装置の製造方法は、配向膜３Ａが形成される部材としてのベース基板４００を複数の領域に分割し、分割された複数の領域を、第１の方向４１０に配向処理する第１配向領域４０１と第２の方向４２０に配向処理する第２配向領域４０２とに分類し、直線偏光を照射することにより異方性が生じる配向膜材料を含有する液状材料を第１配向領域４０１に塗布し乾燥することにより第１の膜３Ａａ’を形成し、第１の膜３Ａａ’に対して、直線偏光を第１照射方向に照射して配向膜材料に異方性を持たせて、第１の方向４１０に配向処理された第１配向膜３Ａａを形成し、その後、配向膜材料を含有する液状材料を第２配向領域４０２に塗布し乾燥することにより第２の膜３Ａｂ’を形成し、第２の膜３Ａｂ’に対して、直線偏光を第２照射方向に照射して配向膜材料に異方性を持たせて、第１の方向４１０とは異なる第２の方向４２０に配向処理された第２配向膜３Ａｂを形成する配向膜形成工程を含むものである。かかる方法によれば、マスク等を用いることなく、複数のＣＦ基材１００が配置されたベース基板４００において、各ＣＦ基材１００に適合した配向パターンを備えた配向膜３Ａを形成することができる。

なお、本実施形態では、配向膜形成工程において、液滴吐出装置を用いるため、配向膜形成工程を説明するのに先立って、まず、液滴吐出装置の一例について説明する。図４は、液滴吐出装置の構成を示す斜視図であり、図５は、液滴吐出ヘッドの構成を示す概略図である。図４及び図５に示すように、液滴吐出装置５００は、配向膜３Ａを形成する際に用いる液状材料３５を保持するタンク５０１と、チューブ５１０と、チューブ５１０を介してタンク５０１から液状材料３５が供給される吐出走査部５０２とを備える。吐出走査部５０２は、液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド）５１４を備える液滴吐出手段５０３と、液滴吐出手段５０３の位置を制御する第１位置制御装置５０４（移動手段）と、配向膜３Ａを形成する部材を保持するステージ５０６と、ステージ５０６の位置を制御する第２位置制御装置５０８（移動手段）と、制御手段５１２とを備えている。タンク５０１と、液滴吐出手段５０３における液滴吐出ヘッド５１４とは、チューブ５１０で連結されており、タンク５０１から液滴吐出ヘッド５１４に液状材料３５が圧縮空気によって供給される。

制御手段（制御装置）５１２は、例えば、演算部やメモリー等を内蔵するマイクロコンピューターやパーソナルコンピューター等のコンピューターで構成されており、制御手段５１２には、図示しない操作部からの信号（入力）が、それぞれ、随時入力される。また、制御手段５１２は、操作部からの信号等に基づき、予め設定されたプログラムに従って、液滴吐出装置５００の各部の作動（駆動）をそれぞれ制御する。第１位置制御装置５０４は、制御手段５１２からの信号に応じて、液滴吐出手段５０３をＸ軸方向、およびＸ軸方向に直交するＺ軸方向に沿って移動させる。さらに、第１位置制御装置５０４は、Ｚ軸に平行な軸の回りで液滴吐出手段５０３を回転させる機能も有する。本実施形態では、Ｚ軸方向は、鉛直方向（つまり重力加速度の方向）に平行な方向である。第２位置制御装置５０８は、制御手段５１２からの信号に応じて、Ｘ軸方向およびＺ軸方向の双方に直交するＹ軸方向に沿ってステージ５０６を移動させる。さらに、第２位置制御装置５０８は、Ｚ軸に平行な軸の回りでステージ５０６を回転させる機能も有する。

ステージ５０６は、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な平面を有する。また、ステージ５０６は、液状材料３５を付与して配向膜３Ａを形成する部材をその平面上に固定、または保持できるように構成されている。上述のように、液滴吐出手段５０３は、第１位置制御装置５０４によってＸ軸方向に移動させられる。一方、ステージ５０６は、第２位置制御装置５０８によってＹ軸方向に移動させられる。つまり、第１位置制御装置５０４および第２位置制御装置５０８によって、ステージ５０６に対する液滴吐出ヘッド５１４の相対位置が変わる（ステージ５０６に保持された基材１００と、液滴吐出手段５０３とが相対的に移動する）。

制御手段５１２は、液状材料３５を吐出すべき相対位置を表す吐出データを外部情報処理装置から受け取るように構成されている。液状材料３５を部材に供給する際には、液滴吐出ヘッド５１４と部材とを相対的に走査しつつ、部材上に液状材料３５を吐出する。すなわち、第２位置制御装置５０８の作動により、部材が保持されているステージ５０６をＹ軸方向に移動させ、液滴吐出手段５０３の下を通過させつつ、液滴吐出手段５０３が備える液滴吐出ヘッド５１４のノズル５１８から液状材料３５の液滴（インク滴）３１を吐出して、部材上の第１配向領域４０１または第２配向領域４０２に付与する（着弾させる）。以下、この動作を「塗布走査（液滴吐出ヘッド５１４と基材１００との主走査）」と言うことがある。

そして、この液状材料３５を部材上に供給する工程においては、通常は、前記塗布走査（走査）を複数回行うようになっている。なお、前記塗布走査の回数は、１回でもよいことは言うまでもない。本実施形態では、液滴吐出ヘッド５１４は、図５（ａ）および（ｂ）に示すように、インクジェットヘッドで構成されている。すなわち、本実施形態で説明する液滴吐出装置は、インクジェット装置である。

図５に示すように、液滴吐出ヘッド５１４は、振動板５２６と、ノズルプレート５２８とを備えている。振動板５２６と、ノズルプレート５２８との間には、タンク５０１から、チューブ５１０および孔５３１を介して供給される液状材料３５が常に充填される液だまり５２９が位置している。また、振動板５２６と、ノズルプレート５２８との間には、複数の隔壁５２２が位置している。そして、振動板５２６と、ノズルプレート５２８と、１対の隔壁５２２とによって囲まれた部分がキャビティ（インク室）５２０である。キャビティ５２０はノズル５１８に対応して設けられているため、キャビティ５２０の数とノズル５１８の数とは同じである。キャビティ５２０には、１対の隔壁５２２間に位置する供給口５３０を介して、液だまり５２９から液状材料３５が供給される。

振動板５２６上には、それぞれのキャビティ５２０に対応して、振動子５２４が位置する。振動子５２４は、駆動素子としてのピエゾ素子（圧電素子）５２４Ｃと、ピエゾ素子５２４Ｃを挟む１対の電極５２４Ａ，５２４Ｂとを含む。この１対の電極５２４Ａ，５２４Ｂとの間に駆動電圧（信号）を印加する（与える）ことで、ピエゾ素子５２４Ｃの振動に追従して振動板５２６が振動することにより、対応するノズル５１８から液状材料３５が液滴３１として吐出される。

この場合、前記駆動電圧（例えば、駆動電圧の大きさ等）を調整することにより、ノズル５１８から吐出される液状材料３５の吐出動作１回当りの吐出量（液滴量）を調整することができるようになっている。なお、ノズル５１８からＺ軸方向に液状材料３５が吐出されるように、ノズル５１８の形状が調整されている。

制御手段５１２は、複数の振動子５２４のそれぞれ独立に駆動電圧を印加するように構成されていてもよい。つまり、ノズル５１８から吐出される液状材料３５の吐出動作１回当りの吐出量が、制御手段５１２からの信号、すなわち、駆動電圧に応じてノズル５１８毎に制御されてもよい。また、制御手段５１２は、塗布走査の間に吐出動作を行うノズル５１８と、吐出動作を行わないノズル５１８とを設定することでもできる。

なお、１つのノズル５１８と、ノズル５１８に対応するキャビティ５２０と、キャビティ５２０に対応する振動子５２４とを含んだ部分により吐出部が構成される。この吐出部は、１つの液滴吐出ヘッド５１４において、ノズル５１８の数と同じ数だけ存在することとなる。上記のような液滴吐出装置５００を用いて、部材上に液状材料３５を液滴３１として供給することにより、部材の接合面の所望の位置に液状材料を供給することができる。

なお、液滴吐出ヘッド５１４は、駆動素子として、上述したピエゾ素子の代わりに静電アクチュエーターを用いるものでもよい。また、液滴吐出ヘッド５１４は、駆動素子として電気熱変換素子を用い、この電気熱変換素子による材料の熱膨張を利用して液状材料３５を吐出するバブルジェット（登録商標）方式（「バブルジェット（登録商標）」は登録商標）の構成であってもよい。

以下、図３に戻り、液晶表示装置に製造方法における配向膜形成工程について説明する。なお、配向膜形成工程の前に、第１基板９上にカラーフィルター層等を形成し、さらに、カラーフィルター層上に第１透明電極膜５を形成する。そして、その後に、配向膜形成工程に移行する。

［１］まず、図３（ａ）に示すように、部材としてのベース基板４００を複数の領域に分割し、分割された複数の領域を、第１配向領域４０１と第２配向領域４０２とに分類する。本実施形態では、ベース基板４００のうち、複数の第１ＣＦ基材１００ａが配置された領域と、複数の第２ＣＦ基材１００ｂと複数の第３ＣＦ基材１００ｃとが配置された領域の２つの領域に分割し、分割された２つの領域のうち、複数の第１ＣＦ基材１００ａが配置された領域全体を第１配向領域４０１とし、複数の第２ＣＦ基材１００ｂと複数の第３ＣＦ基材１００ｃとが配置された領域全体を第２配向領域４０２として、２つの配向領域に分類する。

［２］そして、第１配向領域４０１に配置された第１ＣＦ基材１００ａ上に、直線偏光を照射することにより異方性が生じる配向膜材料を含有する液状材料３５を塗布し乾燥することにより第１の膜３Ａａ’を形成する。

［２−１］具体的には、直線偏光を照射することにより異方性が生じる配向膜材料を含有する液状材料３５を、例えば、前述した液滴吐出装置５００による液滴吐出法を用いて、第１ＣＦ基材１００ａ上に向けて、液状材料３５を液滴３１として吐出して、第１ＣＦ基材１００ａ上に液状材料３５を位置選択的に塗布（供給）する。これにより、液滴３１を、第２配向領域４０２に供給することなく、第１配向領域４０１に配置された第１ＣＦ基材１００ａに液滴３１を選択的に供給することができる。その結果、第１ＣＦ基材１００ａ上に対応してパターニングされた液状被膜が形成される。

ここで、本実施形態では、第１配向領域４０１の第１ＣＦ基材１００ａに液状材料３５を選択的に塗布（供給）する方法として、液滴吐出装置５００を用いて液状材料３５を液滴３１として供給する液滴吐出法が用いられる。液滴吐出法を用いて、液状材料を位置選択的に供給することにより、液状材料に無駄が生じるのを確実に防止することができる。また、例えば、第１ＣＦ基材１００ａ上にレジスト層を形成して、これをマスクとして用いて膜をパターニングする場合と比較して、第１配向膜３Ａａを形成するまでの工程数の削減、時間の短縮および製造コストの削減を図ることができる。

さらに、本実施形態では、液滴吐出法は、液滴吐出ヘッド５１４としてインクジェットヘッドを備えるインクジェット法が用いられる。インクジェット法によれば、目的とする領域（位置）である第１配向領域４０１の第１ＣＦ基材１００ａに、液状材料３５を液滴３１として、より優れた位置精度で供給することができる。また、ピエゾ素子５２４Ｃの振動数および液状材料の粘度等を適宜設定することにより、液滴３１のサイズ（大きさ）を、比較的容易に調整できることから、液滴３１のサイズを小さくすれば、たとえ第１配向領域４０１の形状が微細なものであったとしても、当該第１配向領域４０１の形状に対応して液状被膜を確実に形成することができる。

液状材料３５の粘度（２５℃）は、通常、１〜６０ｍＰａ・ｓ程度であるのが好ましく、３〜２０ｍＰａ・ｓ程度であるのがより好ましい。液状材料３５の粘度をかかる範囲とすることにより、液滴の吐出をより安定的に行うことができるとともに、第１配向領域４０１が微細な形状であっても描画し得る大きさの液滴３１を吐出することができる。さらに、この液状材料で構成される液状被膜を乾燥させた際に、第１の膜３Ａａ’を形成するのに十分な量の配向膜材料を液状材料中に含有したものとすることができる。

また、液状材料３５の粘度をかかる範囲内とすれば、具体的には、液滴３１の量（液状材料の１滴の量）を、平均で、０．１〜４０ｐＬ程度に、より現実的には１〜２０ｐＬ程度に設定し得る。これにより、基材１００に供給された際の液滴３１の着弾径が小さなものとなることから、第１ＣＦ基材１００ａに対しても位置選択的に液状被膜を形成することができる。

さらに、第１ＣＦ基材１００ａ上に供給する液滴３１の供給量を適宜設定することにより、形成される第１の膜３Ａａ’の厚さの制御を比較的容易に行うことができる。また、かかる構成の液状材料３５は、前述した配向膜材料を溶媒または分散媒中に溶解または分散することにより調製することができる。

溶媒または分散媒としては、例えば、アンモニア、水、過酸化水素、四塩化炭素、エチレンカーボネイト等の無機溶媒や、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、アセトン、等のケトン系溶媒、メタノール、エタノール、イソブタノール等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル系溶媒、メチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒、ヘキサン、ペンタン等の脂肪族炭化水素系溶媒、トルエン、キシレン、ベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ピリジン、ピラジン、フラン等の芳香族複素環化合物系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）等のアミド系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化合物系溶媒、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル系溶媒、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、スルホラン等の硫黄化合物系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリル等のニトリル系溶媒、ギ酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸系溶媒のような各種有機溶媒、または、これらを含む混合溶媒等を用いることができる。

［２−２］次いで、第１ＣＦ基材１００ａ上に塗布供給された液状材料、すなわち、第１ＣＦ基材１００ａに選択的に形成された液状被膜を乾燥する。これにより、第１の膜３Ａａ’が形成される。液状被膜を乾燥させる際の温度は、液状被膜中に含まれる配向材料の種類によっても異なるが、５０〜２００℃程度であるのが好ましく、１００〜１８０℃程度であるのがより好ましい。また、乾燥させる時間は、５分〜３時間程度であるのが好ましく、１０分〜１時間程度であるのがより好ましい。

［３］次に、図３（ｂ）に示すように、第１の膜３Ａａ’に対して、直線偏光を第１照射方向に照射して配向膜材料に異方性を持たせることにより、第１の方向４１０（水平方向）に配向処理された第１配向膜３Ａａを形成する。ここで、例えば、第１の膜３Ａａ’に含まれる配向膜材料として、重合型の配向膜材料であるパラメトキシ桂皮酸を側鎖に有するポリビニルエステルを用いた場合、このような配向膜材料に光照射、特に紫外線照射をすると、側鎖のパラメトキシ桂皮酸が光２量化反応を起こす。そのため、配向膜材料に照射する光を直線偏光とすると、重合型の配向膜材料では、直線偏光の電気ベクトルの振動方向（偏光方向）に平行な方向に光反応（重合反応）が促進される。これにより、直線偏光に平行な方向と垂直な方向とで、光反応の度合いに異方性が生じるため、光反応により生じる化学結合の方向が制御される。かかる構成の第１配向膜３Ａａは、この化学結合の方向すなわち直線偏光を照射した方向に沿って配向機能が付与された配向膜としての機能を発揮する。

また、配向膜材料として、異性化型の配向膜材料であるアゾベンゼンを用いた場合では、直線偏光を配向膜材料に照射すると、直線偏光に対して垂直な方向の棒状成分が生成される。これにより、直線偏光に平行な方向と垂直な方向とで、化学結合の分解の度合いに異方性が生じるため、化学結合が維持されている方向が制御される。かかる構成の第１配向膜３Ａａは、この化学結合が維持されている方向すなわち直線偏光を照射した方向と直
交する方向に沿って配向機能が付与された配向膜としての機能を発揮する。

また、配向膜材料として、分解型の配向膜材料であるポリイミドを用いた場合では、直線偏光を配向膜材料に照射すると、直線偏光に平行な方向で分子結合の分解反応が促進され、直線偏光に垂直な方向の化学結合が維持される。これにより、直線偏光に平行な方向と垂直な方向とで、化学結合の分解の度合いに異方性が生じるため、化学結合が維持されている方向が制御される。かかる構成の第１配向膜３Ａａは、この化学結合が維持されている方向すなわち直線偏光を照射した方向と直交する方向に沿って配向機能が付与された配向膜としての機能を発揮する。

以上のことから、配向膜材料の種類および直線偏光を照射する方向を適宜選択することにより、任意の方向に第１配向膜３Ａａを形成することができる。すなわち、選択した配向膜材料の種類に応じて、直線偏光を照射する方向を適宜設定することにより、第１配向膜３Ａａを第１の方向４１０（本実施形態では、水平方向）に配向させることができる。

なお、直線偏光の光源としては、特に限定されないが、例えば、超高圧水銀ランプ、フラッシュ水銀ランプ、高圧水銀ランプ、ＤｅｅｐＵＶランプ、キセノンランプ、キセノ
ンフラッシュランプおよびメタルハライドランプ等を用いることができる。また、直線偏光の波長は、例えば、配向膜材料が光学吸収を有する波長領域、すなわち、１９０〜４５０ｎｍ程度であるのが好ましく、２５０〜４００ｎｍ程度であるのがより好ましい。

さらに、直線偏光の照射光量は、例えば、１〜１０００００ｍＪ／ｃｍ²程度であるのが好ましく、１０〜３０００ｍＪ／ｃｍ²程度であるのがより好ましい。また、第１の膜３Ａａ’に直線偏光を照射している際には、少なくとも第１ＣＦ基材１００ａを加熱するのが好ましい。これにより、配向膜材料の上述した反応をより促進させることができる。この第１ＣＦ基材１００ａの加熱の程度は、配向膜材料によっても若干異なるが、好ましくは２５〜２５０℃程度に設定され、より好ましくは５０〜１５０℃程度に設定される。

［４］次に、図３（ｃ）に示すように、第２配向領域４０２に配置された第２ＣＦ基材１００ｂおよび第３ＣＦ基材１００ｃ上に、直線偏光を照射することにより異方性が生じる配向膜材料を含有する液状材料３５を塗布し乾燥することにより第２の膜３Ａｂ’を形成する。なお、第２及び第３ＣＦ基材１００ｂ，１００ｃ上に、液状材料３５を位置選択的に塗布する方法としては、前記工程［２］で説明したのと同様の方法を用いることができる。また、液状材料３５を乾燥する方法としても、前記工程［２］で説明したのと同様の方法を用いることができる。

［５］次に、図３（ｄ）に示すように、第２の膜３Ａｂ’に対して、直線偏光を第２照射方向に照射して配向膜材料に異方性を持たせることにより、第２の方向４２０（垂直方向）に配向処理された第２配向膜３Ａｂを形成する。ここで、前記工程［３］で説明したように、配向膜材料の種類および直線偏光を照射する方向を適宜選択することにより、任意の方向に第２配向膜３Ａｂの配向機能を設定することができるので、直線偏光を照射する方向を、第１配向膜３Ａａを形成した際の方向から９０°ずらすことにより、第２配向膜３Ａｂを第２の方向４２０（本実施形態では、垂直方向）に配向させることができる。

以上のように、複数の第１〜第３ＣＦ基材１００ａ，１００ｂ，１００ｃが配置されたベース基板４００において、第１配向領域４０１に配置された第１ＣＦ基材１００ａには、第１の方向４１０に配向処理された第１配向膜３Ａａが形成され、第２配向領域４０２に配置された第２及び第３ＣＦ基材１００ｂ，１００ｃには、第２の方向４２０に配向処理された第２配向膜３Ａｂが形成される。

なお、本実施形態では、液滴吐出装置５００を用いた液滴吐出法により、液状材料３５を液滴３１として吐出することにより、第１の膜３Ａａ’および第２の膜３Ａｂ’を形成する場合について説明したが、液状材料３５を所望形状に塗布し得る方法であれば、かかる方法に限定されるものではない。具体的には、液状材料３５を塗布する方法として、例えば、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法等を用いることができる。ただし、本実施形態のように、液滴吐出法（特に、インクジェット法）を用いることにより、例えば、微細な形状の第１の膜３Ａａ’および第２の膜３Ａｂ’を高い精度で形成することができる。

その後、ベース基板４００から第１〜第３ＣＦ基材１００ａ，１００ｂ，１００ｃを個々に切り出して、それぞれ単体の第１〜第３ＣＦ基材１００ａ，１００ｂ，１００ｃを形成する。

また、第１〜第３ＣＦ基材１００ａ，１００ｂ，１００ｃとは別に、上記同様の配向膜形成工程を用いて、例えば、第１配向膜４Ａａを備えた第１素子基材１０１ａと、第２配向膜４Ａｂを備えた第２及び第３素子基材１０１ｂ，１０１ｃを形成する。そして、例えば、第１ＣＦ基材１００ａと第１素子基材１０１ａとを、配向膜３Ａａと配向膜４Ａａとが対向するように配置し、第１ＣＦ基材１００ａと第１素子基材１０１ａとを位置合わせしつつ、第１ＣＦ基材１００ａの周縁部と第１素子基材１０１ａの周縁部とを貼り合わせるとともに、第１ＣＦ基材１００ａと第１素子基材１０１ａとの間に液晶材料を封入して液晶層２を形成する。そして、第１ＣＦ基材１００ａの外側に第１偏光板７Ａを貼り付け、さらに、第１素子基材１０１ａの外側に第２偏光板８Ａを貼り付けすることにより液晶表示装置１Ａが得られる。

（電子機器の構成）
次に、前述したような液晶表示装置１Ａを搭載した電子機器（液晶表示装置）の構成について説明する。図６は、電子機器としてのモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピューターの構成を示す斜視図である。

図６に示すように、パーソナルコンピューター１１００は、キーボード１１０２を備えた本体部１１０４と、表示ユニット１１０６とにより構成され、表示ユニット１１０６は、本体部１１０４に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。このパーソナルコンピューター１１００においては、表示ユニット１１０６が、前述の液晶表示装置１Ａと、図示しないバックライトとを備えている。バックライトからの光を液晶表示装置１Ａに透過させることにより画像（情報）を表示し得るものである。

なお、液晶表示装置１Ａが搭載された電子機器は、図６のパーソナルコンピューター（モバイル型パーソナルコンピューター）に限定されるものではなく、例えば、他の電子機器として、携帯電話機、ディジタルスチルカメラ、テレビ受像機、ビデオカメラ、ビューファインダー型、モニター直視型のビデオテープレコーダー、投射型表示装置、カーナビゲーション装置、ページャー、電子手帳（通信機能付も含む）、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサー、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニター、電子双眼鏡、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器（例えば金融機関のキャッシュディスペンサー、自動券売機）、医療機器（例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電表示装置、超音波診断装置、内視鏡用表示装置）、魚群探知機、各種測定機器、計器類（例えば、車両、航空機、船舶の計器類）、フライトシミュレーターなどが挙げられる。そして、これらの各種電子機器の表示部、モニター部として、前述した液晶表示装置１Ａが適用可能なことは言うまでもない。

従って、上記の第１実施形態によれば、以下に示す効果がある。

（１）ベース基板４００が２つの領域に分割され、分割された領域を第１配向領域４０１と第２配向領域４０２とに分類し、第１配向領域４０１と第２配向領域４０２のそれぞれに、マスクを用いることなく、第１の方向４１０に配向処理された第１配向膜３Ａａと、第２の方向４２０に配向処理された第２配向膜３Ａｂとを形成することができる。

（２）第１の配向膜材料と第２の配向膜材料とでは、直線偏光を照射する方向により異方性がそれぞれ異なっているので、直線偏光を照射する方向を適宜設定することにより、第１の膜３Ａａ’を第１の方向４１０に、第２の膜３Ａｂ’を第１の方向４１０とは異なる第２の方向４２０に配向させることができる。

［第２実施形態］
次に、第２実施形態について説明する。

（液晶表示装置の構成）
まず、液晶表示装置１Ａの構成について説明する。なお、液晶表示装置１Ａの基本的な構成および各構成部材については第１実施形態と同様なので説明を省略し、第１実施形態と異なる部分について主に説明する。

図７は、部材としてのＣＦ基材１００における配向パターンを示す模式図である。図７に示すように、ＣＦ基材１００は、複数の領域に分割され、分割された複数の領域が、第１配向領域４０１と第２配向領域４０２とに分類されている。本実施形態のＣＦ基材１００は、４つの領域に分割され、分割された４つの領域が、第１配向領域４０１と第２配向領域４０２とに分類されている。そして、第１配向領域４０１には、第１の方向４１０（平行方向）に配向処理された第１配向膜３Ａａが形成され、第２配向領域４０２には、第２の方向４２０（垂直方向）に配向処理された第２配向膜３Ａｂが形成されている。なお、素子基材１０１における第１配向領域４０１の第１配向膜４Ａａと第２配向領域４０２の第２配向膜４Ａｂも、上記同様に適用される（図７参照）。
（液晶表示装置の製造方法）

次に、液晶表示装置の製造方法について説明する。図８は、本実施形態にかかる液晶表示装置の製造方法における配向膜形成工程を示す工程図である。なお、配向膜３Ａと配向膜４Ａは、同様の方法を用いて形成されるので、以下では、ＣＦ基材１００に配向膜３Ａを形成する場合を一例に説明する。また、本実施形態では、液滴吐出装置を用いるが、液滴吐出装置の構成は、実施形態１と同様なので説明を省略する。

本実施形態の液晶表示装置の製造方法では、配向膜３Ａが形成される部材としてのＣＦ基材１００を複数の領域に分割し、分割された複数の領域を、第１の方向４１０に配向処理する第１配向領域４０１と第２の方向４２０に配向処理する第２配向領域４０２とに分類し、第１の波長を有する直線偏光を照射することにより異方性が生じる第１の配向膜材料を含有する第１の液状材料３５ａを第１配向領域４０１に塗布し乾燥することにより第１の膜３Ａａ’を形成し、第２の波長を有する直線偏光を照射することにより異方性が生じる第２の配向膜材料を含有する第２の液状材料３５ｂを第２配向領域４０２に塗布し乾燥することにより第２の膜３Ａｂ’を形成し、第１の波長を有する直線偏光を第１の膜３Ａａ’に照射して第１の配向膜材料に異方性を持たせて、第１の方向４１０に配向処理された第１配向膜３Ａａを形成し、第２の波長を有する直線偏光を第２の膜３Ａｂ’に照射して第２の配向膜材料に異方性を持たせて、第２の方向４２０に配向処理された第２配向膜３Ａｂを形成する配向膜形成工程を含むものである。かかる方法によれば、マスクを用いることなく、ＣＦ基材１００が第１配向領域４０１と第２配向領域４０２とに分類された領域に、第１配向膜３Ａａと第２配向膜３Ａｂとで分割配向される配向膜３Ａを形成することができる。

また、第１の配向膜材料と第２の配向膜材料とでは、直線偏光を照射することにより異方性が生じる波長が第１の波長と第２の波長とそれぞれ異なっているので、第１の波長を有する直線偏光および第２の波長を有する直線偏光を照射する方向を適宜設定することにより、第１の膜３Ａａ’を第１の方向４１０に、第２の膜３Ａｂ’を第１の方向４１０とは異なる第２の方向４２０に配向させることができる。

［１］まず、図８（ａ）に示すように、部材としてのＣＦ基材１００を複数の領域に分割し、分割された複数の領域を、第１配向領域４０１と第２配向領域４０２とに分類する。本実施形態では、ＣＦ基材１００を４分割し、分割された４つの領域のうち、２つの領域を第１配向領域４０１とし、他の２つの領域を第２配向領域４０２として、２つの配向領域に分類する。

［２］次に、図８（ａ）に示すように、ＣＦ基材１００上の第１配向領域４０１に、第１の波長を有する直線偏光を照射することにより異方性が生じる第１の配向膜材料を含有する第１の液状材料３５ａを塗布し乾燥することにより第１の膜３Ａａ’を形成する。

［２−１］具体的には、まず、第１の波長を有する直線偏光を照射することにより異方性が生じる第１の配向膜材料を含有する第１の液状材料３５ａを、例えば、前述した液滴吐出装置５００による液滴吐出法を用いて、ＣＦ基材１００上の第１配向領域４０１に位置選択的に塗布（供給）する。これにより、液滴を、ＣＦ基材１００の第２配向領域４０２等に供給することなく、ＣＦ基材１００の第１配向領域４０１に選択的に供給することができる。その結果、ＣＦ基材１００上に、第１配向領域４０１の形状に対応してパターニングされた液状被膜が形成される。

ここで、本実施形態では、第１実施形態と同様にして、ＣＦ基材１００の第１配向領域４０１に第１の液状材料３５ａを選択的に塗布（供給）する方法として、液滴吐出装置５００を用いて第１の液状材料３５ａを液滴として供給する液滴吐出法が用いられる。さらに、本実施形態では、第１実施形態と同様にして、液滴吐出法は、液滴吐出ヘッド５１４としてインクジェットヘッドを備えるインクジェット法が用いられる。ここで、第１の液状材料３５ａの粘度（２５℃）、液滴の量（液状材料の１滴の量）、第１の配向膜材料が溶解または分散される溶媒または分散媒等については、第１実施形態と同様なので、説明を省略する。

ところで、前述したように、配向膜３Ａの構成材料である配向膜材料としては、例えば、直線偏光の照射により分解する分解型のもの、直線偏光の照射により異性化する異性化型のもの、および、直線偏光の照射により重合する重合型のもの等が挙げられる。これらは、いずれも、直線偏光を照射することにより異方性が生じるものであるが、その異方性が生じる波長が配向膜材料の種類によってそれぞれ異なる。

具体的には、直線偏光の照射により分解する分解型の配向膜材料は、一般的に、２００〜３００ｎｍ程度の波長を有する直線偏光が照射されることにより異方性が生じ、特に、２５４ｎｍ程度の波長を有する直線偏光が照射されることにより確実に異方性が生じる。また、直線偏光の照射により異性化する異性化型の配向膜材料は、一般的に、３３０〜３８０ｎｍ程度の波長を有する直線偏光が照射されることにより異方性が生じ、特に、３６５ｎｍ（ｉ線）近辺の波長を有する直線偏光が照射されることにより確実に異方性が生じる。

さらに、直線偏光の照射により重合する重合型の配向膜材料は、一般的に、２７５〜３３０ｎｍ程度の波長を有する直線偏光が照射されることにより異方性が生じ、特に、３１３ｎｍ近辺の波長を有する直線偏光が照射されることにより確実に異方性が生じる。

そこで、本実施形態の配向膜形成工程では、本工程［２］で形成する第１の膜３Ａａ’に含まれる第１の配向膜材料と、次工程［３］で形成する第２の膜３Ａｂ’に含まれる第２の配向膜材料とでは、これらに直線偏光を照射することにより異方性が生じる波長がそれぞれ異なるものが選択される。すなわち、第１の配向膜材料としては、第１の波長を有する直線偏光を照射することにより異方性が生じるものを選択し、第２の配向膜材料としては、第２の波長を有する直線偏光を照射することにより異方性が生じるものを選択する。

具体的には、上記のように、分解型の配向膜材料は、異性化型の配向膜材料および重合型の配向膜材料と比較して、短波長側の波長を有する直線偏光が照射されることにより異方性が生じるため、第１の配向膜材料として分解型の配向膜材料を選択した場合には、異性化型の配向膜材料または重合型の配向膜材料が第２の配向膜材料として選択される。

［２−２］次いで、ＣＦ基材１００上に供給された第１の液状材料３５ａ、すなわち、ＣＦ基材１００の第１配向領域４０１に選択的に形成された液状被膜を乾燥する。これにより、第１配向領域４０１の形状（所定形状）に対応してパターニングされた第１の配向膜材料を含有する第１の膜３Ａａ’が形成される。液状被膜を乾燥させる際の温度は、液状被膜中に含まれる第１の配向材料の種類によっても異なるが、５０〜２００℃程度であるのが好ましく、１００〜１８０℃程度であるのがより好ましい。また、乾燥させる時間は、５分〜３時間程度であるのが好ましく、１０分〜１時間程度であるのがより好ましい。かかる条件で液状被膜を乾燥させて第１の膜３Ａａ’を形成することにより、次工程［３］において、第１の膜３Ａａ’に第１の波長を有する直線偏光を照射することにより、膜中に含まれる第１の配向膜材料に、確実に異方性を付与することができる。

［３］次に、図８（ｂ）に示すように、ＣＦ基材１００上の第２配向領域４０２に、第２の配向膜材料を含有する第２の液状材料３５ｂを塗布し乾燥することにより第２の膜３Ａｂ’を形成する。第２の配向膜材料としては、前記工程［２−１］で説明したように、直線偏光の照射により異方性が生じる波長が第１の配向膜材料とは異なる第２の波長を有するものが選択される。

具体的には、第１の配向膜材料として分解型の配向膜材料が選択された場合には、これとは異方性が生じる波長が異なる、異性化型の配向膜材料または重合型の配向膜材料が第２の配向膜材料として選択される。ＣＦ基材１００上の第２配向領域４０２に、第２の液状材料３５ｂを位置選択的に塗布する方法としては、前記工程［２］で説明したのと同様の方法を用いることができる。

また、第２の液状材料３５ｂを乾燥する方法としても、前記工程［２］で説明したのと同様の方法を用いることができる。なお、ＣＦ基材１００上の第１配向領域４０１に第１の膜３Ａａ’を形成する前記工程［２］と、ＣＦ基材１００上の第２配向領域４０２に第２の膜３Ａｂ’を形成する本工程［３］との順序は、ここで説明した順序に限らず、本工程［３］の後に前記工程［２］を行ってもよいし、前記工程［２］と本工程［３］とをほぼ同時期に行ってもよい。

［４］次に、第１の波長を有する直線偏光を第１の膜３Ａａ’に照射して第１の配向膜材料に異方性を持たせて、図８（ｃ）に示すように、第１の方向４１０（水平方向）に配向処理された第１配向膜３Ａａを形成する。第１の膜３Ａａ’は、前述したように、第１の波長を有する直線偏光を照射することにより異方性が生じる第１の配向膜材料を含有するため、第１の膜３Ａａ’に対して第１の波長を有する直線偏光を照射することにより、第１の膜３Ａａ’を確実に水平方向に配向させることができる。

これに対して、第２の膜３Ａｂ’は、第１の波長とは異なる第２の波長を有する直線偏光を照射することにより異方性が生じる第２の配向膜材料を含有するため、第２の膜３Ａｂ’に第１の波長を有する直線偏光を照射したとしても、第２の配向膜材料に異方性が生じることがないため、第２の膜３Ａｂ’が配向してしまうのを確実に防止することができる。すなわち、第１の膜３Ａａ’および第２の膜３Ａｂ’の双方に、第１の波長を有する直線偏光を照射したとしても、第１の膜３Ａａ’だけを、選択的に、確実に水平方向に配向させることができる。

ところで、第１の膜３Ａａ’に含まれる第１の配向膜材料として、分解型の配向膜材料であるポリイミドを用いた場合では、直線偏光を第１の配向膜材料に照射すると、直線偏光に平行な方向で分子結合の分解反応が促進され、直線偏光に垂直な方向の化学結合が維持される。これにより、直線偏光に平行な方向と垂直な方向とで、化学結合の分解の度合いに異方性が生じるため、化学結合が維持されている方向が制御される。かかる構成の第１配向膜３Ａａは、この化学結合が維持されている方向すなわち直線偏光を照射した方向と直交する方向に沿って配向機能が付与された配向膜としての機能を発揮する。

以上のことから、直線偏光を照射する方向を適宜選択することにより、任意の方向に第１配向膜３Ａａの配向機能を設定することができる。すなわち、直線偏光を照射する方向を適宜設定することにより、第１配向膜３Ａａを第１の方向４１０（本実施形態では、水平方向）に配向させることができる。なお、直線偏光の光源としては、照射する第１の波長の大きさに応じて適宜選択され、特に限定されるものではないが、例えば、超高圧水銀ランプ、フラッシュ水銀ランプ、高圧水銀ランプ、ＤｅｅｐＵＶランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプおよびメタルハライドランプ等を用いることができる。

また、第１の配向膜材料として、分解型の配向膜材料を選択した場合、第１の波長は、前述したように、好ましくは２００〜３００ｎｍ程度、特に好ましくは２５４ｎｍ程度に設定される。これにより、第２の配向膜材料に異方性を生じさせることなく、第１の配向膜材料に対して選択的に異方性を生じさせることができる。さらに、第１の波長を有する直線偏光の照射光量は、例えば、１〜１０００００ｍＪ／ｃｍ²程度であるのが好ましく、１０〜３０００ｍＪ／ｃｍ²程度であるのがより好ましい。

また、第１の膜３Ａａ’に第１の波長を有する直線偏光を照射している際には、ＣＦ基材１００を加熱するのが好ましい。これにより、第１の配向膜材料の上述した反応をより促進させることができる。このＣＦ基材１００の加熱の程度は、第１の配向膜材料によっても若干異なるが、好ましくは２５〜２５０℃程度に設定され、より好ましくは５０〜１５０℃程度に設定される。

［５］次に、第２の波長を有する直線偏光を第２の膜３Ａｂ’に直線偏光を照射して、第２の配向膜材料に異方性を持たせて、図８（ｄ）に示すように、第２の方向４２０（垂直方向）に配向させた第２配向膜３Ａｂを形成する。第２の膜３Ａｂ’は、前述したように、第２の波長を有する直線偏光を照射することにより異方性が生じる第２の配向膜材料を含有するため、第２の膜３Ａｂ’に対して第２の波長を有する直線偏光の照射により、確実に第２の方向４２０（垂直方向）に配向させることができる。

これに対して、第１配向膜３Ａａは、第２の波長とは異なる第１の波長を有する直線偏光を照射することにより異方性が生じる第１の配向膜材料を含有するため、第１配向膜３Ａａに第２の波長を有する直線偏光を照射したとしても、第１の配向膜材料に異方性が生じることがないため、第１配向膜３Ａａが他の方向に配向してしまうのを確実に防止することができる。

すなわち、第１の膜３Ａａ’および第２の膜３Ａｂ’の双方に、第２の波長を有する直線偏光を照射したとしても、第２の膜３Ａｂ’だけを、選択的に、確実に垂直方向に配向させることができる。

ところで、例えば、第２の膜３Ａｂ’に含まれる第２の配向膜材料として、異性化型の配向膜材料であるアゾベンゼンを用いた場合では、直線偏光を配向膜材料に照射すると、直線偏光に対して垂直な方向の棒状成分が生成される。これにより、直線偏光に平行な方向と垂直な方向とで、化学結合の分解の度合いに異方性が生じるため、化学結合が維持されている方向が制御される。かかる構成の第２配向膜３Ａｂは、この化学結合が維持されている方向すなわち直線偏光を照射した方向と直交する方向に沿って配向機能が付与された配向膜としての機能を発揮する。

また、第２の配向膜材料として、重合型の配向膜材料であるパラメトキシ桂皮酸を側鎖に有するポリビニルエステルを用いた場合では、直線偏光を第２の配向膜材料にすると、側鎖のパラメトキシ桂皮酸が光２量化反応を起こす。そのため、配向膜材料に照射する光を直線偏光とすると、重合型の配向膜材料では、直線偏光の電気ベクトルの振動方向（偏光方向）に平行な方向に光反応（重合反応）が促進される。これにより、直線偏光に平行な方向と垂直な方向とで、光反応の度合いに異方性が生じるため、光反応により生じる化学結合の方向が制御される。かかる構成の第２配向膜３Ａｂは、この化学結合の方向、すなわち、直線偏光を照射した方向に沿って配向機能が付与された配向膜としての機能を発揮する。

以上のことから、第２の配向膜材料の種類および直線偏光を照射する方向を適宜選択することにより、任意の方向に第２配向膜３Ａｂの配向機能を設定することができる。すなわち、選択した配向膜材料の種類に応じて、直線偏光を照射する方向を適宜設定して、第１配向膜３Ａａの配向方向から９０°ずらすことにより、第２配向膜３Ａｂを第２の方向４２０（本実施形態では、垂直方向）に配向させることができる。

また、第２の配向膜材料として、異性化型の配向膜材料を選択した場合、第２の波長は、前述したように、好ましくは３３０〜３８０ｎｍ程度、特に好ましくは３６５ｎｍ程度に設定される。これにより、第１の配向膜材料に異方性を生じさせることなく、第２の配向膜材料に対して選択的に異方性を生じさせることができる。さらに、第２の配向膜材料として、重合型の配向膜材料を選択した場合、第１の波長は、前述したように、好ましくは２７５〜３３０ｎｍ程度、特に好ましくは３１３ｎｍ程度に設定される。これにより、第１の配向膜材料に異方性を生じさせることなく、第２の配向膜材料に対して選択的に異方性を生じさせることができる。

なお、直線偏光の光源、直線偏光の照射光量および直線偏光を照射している際のＣＦ基材１００の加熱温度は、それぞれ、前記工程［４］で説明したのと同様である。

以上のようにして、ＣＦ基材１００上の第１配向領域４０１には、第１の方向４１０に配向処理された第１配向膜３Ａａが形成成され、また、ＣＦ基材１００上の第２配向領域４０２には、第２の方向４２０に配向処理された第２配向膜３Ａｂが形成される。その結果、これら第１配向膜３Ａａと第２配向膜３Ａｂとで構成される分割配向（本実施形態では、４分割）された配向膜３Ａが形成される。

なお、第１の膜３Ａａ’を水平方向に配向させる前記工程［４］と、第２の膜３Ａｂ’を垂直方向に配向させる本工程［５］との順序は、ここで説明した順序に限らず、本工程［５］の後に前記工程［４］を行ってもよいし、前記工程［４］と本工程［５］とをほぼ同時期に行ってもよい。

なお、本実施形態では、液滴吐出装置５００を用いた液滴吐出法により、第１の液状材料３５ａおよび第２の液状材料３５ｂを液滴として吐出することにより、第１の膜３Ａａ’および第２の膜３Ａｂ’を形成する場合について説明したが、第１の液状材料３５ａおよび第２の液状材料３５ｂを所望形状に塗布し得る方法であれば、かかる方法に限定されるものではない。具体的には、第１の液状材料３５ａおよび第２の液状材料３５ｂを塗布する方法として、例えば、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法等を用いることができる。

ただし、本実施形態のように、液滴吐出法（特に、インクジェット法）を用いることにより、極めて微細な形状の第１の膜３Ａａ’および第２の膜３Ａｂ’を高い精度で形成することができる。また、本実施形態では、第１の配向膜材料として分解型の配向膜材料を選択した際には、第２の配向膜材料として異性化型または重合型の配向膜材料が選択される場合について説明したが、第１の配向膜材料と第２の配向膜材料との組み合わせは、かかる場合に限定されるものではなく、例えば、第１の配向膜材料として異性化型の配向膜材料を選択した際には、第２の配向膜材料として分離型の配向膜材料が選択される。

そして、ＣＦ基材１００とは別に、上記同様の配向膜形成工程を用いて、配向膜４Ａを備えた素子基材１０１を形成する。そして、例えば、ＣＦ基材１００と素子基材１０１とを、配向膜３Ａと配向膜４Ａとが対向するように配置する。そして、ＣＦ基材１００と素子基材１０１とを位置合わせしつつ、ＣＦ基材１００の周縁部と素子基材１０１の周縁部とを貼り合わせるとともに、ＣＦ基材１００と素子基材１０１との間に液晶材料を封入して液晶層２を形成する。また、ＣＦ基材１００の外側に第１偏光板７Ａを貼り付け、素子基材１０１の外側に第２偏光板８Ａを貼り付けすることにより液晶表示装置１Ａが得られる。

（電子機器の構成）
電子機器の構成については、第１実施形態の内容と同様なので説明を省略する（図６等参照）。

従って、上記の第２実施形態によれば、以下に示す効果がある。

（１）ＣＦ基材１００が４つの領域に分割され、分割された領域を第１配向領域４０１と第２配向領域４０２とに分類し、それぞれの領域に、マスクを用いることなく、第１の方向４１０に配向処理された第１配向膜３Ａａと、第２の方向４２０に配向処理された第２配向膜３Ａｂとを形成することができる。

（２）第１の配向膜材料と第２の配向膜材料とでは、直線偏光を照射することにより異方性が生じる波長が第１の波長と第２の波長とがそれぞれ異なっているので、第１の波長を有する直線偏光および第２の波長を有する直線偏光を照射する方向を適宜設定することにより、第１の膜３Ａａ’を第１の方向４１０に、第２の膜３Ａｂ’を第１の方向４１０とは異なる第２の方向４２０に配向させることができる。

［第３実施形態］
次に、第３実施形態について説明する。

（液晶表示装置の構成）
まず、液晶表示装置１Ａの構成について説明する。なお、液晶表示装置１Ａの基本的な構成および各構成部材については第１実施形態と同様なので説明を省略し、第１及び実施形態と異なる部分について主に説明する。

図９は、液晶表示装置１Ａを構成する部材としての１の画素部Ｐの配向パターンを示す模式図である。図９に示すように、画素部Ｐは、複数の領域に分割され、分割された複数の領域が、第１配向領域４０１と第２配向領域４０２とに分類されている。本実施形態では、配向膜３Ａが形成される画素部Ｐは、４つの領域に分割され、分割された４つの領域が、第１配向領域４０１ａと第２配向領域４０２ａとに分類されている。そして、第１配向領域４０１ａには、第１の方向４１０（平行方向）に配向処理された第１配向膜３Ａａが形成されている。そして、第２配向領域４０２ａには、第２の方向４２０（垂直方向）に配向処理された第２配向膜３Ａｂが形成されている。

また、配向膜４Ａが形成される画素部Ｐは、４つの領域に分割され、分割された４つの領域が、第１配向領域４０１ｂと第２配向領域４０２ｂとに分類されている。そして、第１配向領域４０１ｂには、第１の方向４１０（平行方向）に配向処理された第１配向膜４Ａａが形成されている。そして、第２配向領域４０２ｂには、第２の方向４２０（垂直方向）に配向処理された第２配向膜４Ａｂが形成されている。

（液晶表示装置の製造方法）
次に、液晶表示装置の製造方法について説明する。図１０は、本実施形態にかかる液晶表示装置の製造方法における配向膜形成工程を示す工程図である。なお、配向膜３Ａと配向膜４Ａは、同様の方法を用いて形成されるので、以下では、配向膜３Ａを形成する場合を一例に説明する。また、本実施形態では、液滴吐出装置を用いるが、液滴吐出装置の構成は、実施形態１と同様なので説明を省略する。

本実施形態の液晶表示装置の製造方法では、配向膜３Ａが形成される部材としての画素部Ｐを複数の領域に分割し、分割された複数の領域を、第１の方向４１０に配向処理する第１配向領域４０１と第２の方向４２０に配向処理する第２配向領域４０２とに分類し、直線偏光を照射することにより異方性が第１の方向４１０に生じる第１の配向膜材料を含有する第１の液状材料３５ａを第１配向領域４０１に塗布し乾燥することにより第１の膜３Ａａ’を形成し、直線偏光の照射することにより異方性が第２の方向４２０に生じる第２の配向膜材料を含有する第２の液状材料３５ｂを第２配向領域４０２に塗布し乾燥することにより第２の膜３Ａｂ’を形成し、直線偏光を第１の膜３Ａａ’および第２の膜３Ａｂ’の双方に照射して第１の配向膜材料および第２の配向膜材料にそれぞれ異方性を持たせて、第１の方向４１０に配向処理された第１配向膜３Ａａを形成するとともに、第２の方向４２０に配向処理された第２配向膜３Ａｂを形成する配向膜形成工程を含むものである。

かかる方法によれば、マスクを用いることなく、画素部Ｐに分割配向された第１配向膜３Ａａと第２配向膜３Ａｂとを形成することができる。また、第１の配向膜材料と第２の配向膜材料とでは、直線偏光を照射することにより異方性が生じる方向がそれぞれ異なっているので、第１の配向膜材料および第２の配向膜材料の双方に照射する直線偏光の方向を適宜設定することにより、第１の膜３Ａａ’を第１の方向４１０に、第２の膜３Ａｂ’を第１の方向４１０とは異なる第２の方向４２０に配向させることができる。

［１］まず、図１０（ａ）に示すように、部材としての画素部Ｐに対応するＣＦ基材１００の領域を複数の領域に分割し、分割された複数の領域を、第１配向領域４０１ａと第２配向領域４０２ａとに分類する。本実施形態では、画素部Ｐを４分割し、分割された４つの領域のうち、２つの領域を第１配向領域４０１ａとし、他の２つの領域を第２配向領域４０２ａとして、２つの領域に分類する。

［２］次に、図１０（ａ）に示すように、画素部Ｐの第１配向領域４０１ａに対応するＣＦ基材１００上に、直線偏光を照射することにより異方性が第１の方向４１０に生じる第１の配向膜材料を含有する第１の液状材料３５ａを塗布し乾燥することにより第１の膜３Ａａ’を形成する。

［２−１］具体的には、まず、直線偏光を照射することにより異方性が第１の方向４１０に生じる第１の配向膜材料を含有する第１の液状材料３５ａを、例えば、前述した液滴吐出装置５００による液滴吐出法を用いて、液滴として用意したＣＦ基材１００上の第１配向領域４０１ａに位置選択的に塗布（供給）する。これにより、液滴を、ＣＦ基材１００の第２配向領域４０２等に供給することなく、ＣＦ基材１００の第１配向領域４０１に選択的に供給することができる。その結果、ＣＦ基材１００上に、第１配向領域４０１の形状に対応してパターニングされた液状被膜が形成される。

ここで、本実施形態では、第１実施形態と同様にして、ＣＦ基材１００の第１配向領域４０１に第１の液状材料３５ａを選択的に塗布（供給）する方法として、液滴吐出装置５００を用いて第１の液状材料３５ａを液滴として供給する液滴吐出法が用いられる。さらに、本実施形態では、第１実施形態と同様にして、液滴吐出法は、液滴吐出ヘッド５１４としてインクジェットヘッドを備えるインクジェット法が用いられる。また、第１の液状材料３５ａの粘度（２５℃）、液滴の量（液状材料の１滴の量）、第１の配向膜材料が溶解または分散される溶媒または分散媒等については、第１実施形態と同様なので、説明を省略する。

ところで、前述したように、配向膜３Ａの構成材料である配向膜材料としては、例えば、直線偏光の照射により重合する重合型のもの、直線偏光の照射により異性化する異性化型のもの、および、直線偏光の照射により分解する分解型のもの等が挙げられる。これらは、いずれも、直線偏光を照射することにより異方性が生じるものであるが、その異方性が生じる方向が配向膜材料の種類によってそれぞれ異なる。

具体的には、例えば、直線偏光の照射により重合する重合型の配向膜材料の場合、パラメトキシ桂皮酸を側鎖に有するポリビニルエステルを一例にすると、このような配向膜材料に光照射、特に紫外線照射をしたとき、側鎖のパラメトキシ桂皮酸が光２量化反応を起こす。そのため、配向膜材料に照射する光を直線偏光とすると、重合型の配向膜材料では、直線偏光の電気ベクトルの振動方向（偏光方向）に平行な方向に光飯能（重合反応）が促進される。これにより、直線偏光に平行な方向と垂直な方向とで、光反応の度合いに異方性が生じるため、光反応により生じる化学結合の方向が制御される。したがって、かかる構成の配向膜材料を含有する配向膜は、この化学結合の方向すなわち直線偏光を照射した方向に沿って配向機能が付与される。

また、直線偏光の照射により異性化する異性化型の配向膜材料の場合、アゾベンゼンを一例にすると、このような配向膜材料に直線偏光を照射したとき、直線偏光に対して垂直な方向の棒状成分が生成される。これにより、直線偏光に平行な方向と垂直な方向とで、化学結合の分解の度合いに異方性が生じるため、化学結合が維持されている方向が制御される。したがって、かかる構成の配向材料を含有する配向膜は、この化学結合が維持されている方向すなわち直線偏光を照射した方向と直交する方向に沿って配向機能が付与される。

さらに、直線偏光の照射により分解する分解型の配向膜材料の場合、ポリイミドを一例にすると、このような配向膜材料に直線偏光を照射したとき、直線偏光に平行な方向で分子結合の分解反応が促進され、直線偏光に垂直な方向の化学結合が維持される。これにより、直線偏光に平行な方向と垂直な方向とで、化学結合の分解の度合いに異方性が生じるため、化学結合が維持されている方向が制御される。したがって、かかる構成配向膜材料を含有する配向膜は、この化学結合が維持されている方向すなわち直線偏光を照射した方向と直交する方向に沿って配向機能が付与される。

そこで、本実施形態の配向膜形成工程では、本工程［２］で形成する第１の膜３Ａａ’に含まれる第１の配向膜材料と、次工程［３］で形成する第２の膜３Ａｂ’に含まれる第２の配向膜材料とでは、これらに直線偏光を照射することにより異方性が生じる方向がそれぞれ異なるものを選択する。すなわち、第１の配向膜材料としては、直線偏光を照射することにより異方性が第１の方向４１０に生じるものを選択し、第２の配向膜材料としては、直線偏光を照射することにより異方性が第２の方向４２０に生じるものを選択する。

具体的には、上記のように、重合型の配向膜材料は、直線偏光を照射した方向に沿って配向機能が付与され、異性化型および分離型の配向膜材料は、直線偏光を照射した方向と直交する方向に沿って配向機能が付与されるので、第１の配向膜材料として重合型の配向膜材料を選択した場合には、異性化型の配向膜材料または分離型の配向膜材料を第２の配向膜材料として選択する。

［２−２］次いで、ＣＦ基材１００上に供給された第１の液状材料３５ａ、すなわち、ＣＦ基材１００の第１配向領域４０１ａに選択的に形成された液状被膜を乾燥する。これにより、第１配向領域４０１ａの形状（所定形状）に対応してパターニングされた第１の配向膜材料を含有する第１の膜３Ａａ’が形成される。液状被膜を乾燥させる際の温度は、液状被膜中に含まれる第１の配向材料の種類によっても異なるが、５０〜２００℃程度であるのが好ましく、１００〜１８０℃程度であるのがより好ましい。また、乾燥させる時間は、５分〜３時間程度であるのが好ましく、１０分〜１時間程度であるのがより好ましい。かかる条件で液状被膜を乾燥させて第１の膜３Ａａ’を形成することにより、次工程［３］において、第１の膜３Ａａ’に直線偏光を照射することにより、液状被膜中に含まれる第１の配向膜材料に、第１の方向４１０に異方性を確実に付与することができる。

［３］次に、図１０（ｂ）に示すように、ＣＦ基材１００上の第２配向領域４０２ａに、第２の配向膜材料を含有する第２の液状材料３５ｂを塗布し乾燥することにより、第２の膜３Ａｂ’を形成する。本実施形態では、第２の配向膜材料としては、前記工程［２−１］で説明したように、直線偏光の照射により異方性が生じる方向が第１の配向膜材料の第１の方向４１０とは異なる第２の方向４２０となるものが選択される。

具体的には、第１の配向膜材料として重合型の配向膜材料が選択された場合には、これとは異方性が生じる方向が異なる、異性化型の配向膜材料または分解型の配向膜材料が第２の配向膜材料として選択される。ＣＦ基材１００上の第２配向領域４０２ａに、第２の液状材料３５ｂを位置選択的に塗布する方法としては、前記工程［２］で説明したのと同様の方法を用いることができる。また、第２の液状材料３５ｂを乾燥する方法としても、前記工程［２］で説明したのと同様の方法を用いることができる。

なお、ＣＦ基材１００上の第１配向領域４０１ａに第１の膜３Ａａ’を形成する前記工程［２］と、ＣＦ基材１００上の第２配向領域４０２ａに第２の膜３Ａｂ’を形成する本工程［３］との順序は、ここで説明した順序に限らず、本工程［３］の後に前記工程［２］を行ってもよいし、前記工程［２］と本工程［３］とをほぼ同時期に行ってもよい。

［４］次に、直線偏光を第１の膜３Ａａ’および第２の膜３Ａｂ’の双方に照射して第１の配向膜材料および第２の配向膜材料にそれぞれ異方性を持たせて、図１０（ｃ）に示すように、第１の方向４１０（水平方向）に配向処理された第１配向膜３Ａａと、第２の方向４２０（垂直方向）に配向処理された第２配向膜３Ａｂとを形成する。第１の膜３Ａａ’は、前述したように、直線偏光を照射することにより異方性が第１の方向４１０に生じる第１の配向膜材料を含有するため、直線偏光を照射する方向を適宜設定して、第１の膜３Ａａ’に対して直線偏光を照射することにより、第１の膜３Ａａ’が第１の方向４１０（本実施形態では、水平方向）に配向する。

これに対して、第２の膜３Ａｂ’は、直線偏光を照射することにより異方性が第１の方向４１０とは異なる第２の方向４２０に生じる第２の配向膜材料を含有するため、第１の膜３Ａａ’に照射した直線偏光と同様の方向から直線偏光を照射した場合でも、第２の膜３Ａｂ’が第２の方向４２０（本実施形態では、垂直方向）に配向する。すなわち、第１の膜３Ａａ’および第２の膜３Ａｂ’の双方に、直線偏光を同時に照射したとしても、第１の膜３Ａａ’を水平方向に、第２の膜３Ａｂ’を水平方向とは９０°ずれている垂直方向に確実に配向させることができる。

なお、前述したように、配向膜材料としては、直線偏光の照射により分解する分解型のもの、直線偏光の照射により異性化する異性化型のもの、および、直線偏光の照射により重合する重合型のもの等が挙げられるが、これらは、いずれも、直線偏光の照射により異方性が生じる波長がその種類によってそれぞれ異なる。具体的には、直線偏光の照射により分解する分解型の配向膜材料は、一般的に、２００〜３００ｎｍ程度の波長を有する直線偏光が照射されることにより異方性が生じ、特に、２５４ｎｍ程度の波長を有する直線偏光が照射されることにより確実に異方性が生じる。

また、直線偏光の照射により異性化する異性化型の配向膜材料は、一般的に、３３０〜３８０ｎｍ程度の波長を有する直線偏光が照射されることにより異方性が生じ、特に、３６５ｎｍ（ｉ線）近辺の波長を有する直線偏光が照射されることにより確実に異方性が生じる。さらに、直線偏光の照射により重合する重合型の配向膜材料は、一般的に、２７５〜３３０ｎｍ程度の波長を有する直線偏光が照射されることにより異方性が生じ、特に、３１３ｎｍ近辺の波長を有する直線偏光が照射されることにより確実に異方性が生じる。

したがって、本工程［４］では、第１の膜３Ａａ’および第２の膜３Ａｂ’の双方に照射する直線偏光の波長を、第１の膜３Ａａ’および第２の膜３Ａｂ’にそれぞれ含まれる第１の配向膜材料および第２の配向膜材料の双方に異方性が生じる波長が含まれるように設定する。直線偏光の光源としては、上述した波長が含まれるもの選択され、例えば、超高圧水銀ランプ、フラッシュ水銀ランプ、高圧水銀ランプ、ＤｅｅｐＵＶランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプおよびメタルハライドランプ等が挙げられる。

さらに、直線偏光の照射光量は、例えば、１〜１０００００ｍＪ／ｃｍ²程度であるのが好ましく、１０〜３０００ｍＪ／ｃｍ²程度であるのがより好ましい。また、第１の膜３Ａａ’および第２の膜３Ａｂ’の双方に直線偏光を照射している際には、ＣＦ基材１００を加熱するのが好ましい。これにより、第１の配向膜材料および第２の配向膜材料の上述した反応をより促進させることができる。このＣＦ基材１００の加熱の程度は、第１の配向膜材料および第２の配向膜材料によっても若干異なるが、好ましくは２５〜２５０℃程度に設定され、より好ましくは５０〜１５０℃程度に設定される。

以上のようにして、画素部Ｐに対応するＣＦ基材１００上の第１配向領域４０１ａに第１の方向４１０に配向した第１配向膜３Ａａを形成することができ、第２配向領域４０２ａに第２の方向４２０に配向した第２配向膜３Ａｂを形成することができる。その結果、これら第１配向膜３Ａａと第２配向膜３Ａｂとで構成される４分割配向された配向膜３Ａが形成される。

なお、上記では、第１の膜３Ａａ’と第２の膜３Ａｂ’との双方に直線偏光を同時に照射することとしたが、この場合に限らず、第１の膜３Ａａ’に選択的に直線偏光を照射した後、第２の膜３Ａｂ’に選択的に直線偏光を照射してもよいし、第２の膜３Ａｂ’に選択的に直線偏光を照射した後、第１の膜３Ａａ’に選択的に直線偏光を照射してもよい。かかる構成とすれば、上述したように第１の方向４１０と第２の方向４２０とが水平方向と垂直方向とのように９０°ずれている場合に限らず、第１の膜３Ａａ’および第２の膜３Ａｂ’に照射する直線偏光の方向をそれぞれ設定することにより、第１の方向４１０と第２の方向４２０とを所望の角度でずれているものとし得る。

ただし、本実施形態のように、液滴吐出法（特に、インクジェット法）を用いることにより、極めて微細な形状の第１の膜３Ａａ’および第２の膜３Ａｂ’を高い精度で形成することができる。また、本実施形態では、第１の配向膜材料として重合型の配向膜材料を選択した際には、第２の配向膜材料として異性化型または分解型の配向膜材料が選択される場合について説明したが、第１の配向膜材料と第２の配向膜材料との組み合わせは、かかる場合に限定されるものではなく、例えば、第１の配向膜材料として異性化型の配向膜材料を選択した際には、第２の配向膜材料として重合型の配向膜材料が選択される。

そして、ＣＦ基材１００とは別に、上記同様の配向膜形成工程を用いて、画素部Ｐに配向膜４Ａを備えた素子基材１０１を形成する。そして、例えば、ＣＦ基材１００と素子基材１０１を、配向膜３Ａと配向膜４Ａとが対向するように配置する。そして、ＣＦ基材１００と素子基材１０１とを位置合わせしつつ、ＣＦ基材１００の周縁部と素子基材１０１の周縁部とを貼り合わせるとともに、ＣＦ基材１００と素子基材１０１との間に液晶材料を封入して液晶層２を形成する。また、基板９の外側に第１偏光板７Ａを貼り付け、基板１０の外側に第２偏光板８Ａを貼り付けすることにより液晶表示装置１Ａが得られる。

従って、上記の第３実施形態によれば、以下に示す効果がある。

（１）画素部Ｐに対応するＣＦ基材１００上に、マスクを用いることなく、４分割配向された第１配向膜３Ａａと第２配向膜３Ａｂとを形成することができる。

（２）また、第１の配向膜材料と第２の配向膜材料とでは、直線偏光を照射することにより異方性が生じる方向がそれぞれ異なっているので、第１の配向膜材料および第２の配向膜材料の双方に照射する直線偏光の方向を適宜設定することにより、第１の膜３Ａａ’を第１の方向４１０に、第２の膜３Ａｂ’を第１の方向４１０とは異なる第２の方向４２０に配向させることができる。

なお、上記の実施形態に限定されるものではなく、以下のような変形例が挙げられる。

（変形例１）第１実施形態では、ベース基板４００にそれぞれ大きさ（取り付け面積）が異なる３種類の基材１００ａ，１００ｂ，１００ｃを配置したが、これに限定されない。例えば、大きさが等しい１種類の基板１００ａを配置してもよいし、大きさが異なる２種類の基材を配置してもよいし、さらに、大きさがことなる４種類以上の基材を配置してもよい。この場合においても、領域を複数分割し、第１配向領域４０１と第２配向領域４０２に分類することにより、ベース基板４００において、配向方向が異なる第１配向膜３Ａａと第２配向膜３Ａｂを形成することができる。

（変形例２）第２及び第３実施形態では、ＣＦ基材１００、画素部Ｐに対応するＣＦ基材を４分割配向としたが、これに限定されない。例えば、２分割配向であってもよし、さらに、８分割配向、１６分割配向、或いは、それ以上の分割配向としてもよい。このようにしても、第１配向領域４０１と第２配向領域４０２に分類することにより、配向方向が異なる第１配向膜３Ａａと第２配向膜３Ａｂを形成することができる。

（変形例３）第１実施形態における配向膜形成工程では、第１配向領域４０１と第２配向領域４０２に対して、同様の配向膜材料を用い、直線偏光の照射方向を異ならせることにより、第１配向膜３Ａａと第２配向膜３Ａｂを形成したが、これに限定されない。例えば、第２実施形態または第３実施形態における配向膜形成工程を適用してもよい。このようにしても、複数の基材が配置されたベース基板４００において、配向方向が異なる第１配向膜３Ａａと第２配向膜３Ａｂを形成することができる。

（変形例４）第２実施形態における配向膜形成工程では、第１配向領域４０１と第２配向領域４０２に対して、波長の異なる直線偏光の照射によって配向する配向膜材料を用いて、第１配向膜３Ａａと第２配向膜３Ａｂを形成したが、これに限定されない。例えば、第１実施形態または第３実施形態における配向膜形成工程を適用してもよい。このようにしても、ＣＦ基材１００、或いは、素子基材１０１において、配向方向が異なる第１配向膜３Ａａと第２配向膜３Ａｂを形成することができる。

（変形例５）第３実施形態における配向膜形成工程では、第１配向領域４０１と第２配向領域４０２に対して、直線偏光の照射によって異なる方向に配向する配向膜材料を用いて、第１配向膜３Ａａと第２配向膜３Ａｂを形成したが、これに限定されない。例えば、第１実施形態または第３実施形態における配向膜形成工程を適用してもよい。このようにしても、画素部Ｐにおいて、配向方向が異なる第１配向膜３Ａａと第２配向膜３Ａｂを形成することができる。

１Ａ…液晶表示装置、３Ａ，４Ａ…配向膜、３Ａａ’…第１の膜、３Ａｂ’…第２の膜、３Ａａ，４Ａａ…第１配向膜、３Ａｂ，４Ａｂ…第２配向膜、９，１０…基板、３５…液状材料、３５ａ…第１の液状材料、３５ｂ…第２の液状材料、１００…部材としてのＣＦ基材、１００ａ…第１ＣＦ基材、１００ｂ…第２ＣＦ基材、１００ｃ…第３ＣＦ基材、１０１…部材としての素子基材、１０１ａ…第１素子基材、１０１ｂ…第２素子基材、１０１ｃ…第３素子基材、４００…部材としてのベース基板、４０１，４０１ａ，４０１ｂ…第１配向領域、４０２，４０２ａ，４０２ｂ…第２配向領域、４１０…第１の方向、４２０…第２の方向、５００…液滴吐出装置、１１００…電子機器としてのパーソナルコンピューター、Ｐ…部材としての画素部。

Claims

配向膜が形成される部材を複数の領域に分割し、
分割された前記複数の領域を、第１の方向に配向処理する第１配向領域と第２の方向に配向処理する第２配向領域とに分類し、
直線偏光を照射することにより異方性が生じる配向膜材料を含有する液状材料を前記第１配向領域に塗布し乾燥することにより第１の膜を形成し、
前記第１の膜に対して、前記直線偏光を第１照射方向に照射して前記配向膜材料に異方性を持たせて、前記第１の方向に配向処理された第１配向膜を形成し、その後、
前記配向膜材料を含有する液状材料を前記第２配向領域に塗布し乾燥することにより第２の膜を形成し、
前記第２の膜に対して、前記直線偏光を第２照射方向に照射して前記配向膜材料に異方性を持たせて、前記第１の方向とは異なる第２の方向に配向処理された第２配向膜を形成する配向膜形成工程を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
配向膜が形成される部材を複数の領域に分割し、
分割された前記複数の領域を、第１の方向に配向処理する第１配向領域と第２の方向に配向処理する第２配向領域とに分類し、
第１の波長を有する直線偏光を照射することにより異方性が生じる第１の配向膜材料を含有する第１の液状材料を前記第１配向領域に塗布し乾燥することにより第１の膜を形成し、
第２の波長を有する直線偏光を照射することにより異方性が生じる第２の配向膜材料を含有する第２の液状材料を前記第２配向領域に塗布し乾燥することにより第２の膜を形成し、
前記第１の波長を有する直線偏光を前記第１の膜に照射して前記第１の配向膜材料に異方性を持たせて、前記第１の方向に配向処理された第１配向膜を形成し、
前記第２の波長を有する直線偏光を前記第２の膜に照射して前記第２の配向膜材料に異方性を持たせて、第２の方向に配向処理された第２配向膜を形成する配向膜形成工程を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
配向膜が形成される部材を複数の領域に分割し、
分割された前記複数の領域を、第１の方向に配向処理する第１配向領域と第２の方向に配向処理する第２配向領域とに分類し、
直線偏光を照射することにより異方性が第１の方向に生じる第１の配向膜材料を含有する第１の液状材料を前記第１配向領域に塗布し乾燥することにより第１の膜を形成し、
前記直線偏光を照射することにより異方性が第２の方向に生じる第２の配向膜材料を含有する第２の液状材料を前記第２配向領域に塗布し乾燥することにより第２の膜を形成し、
前記直線偏光を前記第１の膜および前記第２の膜の双方に照射して前記第１の配向膜材料および前記第２の配向膜材料にそれぞれ異方性を持たせて、前記第１の方向に配向処理された第１配向膜を形成するとともに、前記第２の方向に配向処理された第２配向膜を形成する配向膜形成工程を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
請求項１〜３のいずれか一項に記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記部材が、複数の基材が配置されたベース基板であることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
請求項１〜３のいずれか一項に記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記部材が、基材であることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
請求項１〜３のいずれか一項に記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記部材が、画素部であることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
請求項１〜６のいずれか一項に記載の液晶表示装置の製造方法を用いて製造されたことを特徴とする液晶表示装置。
請求項７に記載の液晶表示装置を搭載したことを特徴とする電子機器。