CN203849555U - 一种曝光机 - Google Patents
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Abstract
本实用新型实施例公开了一种曝光机，涉及显示技术领域，能够避免感光材料挥发出的物质沉积在平面镜上。该曝光机，包括平面镜以及设置于所述平面镜下方的隔离结构，所述隔离结构上与掩膜板上的图案相应的位置处透光。
Description
技术领域
本实用新型涉及显示技术领域，尤其涉及一种曝光机。
背景技术
在液晶显示器的制作过程中，需要经常使用曝光机对待曝光基板上的感光材料进行曝光，以形成特定结构。
具体地，曝光机的结构如图1所示，其主要包括光源1’、凹面镜2’、平面镜3’、掩膜板4’以及用于支撑掩膜板4’的掩膜台5’。其中，光源1’发射出的发散的光线照射到凹面镜2’上，经凹面镜2’反射后形成平行光，再经平面镜3’反射后形成与掩膜板4’相垂直的平行光，该部分平行光透过掩膜板4’上的图案照射到待曝光基板5’上，使待曝光基板5’上的感光材料6’曝光，进而经过后续的显影、刻蚀等步骤，形成特定结构。
发明人发现，现有技术中，在使用曝光机对待曝光基板5’进行曝光的过程中，待曝光基板5’上的感光材料6’会挥发出一些物质，掩膜板4’未遮盖的区域内的感光材料5’挥发出的物质会沉积在平面镜3’上，造成平面镜3’的污染及老化，影响曝光机的曝光效果。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题在于提供一种曝光机，能够避免感光材料挥发出的物质沉积在平面镜上。
为解决上述技术问题，本实用新型提供了一种曝光机，该曝光机采用如下技术方案：
一种曝光机包括平面镜，还包括：设置于所述平面镜下方的隔离结构，所述隔离结构上与掩膜板上的图案相应的位置处透光。
所述隔离结构与所述掩膜板同层设置，所述隔离结构上设置有开口。
所述隔离结构上除所述开口所在区域外的其他区域不透光。
所述隔离结构位于所述掩膜板上方，所述掩膜板正上方所在区域的所述隔离结构透光，其他区域的所述隔离结构不透光。
透光的所述隔离结构的材质为石英，不透光的所述隔离结构的材质为不锈钢或者亚克力。
所述曝光机还包括冷却结构。
所述冷却结构包括设置于所述曝光机顶部的第一冷却结构单元和设置于所述隔离结构的所述不透光区域上的第二冷却结构单元。
所述曝光机还包括光源和凹面镜，所述光源发射的发散的光线经过所述凹面镜反射形成平行光，再经所述平面镜反射形成与所述隔离结构垂直的平行光。
所述曝光机还包括载物台，所述载物台用于支撑待曝光基板。
所述隔离结构为板状。
本实用新型实施例提供了一种曝光机，该曝光机包括平面镜以及设置于平面镜下方的隔离结构，其中，隔离结构上与掩膜板上的图案相应的位置处透光。在使用曝光机对待曝光基板曝光的过程中，待曝光基板上的感光材料挥发出的物质被隔离结构阻挡，而无法到达平面镜，因此，能够避免感光材料挥发出的物质沉积在平面镜上，避免了平面镜的污染及老化，保证了曝光机的曝光效果。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有技术中的曝光机的示意图；
图2为本实用新型实施例中的曝光机的示意图一；
图3为本实用新型实施例中的曝光机的示意图二。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
本实用新型实施例提供了一种曝光机，该曝光机能够避免感光材料挥发出的物质沉积在平面镜上。下面结合附图对曝光机进行详细的描述。
具体地，如图2和图3所示，该曝光机包括平面镜1以及设置于平面镜1下方的隔离结构2，隔离结构2上与掩膜板3上的图案相应的位置处透光。其中，隔离结构2优选为板状。在使用具有上述结构的曝光机对待曝光基板4曝光的过程中，待曝光基板4上的感光材料41挥发出的物质被隔离结构2阻挡，而无法到达平面镜1，因此，能够避免感光材料41挥发出的物质沉积在平面镜1上，避免了平面镜1的污染及老化，保证了曝光机的曝光效果。
进一步地，根据曝光过程中，掩膜板3与隔离结构2之间的位置关系的不同，本实用新型实施例提供了两种不同的方案，具体如下：
方案一，如图2所示，隔离结构2与掩膜板3同层设置，隔离结构2上设置有开口，掩膜板3位于开口中。方案一中光线不需要透过隔离结构2，光线直接照射到掩膜板3上，使得光线具有较高的利用率。进一步优选地，隔离结构2上除开口所在区域外的其他区域不透光，因此，隔离结构2整个隔离结构2的材质可以为成本较低的不锈钢或者亚克力。在曝光过程中，待曝光基板4位于掩膜板3正下方，也就是开口正下方，当需要对掩膜板3进行清洗或者更换时，需要将掩膜板3取出进行相应的操作，此时，待曝光基板4与平面镜1之间无任何阻挡物，待曝光基板4上的感光材料41挥发出的物质仍会沉积到平面镜1上，造成平面镜1的污染和老化。
方案二，如图3所示，隔离结构2位于掩膜板3上方，掩膜板3正上方所在区域的隔离结构2透光，其他区域的隔离结构2不透光。此时，透光的隔离结构2的材质优选为石英，以使得其具有高的透光性，进而满足待曝光基板4上的感光材料41曝光所需的光强。不透光的隔离结构2的材质优选为成本较低的不锈钢或者亚克力。使用方案二中的曝光机在对待曝光基板4曝光的过程中，将掩膜板3取出进行清洗或者更换时，待曝光基板4与平面镜1之间仍有隔离结构2阻挡，待曝光基板4上的感光材料41挥发出的物质沉积到隔离结构2上，而无法到达平面镜1，从而完全避免了平面镜1被污染的状况。
需要说明的是，本实用新型实施例提供的方案一和方案二仅是两种具有凸出优点的优选的实施例，本实用新型中提供的曝光机在曝光过程中的掩膜板3和隔离结构2的位置关系并不局限于以上所述的方案一和方案二。
进一步地，在曝光过程中，为了维持待曝光基板4的温度稳定，本实用实施例中的曝光机还包括冷却结构5，冷却结构5用于维持曝光机内的温度稳定，以确保待曝光基板4的温度稳定，进而保证显示装置具有较好的性能和品质。进一步地，为了保证更好的冷却效果，本实用新型实施例中的冷却结构5包括设置于曝光机顶部的第一冷却结构单元51和设置于隔离结构2的不透光区域上的第二冷却结构单元52。与现有技术相比，本实用新型实施例增加了距离待曝光基板4较近的第二冷却结构单元52，因此，具有更好的冷却效果。
此外，曝光机还包括光源6和凹面镜7，光源6发射的发散的光线经过凹面镜7反射形成平行光，再经平面镜1反射形成与隔离结构2垂直的平行光，该部分平行光依次透过隔离结构2与掩膜板3，照射到待曝光基板4上，使待曝光基板4上的感光材料41曝光。
进一步地，曝光机还包括载物台8，载物台8用于支撑待曝光基板4。
本实用新型实施例提供了一种曝光机，该曝光机包括平面镜以及设置于平面镜下方的隔离结构，其中，隔离结构上与掩膜板上的图案相应的位置处透光。在使用曝光机对待曝光基板曝光的过程中，待曝光基板上的感光材料挥发出的物质被隔离结构阻挡，而无法到达平面镜，因此，能够避免感光材料挥发出的物质沉积在平面镜上，避免了平面镜的污染及老化，保证了曝光机的曝光效果。
以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
Claims (10)
1.一种曝光机，包括平面镜，其特征在于，还包括：设置于所述平面镜下方的隔离结构，所述隔离结构上与掩膜板上的图案相应的位置处透光。
2.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述隔离结构与所述掩膜板同层设置，所述隔离结构上设置有开口。
3.根据权利要求2所述的曝光机，其特征在于，所述隔离结构上除所述开口所在区域外的其他区域不透光。
4.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述隔离结构位于所述掩膜板上方，所述掩膜板正上方所在区域的所述隔离结构透光，其他区域的所述隔离结构不透光。
5.根据权利要求4所述的曝光机，其特征在于，透光的所述隔离结构的材质为石英，不透光的所述隔离结构的材质为不锈钢或者亚克力。
6.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，还包括冷却结构。
7.根据权利要求6所述的曝光机，其特征在于，所述冷却结构包括设置于所述曝光机顶部的第一冷却结构单元和设置于所述隔离结构的所述不透光区域上的第二冷却结构单元。
8.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，还包括光源和凹面镜，所述光源发射的发散的光线经过所述凹面镜反射形成平行光，再经所述平面镜反射形成与所述隔离结构垂直的平行光。
9.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，还包括载物台，所述载物台用于支撑待曝光基板。
10.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述隔离结构为板状。
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114035406A (zh) * | 2021-10-29 | 2022-02-11 | 南京伯克利新材料科技有限公司 | 一种新型紫外平行光源装置及实现方法 |
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2014
- 2014-05-26 CN CN201420270549.8U patent/CN203849555U/zh not_active Expired - Lifetime
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