CN101541865A - 薄膜及其制造方法 - Google Patents

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CN101541865A CNA2008800006250A CN200880000625A CN101541865A CN 101541865 A CN101541865 A CN 101541865A CN A2008800006250 A CNA2008800006250 A CN A2008800006250A CN 200880000625 A CN200880000625 A CN 200880000625A CN 101541865 A CN101541865 A CN 101541865A
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Abstract

本发明提供一种已实施不会使薄膜断裂的刻痕(knurling)加工的薄膜及其制造方法。本发明中的薄膜的特征在于，利用激光照射，在高分子树脂薄膜的至少任意一面的宽度方向的两端部，实施刻痕加工从而构成。

Description

薄膜及其制造方法
技术领域
本发明涉及一种在宽度方向的两端部实施有刻痕加工(knurling)的薄膜及其制造方法。
背景技术
在偏振板的透明保护薄膜等中使用的塑料薄膜例如利用溶液制膜法制造，之后，被卷绕成辊状从而以薄膜辊(film roll)的形式贮存·输送。
但是，在卷绕薄膜时，会发生卷偏或卷松、粘连(blocking)或被称为操作板(ゲ-ジバンド)(也被称为活塞环(piston ring))的厚度不均引起的外观不良等。为了解决该问题，过去在薄膜的端部实施刻痕加工(为形成微小的凹凸的加工，也称为浮雕(emboss)加工、滚花(roulette)加工等)。
作为所述刻痕加工，例如可以举出在具有凹凸面的一对浮雕辊(emboss roll)间夹入薄膜进行挤压的方法(下述专利文献1、2等)。但是，如果为使用浮雕辊的方法，则在薄膜的厚度较薄(例如20～55μm)的情况下，存在刻痕加工时薄膜断裂的问题。另外，在刻痕加工后使薄膜弯曲的情况下，存在刻痕加工部容易断裂的问题。
专利文献1：日本特开2007-91784号公报
专利文献2：日本特开2002-211803号公报
发明内容
本发明正是鉴于上述问题点而提出的，其目的在于提供一种已实施有不会使薄膜断裂的刻痕加工的薄膜及其制造方法。
本发明人等为了解决所述以往的问题点，对薄膜及其制造方法进行了探讨。结果发现，通过采用下述构成可以实现所述目的，以至完成本发明。
即，本发明中的薄膜是在高分子树脂薄膜的至少任意一面的宽度方向的两端部，利用激光照射实施了刻痕加工。
如果利用所述构成，则本发明通过向高分子树脂薄膜表面照射激光而使该表面局部地热熔融或者进行消融(abrasion)，从而进行刻痕加工。结果，即使对于厚度较薄的薄膜，也可以防止刻痕加工时的薄膜断裂。进而，即使使其弯曲，也不会在已实施刻痕加工的部分发生断裂。这被认为是因为，例如在一对浮雕辊间夹入并进行刻痕加工的情况下，不对高分子树脂薄膜施加不必要的挤压，残留应力不在该高分子树脂薄膜中残留。
另外，在接触已被加热的浮雕辊进行刻痕加工的情况下，存在高分子树脂薄膜表面被浮雕辊切削或者在刻痕加工部分的周边被污染的问题。但是，在本发明中，由于利用激光照射实施刻痕加工，所以还可以抑制高分子树脂薄膜表面的磨耗或污染的发生。
在所述构成中，在将没有实施所述刻痕加工的部分的平均厚度设为T(μm)、将已实施所述刻痕加工的两端部的平均厚度设为Tn(μm)的情况下，优选所述T(μm)在20～70μm的范围内，Tn-T为3～30μm的范围内。通过使已实施刻痕加工的两端部的刻痕高度(Tn-T)处于3～30μm的范围内，可以充分地抑制卷绕薄膜时的卷偏或卷松、粘连、厚度不均引起的外观不良等的发生，同时还可以抑制在两端部的断裂的发生。
在所述构成中，也可以使所述高分子树脂薄膜的抗拉强度为100MPa以下，而且拉伸延伸度为80％以下。即使在具有高分子树脂薄膜的相关物性的情况下，也可以提供已实施不会发生断裂的刻痕加工的薄膜。
在所述构成中，所述高分子树脂薄膜可以为光学薄膜。
进而，所述光学薄膜可以为透明保护薄膜。
另外，所述透明保护薄膜可以为降冰片烯系薄膜或丙烯酸系薄膜。
另外，本发明还可以提供在偏振片的至少一面设置有所述中记载的薄膜的偏振板。
本发明中的薄膜的制造方法的特征在于，在规定条件下，向高分子树脂薄膜的至少任意一面的宽度方向的两端部照射激光来实施刻痕加工。
如果利用所述方法，则由于本发明利用激光照射使高分子树脂薄膜表面局部地热熔融或消融，所以实施不会在其两端部发生断裂的刻痕加工成为可能。另外，即使在使激光照射后的薄膜弯曲的情况下，也可以抑制断裂的发生。
进而，如果为所述方法，则由于不是利用已被加热的浮雕辊而是利用激光照射来实施刻痕加工，所以对高分子树脂薄膜实施不会发生磨耗或污染的刻痕加工成为可能。
另外，由于可以只通过适当地变更激光的照射位置来改变凹凸图案或凹凸的密度，所以与使用浮雕辊的以往的加工相比，容易变更刻痕加工的设计。
在所述方法中，激光照射的输出功率优选在1～20W的范围内，从而不使薄膜贯穿的前提下进行。通过使激光照射的输出功率成为1W以上，可以防止激光照射量不足，从而充分地对高分子树脂薄膜的表面实施刻痕加工。另一方面，通过为20W以下，可以防止在高分子树脂薄膜中产生贯穿孔，同时可以抑制对照射周边部发生热影响，从而防止微细加工宽度扩大等进而不能得到理想的微细图案。
由于本发明通过对高分子树脂薄膜进行激光照射而使其局部地热熔融或进行消融从而进行刻痕加工，所以可以防止刻痕加工时的薄膜断裂或加工后弯曲时的薄膜断裂。这样，可以进一步抑制卷绕薄膜时发生的卷偏等问题，所以可以进一步提高偏振板或具备该偏振板的层叠光学薄膜的制造成品率。
附图说明
图1是模式地表示本实施方式中的薄膜的截面图，同图(a)表示在一面实施刻痕加工的方式，同图(b)表示在两面实施的方式。
图2是模式地表示所述薄膜的部分俯视图，同图(a)表示在离开高分子树脂薄膜的端部的位置设置刻痕加工部的方式，同图(b)表示与高分子树脂薄膜的端部一致的方式。
图中，1-高分子树脂薄膜，10、11-薄膜，12-非加工部，13-刻痕加工部，14-凹部。
具体实施方式
以下参照附图说明本发明的实施方式。图1是模式地表示本实施方式中的薄膜的截面图，同图(a)表示在一面实施刻痕加工的方式，同图(b)表示在两面实施的方式。
如图1(a)所示，本实施方式中的薄膜10是在高分子树脂薄膜1的一面实施刻痕加工从而构成的。另外，如图1(b)所示，也可以为在高分子树脂薄膜1的两面实施了刻痕加工的薄膜11的构成。
在本发明中，即使没有实施刻痕加工的非加工部12的平均厚度T(μm)在20～70μm的范围内，也可以实施没有断裂的刻痕加工。如果非加工部12的厚度不到20μm，则在需要得到该部分的表面平滑性高的薄膜的情况下，其制膜变得困难，同时薄膜的机械强度低下，从而在刻痕加工时或加工后，薄膜变得容易断裂。
另外，在将刻痕加工部13的平均厚度设为Tn(μm)的情况下，刻痕高度(Tn-T(μm))优选为3～30μm的范围内，更优选为3～15μm的范围内，进而优选为3～7μm的范围内。如果(Tn-T(μm))不到3μm，则抑制卷绕薄膜时的卷偏或卷松、厚度不均引起的外观不良等的发生的效果低下。另一方面，如果(Tn-T(μm))超过30μm，则有时变得容易在刻痕加工部13发生断裂。
刻痕加工部13只要在高分子树脂薄膜1中的宽度方向的两端部形成为带状即可，没有特别限定。例如，如图2(a)所示，可以在距离高分子树脂薄膜1的端部的规定距离的位置形成，如图2(b)所示，也可以与高分子树脂薄膜1的端部一致。
另外，刻痕加工部13的宽度W优选相对高分子树脂薄膜1的宽度为1～5％的范围内，更优选为1～2％的范围内。如果不到1％，则由于刻痕加工部13的宽度过窄，而有时会减低卷绕薄膜时发生的卷偏等的防止效果。另外，如果超过5％，则有时发挥光学特性的有效部分变窄，从而制造成本上升。
在俯视利用激光照射进行热熔融或消融从而形成的凹部14的情况下，其平面形状为圆形状。这样，例如即使在向薄膜施加挤压力的情况下，由于应力以各凹部14为中心向周围均等地分散，所以难以发生龟裂。
对刻痕加工部13中的凹凸图案没有特别限定，可以适当地根据需要设定。具体而言，例如可以例示锯齿状、格子状等。另外，凹凸图案可以均匀，也可以使每个区域的凹凸图案不同而成为不均匀。进而，对凹部14的密度没有特别限定，优选为10～1000个/cm2的范围内，更优选为50～200个/cm2的范围内。如果密度不到10个/cm2，有时会减低卷绕薄膜时发生的卷偏等的防止效果。另外，如果超过1000个/cm2，则有时会变得容易在刻痕加工部13发生断裂。
所述刻痕加工部13是利用激光照射加工而成的。作为使用的激光，没有特别限定，例如可以使用ArF激元激光、KrF激元激光、XeCl激元激光、YAG激光的第3高次谐波或第4高次谐波、YLF或YVO4的固体激光的第3高次谐波或第4高次谐波、Ti:S激光、半导体激光、光纤维激光(fiber laser)或二氧化碳激光等。在这些激光中，在本发明中，从利用高输出功率来提高生产率的点出发，优选二氧化碳激光。
激光照射的输出功率优选为1～20W的范围内，更优选为5～15W的范围内。通过使激光照射的输出功率在1W以上，可以防止激光照射量不足，从而可以充分地对高分子树脂薄膜1的表面实施刻痕加工。另一方面，通过为20W以下，可以防止在高分子树脂薄膜1中产生贯穿孔，同时可以抑制对照射周边部发生热影响，从而防止微细加工宽度扩大等进而不能得到理想的微细图案。
在本发明中，由于使用激光进行刻痕加工，所以通过适当地变更激光对高分子树脂薄膜1的照射位置，可以根据需要对凹凸图案进行各种变更。另外，还可以将凹凸图案形成为不规则的间距间隔。由于该点，在变更凹凸图案的情况下，与必需换成不同凹凸图案的辊的浮雕辊相比，可以实现操作性的提高及制造成本的减低。
可以对应凹部14的大小适当地设定激光的聚光直径。因而，通过调节聚光直径来控制凹部14的大小成为可能。聚光直径优选为100～500μm，更优选为200～300μm。如果聚光直径不到100μm，则凹部14的间距间隔变得过大，有时会减低卷绕薄膜时发生的卷偏等的防止效果。另外，如果聚光直径超过500μm，则有时会变得容易在刻痕加工部13发生断裂。
激光的照射次数因其输出功率而不同，通常利用1次照射形成凹部14。因而，刻痕加工边以规定的生产线速度输送高分子树脂薄膜1，边使激光照射位置沿着规定的加工生产线上移动，从而进行刻痕加工。激光的扫描可以使用利用Galvano扫描(scan)或X-Y载物台扫描的方法或者利用掩模成像(mask imaging)方式的方法。
另外，在本发明中，作为利用刻痕加工形成的凹凸图案，还可以打印条形码数据(bar code data)。这样，管理卷筒薄膜成为可能。另外，在使用以往的辊浮雕(roll emboss)的刻痕加工的情况下，如果变更高分子树脂薄膜的生产线速度等，则必需每次变更辊温度、挤压力及辊材质等各种繁杂的设定条件。但是，如果是本发明的利用激光照射的刻痕加工，则即使变更生产线速度等，也可以实施不用那样特别地变更设定条件的刻痕加工。
所述高分子树脂薄膜1的刻痕加工前的抗拉强度为100MPa以下，优选为50～90MPa。进而，高分子树脂薄膜1的刻痕加工前的拉伸延伸度为80％以下，优选为1～30％。
作为高分子树脂薄膜1，可以举出透明保护薄膜等光学薄膜。透明保护薄膜被层叠于偏振片的至少一面从而作为偏振板使用。作为构成透明保护薄膜的材料，例如可以使用在透明性、机械强度、热稳定性、水分屏蔽性、各向同性等各方面具有良好性质的热塑性树脂。作为这样的热塑性树脂的具体例，可以举例为三乙酰纤维素等纤维素树脂、聚酯树脂、聚醚砜树脂、聚砜树脂、聚碳酸酯树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、聚烯烃树脂、(甲基)丙烯酸树脂、环状聚烯烃树脂(降冰片烯系树脂)、聚芳基化物树脂、聚苯乙烯树脂、聚乙烯醇树脂、以及它们的混合物。此外，可以利用粘接剂层，在偏振片的一侧贴合透明保护薄膜，而在另一侧，作为透明保护薄膜，使用(甲基)丙烯酸系、聚氨酯系、丙烯酸聚氨酯系、环氧系、硅酮系等热固化树脂或紫外线固化型树脂。可以在透明保护薄膜中含有1种以上任意的适当的添加剂。作为添加剂，例如可以举出紫外线吸收剂、抗氧剂、润滑剂、增塑剂、脱模剂、着色防止剂、阻燃剂、核剂、防静电剂、颜料、着色剂等。透明保护薄膜中的所述热塑性树脂的含量优选为50～100重量％，更优选为50～99重量％，进而优选为60～98重量％，特别优选为70～97重量％。在透明保护薄膜中的所述热塑性树脂的含量为50重量％以下的情况下，有可能不能充分地显现热塑性树脂本来具有的高透明性等。
另外，作为透明保护薄膜，可以举出在特开2001-343529号公报(WO01/37007)中记载的聚合物膜，例如含有(A)在侧链上具有取代和/或未取代酰亚胺基的热塑性树脂、以及(B)在侧链上具有取代和/或未取代苯基以及腈基的热塑性树脂的树脂组合物。作为具体的例子，可以举出含有由异丁烯与N-甲基马来酸酐缩亚胺构成的交替共聚物、以及丙烯腈·苯乙烯共聚物的树脂组合物的薄膜。作为薄膜可以使用由树脂组合物的混合挤压制品等构成的膜。这些薄膜的相位差小，光弹性模量小，所以可以消除偏振板的变形引起的不均等不良情形，另外，还由于透湿率小，所以加湿耐久性出色。
透明保护薄膜的厚度可以适当确定，但是从强度或处理性等操作性、薄层性等观点来看，一般为约1～500μm左右。特别优选为1～300μm，更优选为5～200μm。透明保护薄膜为5～150μm的情况尤其适合。
此外，当在偏振片的两侧设置透明保护薄膜时，既可以在其正反面使用由相同聚合物材料组成的保护膜，也可以使用由不同的聚合物材料等组成的保护膜。
作为本发明的透明保护薄膜，优选使用从纤维素树脂、聚碳酸酯树脂、环状聚烯烃树脂及(甲基)丙烯酸树脂中选择的至少任意一种。
纤维素树脂为纤维素与脂肪酸的酯。作为这样的纤维素酯系树脂的具体例，可以举出三乙酰纤维素、二乙酰基纤维素、三丙酰基纤维素、二丙酰基纤维素等。其中，特别优选三乙酰纤维素。有很多三乙酰纤维素的制品出售，所以从获得容易性或成本的点出发，也是有利的。作为三乙酰纤维素的市售品的例子，可以举出富士胶片公司制的商品名“UV-50”、“UV-80”、“SH-80”、“TD-80U”、“TD-TAC”、“UZ-TAC”或柯尼卡公司制的“KC系列”等。这些三乙酰纤维素的面内相位差(Re)通常大致为零，而厚度方向相位差(Rth)具有～60nm左右。
此外，厚度方向相位差小的纤维素树脂薄膜例如可以通过处理所述纤维素树脂来得到。例如可以举出将涂敷有环戊酮、甲基乙基甲酮等溶剂的聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、苯乙烯等基材薄膜贴合于普通的纤维素系薄膜上，加热干燥(例如80～150℃下3～10分钟左右)，然后剥离基材薄膜的方法；将(甲基)丙烯酸系树脂等溶解于环戊酮、甲基乙基甲酮等溶剂而成的溶液涂敷于普通的纤维素树脂薄膜上，加热干燥(例如80～150℃下3～10分钟左右)，然后剥离涂敷薄膜的方法等。
另外，作为厚度方向相位差小的纤维素树脂薄膜，可以使用控制了脂肪取代度的脂肪酸纤维素系树脂薄膜。通常使用的三乙酰纤维素的乙酸取代度为2.8左右，但优选可以通过将乙酸取代度控制为1.8～2.7，来减小Rth。可以通过在所述脂肪酸取代纤维素系树脂中添加邻苯二甲酸二丁酯、对甲苯磺酸酰替苯胺、乙酰三乙基柠檬酸酯等增塑剂来将Rth控制成较小的值。相对100重量份，增塑剂的添加量优选为40重量份以下，更优选为1～20重量份，进而优选为1～15重量份。
作为环状聚烯烃树脂的具体例，优选为降冰片烯系树脂。环状聚烯烃系树脂是将环状烯烃作为聚合单元使其聚合而成的树脂的总称，例如可以举出在特开平1-240517号公报、特开平3-14882号公报、特开平3-122137号公报等中记载的树脂。作为具体例，可以举出环状烯烃的开环(共)聚合物，环状烯烃的加聚物，环状烯烃与乙烯、丙烯等α-烯烃的共聚物(代表性的为无规共聚物)，以及用不饱和羧酸或其衍生物对它们进行改性而成的接枝共聚物，及它们的氢化物等。作为环状烯烃的具体例，可以举出降冰片烯系单体。
作为环状聚烯烃树脂，有各种制品出售。作为具体例，可以举出日本Zeon株式会社制的商品名“Zeonex”、“Zeonor”、JSR株式会社制的商品名“Arton”、TICONA公司制的商品名“Topas”、三井化学株式会社制的商品名“APEL”。
作为(甲基)丙烯酸树脂，可以举出具有下述通式(1)表示的不饱和羧酸烷基酯的结构单元及通式(2)表示的戊二酸酐的结构单元的(甲基)丙烯酸树脂。
[化1]
Figure A20088000062500121
通式(1)中，R1表示氢原子或碳原子数1～5的烷基。R2表示氢原子或碳原子数1～6的脂肪族或脂环式烃基。
[化2]
通式(2)中，R3、R4表示相同或不同的氢原子或碳原子数1～5的烷基。
作为所述丙烯酸树脂，可以举出在特开2004-70290号公报、特开2004-70296号公报、特开2004-163924号公报、特开2004-292812号公报、特开2005-314534号公报、特开2006-131898号公报、特开2006-206881号公报、特开2006-265532号公报、特开2006-283013号公报、特开2006-299005号公报、特开2006-335902号公报等中记载的丙烯酸树脂。
所述丙烯酸树脂中的由通式(1)表示的结构单元的含有比例优选为50～95摩尔％，更优选为55～90摩尔％，进而优选为60～85摩尔％，特别优选为65～80摩尔％，最优选为65～75摩尔％。如果所述含有比例少于50摩尔％，则有可能不能充分地发挥源于通式(1)表示的结构单元而显现的效果例如高耐热性、高透明性。如果所述含有比例多于95摩尔％，则有可能树脂变脆而变得容易破裂，从而不能充分地发挥高机械强度，生产率差。
所述丙烯酸树脂中的由通式(2)表示的结构单元的含有比例优选为5～50摩尔％，更优选为10～45摩尔％，进而优选为15～40摩尔％，特别优选为20～35摩尔％，最优选为25～35摩尔％。如果所述含有比例少于5摩尔％，则有可能不能充分地发挥源于通式(2)表示的结构单元而显现的效果例如高光学特性、高机械强度、与偏振片的出色的粘接性、薄型化。如果所述含有比例多于50摩尔％，则有可能例如不能充分地发挥高耐热性、高透明性。
所述丙烯酸树脂中的由通式(2)表示的结构单元优选被包含在下述通式(3)表示的结构单元中。
[化3]
Figure A20088000062500131
通式(3)中，R3、R4表示相同或不同的氢原子或碳原子数1～5的烷基。
在通式(2)及(3)中，R3、R4优选为氢原子或甲基，更优选双方均为甲基。
基本上可以利用以下所示的方法制造具有由通式(1)表示的不饱和羧酸烷基酯的结构单元及由(2)表示的戊二酸酐的结构单元的丙烯酸树脂。
即，所述丙烯酸树脂可以通过如下所述得到，即：共聚合对应由通式(1)表示的结构单元的不饱和羧酸烷基酯单体和不饱和羧酸单体，得到共聚物(a)，然后加热该共聚物(a)，进行该共聚物(a)中的不饱和羧酸烷基酯单体的结构单元与不饱和羧酸单体的结构单元的分子内环化反应，从而向共聚物中导入由通式(2)表示的戊二酸酐的结构单元。
作为不饱和羧酸烷基酯，例如可以举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸氯甲基酯、(甲基)丙烯酸2-氯乙基酯、(甲基)丙烯酸2-羟乙酯、(甲基)丙烯酸3-羟丙酯、(甲基)丙烯酸2，3，4，5，6-五羟基己基酯以及(甲基)丙烯酸2，3，4，5-四羟基戊基酯等。它们可以只使用1种，也可以并用2种以上。其中，从热稳定性的点出发，更优选(甲基)丙烯酸甲酯，特别优选为甲基丙烯酸甲酯。即，在通式(1)中，特别优选R1为甲基，R2为甲基。
作为不饱和羧酸单体，例如可以举出丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、α-取代丙烯酸、α-取代甲基丙烯酸等，它们可以只使用1种，也可以并用2种以上。其中，从充分地发挥本发明的效果的点出发，优选丙烯酸、甲基丙烯酸。
作为分子内环化反应，可以优选举出利用脱醇反应及/或脱水的分子内环化反应。作为与加热一起进行分子内环化反应的方法，没有特别限制，优选通过具有曲轴(bent)的已加热的挤压机来制造的方法或在氮气流中或真空下能够进行热力除气的装置内装置的方法。
此外，在制造共聚物(a)时，单体的配合比例在将配合的单体的总和设为100重量％时，不饱和羧酸单体优选为15～45重量％，更优选为20～40重量％。另外，不饱和羧酸烷基酯单体优选为55～85重量％，更优选为60～80重量％。通过使不饱和羧酸单体的含量在15～45重量％，在加热共聚物(a)时，由所述通式(3)表示的戊二酸酐单元的含量成为20～40重量％的优选范围，获得耐热性、无色透明性、滞留稳定性出色的丙烯酸树脂成为可能。
也可以在所述丙烯酸树脂中含有由通式(1)表示的结构单元及由通式(2)表示的结构单元以外的其他结构单元。
可以在所述丙烯酸树脂中含有例如0～10重量％不参与所述分子内环化反应的来源于不饱和羧酸单体的结构单元。来源于不饱和羧酸的结构单元的比例更优选为0～5重量％，进而优选为0～1重量％。通过使所述丙烯酸树脂中的来源于不饱和羧酸单体的结构单元为10重量％以下，可以维持无色透明性、滞留稳定性、耐湿性。
另外，本发明的丙烯酸树脂还可以含有所述以外的可共聚合的其他乙烯系单体单元。作为其他乙烯系单体，例如可以举出丙烯腈、甲基丙烯腈、乙基丙烯腈(ethacrylonitrile)、烯丙基缩水甘油醚、马来酐、衣康酸酐、N-甲基马来酸酐缩亚胺、N-乙基马来酸酐缩亚胺、N-环己基马来酸酐缩亚胺、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、N-甲基丙烯酰胺、丁氧基甲基丙烯酰胺、N-丙基甲基丙烯酰胺、丙烯酸氨基乙基酯、甲基丙烯酸二甲胺基乙基酯、甲基丙烯酸乙基氨基丙基酯、甲基丙烯酸环己基氨基乙基酯、N-乙烯基二乙胺、N-乙酰基乙烯基胺、烯丙胺、甲基烯丙胺、N-乙基烯丙胺、2-异丙烯基噁唑啉、2-乙烯基-噁唑啉、2-丙烯酰基-噁唑啉、N-苯基马来酸酐缩亚胺、甲基丙烯酸苯基氨基乙基酯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、对缩水甘油基苯乙烯、对氨基苯乙烯、2-苯乙烯基-噁唑啉等。它们可以只使用1种，也可以并用2种以上。
在所述其他乙烯系单体中，苯乙烯、α-甲基苯乙烯等苯乙烯系结构单元的含有比例优选为0～1重量％，更优选为0～0.1重量％。通过使苯乙烯系结构单元的含有浓度为0～1重量％，可以防止相位差的恶化及透明性的低下、
所述丙烯酸树脂的重均分子量优选为1000～2000000，更优选为5000～1000000，进而优选为10000～500000，特别优选为50000～500000，最优选为60000～150000。如果重均分子量在所述范围之外，则可能会不能充分地发挥本发明的效果。
所述丙烯酸树脂的Tg(玻璃化温度)优选为110℃以上，更优选为115℃以上，进而优选为120℃以上，特别优选为125℃以上，最优选为130℃以上。通过使Tg为110℃以上，例如在最终组装到偏振板的情况下，变得容易使耐久性出色。对所述丙烯酸树脂的Tg的上限值没有特别限定，而从成形性等点出发，优选为300℃以下，更优选为290℃以下，进而优选为285℃以下，特别优选为200℃以下，最优选为160℃以下。
所述丙烯酸树脂利用注射模塑成形得到的塑制品的利用基于ASTM-D-1003的方法测定的全光线透过率越高越好，优选为85％以上，更优选为88％以上，进而优选为90％以上。如果全光线透过率不到85％，则透明性低下，可能会不能用于本来的目的用途。
本发明的透明保护薄膜中的所述丙烯酸树脂的含量优选为50～100重量％，更优选为60～100重量％，进而优选为70～100重量％，特别优选为80～100重量％。在本发明的透明保护薄膜中的所述丙烯酸树脂的含量不到50重量％的情况下，可能会不能充分地反映所述丙烯酸树脂本来具有的高耐热性、高透明性。
在本发明的透明保护薄膜中，除了所述丙烯酸树脂以外，例如也可以含有丙烯酸弹性体粒子。通过在透明保护薄膜中分散丙烯酸弹性体粒子，可以得到作为透明保护薄膜的出色的韧性。
丙烯酸弹性体粒子优选含有树胶质聚合物。在树胶质聚合物中，作为原料单体，以丙烯酸乙酯或丙烯酸丁酯等丙烯酸成分作为必须成分，作为其他优选含有的成分，可以举出二甲基硅氧烷或苯基甲基硅氧烷等硅酮成分、苯乙烯或α-甲基苯乙烯等苯乙烯成分、丙烯腈或甲基丙烯腈等腈成分、丁二烯或异戊间二烯等共轭二烯成分、聚氨脂成分、乙烯成分、丙烯成分、异丁烯成分等。其中，优选含有从丙烯酸成分、硅酮成分、苯乙烯成分、腈成分、共轭二烯成分中选择的至少一种。树胶质聚合物可以含有原料单体(优选所述各成分)的自聚体，也可以含有2种以上的原料单体的共聚物，也可以含有二者。更优选组合2种以上所述成分而成的树胶质聚合物，例如可以举出内含丙烯酸成分及硅酮成分的树胶质聚合物、内含丙烯酸成分及苯乙烯成分的树胶质聚合物、内含丙烯酸成分及共轭二烯成分树胶质聚合物、内含丙烯酸成分和硅酮成分及苯乙烯成分的树胶质聚合物等。
优选除了所述成分以外，树胶质聚合物还含有二乙烯基苯、丙烯酸烯丙基酯、丁二醇二丙烯酸酯等交联性成分。
作为树胶质聚合物，优选含有具有丙烯酸烷基酯单元与芳香族乙烯系单元的组合的聚合物。丙烯酸烷基酯单元中的丙烯酸丁酯在提高韧性方面极为有效，可以通过与其共聚合芳香族乙烯系单体例如苯乙烯来调节丙烯酸弹性体粒子。
丙烯酸弹性体粒子与丙烯酸树脂的折射率差优选为0.01以下。这是因为，可以在本发明的透明保护薄膜中得到较高的透明性。这样，作为用于使丙烯酸弹性体粒子与丙烯酸树脂的折射率差成为0.01以下的方法，可以采用任意适当的方法。例如可以举出调整构成丙烯酸树脂的各单体单元的组成比的方法、调整丙烯酸弹性体粒子中含有的树胶质聚合物或单体的组成比的方法等。尤其可以通过与丙烯酸丁酯等丙烯酸烷基酯共聚合苯乙烯等芳香族乙烯系单元，并调整其共聚合比率，来获得与丙烯酸树脂的折射率差较小的丙烯酸弹性体粒子。
作为丙烯酸弹性体粒子的平均粒径，优选为70～300nm，更优选为100～200nm。在不到70nm的情况下，韧性的改良效果可能会不充分，在大于300nm的情况下，耐热性可能会低下。
作为本发明的透明保护薄膜中的丙烯酸弹性体粒子的含量，为40重量％，优选为7～40重量％，更优选为12重量％～20重量％。在不到7重量％的情况下，韧性的改良效果可能会不充分，在超过40重量％的情况下，耐热性可能会低下。
另外，在本发明的透明保护薄膜中，作为可以与所述丙烯酸树脂并用的树脂，可以举出聚乙烯、聚丙烯、聚酰胺、聚苯硫醚、聚醚醚酮、聚酯、聚砜、聚苯醚、聚缩醛、聚酰亚胺、聚醚酰亚胺等其他热塑性树脂，苯酚系树脂、三聚氰胺系树脂、聚酯系树脂、硅酮系树脂、环氧系树脂等热固性树脂。可以在不破坏本发明的目的的范围内配合它们。
此外，也可以含有位阻酚系、苯并三唑系、二苯甲酮系、苯甲酸酯系、氰基丙烯酸脂系等紫外线吸收剂或抗氧剂，高级脂肪酸、酸酯系、酰胺系、高级醇等润滑剂或增塑剂，褐煤酸、其盐、其酯、其半酯(half ester)、硬脂醇、硬脂酰胺及乙烯蜡等脱模剂，亚磷酸盐、次磷酸盐等着色防止剂，卤素系或者磷系或硅酮系的非卤素系的阻燃剂，核剂，胺系、磺酸系、聚醚系等防静电剂，颜料等着色剂，等添加剂。其中，优选对照适用的用途所要求的特性，在本发明的透明保护薄膜的透明性不降低的范围内添加。这些添加剂优选作为相对本发明的透明保护薄膜的总含量为10重量％以下。
此外，在用于形成所述丙烯酸树脂的原料中配合所述丙烯酸弹性体粒子、其他树脂、所述添加剂，可以在制造丙烯酸树脂时配合，也可以在制造丙烯酸树脂之后配合。
所述透明保护薄膜通常使用的是正面相位差不到40nm而且厚度方向相位差不到80nm。正面相位差Re用Re＝(nx-ny)×d表示。厚度方向相位差Rth用Rth＝(nx-nz)×d表示。另外，Nz系数用Nz＝(nx-nz)/(nx-ny)表示。[其中，薄膜的滞相轴方向、进向轴方向以及厚度方向的折射率分别为nx、ny、nz，d(nm)为薄膜的厚度。滞相轴方向成为薄膜面内的折射率成为最大的方向。]。此外，透明保护薄膜最好不要着色。优选使用厚度方向的相位差值为-90nm～+75nm的保护薄膜。通过使用该厚度方向的相位差值(Rth)为-90nm～+75nm的保护薄膜，可以大致消除由透明保护薄膜引起的偏振板的着色(光学着色)。厚度方向相位差值(Rth)进一步优选为-80nm～+60nm，特别优选为-70nm～+45nm。
另一方面，作为所述透明保护薄膜，可以使用具有正面相位差为40nm以上及/或厚度方向相位差为80nm以上的相位差的相位差板。正面相位差通常被控制在40～200nm的范围，厚度方向相位差通常被控制在80～300nm的范围。在使用相位差板作为透明保护薄膜的情况下，由于该相位差板还起到作为透明保护薄膜的功能，所以可以实现薄型化。
作为相位差板，可以举出单向或双向拉伸处理高分子材料而成的双折射性薄膜、液晶聚合物的取向膜、利用薄膜支撑液晶聚合物的取向层而成的相位差板等。对相位差板的厚度没有特别限制，通常为20～150μm左右。
作为高分子材料，例如可以举出聚乙烯醇、聚乙烯醇缩丁醛、聚甲基乙烯醚、聚羟乙基丙烯酸酯、羟乙基纤维素、羟丙基纤维素、甲基纤维素、聚碳酸酯、多芳基化合物、聚砜、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚醚砜、聚苯硫醚、聚苯醚、聚烯丙基砜、聚酰胺、聚酰亚胺、聚烯烃、聚氯乙稀、纤维素树脂、环状聚烯烃树脂(降冰片烯系树脂)或它们的二元系、三元系各种共聚物、接枝共聚物、混合物等。这些高分子材料利用拉伸等而成为取向物(拉伸薄膜)。
作为液晶聚合物，例如可以举出在聚合物的主链或侧链上导入了赋予液晶取向性的共轭性的直线状原子团(mesogene)的主链型或侧链型的各种聚合物等。作为主链型液晶聚合物的具体例，可以举出具有在赋予弯曲性的间隔部上结合了直线状原子团基的构造的聚合物，例如向列取向性的聚酯系液晶性聚合物、圆盘状聚合物或胆甾醇型聚合物等。作为侧链型液晶聚合物的具体例，可以举出如下的化合物等，即，以聚硅氧烷、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯或聚丙二酸酯为主链骨架，作为侧链隔着由共轭性的原子团构成的间隔部而具有由赋予向列取向性的对位取代环状化合物单元构成的直线原子团部的化合物等。这些液晶聚合物例如是通过在已对形成于玻璃板上的聚酰亚胺或聚乙烯醇等薄膜的表面进行摩擦处理后的材料、斜向蒸镀了氧化硅的材料等的取向处理面上，铺展液晶性聚合物的溶液并热处理来进行的。
相位差板可以为例如以补偿各种波阻片或液晶层的双折射引起的着色或视角等为目的等而具有对应使用目的的适当的相位差的相位差板，也可以为层叠2种以上相位差板来控制相位差等光学特性的相位差板等。
相位差板满足nx＝ny＞nz、nx＞ny＞nz、nx＞ny＝nz、nx＞nz＞ny、nz＝nx＞ny、nz＞nx＞ny、nz＞nx＝ny的关系，可以对应各种用途选择使用。其中，ny＝nz不只包括ny与nz完全相同的情况，还包括ny与nz实际上相同的情况。
例如，在满足nx＞ny＞nz的相位差板中，优选使用正面相位差满足40～100nm、厚度方向相位差满足100～320nm、Nz系数满足1.8～4.5的相位差板。例如，在满足nx＞ny＝nz的相位差板(正型A板)中，优选使用正面相位差满足100～200nm的相位差板。例如，在满足nz＝nx＞ny的相位差板(负型A板)中，优选使用正面相位差满足100～200nm的相位差板。例如，满足nx＞nz＞ny的相位差板中，优选使用正面相位差满足150～300nm、Nz系数满足超过0～0.7的相位差板。另外，如上所述，例如可以使用满足nx＝ny＞nz、nz＞nx＞ny或nz＞nx＝ny的相位差板。
透明保护薄膜可以对应适用的液晶显示装置适当地选择。例如，VA(垂直取向(Vertical Alignment)，包括MVA、PVA)的情况下，优选偏振板的至少一方(单元侧)的透明保护薄膜具有相位差。作为具体的相位差，优选在Re＝0～240nm、Rth＝0～500nm的范围。如果用三维折射率描述，则优选nx＞ny＝nz、nx＞ny＞nz、nx＞nz＞ny、nx＝ny＞nz(正型A板，双向，负型C板)的情况。在VA型中，优选正型A板与负型C板的组合、或使用1张双向薄膜。在液晶单元的上下使用偏振板时，可以与液晶单元的上下一起具有相位差，或者也可以是上下任意一个透明保护薄膜具有相位差。
例如IPS(平面控制(In-Plane Switching)，包括FFS)的情况下，可以使用偏振板的一方透明保护薄膜具有相位差的情况，也可以使用没有相位差的情况。例如，在没有相位差的情况下，优选在液晶单元的上下(单元侧)均不具有相位差的情况。在具有相位差的情况下，优选在液晶单元的上下均具有相位差的情况、上下的任意一个具有相位差的情况(例如，上侧为满足nx＞nz＞ny的关系的双向薄膜、下侧为没有相位差的情况，或者上侧为正型A板、下侧为正型C板的情况)。具有相位差的情况下，优选在Re＝-500～500nm、Rth＝-500～500nm的范围。如果用三维折射率描述，则优选nx＞ny＝nz、nx＞nz＞ny、nz＞nx＝ny、nz＞nx＞ny(正型A板，双向，正型C板)。
此外，可以另外在没有相位差的透明保护薄膜上贴合所述具有相位差的薄膜，从而付与所述功能。
所述透明保护薄膜在涂敷粘接剂之前，也可以进行表面改性处理。作为具体的处理，可以举出电晕(corona)处理、等离子(plasma)处理、引发(primer)处理、皂化处理等。
在上述透明保护薄膜的没有粘接偏振片的表面上，可以进行硬涂层或防反射处理、防粘连处理、以扩散或防眩为目的的处理。
实施硬涂层处理的目的是防止偏振板的表面损坏等，例如可以通过在透明保护薄膜的表面上附加由丙烯酸系、硅酮系等适当的紫外线固化型树脂构成的硬度、滑动特性等良好的固化被膜的方式等形成。实施防反射处理的目的是防止外光在偏振板表面的反射，可以通过形成基于以往的防反射膜等来完成。此外，实施防粘连处理的目的是防止与相邻层(例如背光灯侧的扩散板)的粘附。
另外，实施防眩处理的目的是防止外光在偏振板表面反射而干扰偏振板透射光的辨识等，例如，可以通过采用喷砂方式或压纹加工方式的粗表面化方式以及配合透明微粒的方式等适当的方式，向透明保护薄膜表面赋予微细凹凸结构来形成。作为在上述表面微细凹凸结构的形成中含有的微粒，例如，可以使用平均粒径为0.5～20μm的由氧化硅、氧化铝、氧化钛、氧化锆、氧化锡、氧化铟、氧化镉、氧化锑等组成的往往具有导电性的无机系微粒、由交联或者未交联的聚合物等组成的有机系微粒等透明微粒。当形成表面微细凹凸结构时，微粒的使用量相对于形成表面微细凹凸结构的透明树脂100重量份，通常为2～70重量份左右，优选为5～50重量份。防眩层也可以兼当用于将偏振板透射光扩散而扩大视角等的扩散层(视角扩大功能等)。
还有，上述防反射层、防粘连层、扩散层或防眩层等除了可以设置成透明保护薄膜自身以外，还可以作为其他的光学层与透明保护薄膜分开设置。
在所述偏振片和透明保护薄膜的粘接处理中，可以使用粘接剂。作为粘接剂，可以例示异氰酸酯系粘接剂、聚乙烯醇系粘接剂、明胶系粘接剂、乙烯基系胶乳系、水系聚酯等。所述粘接剂通常被用作由水溶液构成的粘接剂，通常内含0.5～60重量％的固体成分而成。此外，作为偏振片与透明保护薄膜的粘接剂，可以举出紫外线固化型粘接剂、电子射线固化型粘接剂等。电子射线固化型偏振板用粘接剂对所述各种透明保护薄膜示出优选的粘接性。尤其对难以满足粘接性的丙烯酸树脂示出优选的粘接性。
本发明的偏振板通过使用所述粘接剂贴合所述透明保护薄膜与偏振片来制造。粘接剂的涂敷可以在透明保护薄膜、偏振片的任意一个上进行，也可以在两者上进行。在贴合之后，实施干燥工序，形成由涂布干燥层构成的粘接层。偏振片与透明保护薄膜的贴合可以利用辊层压机(rolllaminator)等进行。对粘接层的厚度没有特别限制，通常为30～1000nm左右。
本发明的偏振板在实际使用时可以作为与其他光学层层叠的层叠光学薄膜使用。对该光学层，没有特别限定，例如可以使用1层或2层以上反射板或半透过板、相位差板(包括1/2或1/4等波阻片)、视角补偿薄膜等在液晶显示装置等的形成中可以使用的光学层。特别优选的偏振板是在本发明的偏振板上进一步层叠反射板或半透过反射板而成的反射型偏振板或半透过型偏振板；在偏振板上进一步层叠相位差板而成的椭圆偏振板或圆偏振板；在偏振板上进一步层叠视角补偿薄膜而成的宽视野角偏振板；或者在偏振板上进一步层叠亮度改善薄膜而形成的偏振板。
反射型偏振板是在偏振板上设置反射层而成的，可用于形成反射从辨识侧(显示侧)入射的入射光来进行显示的类型的液晶显示装置等，并且可以省略内置的背光灯等光源，从而具有易于使液晶显示装置薄型化等优点。当形成反射型偏振板时，可以通过根据需要并借助透明保护层等在偏振板的一面附设由金属等构成的反射层的方式等适当的方式而进行。
还有，在所述中，半透过型偏振板可以通过作成用反射层来反射光的同时使光透过的半透半反镜等半透过型的反射层而获得。半透过型偏振板通常被设于液晶单元的背面侧，可以形成如下类型的液晶显示装置等，即，在比较明亮的环境中使用液晶显示装置等的情况下，反射来自于辨识侧(显示侧)的入射光而显示图像，在比较暗的环境中，使用内置于半透过型偏振板的背面(backside)的背光灯等内置光源来显示图像。
下面对偏振板上进一步层叠相位差板而构成的椭圆偏振板或圆偏振板进行说明。在将直线偏振光改变为椭圆偏振光或圆偏振光，或者将椭圆偏振光或圆偏振光改变为直线偏振光，或者改变直线偏振光的偏振方向的情况下，可以使用相位差板等。特别是，作为将直线偏振光改变为圆偏振光或将圆偏振光改变为直线偏振光的相位差板，可以使用所谓的1/4波阻片(也称为λ/4片)。1/2波阻片(也称为λ/2片)通常用于改变直线偏振光的偏振方向的情况。
椭圆偏振板可以有效地用于以下情况等，即补偿(防止)超扭曲向列相(STN)型液晶显示装置因液晶层的双折射而产生的着色(蓝或黄)，从而进行所述没有着色的白黑显示的情况等。另外，控制三维折射率的偏振板还可以补偿(防止)从斜向观察液晶显示装置的画面时产生的着色，因而优选。圆偏振板可以有效地用于例如对以彩色显示图像的反射型液晶显示装置的图像的色调进行调整的情况等，而且还具有防止反射的功能。作为所述相位差板的具体例，可以举出拉伸处理由聚碳酸酯、聚乙烯醇、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯或其他聚烯烃、多芳基化合物、聚酰胺之类的适当的聚合物构成的薄膜而成的双折射性薄膜或液晶聚合物的取向薄膜，用薄膜支撑液晶聚合物的取向层而成的相位差板等。相位差板可以是例如各种波阻片或用于补偿由液晶层的双折射造成的着色或视角等的材料等具有对应于使用目的的适当的相位差的材料，也可以是层叠2种以上的相位差板而控制了相位差等光学特性的材料。
另外，所述椭圆偏振板或反射型椭圆偏振板，是通过适当地组合并层叠偏振板或反射型偏振板和相位差板而成的。这类椭圆偏振板等也可以通过在液晶显示装置的制造过程中依次独立层叠(反射型)偏振板及相位差板来形成，以构成(反射型)偏振板及相位差板的组合，而如上所述，在预先形成为椭圆偏振板等层叠光学薄膜的情况下，由于在质量的稳定性或层叠操作性等方面出色，因此具有可以提高液晶显示装置等的制造效率的优点。
视角补偿薄膜是从不垂直于画面的稍微倾斜的方向观察液晶显示画面的情况下也使图像看起来比较清晰的、用于扩大视野角的薄膜。作为此种视角补偿相位差板，例如由相位差薄膜、液晶聚合物等的取向薄膜或透明基材上支撑了液晶聚合物等取向层的材料等构成。通常的相位差板使用沿其面方向被实施了单向拉伸且具有双折射的聚合物薄膜，与此相对，在被用作视角补偿薄膜的相位差板上，可以使用沿其面方向被实施了双向拉伸且具有双折射的聚合物薄膜、沿其面方向被单向拉伸且沿其厚度方向也被拉伸并可控制厚度方向的折射率的具有双折射的聚合物或像倾斜取向膜那样的双向拉伸薄膜等。作为倾斜取向膜，例如可以举出在聚合物薄膜上粘接热收缩膜后在因加热形成的收缩力的作用下，对聚合物薄膜进行了拉伸处理或/和收缩处理的材料、使液晶聚合物倾斜取向的材料等。作为相位差板的原材料聚合物，可使用与上述的相位差板中说明的聚合物相同的聚合物，可以使用以防止辨识角变化所导致的着色等或扩大辨识度良好的视野角等为目的的适宜的聚合物，所述辨识角变化基于液晶单元所造成的相位差。
另外，从实现辨识度良好的宽视角的观点等出发，可以优选使用用三乙酰纤维素薄膜对由液晶聚合物的取向层、特别是圆盘状液晶聚合物的倾斜取向层构成的光学各向异性层进行支撑的光学补偿相位差板。
将偏振板和亮度改善薄膜贴合在一起而成的偏振板，通常被设于液晶单元的背面一侧来使用。亮度改善薄膜是显示如下特性的薄膜，即，当因液晶显示装置等的背光灯或来自背面侧的反射等，有自然光入射时，反射规定偏光轴的直线偏振光或规定方向的圆偏振光，而使其他光透过，因此将亮度改善薄膜与偏振板层叠而成的偏振板可使来自背光灯等光源的光入射，而获得规定偏振光状态的透过光，同时，所述规定偏振光状态以外的光不能透过，被予以反射。借助设于其后侧的反射层等再次反转在该亮度改善薄膜面上反射的光，使之再次入射到亮度改善薄膜上，使其一部分或全部作为规定偏振光状态的光透过，从而增加透过亮度改善薄膜的光，同时向偏振片提供难以吸收的偏振光，从而增大能够在液晶显示的图像显示等中利用的光量，并由此可以改善亮度。
作为所述的亮度改善薄膜，例如可以使用：电介质的多层薄膜或折射率各向异性不同的薄膜多层叠层体之类的显示出使规定偏光轴的直线偏振光透过而反射其他光的特性的薄膜、胆甾醇型液晶聚合物的取向薄膜或在薄膜基材上支撑了该取向液晶层的薄膜之类的显示出将左旋或右旋中的任一种圆偏振光反射而使其他光透过的特性的薄膜等适宜的薄膜。
另外，偏振板如同所述偏振光分离型偏振板，可以由层叠了偏振板和2层或3层以上的光学层的构件构成。所以，也可以是组合了所述反射型偏振板或半透过型偏振板和相位差板而成的反射型椭圆偏振板或半透过型椭圆偏振板等。
在偏振板上层叠了所述光学层的光学薄膜，可以利用在液晶显示装置等的制造过程中依次独立层叠的方式来形成，但是预先经层叠而成为层叠光学膜的偏振板在质量的稳定性或组装操作等方面出色，因此具有可以改善液晶显示装置等的制造工序的优点。在层叠中可以使用粘合层等适当的粘接手段。在粘接所述偏振板和其他光学薄膜时，它们的光学轴可以根据目标相位差特性等而采用适当的配置角度。
在上述的偏振板或至少层叠有一层偏振板的层叠光学薄膜上，也能够设置和液晶元件等其他部件粘接的粘合层。对形成粘合层的粘合剂没有特别限定，例如可以适宜地选择使用以丙烯酸系聚合物、硅酮系聚合物、聚酯、聚氨酯、聚酰胺、聚醚、氟系或橡胶系等聚合物为基体聚合物(basepolymer)的粘合剂。特别优选使用类似丙烯酸系粘合剂的光学透明性优良并显示出适度的润湿性、凝聚性以及粘接性的粘合特性且耐气候性或耐热性等优良的粘合剂。
而且，除了上述之外，从防止因吸湿造成的发泡现象或剥离现象、因热膨胀差等引起的光学特性的下降或液晶单元的翘曲、进而从高质量且耐久性优良的液晶显示装置的形成性等观点来看，优选吸湿率低且耐热性优良的粘合层。
粘合层中可以含有例如天然物或合成物的树脂类、特别是增粘性树脂或由玻璃纤维、玻璃珠、金属粉、其它的无机粉末等构成的填充剂、颜料、着色剂、抗氧剂等可添加于粘合层中的添加剂。另外也可以是含有微粒并显示光扩散性的粘合层等。
在偏振板、层叠光学薄膜的单面或双面上附设粘合层时可以利用适宜的方式进行。作为其例子，例如可以举出以下方式，即调制在由甲苯或乙酸乙酯等适宜溶剂的纯物质或混合物构成的溶媒中溶解或分散基体聚合物或其组合物而成的约10～40重量％左右的粘合剂溶液，然后通过流延方式或涂敷方式等适宜的铺展方式直接将其附设在偏振板上或层叠光学薄膜上的方式；或者基于上述而在隔离件上形成粘合层后将其移送并粘贴在偏振板上或层叠光学薄膜上的方式等。
粘合层也能够作为不同组成或种类等的各层的重叠层而设置在偏振板或层叠光学薄膜的单面或双面上。另外，当设置于双面上时，偏振板或光学薄膜的内外也能够是不同组成、种类或厚度等的粘合层。粘合层的厚度可以根据使用目的或粘接力等而适当确定，一般为1～500μm，优选5～200μm，特别优选10～100μm。
对于粘合层的露出面，在供于使用前为了防止其污染等，可以临时粘贴隔离件以进行覆盖。由此能够防止在通常的操作状态下与粘合层接触的现象。作为隔离件，在满足上述的厚度条件的基础上，例如可以使用根据需要用硅酮系或长链烷基系、氟系或硫化钼等适宜剥离剂对塑料薄膜、橡胶片、纸、布、无纺布、网状物、发泡片材或金属箔、它们的层叠体等适宜的薄片体进行涂敷处理后的材料等以往常用的适宜的隔离件。
还有，在本发明中，也可以在形成上述的偏振板的偏振片、透明保护薄膜、层叠光学薄膜等以及粘合层等各层上，利用例如用水杨酸酯系化合物或苯并苯酚(benzophenol)系化合物、苯并三唑系化合物或氰基丙烯酸酯系化合物、镍配位化合物系化合物等紫外线吸收剂进行处理的方式等方式，使之具有紫外线吸收能力等。
实施例
以下例示优选实施例，详细说明本发明。其中，只要没有特别限定的记载，在该实施例中记载的材料或配合量等不限定本发明的范围，而只不过是简单的说明例。
(实施例1～5)
作为高分子树脂，使用宽1300mm的聚甲基丙烯酸甲酯薄膜(PMMA)，在下述条件下，利用激光照射，对其宽度方向的两端部进行刻痕加工。将结果示于下述表1。另外，在各实施例中的PMMA薄膜的厚度及刻痕高度如下述表1所示。
[激光照射装置]
使用的激光照射装置如下所述。
激光光源：二氧化碳激光
激光波长：9.3μm
最高输出功率：20W
[激光照射条件]
激光输出功率：10W
点(spot)径：300μmφ
生产线速度：40m/min
打印宽度(刻痕加工部)：距离薄膜的端部13mm宽
打印密度(凹部的密度)：100个/cm2
刻痕加工面：只有单面
打印(凹部)形状：圆形状
(实施例6～10)
在本实施例中，将刻痕高度变更成10μm，除此以外，分别与实施例l～5同样地进行，实施刻痕加工。将结果示于表1。
(实施例11～15)
在本实施例中，将刻痕高度变更成5μm，除此以外，分别与实施例1～5同样地进行，实施刻痕加工。将结果示于表1。
(比较例1～5)
在本比较例中，代替激光照射，进行利用辊浮雕的刻痕加工，除此以外，分别与实施例1同样地进行。将结果示于表2。另外，在各比较例中的PMMA薄膜的厚度及刻痕高度如下述表2所示。另外，辊浮雕条件如下所述。
生产线速度：40m/min
刻痕辊(knurling roll)：铁辊
支承辊(backup roll)：铁辊
辊温度：180℃
打印宽度(刻痕加工部)：距离薄膜的端部13mm宽
凹凸的密度：约100个/cm2
线压：20kgf/cm
雕刻辊(介质加热辊)形状：菱形状
(比较例6～10)
在本比较例中，将刻痕高度变更成10μm，除此以外，分别与比较例1～5同样地进行，实施刻痕加工。将结果示于表2。
(比较例11～15)
在本比较例中，将刻痕高度变更成5μm，除此以外，分别与比较例1～5同样地进行，实施刻痕加工。将结果示于表2。
(实施例16～20)
在本实施例中，代替PMMA薄膜，使用降冰片烯系薄膜(商品名：Zeonor(编号：ZF14)，日本Zeon(株)制)，除此以外，分别与实施例1～5同样地进行，实施刻痕加工。将结果示于表3。
(实施例21～25)
在本实施例中，将刻痕高度变更成10μm，除此以外，分别与实施例16～20同样地进行，实施刻痕加工。将结果示于表3。
(实施例26～30)
在本实施例中，将刻痕高度变更成5μm，除此以外，分别与实施例16～20同样地进行，实施刻痕加工。将结果示于表3。
(比较例16～20)
在本比较例中，代替PMMA薄膜，使用Zeonor薄膜((编号：ZF14)，日本Zeon(株)制)，除此以外，分别与比较例1～5同样地进行，实施刻痕加工。将结果示于表4。
(比较例21～25)
在本比较例中，将刻痕高度变更成10μm，除此以外，分别与比较例16～20同样地进行，实施刻痕加工。将结果示于表4。
(比较例26～30)
在本比较例中，将刻痕高度变更成5μm，除此以外，分别与比较例16～20同样地进行，实施刻痕加工。将结果示于表4。
<断裂性>
首先，确认利用激光照射或辊浮雕进行刻痕加工时的断裂性。在刻痕加工中，将在刻痕加工部发生破裂、裂痕或刻痕等的情况判断为断裂，为×，突发断裂的情况为△，全部没有发生断裂的情况为○。
另外，使用心轴(mandrel)(直径2mm)对刻痕加工后的薄膜弯曲，进行刻痕加工部处的耐弯曲试验(JIS K 5600-5-1)。将在刻痕加工部发生破裂、裂痕或刻痕等的情况判断为断裂，为×，突发断裂的情况为△，全部没有发生断裂的情况为○。
<抗拉强度及拉伸延伸度>
按照ASTM D638，测定抗拉强度(MPa)及拉伸延伸度(％)。将结果示于下述表5。
[表1]
Figure A20088000062500281
[表2]
Figure A20088000062500291
[表3]
Figure A20088000062500292
[表4]
Figure A20088000062500301
[表5]
  薄膜的种类   抗拉强度(Mpa)   拉伸延伸度(％)
  PMMA薄膜   75   2.9
  降冰片烯系薄膜   75   10
(结果)
从表1及3可知，在各实施例中，确认了：在刻痕加工时，在刻痕加工部完全没有发生破裂、裂痕或刻痕等。另外，在薄膜的厚度为40μm以上的情况下，即使在刻痕加工后进行耐弯曲试验，刻痕加工部也没有发生断裂。
另一方面，从表2及4可知，在各比较例中，确认了：在刻痕加工时或刻痕加工后的耐弯曲试验中，发生了断裂。在薄膜厚度较薄的情况下尤其发生断裂。

Claims (12)

1.一种薄膜，其特征在于，
在高分子树脂薄膜的至少任意一面的宽度方向的两端部，利用激光照射实施了刻痕加工。
2.根据权利要求1所述的薄膜，其中，
在将没有实施所述刻痕加工的部分的平均厚度设为T(μm)、将已实施了所述刻痕加工的两端部的平均厚度设为Tn(μm)的情况下，
所述T(μm)在20～70μm的范围内，Tn-T为3～30μm的范围内。
3.根据权利要求1所述的薄膜，其中，
所述高分子树脂薄膜的抗拉强度为100MPa以下，而且拉伸延伸度为80％以下。
4.根据权利要求1所述的薄膜，其中，
已实施有所述刻痕加工的部分在高分子树脂薄膜的两端部设置成在长边方向上的带状，其宽度相对高分子树脂薄膜的宽度为1～5％的范围内。
5.根据权利要求1所述的薄膜，其中，
将所述已实施有刻痕加工的部分中的凹部设置为10～1000个/cm2的密度的范围内。
6.根据权利要求1所述的薄膜，其中，
所述已实施有刻痕加工的部分中的凹部的平面形状为圆形状。
7.根据权利要求1所述的薄膜，其中，
所述高分子树脂薄膜为光学薄膜。
8.根据权利要求7所述的薄膜，其中，
所述光学薄膜为透明保护薄膜。
9.根据权利要求8所述的薄膜，其特征在于，
所述透明保护薄膜为降冰片烯系薄膜或丙烯酸系薄膜。
10.一种偏振板，其中，
在偏振片的至少一面设置有权利要求1所述的薄膜。
11.一种薄膜的制造方法，其特征在于，
在规定条件下，向高分子树脂薄膜的至少任意一面的宽度方向的两端部照射激光来实施刻痕加工。
12.根据权利要求11所述的薄膜的制造方法，其特征在于，
激光照射的输出功率在1～20W的范围内，不使薄膜贯通。
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