JP2014010219A - ワイヤグリッド偏光子シート及びワイヤグリッド偏光子の製造方法 - Google Patents
ワイヤグリッド偏光子シート及びワイヤグリッド偏光子の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014010219A JP2014010219A JP2012145265A JP2012145265A JP2014010219A JP 2014010219 A JP2014010219 A JP 2014010219A JP 2012145265 A JP2012145265 A JP 2012145265A JP 2012145265 A JP2012145265 A JP 2012145265A JP 2014010219 A JP2014010219 A JP 2014010219A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wire grid
- grid polarizer
- roll
- protective band
- knurling
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 45
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 18
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 109
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 109
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims abstract description 76
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 48
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 48
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 30
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 17
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims description 15
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 9
- 238000004049 embossing Methods 0.000 claims description 8
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 7
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 21
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 7
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 3
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 2
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 2
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 238000000445 field-emission scanning electron microscopy Methods 0.000 description 2
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 2
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical group C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 235000014121 butter Nutrition 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229920003020 cross-linked polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004703 cross-linked polyethylene Substances 0.000 description 1
- 150000001925 cycloalkenes Chemical class 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 238000001579 optical reflectometry Methods 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920001643 poly(ether ketone) Polymers 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N triacetic acid Chemical compound CC(=O)CC(=O)CC(O)=O ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Polarising Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明のワイヤグリッド偏光子シートにおいて、第1の積層体(10A)を構成する帯状の基材フィルム(10)の表面には、硬化樹脂層(61)が設けられている。その微細凹凸構造(62a、62b)の両側端部には、保護バンド部(51a〜51d)が形成されている。保護バンド部(51a〜51d)の高さは、微細凹凸構造(62a、62b)よりも高い。微細凹凸構造(62a、62b)の表面上には、金属ワイヤが形成され、ワイヤグリッド偏光子シートとなる。保護バンド部(51a〜51d)は、微細凹凸構造(62a、62b)を保護する。
【選択図】図6
Description
ワイヤグリッド偏光子の収率は、光ファイバー照明器(GX53(対物レンズ×10)、オリンパス社製)及び顕微鏡用デジタルカメラ(DP72、オリンパス社製)を用いて測定し、イメージングソフトウェア(cellsens)にて輝度変換した輝度により評価した。
ワイヤグリッド偏光子の保護バンド部の高さは、明産株式会社製 卓上型厚さ計RC−1W−200型を用いて評価を行った。
<実施例1>
(ロールスタンパの作製)
ピッチが230nmで、凹凸格子の高さが230nmである凹凸格子を表面に有し、平面寸法が縦横ともに500mmのニッケルスタンパを準備した。このニッケルスタンパを用いて、凹凸格子形状を転写したCOP板を作製した。次に、作製したCOP板を延伸して微細凹凸格子のピッチと高さがそれぞれ、140nm/130nm(ピッチ/高さ)であり、その断面形状が正弦波状であり、上面からの形状が縞状格子状となっているCOP板を作製した。
まず、トリアセチルセルロースフィルム(以下、TACフィルム)のロール(厚み80μm、フィルム長250m)をほどきながら、連続的に紫外線硬化性樹脂をTACフィルムの下面側から幅80mm、厚み2.0μmとなるように2箇所塗布した。この塗布面を上記ピッチ140nmの微細凹凸格子を表面に有するロールスタンパ上に接触させ、フィルム側から中心波長365nmの紫外線ランプを用いて紫外線を1000mJ/cm2照射し、ロールスタンパの微細凹凸格子を連続的に転写した後、ロール状に200m巻き取った。以下、このロールを原反ロールと呼ぶことにする。
次に、格子状凸部上に金属ワイヤを設けた。乾燥後の原反ロールを乾燥機の真空槽中に12時間放置して乾燥した後、原反ロールを金属ワイヤ形成用の真空チャンバへ移した。その際、基材フィルムの格子状凸部が設けられている面と反対側の面がフィルム搬送用ロール(メインローラー)と接するように通紙した。金属ワイヤの形成には反応性ACマグネトロンスパッタリング法を用いた。スパッタリングの際の張力は30N、メインローラー温度は30℃、スパッタリング開始前のバックグラウンドの真空度は0.007Pa、スパッタリング中の真空度は0.38Paであった。原反ロールをほどきながらフィルム搬送用ロールで巻取ロール側に送りながら金属ワイヤを設けてワイヤグリッド偏光子シートを作製し、作製したワイヤグリッド偏光子シートをロール状に巻き取った後、真空槽内の減圧を解除した。以上のようにして得られたワイヤグリッド偏光子シートの有効製品部内の収率を評価した。その結果を下記表1に示す。
紫外線硬化性樹脂をTACフィルムの下面側から幅80mm、厚み1.7μmとなるように2箇所塗布したこと以外は実施例1と同様にしてワイヤグリッド偏光子シートを作製した。保護バンド部の高さは10μmであった。作製したワイヤグリッド偏光子シートの収率を評価した。その結果を下記表1に示す。
紫外線硬化性樹脂をTACフィルムの下面側から幅80mm、厚み2.8μmとなるように2箇所塗布したこと以外は実施例1と同様にしてワイヤグリッド偏光子シートを作製した。
ニッケルスタンパを計2枚作成し、上述の本実施の形態と同様にして、幅200mmのロールスタンパを1本作製した。
紫外線硬化性樹脂をTACフィルムの下面側から幅80mm、厚み1.4μmとなるように1箇所塗布したこと以外は実施例1と同様にしてワイヤグリッド偏光子シートを作製した。保護バンド部の高さは2μmであった。作製したワイヤグリッド偏光子シートの収率を評価した。その結果を下記表1に示す。
<実施例5>
(ロールスタンパの作製)
実施例1と同様に作成した。
まず、トリアセチルセルロースフィルム(以下、TACフィルム)(厚み80μm、フィルム長250m)にナーリング部を形成した。ナーリング部の高さ(H2)は、25μmであった。
次に、格子状凸部上に金属ワイヤを設けた。乾燥後の原反ロールを乾燥機の真空槽中に12時間放置して乾燥した後、原反ロールを金属ワイヤ形成用の真空チャンバへ移した。その際、基材フィルムの格子状凸部が設けられている面と反対側の面がフィルム搬送用ロール(メインローラー)と接するように通紙した。金属ワイヤの形成には反応性ACマグネトロンスパッタリング法を用いた。スパッタリングの際の張力は30N、メインローラー温度は30℃、スパッタリング開始前のバックグラウンドの真空度は0.007Pa、スパッタリング中の真空度は0.38Paであった。原反ロールをほどきながらフィルム搬送用ロールで巻取ロール側に送りながら金属ワイヤを設けてワイヤグリッド偏光子シートを作製し、作製したワイヤグリッド偏光子シートをロール状に巻き取った後、真空槽内の減圧を解除した。以上のようにして得られたワイヤグリッド偏光子シートの有効製品部内の収率を評価した。その結果を下記表2に示す。
保護バンド部の高さ(H1)を15μmとしたこと以外は実施例5と同様にしてワイヤグリッド偏光子シートを作製し、作製したワイヤグリッド偏光子シートの収率を評価した。その結果を下記表2に示す。
ナーリング部の高さ(H2)を60μmとしたこと以外は実施例5と同様にしてワイヤグリッド偏光子シートを作製し、作製したワイヤグリッド偏光子シートの収率を評価した。その結果を下記表2に示す。しかし、収率は良好であったが、フィルム搬送中に切れが発生し、得られたフィルム長は180mであった。
ナーリング部の高さ(H2)を5μmとしたこと以外は実施例5と同様にしてワイヤグリッド偏光子シートを作製し、作製したワイヤグリッド偏光子シートの収率を評価した。その結果を下記表2に示す。
10A、100A 第1の積層体
10B、100B 第2の積層体
11 第1のロール
12 第2のロール
13 塗布処理部
16 ロールスタンパ
19 光源
21 スタンパ保持ロール
31a〜31f 原盤
23a〜23c 固定用テープ
41a、41b、102a、102b 樹脂塗布部
51a〜51d、103a〜103d 保護バンド部
61、105 硬化樹脂層
62a、62b、106a、106b 微細凹凸構造
71 減圧槽
73 搬送用ロール
75 第3のロール
91a、91b 凹凸領域
92 ワイヤグリッド偏光子
93 格子状凸部
94 金属ワイヤ
101a、101b ナーリング部
120 凸部
121 空間
123 隙間
Claims (12)
- 帯状の基材と、
前記帯状の基材の表面に設けられた硬化性樹脂からなる硬化樹脂層と、
前記硬化樹脂層の表面の一部に、前記基材の流れ方向に沿って形成された微細凹凸構造と、
前記硬化樹脂層の表面の、前記微細凹凸構造よりも前記基材の幅方向で見て外側に位置し、前記基材の流れ方向に沿って形成された保護バンド部と、
前記微細凹凸構造上に形成された金属ワイヤと、
を具備することを特徴とするワイヤグリッド偏光子シート。 - 前記保護バンド部の高さ(H1)が5μm〜50μmの範囲内であることを特徴とする請求項1記載のワイヤグリッド偏光シート。
- 前記帯状の基材の、前記保護バンド部よりも前記帯状の基材の幅方向で見て外側に、前記基材の流れ方向に不連続で、且つ、その高さ(H2)が前記保護バンド部の高さ(H1)よりも高いナーリング部を設けていることを特徴とする請求項1又は請求項2記載のワイヤグリッド偏光子シート。
- 前記ナーリング部の高さ(H2)が10μm〜55μmの範囲内であることを特徴とする請求項3記載のワイヤグリッド偏光子シート。
- 前記ナーリング部が、エンボス加工により形成された複数の凸部で構成されていることを特徴とする請求項3又は請求項4記載のワイヤグリッド偏光子シート。
- 前記ナーリング部と前記保護バンド部との間の距離(D1)が、0mm超〜10mmの範囲内であることを特徴とする請求項3から請求項5のいずれかに記載のワイヤグリッド偏光子シート。
- 帯状の基材を巻き回した第1のロールから前記基材を巻き出す工程と、
前記基材の表面上に未硬化の硬化性樹脂を塗布する工程と、
前記硬化性樹脂が塗布された基材を、その周面上に微細凹凸パターンが形成された転写用ロールに押圧しながらエネルギー線を照射して前記硬化性樹脂を硬化させて、その表面上に前記微細凹凸パターンに対応する微細凹凸構造を転写した硬化樹脂層を形成し、前記基材及び前記硬化樹脂層で構成される積層体を得る工程と、
前記積層体を第2のロールに巻き取る工程と、
前記積層体を巻き回した前記第2のロールを減圧条件下に置く工程と、
減圧条件において、前記第2のロールから前記第1の積層体を巻き出し、前記硬化樹脂層の上に金属を蒸着して金属ワイヤを形成し、前記基材、前記硬化樹脂層及び前記金属ワイヤで構成されるワイヤグリッド偏光子シートを得る工程と、
前記ワイヤグリッド偏光子シートを第3のロールに巻き取る工程と、
前記第3のロールを常圧に戻す工程と、
前記ワイヤグリッド偏光子シートの一部分を、前記硬化樹脂層の表面に転写された前記微細凹凸構造を含むように切り出してワイヤグリッド偏光子を得る工程と、を有し、
前記転写用ロールの周面上であって、前記微細凹凸パターンの両側縁部に間隔を隔てて沿うようにしてテープを貼り付け、前記硬化樹脂層に前記テープに対応して断面凸部状の保護バンドを形成することを特徴とするワイヤグリッド偏光子の製造方法。 - 前記保護バンド部の高さ(H1)が5μm〜50μmの範囲内であることを特徴とする請求項7記載のワイヤグリッド偏光子の製造方法。
- 前記積層体を構成する基材の表面上に、前記保護バンド部よりも前記第1の積層体の幅方向で見て外側に位置し、前記基材の流れ方向に不連続で、且つ、その高さ(H2)が前記保護バンド部の高さ(H1)よりも高いナーリング部を設けることを特徴とする請求項7又は請求項8記載のワイヤグリッド偏光子の製造方法。
- 前記ナーリング部の高さ(H2)が10μm〜55μmの範囲内であることを特徴とする請求項9記載のワイヤグリッド偏光子の製造方法。
- 前記ナーリング部が、エンボス加工により形成された複数の凸部で構成されていることを特徴とする請求項9又は請求項10記載のワイヤグリッド偏光子の製造方法。
- 前記ナーリング部と前記保護バンド部との間の距離(D1)が、0mm超〜10mmの範囲内であることを特徴とする請求項9から請求項11のいずれかに記載のワイヤグリッド偏光子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012145265A JP2014010219A (ja) | 2012-06-28 | 2012-06-28 | ワイヤグリッド偏光子シート及びワイヤグリッド偏光子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012145265A JP2014010219A (ja) | 2012-06-28 | 2012-06-28 | ワイヤグリッド偏光子シート及びワイヤグリッド偏光子の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014010219A true JP2014010219A (ja) | 2014-01-20 |
Family
ID=50107003
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012145265A Pending JP2014010219A (ja) | 2012-06-28 | 2012-06-28 | ワイヤグリッド偏光子シート及びワイヤグリッド偏光子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2014010219A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016128231A (ja) * | 2015-01-09 | 2016-07-14 | 昭和電工株式会社 | 金属膜を有する樹脂シートの製造方法 |
JP6401837B1 (ja) * | 2017-08-10 | 2018-10-10 | デクセリアルズ株式会社 | 偏光板及び光学機器 |
JP2021009175A (ja) * | 2019-06-28 | 2021-01-28 | 旭化成株式会社 | ワイヤグリッド偏光板 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5948511U (ja) * | 1982-09-25 | 1984-03-31 | 日東電工株式会社 | ロ−ル状粘着偏光板の構造 |
JP2005219272A (ja) * | 2004-02-04 | 2005-08-18 | Konica Minolta Opto Inc | 光学フィルムの製造方法 |
JP2007298647A (ja) * | 2006-04-28 | 2007-11-15 | Konica Minolta Opto Inc | ロール状反射型偏光素子、ロール状反射吸収一体型偏光素子、ロール状視野角拡大反射吸収一体型偏光素子、ロール状位相差補償反射吸収一体型偏光素子、それらの製造方法及びそれらを用いた液晶表示装置 |
JP2009040964A (ja) * | 2007-08-10 | 2009-02-26 | Nitto Denko Corp | フィルム及びその製造方法 |
JP2010076199A (ja) * | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Fujifilm Corp | 積層体の製造方法 |
JP2010076198A (ja) * | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Fujifilm Corp | 積層体の製造方法 |
JP2010237526A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Konica Minolta Opto Inc | ロール状光学フィルム及びロール状光学フィルムの製造方法 |
WO2011102314A1 (ja) * | 2010-02-18 | 2011-08-25 | 旭硝子株式会社 | 液晶表示装置の製造方法 |
JP2011221412A (ja) * | 2010-04-13 | 2011-11-04 | Asahi Kasei E-Materials Corp | ワイヤグリッド偏光板 |
JP2011248198A (ja) * | 2010-05-28 | 2011-12-08 | Toppan Printing Co Ltd | 光学フィルム及びその製造方法 |
-
2012
- 2012-06-28 JP JP2012145265A patent/JP2014010219A/ja active Pending
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5948511U (ja) * | 1982-09-25 | 1984-03-31 | 日東電工株式会社 | ロ−ル状粘着偏光板の構造 |
JP2005219272A (ja) * | 2004-02-04 | 2005-08-18 | Konica Minolta Opto Inc | 光学フィルムの製造方法 |
JP2007298647A (ja) * | 2006-04-28 | 2007-11-15 | Konica Minolta Opto Inc | ロール状反射型偏光素子、ロール状反射吸収一体型偏光素子、ロール状視野角拡大反射吸収一体型偏光素子、ロール状位相差補償反射吸収一体型偏光素子、それらの製造方法及びそれらを用いた液晶表示装置 |
JP2009040964A (ja) * | 2007-08-10 | 2009-02-26 | Nitto Denko Corp | フィルム及びその製造方法 |
JP2010076199A (ja) * | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Fujifilm Corp | 積層体の製造方法 |
JP2010076198A (ja) * | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Fujifilm Corp | 積層体の製造方法 |
JP2010237526A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Konica Minolta Opto Inc | ロール状光学フィルム及びロール状光学フィルムの製造方法 |
WO2011102314A1 (ja) * | 2010-02-18 | 2011-08-25 | 旭硝子株式会社 | 液晶表示装置の製造方法 |
JP2011221412A (ja) * | 2010-04-13 | 2011-11-04 | Asahi Kasei E-Materials Corp | ワイヤグリッド偏光板 |
JP2011248198A (ja) * | 2010-05-28 | 2011-12-08 | Toppan Printing Co Ltd | 光学フィルム及びその製造方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016128231A (ja) * | 2015-01-09 | 2016-07-14 | 昭和電工株式会社 | 金属膜を有する樹脂シートの製造方法 |
JP6401837B1 (ja) * | 2017-08-10 | 2018-10-10 | デクセリアルズ株式会社 | 偏光板及び光学機器 |
JP2019035802A (ja) * | 2017-08-10 | 2019-03-07 | デクセリアルズ株式会社 | 偏光板及び光学機器 |
JP2021009175A (ja) * | 2019-06-28 | 2021-01-28 | 旭化成株式会社 | ワイヤグリッド偏光板 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8597767B2 (en) | Optical element, roller type nanoimprinting apparatus, and process for producing die roll | |
KR100888303B1 (ko) | 와이어 그리드 편광판 및 그 제조 방법 | |
JP2008090238A (ja) | ワイヤグリッド偏光板及びその製造方法 | |
JP6535754B2 (ja) | フィルムタッチセンサの製造方法および製造装置 | |
TWI713878B (zh) | 基板 | |
JP2009145742A (ja) | ワイヤグリッド偏光子の製造方法 | |
JP2003302532A (ja) | 偏光板およびその製造方法 | |
JP2015167152A (ja) | インプリント方法、及びインプリント装置 | |
JP2014010219A (ja) | ワイヤグリッド偏光子シート及びワイヤグリッド偏光子の製造方法 | |
JP2008304651A (ja) | 凹凸パターン形成シートの製造方法および凹凸パターン形成シート | |
JP2014122984A (ja) | 光学フィルムの製造方法、光学フィルム、画像表示装置 | |
JP5710151B2 (ja) | ワイヤグリッド偏光板 | |
JP2012051061A (ja) | 機能性フィルムの製造方法 | |
JP5291435B2 (ja) | ワイヤグリッド偏光子及びその製造方法 | |
JP6276108B2 (ja) | ワイヤグリッド偏光子の製造方法 | |
JP2014066825A (ja) | マイクロミラーアレイの製法 | |
JP2014172356A (ja) | 積層シートの製造方法 | |
JP2011227243A (ja) | ワイヤグリッド偏光板とその製造方法 | |
JP2017083896A (ja) | 光学フィルム、光学フィルム用転写体、画像表示装置及び光学フィルムの製造用金型 | |
JP2010039478A (ja) | ワイヤグリッド偏光板の製造方法 | |
JP2011201261A (ja) | ロール状フィルム基材の製造方法、ロール状フィルム基材を用いたパターン形成体の製造方法、ロール状フィルム基材、および、機能層含有フィルム基材 | |
JP2016191805A (ja) | 偏光子、偏光子の製造方法及び液晶表示装置 | |
JP6343173B2 (ja) | 微細パターンの形成方法、成型体の製造方法、ワイヤグリッド偏光子の製造方法、及び転写装置 | |
JP2022096657A (ja) | ワイヤグリッド偏光板、及びその製造方法 | |
JP5227692B2 (ja) | ワイヤグリッド偏光板の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150323 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20151210 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151215 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160212 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20160413 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160516 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160830 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161028 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20170314 |