JP5594096B2 - 光学フィルム、光学フィルムロール及び光学フィルムの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、エンボス構造を有する光学フィルム、前記光学フィルムを巻回した光学フィルムロール、及び前記光学フィルムの製造方法に関する。

従来、液晶表示装置等の表示装置においては、位相差フィルム、偏光フィルム、輝度向上フィルム等の光学フィルムを設けることが知られている。このような光学フィルムは、一般に、製造効率の観点から、ある程度の量をまとめて長尺状に製造し、この長尺の光学フィルムを巻回して光学フィルムロールとして保存する。また、使用時には、光学フィルムロールから長尺の光学フィルムを引き出し、必要に応じて他の長尺フィルムとロールトゥロール法等により貼り合わせ、その後、打ち抜き等の成型を施した後で液晶表示装置等に組み込んで利用されている。

長尺の光学フィルムを巻回する際、光学フィルムの取り扱い性の向上のため、光学フィルムにナーリング処理（微小な凹凸を形成する加工であり、エンボス処理、ローレット処理等とも言う。）を施す技術が知られている（特許文献１〜５参照）。ナーリング処理を施すことにより光学フィルムの表面に凹凸が形成されるので、当該凹凸の作用によって光学フィルムの取り扱い性を向上させることができる。

特開２００９−１２４２９号公報 特開２００４−４０９６４号公報 特開平０８−２４４０３５号公報 特開平１１−２６２９５０号公報 特開２００５−２９８１９６号公報

しかし、従来の技術では、長尺の光学フィルムを巻回して光学フィルムロールとした場合に、光学フィルムの厚みムラに起因して光学フィルムロールの周方向に延在する帯状の凹凸（以下、適宜「ゲージバンド」という。）が生じたり、巻き重ねられた光学フィルム同士が擦れることにより引っ掻き傷（以下、適宜「スクラッチ」という。）が生じたりすることがあった。
本発明は前記の課題に鑑みて創案されたもので、ゲージバンド及びスクラッチが無く外観が良好な光学フィルムロールが得られる光学フィルム、当該光学フィルムを巻回した光学フィルムロール、及び、前記の光学フィルムの製造方法を提供することを目的とする。

本発明者は、上述した課題を解決するべく鋭意検討した結果、光学フィルムの幅方向の両端部に、光学フィルムの厚み方向から見た形状が楕円形となるエンボス構造を設けることにより、光学フィルムの取り扱い性を向上させることができ、更にゲージバンド及びスクラッチの発生を抑制できることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は〔１〕〜〔１３〕を要旨とする。

〔１〕 長尺の光学フィルムであって、
前記光学フィルムの少なくとも一方の面の幅手方向の両端部にエンボス構造を有し、
前記光学フィルムの厚み方向から見た前記エンボス構造の形状が楕円形であり、
前記エンボス構造は、前記エンボス構造の周囲の前記光学フィルム表面よりも突出して形成された周部と、前記周部の内側に前記周部よりも窪んで形成された央部とを有する、光学フィルム。
〔２〕 基材フィルム層と易接着層とを備える、〔１〕に記載の光学フィルム。
〔３〕 前記易接着層が微粒子を含む、〔２〕に記載の光学フィルム。
〔４〕 前記基材フィルム層が脂環式構造含有重合体を含む、〔２〕又は〔３〕に記載の光学フィルム。
〔５〕 前記基材フィルム層の厚みｔ_１と前記易接着層の厚みｔ_２との比ｔ_２／ｔ_１が０．０００３〜０．０１００である、〔２〕〜〔４〕のいずれか一項に記載の光学フィルム。
〔６〕 前記エンボス構造がレーザー光の照射により形成されたものである、〔１〕〜〔５〕のいずれか一項に記載の光学フィルム。
〔７〕 前記エンボス構造の楕円形の長軸、短軸、並びに、前記エンボス構造の楕円形の中心を通り前記長軸及び短軸と４５°の角度をなす２本の直線が、前記周部と交差する８個の領域での前記周部の高さのうち、最高の領域における高さをＮ_１とし、最低の領域における高さをＮ_２とした場合、
比Ｎ_１／Ｎ_２が１．５以上１０以下である、〔１〕〜〔６〕のいずれか一項に記載の光学フィルム。
〔８〕 前記エンボス構造の楕円形の長軸径ｒ_１が３００μｍ〜６００μｍであり、
前記エンボス構造の楕円形の短軸径ｒ_２が２５０μｍ〜５５０μｍであり、
前記長軸径ｒ_１と前記短軸径ｒ_２との比ｒ_１／ｒ_２が１．１〜２．０である、〔１〕〜〔７〕のいずれか一項に記載の光学フィルム。
〔９〕 偏光板の保護フィルムである、〔１〕〜〔８〕のいずれか一項に記載の光学フィルム。
〔１０〕 位相差フィルムである、〔１〕〜〔９〕のいずれか一項に記載の光学フィルム。
〔１１〕 〔１〕〜〔１０〕のいずれか一項に記載の光学フィルムをロール状に巻回してなる光学フィルムロール。
〔１２〕 長尺の光学フィルムの両端部にレーザー光を照射して前記光学フィルムの少なくとも一方の面にエンボス構造を形成する、エンボス構造を有する光学フィルムの製造方法であって、
前記レーザー光の照射は、前記レーザー光が前記光学フィルムに当たる点が直線状の軌跡を描くように行い、
前記光学フィルムの厚み方向から見た前記エンボス構造の形状が楕円形であり、
前記エンボス構造は、前記エンボス構造の周囲の前記光学フィルム表面よりも突出して形成された周部と、前記周部の内側に前記周部よりも窪んで形成された央部とを有する、エンボス構造を有する光学フィルムの製造方法。
〔１３〕 前記光学フィルムが基材フィルム層と易接着層とを備え、
前記レーザー光の照射を前記易接着層側の面から行う、〔１２〕に記載のエンボス構造を有する光学フィルムの製造方法。

本発明の光学フィルムは、取り扱い性が良好であり、ロール状に巻回して光学フィルムロールとした場合にゲージバンド及びスクラッチの発生を抑制できる。
本発明の光学フィルムロールは、ゲージバンド及びスクラッチの発生を抑制できる。
本発明の製造方法によれば、取り扱い性が良好であり、ロール状に巻回して光学フィルムロールとした場合にゲージバンド及びスクラッチの発生を抑制できる光学フィルムを容易に製造できる。

図１は、本発明の一実施形態に係る光学フィルムを当該光学フィルムの厚み方向から見た様子を模式的に示す平面図である。 図２は、本発明の一実施形態に係る光学フィルムの幅方向の端部を厚み方向から見た様子を模式的に示す図であって、図１の光学フィルムの端部を拡大して示す図である。 図３は、本発明の一実施形態に係るエンボス構造を、エンボス構造の楕円の中心を通り厚み方向に平行な平面で切った断面を模式的に示す図である。 図４は、本発明の一実施形態に係るエンボス構造を厚み方向から見た様子を模式的に示す図である。 図５は、本発明の一実施形態に係るエンボス構造を厚み方向から見た様子を模式的に示す図である。 図６は、本発明の一実施形態に係る光学フィルムの製造方法を説明する模式的な図である。 図７は、本発明の一実施形態に係る光学フィルムの製造方法を説明する図であって、エンボス構造を形成する際の光学フィルムの表面の一部を厚み方向から見た様子を拡大して模式的に示す図である。 図８は、本発明の一実施形態に係る光学フィルムの製造方法を説明する図であって、エンボス構造を形成する際の光学フィルムの表面の一部を厚み方向から見た様子を拡大して模式的に示す図である。 図９は、本発明の一実施形態に係る光学フィルムの製造方法を説明する図であって、エンボス構造を形成する際の光学フィルムの表面の一部を厚み方向から見た様子を拡大して模式的に示す図である。 図１０は、本発明の一実施形態に係る光学フィルムの製造方法を説明する図であって、エンボス構造を形成する際の光学フィルムの表面の一部を厚み方向から見た様子を拡大して模式的に示す図である。

以下、実施形態及び例示物等を示して本発明について詳細に説明するが、本発明は以下に示す実施形態及び例示物等に限定されるものではなく、本発明の要旨及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施してもよい。なお、以下の説明において構成要素の方向が「平行」または「直交」とは、本発明の効果を著しく損なわない範囲内（例えば±５°）での誤差を含んでいてもよい。また、ある方向に「沿って」とは、ある方向に「平行に」という意味である。さらに、「（メタ）アクリル」とは、「アクリル」及び「メタクリル」を意味する。

図１は、本発明の一実施形態に係る光学フィルムを当該光学フィルムの厚み方向から見た様子を模式的に示す平面図である。図１に示すように、光学フィルム１００は長尺のフィルムであって、光学フィルム１００の幅方向（ＴＤ方向、横方向ともいう。）ＴＤの両端部１１０，１２０には複数のエンボス構造１３０が設けられている。これにより、光学フィルム１００の幅方向ＴＤの両端部１１０，１２０に、エンボス構造１３０を有する領域（以下、適宜「エンボス領域」という。）が帯状に形成されている。

なお、本実施形態では、エンボス領域は光学フィルム１００の両端部１１０，１２０に一致するので、エンボス領域には光学フィルム１００の両端部１１０，１２０と同様の符号を付して説明する。また、ここで「長尺」のフィルムとは、フィルムの幅に対して、少なくとも５倍以上の長さを有するものをいい、好ましくは１０倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するものをいう。さらに、以下の説明において「厚み方向」という場合、特に断らない限り、光学フィルム１００の厚み方向のことをいう。

図２は、本発明の一実施形態に係る光学フィルム１００の幅方向ＴＤの端部１１０を厚み方向から見た様子を模式的に示す図であって、図１の光学フィルム１００の端部１１０を拡大して示す図である。図２に示すように、厚み方向から見たエンボス構造１３０の形状は楕円形となっている。すなわち、エンボス構造１３０を厚み方向から見た場合に、当該エンボス構造１３０の外縁１３１が楕円形となっている。このように楕円形のエンボス構造１３０を有することにより、光学フィルム１００は巻回して光学フィルムロールを製造した場合でも、ゲージバンド及びスクラッチの発生を抑制できる。

楕円形のエンボス構造１３０がゲージバンド及びスクラッチの発生を抑制できる理由は定かではないが、本発明者の検討によれば、以下の理由によるものと推察される。すなわち、光学フィルム１００を幅方向に引っ張る応力が生じやすくなるため、巻いた際に光学フィルム１００が重なりにくくなり、ゲージバンド及びスクラッチの発生を抑制できると推察される。
なお、前記の「楕円形」とは、数学的な意味での楕円（すなわち、ｘｙ直交座標を用いてｘ^２／ａ^２＋ｙ^２／ｂ^２＝１（ａ及びｂは正の数）で表される楕円）の形状だけでなく、本発明の効果を著しく損なわない限り前記数学的な楕円の形状からずれた形状も含む。例えば、エンボス構造１３０は後述するようにレーザー光の照射により形成されることがあるが、その場合、レーザー光の照射時の光学フィルム１００の振動；レーザー光照射装置の駆動部の振動；温度及び湿気等の条件変動；などの影響により、形成されるエンボス構造を厚み方向から見た形状が数学的な楕円の形状とならず、その外縁１３１の一部がｘ^２／ａ^２＋ｙ^２／ｂ^２＝１で表される座標から外れることはありえる。このように歪んだ楕円形であっても、厚み方向から見た当該エンボス構造１３０の形状が真円でない限り、厚み方向から見たエンボス構造１３０の形状は実質的に楕円形となり、ゲージバンド及びスクラッチの抑制作用は奏される。

図３は、本発明の一実施形態に係るエンボス構造１３０を、エンボス構造１３０の楕円の中心を通り厚み方向に平行な平面で切った断面を模式的に示す図である。図３に示すように、エンボス構造１３０は、エンボス構造１３０の周囲の光学フィルム表面１０１よりも突出して形成された周部１３２を有する。周部１３２は厚み方向から見て楕円形を有しており、この周部１３２の外縁がエンボス構造１３０の外縁１３１に一致する。周部１３２がエンボス構造１３０の周囲の光学フィルム表面１０１よりも突出していることにより、光学フィルム１００の実質的な厚みが厚くなるので、ロール状に巻いた際に、重なった光学フィルム１００の面の間に空気層を積極的に取り入れることが出来る。その結果、光学フィルム１００同士が接触しないので、ゲージバンド及びスクラッチを抑制することが可能となる。

図４は、本発明の一実施形態に係るエンボス構造１３０を厚み方向から見た様子を模式的に示す図である。一個のエンボス構造１３０に注目した場合、当該エンボス構造１３０の周部１３２の高さは、均一であってもよいが、不均一であることが好ましい。具体的には、図４に示すように、エンボス構造１３０の楕円形の長軸Ａ_Ｌ、短軸Ａ_Ｓ、並びに、エンボス構造１３０の楕円形の中心Ｐ_０を通り長軸Ａ_Ｌ及び短軸Ａ_Ｓと４５°の角度をなす２本の直線Ａ_Ａ，Ａ_Ｂが、周部１３２と交差する８個の領域Ｐ_１〜Ｐ_８での周部１３２の高さＮ（図３参照。）のうち、最高の領域における高さをＮ_１とし、最低の領域における高さをＮ_２とする。この場合、比Ｎ_１／Ｎ_２は、好ましくは１．５以上、より好ましくは２．０以上、特に好ましくは２．５以上であり、好ましくは１０以下、より好ましくは７．０以下、特に好ましくは５．０以下である。

従来、ナーリング処理を施した光学フィルムでは、ナーリング処理により形成される凹凸の高さが高いと、当該光学フィルムを巻回した場合に凹凸の周辺でロールが拡径することにより光学フィルムに大きな応力がかかり、光学フィルムが割れる現象（以下、適宜「クラック」という。）が生じることがあった。ところが、エンボス構造１３０の周部１３２の高さを前記のように不均一にすることによって、前記のクラックを防止することが可能になる。このようにエンボス構造１３０の周部１３２の高さを不均一とすることによりクラックを防止できる理由は定かではないが、本発明者の検討によれば、以下の理由によるものと推察される。すなわち、光学フィルム１００を巻回して光学フィルムロールとしたときに、エンボス構造１３０を形成した箇所において同一箇所での微小領域への応力集中を避けることができるためと推察される。ただし、周部１３２の高さを過度に不均一にすることは、そのような周部１３２の形成が困難である割には効果に大きな差が無いことから、前記の比Ｎ_１／Ｎ_２の範囲には上限がある。

エンボス構造１３０の周部１３２の平均高さは、０．５μｍ以上が好ましく、１．０μｍ以上がより好ましく、２．０μｍ以上が特に好ましく、また、５．０μｍ以下が好ましく、４．５μｍ以下がより好ましく、４．０μｍ以下が特に好ましい。周部１３２の平均高さを前記範囲の下限値以上とすることによって光学フィルム１００の巻きずれ、巻きこみ、厚みムラに起因する外観不良などを効果的に抑制でき、前記範囲の上限値以下とすることによってクラックを安定して防止できる。なお、周部１３２の平均高さは、前記の８個の領域Ｐ_１〜Ｐ_８での周部１３２の高さＮの平均値として測定できる。

図３に示すように、エンボス構造１３０は、周部１３２の内側に形成された央部１３３を有する。央部１３３は、エンボス構造１３０の周部１３２よりも窪んで形成された部分であり、この央部１３３は周りを周部１３２によって囲まれている。通常、央部１３３も厚み方向から見て楕円形を有する。央部１３３がエンボス構造１３０の周部１３２よりも窪んでいることにより、エンボス構造１３０の周部１３２において、応力の集中を抑制し、エンボス構造１３０でのクラックやエンボス形状の破壊による巻外観（光学フィルムロールの外観）の悪化が防止できる。

央部１３３の深さＤは、０．７μｍ以上が好ましく、１．２μｍ以上がより好ましく、２．５μｍ以上が特に好ましく、また、２０μｍ以下が好ましく、１５μｍ以下がより好ましく、１０μｍ以下が特に好ましい。央部１３３の深さを前記範囲の下限値以上とすることによってエンボス構造１３０の周部１３２の形状を安定的に形成することができ、前記範囲の上限値以下とすることによってエンボス構造１３０が形成された面の反対側に変形又は穴あきが生じることを抑制し、エンボス構造１３０の効果を安定して発揮させることにより、巻外観の改善を行うことができる。なお、央部１３３の深さＤは、央部１３３の最も深い地点Ｐ_Ｄと、エンボス構造１３０の周部１３２の高さＮの平均値との、厚み方向における距離として測定できる。

図５は、本発明の一実施形態に係るエンボス構造１３０を厚み方向から見た様子を模式的に示す図である。図５に示すように、エンボス構造１３０の楕円形の長軸径ｒ_１は、好ましくは３００μｍ以上、より好ましくは３５０μｍ以上、特に好ましくは４００μｍ以上であり、好ましくは６００μｍ以下、より好ましくは５５０μｍ以下、特に好ましくは５００μｍ以下である。長軸径ｒ_１を前記範囲の下限値以上とすることによってエンボス構造１３０の効果を安定して発揮することができ、前記範囲の上限値以下とすることによって形状を安定して作製し、エンボス構造１３０への局所的な応力集中を回避することができる。

エンボス構造１３０の楕円形の短軸径ｒ_２は、好ましくは１５０μｍ以上、より好ましくは２００μｍ以上、特に好ましくは２５０μｍ以上であり、好ましくは５５０μｍ以下、より好ましくは５００μｍ以下、特に好ましくは４５０μｍ以下である。短軸径ｒ_２を前記範囲の下限値以上とすることによってエンボス構造１３０の効果を安定して発揮することができ、前記範囲の上限値以下とすることによってエンボス構造１３０への局所的な応力集中を回避することができる。

前記の長軸径ｒ_１と短軸径ｒ_２との比ｒ_１／ｒ_２は、好ましくは１．１以上、より好ましくは１．２以上、特に好ましくは１．３以上であり、好ましくは２．０以下、より好ましくは１．８以下、特に好ましくは１．６以下である。比ｒ_１／ｒ_２を前記範囲の下限値以上とすることにより、エンボス構造１３０の形状を楕円形としたことによる効果を安定して発揮できる。また、比ｒ_１／ｒ_２を前記範囲の上限値以下とすることにより、エンボス構造１３０間の高さＮのばらつきの小さいエンボス形状を付与することできる。

図２に示すように、エンボス構造１３０の楕円形の向きは、通常、前記楕円形の長軸Ａ_Ｌが光学フィルム１００の長尺方向（ＭＤ方向、縦方向ともいう。）ＭＤと平行となるようにすることが好ましい。このようなエンボス構造１３０は製造が容易だからである。

光学フィルム１００の端部１１０，１２０におけるエンボス構造１３０の配置は、ランダムであってもよいが、光学フィルム１００の長尺方向ＭＤ及び幅方向ＴＤに沿って並ぶことが好ましい。また、この際、長尺方向ＭＤ及び幅方向ＴＤそれぞれにおけるエンボス構造１３０同士の間隔は、不均一であってもよいが、均一であることが好ましい。このようなエンボス構造１３０は製造が容易だからである。

光学フィルム１００の長尺方向ＭＤにおけるエンボス構造１３０同士の間隔Ｉ_ＭＤは、３．０ｍｍ以上が好ましく、３．５ｍｍ以上がより好ましく、４．０ｍｍ以上が特に好ましく、また、７．０ｍｍ以下が好ましく、６．５ｍｍ以下がより好ましく、６．０ｍｍ以下が特に好ましい。長尺方向ＭＤにおけるエンボス構造１３０同士の間隔Ｉ_ＭＤを前記範囲の下限値以上とすることによって巻回時に重なった光学フィルム１００間に空間をつくることが容易になり、前記範囲の上限値以下とすることによってエンボス構造１３０への応力集中によるクラックを抑制することができる。

光学フィルム１００の幅方向ＴＤにおけるエンボス構造１３０同士の間隔Ｉ_ＴＤは、０．５ｍｍ以上が好ましく、１．０ｍｍ以上がより好ましく、１．５ｍｍ以上が特に好ましく、また、６．０ｍｍ以下が好ましく、５．５ｍｍ以下がより好ましく、５．０ｍｍ以下が特に好ましい。幅方向ＴＤにおけるエンボス構造１３０同士の間隔Ｉ_ＴＤを前記範囲の下限値以上とすることによって巻回時に重なった光学フィルム１００間に空間をつくることが容易になり、前記範囲の上限値以下とすることによってエンボス構造１３０への応力集中によるクラックを抑制することができる。

図１に示すように、エンボス領域１１０，１２０の幅Ｗ_１１０，Ｗ_１２０は、１．０ｍｍ以上が好ましく、２．０ｍｍ以上がより好ましく、３．０ｍｍ以上が特に好ましく、また、１２ｍｍ以下が好ましく、１１ｍｍ以下がより好ましく、１０ｍｍ以下が特に好ましい。エンボス領域１１０，１２０の幅Ｗ_１１０，Ｗ_１２０を前記範囲の下限値以上とすることによって巻きずれを安定して防止でき、前記範囲の上限値以下とすることによって有効領域の大きさを広く確保して製造コストを安価にできる。なお、光学フィルム１００の有効領域とは、光学フィルム１００のエンボス構造１３０が形成されていない領域のことを指し、通常は図１に示すように両端部１１０，１２０を除く領域１４０のことを指す。

光学フィルム１００の幅に制限は無いが、通常７００ｍｍ以上、好ましくは１０００ｍｍ以上、より好ましくは１２００ｍｍ以上であり、通常２５００ｍｍ以下、好ましくは２２００ｍｍ以下、より好ましくは２０００ｍｍ以下である。

光学フィルム１００の厚みに制限は無いが、通常１μｍ以上、好ましくは５μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上であり、通常１０００μｍ以下、好ましくは３００μｍ以下、より好ましくは１５０μｍ以下である。

光学フィルム１００は、光学部材としての機能を発揮する観点から、通常は高い透明性を有する。具体的には、光学フィルム１００の有効領域１４０の全光線透過率は、８５％以上であることが好ましく、９２％以上であることがより好ましい。ここで、全光線透過率は、ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠して、日本電色工業社製「濁度計 ＮＤＨ−２０００」を用いて、５箇所測定し、それから求めた平均値である。

また、光学フィルム１００の有効領域１４０は、通常、ヘイズが小さいことが好ましい。具体的には、光学フィルム１００のヘイズは、好ましくは５％以下、より好ましくは３％以下、特に好ましくは２％以下である。ヘイズを低い値とすることにより、光学フィルム１００を表示装置に組み込んだ場合に、その表示装置の表示画像の鮮明性を高めることができる。ここで、ヘイズは、日本電色工業社製の濁度計「ＮＤＨ２０００」を用いて測定できる。

光学フィルム１００は、通常、樹脂フィルムである。また、光学フィルム１００は、延伸フィルムであってもよく、未延伸フィルムであってもよい。

光学フィルム１００は、一層のみを備える単層構造の層であってもよいが、二層以上の層を備える複層構造の層であってもよい。中でも、光学フィルム１００は、基材フィルム層と易接着層とを備えることが好ましい。

（基材フィルム層）
基材フィルム層は、熱可塑性樹脂フィルム層を備えることが好ましい。中でも、光学フィルム１００を偏光板の部材（例えば、偏光板の保護フィルム等）として用いる場合には、熱可塑性樹脂フィルム層として疎水性が強いものを用いることが好ましい場合がある。なお、ここでいう疎水性とは、易接着層又は偏光子と比較して相対的により疎水性が高いことを意味する。熱可塑性樹脂フィルム層を形成する熱可塑性樹脂として好ましい例としては、脂環式構造含有重合体を含む樹脂（以下、適宜「脂環式構造含有重合体樹脂」という。）、（メタ）アクリル系重合体を含む樹脂（以下、適宜「（メタ）アクリル系樹脂」という。）およびポリエステル系樹脂等が挙げられる。

脂環式構造含有重合体は、重合体の繰り返し単位中に脂環式構造を有する重合体であり、主鎖に脂環式構造を有する重合体、及び、側鎖に脂環式構造を有する重合体のいずれを用いてもよい。中でも、機械的強度、耐熱性などの観点から、主鎖に脂環式構造を含有する重合体が好ましい。

脂環式構造としては、例えば、飽和脂環式炭化水素（シクロアルカン）構造、不飽和脂環式炭化水素（シクロアルケン、シクロアルキン）構造などが挙げられる。中でも、機械強度、耐熱性などの観点から、シクロアルカン構造及びシクロアルケン構造が好ましく、中でもシクロアルカン構造が特に好ましい。

脂環式構造を構成する炭素原子数は、一つの脂環式構造あたり、好ましくは４個以上、より好ましくは５個以上であり、好ましくは３０個以下、より好ましくは２０個以下、特に好ましくは１５個以下の範囲であるときに、機械強度、耐熱性、及び基材フィルム層の成形性が高度にバランスされ、好適である。

脂環式構造含有重合体中の脂環式構造を有してなる繰り返し単位の割合は、使用目的に応じて適宜選択すればよいが、好ましくは５５重量％以上、さらに好ましくは７０重量％以上、特に好ましくは９０重量％以上である。脂環式構造含有重合体中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合がこの範囲にあると、基材フィルム層の透明性および耐熱性の観点から好ましい。

脂環式構造含有重合体としては、例えば、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体、及び、これらの水素化物等を挙げることができる。これらの中で、ノルボルネン系重合体は、透明性と成形性が良好なため、好適に用いることができる。

ノルボルネン系重合体としては、例えば、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体、若しくはノルボルネン構造を有する単量体と他の単量体との開環共重合体、又はそれらの水素化物；ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体、若しくはノルボルネン構造を有する単量体と他の単量体との付加共重合体、又はそれらの水素化物；等を挙げることができる。これらの中で、ノルボルネン構造を有する単量体の開環（共）重合体水素化物は、透明性、成形性、耐熱性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性などの観点から、特に好適に用いることができる。なお、「（共）重合体」とは、重合体及び共重合体のことをいう。

ノルボルネン構造を有する単量体としては、例えば、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン（慣用名：ノルボルネン）、トリシクロ［４．３．０．１^２，５］デカ−３，７−ジエン（慣用名：ジシクロペンタジエン）、７，８−ベンゾトリシクロ［４．３．０．１^２，５］デカ−３−エン（慣用名：メタノテトラヒドロフルオレン）、テトラシクロ［４．４．０．１^２，５．１^７，１０］ドデカ−３−エン（慣用名：テトラシクロドデセン）、およびこれらの化合物の誘導体（例えば、環に置換基を有するもの）などを挙げることができる。ここで、置換基としては、例えばアルキル基、アルキレン基、極性基などを挙げることができる。また、これらの置換基は、同一または相異なって、複数個が環に結合していてもよい。なお、ノルボルネン構造を有する単量体は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

極性基の種類としては、例えば、ヘテロ原子、またはヘテロ原子を有する原子団などが挙げられる。ヘテロ原子としては、例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、ハロゲン原子などが挙げられる。極性基の具体例としては、カルボキシル基、カルボニルオキシカルボニル基、エポキシ基、ヒドロキシル基、オキシ基、エステル基、シラノール基、シリル基、アミノ基、ニトリル基、スルホン酸基などが挙げられる。

ノルボルネン構造を有する単量体と開環共重合可能な他の単量体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテンなどのモノ環状オレフィン類およびその誘導体；シクロヘキサジエン、シクロヘプタジエンなどの環状共役ジエンおよびその誘導体；などが挙げられる。なお、ノルボルネン構造を有する単量体と開環共重合可能な他の単量体は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体、およびノルボルネン構造を有する単量体と共重合可能な他の単量体との開環共重合体は、例えば、単量体を公知の開環重合触媒の存在下に重合又は共重合することにより得ることができる。

ノルボルネン構造を有する単量体と付加共重合可能な他の単量体としては、例えば、エチレン、プロピレン、１−ブテンなどの炭素数２〜２０のα−オレフィンおよびこれらの誘導体；シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセンなどのシクロオレフィンおよびこれらの誘導体；１，４−ヘキサジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘキサジエンなどの非共役ジエン；などが挙げられる。これらの中でも、α−オレフィンが好ましく、エチレンがより好ましい。なお、ノルボルネン構造を有する単量体と付加共重合可能な他の単量体は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体、およびノルボルネン構造を有する単量体と共重合可能な他の単量体との付加共重合体は、例えば、単量体を公知の付加重合触媒の存在下に重合又は共重合することにより得ることができる。

単環の環状オレフィン系重合体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等の単環を有する環状オレフィン系モノマーの付加重合体を挙げることができる。

環状共役ジエン系重合体としては、例えば、１，３−ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の共役ジエン系モノマーの付加重合体を環化反応して得られる重合体；シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン等の環状共役ジエン系モノマーの１，２−または１，４−付加重合体；およびこれらの水素化物；などを挙げることができる。

ビニル脂環式炭化水素重合体としては、例えば、ビニルシクロヘキセン、ビニルシクロヘキサン等のビニル脂環式炭化水素系モノマーの重合体およびその水素化物；スチレン、α−メチルスチレン等のビニル芳香族炭化水素系モノマーを重合してなる重合体に含まれる芳香環部分を水素化してなる水素化物；ビニル脂環式炭化水素系モノマー、またはビニル芳香族炭化水素系モノマーとこれらビニル芳香族炭化水素系モノマーに対して共重合可能な他のモノマーとのランダム共重合体若しくはブロック共重合体等の共重合体の、芳香環の水素化物；等を挙げることができる。なお、前記のブロック共重合体としては、例えば、ジブロック共重合体、トリブロック共重合体またはそれ以上のマルチブロック共重合体、並びに傾斜ブロック共重合体等を挙げることもできる。

脂環式構造含有重合体の分子量は使用目的に応じて適宜選定されるが、溶媒としてシクロヘキサンを用いて（但し、試料がシクロヘキサンに溶解しない場合にはトルエンを用いてもよい）ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーで測定したポリイソプレンまたはポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）で、通常１０，０００以上、好ましくは１５，０００以上、より好ましくは２０，０００以上であり、通常１００，０００以下、好ましくは８０，０００以下、より好ましくは５０，０００以下である。重量平均分子量がこのような範囲にあるときに、光学フィルム１００の機械的強度および成型加工性が高度にバランスされ好適である。

脂環式構造含有重合体の分子量分布（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ））は通常１．２以上、好ましくは１．５以上、更に好ましくは１．８以上であり、通常３．５以下、好ましくは３．０以下、更に好ましくは２．７以下である。分子量分布が３．５を超えると低分子成分が増すため緩和時間の短い成分が増加し、一見同じ面内レターデーションＲｅを有する基材フィルム層であっても高温暴露時の緩和が短時間で大きくなることが推定され、基材フィルム層の安定性が低下するおそれがある。一方、分子量分布が１．２を下回るようなものは重合体の生産性の低下とコスト増につながり、ディスプレイ部材としての実用性という観点からはあまり現実的でない。

脂環式構造含有重合体のガラス転移温度は、使用目的に応じて適宜選択されればよいが、好ましくは１３０℃以上、より好ましくは１３５℃以上であり、好ましくは１５０℃以下、より好ましくは１４５℃以下である。ガラス転移温度が１３０℃を下回ると高温下における耐久性が悪化する可能性があり、１５０℃を上回るものは耐久性は向上するが通常の延伸加工が困難となる可能性がある。

脂環式構造含有重合体は、光弾性係数の絶対値が１０×１０^−１２Ｐａ^−１以下であることが好ましく、７×１０^−１２Ｐａ^−１以下であることがより好ましく、４×１０^−１２Ｐａ^−１以下であることが特に好ましい。光弾性係数Ｃは、複屈折をΔｎ、応力をσとしたとき、「Ｃ＝Δｎ／σ」で表される値である。脂環式構造含有重合体の光弾性係数が１０×１０^−１２Ｐａ^−１を超えると、基材フィルム層の面内レターデーショＲｅのバラツキが大きくなるおそれがある。

脂環式構造含有重合体の飽和吸水率は、好ましくは０．０３重量％以下、さらに好ましくは０．０２重量％以下、特に好ましくは０．０１重量％以下である。飽和吸水率が上記範囲であると、基材フィルム層の面内レターデーションＲｅ及び厚さ方向レターデーションＲｔｈの経時変化を小さくすることができる。また、光学フィルム１００を備える偏光板及び液晶表示装置の劣化を抑制でき、長期的にディスプレイの表示を安定で良好に保つことができる。

飽和吸水率は、試験片を一定温度の水中に一定時間浸漬して増加した質量を、浸漬前の試験片の質量に対する百分率で表した値である。通常は、２３℃の水中に２４時間、浸漬して測定される。脂環式構造含有重合体における飽和吸水率は、例えば、脂環式構造含有重合体中の極性基の量を減少させることにより、前記の範囲に調節することができる。飽和吸水率をより低くする観点から、脂環式構造含有重合体は、極性基を有さないことが好ましい。

脂環式構造含有重合体樹脂は、本発明の効果を著しく損なわない限り、脂環式構造含有重合体以外にもその他の成分を含んでいてもよい。その他の成分の例を挙げると、顔料、染料等の着色剤；蛍光増白剤；分散剤；熱安定剤；光安定剤；紫外線吸収剤；耐電防止剤；酸化防止剤；滑剤；などの添加剤が挙げられる。なお、その他の成分は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

ただし、熱可塑性樹脂フィルム層に含まれる重合体の量は、一般的には約５０％〜１００％、または約７０％〜１００％である。特に、ここで例示する光学フィルム１００は、高い疎水性を有する熱可塑性樹脂フィルム層を用いた基材フィルム層を備えている場合であっても、易接着層を備えることにより親水性が高い他のフィルムと強固に接着できるという利点を有する。この利点を効果的に活用する観点からは、熱可塑性樹脂フィルム層に含まれる重合体の量が、例えば８０％〜１００％、より詳しくは９０％〜１００％となるように、その他の成分の量を調整することが好ましい。

ただし、脂環式構造含有重合体には、実質的に粒子を含まないことが好ましい。ここで、実質的に粒子を含まないとは、脂環式構造含有重合体樹脂に粒子を含ませても、粒子を全く含まない状態からの基材フィルム層のヘイズの上昇幅が０．０５％以下の範囲である量までは許容できることを意味する。脂環式構造含有重合体は、多くの有機粒子や無機粒子との親和性に欠けるため、上記範囲を超えた量の粒子を含む脂環式構造含有重合体樹脂を延伸すると、空隙が発生しやすく、その結果として、ヘイズの著しい低下が生じるおそれがある。

脂環式構造含有重合体樹脂で形成されたフィルム層は、その製法によって特に制限されない。脂環式構造含有重合体樹脂で形成されたフィルム層は、脂環式構造含有重合体樹脂を公知のフィルム成形法で成形することによって得られる。フィルム成形法としては、例えば、キャスト成形法、押出成形法、インフレーション成形法などが挙げられる。中でも、溶剤を使用しない溶融押出法の方が、残留揮発成分量を効率よく低減させることができ、地球環境や作業環境の観点、及び製造効率に優れる観点から好ましい。溶融押出法としては、ダイスを用いるインフレーション法などが挙げられるが、生産性や厚さ精度に優れる点でＴダイを用いる方法が好ましい。

熱可塑性樹脂フィルム層を（メタ）アクリル系樹脂で形成する場合、その（メタ）アクリル系樹脂としては、例えば、熱可塑性樹脂、紫外線硬化性樹脂などが挙げられる。

（メタ）アクリル系樹脂が熱可塑性樹脂である場合には、熱可塑性樹脂としては、（メタ）アクリル酸エステルを主成分とする（メタ）アクリル系重合体を含む樹脂が好ましく用いられる。この（メタ）アクリル系重合体は、（（メタ）アクリル酸エステルのみからなる単独重合体若しくは共重合体でもよく、また、（メタ）アクリル酸エステルとこれと共重合可能な単量体との共重合体でもよい。

（メタ）アクリル酸エステルとして、好ましくは（メタ）アクリル酸と炭素数１〜１５のアルカノール及びシクロアルカノールから誘導される構造のものが挙げられ、より好ましくは、炭素数１〜８のアルカノールから誘導される構造のものが挙げられる。炭素数が多すぎる場合は、得られる基材フィルム層の破断時の伸びが大きくなる傾向がある。

（メタ）アクリル酸エステルの具体例としては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸ｉ−プロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ｉ−ブチル、アクリル酸ｓｅｃ−ブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸ｎ−ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ｎ−オクチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸ｎ−デシル、アクリル酸ｎ−ドデシルなどのアクリル酸エステル類；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸ｉ−プロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸ｉ−ブチル、メタクリル酸ｓｅｃ−ブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸ｎ−ヘキシル、メタクリル酸ｎ−オクチル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸ｎ−デシル、メタクリル酸ｎ−ドデシルなどのメタクリル酸エステル類；などを挙げることができる。

これらの（メタ）アクリル酸エステルは、水酸基、ハロゲン原子などの任意の置換基を有していてもよい。そのような置換基を有する（メタ）アクリル酸エステルの例としては、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、アクリル酸４−ヒドロキシブチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル、メタクリル酸４−ヒドロキシブチル、メタクリル酸３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル、メタクリル酸グリシジルなどを挙げることができる。なお、（メタ）アクリル酸エステルは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

（メタ）アクリル系重合体は、（メタ）アクリル酸エステルに由来する繰り返し単位の含有量が、好ましくは５０重量％以上、より好ましくは８５重量％以上、特に好ましくは９０重量％以上のものである。

（メタ）アクリル酸エステルと共重合可能な単量体には、特に限定はないが、例えば、上述した（メタ）アクリル酸エステル以外のα，β−エチレン性不飽和カルボン酸エステル単量体、さらに、α，β−エチレン性不飽和カルボン酸単量体、アルケニル芳香族単量体、共役ジエン単量体、非共役ジエン単量体、シアン化ビニル単量体、α，β−エチレン性不飽和カルボン酸アミド単量体、カルボン酸不飽和アルコールエステル、オレフィン単量体などが挙げられる。

上述した（メタ）アクリル酸エステル以外のα，β−エチレン性不飽和カルボン酸エステル単量体の具体例としては、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、イタコン酸ジメチルなどが挙げられる。

α，β−エチレン性不飽和カルボン酸単量体は、モノカルボン酸、多価カルボン酸、多価カルボン酸の部分エステル及び多価カルボン酸無水物のいずれでもよく、その具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、マレイン酸モノエチル、フマル酸モノｎ−ブチル、無水マレイン酸、無水イタコン酸などが挙げられる。

アルケニル芳香族単量体の具体例としては、スチレン、α−メチルスチレン、メチルα−メチルスチレン、ビニルトルエンおよびジビニルベンゼンなどが挙げられる。

共役ジエン単量体の具体例としては、１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ブタジエン、１，３−ペンタジエン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、２−クロル−１，３−ブタジエン、シクロペンタジエンなどを挙げることができる。

非共役ジエン単量体の具体例としては、１，４−ヘキサジエン、ジシクロペンタジエン、エチリデンノルボルネンなどが挙げられる。

シアン化ビニル単量体の具体例としては、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、α−クロルアクリロニトリル、α−エチルアクリロニトリルなどが挙げられる。

α，β−エチレン性不飽和カルボン酸アミド単量体の具体例としては、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドなどが挙げられる。

カルボン酸不飽和アルコールエステル単量体の具体例としては、酢酸ビニルなどを挙げることができる。

オレフィン単量体の具体例としては、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテンなどを挙げられる。

（メタ）アクリル酸エステルと共重合可能な単量体は、１種類を単独で使用してもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。（メタ）アクリル酸エステルと共重合可能な単量体としては、アルケニル芳香族単量体が好ましく、なかでもスチレンが好ましい。

（メタ）アクリル系重合体において、（メタ）アクリル酸エステルと共重合可能な単量体に由来する繰り返し単位の含有量は、５０重量％未満、好ましくは１５重量％未満、より好ましくは１０重量％未満である。

（メタ）アクリル系重合体の好ましい具体例としては、メタクリル酸メチル／アクリル酸メチル／アクリル酸ブチル／スチレン共重合体、メタクリル酸メチル／アクリル酸メチル共重合体、メタクリル酸メチル／スチレン／アクリル酸ブチル共重合体などが挙げられる。（メタ）アクリル系重合体は、１種類を単独で使用してもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。これらのうち、ポリメタクリレートが好ましく、中でもポリメチルメタクリレートがより好ましい。

（メタ）アクリル系重合体の分子量は、特に限定されないが、通常、重量平均分子量で５０，０００〜５００，０００である。分子量がこの範囲内にあると、均質なフィルム層を溶融流延法により容易に作製することができる。

（メタ）アクリル系樹脂は、本発明の効果を著しく損なわない限り、（メタ）アクリル系重合体以外にもその他の成分を含んでいてもよい。その他の成分の例を挙げると、脂環式構造含有重合体樹脂が含んでいてもよいその他の成分と同様の例が挙げられる。なお、その他の成分は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

（メタ）アクリル系樹脂の引張試験における破断時伸びは、好ましくは１０％以上、より好ましくは５０％以上であり、好ましくは１８０％以下、より好ましくは１７０％以下である。破断時伸びが上記範囲内にあるときに、基材フィルム層の不要部分のカス上げ加工性が良好となる。なお、前記のカス上げ加工性とは、基材フィルム層の不要部分を切除した場合に、切除された不要部分（カス）を除去する際の操作性のことを意味する。破断時伸びは、ＪＩＳ Ｋ ７１２７の規定により、試験片タイプ１Ｂ（Ｗ１０，Ｌ１００，ｔ０．１ｍｍ）、速度５ｍｍ／分の条件で求められた値である。

熱可塑性の（メタ）アクリル系樹脂で形成されたフィルム層は、その製法によって特に制限されない。熱可塑性の（メタ）アクリル系樹脂で形成されたフィルム層は、例えば、前述の脂環式構造含有重合体樹脂で形成されたフィルム層と同様のフィルム成形法で成形することによって製造できる。

（メタ）アクリル系樹脂が紫外線硬化型樹脂である場合には、紫外線硬化型樹脂としては、易接着層と親和性のある材料を用いることが好ましい。例えば、易接着層としてウレタン樹脂層を採用する場合、紫外線硬化型樹脂としては、ウレタンアクリレート系、エポキシアクリレート系、ポリエステルアクリレート系などが好ましい。

また、未硬化状態の紫外線硬化型樹脂として好ましくは、例えば、分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー及びモノマーのうち一種類又は二種類以上を含み、紫外線の照射により硬化する樹脂などが挙げられる。分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有するプレポリマー又はオリゴマーとしては、例えば、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールとの縮合物などの不飽和ポリエステル類；ポリエステルメタクリレート、ポリエーテルメタクリレート、ポリオールメタクリレート、メラミンメタクリレートなどのメタクリレート類；ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリオールアクリレート、メラミンアクリレートなどのアクリレート類；カチオン重合型エポキシ化合物；などが挙げられる。

分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有するモノマーの例としては、スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系モノマー；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸−２−エチルヘキシル、アクリル酸メトキシエチル、アクリル酸ブトキシエチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸メトキシブチル、アクリル酸フェニル等のアクリル酸エステル類；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸メトキシエチル、メタクリル酸エトキシメチル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ラウリル等のメタクリル酸エステル類；アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ）メチル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）プロピル等の不飽和置換の置換アミノアルコールエステル類；アクリルアミド、メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミド類；エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、２−ヒドロキシアクリレート、２−ヘキシルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクレリート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等の多官能性アクリレート類；トリメチロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリチオプロピレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート等の、分子中に２個以上のチオール基を有するポリチオール類；グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、グリシジルフェニルエーテル、グリシジルエチルエーテル、エピクロロヒドリン、アリルグリシジルエーテル、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、グリセロールジグリシジルエーテル、ジグリセロールトリグリシジルエーテル、ジグリセロールトリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリシジルエーテル、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートのジグリシジルエーテル、フェノールノボラックポリグリシジルエーテル、クレゾールノボラックポリグリシジルエーテル等のエポキシ化合物などが挙げられる。
本発明においては、これらのプレポリマー、オリゴマー及びモノマーは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

未硬化状態の紫外線硬化型樹脂における前記プレポリマー、オリゴマー及びモノマーの含有量は、優れた塗布適性が得られる観点から、５重量％〜９５重量％が好ましい。

紫外線硬化型樹脂は、好ましくは光重合開始剤及び光重合促進剤を含む。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、アシルフォスフィンオキサイド類、ベンゾインエーテル類、オキシムエステル類などのラジカル重合性開始剤；芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステルなどのカチオン重合性開始剤；などが挙げられる。なお、これらは１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。光重合開始剤の含有量は、紫外線硬化型樹脂成分中に、通常、０．１重量％〜１０重量％である。

紫外線硬化樹脂に補助的に各種の機能を付加するために、紫外線硬化型樹脂に、例えば、酸化防止剤；紫外線吸収剤；光安定剤；染料、顔料などの着色剤；可塑剤；滑剤；界面活性剤などを含ませてもよい。なお、これらは１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

（メタ）アクリル系樹脂として紫外線硬化樹脂を用いる場合、紫外線硬化樹脂で形成されたフィルム層は、その製法によって特に制限されない。例えば、紫外線硬化型樹脂を溶剤に溶解させた液状組成物を用意し、その液状組成物を下地となるフィルムの表面に塗布し、その後、紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させることにより、紫外線硬化樹脂で形成されたフィルム層を形成することができる。溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノールなどのアルコール類；エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジアセトングリコール、プロプレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコール類；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタンなどの脂肪族炭化水素；酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類；メチルエチルケトオキシムなどのオキシム類；などが挙げられる。なお、溶剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

紫外線硬化型樹脂を下地となるフィルムの表面に塗布する方法は特に限定されず、公知の塗布法を採用することができる。具体的な塗布法としては、例えば、ワイヤーバーコート法、ディップ法、スプレー法、スピンコート法、ロールコート法、グラビアコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、スライドコート法、エクストルージョンコート法などが挙げられる。
紫外線硬化型樹脂の塗布量は特に限定されないが、硬化後の厚みとして、通常０．０５μｍ以上、好ましくは０．１μｍ以上、より好ましくは０．５μｍ以上、通常５０μｍ以下、好ましくは２０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以下となる量が好ましい。

熱可塑性樹脂フィルム層に適用し得る材料としては、ポリエステル樹脂も挙げられる。ポリエステルとは、高分子主鎖中にエステル結合を有する高分子化合物であり、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレン−２，６−ナフタレート（ＰＥＮ）、ポリプロピレンテレフタレート（ＰＰＴ）、ポリエチレン−ｐ−オキシベンゾエート（ＰＯＢ）、ポリ−１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート（ＰＣＴ）などが挙げられる。また、ポリエステルの共重合成分としては、例えば、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ポリアルキレングリコールなどのジオール成分；アジピン酸、セバチン酸、フタル酸、イソフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸などのジカルボン酸成分；等が挙げられる。なお、ポリエステルは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。これらのうちでも、ポリ−１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート（ＰＣＴ）、ポリプロピレンテレフタレート（ＰＰＴ）及びポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）の単独重合体並びにそれらの共重合体が好ましい。

ポリエステル樹脂は、本発明の効果を著しく損なわない限り、ポリエステル以外にもその他の成分を含んでいてもよい。その他の成分の例を挙げると、脂環式構造含有重合体樹脂が含んでいてもよいその他の成分と同様の例が挙げられる。なお、その他の成分は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

また、基材フィルム層は、一層のみを備える単層構造のフィルム層であってもよく、二層以上の層を備える複層構造のフィルム層であってもよい。基材フィルム層を複層構造のフィルム層とすることにより、様々な特性を有する偏光板を製造することができる。ただし、基材フィルム層が二層以上の層を備える場合、熱可塑性樹脂フィルム層が、基材フィルム層の最表面に位置することが好ましい。この際、基材フィルム層の２面の最表面（おもて面及び裏面）のうち、一方の最表面にのみ熱可塑性樹脂フィルム層が位置していてもよく、両方の最表面に熱可塑性樹脂フィルム層が位置していてもよい。

基材フィルム層が二層以上の層を備える場合、一種類のフィルム層を二層以上備えていてもよく、異なる二種類以上のフィルム層を備えていてもよい。また、基材フィルム層には、上述した熱可塑性樹脂以外の樹脂からなる層を設けてもよい。基材フィルム層が備える具体的な層の種類に制限は無く、例えば、傷付防止、反射防止、帯電防止、防眩、防汚などの機能を有するフィルム層が挙げられる。基材フィルム層の層構成の具体例を挙げると、例えば、（メタ）アクリル系樹脂からなる層、スチレン系樹脂からなる層、及び（メタ）アクリル系樹脂からなる層をこの順に積層させた三層構造の基材フィルム層などが挙げられる。

基材フィルム層が二層以上の層を備える場合、基材フィルム層の製造方法に制限は無い。例えば、別々に製造したフィルム層を接着剤を用いて貼り合せて基材フィルム層を製造してもよい。また、例えば、接着剤を用いずに共押出法などにより基材フィルム層を製造してもよい。

接着剤は、貼り合わせるフィルム層を形成する樹脂の種類により適宜選択してよい。接着剤の例としては、アクリル系接着剤、ウレタン系接着剤、ポリエステル系接着剤、ポリビニルアルコール系接着剤、ポリオレフィン系接着剤、変性ポリオレフィン系接着剤、ポリビニルアルキルエーテル系接着剤、ゴム系接着剤、エチレン−酢酸ビニル系接着剤、塩化ビニル−酢酸ビニル系接着剤、ＳＥＢＳ（スチレン−エチレン−ブチレン−スチレン共重合体）系接着剤、ＳＩＳ（スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体）系接着剤、エチレン−スチレン共重合体などのエチレン系接着剤、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル共重合体などのアクリル酸エステル系接着剤などが挙げられる。なお、接着剤は１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

接着剤で形成される接着層の平均厚みは、好ましくは０．１μｍ以上、より好ましくは０．５μｍ以上であり、好ましくは１０μｍ以下、より好ましくは５μｍ以下である。

接着剤を使用せずに基材フィルム層を製造する場合、例えば、共押出Ｔダイ法、共押出インフレーション法、共押出ラミネーション法などの共押出成形法；ドライラミネーションなどのフィルムラミネーション成形法などを用いればよい。また、例えば、あるフィルム層の表面に、別のフィルム層を構成する樹脂を含む溶液をコーティングするコーティング成形法などを用いてもよい。これらの中でも、製造効率や、基材フィルム層中に溶剤などの揮発性成分を残留させないという観点からは共押出成形法が好ましく、共押出成形法の中でも共押出Ｔダイ法が好ましい。さらに、共押出Ｔダイ法にはフィードブロック方式とマルチマニホールド方式が挙げられるが、フィルム層の厚さのばらつきを少なくできる点からは、マルチマニホールド方式がさらに好ましい。

基材フィルム層は、延伸されていない未延伸フィルム層であってもよく、延伸された延伸フィルム層であってもよい。また、基材フィルム層が２層以上の層を備える場合、予め延伸されたフィルム層を積層して延伸フィルム層を得てもよく、共押出等により得られた複層フィルム層を延伸して延伸フィルム層を得てもよい。

延伸方法は特に制限されず、例えば、一軸延伸法、二軸延伸法のいずれを採用してもよい。延伸方法の例を挙げると、一軸延伸法の例としては、フィルム搬送用のロールの周速の差を利用して長尺方向に一軸延伸する方法；テンター延伸機を用いて幅方向に一軸延伸する方法等が挙げられる。また、二軸延伸法の例としては、固定するクリップの間隔を開いての長尺方向の延伸と同時に、ガイドレールの広がり角度により幅方向に延伸する同時二軸延伸法；フィルム搬送用のロール間の周速の差を利用して長尺方向に延伸した後、その両端部をクリップ把持してテンター延伸機を用いて幅方向に延伸する逐次二軸延伸法などの二軸延伸法等が挙げられる。さらに、例えば、幅方向又は長尺方向に左右異なる速度の送り力若しくは引張り力又は引取り力を付加できるようにしたテンター延伸機を用いて、フィルムの幅方向に対して任意の角度θをなす方向に連続的に斜め延伸する斜め延伸法を用いてもよい。

延伸に用いる装置として、例えば、縦一軸延伸機、テンター延伸機、バブル延伸機、ローラー延伸機等が挙げられる。
延伸時の温度は、未延伸の基材フィルム層を形成する材料のガラス転移温度をＴｇとしたときに、好ましくは（Ｔｇ−３０℃）と（Ｔｇ＋６０℃）の間、より好ましくは（Ｔｇ−１０℃）と（Ｔｇ＋５０℃）の間の温度から選択される。
延伸倍率は、使用する基材フィルム層の光学特性に応じて適宜選択すればよく、通常１．０５倍以上、好ましくは１．１倍以上であり、通常１０．０倍以下、好ましくは２．０倍以下である。

基材フィルム層は、１ｍｍ厚換算での全光線透過率が８０％以上であることが好ましい。さらに好ましくは、全光線透過率が９０％以上である。
基材フィルム層は、１ｍｍ厚でのヘイズが０．３％以下であることが好ましい。さらに好ましくは、ヘイズが０．２％以下である。ヘイズが０．３％を超えると、基材フィルム層の透明性が低下することがある。

基材フィルム層の面内レターデーションＲｅ及び厚さ方向レターデーションＲｔｈの値は、光学フィルム１００の用途によって異なり、例えば、面内レターデーションＲｅで１０ｎｍ〜５００ｎｍ、厚さ方向レターデーションＲｔｈで−５００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲から適宜選択される。なお、面内レターデーションＲｅは、フィルム層の遅相軸方向の屈折率ｎｘ、遅相軸に面内で直交する方向の屈折率ｎｙ、及び厚み方向の屈折率ｎｚ、フィルム層の平均厚みＤとしたときに、（ｎｘ−ｎｙ）×Ｄで定義される値である。また、厚さ方向レターデーションＲｔｈは、（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×Ｄで定義される値である。

基材フィルム層の平均厚さは、好ましくは５μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上であり、好ましくは５００μｍ以下、より好ましくは３００μｍ以下である。
基材フィルム層の厚み変動幅は、長尺方向及び幅方向にわたって、前記平均厚さの±３％以内であることが好ましい。厚み変動を上記範囲にすることにより、基材フィルム層の面内レターデーションＲｅなどの光学特性のバラツキを小さくすることができる。

基材フィルム層は、面内レターデーションＲｅのバラツキが、通常１０ｎｍ以内、好ましくは５ｎｍ以内、さらに好ましくは２ｎｍ以内である。面内レターデーションＲｅのバラツキを上記範囲にすることにより、光学フィルム１００を液晶表示装置用の位相差フィルムとして用いた場合に、表示品質を良好なものにすることが可能になる。ここで、面内レターデーションＲｅのバラツキは、光入射角０°（入射光線と基材フィルム層の表面とが直交する状態）の時の面内レターデーションＲｅを、基材フィルム層の幅方向に測定したときの、その面内レターデーションＲｅの最大値と最小値との差である。

基材フィルム層の残留揮発性成分の含有量は特に制約されないが、好ましくは０．１重量％以下、より好ましくは０．０５重量％以下、さらに好ましくは０．０２重量％以下である。残留揮発性成分の含有量が０．１重量％を超えると、経時的に基材フィルム層の光学特性が変化するおそれがある。揮発性成分の含有量を上記範囲にすることにより、寸法安定性が向上し、基材フィルム層の面内レターデーションＲｅ及び厚さ方向レターデーションＲｔｈの経時変化を小さくすることができ、さらには光学フィルム１００を備える偏光板又は液晶表示装置等の劣化を抑制でき、長期的にディスプレイの表示を安定で良好に保つことができる。揮発性成分は、基材フィルム層に含まれる分子量２００以下の物質であり、例えば、残留単量体及び溶媒などが挙げられる。揮発性成分の含有量は、分子量２００以下の物質の合計として、基材フィルム層をガスクロマトグラフィーにより分析することにより定量することができる。

（易接着層）
易接着層は、接着剤を介して光学フィルム１００を他の部材（例えば、偏光子等）と貼り付ける際に、接着剤による基材フィルム層と他の部材との接着を補強して、より強固に接着させる層である。すなわち、易接着層は、接着剤の機能を補強する層であり、別称としてプライマー層などと呼ばれる。易接着層は、基材フィルム層の一方の表面に設けてもよいし、両面に設けてもよい。基材フィルム層の両面に易接着層を設けることにより、光学フィルム１００の取り扱い性を効果的に改善できる。

易接着層は、例えば、水系樹脂を含む層とすることが好ましい。水系樹脂としては、例えば、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、およびそれぞれの樹脂のエマルジョンなどが挙げられ、好ましくは水系ウレタン樹脂が挙げられる。

水系ウレタン樹脂はポリウレタンと、必要に応じてその他の成分とを含む。水系ウレタン樹脂に含まれるポリウレタンとしては、例えば、（ｉ）１分子中に平均２個以上の活性水素を含有する成分と（ii）多価イソシアネート成分とを反応させて得られるポリウレタン；または、上記（ｉ）成分及び（ii）成分をイソシアネート基過剰の条件下で、反応に不活性で水との親和性の大きい有機溶媒中でウレタン化反応させてイソシアネート基含有プレポリマーとし、次いで、該プレポリマーを中和し、鎖延長剤を用いて鎖延長し、水を加えて分散体とすることによって製造されるポリウレタン；などが挙げられる。これらのポリウレタン中には酸構造（酸残基）を含有させてもよい。

なお、イソシアネート基含有プレポリマーの鎖伸長方法は公知の方法によればよく、例えば、鎖伸長剤として、水、水溶性ポリアミン、グリコール類などを使用し、イソシアネート基含有プレポリマーと鎖伸長剤とを、必要に応じて触媒の存在下で反応させればよい。

前記（ｉ）成分（すなわち、１分子中に平均２個以上の活性水素を含有する成分）としては、特に限定されるものではないが、水酸基性の活性水素を有するものが好ましい。このような化合物の具体例としては、次のようなものが挙げられる。

（１）ポリオール化合物
ポリオール化合物として、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、１，２−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、２，３−ブチレングリコール、１，４−ブチレングリコール、１，５−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサングリコール、２，５−ヘキサンジオール、ジプロピレングリコール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、トリシクロデカンジメタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、２，２−ジメチルプロパンジオール、１，４−ブタンジオールなどが挙げられる。

（２）ポリエーテルポリオール
ポリエーテルポリオールとして、例えば、前記のポリオール化合物のアルキレンオキシド付加物；アルキレンオキシドと環状エーテル（例えばテトラヒドロフランなど）との開環（共）重合体；ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、エチレングリコール−プロピレングリコールの共重合体；グリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリヘキサメチレングリコール、ポリオクタメチレングリコールなどのグリコール類；などが挙げられる。

（３）ポリエステルポリオール
ポリエステルポリオールとして、例えば、アジピン酸、コハク酸、セバシン酸、グルタル酸、マレイン酸、フマル酸、フタル酸等のジカルボン酸又はその無水物と、上記（１）で挙げられたようなエチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタメチレンジオール、ネオペンチルグリコールなどのポリオール化合物とを、水酸基過剰の条件で重縮合させて得られたものなどが挙げられる。より具体的には、例えば、エチレングリコール−アジピン酸縮合物、ブタンジオール−アジピン縮合物、ヘキサメチレングリコール−アジピン酸縮合物、エチレングリコール−プロピレングリコール−アジピン酸縮合物、或いはグリコールを開始剤としてラクトンを開環重合させたポリラクトンジオールなどが挙げられる。

（４）ポリエーテルエステルポリオール
ポリエーテルエステルポリオールとして、例えば、エーテル基含有ポリオール（例えば、前記（２）のポリエーテルポリオールやジエチレングリコール等）または、これと他のグリコールとの混合物を上記（３）で例示したようなジカルボン酸又はその無水物に加えてアルキレンオキシドを反応させてなるものなどが挙げられる。より具体的には、例えば、ポリテトラメチレングリコール−アジピン酸縮合物などが挙げられる。

（５）ポリカーボネートポリオール
ポリカーカーボネートポリオールとしては、例えば、一般式ＨＯ−Ｒ−（Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ｒ）ｘ−ＯＨ（ただし、式中、Ｒは炭素原子数１〜１２の飽和脂肪酸ポリオール残基を示す。また、ｘは分子の繰り返し単位の数を示し、通常５〜５０の整数である。）で示される化合物などが挙げられる。これらは、飽和脂肪族ポリオールと置換カーボネート（例えば、炭酸ジエチル、ジフェニルカーボネートなど）とを、水酸基が過剰となる条件で反応させるエステル交換法；前記飽和脂肪族ポリオールとホスゲンとを反応させるか、または必要に応じて、その後さらに飽和脂肪族ポリオールを反応させる方法；などにより得ることができる。

上記の（１）から（５）に例示したような化合物は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

前記（ｉ）成分と反応させる（ii）成分（即ち、多価イソシアネート成分）としては、例えば、１分子中に平均２個以上のイソシアネート基を含有する脂肪族、脂環族または芳香族の化合物を使用してもよい。

脂肪族ジイソシアネート化合物としては、炭素原子数１〜１２の脂肪族ジイソシアネートが好ましく、例えばヘキサメチレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサンジイソシアネート、ヘキサンジイソシアネート（ＨＤＩ）などが挙げられる。脂環式ジイソシアネート化合物としては、炭素原子数４〜１８の脂環式ジイソシアネートが好ましく、例えば、１，４−シクロヘキサンジイソシアネート、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）などが挙げられる。芳香族イソシアネートとしては、例えば、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネートなどが挙げられる。

また、水系ウレタン樹脂のうちでポリウレタンが酸構造を含有するもの（以下、適宜「酸構造含有水系ウレタン樹脂」という。）は、界面活性剤を使用せずに、若しくは界面活性剤の量が少なくても、水中に分散させることが可能となるので、易接着層の耐水性が良くなることが期待される。これを自己乳化型といい、界面活性剤を使用すること無く分子イオン性のみで、水中にポリウレタン樹脂が分散安定化しうることを意味する。このような水系ウレタン樹脂を用いた易活性層は、界面活性剤が不要であるために、脂環式構造含有重合体樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、およびポリエステル樹脂との接着性に優れ、かつ高い透明性を維持できるため、好ましい。

酸構造としては、例えば、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホン酸基（−ＳＯ_３Ｈ）等の酸基などを挙げることができる。また、酸構造は、ポリウレタンにおいて側鎖に存在していてもよく、末端に存在していてもよい。なお、酸構造は、１種類を用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

酸構造の含有量としては、水系ウレタン樹脂中の酸価として、好ましくは２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、より好ましくは２５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であり、好ましくは２５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である。酸価が２０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満では水分散性が不十分となりやすく、一方、酸価が２５０ｍｇＫＯＨ／ｇより大きいと易接着層の耐水性が劣る傾向となる。

ポリウレタンに酸構造を導入する方法は、従来から用いられている方法が特に制限なく使用できる。好ましい例を挙げると、ジメチロールアルカン酸を、前記（２）から（４）に記載したグリコール成分の一部もしくは全部と置き換えることによって、予めポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテルエステルポリオール等にカルボキシル基を導入する方法が挙げられる。ここで用いられるジメチロールアルカン酸としては、例えば、ジメチロール酢酸、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロール酪酸などが挙げられる。なお、ジメチロールアルカン酸は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

また、ポリウレタンが含む酸構造の一部又は全部は、中和することが好ましい。酸構造を中和することにより、水系ウレタン樹脂の水分散性を向上させることができる。酸成分を中和する中和剤としては、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどの有機アミン；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニアなどの無機塩基；などを挙げられる。なお、中和剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

ポリウレタンの数平均分子量は、１，０００以上が好ましく、より好ましくは２０，０００以上であり、１，０００，０００以下が好ましく、より好ましくは２００，０００以下である。

水系ウレタン樹脂として、市販されている水系ウレタン樹脂をそのまま使用することも可能である。水系ウレタン樹脂としては、例えば、旭電化工業（株）製の「アデカボンタイター」シリーズ、三井東圧化学（株）製の「オレスター」シリーズ、大日本インキ化学工業（株）製の「ボンディック」シリーズ、「ハイドラン」シリーズ、バイエル社製の「インプラニール」シリーズ、日本ソフラン（株）製の「ソフラネート」シリーズ、花王（株）製の「ポイズ」シリーズ、三洋化成工業（株）製の「サンプレン」シリーズ、保土谷化学工業（株）製の「アイゼラックス」シリーズ、第一工業製薬（株）製の「スーパーフレックス」シリーズ、ゼネカ（株）製の「ネオレッツ」シリーズなどを用いることができる。なお、水系ウレタン樹脂は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

また、易接着層は、微粒子を含むことが好ましい。したがって、易接着層が水系樹脂により形成される場合、当該水系樹脂は微粒子を含むことが好ましい。易接着層に微粒子を含ませることにより、易接着層の表面に凹凸が形成され、それによって巻回の際に易接着層が他の層と接触する面積が小さくなり、その分だけ易接着層の表面の滑り性を向上させて、光学フィルム１００を巻回する際のシワの発生を抑制できる。

微粒子の平均粒子径は、通常１ｎｍ以上、好ましくは５ｎｍ以上、より好ましくは１０ｎｍ以上であり、通常５００ｎｍ以下、好ましくは３００ｎｍ以下、より好ましくは２００ｎｍ以下である。平均粒子径を前記範囲の下限値以上にすることにより易接着層の滑り性を効果的に高めることができ、前記範囲の上限値以下にすることによりヘイズを低く抑えることができる。なお、微粒子の平均粒子径としては、レーザー回折法によって粒径分布を測定し、測定された粒径分布において小径側から計算した累積体積が５０％となる粒子径（５０％体積累積径Ｄ５０）を採用する。

微粒子としては、無機微粒子、有機微粒子のいずれを用いてもよいが、水分散性の微粒子を用いることが好ましい。無機微粒子の材料を挙げると、例えば、シリカ、チタニア、アルミナ、ジルコニア等の無機酸化物；炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム、燐酸カルシウム等が挙げられる。また、有機微粒子の材料を挙げると、例えば、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、（メタ）アクリル系樹脂等が挙げられる。これらの中でも、シリカが好ましい。シリカの微粒子は、シワの発生を抑制する能力及び透明性に優れ、ヘイズを生じ難く、着色が無いため、光学フィルム１００の光学特性に与える影響がより小さいからである。また、シリカはウレタン樹脂への分散性および分散安定性が良好だからである。また、シリカの微粒子の中でも、非晶質コロイダルシリカ粒子が特に好ましい。
なお、微粒子は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

易接着層に含まれる微粒子の量は、易接着層に含まれる重合体１００重量部に対し、通常０．５重量部以上、好ましくは５重量部以上、より好ましくは８重量部以上であり、通常２０重量部以下、好ましくは１８重量部以下、より好ましくは１５重量部以下である。微粒子の量を前記の範囲の下限値以上とすることにより、光学フィルム１００を巻回した場合にシワの発生を抑制できる。また、微粒子の量を前記範囲の上限値以下とすることにより、光学フィルム１００の白濁の無い外観を維持できる。

易接着層の厚みが１μｍ以下の場合、易接着層の機械強度を向上させる目的で、易接着層の製造に用いる水系樹脂には、更に架橋剤を含ませることが好ましい。架橋剤としては、水系樹脂に含まれる重合体が有する反応性基と反応する官能基を有する化合物であれば、特に制限なく使用することができる。例えば、水系樹脂として水系ウレタン樹脂を用いる場合には、架橋剤として水系エポキシ化合物、水系アミノ化合物、水系イソシアネート化合物、水系カルボジイミド化合物、水系オキサゾリン化合物等を使用することが、材料の汎用性の観点から好ましい。この中でも、特に水系エポキシ化合物、水系アミノ化合物、水系オキサゾリン化合物を使用することが、接着性の観点から好ましい。

水系エポキシ化合物としては、水に溶解性があるか、又はエマルジョン化した２個以上のエポキシ基を有する化合物であればよい。水系エポキシ化合物の例を挙げると、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール；１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサングリコール、ネオペンチルグリコール等のグリコール類１モルと、エピクロルヒドリン２モルとのエーテル化によって得られるジエポキシ化合物；グリセリン、ポリグリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトール等の多価アルコール類１モルと、エピクロルヒドリン２モル以上とのエーテル化によって得られるポリエポキシ化合物；フタル酸、テレフタル酸、シュウ酸、アジピン酸等のジカルボン酸１モルと、エピクロルヒドリン２モルとのエステル化によって得られるジエポキシ化合物等のエポキシ化合物；などが挙げられる。

水系アミノ化合物としては、水に溶解性があるか、又はエマルジョン化した２個以上のアミノ基を有する化合物であればよい。水系アミノ化合物の例を挙げると、カルボジヒドラジド、シュウ酸ジヒドラジド、マロン酸ジヒドラジド、コハク酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、セバチン酸ジヒドラジド、ドデカン二酸ジヒドラジド、イソフタール酸ジヒドラジド、テレフタル酸ジヒドラジド、グリコリック酸ジヒドラジド、ポリアクリル酸ジヒドラジド等のヒドラジド化合物、メラミン樹脂、ユリア樹脂、グアナミン樹脂などが挙げられる。

水系イソシアネート化合物としては、水に溶解性があるか、又はエマルジョン化した２個以上の非ブロック型のイソシアネート基若しくはブロック型のイソシアネート基を有する化合物であればよい。非ブロック型のイソシアネート化合物としては、例えば、多官能イソシアネート化合物と一価又は多価のノニオン性ポリアルキレンエーテルアルコールとを反応させて得られる化合物が挙げられる。ブロック型イソシアネート化合物としては、例えば、２，４−トリレンジイソシアネート（２，４−ＴＤＩ）、２，６−トリレンジイソシアネート（２，６−ＴＤＩ）、４，４´−ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、メチルシクロヘキシルジイソシアネート（Ｈ６ＴＤＩ）、４，４´−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート（Ｈ１２ＭＤＩ）、１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン（Ｈ６ＸＤＩ）、テトラメチルキシリレンジイソシアネート（ＴＭＸＤＩ）、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート（ＴＭＨＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、ノルボルネンジイソシアネート（ＮＢＤＩ）、２，４，６−トリイソプロピルフェニルジイソシアネート（ＴＩＤＩ）、１，１２−ジイソシアネートドデカン（ＤＤＩ）、２，４，−ビス−（８−イソシアネートオクチル）−１，３−ジオクチルシクロブタン（ＯＣＤＩ）、ｎ−ペンタン−１，４−ジイソシアネート、およびこれらのイソシアヌレート変性体、アダクト変性体、ビュレット変性体、アロファネート変性体、並びに、これらの重合体で１個以上のイソシアネート基を有するものをポリオキシアルキレン基、カルボキシル基等で変性し、水溶性およびまたは水分散性にし、イソシアネート基をブロック剤（フェノール、ε−カプロラクタムなど）でマスクすることにより得られる化合物などが挙げられる。

水系カルボジイミド化合物としては、水に溶解性があるか、又はエマルジョン化した２個以上のカルボジイミド結合（−Ｎ＝Ｃ＝Ｎ−）を有する化合物であればよい。２個以上のカルボジイミド結合を有する化合物は、例えば、２分子以上のポリイソシアネートとカルボジイミド化触媒とを用いて、２個のイソシアネート基を脱炭酸反応させてカルボジイミド結合を形成させる方法によって得ることができる。２個以上のカルボジイミド結合を有する化合物を作製する際に使用されるポリイソシアネートおよびカルボジイミド化触媒は特に制限されず、従来公知のものを使用することができる。

水系オキサゾリン化合物としては、水に溶解性があるか、又はエマルジョン化した２個以上のオキサゾリン基を有する化合物であればよい。

架橋剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

易接着層が水系ウレタン樹脂で形成されている場合、架橋剤の量は、ポリウレタン１００重量部に対して、固形分で、通常１重量部以上、好ましくは５重量部以上であり、通常７０重量部以下、好ましくは６５重量部以下である。このような配合にすることにより、易接着層の強度と、水系ウレタン樹脂の水分散体の安定性を両立できることが可能となる。

さらに、易接着層には、必要に応じて、例えば、耐熱安定剤、耐候安定剤、レベリング剤、帯電防止剤、スリップ剤、アンチブロッキング剤、防曇剤、滑剤、染料、顔料、天然油、合成油、ワックス、架橋剤などを含ませてもよい。なお、これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

易接着層の厚みは、０．０１μｍ以上が好ましく、０．０２μｍ以上がより好ましく、０．０３μｍ以上が特に好ましく、また、５μｍ以下が好ましく、２μｍ以下がより好ましく、１μｍ以下が特に好ましい。前記範囲内にあると、基材フィルム層と易接着層との十分な接着強度が得られ、かつ、光学フィルム１００の反りなどの欠陥を無くすことができる。

基材フィルム層の厚みｔ_１と易接着層の厚みｔ_２との比ｔ_２／ｔ_１は、０．０００３以上が好ましく、０．００１０以上がより好ましく、０．００２５以上が特に好ましく、また、０．０１００以下が好ましく、０．００８０以下がより好ましく、０．００５０以下が特に好ましい。これにより、光学フィルム１００の高い透明性と高い滑り性との両立が可能となる。なお、光学フィルム１００が基材フィルム層を一層だけ備える場合には当該基材フィルム層の厚みが厚みｔ_１となり、光学フィルム１００が基材フィルム層を二層以上備える場合にはそれらの基材フィルム層の厚みの合計が厚みｔ_１となる。また、光学フィルム１００が易接着層を一層だけ備える場合には当該易接着層の厚みが厚みｔ_２となり、光学フィルム１００が易接着層を二層以上備える場合にはそれらの易接着層の厚みの合計が厚みｔ_２となる。

易接着層は、厚み２０μｍにおける鉛筆硬度がＨ以上であることが好ましい。前記範囲にすることにより、光学フィルム１００に耐擦傷性を付与することができる。

基材フィルム層と易接着層との界面屈折率差は、０．０５以下であることが好ましい。界面屈折率差が前記範囲内にあると、光学フィルム１００を光が透過する際の光の損失を抑えることができる。

易接着層の製造方法に制限は無い。水系樹脂により易接着層を形成する場合、通常は、基材フィルム層の他の部材に面する表面に、水系樹脂を含む塗布液を塗布し、塗膜を硬化させることにより、易接着層を得る。例えば、易接着層をウレタン樹脂により形成する場合は、基材フィルム層の表面に、水系ウレタン樹脂の水分散体を直接に塗布することにより、易接着層としてのウレタン樹脂層を形成してもよい。水系ウレタン樹脂の水分散体は、水系ウレタン樹脂が水に分散された液状の組成物であり、例えば、エマルション、コロイド分散系、水溶液などの形態としてもよい。

水系ウレタン樹脂の水分散体には、水溶性の溶剤が含まれていてもよい。水溶性の溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、アセトン、テトラヒドロフラン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルなどが挙げられる。なお、これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

水系ウレタン樹脂の水分散体に分散する水系ウレタン樹脂の粒子の粒径は、光学フィルム１００の光学特性の観点から、０．０１μｍ〜０．４μｍであることが好ましい。水系ウレタン樹脂粒子の粒径は、動的光散乱法により測定することができ、例えば、大塚電子（株）製の光散乱光度計ＤＬＳ−８０００シリーズにより測定することができる。

水系ウレタン樹脂の水分散体の粘度は、１５ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましく、１０ｍＰａ・ｓ以下であるのが特に好ましい。水系ウレタン樹脂の分散体の粘度が前記範囲内にあると、基材フィルム層の表面に水系ウレタン樹脂の水分散体を均一に塗布することができる。水系ウレタン樹脂の水分散体の粘度は、音叉型振動式粘度計により２５℃の条件下で測定した値である。水系ウレタン樹脂の水分散体中の水系ウレタン樹脂の割合及び水系ウレタン樹脂の粒径などを変化させることにより、水系ウレタン樹脂の水分散体の粘度を調整することができる。

水系樹脂を含む塗布液の塗布方法は特に限定されず、公知の塗布法を採用することができる。具体的な塗布法としては、例えば、ワイヤーバーコート法、ディップ法、スプレー法、スピンコート法、ロールコート法、グラビアコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、スライドコート法、エクストルージョンコート法などが挙げられる。

易接着層を設ける前に、易接着層を設ける基材フィルム層の表面に改質処理を施し、基材フィルム層と易接着層との密着性をより向上させることが好ましい。基材フィルム層に対する表面改質処理としては、例えば、エネルギー線照射処理及び薬品処理等が挙げられる。エネルギー線照射処理としては、例えば、コロナ放電処理、プラズマ処理、電子線照射処理、紫外線照射処理等が挙げられ、処理効率の点等から、コロナ放電処理、プラズマ処理が好ましく、コロナ放電処理が特に好ましい。また、薬品処理としては、例えば、ケン化処理、重クロム酸カリウム溶液、濃硫酸等の酸化剤水溶液中に浸漬し、その後、水で洗浄する方法が挙げられる。

易接着層の表面には、親水化表面処理を施すことが好ましい。易接着層の表面は、通常は光学フィルム１００を他の部材と貼り合わせる際の貼り合せ面となるので、この面の親水性を更に向上させることにより、光学フィルム１００と他の部材との接着性を顕著に向上させることができる。
易接着層に対する親水性表面処理としては、例えば、コロナ放電処理、プラズマ処理、ケン化処理、紫外線照射処理などが挙げられる。中でも、処理効率の点などからコロナ放電処理及び大気圧プラズマ処理が好ましく、コロナ放電処理が特に好ましい。プラズマ処理としては、大気圧プラズマ処理が好ましい。

親水化表面処理より、易接着層の表面の平均水接触角を、好ましくは７０°以下、より好ましくは６０°以下、特に好ましくは５０°以下であり、通常２０°以上にすることが望ましい。また、水接触角の標準偏差は、好ましくは０．０１°〜５°である。易接着層の表面をこのような水接触角となるように表面改質処理することにより、光学フィルム１００を偏光子等の他の部材と強固に接着できる。

前記の水接触角は、接触角計を用いてθ／２法により求める。平均水接触角は、例えば、親水化表面処理を施した易接着層の表面において、１００ｃｍ^２の範囲内で無作為に選んだ２０点の水接触角を測定し、この測定値の加算平均により算出される。水接触角の標準偏差は、この測定値から算出される。親水化処理を行うことにより、易接着層の表面に、例えばヒドロキシ基、カルボキシル基、カルボニル基、アミノ基、スルホン酸基などの官能基を導入することができる。

コロナ放電処理は、電極の構造として、ワイヤー電極、平面電極、ロール電極のものが好適である。放電を均一にするために、処理対象のフィルムと電極との間に誘電体を挟んで処理を実施することが好ましい。
電極の材質としては、例えば、鉄、銅、アルミ、ステンレスなどの金属が挙げられる。
電極形状としては、例えば、薄板状、ナイフエッジ状、ブラシ状などが挙げられる。

誘電体としては、比誘電率が１０以上のものを使用し、両極の電極をそれぞれ誘電体で挟んだ構造が好ましい。誘電体の材質としては、例えば、セラミック；シリコンゴム、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレンテレフタレート等のプラスチック；ガラス；石英；二酸化珪素；酸化アルミニウム、二酸化ジルコニウム、二酸化チタンなどの金属酸化物；チタン酸バリウム等の化合物；などが挙げられる。特に、比誘電率１０以上（２５℃環境下）の固体誘電体を介在させておくことが、低電圧で高速にコロナ放電処理を行えるという点で有利である。上記比誘電率１０以上の固体誘電体としては、例えば、二酸化ジルコニウム、二酸化チタンなどの金属酸化物；チタン酸バリウムなどの酸化物；シリコンゴムなどが挙げられる。なお、誘電体の厚さは０．３ｍｍ〜１．５ｍｍの範囲が好ましい。誘電体の厚さが薄すぎると絶縁破壊を起こし易く、厚すぎると印加電圧を高くすることになるため、効率が悪くなる可能性がある。

処理対象のフィルムと電極との間隔は、０．５ｍｍ〜１０ｍｍであることが好ましい。０．５ｍｍ未満では厚みの薄いフィルムしか電極間を通せなくなる。このため、例えば継ぎ目等の厚みが厚い部分がある場合などには、フィルムの厚みが厚い部分が電極間を通過する際に電極に当たり、フィルムが傷つく場合がある。また、１０ｍｍを超えると印加電圧が高くなるので、電源が大きくなり放電がストリーマ状になる可能性がある。

コロナ放電処理の出力は、処理対象面のダメージをできるだけ少なく処理する条件が好ましく、具体的には、好ましくは０．０２ｋＷ以上、より好ましくは０．０４ｋＷ以上であり、好ましくは５ｋＷ以下、より好ましくは２ｋＷ以下である。また、この範囲内で、可能な限り低出力で、数回コロナ放電処理を施すことが、好ましいコロナ放電処理方法である。

コロナ放電処理の密度は、基材フィルム層のコロナ放電処理を施された面の平均水接触角が、通常２０°〜７０°、より好ましくは２０°〜５０°であり、また、水接触角の標準偏差を０．０１°〜５°の範囲内にすることができるように調整することが好適である。具体的には、コロナ放電処理の密度は、好ましくは１Ｗ・ｍｉｎ／ｍ²以上、より好ましくは５Ｗ・ｍｉｎ／ｍ²以上、特に好ましくは１０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ²以上であり、好ましくは１０００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ²以下、より好ましくは５００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ²以下、特に好ましくは３００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ²以下である。処理密度が低過ぎる場合は、水系樹脂を含む塗布液の塗布性が低下しやすい。また、処理密度が高過ぎる場合は、処理された表面が破壊され、密着性が低下しやすい。

コロナ放電処理の周波数は、好ましくは５ｋＨｚ以上、より好ましくは１０ｋＨｚ以上であり、好ましくは１００ｋＨｚ以下、より好ましくは５０ｋＨｚ以下である。周波数が低下し過ぎるとコロナ放電処理の均一性が劣化し、コロナ放電処理のムラが生じるおそれがある。また、周波数が大きくなり過ぎると、高出力のコロナ放電処理を行う場合には特に問題ないが、低出力のコロナ放電処理を実施する場合に安定した処理を行うことが難しくなり、その結果、処理ムラが発生するおそれがある。

コロナ放電処理は電極周辺をケーシングで囲い、ケーシングの内部に不活性ガスを入れ、電極部にガスをかけるようにすると、放電をより細かい状態で発生させることができる。不活性ガスとしては、例えば、ヘリウム、アルゴン、窒素等が挙げられる。なお、不活性ガスは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

親水化表面処理としてプラズマ処理を行う場合、プラズマ放電処理としては、例えば、グロー放電処理、フレームプラズマ処理などが挙げられる。グロー放電としては、真空下で行う真空グロー放電処理、大気圧下で行う大気圧グロー放電処理のいずれも用いることができる。中でも、生産性の観点から、大気圧下で行う大気圧グロー放電処理が好ましい。なお、大気圧とは、７００〜７８０Ｔｏｒｒの範囲である。

グロー放電処理は、相対する電極の間に処理対象のフィルムを置き、装置中にプラズマ励起性気体を導入し、電極間に高周波電圧を印加することにより、該気体をプラズマ励起させ、電極間においてグロー放電を行うものである。これにより、易接着層の表面が処理されて、易接着層の表面の親水性がより高められる。

プラズマ励起性気体とは、上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいう。プラズマ励起性気体としては、例えば、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン等の希ガス；窒素；二酸化炭素；テトラフルオロメタンの様なフロン類及びそれらの混合物；アルゴン、ネオンなどの不活性ガスに、カルボキシル基、水酸基、カルボニル基などの極性官能基を付与し得る反応性ガスを加えたもの；などが挙げられる。なお、プラズマ励起性気体は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

プラズマ処理における高周波電圧の周波数は、１ｋＨｚ〜１００ｋＨｚの範囲が好ましく、電圧の大きさは、電極に印加した時の電界強度が１ｋＶ／ｃｍ〜１００ｋＶ／ｃｍとなる範囲になるようにすることが好ましい。

易接着層に対する親水化表面処理としてケン化処理を行う場合、ケン化処理としては、アルカリケン化処理が好適である。処理方法としては、例えば浸漬法、アルカリ液塗布法等が挙げられるが、生産性の観点から、浸漬法が好ましい。

ケン化処理における浸漬法は、アルカリ液の中に処理対象のフィルムを適切な条件で浸漬し、そのフィルムの全表面のアルカリと反応性を有する全ての面をケン化処理する手法であり、特別な設備を必要としないため、コストの観点で好ましい。アルカリ液は、水酸化ナトリウム水溶液であることが好ましい。アルカリ液の濃度は、好ましくは０．５ｍｏｌ／ｌ以上、より好ましくは１ｍｏｌ／ｌ以上であり、好ましくは３ｍｏｌ／ｌ以下、より好ましくは２ｍｏｌ／ｌ以下である。アルカリ液の液温は、好ましくは２５℃以上、より好ましくは３０℃以上であり、好ましくは７０℃以下、より好ましくは６０℃以下である。易接着層の表面の平均水接触角及び水接触角の標準偏差を上述した範囲に設定するためには、浸漬時間などを適宜調整すればよい。

アルカリ液に浸漬した後は、光学フィルム１００にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。

易接着層の表面に対する親水化表面処理として、紫外線照射装置により紫外線照射を行ってもよい。紫外線照射装置により照射する紫外線は、通常１００ｎｍ〜４００ｎｍの波長を持つものであればよい。ランプの出力値は、通常１２０Ｗ以上、好ましくは１６０Ｗ以上であり、通常２４０Ｗ以下、好ましくは２００Ｗ以下である。紫外線の照射量は、紫外線照射対象物に対して、紫外線の積算光量の総量で表記すると、好ましくは１００ｍＪ／ｃｍ^２以上、更に好ましくは、２００ｍＪ／ｃｍ^２以上、特に好ましくは３００ｍＪ／ｃｍ^２以上であり、好ましくは２，０００ｍＪ／ｃｍ^２以下、更に好ましくは１，５００ｍＪ／ｃｍ^２以下、特に好ましくは１，０００ｍＪ／ｃｍ^２以下である。積算光量の総量は、紫外線照射ランプの照度とライン速度（フィルムの移動速度）によって決まる値であり、例えば、紫外線積算照度計（アイグラフィック社製：ＥＹＥＵＶ ＭＥＴＥＲ ＵＶＰＦ−Ａ１）で測定する。

光学フィルム１００にエンボス構造１３０を形成する方法に制限は無いが、通常は、レーザー光の照射によりエンボス構造１３０を形成する。長尺の光学フィルム１００の両端部１１０，１２０にレーザー光を照射すれば、光学フィルム１００の少なくとも一方の面にエンボス構造１３０を形成して、エンボス構造１３０を有する光学フィルム１００を製造することができる。

レーザー光によりエンボス構造１３０を形成するようにすれば、厚みの薄い光学フィルム１００においても、エンボス構造１３０の形成時の光学フィルム１００の破断を防止することができる。また、光学フィルム１００を屈曲させても、エンボス領域１１０，１２０で破断が生じ難い。これは、例えば一対のエンボスロール間に挟み込んでエンボス構造１３０を形成する場合と比べ、レーザー光でエンボス構造１３０を形成するようにすれば光学フィルム１００に対し不要な押圧が加わらず、光学フィルム１００に残留応力が残りにくいことに起因すると推察される。

図６は、本発明の一実施形態に係る光学フィルム１００の製造方法を説明する模式的な図である。図６に示すように、エンボス構造１３０を形成する工程においては、矢印Ｘ１で示すように光学フィルム１００を長尺方向ＭＤに連続的に搬送しながら、レーザー光照射装置２００から光学フィルム１００にレーザー光３００を断続的に照射する。レーザー光３００が光学フィルム１００の表面１０１に照射されると、その表面１０１のレーザー光３００が照射された領域において局所的に熱溶融又はアブレーションを生じ、エンボス構造１３０が形成される。したがって、レーザー光３００を照射する領域の位置及び寸法、並びにレーザー光３００の強度などを制御することにより、エンボス構造１３０の位置及び寸法を調整できる。また、エンボスロールではなくレーザー光の照射によりエンボス構造１３０を形成するようにすれば、光学フィルム１００に対し摩耗及び汚染を発生させることなくエンボス構造１３０を形成できる。

図７〜図１０は、本発明の一実施形態に係る光学フィルム１００の製造方法を説明する図であって、エンボス構造１３０を形成する際の光学フィルム１００の表面１０１の一部を厚み方向から見た様子を拡大して模式的に示す図である。図７〜図１０に示すように、光学フィルム１００にエンボス構造１３０を形成する際、レーザー光３００（図６参照）の照射は、レーザー光３００が光学フィルム１００に当たる点（以下、適宜「レーザー光照射点」という。）３１０が直線状の軌跡を描くように行うことが好ましい。なお、図７及び図８において、レーザー光照射点３１０には斜線を付して示す。

図７に示すように、光学フィルム１００の表面１０１にレーザー光３００を照射すると、レーザー光照射点３１０において光学フィルム１００が局所的に熱溶融又はアブレーションを生じる。このため、レーザー光照射点３１０では窪みが形成され、この窪みはエンボス構造１３０の央部１３３となる。また、レーザー光３００の照射により熱溶融した光学フィルム１００の材料の一部又は全部が流動化することにより、レーザー光照射点３１０の周囲には突出部が形成され、この突出部はエンボス構造１３０の周部１３２となる。

エンボス構造を楕円形とする方法に制限はないが、図８に示すように、レーザー光３００を照射する間に、レーザー光照射点３１０を、図９に示すような直線状の軌跡３２０を描くように移動させることが好ましい。レーザー光照射点３１０を直線状の軌跡３２０を描くように移動させることで、レーザー光照射点３１０が描く軌跡に沿って光学フィルム１００の表面１０１に窪みが形成され、また、当該窪みの周囲には突出部が形成される。その後、図１０に示すように、レーザー光３００の照射が止まると、レーザー光照射点３１０が描いた直線状の軌跡と平行な長軸を有する楕円形のエンボス構造１３０が、光学フィルム１００の表面１０１に形成される。
このように、レーザー光照射点３１０が直線状の軌跡を描くようにレーザー光３００の照射を行うと、厚み方向から見て楕円形のエンボス構造１３０を容易に製造することができる。

なお、レーザー光照射点３１０を移動させる際、光学フィルム１００の搬送によりレーザー光照射点３１０を相対的に移動させるようにしてもよいが、例えばレーザー光照射装置２００の移動又は照射角度の揺動等により、レーザー光照射点３１０を移動させるようにすることが好ましい。後者のようにレーザー光照射点３１０を移動させる場合、通常はレーザー光照射点３１０の移動速度は光学フィルム１００の搬送速度よりも遥かに速いので、軌跡の形状及び寸法等を調整する場合には、光学フィルム１００の搬送速度の影響は実質的に無視できる。

レーザー光３００を照射する時間は、好ましくは０．００１ｍｓ以上、より好ましくは０．００５ｍｓ以上、さらに好ましくは０．０１ｍｓ以上であり、好ましくは０．５ｍｓ以下、より好ましくは０．３ｍｓ以下、さらに好ましくは０．１ｍｓ以下である。また、レーザー光照射点３１０を移動させる速度は、好ましくは５０００ｍｍ／ｓ以上、より好ましくは８０００ｍｍ／ｓ以上、さらに好ましくは９０００ｍｍ／ｓ以上であり、好ましくは１５０００ｍｍ／ｓ以下、より好ましくは１４０００ｍｍ／ｓ以下、さらに好ましくは１３０００ｍｍ／ｓ以下である。レーザー光３００の照射時間とレーザー照射点３１０の移動速度をこの範囲とすることで、楕円形の長軸径ｒ_１、短軸径ｒ_２およびこれらの比ｒ_１／ｒ_２が前記範囲にあるエンボス構造１３０を容易に形成することができる。

レーザー光３００としては、例えば、ＡｒＦエキシマレーザー、ＫｒＦエキシマレーザー、ＸｅＣｌエキシマレーザー、ＹＡＧレーザーの第３高調波若しくは第４高調波、ＹＬＦ若しくはＹＶＯ_４の固体レーザーの第３高調波若しくは第４高調波、Ｔｉ：Ｓレーザー、半導体レーザー、ファイバーレーザー、炭酸ガスレーザー等を使用してもよい。これらのレーザー光の中でも、高出力による生産性向上の観点から、炭酸ガスレーザーが好ましい。

レーザー光の出力は、好ましくは１Ｗ以上、より好ましくは５Ｗ以上、さらに好ましくは１５Ｗ以上であり、好ましくは３０Ｗ以下、より好ましくは２５Ｗ以下である。レーザー光の出力を前記範囲の下限値以上にすることにより、レーザー光の照射量が不足するのを防止して、光学フィルム１００の表面１０１に対してエンボス構造１３０を安定して形成することができるとともに、エンボス構造１３０の周部１３２の高さを容易に不均一にできる。また、レーザー光の出力を前記範囲の上限値以下にすることにより、光学フィルム１００に貫通孔が生じるのを防止でき、また、レーザー光照射点３１０の周辺の広い領域への熱的影響を抑制し、エンボス構造１３０が意図せず拡大するなどして、所望のエンボス構造１３０が得られなくなることを防止できる。

レーザー光照射点３１０の直径（即ち、レーザー光の集光径）は、エンボス構造１３０の央部１３３の寸法に応じて設定すればよい。通常、レーザー光照射点３１０の直径は、エンボス構造１３０の短軸径ｒ_２よりも小さくなるようにする。具体的には、通常１００μｍ以上、好ましくは２００μｍ以上であり、通常５００μｍ以下、好ましくは３００μｍ以下である。

光学フィルム１００が基材フィルム層及び易接着層を備える場合、レーザー光３００の照射は、易接着層側の面から行うことが好ましい。したがって、例えば、光学フィルム１００が１層の基材フィルム層と１層の易接着層とからなる場合、易接着層側の表面にレーザー光３００を照射することが好ましい。また、例えば、光学フィルム１００が第一の易接着層、基材フィルム層及び第二の易接着層をこの順に備える場合、レーザー光３００は、第一の易接着層の表面に照射しても好ましく、第二の易接着層の表面に照射しても好ましい。これにより、巻回時に起こる光学フィルム１００同士の密着を抑制することができる。

光学フィルム１００は、ロール状に巻回することにより、光学フィルムロールにできる。巻回に際しては、必要に応じて適切な巻き芯を用いてもよい。本実施形態に係る光学フィルム１００は、上述したようなエンボス構造１３０を有するため、巻回時の取り扱い性が良好であり、また、光学フィルムロールとした場合でもゲージバンド及びスクラッチを生じ難い。さらに、通常は、巻きずれ及びクラックを生じることも防止できる。

光学フィルムロールの巻回数に制限は無いが、通常４０回以上、好ましくは６０回以上であり、通常２７０００回以下、好ましくは１３０００回以下である。
また、光学フィルムロールの外径に制限はないが、通常１６０ｍｍ以上、好ましくは１９０ｍｍ以上であり、通常２３００ｍｍ以下、好ましくは１２００ｍｍ以下である。

光学フィルム１００の巻回速度に制限はないが、巻回速度が速すぎると空気の巻き込みを生じやすくなり、また巻回速度が遅すぎると製造効率が低下するため、通常５ｍ／分以上、好ましくは１０ｍ／分以上であり、通常１５０ｍ／分以下、好ましくは１００ｍ／分以下、より好ましくは８０ｍ／分以下である。

本実施形態の光学フィルム１００は、例えば、位相差フィルム、偏光板の保護フィルム、偏光フィルム、輝度向上フィルム、光拡散フィルム、集光フィルム、反射フィルム等に好ましく適用できる。偏光板の保護フィルムとして光学フィルム１００を用いる場合、例えば、偏光子の片面又は両面に光学フィルム１００を設ければよい。

以上、本発明の一実施形態について詳細に説明したが、上述した実施形態は更に変更してもよい。
例えば、エンボス構造１３０は、上述した実施形態のように光学フィルム１００の片面１０１のみに設けてもよいが、光学フィルム１００の両面に設けてもよい。

また、例えば、エンボス領域１１０，１２０は、上述した実施形態のように光学フィルム１００の縁の直ぐ内側に設けてもよいが、光学フィルム１００の縁から所定の距離だけ離間した位置に形成してもよい。

また、例えば、エンボス構造１３０は、光学フィルム１００の幅方向ＴＤの両端部１１０，１２０以外の位置にも形成してもよい。例えば、光学フィルム１００の長さ方向端部にエンボス構造１３０を形成すると、光学フィルムロールから光学フィルム１００を引き出す際の取り扱い性が良好になる。

また、上述した実施形態ではエンボス構造１３０の幅方向ＴＤの位置、寸法、形状などは、光学フィルム１００の長尺方向ＭＤにおいて一定にしたが、例えば、エンボス構造１３０の幅方向ＴＤの位置、寸法、形状などを、光学フィルム１００の長尺方向ＭＤにおいて不均一にしてもよい。

また、上述した実施形態ではエンボス領域１１０，１２０を光学フィルム１００の長尺方向ＭＤにおいて連続的に形成したが、例えば、本発明の効果を著しく損なわない限り、エンボス領域は光学フィルム１００の長尺方向ＭＤにおいて断続的（間欠的）に形成してもよい。

さらに、上述した実施形態ではエンボス構造１３０を厚み方向から見た楕円形の長軸が長尺方向ＭＤに平行になるようにしたが、例えば、前記の楕円形の長軸が長尺方向ＭＤに交差するようにしてもよい。このようなエンボス構造は、例えば、幅方向ＴＤ、又は長尺方向ＭＤ及び幅方向ＴＤに交差する方向にレーザー光照射点を移動させるようにしながら光学フィルム１００にレーザー光３００を照射することにより、形成できる。この際、レーザー光の走査方法としては、例えば、ガルバノスキャンまたはＸ−Ｙステージスキャンを用いた方法、マスクイメージング方式による方法などを用いてもよい。

以下、実施例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明は以下に示す実施例に限定されるものではなく、本発明の要旨及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施してもよい。また、以下の説明において、量を表す「部」及び「％」は、特に断れない限り重量基準である。さらに、以下の説明において温度及び圧力について特に断らない限り、操作は常温常圧の環境において行った。

［実施例１］
〔基材フィルム層の製造〕
脂環式構造含有重合体樹脂（日本ゼオン社製「ＺＥＯＮＯＲ１４３０」；ガラス転移温度１３５℃）のペレットを、空気を流通させた熱風乾燥器を用いて７０℃で２時間乾燥した後、６５ｍｍφのスクリューを備えた樹脂溶融混練機を有するＴダイ式フィルム溶融押出し成形機を使用し、溶融樹脂温度２７０℃、Ｔダイの幅１５００ｍｍの成形条件で、厚さ２０μｍ、幅１２００ｍｍ、長さ４０００ｍの基材フィルム層を製造した。

〔易接着層の製造〕
温度計、攪拌機、窒素導入管および冷却管を備えた２０００ｍｌの四つ口フラスコに、ポリエステルポリオールであるマキシモールＦＳＫ−２０００（川崎化成工業社製、水酸基価５６ｍｇＫＯＨ／ｇ）８４０ｇと、多価イソシアネート成分であるトリレンジイソシアネート１１９ｇと、溶媒であるメチルエチルケトン２００ｇとを入れ、窒素を導入しながら７５℃で１時間反応させた。反応終了後、６０℃まで冷却し、酸構造を導入するためにジメチロールプロピオン酸３５．６ｇを加え、７５℃で反応させて、イソシアネート基（−ＮＣＯ基）の含有量が０．５％の酸構造含有水系ウレタン樹脂溶液を得た。次いで、この酸構造含有水系ウレタン樹脂溶液を４０℃にまで冷却し、水１５００ｇと、中和剤である水酸化ナトリウム１０．６ｇとを加え、ホモミキサーで高速撹拌することにより乳化を行った。この乳化液から加熱減圧下によりメチルエチルケトンを留去した後、シリカビーズ（日本アエロジル社製「アエロジル１３０」；平均粒子径１６ｎｍ）９９．５ｇを加え攪拌し、さらに固形分濃度が１０％になるように水を加えて中和処理し、水系ウレタン樹脂の水分散体を得た。

基材フィルム層の片面に、上記ウレタン樹脂の水分散体をリバースロール法で、乾燥後の膜厚が１００ｎｍになるように塗布した後、９０℃にて乾燥した。これにより、基材フィルム層の片面に易接着層を形成して、基材フィルム層及び易接着層を備える光学フィルムとして複層フィルムを得た。

この複層フィルムを長尺方向に１３ｍ／分の速度で搬送しながら、複層フィルムの幅方向の左右両端部にレーザー光を照射した。レーザー光の照射装置としては、ＣＯ_２レーザー光照射装置（ＭＬＺ９５１０ キーエンス社製、レーザー波長１０．６μｍ）を用いた。また、レーザー光の照射は、照射強度２０Ｗで、複層フィルムの長尺方向に１００００ｍ／ｓの速度でレーザー光照射点を移動させながら、易接着層側の面から行った。一回当たりのレーザー光の照射時間及びレーザー光が光学フィルムに当たる点の大きさを調整することにより、レーザー光が光学フィルムに当たる点の軌跡は、長さ３５０μｍ、幅２００μｍの、長尺方向に沿った直線状となるようにした。さらに、レーザー光の照射は、長尺方向では３．８ｍｍ間隔で複層フィルムの長尺方向全長にわたって行い、また、幅方向では１．６ｍｍ間隔で３列に行った。これにより、複層フィルムの易接着層の表面のレーザー光が照射された部分に、エンボス構造が形成された。

こうして得られたエンボス構造を有する複層フィルムを、直径６インチの巻き芯（コア）を中心にして、張力１００Ｎにて長尺方向に３６００ｍ巻き取り、フィルムロールを得た。

〔動摩擦係数の測定〕
得られたエンボス構造を有する複層フィルムの易接着層側表面の有効領域（エンボス構造が形成されていない領域）の動摩擦係数を測定した。測定は、ＪＩＳ Ｋ７１２５に則って、親東科学社製の表面性測定器「Ｔｙｐｅ３２」を用いて、速度５００ｍｍ／ｍｉｎの速度で行った。

〔エンボス構造の楕円形状の長軸径と短軸径の測定〕
キーエンス社製の超深度顕微鏡「ＶＫ−１５００」を用いて、エンボス構造の楕円形状の長軸径と短軸径の測定を実施した。各値は２０個のエンボス構造の楕円形状を測定した値の平均値とした。

〔エンボス構造の周部の高さの測定〕
２０個のエンボス構造につき、キーエンス社製の超深度顕微鏡「ＶＫ−９５００」を用いて周部の高さを測定した。測定は１個のエンボス構造につき、当該エンボス構造の楕円形の長軸、短軸並びに前記長軸及び短軸と４５°の角度をなす２本の直線が前記周部と交差する８箇所の領域で行い、その８箇所の測定値の平均値を周部の平均高さとした。また、前記の８箇所の測定値の内、最高の領域における高さをＮ_１、最低の領域における高さをＮ_２として、Ｎ_１／Ｎ_２を求めた。

〔ヘイズの測定〕
日本電色工業社製の濁度計「ＮＤＨ２０００」を用いて、複層フィルムの有効領域のヘイズを測定した。

〔スクラッチの評価〕
フィルムロールから複層フィルムを１５００ｍ繰出した後、長尺方向に１ｍの長さで複層フィルムを切り出し、長さ０．５ｍｍ以上の引っ掻き傷（スクラッチ）の有無を目視にて観察した。スクラッチの数が０個であるものをＡ、１〜３個であるものをＢ、４個以上であるものをＣと評価した。

〔ゲージバンドの評価〕
フィルムロールの形状を触診し、ゲージバンドに起因する凹凸の有無を評価した。凹凸がないものをＡ、１〜２本のものをＢ、３本以上のものをＣとして評価した。

〔クラックの評価〕
エンボス部をオリンパス株式会社製光学顕微鏡「ＢＸ５１」を用いて観察し、エンボス部１０個あたりのクラックの個数が０個のものをＡ、平均１〜２個のものをＢ、平均３個以上のものをＣとして、クラックを評価した。

［実施例２］
シリカビーズとして日本アエロジル社製「アエロジルＯＸ５０」（平均粒子径５０ｎｍ）４９．８ｇ用いたこと以外は実施例１と同様にして、基材フィルム層及び易接着層を備える複層フィルムを得た。
この複層フィルムに、レーザー光の照射強度を２３Ｗとしたこと以外は実施例１と同様にして、エンボス構造を有する複層フィルムを製造し、これを巻き取ってフィルムロールを得た。得られたフィルムロールを用いて、実施例１と同様の評価を行った。

［実施例３］
レーザー光を照射する際、レーザー光が光学フィルムに当たる点の軌跡を長さ２５０μｍ、幅１５０μｍの直線状となるようにしたこと以外は実施例１と同様にして、エンボス構造を有する複層フィルムを製造し、これを巻き取ってフィルムロールを得た。得られたフィルムロールを用いて、実施例１と同様の評価を行った。

［実施例４］
レーザー光を照射する際、レーザー光が光学フィルムに当たる点の軌跡を長さ４００μｍ、幅１５０μｍの直線状となるようにしたこと、長尺方向でのレーザー光の照射を４．８ｍｍ間隔で行うようにしたこと、並びに、幅方向でのレーザー光の照射を２．６ｍｍ間隔で３列に行うようにしたこと以外は実施例１と同様にして、エンボス構造を有する複層フィルムを製造し、これを巻き取ってフィルムロールを得た。得られたフィルムロールを用いて、実施例１と同様の評価を行った。

［実施例５］
シリカビーズとしてシリカビーズの水分散体である日産化学社製「スノーテックスＭＰ−２０４０」（平均粒子径２００ｎｍ、固形分濃度３５％）を２４８．８ｇ用いたこと以外は実施例１と同様にして、エンボス構造を有する複層フィルムを製造し、これを巻き取ってフィルムロールを得た。得られたフィルムロールを用いて、実施例１と同様の評価を行った。

［実施例６］
レーザー光の照射強度を１２Ｗとしたこと以外は実施例１と同様にして、エンボス構造を有する複層フィルムを製造し、これを巻き取ってフィルムロールを得た。得られたフィルムロールを用いて、実施例１と同様の評価を行った。

［比較例１］
レーザー光を照射させるときにレーザー光が光学フィルムに当たる点の軌跡を長さ３００μｍ、幅３００μｍの点状となるようにしたこと以外は実施例１と同様にして、エンボス構造を有する複層フィルムを製造し、これを巻き取ってフィルムロールを得た。得られたフィルムロールを用いて、実施例１と同様の評価を行った。

［比較例２］
レーザー光の照射を行わず、したがってエンボス構造を形成しなかったこと以外は実施例１と同様にして複層フィルムを製造し、これを巻き取ってフィルムロールを得た。得られたフィルムロールを用いて、実施例１と同様の評価を行った。

［検討］
実施例１〜６では、厚み方向から見て楕円形のエンボス構造が形成された。また、このエンボス構造の周部は、エンボス構造の周囲の光学フィルム表面よりも突出して形成されていた。さらに、エンボス構造の央部は、エンボス構造の周囲の光学フィルム表面よりも窪んで形成されていた。このようなエンボス構造を有する実施例１〜６では、スクラッチ及びゲージバンドがいずれも生じていなかった。これに対し、厚み方向から見て円形のエンボス構造を有する比較例１の複層フィルムでは、スクラッチ及びゲージバンドが生じていた。したがって、厚み方向から見たエンボス構造の形状を楕円形にすることにより、スクラッチ及びゲージバンドが抑制されたことが確認された。
また、実施例１〜５ではクラックが生じていないのに対し、Ｎ_１／Ｎ_２が小さい実施例６ではクラックが生じていることから、クラックを防止する観点からは、エンボス構造の周部の高さを当該エンボス構造内において不均一にすることが好ましいとことが確認された。
さらに、易接着層に含まれる微粒子の粒径が大きい実施例５では、実施例１〜４，６よりもヘイズが高くなっていることから、ヘイズを小さくする観点からは微粒子の粒径を所定値以下に小さくすることが好ましいことが確認された。

本発明は、任意の光学フィルムに適用することができ、中でも、偏光板の保護フィルム及び位相差フィルムに用いて好適である。

１００ 光学フィルム
１０１ 光学フィルムの表面
１１０ 光学フィルムの幅方向端部（エンボス領域）
１２０ 光学フィルムの幅方向端部（エンボス領域）
１３０ エンボス構造
１３１ エンボス構造の外縁
１３２ エンボス構造の周部
１３３ エンボス構造の央部
１４０ 有効領域
２００ レーザー光照射装置
３００ レーザー光
３１０ レーザー光３００が光学フィルム１００に当たる点（レーザー光照射点）
３２０ レーザー光照射点が描く軌跡
Ａ_Ｌ エンボス構造の楕円形の長軸
Ａ_Ｓ エンボス構造の楕円形の短軸
Ａ_Ａ エンボス構造の楕円形の中心を通り長軸Ａ_Ｌ及び短軸Ａ_Ｓと４５°の角度をなす直線
Ａ_Ｂ エンボス構造の楕円形の中心を通り長軸Ａ_Ｌ及び短軸Ａ_Ｓと４５°の角度をなす直線
Ｐ_１〜Ｐ_８ エンボス構造の長軸Ａ_Ｌ、短軸Ａ_Ｓ及び直線Ａ_Ａ，Ａ_Ｂとエンボス構造の周部１３２とが交差する領域

Claims (13)

1. 長尺の光学フィルムであって、
   前記光学フィルムの少なくとも一方の面の幅手方向の両端部にエンボス構造を有し、
   前記光学フィルムの厚み方向から見た前記エンボス構造の形状が楕円形であり、
   前記エンボス構造は、前記エンボス構造の周囲の前記光学フィルム表面よりも突出して形成された周部と、前記周部の内側に前記周部よりも窪んで形成された央部とを有し、
   前記エンボス構造の楕円形の長軸、短軸、並びに、前記エンボス構造の楕円形の中心を通り前記長軸及び短軸と４５°の角度をなす２本の直線が、前記周部と交差する８個の領域での前記周部の高さのうち、最高の領域における高さをＮ _１ とし、最低の領域における高さをＮ _２ とした場合、
   比Ｎ _１ ／Ｎ _２ が１．５以上１０以下である、光学フィルム。
2. 長尺の光学フィルムであって、
   前記光学フィルムの少なくとも一方の面の幅手方向の両端部にエンボス構造を有し、
   前記光学フィルムの厚み方向から見た前記エンボス構造の形状が楕円形であり、
   前記エンボス構造は、前記エンボス構造の周囲の前記光学フィルム表面よりも突出して形成された周部と、前記周部の内側に前記周部よりも窪んで形成された央部とを有し、
   前記エンボス構造の楕円形の長軸径ｒ _１ が３００μｍ〜６００μｍであり、
   前記エンボス構造の楕円形の短軸径ｒ _２ が２５０μｍ〜５５０μｍであり、
   前記長軸径ｒ _１ と前記短軸径ｒ _２ との比ｒ _１ ／ｒ _２ が１．１〜２．０である、光学フィルム。
3. 基材フィルム層と易接着層とを備える、請求項１又は２に記載の光学フィルム。
4. 前記易接着層が微粒子を含む、請求項３に記載の光学フィルム。
5. 前記基材フィルム層が脂環式構造含有重合体を含む、請求項３又は４に記載の光学フィルム。
6. 前記基材フィルム層の厚みｔ_１と前記易接着層の厚みｔ_２との比ｔ_２／ｔ_１が０．０００３〜０．０１００である、請求項３〜５のいずれか一項に記載の光学フィルム。
7. 前記エンボス構造がレーザー光の照射により形成されたものである、請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学フィルム。
8. 偏光板の保護フィルムである、請求項１〜７のいずれか一項に記載の光学フィルム。
9. 位相差フィルムである、請求項１〜８のいずれか一項に記載の光学フィルム。
10. 請求項１〜９のいずれか一項に記載の光学フィルムをロール状に巻回してなる光学フィルムロール。
11. 長尺の光学フィルムの両端部にレーザー光を照射して前記光学フィルムの少なくとも一方の面にエンボス構造を形成する、エンボス構造を有する光学フィルムの製造方法であって、
    前記レーザー光の照射は、前記レーザー光が前記光学フィルムに当たる点が直線状の軌跡を描くように行い、
    前記光学フィルムの厚み方向から見た前記エンボス構造の形状が楕円形であり、
    前記エンボス構造は、前記エンボス構造の周囲の前記光学フィルム表面よりも突出して形成された周部と、前記周部の内側に前記周部よりも窪んで形成された央部とを有し、
    前記エンボス構造の楕円形の長軸、短軸、並びに、前記エンボス構造の楕円形の中心を通り前記長軸及び短軸と４５°の角度をなす２本の直線が、前記周部と交差する８個の領域での前記周部の高さのうち、最高の領域における高さをＮ _１ とし、最低の領域における高さをＮ _２ とした場合、
    比Ｎ _１ ／Ｎ _２ が１．５以上１０以下である、エンボス構造を有する光学フィルムの製造方法。
12. 長尺の光学フィルムの両端部にレーザー光を照射して前記光学フィルムの少なくとも一方の面にエンボス構造を形成する、エンボス構造を有する光学フィルムの製造方法であって、
    前記レーザー光の照射は、前記レーザー光が前記光学フィルムに当たる点が直線状の軌跡を描くように行い、
    前記光学フィルムの厚み方向から見た前記エンボス構造の形状が楕円形であり、
    前記エンボス構造は、前記エンボス構造の周囲の前記光学フィルム表面よりも突出して形成された周部と、前記周部の内側に前記周部よりも窪んで形成された央部とを有し、
    前記エンボス構造の楕円形の長軸径ｒ _１ が３００μｍ〜６００μｍであり、
    前記エンボス構造の楕円形の短軸径ｒ _２ が２５０μｍ〜５５０μｍであり、
    前記長軸径ｒ _１ と前記短軸径ｒ _２ との比ｒ _１ ／ｒ _２ が１．１〜２．０である、エンボス構造を有する光学フィルムの製造方法。
13. 前記光学フィルムが基材フィルム層と易接着層とを備え、
    前記レーザー光の照射を前記易接着層側の面から行う、請求項１１又は１２に記載のエンボス構造を有する光学フィルムの製造方法。

Images