CN101523240A - 光学功能薄膜 - Google Patents

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CN101523240A CNA200780036139XA CN200780036139A CN101523240A CN 101523240 A CN101523240 A CN 101523240A CN A200780036139X A CNA200780036139X A CN A200780036139XA CN 200780036139 A CN200780036139 A CN 200780036139A CN 101523240 A CN101523240 A CN 101523240A
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Abstract

本发明提供一种在最表面具有同时满足耐指纹性、耐标记油墨(マジツク)性、滑动性、疏水性的防污层的光学功能薄膜。其具有基材、在所述基材上形成的光学功能层和在所述光学功能层上形成的防污层，该防污层的表面的元素比例为硅元素(Si)与碳元素(C)的比Si/C为0.25～1.0且氟元素(F)与碳元素(C)的比F/C为0.10～1.0，而且该防污层具有以下特性：a.液体石蜡接触角为65°以上且液体石蜡下落角为15°以下。b.黑标记油墨接触角为35°以上且黑标记油墨下落角为15°以下。c.动摩擦系数不到0.15。

Description

光学功能薄膜
技术领域
本发明涉及一种适合使用于液晶显示装置等显示器等的最表层且在最表面具有耐指纹性、耐标记油墨性、滑动性出色的防污层的光学功能薄膜。
背景技术
电视机、个人电脑、手机等的显示器、后视镜(back mirror)、护目镜(goggle)、窗玻璃、其他商业显示器为了读取显示的文字或图形及其他信息而必需具有防止表面的光反射的防反射性或防眩性、屏蔽电磁波的导电性、锈等的阻挡性、提高设计性或安全(security)性的全息图(holograph)等的光衍射性及/或防止因外力而受伤的硬涂性等功能性。因此，通常在这样的显示器表面上设置具有这些功能的光学功能薄膜。
但是，光学功能薄膜由于在其用途上被配置于显示器等的最表面上，所以人手直接接触会附着指纹，遇风雨则附着污物。附着这样的污物的情况下，可能会对在显示器等中显示的文字、图形等信息的读取带来障碍。因此，在光学功能薄膜的最表面通常形成防止污物的附着的防污层。
作为这样的防污层所必需的要求特性，可以举出如上所述的针对作为因人手接触而附着的油脂成分的指纹的耐指纹性、针对雨水的疏水性、针对污物的拭去性的滑动性、进而针对使用标记油墨的乱涂的耐标记油墨性等。针对这样的需要各种性能的防污层，目前使用硅烷系化合物或氟系化合物。
但是，硅烷系化合物虽然耐标记油墨性、滑动性、疏水性良好，但相反，存在耐指纹性差的问题。另一方面，氟系化合物虽然耐指纹性、疏水性良好，但存在耐标记油墨性差的问题。因此，尝试了混合或使这样的硅烷系化合物与氟系化合物共聚合从而组合二者的优点(专利文献1、专利文献2)，但不能得到同时具有二者的优点的同时满足耐指纹性、耐标记油墨性(anti-magic maker property)、滑动性、疏水性的物质。
专利文献1：日本特公平6—29332号公报
专利文献2：日本特开平7—16940号公报
发明内容
本发明正是鉴于所述问题点而提出的，其主要目的在于提供一种在最表面具有同时满足耐指纹性、耐标记油墨性、滑动性、疏水性的防污层的光学功能薄膜。
为了解决所述课题，本发明提供一种光学功能薄膜，其特征在于，具有基材、在所述基材上形成的光学功能层和在所述光学功能层上形成的防污层，该防污层的表面的元素比例为硅元素(Si)与碳元素(C)的比Si/C为0.25～1.0且氟元素(F)与碳元素(C)的比F/C为0.10～1.0，而且该防污层具有以下特性：
a.液体石蜡接触角为65°以上且液体石蜡下落角为15°以下，
b.黑标记油墨接触角为35°以上且黑标记油墨下落角为15°以下，
c.动摩擦系数不到0.15。
如果利用本发明，则所述防污层可以通过具有使液体石蜡接触角为65°以上且液体石蜡下落角(
Figure A200780036139D0004104552QIETU
落角、falling angle)为15°以下的特性而具有耐指纹性，通过使黑标记油墨接触角为35°以上且黑标记油墨下落角为15°以下而具有耐标记油墨性，通过使动摩擦系数不到0.15而具有滑动性，从而同时满足耐指纹性、耐标记油墨性、滑动性。
在所述发明中，优选所述防污层的水接触角为100°以上。因为这样可以使疏水性出色。
在所述发明中，优选使用原子力显微镜测定时的所述防污层的表面粗糙度(Ra)为2nm以下。这是因为，通过使所述防污层的平滑性出色，可以使耐擦伤性、耐磨性出色，从而抑制尘埃的附着。
在所述发明中，优选所述防污层含有具有硅氧烷基的含硅化合物和具有全氟烷基或全氟烷基醚基的至少任意一种的含氟化合物。
这是因为，两种化合物通常表面张力低而容易在表面存在，所以即使在与其他成分混合的情况下，也容易在表面渗出，从而存在比率的调整变得容易。
本发明发挥了提供在最表面具有同时满足耐指纹性、耐标记油墨性、滑动性的防污层的光学功能薄膜的效果。
附图说明
图1是表示本发明的光学功能薄膜的一例的概略剖面图。
图中，1—基材，2—光学功能层，3—防污层。
具体实施方式
本发明涉及一种光学功能薄膜。以下对本发明的光学功能薄膜进行说明。
本发明的光学功能薄膜的特征在于，具有基材、在所述基材上形成的光学功能层和在所述光学功能层上形成的防污层，该防污层的表面的元素比例为硅元素(Si)与碳元素(C)的比Si/C为0.25～1.0且氟元素(F)与碳元素(C)的比F/C为0.10～1.0，而且该防污层具有以下特性：
a.液体石蜡接触角为65°以上且液体石蜡下落角为15°以下，
b.黑标记油墨接触角为35°以上且黑标记油墨下落角为15°以下，
c.动摩擦系数不到0.15。
首先，参照附图说明本发明的光学功能薄膜。图1是表示本发明的光学功能薄膜的一例的概略剖面图。如图1所示，本发明的光学功能薄膜10具有基材1、在所述基材1上形成的光学功能层2、在所述光学功能层2上形成的防污层3。
过去的在光学功能薄膜的最表层形成的防污层使用硅烷系化合物或氟系化合物。硅烷系化合物虽然耐标记油墨性、滑动性、疏水性良好，但相反，存在耐指纹性差的问题。另一方面，氟系化合物虽然耐指纹性、疏水性良好，但存在耐标记油墨性差的问题。因此，尝试了混合或使这样的硅烷系化合物与氟系化合物共聚合从而组合二者的优点，但不能得到同时具有二者优点的同时满足耐指纹性、耐标记油墨性、滑动性、疏水性的物质。
如果利用本发明，则所述防污层可以通过具有使液体石蜡接触角为65°以上且液体石蜡下落角为15°以下的特性而具有出色的耐指纹性，通过使黑标记油墨接触角为35°以上且黑标记油墨下落角为15°以下而具有出色的耐标记油墨性，通过使动摩擦系数不到0.15而具有滑动性，从而同时满足耐指纹性、耐标记油墨性、滑动性。
本发明的光学功能薄膜具有基材、光学功能层和防污层。以下对这样的本发明的光学功能薄膜的各构成进行说明。
1.防污层
在本发明中使用的防污层是在后述的光学功能层上形成的层，可以根据形成状态不同而采取2种方式。即，所述防污层可以采取在所述光学功能层上将后述的构成防污层的材料形成为膜状的方式，以及，在所述光学功能层内混合之后，渗出(bleed)到所述光学功能层的最表面的2种方式。在本发明中，可以采取所述2种方式中的任意方式。
在本发明中使用的防污层是具有以下特性且元素比例为硅元素(Si)与碳元素(C)的比(Si/C)0.25～1.0且氟元素(F)与碳元素(C)的比(F/C)0.10～1.0的防污层。
a.液体石蜡接触角为65°以上且液体石蜡下落角为15°以下，
b.黑标记油墨接触角为35°以上且黑标记油墨下落角为15°以下，
c.动摩擦系数不到0.15。
以下对这样的防污层进行详细说明。
(1)液体石蜡接触角及液体石蜡下落角
液体石蜡接触角及液体石蜡下落角通过评价以液体石蜡为代表的亲油性成分的附着容易程度及拭去容易程度，来评价在本发明中使用的防污层的指纹的附着容易程度及拭去容易程度。以下对这样的液体石蜡接触角及液体石蜡下落角进行说明。
(a)液体石蜡接触角
液体石蜡接触角是指使液体石蜡接触防污层的表面来制作液滴进而测定接触角所得的值。
由于人用手触摸而附着的指纹为油脂成分、亲油性物质，所以可以通过测定同样作为亲油性物质之一的液体石蜡的接触角，来作为指纹的附着容易程度的指标。在此接触角越大，则越难以向防污层表面溶入，从而难以附着。即，具有液体石蜡的接触角越大则指纹越难以附着的性质。
本发明的特征为液体石蜡接触角为65°以上，其中，优选为70°以上的范围内，特别优选为75°以上。这是因为，如果小于所述范围，则在本发明的光学功能薄膜中使用的情况下，指纹容易附着。
此外，所述液体石蜡接触角的测定方法是在干燥状态(20℃—65％RH)下，在水平设置的防污层上，使利用针尖制作的直径3.0mm的液体石蜡的液滴接触，从而在所述防污层上形成液体石蜡的液滴。接触角是相对所述防污层与液体石蜡的液滴接触的点上的液体石蜡的液滴表面的切线与所述防污层表面所成的角度，是含有液体石蜡的液滴的一侧的角度。
对这样的接触角的测定而言，例如可以使用全自动接触角计(协和界面科学(株)制，DM700)进行测定。
(b)液体石蜡下落角
液体石蜡下落角是使液体石蜡与防污层的表面上接触来制作液滴，然后在缓慢地倾斜防污层时，将液滴向下方滑出时的倾斜角度作为下落角进行评价的值。利用这样的测定方法得到的液体石蜡下落角是测定液体石蜡相对防污层表面的附着力的值，可以成为指纹的拭去容易程度的指标。在此，下落角越小，则附着力越弱，从而变得具有容易拭去指纹的性质。本发明的特征在于，液体石蜡下落角为15°以下，其中，优选为10°以下的范围内，特别优选为5°以下的范围内。这是因为，如果大于所述范围，则在本发明的光学功能薄膜中使用的情况下，变得难以拭去指纹。
其中，作为所述液体石蜡下落角，在干燥状态(20℃—65％RH)下，在水平设置的防污层上，使利用针尖制作的直径3.0mm的液体石蜡的液滴接触，从而在所述防污层上形成液体石蜡的液滴。接着，以2°/s的速度增大所述防污层的倾斜角度，将液体石蜡的液滴向下方滑出时的倾斜角度称为液体石蜡下落角。
对这样的下落角的测定而言，例如可以使用全自动接触角计(协和界面科学(株)制，DM700)进行测定。
(c)液体石蜡接触角及液体石蜡下落角
在本发明中使用的液体石蜡接触角及液体石蜡下落角分别表示指纹的附着容易程度及指纹的拭去容易程度，二者通过均成为所述的范围内，变得指纹难以附着而且容易拭去附着的指纹，从而变得具有出色的耐指纹性。
(2)黑标记油墨接触角及黑标记油墨下落角
黑标记油墨接触角及黑标记油墨下落角评价油性的黑标记油墨的附着容易程度及拭去容易程度，从而相对在本发明中使用的防污层表面，评价利用油性的黑标记油墨记载文字等的容易程度及拭去容易程度。以下对这样的黑标记油墨接触角及黑标记油墨下落角进行说明。
(a)黑标记油墨接触角
黑标记油墨接触角是指向防污层的表面滴注油性的黑标记油墨的墨液作为黑标记油墨，来制作标记油墨墨液的液滴，进而测定接触角所得的值。
可以通过测定这样的黑标记油墨的接触角，来作为黑标记油墨与防污层的溶入容易程度即附着容易程度的指标。在此接触角越大，则越难以向防污层表面溶入。
本发明的特征为黑标记油墨接触角为35°以上，其中，优选为40°以上的范围内，特别优选为50°以上的范围内。如果小于所述范围，则在本发明的光学功能薄膜中使用的情况下，黑标记油墨容易附着。
此外，作为黑标记油墨接触角的测定方法，除了使用油性的黑标记油墨形成液滴以外，利用与在所述“(1)液体石蜡接触角及液体石蜡下落角”的“(a)液体石蜡接触角”的项中记载的内容相同的方法进行测定。
在此，作为所述油性的黑标记油墨，可以使用通常市售的油性的黑标记油墨，具体而言，可以使用MHJ60—T1黑(寺西化学工业(株)制)。
(b)黑标记油墨下落角
黑标记油墨下落角是使油性的黑标记油墨的墨液与防污层的表面上接触来制作标记油墨的液滴，然后在缓慢地倾斜防污层时，将液滴向下方滑出时的倾斜角度作为下落角进行评价的值。
利用这样的测定方法得到的黑标记油墨下落角是测定黑标记油墨相对防污层表面的附着力的值，可以成为黑标记油墨的拭去容易程度的指标。在此，下落角越小，则附着力越弱，从而变得具有容易拭去指纹的性质。本发明的特征在于，黑标记油墨下落角为15°以下，其中，优选为10°以下的范围内，特别优选为5°以下的范围内。这是因为，如果大于所述范围，则黑标记油墨的附着力强，在本发明的光学功能薄膜中使用的情况下，变得难以拭去黑标记油墨。
其中，作为黑标记油墨接触角的测定方法，除了使用油性的黑标记油墨形成液滴以外，利用与在所述“(1)液体石蜡接触角及液体石蜡下落角”的“(b)液体石蜡下落角”的项中记载的内容相同的方法进行测定。
另外，作为黑标记油墨墨液，可以使用与所述“(a)黑标记油墨下落角”相同的墨液。
(c)黑标记油墨接触角及黑标记油墨下落角
在本发明中使用的黑标记油墨接触角及黑标记油墨下落角分别表示油性的黑标记油墨的附着容易程度及拭去容易程度。黑标记油墨接触角及黑标记油墨下落角的二者通过均成为所述的范围内，变得黑标记油墨难以附着，即使在附着的情况下也容易拭去，从而变得具有出色的耐标记油墨性。
(3)动摩擦系数
在本发明中使用的动摩擦系数表示成为例如用布等拭去在所述防污层表面附着的指纹或标记油墨时的拭去容易程度的指标的滑动性的值。在此，动摩擦系数小的情况下，所述防污层表面容易滑动，变得容易用布等拭去指纹或标记油墨。本发明的特征在于，所述动摩擦系数不到0.15，其中，优选为0.10以下的范围内，特别优选0.08以下的范围内。这是因为，如果大于所述范围，则变得难以拭去指纹等。
其中，所述动摩擦系数使用的值为在干燥状态(20℃—65％RH)下，利用HEIDON HHS—2000动摩擦试验机，以10mmφ不锈钢球、负荷200g、速度5mm/s测定的值。
(4)其他特性
在本发明中使用的防污层只要是表面的元素比例为硅元素(Si)与碳元素(C)的比Si/C为0.25～1.0且氟元素(F)与碳元素(C)的比F/C为0.10～1.0而且具有所述的特性的防污层，则没有特别限定，也可以具有其他特性。在本发明中，例如可以为接触角100°以上、表面粗糙度(Ra)2nm以下。
所述水接触角表示与水的溶入容易程度即水的附着容易程度，接触角越大，则越具有水难以附着的特性。近年来，不仅在室内而且在室外使用显示器等，需要即使在暴露于风雨中也可以良好地识别图像。针对这样的需求(needs)，通过使所述水接触角为100°以上，可以变得难以附着且容易拭去水，具有出色的疏水性。在本发明中，水接触角只要为100°以上即可，其中，优选为105°以上的范围内，特别优选为110°以上。这是因为，如果小于所述范围，则不能发挥充分的疏水性，可能不能良好地识别在显示器中显示的图像。
其中，作为水接触角的测定方法，除了使用蒸馏水形成液滴以外，利用与在所述“(1)液体石蜡接触角及液体石蜡下落角”的“(a)液体石蜡接触角”的项中记载的内容相同的方法进行测定。
所述防污层的表面粗糙度(Ra)表示防污层表面的凹凸的有无，该值越大，则越表明表面有大的凹凸。在所述表面粗糙度(Ra)大的情况下，耐擦伤性、耐磨性弱，另外，还会发生尘埃容易附着的问题。与此相对，通过使表面粗糙度(Ra)为2nm以下，可以成为耐擦伤性、耐磨性出色，尘埃难以在防污层表面的凹凸中附着。在本发明中，表面粗糙度(Ra)只要为2nm以下即可，其中，优选为1.5nm以下的范围内，特别优选为1nm以下的范围内。这是因为，如果大于所述范围，则变得耐擦伤性、耐磨性容易劣化，尘埃容易附着于防污层表面。
在此，所述表面粗糙度(Ra)表示平均面粗糙度，使用原子力显微镜(日本Veeco(株)制，Nanoscope IIIa)，扫描器(scanner)使用DMLS—633G。悬臂(cantilever)使用硅制的MPP—21100—10。同时还有能够从日本Veeco公司购入的通常使用的悬臂。观察模式为模式轻敲模式(tapping mode)。为了不因探针污染而发生分辨率降低，观察中使用的悬臂经常使用新品。另外，为了防止观察时的磨耗劣化，在不牺牲分辨率的范围内，向探针施加的负荷尽可能地小的条件下进行。通过在干燥状态(20℃—65％RH)下，测定1μm×1μm的微小范围，利用分辨率256像素(pixel)×256像素观察来进行。扫描速度为1.0Hz，但只要不影响分辨率，不必须为该速度。观察后，利用附属的软件校正数据的倾斜，之后，利用附属的软件进行表面粗糙度评价。利用下述计算式(1)得到表面粗糙度(Ra)。
[数1]
R a = 1 S 0 ∫ Y B Y γ ∫ X L X R | F ( X , Y ) - Z 0 | dXdY - - - ( 1 )
利用所述计算式(1)得到的平均面粗糙度Ra值(nm)是将在JIS B0601中定义的粗糙度算术平均偏差值Ra扩张成相对测定面适用的三维值，表现为“将从基准面到指定面的偏差的绝对值进行平均而成的值”。在此，在所述计算式(1)中使用的S0、F(X，Y)、XL～XR、YB～YT、Z0的意思如下所述。
Ra：平均面粗糙度值(nm)
S0：在测定面为理想的平面(flat)时的面积(|XR—XL|×|YT—YB|)
F(X，Y)：测定点(X，Y)中的高度(X为X坐标，Y为Y坐标)
XL～XR：测定面的X坐标的范围
YB～YT：测定面的Y坐标的范围
Z0：测定面内的平均高度
(5)防污层
在本发明中使用的防污层表面的元素比例只要具有所述的特性且表面的元素比例为硅元素(Si)与碳元素(C)的比Si/C为0.25～1.0且氟元素(F)与碳元素(C)的比F/C为0.10～1.0，则没有特别限定。本发明的特征在于，Si/C为0.25～1.0而且F/C为0.10～1.0，其中，所述元素比例优选Si/C为0.3以上的范围内而且F/C为0.15以上的范围内，特别优选Si/C为0.35以上的范围内而且F/C为0.20以上的范围内。这是因为，如果小于所述范围，则不能充分地负荷所述的特性。另外，如果成为Si/C超过1.0的元素比例，则与其他成分的互溶性显著变差，所以在涂敷面上发生凹陷或不均或者泛白，从而带来不良影响。另外，还会引起最表层的膜强度的降低。即使在元素比例成为F/C超过1.0的情况下，也会发生同样的不良情形，故不优选。
其中，所述元素比例的测定使用的是利用ESCA(角度分解型微小区域X射线光电子分光装置Theta Probe(ThermoElectron)(株)制)，在以下的条件下测定所述防污层表面的结果。在X射线光电子分光法(XPS)的测定中，从防反射膜的表面大致检测出1nm～10nm范围的元素。
(测定条件)
X射线源：单色化AlKα
测定面积：400μmφ
X射线输出功率：100W
作为构成表面为这样的元素比例的防污层的材料，可以举出含有含硅化合物和含氟化合物的材料，其中，优选含有具有硅氧烷基的含硅化合物和含有全氟烷基、全氟烷基醚基的至少任意一方的含氟化合物。这是因为，两种化合物通常表面张力低，容易在表面存在，所以即使在与其他成分混合的情况下，也容易在表面渗出，从而变得容易调整存在比率。
作为在本发明中使用的具有硅氧烷基的含硅化合物，可以使用下述通式(1)表示的化合物。式中，Ra表示甲基等碳原子数1～20的烷基，Rb表示未取代或被氨基、环氧基、羧基、羟基或(甲基)丙烯酰基取代的碳原子数1～20的烷基、碳原子数1～3的烷氧基、或聚醚改性基，各Ra、Rb彼此相同或不同。另外，m为0～250的整数，n为0～250的整数。
[化1]
Figure A200780036139D00121
在本发明中，在具有所述通式(1)表示的结构的化合物中，可以特别优选使用对单末端进行(甲基)丙烯酰基改性的X—22—174DX、X—22—2426(均为信越化学工业(株)制)或对两末端进行(甲基)丙烯酰基改性的X—22—164A、X—22—164E(均为信越化学工业(株)制)。
另外，作为在本发明中使用的含氟化合物，只要是含有CdF2d+1(d为1～21的整数)表示的全氟烷基或者—(CF2—CF2—O)—表示的全氟烷基醚基中的至少任意一方的化合物即可，没有特别限定，例如也可以使用含氟单体的聚合物或含氟单体与非含氟单体的共聚物等。
在本发明中，其中，可以优选使用具有下述通式(2)表示的全氟聚醚基的化合物。另外，p为0～2000的整数，q为0～2000的整数。
[化2]
Figure A200780036139D00131
在本发明中，在具有所述通式(2)表示的全氟聚醚基的化合物中，可以特别优选使用对两末端或单末端进行(甲基)丙烯酰基改性的全氟聚醚化合物。具体而言，可以举出两末端聚氨酯甲基丙烯酸酯改性的MD700、5101X(均为Solvay Solexis(株)制)、两末端聚氨酯丙烯酸酯改性的5090X(Solvay Solexis(株)制)。
另外，作为构成在本发明中使用的防污层的材料，只要是所述含有具有硅氧烷基的含硅化合物和含有全氟烷基或全氟烷基醚基的至少任意一方的含氟化合物的材料即可，没有特别限定，可以作为混合物使用，也可以共聚合二者从而在同一分子含有的材料。在本发明中，可以很好地使用二者的任意一种，但优选在同一分子含有有。这是因为，容易调整所述防污层的表面的元素比例。
在本发明中，作为所述含硅化合物与含氟化合物的比，只要所述防污层的表面的Si/C及F/C处于所述的范围内即可，没有特别限定，可以对应使用的化合物的种类适当地选择。
在后述的光学功能层的最表面渗出形成构成所述防污层的材料从而形成所述防污层的情况下，还有不能明确地规定在本发明中使用的防污层的膜厚的情况，但在后述的光学功能层上膜状地形成所述防污层的情况下，通常优选为1nm～30nm的范围内，其中优选为5nm～10nm的范围内。这是因为，如果比所述范围厚，则会给光学特性带来不良影响，在显示器等中使用的情况下，可能会不能良好地识别图像。
作为本发明中的所述防污层的形成方法，可以举出：在溶剂中溶解或分散所述的含有具有硅氧烷基的含硅化合物和含有全氟烷基或全氟烷基醚基的至少任意一方的含氟化合物的材料，配制成为防污层涂敷液，在后述的光学功能层上涂布、干燥的方法；或者，在后述的形成光学功能层的光学功能层形成用涂敷液中溶解，然后在后述的基材上涂布，由此使其在所述光学功能层的表面上渗出的方法。在本发明中，优选使用后者的方法。这是因为，可以减薄膜厚，进而可以减少工序数从而提高生产率。
2.基材
作为在本发明中使用的基材，只要是在配置于显示器等图像显示装置的前面时能够良好地识别在显示器等中显示的图像的基材即可，没有特别限定。作为这样的基材，可以使用不吸收可见光的透明薄膜。作为这样的透明薄膜，例如可以举出三乙酰纤维素薄膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯、二乙酰基纤维素薄膜、乙酸丁酸纤维素薄膜、聚醚砜薄膜、聚丙烯酸系薄膜、聚氨酯系薄膜、聚酯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚砜薄膜、聚醚薄膜、三甲基戊烯薄膜、聚醚酮薄膜、丙烯腈薄膜、甲基丙烯腈薄膜等。在本发明中，在所述的透明薄膜材料中，优选使用单向或双向拉伸聚酯薄膜及三乙酰纤维素薄膜。这是因为，所述单向或双向拉伸聚酯薄膜的透明性、耐热性出色，而三乙酰纤维素薄膜没有光学各向异性。
所述透明薄膜的厚度只要是能够良好地识别图像的厚度即可，没有特别限定，通常为25μm～1000μm的范围内。
3.光学功能层
在本发明中使用的光学功能层是在所述的基材及防污层之间形成的层，只要在显示器等的表面上使用时具有需要的光学功能即可，没有特别限定。在本发明中，作为所述光学功能层，例如可以举出具有不发生薄膜的表面的损伤的耐擦伤性的功能的硬涂层，具有防反射的功能的低折射率层，通过防止带电而具有尘埃的附着防止功能的防静电层，通过扩散外光的反射而成为扩散反射从而具有减少荧光灯等向画面的映入的功能的防眩层等，至少重叠这样的光学功能层中的1层以上而成。
作为在本发明中使用的光学功能层的层叠顺序，通常从基材侧以防静电层、硬涂层、防眩层、低折射率层的顺序重叠。因此，作为所述光学功能层的层结构，例如可以举出基材/防静电层、基材/硬涂层、基材/低折射率层、基材/防静电层/硬涂层、基材/硬涂层/低折射率层、基材/防静电层/硬涂层/低折射率层、基材/防眩层、基材/防眩层/低折射率层、基材/防眩层/硬涂层/低折射率层、基材/防静电层/防眩层、基材/防静电层/防眩层/低折射率层、基材/防静电层/防眩层/硬涂层/低折射率层等。
(1)防静电层
在本发明中使用的防静电层可以利用防静电效果，得到尘埃的附着防止或者将本发明的光学功能薄膜用作CRT时的电磁波屏蔽(shield)效果。
作为这样的防静电层，通常可以使用将导电性微粒分散于树脂组合物而成的层。
作为在所述防静电层中使用的导电性微粒，例如可以举出掺杂了锑的铟锡氧化物(ATO)或铟锡氧化物(ITO)、用金及/或镍进行了表面处理的有机化合物微粒等。另外，作为防静电剂，也可以为季铵盐等阳离子性防静电剂，磺酸盐基、硫酸酯盐基等阴离子系防静电剂，聚乙二醇系等非离子性的防静电剂等各种表面活性剂型防静电剂，进而对如上所述的防静电剂进行高分子量化的高分子型防静电剂等。进而，也可以使用聚乙炔、聚吡咯、聚噻吩、聚苯胺、聚乙炔(ポリフエニレンビニレン)、聚并苯(polyacene)或其各衍生物等导电性聚合物。
作为在所述防静电层中使用的树脂组合物，只要是可以含有所述导电性微粒的透明的树脂组合物即可，没有特别限定，例如可以使用热塑性树脂、热固化型树脂、感光性树脂等。
在本发明中使用的防静电层的制造方法只要能够以均一的膜厚形成即可，没有特别限定，可以使用通常的涂敷(coating)方法。
另外，在本发明中，通过在后述的硬涂层、低折射率层、防眩层中添加所述导电性微粒，这些层也可以分别兼具作为防静电层的功能。
(2)硬涂层
在本发明中使用的硬涂层向本发明的光学功能薄膜的表面赋予不受损伤的耐擦伤性效果。在本发明中，作为所述硬涂层，示出在JIS5600—5—4：1999所示的铅笔硬度试验中为H以上的硬度。
作为构成这样的硬涂层的材料，只要是具有透明性且可以得到硬涂性的材料即可，没有特别限定，例如可以使用热塑性树脂、热固化型树脂、电离辐射固化型树脂等。在本发明中，从可以成为硬涂性出色的层的优点出发，其中优选使用反应固化型树脂即热固化型树脂及/或电离辐射固化型树脂，特别优选在硬涂层的粘合剂(binder)树脂中使用电离辐射固化型树脂。这是因为生产率、能量效率、向其他构件的热损伤(damage)的减低等出色。
作为在本发明中使用的优选用于形成硬涂层的电离辐射固化型树脂组合物，优选具有丙烯酸酯系的官能团的组合物，例如可以使用较低分子量的聚酯树脂，聚醚树脂，聚醚树脂，丙烯酸树脂，环氧树脂，聚氨酯树脂，醇酸树脂，螺缩醛(spiroacetal)树脂，聚丁二烯树脂，聚硫醇聚醚树脂，多元醇，乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯一硬脂酸酯等二(甲基)丙烯酸酯，三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯等三(甲基)丙烯酸酯，季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯衍生物或二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯等多官能(甲基)丙烯酸酯等多官能化合物等单体类或环氧丙烯酸酯或聚氨酯丙烯酸酯等寡聚物等。
在所述电离辐射固化性树脂组合物中使用的光聚合引发剂可以结合所述电离辐射固化型树脂组合物的反应形式，适当地选择光自由基引发剂或光阳离子引发剂等。对光聚合引发剂没有特别限定，光聚合引发剂例如可以结合粘合剂成分的电离辐射固化性的反应形式适当地选择光自由基引发剂或光阳离子引发剂等。
作为这样的光聚合引发剂，没有特别限定，例如可以举出苯乙酮类、二苯甲酮类、酮缩醇类、蒽醌类、二硫化物化合物类、秋兰姆化合物类、氟胺化合物类等。更具体而言，可以例示1—羟基—环己基—苯基—酮、2—甲基—1[4—(甲基硫代)苯基]—2—吗啉代丙烷—1—酮、苄基二甲基酮、1—(4—十二烷基苯基)—2—羟基—2—甲基丙烷—1—酮、2—羟基—2—甲基—1—苯基丙烷—1—酮、1—(4—异丙基苯基)—2—羟基—2—甲基丙烷—1—酮、2—羟基—1—{4—[4—(2—羟基—2—甲基—丙酰基)—苄基]苯基}—2—甲基—丙烷—1—酮、二苯甲酮等。其中，由于1—羟基—环己基—苯基—酮及2—甲基—1[4—(甲基硫代)苯基]—2—吗啉代丙烷—1—酮即使为少量也可以利用电离辐射的照射促进、引发聚合反应，所以可以在本发明中优选使用。它们可以单独使用1方，也可以组合使用二者。它们也存在市售品，例如可以以艾加库而(Irgacure)184的商品名从千叶特殊化学(Chiba Speciality Chemicals)(株)获得1—羟基—环己基—苯基—酮。
只要能够发挥耐擦伤性且具有充分的强度，则对在本发明中使用的硬涂层的膜厚没有特别限定，优选在固化后为0.1μm～100μm的范围内，其中，更优选为0.8～20μm的范围内。这是因为，如果比所述范围薄，则不能得到充分的硬涂性能，如果比所述范围厚，则变得容易对来自外部的碰撞产生裂纹。
在本发明中使用的硬涂层的制造方法只要能够以均一的膜厚形成即可，没有特别限定，可以使用通常的涂敷方法。
(3)防眩层
在本发明中使用的防眩层是在表面具有微细的凹凸形状从而提供防眩功能的层。
所述防眩层含有用于赋予防眩性的透光性微粒以及用于赋予相对基材或相邻的层的附着力的粘合剂，进而在必要时也可以含有流平剂等添加剂，用于调整折射率、防止交联收缩、赋予高压入强度的无机填充剂等，从而形成。
对所述各透光性微粒没有特别限定，可以使用无机系、有机系的透光性微粒。作为利用有机系材料形成而成的微粒的具体例，可以举出塑料珠。作为塑料珠，可以举出苯乙烯珠(折射率1.60)、三聚氰胺珠(折射率1.57)、丙烯酸珠(折射率1.50～1.53)、丙烯酸—苯乙烯珠(折射率1.54～1.58)、苯鸟粪胺珠、苯鸟粪胺·甲醛缩合珠、聚碳酸酯珠、聚乙烯珠等。所述塑料珠优选在其表面具有疏水性基，例如可以举出苯乙烯珠。作为无机系微粒，可以举出不定形二氧化硅、无机二氧化硅珠等。
只要能够使其在粘合剂中均一地分散从而得到理想的凹凸即可，对在本发明中使用的透光性微粒的粒径没有特别限定，优选使用的粒径为0.5μm～8μm。
另外，作为这样的透光性微粒相对粘合剂的含量，可以相对粘合剂100质量份在1质量份～15质量份的范围内优选使用。
作为能够在本发明中使用的防眩层中使用的粘合剂，只要是透明的树脂即可，没有特别限定，例如可以使用热塑性树脂及作为反应固化型树脂的热固化型树脂、电离辐射固化型树脂等。
作为在本发明中使用的防眩层的膜厚，只要能够得到理想的防眩性即可，没有特别限定，可以根据使用的透光性微粒的种类或本发明的光学功能薄膜的用途等适当地设定。
另外，所述防眩层可以为单层，也可以由多层构成。在防眩层为多层的情况下，优选由衬底凹凸层及在该衬底凹凸层上设置的表面形状调节层构成。在此，表面形状调节层是具有将所述衬底凹凸层的表面形状调整成凹凸形状的功能的层。防眩层为多层的情况下的衬底凹凸层是表面具有凹凸形状的层，可以利用与在凹凸层为单层的情况下的防眩层实质上相同的方法得到。
在本发明中使用的防眩层的形成方法通常通过在所述粘合剂中混合所述透光性微粒成为涂敷液，涂敷该涂敷液，从而形成。
在这样的涂敷液中，在使用时必需充分地搅拌沉淀的透光性微粒从而使其分散。为了使这样的不良情形消失，也可以在所述涂敷液中，添加作为防沉淀剂的粒径为0.5μm以下、优选为0.1μm～0.25μm的二氧化硅珠。其中，该二氧化硅珠越添加则越可以有效地防止有机填充剂的沉淀，但对给涂膜的透明性带来不良影响。因而，优选在不破坏涂膜的透明性而且能够防止沉淀的范围内，即相对粘合剂100质量份添加不到0.1质量份左右的二氧化硅珠。
(4)低折射率层
作为本发明中的低折射率层，只要是能够向所述光学功能层赋予防反射效果的层即可，没有特别限定，例如可以举出具有低折射率微粒和粘合剂成分的层。低折射率微粒是具有比粘合剂成分的折射率低的折射率的微粒。
(低折射率微粒)
在本发明中使用的成为核心(core)的低折射率微粒是在涂敷组合物中使用的具有比粘合剂成分的折射率低的折射率的微粒。在本发明中，作为所述低折射率微粒的折射率，优选为1.44以下，其中，更优选为1.40以下。这是因为能够赋予充分的低折射率性。
作为在本发明中使用的低折射率微粒，可以举出具有空隙的微粒或者具有低折射率性的金属氟化物微粒等。
在本发明中，所述具有空隙的微粒是指在微粒的内部形成有填充了气体的结构及/或含有气体的多孔结构体的微粒。在气体为折射率1.0的空气的情况下，与微粒本来的折射率相比，折射率与在微粒中的占有率成比例地降低。另外，在本发明中，还包括虽然根据微粒的形态、结构、凝集状态、微粒在膜内部的分散状态不同而不同，但可在内部及/或表面的至少一部分形成纳米多孔(nanoporous)结构的微粒。
在本发明中使用的低折射率微粒中，作为具有空隙的微粒的材料，可以为无机物、有机物的任意一种，例如可以举出由金属、金属氧化物、树脂构成的材料，其中，优选使用氧化硅(二氧化硅)微粒。所述二氧化硅微粒可以为结晶性、溶胶状、凝胶状的状态等，没有限定。
作为具有空隙的无机系的微粒的具体例，可以举出在特开平7—133105号公报、特开2001—233611号公报等中公开的复合氧化物溶胶或空心二氧化硅微粒。其中，优选利用在特开2001—233611号公报中公开的技术配制的空心二氧化硅微粒。这是因为，由于具有空隙的无机系微粒的硬度高，所以在与粘合剂成分混合形成低折射率层时，其层强度被提高，而且，还可以将其配制成折射率在1.20～1.44左右的范围内。
如上所述的空心二氧化硅微粒等具有空隙的无机系微粒可以具体利用以下的第1～第3工序制造。
即，作为第1工序，预先分别地配制二氧化硅原料及二氧化硅以外的无机氧化物原料的碱水溶液，或者，配制二者的混合水溶液。接着，对应目的复合氧化物的复合比例，在pH10以上的碱水溶液中边搅拌边缓慢地添加得到的所述水溶液。此外，也可以代替第1工序，而将预先含有种子(seed)微粒的分散液作为起始原料。
接着，作为第2工序，从在所述的工序中得到的由复合氧化物构成的胶体微粒，选择性地除去硅和氧以外的元素的至少一部分。具体而言，使用无机酸或有机酸，溶解除去复合氧化物中的元素，或者，使其与阳离子交换树脂接触，从而离子交换除去。
接着，作为第3工序，通过在除去其一部分元素的各复合氧化物的胶体微粒中加入水解性的有机硅化合物或硅酸液等，利用水解性有机硅化合物或硅酸液等聚合物被覆胶体微粒的表面。这样地进行，可以制造在所述公报中记载的复合氧化物溶胶。
另外，作为可在形成的低折射率层的内部及/或表面的至少一部分形成纳米多孔结构的微粒，除了前面的二氧化硅微粒以外，还可以举出以增大比表面积为目的制造的在填充用的柱及表面的多孔质部中吸附各种活性物质的缓释材料、在催化剂固定中使用的多孔质微粒或以组装到绝热材料或低电介质中为目的的空心微粒的分散体或凝集体。作为这样的具体例，在日本二氧化硅工业株式会社制的商品名Nipsil或Nipgel中的多孔质二氧化硅微粒的集合体、日产化学工业(株)制的具有二氧化硅微粒连结成链状的结构的胶体二氧化硅UP系列(series)(商品名)中，可以利用本发明的优选粒径范围内的市售品。
另一方面，作为具有空隙的有机系的微粒的具体例，可以优选举出利用在特开2002—80503号公报中公开的技术配制的空心高分子微粒。空心高分子微粒具体可以通过如下过程制造，即：使(i)至少1种交联性单体、(ii)引发剂、(iii)可从至少1种交联性单体得到的聚合物或至少1种交联性单体与至少1种单官能性单体的共聚物、以及由相对(i)～(iii)的互溶性低的水难溶性的溶媒构成的化合物在分散稳定剂的水溶液中分散，进行悬浮聚合来制造。此外，在此，交联性单体是指具有2个以上聚合性反应基的单体，单官能性单体是指具有1个聚合性反应基的单体。
作为在本发明中使用具有空隙的微粒作为低折射率微粒时的折射率，优选为1.20～1.44的范围内，其中，更优选为1.22～1.40的范围内。这是因为，如果大于所述范围，则不能充分地低折射率化，而如果小于所述范围，则难以保证微粒自身的强度。
另一方面，作为在本发明中使用的金属氟化物微粒的材料，只要是折射率低的材料即可，没有特别限定，例如可以举出氟化镁、氟化铝、氟化锂等。
另外，作为在本发明中使用金属氟化物微粒作为低折射率微粒时的折射率，优选为1.30～1.44的范围内，其中，更优选为1.33～1.40的范围内。这是因为，如果大于所述范围，则不能充分地低折射率化，从可以使低折射率层充分地低折射率化的点出发，优选所述范围。
微粒的形状可以为球状、链状、针状、板状、片状、棒状、纤维状、树脂状的任意一种。
低折射率微粒的平均粒径优选为1nm以上、100nm以下，进而优选下限为10nm以上、上限为50nm以下。这是因为，在微粒的平均粒径超过100nm的情况下，可能会破坏透明性。相反，在微粒的平均粒径不到1nm的情况下，微粒的分散可能变得困难。通过使微粒的平均粒径在该范围内，可以向低折射率层赋予出色的透明性。
(粘合剂成分)
作为在本发明中使用的粘合剂成分，可以均一地分散使用所述的低折射率微粒，只要能够赋予出色的成膜性或者相对基材或相邻的层的附着力即可，没有特别限定。
作为这样的粘合剂成分，只要是在已固化或硬化时具有透明性的粘合剂成分即可，没有特别限定，例如可以使用对可见光、紫外线、电子射线等电磁波或能量微粒线感应从而固化的光固化性粘合剂成分，或者，以对热感应从而固化的热固化性粘合剂成分为代表的反应性粘合剂成分，或者，以不对光或热等感应而利用干燥或冷却固化的热塑性树脂等为代表的非反应性粘合剂成分。
其中，在本发明中，优选使用光固化性粘合剂成分、尤其是电离辐射固化性粘合剂成分。这是因为，可以配制涂敷适合性出色的涂敷组合物，容易形成均一的大面积涂膜。另外，还因为，在涂敷涂膜中的粘合剂成分之后，利用光聚合使其固化，由此可以得到强度较高的涂膜。
作为这样的电离辐射固化性粘合剂成分，可以使用具有在受到电离辐射的照射时直接地或者受到引发剂的作用而间接地使聚合或二量化等大分子化的反应进行的聚合性官能团的单体、寡聚物及聚合物。在本发明中，主要可以使用具有丙烯基、乙烯基、烯丙基等乙烯性不饱和键的自由基聚合性的成分，或者含环氧基的化合物之类的光自由基聚合性的成分。
作为所述热固化性粘合剂成分，可以使用具有能够利用加热使同一官能团或与其他官能团之间进行聚合或交联等大分子量化反应从而使其固化的固化反应性官能团的单体、寡聚物及聚合物。可以具体举出具有烷氧基、羟基、羧基、氨基、环氧基、氢键形成基等的单体、寡聚物。
在本发明中，作为所述电离辐射固化性粘合剂成分、所述热固化性粘合剂成分，为了能够在粘合剂成分间形成交联键，优选为在一分子内具有2个以上聚合性官能团的多官能性。
作为所述非反应性粘合剂成分，可以例示为了形成光学薄膜而从过去一直使用的非聚合反应性的透明树脂例如聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸、聚丙烯树脂、聚甲基丙烯酸酯、聚烯烃、聚苯乙烯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚氯乙烯、聚乙烯醇、聚乙烯醇缩丁醛、聚碳酸酯等。
在本发明中，可以使用所述粘合剂成分的1种，也可以混合2种以上。例如，也可以在所述电离辐射固化性粘合剂成分中组合所述热固性粘合剂成分或像所述非反应性粘合剂成分之类的其他反应形式的聚合性单体、寡聚物、聚合物。
作为构成本发明中使用的低折射率层的所述低折射率微粒及所述粘合剂成分的配合比率，优选相对低折射率微粒10质量份，以3质量份～20质量份配合粘合剂成分。
在本发明中使用的低折射率层的厚度只要为能够发挥防反射效果的厚度即可，没有特别限定，通常为10nm～200nm的范围内。
作为在本发明中使用的低折射率层的形成方法，只要是能够成为均一的膜厚的方法即可，没有特别限定，例如可以使用真空电镀法、溅射法、热CVD法等各种真空成膜的方法，或者利用溶胶凝胶法等的湿涂敷(wetcoating)等公知的方法，但通常利用使所述低折射率微粒及粘合剂成分成为涂敷液状的低折射率层用涂敷组合物并涂敷该组合物的湿涂敷来形成。
作为所述低折射率层用涂敷组合物，是至少具有所述低折射率微粒及粘合剂成分的组合物，但此外也可以在必要时含有溶剂、光聚合引发剂、其他添加剂。
(溶剂)
作为在本发明中使用的所述低折射率层用涂敷组合物中含有的溶剂，只要是能够均一地溶解或分散所述低折射率微粒及粘合剂成分等的溶剂即可，没有特别限定，可以使用通常的有机溶剂。
作为这样的溶剂，例如可以使用甲醇、乙醇、异丙醇等醇类；甲基乙基甲酮、甲基异丁基甲酮、环己酮等酮类；乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯类；卤代烃类；甲苯、二甲苯等芳香族烃类；或者它们的混合物。
在本发明中，其中优选使用酮系的有机溶剂。如果使用酮系溶剂配制本发明中的涂敷组合物，则可以容易地在基材表面较薄地且均一地涂布该组合物，而且，在涂敷后溶剂的蒸发速度适度而难以发生干燥不均，所以可以容易地得到均一的较薄的大面积涂膜。作为酮系溶剂，可以使用由1种酮构成的单独溶剂、由2种以上的酮构成的混合溶剂以及与1种或2种以上的酮一起含有其他溶剂且没有失去作为酮溶剂的性质的溶剂。可以优选使用溶剂的70质量％以上、特别优选80质量％以上被1种或2种以上的酮占据的酮系溶剂。
另外，溶剂的量在可以均一地溶解、分散各成分且在配制后的贮存时不引起凝集而且在涂敷时不过于稀薄的浓度的范围内适当地调节。优选在满足该条件的范围内，减少溶剂的使用量，配制高浓度的涂敷组合物，在不占容量的状态下贮存，在使用时取出必要分，稀释成适于涂敷作业的浓度。在使固体成分与溶剂的总量为100质量份时，相对全部固体成分0.5质量份～50质量份，使溶剂为50质量份～95.5质量份，进而优选相对全部固体成分10质量份～30质量份，使溶剂为70质量份～90质量份，通过在该比例下使用溶剂，可以得到分散稳定性特别出色、适于长期贮存的低折射率层用涂敷组合物。
(光聚合引发剂)
在本发明中使用的粘合剂成分为电离辐射固化性的情况下，优选为了引发光聚合而使用光聚合引发剂。作为光聚合引发剂，可以使用与在所述“(2)硬涂层”的项中记载的相同的光聚合引发剂。
另外，在使用光聚合引发剂的情况下，相对电离辐射固化性粘合剂成分100质量份，优选以通常的3质量份～8质量份的比例配合该光聚合引发剂。
(其他)
在本发明中，除了所述低折射率微粒及粘合剂成分以外，也可以在必要时加入其他添加物。作为这样的添加物，还可以优选使用环氧丙烯酸酯树脂(共荣社化学制“EpoxyEster”或昭和高分子制“Epoxy”等)或各种异氰酸酯与具有羟基的单体经由尿烷键利用加成聚合得到的聚氨酯丙烯酸酯树脂(日本合成化学工业制“紫光”或共荣社化学制“聚氨酯丙烯酸酯”)之类的数均分子量(利用GPC法测定的聚苯乙烯换算的数均分子量)为2万以下的寡聚物类。这是因为，这些单体类或寡聚物类除了提高涂膜的交联密度的效果高以外，还由于数均分子量为2万以下，所以为流动性高的成分，具有提高所述低折射率层用涂敷组合物的涂敷适合性的效果。
另外，作为粘合剂，为了降低折射率，也可以添加含氟的单体及聚合物。
另外，在本发明中使用的低折射率层也可以进一步在所述低折射率层的基材侧设置其他折射率层(高折射率层和中折射率层)。这是因为，通过与所述高折射率层、中折射率层、低折射率层一起使用，由于各自的折射率的不同，可以有效地防止光的反射。
作为这些其他折射率层的折射率，只要折射率比所述低折射率层的折射率高即可，没有特别限定，可以在1.46～2.00的范围内任意地设定。在本发明中，中折射率层是指折射率至少比所述低折射率层高，其折射率处于1.46～1.80的范围内的层，高折射率层是指在与中折射率层并用的情况下，折射率至少比所述中折射率层高，其折射率处于1.65～2.00的范围内的层。
作为在本发明中使用的所述中折射率层及高折射率层，折射率只要在所述的范围内即可，没有特别限定，例如可以举出具有超微粒中的具有需要的折射率的超微粒和粘合剂成分的层。
作为这样的超微粒的材料，例如可以举出氧化锌(1.90)、二氧化钛(2.3～2.7)、二氧化铈(1.95)、掺杂了锡的氧化铟(1.95～2.00)、掺杂了锑的氧化锡(1.75～1.85)、氧化钇(1.87)、氧化锆(2.10)。其中，在上述括号内示出各超微粒的材料的折射率。
在本发明中，作为所述各中折射率层及高折射率层的折射率的调整方法，由于通常被所述超微粒的含有率决定，所以可以利用添加量来调整。
另外，在本发明中使用的超微粒的平均粒径只要能够形成具有需要的折射率的层即可，没有特别限定，通常为100nm以下。另外，作为所述粘合剂成分，可以使用与所述的低折射率层相同的粘合剂成分。
这些其他折射率层的膜厚优选处于10nm～300nm、进而优选30nm～200nm的范围。
作为所述其他折射率层(高折射率层和中折射率层)的形成位置，只要在所述低折射率层与所述基材之间即可，没有特别限定，也可以在所述基材上直接设置，但优选在所述基材上形成硬涂层，在硬涂层与低折射率层之间设置。这是因为能够更有效地发挥防反射功能。
另外，如果在本发明中使用的超微粒具有导电性，则由于使用这样的超微粒形成的其他折射率层(高折射率层或中折射率层)具有导电性，所以也可以兼具作为防静电层的功能。
作为本发明中的所述高折射率层或中折射率层的形成方法，可以利用与所述的低折射率层相同的方法形成，可以成为利用化学气相沉积法(CVD)、物理气相沉积法(PVD)等气相沉积法形成的二氧化钛或氧化锆之类的折射率高的无机氧化物的沉积膜，或者也可以成为使二氧化钛之类的折射率高的无机氧化物微粒分散而成的膜。
此外，本发明不被所述实施方式所限定。所述实施方式为例示，在任何情况下，具有实质上与在本发明的权利要求的范围中记载的技术思想相同的构成、起到相同的作用效果的实施方式均被包括在本发明的技术范围内。
实施例
接着举出实施例及比较例，进一步具体地说明本发明。
[评价方法]
利用(1)反射率测定、(2)表面的元素比例(Si/C及F/C)、(3)接触角及下落角、(4)表面的动摩擦系数、(5)表面的平均面粗糙度(Ra)、(6)耐擦伤性评价试验，测定实施例、比较例中的光学功能薄膜。将其结果示于表1。
(1)反射率测定
使用岛津制作所(株)制分光光度计(UV—3100PC)，测定最低反射率。将最低反射率示于表1。其中，最低反射率为将低折射率层的膜厚设定成反射率的极小值处于波长550nm附近时的反射率的值。
(2)表面的元素比例(Si/C及F/C)
利用ESCA(角度分解型微小区域X射线光电子分光装置Theta Probe(ThermoElectron)(株)制)，在以下的条件下测定涂敷膜表面的元素比例。
(测定条件)
X射线源：单色化AlKα
测定面积：400μmφ
X射线输出功率：100W
(3)接触角及下落角
使用DM700(协和界面科学(株)制)测定表面的液体石蜡、黑标记油墨(MHJ60—T1黑，寺西化学工业(株)制)的接触角及下落角、水的接触角。
(4)表面的动摩擦系数
在干燥状态(20℃—65％RH)下，利用HEIDON HHS—2000动摩擦试验机，以10mmφ不锈钢球、负荷200g、速度5mm/s的条件，测定表面的动摩擦系数。
(5)表面的平均面粗糙度(Ra)
使用原子力显微镜(日本Veeco(株)制，Nanoscope IIIa)，在干燥状态(20℃—65％RH)下，以1μm×1μm的范围测定表面的平均面粗糙度(Ra)。
(6)耐擦伤性评价试验
使用#0000的钢丝棉(steel wool)，以200g负荷来回20次，目视确认此时的伤痕的有无。评价标准如下所述。
○：完全未见伤痕
○～△：可见细伤痕(5条以下)
△：伤痕很明显，但未见剥离
×：剥离
[实施例1]
(1)硬涂层的形成
(硬涂层形成用组合物的配制)
混合下述组成的成分，配制硬涂层形成用组合物。
·季戊四醇三丙烯酸酯(PET—30：商品名，日本化药制)；30.0质量份
·艾加库而907(商品名，千叶特殊化学公司制)：1.5质量份
·甲基异丁基甲酮：73.5质量份
(硬涂层的制作)
在厚度为80μm的三乙酰纤维素(TAC)薄膜上，棒涂上述配制的硬涂层形成用组合物，通过干燥除去溶剂之后，使用紫外线照射装置，以辐射剂量约20mJ/cm2进行紫外线照射，使涂膜固化，得到具有膜厚为10μm的硬涂层的、基材/硬涂层构成的层叠薄膜。
(2)低折射率层的形成
混合下述组成的成分，配制低折射率层形成用组合物。
(低折射率层形成用组合物)
·空心二氧化硅微粒分散液(空心二氧化硅甲基异丁基甲酮溶胶；平均粒径50nm，固体成分20％，触媒化成工业(株)制)；13.6质量份
·季戊四醇三丙烯酸酯(PET—30：商品名，日本化药制)；1.8质量份
·艾加库而127(商品名，千叶特殊化学公司制)：0.1质量份
·X—22—164E(商品名，信越化学工业制，两末端甲基丙烯酸改性硅酮)；0.2质量份
·5101X(商品名，Solvay Solexis制，两末端4官能甲基丙烯酸酯改性全氟聚醚化合物)；0.2质量份
·甲基乙基甲酮：84.1质量份
(3)光学功能薄膜的制作
在(1)中得到的基材/硬涂层构成的层叠薄膜上，棒涂上述配制的低折射率层形成用组合物，通过干燥除去溶剂之后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems Japan(株)，光源H电子管(valve))，以辐射剂量约200mJ/cm2进行紫外线照射，使涂膜固化，得到具有膜厚10nm的低折射率层。
通过以上，得到具有基材/硬涂层/低折射率层/防污层(利用渗出形成)的层结构的光学功能薄膜。
[实施例2]
除了使低折射率层形成用组合物成为下述组成的成分以外，与实施例1同样地进行，得到具有基材/硬涂层/低折射率层/防污层(利用渗出形成)的层结构的光学功能薄膜。
(低折射率层形成用组合物)
·空心二氧化硅微粒分散液(空心二氧化硅甲基异丁基甲酮溶胶；平均粒径50nm，固体成分20％，触媒化成工业(株)制)；13.6质量份
·季戊四醇三丙烯酸酯(PET—30：商品名，日本化药制)；1.8质量份
·艾加库而127(商品名，千叶特殊化学公司制)：0.1质量份
·ZX—007C(固体成分35％，商品名，富士化成工业制，氟树脂/硅氧烷接枝型聚合物)；0.5质量份
·5088X(商品名，Solvay Solexis制，两末端2官能聚氨酯甲基丙烯酸酯改性全氟聚醚化合物)；0.2质量份
·甲基异丁基甲酮：83.4质量份
[实施例3]
(1)基材/硬涂层/低折射率层的形成
与实施例1同样地进行，得到具有基材/硬涂层构成的层叠薄膜。接着，使低折射率层形成用组合物成为下述组成的成分，在所述层叠薄膜上形成低折射率层。
(低折射率层形成用组合物)
·空心二氧化硅微粒分散液(空心二氧化硅甲基异丁基甲酮溶胶；平均粒径50nm，固体成分20％，触媒化成工业(株)制)；16.4质量份
·季戊四醇三丙烯酸酯(PET—30：商品名，日本化药制)；1.6质量份
·艾加库而127(商品名，千叶特殊化学公司制)：0.1质量份
·甲基异丁基甲酮：81.9质量份
(2)防污层的形成
混合下述组成的成分，配制防污层形成用组合物。
(防污层形成用组合物)
·ZX—007C(固体成分35％，商品名，富士化成工业制，氟树脂/硅氧烷接枝型聚合物)；0.6质量份
·FLUOROLINK D(商品名，Solvay Solexis制，两末端羟基改性全氟聚醚化合物)；0.1质量份
·Coronate HX(商品名，日本聚氨酯制，三聚异氰酸酯型预聚物)；0.3质量份
·异丙醇；9.4质量份
在(1)中得到的基材/硬涂层/低折射率层构成的层叠薄膜上，棒涂(barcoating)上述配制的防污层形成用组合物，通过干燥除去溶剂之后，利用烘箱(oven)，以80℃、1h的条件，使其固化，形成膜厚约10nm的防污层。
通过以上，得到具有基材/硬涂层/低折射率层/防污层(膜状)的层结构的光学功能薄膜。
[比较例1]
除了使低折射率层形成用组合物成为下述组成的成分以外，与实施例1同样地制作防反射膜，得到基材/硬涂层/低折射率层的层结构的光学功能薄膜。
(低折射率层形成用组合物)
·空心二氧化硅微粒分散液(空心二氧化硅甲基异丁基甲酮溶胶；平均粒径50nm，固体成分20％，触媒化成工业(株)制)；14.7质量份
·季戊四醇三丙烯酸酯(PET—30：商品名，日本化药制)；2.0质量份
·艾加库而127(商品名，千叶特殊化学公司制)：0.1质量份
·甲基异丁基甲酮：83.2质量份
[比较例2]
除了使低折射率层形成用组合物成为下述组成的成分以外，与实施例1同样地制作防反射膜，得到具有基材/硬涂层/低折射率层/防污层(只使硅系防污剂渗出形成)的层结构的光学功能薄膜。
(低折射率层形成用组合物)
·空心二氧化硅微粒分散液；14.0质量份
·季戊四醇三丙烯酸酯(PET—30：商品名，日本化药制)；1.9质量份
·艾加库而369(商品名，千叶特殊化学公司制)：0.1质量份
·X—22—162C(商品名，信越化学工业制，两末端羧基改性硅酮添加剂)；0.2质量份
·甲基异丁基甲酮：83.8质量份
[比较例3]
除了使低折射率层形成用组合物成为下述组成的成分以外，与实施例1同样地制作防反射膜，得到具有基材/硬涂层/低折射率层(只使氟系防污剂渗出形成)的层结构的光学功能薄膜。
(低折射率层形成用组合物)
·空心二氧化硅微粒分散液；14.0质量份
·季戊四醇三丙烯酸酯(PET—30：商品名，日本化药制)；1.9质量份
·艾加库而369(商品名，千叶特殊化学公司制)：0.1质量份
·F200(固体成分30％，商品名，日本油脂制，氟系嵌段共聚物添加剂)；0.8质量份
·甲基异丁基甲酮：83.2质量份
[表1]
测定实施例及比较例中的光学功能薄膜的表面的元素比例，结果实施例中，硅元素(Si)与碳元素(C)的比Si/C均为0.25以上且氟元素(F)与碳元素(C)的比F/C均为0.10以上，均满足以下特性。
a.液体石蜡接触角为65°以上且液体石蜡下落角为15°以下
b.黑标记油墨接触角为35°以上且黑标记油墨下落角为15°以下
c.动摩擦系数不到0.15
与此相对，比较例中，没有满足全部上述a～c的特性的例子。
产业上的可利用性
通过在最表面具有耐指纹性、耐标记油墨性、滑动性出色的防污层，可以在显示器、个人电脑、手机等的显示器、后视镜、护目镜、窗玻璃、其他商业显示器的最表层中使用，尤其可以很好地在液晶显示装置等显示器的最表层中使用。

Claims (4)

1.一种光学功能薄膜，其特征在于，
具有基材、在所述基材上形成的光学功能层和在所述光学功能层上形成的防污层，该防污层的表面的元素比例为硅元素(Si)与碳元素(C)的比Si/C为0.25～1.0且氟元素(F)与碳元素(C)的比F/C为0.10～1.0，而且该防污层具有以下特性：
a.液体石蜡接触角为65°以上且液体石蜡下落角为15°以下，
b.黑标记油墨接触角为35°以上且黑标记油墨下落角为15°以下，
c.动摩擦系数不到0.15。
2.根据权利要求1所述的光学功能薄膜，其特征在于，
所述防污层的水接触角为100°以上。
3.根据权利要求1或2所述的光学功能薄膜，其特征在于，
所述防污层的使用原子力显微镜测定的表面粗糙度(Ra)为2nm以下。
4.根据权利要求1～3中任意一项所述的光学功能薄膜，其特征在于，
所述防污层含有具有硅氧烷基的含硅化合物以及具有全氟烷基、全氟烷基醚基中的至少一种的含氟化合物。
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WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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