CN101517493A - 用于平版印刷版的显影和封印的方法 - Google Patents

用于平版印刷版的显影和封印的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN101517493A
CN101517493A CN200780034707.2A CN200780034707A CN101517493A CN 101517493 A CN101517493 A CN 101517493A CN 200780034707 A CN200780034707 A CN 200780034707A CN 101517493 A CN101517493 A CN 101517493A
Authority
CN
China
Prior art keywords
acid
weight
developer
water
alkyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN200780034707.2A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101517493B (zh
Inventor
C·辛普森
B·施特雷梅尔
H·鲍曼
U·菲巴格
M·亚雷克
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Eastman Kodak Co
Original Assignee
Eastman Kodak Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Eastman Kodak Co filed Critical Eastman Kodak Co
Publication of CN101517493A publication Critical patent/CN101517493A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101517493B publication Critical patent/CN101517493B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/322—Aqueous alkaline compositions
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B41C1/1016—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/02—Cover layers; Protective layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/14—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes characterised by macromolecular organic compounds, e.g. binder, adhesives
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/02—Positive working, i.e. the exposed (imaged) areas are removed
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/04—Negative working, i.e. the non-exposed (non-imaged) areas are removed
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/06—Developable by an alkaline solution
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/22—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/24—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

描述了一种制备成像的平版印刷版的方法，其中的显影剂包含的亲水聚合物含有：(m1)衍生自至少一种含聚氧亚烷基链和可自由基聚合的基团两者的化合物的结构单元，以及(m2)衍生自至少一种可与(i)的可自由基聚合的基团进行共聚的化合物并包含至少一个pKs＜5的官能团的结构单元。

Description

用于平版印刷版的显影和封印的方法
本发明涉及用于对成像曝光的平版印刷版进行显影和封印的方法，其中显影剂包含水溶性的亲水共聚物。
平版印刷是基于油和水的不混溶性进行，其中油性材料或印墨优选被成像区域吸收，而水或润版液优选被非成像区域吸收。当一适当产生的表面被水润湿并涂布了印墨后，背景或非成像区域接受水并排斥印墨，而成像区域接受印墨并排斥水。然后，成像区域内的印墨转移到诸如纸张，织物等材料的表面，而在其上形成图像。然而，印墨一般是首先转移到被称为橡皮布(转印布)的介质材料上，其随后将印墨转移到将形成图像的材料表面；这一技术被称为胶版印刷术。
一类经常使用的平版印刷版前体包含涂布在铝基基板(衬底)上的光敏涂层。辐射可使该涂层发生反应，从而使曝光部分变为水溶性的，以致于在显影过程中被除去。这种版即为正性工作的。另一方面，如果涂层的曝光部分经辐照后变硬，则这种版为负性工作的。在两种情况下，剩余的成像区域都接受印墨，即其为亲油的，而非成像区域(背景)接受水，即其为亲水的。成像区域和非成像区域之间的差别在曝光中得以显现，为此在真空下将薄膜附着在印刷版前体上以保证获得良好的接触。然后，用包含UV辐射的辐射源对版进行曝光。当使用的是正性版时，膜上对应于版上图像的区域是不透明的，以致于阻止光到达版，而膜上对应于版上非成像的区域是清晰的并使得光透过涂层，其溶解性得以增加。当使用的是负性版时，情况相反。膜上对应于版上图像的区域是清晰的，而非成像区域是不透明的。在清晰的膜区域之下的涂层在入射光下(如通过光聚合作用)而变硬，而未受光影响的区域在显影过程中被除去。这样，负性工作版的光硬化的表面为非透明的并接受印墨，而曾经由那些被显影剂除去的涂层涂覆的非成像区域经脱感而变为亲水性的。
作为另外一种可选方案，版也可在无膜存在下例如用激光进行数字成像曝光。根据最新进展，使用了具有热敏层的版前体，其中，通过直接加热或被转换成热的IR辐射的照射，在涂层的受热和未受热区域出现不同的显影剂溶解性。
有时，水溶性聚合物用作平版印刷版前体上的临时涂层(有时称之为“外涂层(保护涂层)”)，该平版印刷版前体具有对氧敏感的涂层如可光聚合的涂层。水溶性聚合物具有保护涂层在储存、曝光以及尤其在曝光和进一步处理(显影等)期间受大气中氧的影响的功能。在这段时间内，临时涂层必须显示出对光敏基板足够的粘附力，从而保证在无涂层破裂下进行安全的操作(生产，包装，运输，曝光等)。在显影之前，除去外涂层，优选是通过水洗或将外涂层与非成像部分一起溶解在显影剂中。
通常，在涂布辐射敏感层之前，对基板，尤其是具有氧化铝层的铝基板提供亲水保护层(也成为“夹层”)。该亲水层改善了平版印刷版的(非印刷)背景区域的受水性，并在这些区域改善斥印墨性。合适的亲水保护层还确保在显影期间辐射敏感层的可溶部分易于除去且基板上无残留物，从而在印刷期间获得清洁的背景区域。如果没有无残留物式去除，则会在印刷期间发生所谓的调色，即背景区域会接受印墨。
为获得清洁的印刷图像，必须做到成像区域(即成像后剩余涂层)能够较好地接受印墨，而非成像区域(即经成像露出的基板，如铝基板)应当不接受印墨。为了保护经成像露出的基板，如铝基板在印刷版安装在印刷机中时不受指纹、形成的氧化铝、腐蚀和机械破坏，如划痕的影响，即保持和尽可能改善非成像区域的亲水性，通常对显影的印刷版进行“涂胶”处理(也成为“修版”)。在版储存之前或印刷机进行长期闲置之前进行涂胶以确保非成像区域保持亲水性。当印刷开始时，涂胶溶液要求能够使用润版液快速地从版上洗去从而使得成像区域能够快速地吸收墨水。涂胶溶液已经在很长的时间被知晓并且例如在DE 29 26 645，DE 20 42 217 A1，US 4,880,555 A1，US 4,033,919A1，和US 4,162,920A1中被公开。
DE 25 04 594 A1公开了一种含有磷酸的涂胶溶液以及一种共聚物，该共聚物含有衍生自丙烯酰胺的结构单元以及具有羧基的结构单元。该涂胶溶液不适用于对疏水涂层(如不含夹层的基板)具有高的粘附性的平版基板，这是因为在印刷时在这些版上观察到调色现象。
DE 29 25 363 A1描述了一种包含水相和油相的涂胶组合物，其中水相含有亲水聚合物，油相含有有机溶剂、HLB＜14的非离子烷基苯基表面活性剂、脂肪酸酯表面活性剂和阴离子表面活性剂。尽管这种组合物向具有夹层的版提供了良好的去感光性，但却不适用于对疏水涂层具有高粘附性的平版基板(如无夹层的基板)，这是因为在这种版上观察到了调色现象。另一种用于平版的乳化类型的表面保护剂在EP943 967 A2中被公开；由于存在调色问题它也不适用于无夹层的版。
在US 4,143,021；US 414,531；US 4,266,481和US 5,736,256中公开的涂胶组合物也不适用于对疏水涂层具有高粘附性的平版基板(如无夹层的基板)，这是因为在印刷机上观察到了调色现象。
在EP985 546 A1中，公开了一种用于平版的表面保护剂，其是环氧乙烷和环氧丙烷的特定共聚物。在涂胶溶液中使用这种试剂不能防止在对疏水涂层具有高粘附性的平版基板(如无夹层的基板)的印刷过程中出现调色现象。
EP 1 199 606 A1公开了一种制备负性工作平版印刷版的方法，其中显影溶液含有无机碱性试剂和具有聚氧亚烷基醚基团的非离子表面活性剂。已发现对疏水涂层具有高粘附性的平版基板(如无夹层的基板)的清理特性不足，而如果使用了这种显影溶液则在印刷机上观察到很强的调色现象。
为了使平版印刷版表现出优异的性能，基板必须具有良好的亲水性且(涂层的)成像区域必须对基板具有好的粘附性。为了避免在印刷时出现调色现象，基板必须具有良好的亲水性。因此，常常在基板上涂布夹层以提高基板的亲水性。不幸的是，夹层通常会降低印刷图像区域和基板之间的粘附力，进而会缩短印刷运转周期。
为了提高印刷图像的质量(如图像的解析度)，研制出了具有30μm点尺寸或更低点尺寸的FM屏(FM＝调频)，此时点的尺寸变得非常小，从而导致更差的粘附力。对于用FM屏进行成像的版前体而言，重要的是具有极好的粘附力；然而还期望调色现象不是一个大问题(即基板的亲水性能优异)。
因此，本发明的目的是提供一种制备成像的平版印刷版的方法，该平版印刷版不受调色的影响，同时图像区域对基板显示出良好的粘附性。
该目的出乎意料地通过下述方法得以实现，该方法包括
(a)经辐射对平版印刷版前体进行成像曝光，该前体包括
(i)基板
(ii)包含一层或多层的辐射敏感涂层，以及
(iii)任选的不渗氧外涂层，
其中辐射为使辐射敏感涂层感光的辐射；
(b)使用水性显影剂对已成像曝光的前体进行处理，其中水性显影剂的pH值＞6且包含
(i)水，
(ii)至少一种亲水聚合物，
其包含
(ml)由至少一种包含聚氧亚烷基链和可自由基聚合的基团的化合物衍生出的结构单元，以及
(m2)由至少一种可与(ml)的可自由基聚合的基团进行共聚并包含至少一个pKs＜5的官能团的化合物衍生出的结构单元，以及
(iii)任选的至少一种选自表面活性剂，碱性试剂，形成水溶性膜的亲水性聚合物，选自有机溶剂、杀生物剂、配位剂、缓冲物质、滤光染料、防沫剂、抗腐蚀剂以及自由基抑制剂的添加剂中的一员；以及
(c)任选的至少一步选自用水冲洗，干燥和烘焙的步骤。
本发明的方法可用于加工正性工作前体以及负性工作前体；其中的每一种均可对UV，可见光或IR辐射敏感。
前体
本发明的方法适用于加工负性工作前体以及正性工作前体；前体可对UV/可见光辐射或IR辐射敏感。下面对合适前体的例子进行描述：
基板
用于前体的基板优选为尺寸稳定的板或箔形材料，如已经被用于印刷文件的基板。这种基板的例子包括纸张、涂有塑料材料(如聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯)的纸张、金属板或箔，例如铝(包括铝合金)、锌以及铜板、通过如二醋酸纤维素酯、三醋酸纤维素酯、丙酸纤维素酯、醋酸纤维素酯、醋酸丁酸纤维素酯、硝酸纤维素酯、聚对苯二甲酸乙二酯、聚乙烯、聚苯乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯以及聚醋酸乙烯酯所制得的塑料膜以及从纸张或塑料膜以及上述所提及的一种金属所制得的层压材料或通过汽相淀积金属化后的纸张/塑料膜。在这些基板中，铝板或箔是特别优选的，这是因为其显示出显著的尺寸稳定性、价格便宜以及对辐射敏感涂层还显示出优良的粘附性。此外，还可使用复合膜，其中铝箔被层压在塑料膜如聚对苯二甲酸乙二酯膜或纸张上或通过汽相淀积将铝涂布在塑料膜上。优选的基板为金属基板，其中这里所使用的术语“金属基板”还包括最上层为金属层或箔的复合膜。
金属基板，尤其是铝基板，优选经过表面处理，例如在干燥状态下通过刷布进行磨版或使用研磨悬浮液进行刷布，或进行电化学磨版，如通过盐酸电解液或HNO3以及任选的如在硫酸或磷酸中进行阳极化。根据优选的实施方案，金属基板含有Al2O3-，ZnO-，SiO2-或TiO2-层。
使用本发明的方法，还可制备出即使在氧化层有缺陷的情况下也不会出现调色现象的平版印刷版。
特别优选作为基板的铝箔优选具有的厚度为0.1～0.7mm，更优选为0.15～0.5mm。优选箔片是经过磨版(优选通过电化学)而获得平均粗糙度为0.2～1μm，特别优选为0.3～0.8μm。
根据特别优选的实施方案，磨版的铝箔被进一步阳极化。形成的氧化铝的层重优选为1.5～5g/m2，特别优选为2～4g/m2。
金属基板可进一步使用如碱金属硅酸盐、氟化钙锆、六氟硅酸、磷酸盐/氟化物、聚乙烯基膦酸、乙烯基膦酸共聚物或磷酸的水性溶液进行后处理(所谓的“封印”)从而在其表面提供亲水层(也称之为“夹层”)。根据本发明优选的实施方案，基板不包括夹层。本发明的优点在于若按照本发明进行显影，无夹层的基板不会受印刷机上调色问题的影响，但对疏水涂层具有高度粘附性。
上述提及的基板的处理细节为本领域的技术人员所熟知。
负性工作辐射敏感元件
在许多的参考文献中都有对负性工作涂层的描述，例如在EP 0 752430 B1中对负性重氮树脂上的UV敏感涂层进行了描述，在DE 103 07451中对405nm下光敏感的光聚合物层进行了描述，在EP 0 684 522 B1中对可见光敏感的光聚合物层进行了描述以及在DE 199 06 823 A1中对IR敏感度可聚合系统进行了描述。
光致聚合(UV/可见光和IR)
一种涂布在基板上的负性工作的涂层包含(a)至少一种吸收剂成分，其选自吸收波长在250～1,200nm范围内的辐射并能够引发自由基聚合的光引发剂和敏化剂/助引发剂体系，(b)可自由基聚合的单体、低聚物和/或预聚物，以及任选的(c)至少一种聚合粘合剂。
吸收剂成分
辐射敏感涂层进一步含有至少一种选自光引发剂和敏化剂/助引发剂体系的吸收剂成分。
吸收剂成分经选择从而使其对成像过程中稍后要使用的辐射源所发射范围内的辐射进行显著地吸收；优选地，吸收剂能够在此范围内进行最大程度的吸收。因此，如果辐射敏感元件通过如IR激光器进行成像，则吸收剂必须基本吸收约750～1,200nm范围的辐射并且优选在此范围内显示出最大吸收。另一方面，如果成像是通过如UV/可见光辐射进行，则吸收剂必须吸收约250～750nm范围的辐射并且优选在此范围内显示出最大吸收。合适的光引发剂和/或敏化剂已被本领域的技术人员所熟知或可通过简单的测试(如记录吸收光谱)来确定其在期望的波长范围内是否出现显著的吸收。
在本发明中，光引发剂是一种在暴露时能够吸收辐射并且本身，即在不加入助引发剂的条件下能够形成自由基的化合物。吸收UV或可见光辐射的合适的光引发剂的例子包括具有1～3个CX3基团(其中每个X是独立选自氯或溴原子，并且优选为氯原子)的三嗪衍生物、六芳基二咪唑化合物、苯偶姻醚、苯偶酰缩酮、肟醚、肟酯、α-羟基-或α-氨基-苯乙酮、酰基膦、酰基氧化膦、酰基硫化膦、茂金属、过氧化物等。合适的三嗪衍生物的例子包括2-苯基-4，6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2，4，6-三氯甲基)-s-三嗪、2-甲基-4，6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2-(苯乙烯基-4，6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2-(对甲氧基苯乙烯基)-4，6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-甲氧基-萘-1-基)-4，6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-乙氧基-萘-1-基)-4，6-二(三氯甲基)-s-三嗪和2-(4-(2-乙氧基)-萘-1-基)-4，6-二(三氯甲基)-s-三嗪。合适的肟醚和肟酯例如是从安息香衍生得到的那些。优选的金属茂例如是具有两个五元环二烯基如环戊二烯基和一或两个至少具有一个正氟原子和任选还具有一个吡咯基的六元芳香基的二茂钛；最优选的金属茂是：二(环戊二烯基)-二-[2，6-二氟-3-(吡咯-1-基)-苯基]钛和二环-戊二烯-二-2，4，6-三氟苯基-钛或锆。
在本发明中，可使用单一光引发剂或两种或多种光引发剂的混合物。
光引发剂可单独使用或与一种或多种助引发剂组合使用；加入助引发剂可提高光引发的效率。
对光引发剂的量没有特别的限制；然而，如果存在光引发剂，以干燥层的重量为基准，其范围优选为0.2～25重量％，特别优选为0.5～15重量％。
本发明中所指的敏化剂是可对暴露的辐射进行吸收的化合物，但其本身，即在没有加入助引发剂的情况下不会形成自由基。
所有的能够被光氧化或光还原或可将它们的激发能量转移到受体分子的光吸收化合物都是适合用作本发明中的敏化剂。这类染料的例子包括花青染料、部花青染料、氧杂菁(oxonol)染料、二芳基甲烷染料、三芳基甲烷染料、呫吨染料、香豆素衍生物、香豆素酮染料、吖啶染料、吩嗪染料、喹喔啉染料、吡咯鎓(pyrrylium)染料或硫代吡咯鎓染料、azaanulene染料(例如酞菁染料和紫菜碱)、靛蓝染料、蒽醌染料、聚芳撑、聚芳多烯烃、2，5-二苯基异苯并呋喃，2，5-二芳基呋喃，2，5-而芳硫呋喃，2，5-二芳基吡咯，2，5-二芳基环戊二烯，聚芳基苯撑，聚芳基-2-吡唑啉，羰基化合物如芳族酮或醌，如二苯甲酮衍生物、米氏酮、噻吨酮衍生物、蒽醌衍生物和芴酮衍生物。
式(I)的香豆素敏化剂可适合用于电磁光谱的UV范围：
Figure A20078003470700121
其中
R1，R16，R17和R18独立选自-H、卤素原子、C1-C20烷基、-OH、-O-R4和-NR5R6，其中R4为C1-C20烷基、C5-C10烷基或C6-C30芳烷基(优选为C1-C6烷基)以及R5和R6独立选自氢原子和C1-C20烷基，
或R1和R16，R16和R17或者R17和R18一起形成带有杂原子的5-或6-元杂环，其中杂原子选自N和O，并位于式(I)中与苯基相邻的一个或两个位置处，
或R16或R17与其两个相邻的取代基一起形成带有杂原子的5-或6-元杂环，其中杂原子选自N和O，并位于式(I)中与苯基相邻的一个或两个位置处，
其中每个形成的5-或6-元杂环可独立地被一个或多个C1-C6烷基取代，
前提是R1，R16，R17和R18中的至少一个不为氢和C1-C20烷基，
R2为氢原子，C1-C20为烷基，C5-C10芳基或C6-C30芳烷基以及
R3为氢原子或选自-COOH、-COOR7、-COR8、-CONR9R10、-CN、C5-C10芳基、C6-C30芳烷基，5-或6-元杂环的任选苯并稠和的基团、-CH＝CH-R12的取代基以及
Figure A20078003470700122
其中R7为C1-C22烷基，R8为C1-C20烷基或5-或6-元杂环基团，R9和R10独立选自氢原子、C1-C20烷基，R11为C1-C12烷基或烯基、杂环非芳香环或任选带有选自O，S和N的杂原子的C5-C20芳基，并且R12为C5-C10芳基或5-或6-元杂环，任选为芳环；
或R2和R3与它们所连接的碳原子一同形成5-或6-元杂环，任选为芳环。
例如在WO 2004/049068A1中对它们进行了更详细的描述。
此外，二噁唑衍生物和式(II)的类似物适用于UV范围
Figure A20078003470700131
其中X为间隔基团，其包括至少一个与杂环共轭的C-C双键，
Y和Z独立地表示任选取代的稠合芳环并且
V和W独立选自O，S和NR，其中R为任选单取代或多取代的烷基、芳基或芳烷基，这在WO 2004/074929A2中有更详细的描述，以及式(III)的噁唑化合物
其中每个R1，R2和R3独立选自卤素原子、任选取代的烷基、任选取代的可稠合的芳基、任选取代的芳烷基、基团-NR4R5和基团-OR6，
其中R4和R5独立选自氢原子、烷基、芳基或芳烷基，
R6为任选取代的烷基、芳基或芳烷基或氢原子，并且k、m和n独立地为0或1～5之间的整数，如WO 2004/074930A2中所描述的那样。
在WO 2004/111731A1中所描述的式(IV)的1，4-二氢吡啶化合物是另一类适用于UV范围内的敏化剂例子。
Figure A20078003470700141
其中
R1选自氢原子、-C(O)OR7、任选取代的烷基、任选取代的芳基、任选取代的芳烷基，
R2和R3独立选自任选取代的烷基、任选取代的芳基、CN以及氢原子，
R4和R5独立选自-C(O)OR7、-C(O)R7、-C(O)NR8R9和CN，或R2和R4一起形成任选取代的苯环或5元～7-元碳环或杂环，其中单元
Figure A20078003470700142
存在于与二氢吡啶环的5位相邻位置的碳环或杂环中，且其中碳环或杂环任选地含有其它的取代基。
或R2和R4以及R3和R5都可形成任选取代的苯环或5元～7元碳环或杂环，其中单元
Figure A20078003470700143
存在于与二氢吡啶环的3和5位相邻的碳环或杂环中且其中碳环或杂环任选地含有其它的取代基。
或R2/R4和R3/R5中的一对形成5元～7元碳环或杂环，其中单元
Figure A20078003470700151
存在于与二氢吡啶环的3和5位相邻的碳环或杂环中且其中碳环或杂环任选地含有其它的取代基并且另一对形成任选取代的苯环，
或R2和R1或R3和R1形成任选地含有一个或多个取代基的5元～7元杂环并且除了与1，4-二氢吡啶所共享的氮原子外，其还任选含有另外的氮原子、-NR13基团、-S-或-O-，
R13选自氢原子、烷基、芳基以及芳烷基，
R6选自经卤素原子或-C(O)基团任选取代的烷基、任选取代的芳基、任选取代的芳烷基、任选取代的杂环基团以及基团
Figure A20078003470700152
Y为亚烃基或亚芳基，
R7为氢原子、芳基、芳烷基或烷基，其中烷基和芳烷基中的烷基任选含有一个或多个C-C双键和/或C-C三键，
并且R8和R9独立选自氢原子、任选取代的烷基、任选取代的芳基以及任选取代的芳烷基。
式(V)，(VI)，(VII)和(VIII)的敏化剂还适于用作UV敏感元件。它们特别适合用作通过30μm(及更低)FM网版(FM＝调频的)进行成像的版：
Figure A20078003470700161
其中
Figure A20078003470700162
和每个
Figure A20078003470700163
独立地表示芳香或杂环芳香单元，每个R1和R2独立选自卤素原子、烷基、芳基或芳烷基、基团-NR4R5或基团-OR6，
R4，R5和R6独立选自烷基、芳基和芳烷基以及
n为至少为2的整数并且
k和m独立地表示0或1～5的整数；
其中
Figure A20078003470700165
为芳香或杂环芳香单元或这二者的结合，从而使共轭的π-体系存在于结构(I)中两个基团Z的中间，
每个Z独立地表示连接间隔基AS和共轭体系的杂原子，
每个R1和R2独立选自卤素原子、烷基、芳基、烷芳基或芳烷基、基团-NR3R4或基团-OR5，
每个R3，R4和R5独立选自烷基、芳基、烷芳基和芳烷基，a和b独立地表示0或1～4的整数，
n具有＞1的值并且
AS为脂肪族间隔基，
(在DE 10 2004 055 733中进行了更详细的描述)；
其中
X选自O，S和Se；
n表示0或正整数；
m，p和q独立地为0或正整数；
π-单元和独立地为不饱和单元，每个单元具有共轭的π-电子体系，其通过共价键连接到杂环单元
Figure A20078003470700174
并且再次与该单元一同形成共轭的π-电子体系且
每个基团R1，R2和R3独立选自氢原子、卤素原子、烷基、芳烷基、基团-NR4R5或基团-OR6，
其中R4，R5和R6独立选自烷基、芳基和芳烷基，
(在10 2004 022 137 B3中进行了更详细的描述)；
Figure A20078003470700181
其中
R1和R2独立选自氢、未取代和取代的芳基、未取代和取代的杂芳基和未取代和取代的烷基，所述的芳基或杂芳基连接到R3或R4以形成5-或6-元N-杂芳基环或不连接至R3和R4；前提是基团R1和R2中的至少一种为未取代和取代的芳基或杂芳基；
或R1和R2和与它们连接的氮原子一同形成N-杂芳基，其具有一个或二个稠和的苯环或不具有任何稠和的苯环；
R3和R4独立选自氢、CN、卤素、未取代和取代的烷基、芳烷基、烷芳基和芳基、-O-烷基、-O-芳基、-S-烷基、-COOR、-SOR、-SO2R、-SO3R、-NO2、NR2、NR3 +和-PO3R2，其中每个R是选自H、烷基、芳基、芳烷基和烷芳基，或R3或R4连接到由R1或R2表示的芳基或杂芳基以形成5-或6-元N-杂芳基环；
R5和R6独立选自氢、CN、卤素、未取代和取代的烷基、芳烷基、烷芳基和芳基、-O-烷基、-O-芳基、-S-烷基、-COOR、-SOR、-SO2R、-SO3R、-NO2、NR2、NR3 +和-PO3R2，其中每个R是选自H、烷基、芳基、芳烷基和烷芳基，或者如果R3和R4没有分别连接到R1或R2，则R5和R3和/或R6和R4形成5-或6-元稠和的芳环；
R7和R8独立选自氢、CN、卤素、未取代和取代的烷基、烷芳基、芳烷基和芳基；
n是选自0、1和2；
Z表示O，S，Se或NR，其中R是选自氢、烷基、芳基、芳烷基和烷芳基；
R9～R12独立选自氢、卤素、CN、未取代和取代的烷基、芳烷基、烷芳基和芳基、-O-烷基、-O-芳基、-S-烷基、-COOR、-SOR、-SO2R、-SO3R、-NO2、NR2、NR3 +和-PO3R2，其中每个R是选自H、烷基、芳基、芳烷基和烷芳基，前提是R9～R12中的至少一个为大体积基团，其范德华体积至少为
Figure A20078003470700191
如果辐射敏感元件将被暴露在可见光激光二极管下，则在WO03/069411A1中描述的氰基吡啶酮衍生物适合用作敏化剂。
对于IR-敏感的元件，敏化剂例如是选自炭黑、酞菁颜料/染料和聚噻吩、squarilium、噻唑、croconate、部花青、花青、中氮茚、吡咯鎓(pyrylium)或metaldithiolin类的颜料/染料，特别优选的是花青类。例如在US 6,326,122的表1中提及的化合物是合适的IR吸收剂。其它的例子可在US 4,327,169、US 4,756,993、US 5,156,938、WO 00/29214、US 6,410,207和EP 1 176 007 A1中找到。
根据一种实施方案，使用了式(IX)的花青染料，
Figure A20078003470700192
其中
每个Z1独立地表示S，O，NRa或C(烷基)2；
每个R′独立地表示烷基、烷基磺酸基或烷基铵基；
R″表示卤素原子、SRa、ORa、SO2Ra或NRa 2；
每个R″′独立地表示氢原子、烷基、-COORa、-ORa、-SRa、-NRa 2或卤素原子；R″′也可为苯并稠环；
A-表示阴离子；
Rb和Rc或者都表示氢原子或者同与它们连接的碳原子一起形成五元-或六元-碳环；
Ra表示氢原子、烷基或芳基；
每个b独立地为0、1、2或3。
如果R′表示烷基磺酸基，则可形成内盐从而不需要阴离子A-。如果R′表示烷基铵基，则需要第二个与A-相同或不同的反离子。
对于式(IX)的IR染料，具有对称结构的染料是特别优选的。特别优选的染料的例子包括：2-[2-[2-苯磺酰基-3-[2-(1，3-二氢-1，3，3-三甲基-2H-吲哚-2-基叉基)-乙叉基]-1-环己烯-1-基]-乙烯基]-1，3，3-三甲基-3H-吲哚鎓氯化物、2-[2-[2-苯硫基-3-[2-(1，3-二氢-1，3，3-三甲基-2H-吲哚-2-基叉基)-乙叉基]-1-环己烯-1-基]-乙烯基]-1，3，3-三甲基-3H-吲哚鎓氯化物、2-[2-[2-苯硫基-3-[2-(1，3-二氢-1，3，3-三甲基-2H-吲哚-2-基叉基)-乙叉基]-1-环戊烯-1-基]-乙烯基]-1，3，3-三甲基-3H-吲哚鎓对甲苯磺酸盐、2-[2-[2-氯-3-[2-(1，3-二氢-1，3，3-三甲基-2H-苯并[e]-吲哚-2-基叉基)-乙叉基]-1-环己烯-1-基]-乙烯基]-1，3，3-三甲基-1H-苯并[e]-吲哚鎓对甲苯磺酸盐和2-[2-[2-氯-3-[2-乙基-(3H-苯并噻唑-2-基叉基)-乙叉基]-1-环己烯-1-基]-乙烯基]-3-乙基-苯并噻唑对甲苯磺酸盐。
以下化合物也是适合于本发明的IR吸收剂：
Figure A20078003470700201
Figure A20078003470700211
Figure A20078003470700221
Figure A20078003470700231
Figure A20078003470700241
Figure A20078003470700251
Figure A20078003470700261
在本发明中，可使用一种敏化剂或使用两种或多种敏化剂的混合物。
敏化剂是与一种或多种助引发剂组合使用。此外，还可使用光引发剂；然而，这不是优选的。
对敏化剂的量没有特别的限制；然而，如果存在敏化剂，以干燥层的重量为基准，其范围优选为0.2～15重量％，特别优选为0.5～10重量％。如果涂层中同时存在光引发剂和敏化剂，则以干燥层的重量为基准，它们的总含量优选为0.5～30重量％，特别优选为1～15重量％。
本发明中所指的助引发剂是在辐照后基本上不进行吸收但与用于本发明中的辐射吸收敏化剂一同形成自由基的化合物。助引发剂例如是选自鎓化合物，例如那些其中鎓阳离子是选自碘鎓(例如三芳基碘鎓盐)、硫鎓(例如三芳基硫鎓盐)、磷鎓、oxylsulfoxonium、氧硫鎓、sulfoxonium、铵、重氮、硒鎓、砷鎓和N-取代的N-杂环鎓阳离子，其中N是被任选取代的烷基、烯基、炔基或芳基所取代；N-芳基氨基乙酸及其衍生物(例如N-苯基氨基乙酸)；芳香族磺酰卤；三卤甲基芳基砜；酰亚胺如N-苯甲酰-oxyphthalimide；重氮磺酸盐；9，10-二氢蒽衍生物；具有至少2个羧基的N-芳基、S-芳基或O-芳基多羧酸，其中至少一个羧基连接至芳香单元的氮、氧或硫原子上(例如苯胺二乙酸及其衍生物和其它的描述于US-A-5,629,354中的助引发剂)；六芳基二咪唑；硫醇化合物(例如巯基苯并噻唑、巯基苯并咪唑和巯基三唑)；具有1～3个CX3基团的1，3，5-三嗪衍生物(其中每个X独立选自氯或溴原子，并以氯原子为优选)，例如2-苯基-4，6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2，4，6-(三氯甲基)-s-三嗪、2-甲基-4，6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2-(苯乙烯基-4，6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2-(对甲氧基苯乙烯基)-4，6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-甲氧基-萘-1-基)-4，6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-乙氧基-萘-1-基)-4，6-二(三氯甲基)-s-三嗪和2-(4-(2-乙氧基乙基)-萘-1-基)-4，6-二(三氯甲基)-s-三嗪；肟醚和肟酯，例如那些衍生自安息香的肟醚和肟酯；金属茂(优选为二茂钛，特别优选的是具有两个五元的环二烯基如环戊二烯基和一或两个至少具有一个正氟原子和任选吡咯基的六元芳香基的二茂钛，例如二(环戊二烯基)-二-[2，6-二氟-3-(吡咯-1-基)-苯基]钛和二环戊二烯-二-2，4，6-三氟苯基-钛或锆)；酰基膦氧化物、二酰基膦氧化物和过氧化物(例如在EP-A1-1035435中列出的那些作为有机或氧化物的活化剂)、α-羟基-或α-氨基-苯乙酮、酰基膦、酰基膦硫化物、羰基化合物如芳香酮或醌，例如苯甲酮衍生物、米氏酮、噻吨酮衍生物、蒽醌衍生物和芴酮衍生物。
适合的2，2′，4，4′，5，5′-六芳基联咪唑(以下简称为六芳基联咪唑)由下面的式(X)表示：
Figure A20078003470700281
其中A1-A6是取代的或未取代的C5-C20芳基，它们相互之间相同或不同，且在这些环中的一个或多个碳原子任选地被选自O、N和S的杂原子取代。适合的芳基的取代基是那些不会抑制三芳基咪唑自由基发生光诱发的离解的取代基，例如卤原子(氟、氯、溴、碘)、-CN、C1-C6烷基(任选具有一个或多个选自卤原子、-CN和-OH的取代基)、C1-C6烷氧基、C1-C6烷硫基、(C1-C6烷基)磺酰基。
优选的芳基是取代的或未取代的苯基、联苯基、萘基、吡啶基、呋喃基和噻吩基。特别优选的是取代的或未取代的苯基，尤其优选的是卤素取代的苯基。
例子包括：
2，2′-二(溴苯基)-4，4′，5，5′-四苯基联咪唑、
2，2′-二(对羧基苯基)-4，4′，5，5′-四苯基联咪唑、
2，2′-二(邻氯苯基)-4，4′，5，5′-四(对甲氧基苯基)联咪唑、
2，2′-二(对氯苯基)-4，4′，5，5′-四(对甲氧基苯基)联咪唑、
2，2′-二(对氰基苯基)-4，4′5，5′-四(对甲氧基苯基)联咪唑、
2，2′-二(2，4-二氯苯基)-4，4′，5，5′-四苯基联咪唑、
2，2′-二(2，4-二甲氧基苯基)-4，4′，5，5′-四苯基联咪唑、
2，2′-二(邻乙氧基苯基)-4，4′，5，5′-四苯基联咪唑、
2，2′-二(间氟苯基)-4，4′，5，5′-四苯基联咪唑、
2，2′-二(邻氟苯基)-4，4′，5，5′-四苯基联咪唑、
2，2′-二(对氟苯基)-4，4′，5，5′-四苯基联咪唑、
2，2′-二(邻己氧基苯基)-4，4′，5，5′-四苯基联咪唑、
2，2′-二(邻己基苯基)-4，4′，5，5′-四(对甲氧基苯基)联咪唑、
2，2′-二(3，4-亚甲基二氧基苯基)-4，4′，5，5′-四苯基联咪唑、
2，2′-二(邻氯苯基)-4，4′，5，5′-四(间甲氧基苯基)联咪唑、
2，2′-二(邻氯苯基)-4，4′，5，5′-四[间(β苯氧基-乙氧基苯基)]联咪唑、
2，2′-二(2，6-二氯苯基)-4，4′，5，5′-四苯基联咪唑、
2，2′-二(邻甲氧基苯基)-4，4′，5，5′-四苯基联咪唑、
2，2′-二(对甲氧基苯基)-4，4′-二(邻甲氧基苯基)-5，5′-二苯基联咪唑、
2，2′-二(邻硝基苯基)-4，4′，5，5′-四苯基联咪唑、
2，2′-二(对苯磺酰苯基)-4，4′，5，5′-四苯基联咪唑、
2，2′-二(对磺酰胺苯基)-4，4′，5，5′-四苯基联咪唑、
2，2′-二(2，4，5-三甲基苯基)-4，4′，5，5′-四苯基联咪唑、
2，2′-二-4-联苯基-4，4′，5，5′-四苯基联咪唑、
2，2′-二-1-萘基-4，4′，5，5′-四(对甲氧基苯基)联咪唑、
2，2′-二-9-菲基-4，4′，5，5′-四(对甲氧基苯基)联咪唑、
2，2′-二苯基-4，4′，5，5′-四-4-联苯基联咪唑、
2，2′-二苯基-4，4′，5，5′-四-2.4-二甲苯基联咪唑、
2，2′-二-3-吡啶基-4′，5，5′-四苯基联咪唑、
2，2′-二-3-噻吩基-4，4′，5，5′-四苯基联咪唑、
2，2′-二-邻-甲苯基-4，4′，5，5′-四苯基联咪唑、
2，2′-二-对-甲苯基-4，4′-二-邻甲苯基-5，5′-二苯基联咪唑、
2，2′-二-2，4-二甲苯基-4，4′，5，5′-四苯基联咪唑、
2，2′，4，4′，5，5′-六(对benyl苯硫基)联咪唑、
2，2′，4，4′，5，5′-六-1-萘基联咪唑、
2，2′，4，4′，5，5′-六苯基联咪唑、
2，2′-二(2-硝基-5-甲氧基苯基)-4，4′，5，5′-四苯基联咪唑、
2，2′-二(邻硝基苯基)-4，4′，5，5′-四(间甲氧基苯基)联咪唑和
2，2′-二(2-氯-5-硫苯基)-4，4′，5，5′-四苯基联咪唑；
以及特别优选的：
2，2′-二(邻氯苯基)-4，4′，5，5′-四苯基联咪唑、
2，2′-二(邻氯苯基)-4，4′，5，5′-四(对氟苯基)联咪唑、
2，2′-二(邻溴苯基)-4，4′，5，5′-四(对碘苯基)联咪唑、
2，2′-二(邻氯苯基)-4，4′，5，5′-四(对氯萘基)联咪唑、
2，2′-二(邻氯苯基)-4，4′，5，5′-四(对氯苯基)联咪唑、
2，2′-二(邻溴苯基)-4，4′，5，5′-四(对氯对甲氧基苯基)联咪唑、
2，2′-二(邻氯苯基)-4，4′，5，5′-四(邻对二氯苯基)联咪唑、
2，2′-二(邻氯苯基)-4，4′，5，5′-四(邻对二溴苯基)联咪唑、
2，2′-二(邻溴苯基)-4，4′，5，5′-四(邻对二氯苯基)联咪唑或
2，2′-二(邻对二氯苯基)-4，4′，5，5′-四(邻对二氯苯基)联咪唑，
但本发明并不局限于这些化合物。
可根据已知的方法来制备合适的六芳基联咪唑(参见如US-A-3,445,232)。一种优选的方法是在碱溶液中用六氰合高铁酸盐(II)-铁(III)(iron-(III)-hexacyanoferrate(II))对相应的三芳基咪唑进行氧化二聚。
只要在过程中六芳基联咪唑异构体(或异构体的混合物)(如1，2′-，1，1′-，1，4′，2，2′-，2，4′-和4，4′-异构体)是可光解的并且能提供三芳基咪唑基自由基，则无论使用哪种异构体都不会对本发明的目的产生影响。
适合用作助引发剂的三卤甲基化合物能够形成自由基。优选的为三卤甲基取代的三嗪以及三卤甲基-芳基砜。例子如下所述(本发明并不局限于这些化合物)：2-(4-甲氧基苯基)-4，6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-氯苯基)-4，6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2-苯基-4，6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2，4，6-三(三氯甲基)-s-三嗪、2，4，6-三(三溴甲基)-s-三嗪以及三溴甲基苯基砜。
许多助引发剂当暴露在它们的吸收谱带中时也可充当光引发剂。这样，由于光引发剂或敏化剂覆盖长波长光谱范围(IR和/或可见区域)而助引发剂覆盖短波长光谱范围(例如UV区域)，因而可获得如在广谱范围均敏感的光敏层。这一效果在消费者想将相同的材料暴露于不同辐射源时可体现出优势。在这种情况下，助引发剂就从上面给出的IR和可见光范围的定义的意义上起到了实际的助引发剂的作用，而对于UV范围而言起到了光引发剂的作用。
在本发明中，可使用一种助引发剂或助引发剂的混合物。
对助引发剂的量没有特别的限制；然而，以干燥层的重量为基准，其范围优选为0.2～25重量％，特别优选为0.5～15重量％。
在WO 2004/041544、WO 2000/48836和DE 10 2004 003143中还提及了适用于IR-敏感的涂层的其它的敏化剂和助引发剂的例子。
可自由基聚合的化合物
所有包含至少一个C-C双键的单体、低聚物和聚合物均可用作可自由基聚合的单体、低聚物和聚合物。具有C-C三键的单体/低聚物和聚合物也可使用，但不是优选的。适合的化合物对本领域技术人员而言是熟知的，它们可在没有任何特定限制之下用于本发明。具有一个或多个不饱和基团，以单体、低聚物或预聚物形式存在的丙烯酸和甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸和异巴豆酸、马来酸和富马酸的酯是优选的。它们可以以固体或液体形式存在，并以固体和高粘度形式为优选。适合作为单体的化合物例如包括三羟甲基丙烷三丙烯酸酯和三甲基丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯和三甲基丙烯酸酯、二季戊四醇单羟基五丙烯酸酯和五甲基丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯和六甲基丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯和四甲基丙烯酸酯、二三羟甲基丙烷四丙烯酸酯和四甲基丙烯酸酯、二甘醇二丙烯酸酯和二甲基丙烯酸酯、三甘醇二丙烯酸酯和二甲基丙烯酸酯或四甘醇二丙烯酸酯和二甲基丙烯酸酯。适合的低聚物和/或预聚物例如氨基甲酸酯丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯、环氧化物丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯或不饱和的聚酯树脂。
除了单体和/或低聚物外，也可使用在主链或侧链中包含可自由基聚合的C-C双键的聚合物。其例子包括马来酸酐共聚物和羟烷基(甲基)丙烯酸酯(参考如DE 4 311 738 C1)的反应产物；部分或完全用烯丙基醇酯化的(甲基)丙烯酸聚合物(参考如DE 3 332 640 A1)；聚合的多元醇与异氰酸根合烷基(甲基)丙烯酸酯的反应产物；不饱和聚酯；(甲基)丙烯酸酯-封端的聚苯乙烯、聚(甲基)丙烯酸酯、聚(甲基)丙烯酸、聚(甲基)丙烯酰胺；部分或完全用含可自由基聚合基团的环氧化物酯化的(甲基)丙烯酸聚合物；以及具有烯丙基侧基的聚合物，其例如可通过对烯丙基(甲基)丙烯酸酯，任选地与另外的共聚单体一同聚合得到。
能够用于本发明的可自由基聚合的化合物也包括分子量为3,000或更低的化合物，它们是通过使二异氰酸酯与(i)具有一个羟基的烯属不饱和化合物，以及同时(ii)具有一个NH基和一个OH基的饱和的有机化合物进行反应获得的反应产物，其中反应物的用量根据以下情况而定：
异氰酸酯基团的摩尔数≤OH加上NH基团的摩尔数。
二异氰酸酯的例子由下式表示：
O＝C＝N-(CR9 2)a-D-(CR9 2)b-N＝C＝O(XI)
其中a和b独立地表示0或1～3的整数，每个R9独立选自H和C1-C3烷基，D为饱和的或不饱和的间隔基，其在除两个异氰酸酯基外还任选地包括进一步的取代基。D可以为链形或环形单元。在本发明中，术语“二异氰酸酯”是指包含两个二异氰酸酯基团但不含OH基和不含仲和伯氨基的有机化合物。
D例如可以是亚烃基(CH2)w，其中w是1～12的整数，优选为1～6，且一或多个氢原子任选地被取代基如烷基(优选为C1-C6)、亚环烷基、亚芳基或饱和的或不饱和的杂环基取代。
含有羟基的烯属不饱和化合物(i)包含至少一个非芳香的C-C双键，其优选为末端的双键。该羟基优选不键合到双键碳原子上；该羟基不属于羰基的一部分。除了一个OH基外，烯属不饱和化合物(i)不包含任何进一步的可与异氰酸酯基发生反应的官能基，例如NH。
烯属不饱和化合物(i)的例子包括：羟基(C1-C12)烷基(甲基)丙烯酸酯(例如2-羟基乙基(甲基)丙烯酸酯，2-或3-羟基-丙基(甲基)丙烯酸酯，2-、3-或4-羟基丁基(甲基)丙烯酸酯)、羟基(C1-C12)烷基-(甲基)丙烯酰胺(例如2-羟基乙基(甲基)丙烯酰胺，2-或3-羟基丙基(甲基)-丙烯酰胺，2-、3-或4羟基丁基(甲基)-丙烯酰胺)、低聚的或聚合的乙二醇或丙二醇的单(甲基)丙烯酸酯(例如聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯，三亚乙基二醇单(甲基)丙烯酸酯)、烯丙基醇、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、4-羟基(C1-C12)烷基苯乙烯(例如4-羟基甲基苯乙烯)，4-羟基苯乙烯，羟基环己基(甲基)丙烯酸酯。
本发明中使用的术语“(甲基)丙烯酸酯”是指甲基丙烯酸酯和丙烯酸酯等。
饱和的有机化合物(ii)是具有一个OH基团和一个NH基团的化合物。
饱和的有机化合物(ii)例如可由下式(XII)或(XIII)表示
Figure A20078003470700331
其中R10是直链的(优选为C1-C12，特别优选为C1-C4)，支链的(优选为C3-C12，特别优选为C3-C6)或环状的(优选为C3-C8，特别优选为C5-C6)烷基。
E是直链的(优选为C1-C6，特别优选为C1-C2)，支链的(优选为C3-C12，特别优选为C3-C6)或环状的(优选为C3-C8，特别优选为C5-C6)的亚烷基，
Figure A20078003470700332
表示具有5～7个环原子的饱和的杂环，其除了上面显示的氮原子外还任选地包含另一个选自S，O和NR12的杂原子，其中R12是任选地被OH基取代的烷基，
R11是OH或被OH取代的直链的、支链的或环状的烷基，以及
如果杂环含有NR12，且R12是被OH取代的烷基，则z＝0，以及
如果饱和的杂环不包含NR12或者如果饱和的杂环包含NR12，且R12是未被取代的烷基，则z＝1。
异氰酸酯基的摩尔数不能超过OH基和NH基的总摩尔数，这是由于产品不能含有任何游离的异氰酸酯基。
在EP1 176007A2中描述了其它适合的C-C不饱和的可自由基聚合的化合物。
当然也可在混合物中使用不同种类的单体、低聚物或聚合物；并且在本发明中可使用单体和低聚物和/或聚合物的混合物以及低聚物和聚合物的混合物。
以干燥层的重量为基准，可自由基聚合的成分的优选用量为5～95重量％，特别优选为10～85重量％。
粘合剂
适合的粘合剂是可溶解于或分散在水溶性碱性显影剂中的聚合物/共聚物，例如酚醛树脂如线型酚醛树脂和甲阶酚醛树脂，以及(甲基)丙烯酸、N-苯基马来酰亚胺和(甲基)丙烯酰胺的共聚物(见DE 19936 331)。
其它适合的粘合剂是“反应性粘合剂”，即具有含可自由基聚合基团侧链的聚合粘合剂。例如，反应性侧基是选自丙烯醛基、甲基丙烯醛基、苯乙烯基、烯丙基以及它们中两种或多种的混合物。对聚合物的骨架没有限制，例如选自丙烯酸骨架、甲基丙烯酸骨架、乙缩醛骨架、氨脂骨架和苯乙烯骨架；另外也可以是前述提及的物质的共聚物。适合的反应性粘合剂在多个专利申请中有揭露，它们例如是WO2004/014652 A1、WO 89/06659 A1、DE 29 03 270 A1、WO 95/12147、EP 410 242和US 4,035,321。
以干燥层的重量为基准，粘合剂的总量优选为5～95重量％，特别优选为10～85重量％。
负性重氮-体系(UV-敏感)
另一种类型的涂布在基板上的UV-敏感涂层含有重氮鎓缩聚产物。
本领域技术人员熟知的重氮鎓缩聚产物可用作重氮鎓缩聚产物。这类缩聚产物例如可通过已知的方法按EP-A-0 104 863中的描述将重氮单体与缩合试剂如甲醛、乙醛、丙醛、丁醛、异丁醛或苯甲醛进行缩合而制备。另外，在重氮鎓盐之外使用的共缩聚产物也包含对光不敏感的其它单元，并衍生自可缩合的化合物，特别是芳香胺、酚、酚醚、芳香硫醚、芳香烃、芳香杂环和有机酸酰胺。重氮鎓缩聚产物的特别有益的例子包括二苯胺-4-重氮盐与甲醛或4，4′-二甲氧基甲基二苯醚的反应产物，其中二苯胺-4-重氮盐任选地在载有重氮基的苯基上含有甲氧基。芳香磺酸盐如4-甲苯基磺酸盐或三甲苯磺酸酯、四氟硼酸盐、六氟磷酸盐、六氟锑酸盐和六氟砷酸盐特别适合作为这些重氮树脂的阴离子。重氮鎓缩聚产物在光敏化组合物中的含量优选为3～60重量％。
重氮鎓缩聚产物与上面提及的UV-敏感的可自由基聚合的体系的混合体系也可用在负性工作的辐射敏感涂层中。
用于这类体系的适合的粘合剂是可溶解于或分散在水溶性碱性显影剂中的聚合物/共聚物，例如酚醛树脂如线型酚醛树脂和甲阶酚醛树脂，以及(甲基)丙烯酸、N-苯基马来酰亚胺和(甲基)丙烯酰胺的共聚物(见DE 19936331)。以干燥层的重量为基准，粘合剂的总量优选为5～95重量％，特别优选为10～85重量％。
单层负性工作的IR-敏感的元件
另一种类型的负性工作的单层IR-敏感的元件是其基板上的辐射敏感层经IR辐射而成为不溶于水溶性碱性显影剂或难以被其渗透的元件，其包含
(i)至少一种在施加热后形成酸的化合物(下文中也称为“潜在布朗斯特酸”)，以及
(ii)一种可由酸交联的组分(下文中也称为“交联剂”)或其混合物，以及
(iii)至少一种IR吸收剂。
基于此原理的体系例如描述于EP 0 625 728 B1和EP 0 938 413 B1中。
上面描述的吸收IR范围(超过750～1,200nm)的所有敏化剂均可用作IR吸收剂。
离子的和非离子的布朗斯特酸均可用作潜在布朗斯特酸。离子的潜在布朗斯特酸包括鎓盐，特别是碘鎓、硫鎓、oxysulfoxonium、氧硫鎓、磷鎓、硒鎓、碲鎓、重氮鎓和砷鎓盐。具体的例子有二苯基碘鎓-六氟磷酸盐、三苯基硫鎓-六氟锑酸盐、苯基甲基-正-氰基苄基硫鎓-三-氟甲烷磺酸盐和2-甲氧基-4-氨基苯基-重氮盐-六氟磷酸盐。
非离子潜在布朗斯特酸的例子包括RCH2X、RCHX2、RCX3、R(CH2X)2和R(CH2X)3，其中X代表Cl、Br、F或CF3SO3，而R是芳香族、脂肪族或芳脂族基团。
具有如下结构的离子的潜在布朗斯特酸
也是适合的，其中如果X表示碘，则R1c和R1d是自由电子对，而R1a和R1b是芳基或取代的芳基，
如果X表示S或Se，则R1d是自由电子对，而R1a、R1b、R1c独立选自芳基、取代的芳基、脂肪基或取代的脂肪基，
如果X表示P或As，则R1d可以是芳基、取代的芳基、脂肪基或取代的脂肪基，以及
其中W选自BF4、CF3SO3、SbF6、CCl3CO2、ClO4、AsF6或PF6。
C1-C5-烷基磺酸盐、芳基磺酸盐(例如安息香对甲苯磺酸盐、2-羟基甲基安息香对甲苯磺酸盐和2，6-二硝基苄基对甲苯磺酸盐)和N-C1-C5-烷基-磺酰基磺酰胺(例如N-甲烷磺酰基-对-甲苯-磺酰胺
和
N-甲烷磺酰基-2，4-二甲基苯-磺酰胺)也是合适的。
具体适合的鎓盐化合物例如在US 5,965,319中如式(I)～(III)详细列出。
以干燥层的重量为基准，潜在布朗斯特酸优选用量为0.5～50重量％，特别优选为3～20重量％。
交联剂例如可以是树脂，其选自甲阶酚醛树脂、C1-C5-烷氧基甲基蜜胺、C1-C5-烷氧甲基-甘脲树脂、聚(C1-C5-烷氧基甲基-苯乙烯)和聚(C1-C5-烷氧基甲基丙烯酰胺)、环氧化的酚醛树脂和尿素树脂。特别地，在分子中含有至少两个连接在芳环上的选自羟甲基、烷氧基甲基、环氧基和乙烯醚基的基团的化合物可用作交联剂；其中，以在US5,965,319中第31～37栏中列出的具有至少两个连接到苯环上的选自羟甲基和烷氧基甲基的基团、具有3～5个苯环、分子量为1,200或更少的苯酚衍生物为优选。
以干燥层的重量为基准，该交联剂的优选用量为5～90重量％，特别优选为10～60重量％。
这种类型的辐射敏感层可含有粘合剂，如选自可溶于碱或分散于碱的(共)聚物，例如在US 5,965,319中列出的作为成分(C)的酚醛树脂、丙酮焦酚树脂、聚羟基苯乙烯和羟基苯乙烯-N0取代的马来酰亚胺-共聚物，在US 5,919,601中提及的作为粘合剂树脂的聚合物和在DE199 36 331中描述的共聚物。
以干燥层的重量为基准，粘合剂的优选含量优选为5～95重量％，特别优选为5～60重量％。
原则上，已知的具有单层结构的IR-敏感元件，例如在US 5,919,601和WO 00/17711A1中所描述的那些可根据本发明进行加工。
正性工作的辐射敏感元件
UV-敏感
正性工作的UV-敏感元件例如可是基于重氮醌(优选为重氮萘醌)和酚醛树脂的，例如在US 4,594,306中描述的那些。
用于这类涂层的适合的粘合剂例如是可溶解于或分散在水溶性碱性显影剂中的聚合物/共聚物，例如酚醛树脂如线型酚醛树脂和甲阶酚醛树脂，以及(甲基)丙烯酸、N-苯基马来酰亚胺和(甲基)丙烯酰胺的共聚物(见DE 19936331)。以干燥层的重量为基准，粘合剂的总量优选为5～95重量％，特别优选为10～85重量％。
IR-敏感
这里存在多种正性工作的IR-敏感元件的例子，它们可分为两组：具有一层的元件和具有两层的元件。
单层版
通常，单层正性工作的IR-敏感元件包含
(a)任选的经预处理过的基板
(b)正性工作的热敏层，其包含
(i)至少一种溶于水性碱性显影剂中的聚合物，例如酚醛树脂，
(ii)至少一种能够降低显影剂可溶聚合物(如酚醛)在水性碱性显影剂中溶解性的组分，其中所述溶解性的降低在施加热之后逆转(“不溶粘料”)，以及
(iii)任选的IR吸收剂(即吸收IR辐射并将其转化成热的化合物)，
其中组分(i)和(ii)不需要作为分开的物质存在，但可以以相应的功能化酚醛的形式使用。还可使用也可充当不溶粘料的IR吸收剂。例如在EP 825 927 B1中对这种单层IR敏感的正性工作元件进行了描述。
例如具有羟基、羧酸、氨基、酰胺和马来酰亚胺基团的聚合物可被用作溶于水性碱性显影剂的聚合物。特别地，这些化合物包括酚醛树脂、4-羟基苯乙烯和3-甲基-4-羟基苯乙烯或4-甲氧基苯乙烯的共聚物、(甲基)丙烯酸和苯乙烯的共聚物、马来酰亚胺和苯乙烯的共聚物、羟基-或羧基官能化的纤维素、马来酸酐和苯乙烯的共聚物以及特别是马来酸酐的部分水解聚合物。苯酚酸，尤其是酚醛树脂，是特别优选的。
合适的酚醛树脂是苯酚例如苯酚本身、C-烷基-取代的苯酚(包括甲酚、二甲苯酚、对叔丁基苯酚、对苯基苯酚以及壬基苯酚)以及联苯酚(如双酚-A)与合适的醛如甲醛、乙醛、丙醛以及糠醛的缩合产物。催化剂的类型和反应物的摩尔比决定了分子结构，从而也决定了树脂的物理性质。醛/苯酚的比率约为0.5∶1～1∶1，优选为0.5∶1～0.8∶1，并且使用酸催化剂来生产已知为“酚醛树脂”并具有热塑性特性的苯酚类树脂。然而，如在本申请中所使用的，术语“酚醛树脂”还应包括通过较高的醛/苯酚的比率和在存在碱性催化剂的条件下制得的“甲阶酚醛树脂”的苯酚类树脂。
以干燥层的重量为基准，酚醛树脂的含量至少为40重量％，优选为至少50重量％，更优选为至少70重量％且特别优选为至少80重量％。通常，该含量不超过95重量％，更优选为不超过85重量％。
对IR吸收剂的化学结构没有特别的限制，只要其能够将吸收的辐射转化为热量即可。可使用上面提及的与可光化聚合的IR-敏感元件相关的IR吸收剂。以干燥层的重量为基准，IR吸收剂的含量优选至少为0.1重量％，更优选为至少1重量％且特别优选为至少2重量％。通常，IR吸收剂的含量不超过25重量％，更优选为不超过25重量％且特别优选为不超过15重量％。可存在单一的IR吸收剂或两种或多种的混合物；在后面的情况中，含量是指所有IR吸收剂的总含量。
使用的IR吸收剂的量也是基于涂层的干燥层厚度进行考虑到。优选选择涂层，使其光密度，例如在透明的聚酯膜上经照射涂层的IR光波长下的测量值优选在0.4～1.0之间。
IR-敏感涂层进一步包含至少一种降低聚合物如酚醛树脂的水溶性碱性显影剂溶解性的物质，而这一溶解性上的降低在施加热后被逆转。下文中，该物质被简称为“不溶粘料(insolubilizer)”。不溶粘料可以是也可以不是通过共价键连接在聚合物上。
可使用中现有技术或不同技术中已经描述过的不溶粘料。
合适的不溶粘料包括如在WO 98/42507和EP-A 0823327中描述的化合物，它们不是光敏性的且包含可与酚醛树脂的酚羟基形成氢键的官能基。WO 98/42507提到了以砜、亚砜、thion、氧化膦、腈、酰亚胺、酰胺、硫醇、醚、醇、脲、亚硝基、偶氮基、氧化偶氮基(azoxy)和硝基、卤素，特别是酮基作为合适的官能基。提到的合适的化合物的例子有呫吨酮、黄烷酮、黄酮、2，3-二苯基-1-二氢茚酮、吡喃酮、硫代吡喃酮和1′-(2′-乙酰萘基)苯甲酸盐。
在WO 99/01795中，具有特定官能基Q、且优选不含二叠氮基团、酸基团或形成酸的基团的聚合物被用作不溶粘料，且根据优选的实施方案，Q选自氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、酰氨基、单烷基酰氨基、二烷基酰氨基、氟原子、氯原子、碳基、亚硫酰基或磺酰基。这些聚合的不溶粘料也可用于本发明中。
在WO 99/01796中描述的不溶粘料，在本例中为具有二叠氮单元的化合物也可用于本发明中。
另一组适合用于本发明的不溶粘料描述于WO 97/39894中。它们例如是含氮化合物，其中至少一个氮原子被季铵化并形成杂环的一部分；例子包括如喹啉化合物、苯并噻唑盐化合物和吡啶鎓化合物，以及特别是阳离子三甲基甲烷染料如维多利亚蓝(C I Basic Blue 7)、结晶紫(C I Basic Violet 3)和乙基紫(C I Basic Violet 4)。另外，具有羰基官能团的化合物例如N-(4-溴丁基)-苯邻二甲酰亚胺、二苯甲酮和菲醌也被提及。式Q1-S(O)n-Q2(其中Q1＝任选取代的苯基或烷基；n＝0，1或2；Q2＝卤原子或烷氧基)的化合物、吖啶橙碱和二茂铁化合物也可使用。
如果IR吸收剂含有在WO 97/39894中提及的结构单元，它们也可充当不溶粘料。
在US 6,320,018B中描述的官能化的酚醛树脂也可用在本发明的热敏元件中。这些酚醛树脂含有的取代基允许在聚合物分子之间形成二-或四-中心的氢键(优选为四-中心的氢键，也称之为四极氢键QHB)。这也降低了下层酚醛树脂在水溶性碱性显影剂中的溶解性。这种氢键受热断裂且酚醛树脂的最初溶解性得以恢复。如果使用了这种官能化的酚醛树脂，则其呈现出热敏组合物的组分(i)和(ii)的功能，使得无需另外使用上面描述的不具备相应官能团的酚醛树脂和/或不溶粘料，但也不排除对它们的使用。
官能化的酚醛树脂包括至少一个共价键单元和至少一个非共价键单元，而非共价键是热不稳定的；这些酚醛树脂基本上在每个非共价键单元中都具有一个二-或四-中心的氢键。可用作具有同时不溶功能的酚醛树脂的这种官能化的酚醛树脂的优选基团可使用下式(XIV)进行描述：
Figure A20078003470700401
其中R和R′独立选自氢原子和优选具有1～22个碳原子的环状或直链或支链的饱和或不饱和的烃基(优选为氢原子和C1-C4烷基)，R″是衍生于酚醛树脂R″(OH)P的苯酚基，Y是优选具有1～22个碳原子的二价环状或直链或支链的饱和或不饱和的烃基，其衍生于式Y(NCO)2的二异氰酸酯(如异佛尔酮二异氰酸酯、甲苯-1，2-二异氰酸酯、3-异氰酸根合甲基-1-甲基环己基-异氰酸酯)，m至少为1且p为1或2。
式(XIV)的官能化的酚醛树脂的制备例如可参考US 2002/0,150,833A1。
在US 6,537,735B中公开了另一类合适的官能化树脂，例如官能化的苯酚类树脂，特别是官能化的酚醛树脂。尽管非官能化的树脂可溶于水性的碱性显影剂中，但是这种官能化树脂不溶于显影剂中；然而，通过加热(如通过IR辐射来产生)可使其溶于显影剂中。优选的，非官能化的树脂含有OH或SH基团，其在官能化的树脂中至少部分被转变为共价键合的官能团Q；优选地，官能团Q通过OH基的酯化反应形成且优选选自-O-SO2-甲苯基、-O-丹磺酰基(dansyl)、-O-SO2-噻吩基、-O-SO2-萘基和-O-CO-苯基。官能团Q与OH基团的比率优选为1∶100～1∶2，更优选为1∶50～1∶3。具有上述所描述的苯酚侧链和羟基苯乙烯的酚醛树脂、甲阶酚醛树脂、丙烯酸树脂例如可用作非官能化的树脂。特别优选的这类官能化的树脂是苯酚类树脂(优选为酚醛树脂)，其与甲苯磺酸或磺酰氯发生部分(如10～20％)酯化；然而，在US 6,537,735中所描述的所有其它官能化的树脂也可用在本发明中。
尽管上述提及的所有不溶粘料均可用在本发明的热敏涂层中，但优选使用下面的：花青染料、三芳基甲烷染料、喹啉化合物、上述具有一个(多个)酮基的不溶粘料和上述具有一个(多个)砜基的不溶粘料以及使用能够形成四-中心氢键的取代基官能化的酚醛树脂。花青染料、三芳基甲烷染料、喹啉化合物、酮和砜可被用作低分子物质或键合到聚合物上。
单一的不溶粘料或两种或多种化合物的混合物可用在本发明的热敏元件中。
对不溶粘料的量没有特别的限制，只要其能够降低酚醛树脂在水溶性碱性显影剂中的溶解性即可。然而，溶解性的降低需要达到下面这种程度，即当使用水溶性碱性显影剂时，涂层的受热区域的去除要显著快于非受热区域的去除。
不管不溶粘料是否还充当了IR吸收剂，以干燥层的重量为基准，优选其含量至少为0.1重量％，优选为至少0.5重量％，更优选为至少1重量％且特别优选为至少2重量％。优选地，使用的量不超过25重量％，更优选不超过15重量％。
任选的粘合剂例如是可溶解于或分散在水溶性碱性显影剂中的聚合物/共聚物，例如酚醛树脂如线型酚醛树脂和甲阶酚醛树脂，以及(甲基)丙烯酸、N-苯基马来酰亚胺和(甲基)丙烯酰胺的共聚物(见DE19936331)。以干燥层的重量为基准，粘合剂的总量优选为1～99重量％，特别优选为10～98重量％。
双层版
根据本发明处理的IR敏感元件还可用作正性工作双层元件，其中在可溶于水溶性碱性显影剂的基板的亲水性表面上提供第一层，而在第一层上提供顶层(“屏蔽层”)，该顶层不分散或溶于水溶性碱性显影剂中且不可被水溶性碱性显影剂所渗透，但通过IR辐射可使其分散或溶于显影剂中或可被显影剂所渗透。
适合用于这种双层正性工作的IR-敏感元件上的第一(“较低”)层的粘合剂例如是可溶解于或分散在水溶性碱性显影剂中的聚合物/共聚物，例如酚醛树脂如线型酚醛树脂和甲阶酚醛树脂，以及(甲基)丙烯酸、N-苯基马来酰亚胺和(甲基)丙烯酰胺的共聚物(见DE 199 36331)。以干燥层的重量为基准，粘合剂含量优选为5～99重量％，特别优选为10～98重量％。
IR吸收剂(“光热转换材料”)存在于第一层中或顶层中或同时存在于这两层中；其还可存在于单独的“吸收层”中。优选IR吸收剂存在于第一层中。
对IR吸收剂的化学结构没有特别的限制，只要其能够将吸收的IR辐射转化为热量即可。可使用上面提及的与可光化聚合的IR-敏感元件相关的IR吸收剂。以IR吸收剂所存在的干燥层的重量为基准，优选IR吸收剂的含量至少为1重量％，更优选为至少2重量％且特别优选为至少5重量％。通常，IR吸收剂的含量不超过其所存在层的35重量％，更优选为不超过30重量％且特别优选为不超过25重量％。如果IR吸收剂仅存在于第一层中，以第一层的干燥层的重量为基准，IR吸收剂在所述层中的含量优选从10～20重量％。可存在单一的IR吸收剂或两种或多种的混合物；在后面的情况中，含量是指在一层中存在的所有IR吸收剂的总含量。
顶层保护第一层避免受到水溶性碱性显影剂的溶解。因此需要顶层本身不会溶于或分散在水溶性碱性显影剂中或被显影剂所渗透。用语“不会溶于或分散在水溶性碱性显影剂中或被显影剂所渗透”表示顶层能够抵抗pH至少为8的水溶性碱性显影剂至少2分钟的攻击。然而，当暴露于IR辐射时，顶层变得可被水溶性碱性显影剂除去(所需的保持时间小于2分钟)。
虽然已知现有技术中存在各种双层版，但暴露于IR辐射下发生的溶解性/分散性/渗透性的变化机制却仍未得到完全的理解。这样的双层体系例如在US 6,352,812、US 6,352,811、US 6,358,669、US2002/0,150,833A1、US 6,320,018、US 6,537,735和WO 02/14071中进行了描述。原则上已知有如下类型的顶层：
a)顶层含有如酚醛树脂这类本身可溶/可分散于水溶性碱性显影剂中的聚合物以及“不溶粘料”，该“不溶粘料”能够很大程度地降低溶解性/分散性从而使顶层在显影条件下不溶解或不被渗透。在聚合物和抑制剂之间的相互作用被认为在一定程度上受到IR辐射的削弱从而使得层上受辐射(受热)区域可溶/可分散于显影剂中或被显影剂所渗透。这样的体系例如在US 6,352,811和US 6,358,669中进行了描述。聚合物/不溶粘料体系可以与上面所描述的用于单层版的体系相同。
(b)顶层含有如酚醛树脂这类可溶/可分散于水溶性碱性显影剂中的聚合物，但其是经过化学改性的(例如通过化学结合‘“不溶粘料”)从而其对于水溶性碱性显影剂是不溶的/不分散的/不可渗透的。这种功能化树脂(例如功能化酚醛树脂)例如在US 2002/0,150,833A1、US6,320,018B和US 6,537,735B中进行了描述。
顶层还可含有在通常的显影条件下(即顶层能够抵抗水溶性碱性显影剂至少2分钟的攻击)不溶于/不分散于水溶性碱性显影剂的聚合物。
假定在顶层中存在被IR辐射弱化的相互作用或者在顶层或第一层和顶层之间由于暴露于IR辐射(从而产生热)而产生的微裂缝和/或气泡，这使得在暴露区内最初不可溶的/不可渗透到顶层与可溶的底层一同被显影剂除去。
具有苯酚OH基的聚合物和共聚物，即苯酚类树脂优选用于上述所描述的类型的顶层中。适合的苯酚类树脂包括如酚醛树脂、甲阶酚醛树脂、具有苯酚侧链的丙烯酸树脂以及聚乙烯基苯酚类树脂，在这里酚醛树脂是特别优选的。
适合用于本发明的酚醛树脂是合适的苯酚例如苯酚本身、C-烷基-取代的苯酚(包括甲酚、二甲苯酚、对叔丁基苯酚、对苯基苯酚以及壬基苯酚)以及联苯酚(如双酚-A)与合适的醛如甲醛、乙醛、丙醛以及糠醛的缩合产品。催化剂的类型和反应物的摩尔比决定了分子结构，从而也决定了树脂的物理性质。醛/苯酚的比率约为0.5∶1～1∶1，优选为0.5∶1～0.8∶1，并且使用酸催化剂来生产已知为“酚醛树脂”并具有热塑性特性的苯酚类树脂。然而，如在本申请中所使用的，术语“酚醛树脂”还应包括通过较高的醛/苯酚的比率和在存在碱性催化剂的条件下制得的“甲阶酚醛树脂”的苯酚类树脂。
在上述类型(a)的顶层中对不溶粘料的量没有特别的限制，只要其能够降低酚醛树脂在水溶性碱性显影剂中的溶解性即可。然而，溶解性的降低需要达到下面这种程度，即当使用水溶性碱性显影剂时，涂层的受热区域的去除要显著快于非受热区域的去除。
以干燥层的重量为基准，优选不溶粘料的含量至少为0.1重量％，更优选为至少0.5重量％，尤其优选为至少2重量％且特别优选为至少5重量％。优选地，使用的量不超过40重量％，更优选不超过25重量％。
可用于类型(b)的顶层的聚合物为功能化的酚醛树脂如上述提及的式(XII)的树脂和功能化的苯酚类树脂如US 6,537,735B中提及的树脂(例如甲苯磺酰化酚醛树脂)，可参见上述标题“单层版”下的描述。改性的烷基酚树脂(如商业上可从Schenectady获得的商标名为SP1077和HRJ302的树脂)以及基于二甲苯酚和甲酚的酚醛树脂(如商业上可从AZ-Electronics获得的商标名为SPN-572的树脂)也可用于类型(b)的顶层。
任选组分
无论元件是UV/可见光或IR-敏感的，辐射敏感涂层均可在基本组分之外含有一种或多种以下任选组分。如果涂层是由若干层组成，则任选组分可存在于一层、多层或所有层中。为了增加对比度，可存在可见光谱范围具有高吸收的染料或颜料(“反差染料和颜料”)。特别适合的染料和颜料是在用于涂层的溶剂或溶剂混合物中溶解良好的那些或易于以颜料的分散形式而引入的那些。适合的反差染料包括除其它以外的若丹明染料、三芳基甲烷染料如维多利亚蓝R和维多利亚蓝BO、结晶紫和甲基紫、蒽醌颜料、偶氮颜料和酞菁染料和/或颜料。以干燥层的重量为基准，着色剂的含量优选为0～15重量％，更优选为0.5～10重量％，特别优选为1.5～7重量％。
另外，层中还可含有表面活性剂(例如阴离子、阳离子、两性离子或非离子表面活性剂或它们的混合物)。适合的例子包括含氟聚合物、具有环氧乙烷和环氧丙烷基团的聚合物、山梨糖醇-三-硬脂酸酯和烷基-二-(氨基乙基)-氨基乙酸。以干燥层的重量为基准，它们的优选含量为0～10重量％，特别优选为0.2～5重量％。
层中可进一步包含印出染料例如结晶紫内酯或对光反应变色的染料(例如螺吡喃染料等)。以干燥层的重量为基准，它们的优选含量优选为0～15重量％，特别优选为0.5～5重量％。
另外，层中还可存在流动改进剂，例如聚(二醇)醚-改性的硅氧烷；以干燥层的重量为基准，它们的优选含量为0～1重量％。
层中还可进一步存在抗氧化剂，如含巯基的化合物(2-巯基苯并咪唑、2-巯基-苯并噻唑、2-巯基苯并噁唑和3-巯基-1，2，4-三唑)、和三苯基磷酸酯。以干燥层的重量为基准，它们的用量优选为0～15重量％，特别优选为0.5～5重量％。
外涂层
在可光化聚合的涂层上使用一层外涂层(保护层)用于保护涂层在存储、曝光以及尤其在曝光和进一步处理之间的时间段内不受大气中氧气的破坏。在这段时间内，外涂层必须显示出对光敏涂层足够的粘附力，从而保证在无涂层破裂下进行安全的操作(生产，包装，运输，曝光等)。除了作为氧隔断层的功能外，外涂层还保护可光化聚合的涂层不受指纹和机械破坏如划痕的损伤。
在文献中描述的许多水溶性聚合物可适合用作这种外涂层。合适的例子是聚乙烯醇、可含有乙烯基醚和乙烯基缩醛单元的部分皂化的聚醋酸乙烯酯、聚乙烯吡咯烷酮及其与醋酸乙烯酯和乙烯醚的共聚物、羟基烷基纤维素、凝胶、聚丙烯酸、阿拉伯树胶、聚丙烯酰胺、糊精、环糊精、烷基乙烯醚和马来酸酐的共聚物并且分子量超过5,000的环氧乙烷的水溶性高分子聚合物是尤其合适的。聚乙烯醇是一种优选的外涂层聚合物。并且可使用聚乙烯醇与聚(1-乙烯基咪唑)的组合或1-乙烯-咪唑以及至少一种在WO 99/06890中所描述的单体的共聚物。
聚乙烯醇还可与聚乙烯吡咯烷酮组合用作粘合剂。
在US 3,458,311、US 4,072,527、US 4,072,528、EP 275 147 A1、EP 403 096 A1、EP 354475 A1、EP 465 034 A1和EP 352 630 A1中也对外涂层进行了描述。
在一种优选的实施方案中，外涂层含有聚乙烯醇或聚乙烯醇与聚(1-乙烯基咪唑)的组合(或其共聚物)。
合适的聚乙烯醇可用廉价的价格从商业上购得。它们通常具有范围在0.1～30重量％的醋酸基残留量。特别优选的聚乙烯醇是从残留醋酸基含量为1.5～22重量％的聚醋酸乙烯酯中获得。通过所使用的聚乙烯醇的分子量，可对外涂层的粘合性和水溶性进行控制。较低的分子量有利于用水性溶液去除外涂层。
水溶性外涂层的施用可通过技术人员熟知的表面涂层方法如刮涂、辊涂、条缝涂布、帘式涂布、喷涂或浸涂来进行。干燥层的重量为0.05～10g/m2，更优选为0.2～3g/m2，最优选为0.3～1g/m2是合适的。
在许多情况下，倾向于在水性溶液中施用水溶性外涂层。这种方式对于环境和人体来讲具有最小的损害。
然而，对于某些应用来讲，偏向于使用有机溶剂。在某些基板中加入0.5～60重量％的有机溶剂到水性涂层溶液中可提高粘结性。通过对要进行外涂的表面轻微的溶剂化，可进一步提高根据本发明的外涂层的聚合物的粘结效果。这类加入到溶剂中的添加剂例如是醇或酮。
为了涂布均匀且快速润湿的表面，可向涂布溶液中加入阴离子、阳离子或非离子润湿试剂。外涂层可进一步含有稳定剂、防腐剂、染色剂、泡沫分离剂和流变添加剂。
成像曝光
如果用在可光化聚合涂层中的吸收剂组分吸收UV/可见光辐射，则用本领域技术人员所熟知的方式通过波长为250～750nm的UV/可见光辐射对前体进行成像曝光。对于这种目的，可使用普通的灯例如炭棒弧光灯、汞灯、氙灯和金属卤化物灯或激光或激光二极管。发射UV辐射范围在约405nm(如405±10nm)的UV激光二极管、发射可见光范围(488nm或514nm)的氩离子激光器和发射约532nm的倍频fd:Nd:YAG激光器特别适合用作辐射源。激光辐射可通过计算机进行数控，即通过计算机中存储的数字信息对其进行开或关从而来进行版上的成像曝光；通过这种方式，可得到即所谓的计算机直接制版(ctp)的印刷版。
如果吸收剂组分吸收IR辐射，即显著地吸收波长范围在大于750至1,200nm范围内的辐射，并优选在其吸收光谱的范围内显示最大的吸收值，则就可通过IR辐射源来进行成像曝光。合适的辐射源例如是发射范围在750～1200nm内的半导体激光器或激光二极管，例如Nd:YAG激光器(1,064nm)、发射范围在790～990nm内的激光二极管以及Ti:蓝宝石激光器。激光辐射可通过计算机进行数控，即通过计算机中存储的数字信息对其进行开或关从而来进行版上的成像曝光；通过这种方式，可得到即所谓的计算机直接制版(ctp)的印刷版。任何本领域人员所熟知的具有IR激光器的图像照排机都可以被使用。
成像曝光的前体包括涂层的曝光和未曝光的区域。
曝光前体的加工
曝光后，用显影剂处理前体以除去在非成像区域内的涂层，从而使所述区域内的基板得以显露；如果前体是正性工作的前体，则非成像区域对应于曝光的区域而对于负性工作的前体而言，非成像区域对应于未曝光的区域。根据一种实施方案，在曝光和用显影剂作处理之间进行预热步骤。
如果前体含有保护辐射敏感涂层的顶层，则该顶层可通过在施用显影剂之前用水洗/冲洗而除去。根据一种实施方案，顶层在分离步骤中未被除去，但与辐射敏感涂层的非成像区域一同在一个单一步骤中通过用本发明的显影剂处理曝光的前体而被除去。
在用显影剂除去了涂层(且任选为顶层)的非成像区域后，可将处理过的前体进行干燥。
在根据一种实施方案用本发明的显影剂处理曝光的前体后获得了以下结果：(1)除去了曝光和未曝光区域内的顶层(如果存在顶层或者处理前未被显影剂除去)，(2)除去辐射敏感涂层的非成像区域，以及(3)在一个单一步骤中提供保护性涂胶。
根据另一种实施方案，在用显影剂除去了涂层(且任选的为顶层)的非成像区域后，可用水冲洗处理过的前体。
根据另一种实施方案，在用显影剂除去涂层(任选地为顶层)的非成像区域以及用水冲洗前体后，可施用亲水整饰胶。
通常，通过用含有这种液体的涂布器揉搓或擦拭可成像层而使曝光的前体与显影剂接触。另一种方案可用显影剂刷曝光的前体或通过喷雾而将显影剂施用至前体。也可通过将曝光的前体浸渍在显影剂浴中而实现用显影剂进行的处理。根据一种实施方案，该过程可在商用处理器上进行，如仅含一个用于显影剂的浴和干燥部的TDP 60(Horsell)。此外，可在处理器中引进一个导电性测量单元。
根据另一种实施方案，可使用装备了浸渍型显影浴、用于水冲洗的部分、涂胶部分、以及干燥部分的传统处理器。另外，为了控制显影剂的显影剂活性，还可在处理器中引进一个导电性测量单元。
该曝光的前体一般用显影剂在18℃至约28℃的温度下处理约5秒至约60秒。
当一定数目的曝光前体被处理后，显影浴的显影活性(例如通过滴定测量或导电性测量)降到预定水平之下。然后向浴中加入新鲜的显影剂(也成为“上油”(top-up)过程)。为了保持显影剂的体积和它的活性/导电性的值为恒定，通常每1m2处理过的前体需要约20mL至约200mL，特别是约30～120mL的新鲜显影剂。处理过的平版印刷版包括可成像层被除去而露出亲水基板的下表面的区域，以及可成像层未被除去的互补区域。可成像层未被除去的区域是受墨的。
除了加入新鲜的显影剂以使显影剂浴的活性保持恒定外，也可加入补充物。补充物与新鲜的显影剂的不同之处在于碱性试剂的浓度高于所用新鲜显影剂中碱性试剂的浓度；而其它组分的浓度与新鲜显影剂中的浓度相同或稍高。
在将前体与显影剂接触之后，将残留在前体上的多余的显影剂除去(例如通过挤压辊；用液体如水等清洗/冲洗前体)。在后续任选的干燥步骤后，可将处理过的前体转移到印刷机中。处理过的前体在印刷机上与润版液和印墨接触，可以是同时接触或依次接触(以任何顺序均可，但优选先接触润版液，后接触印墨)。通过将前体与润版液和印墨接触后再与纸接触，经显影剂处理尚未除去的残余的不期望涂层(非成像区域和/或顶层的辐射敏感涂层)被除去。
显影剂
用于本发明方法中的显影剂是pH值＞6的水溶液。
水
可使用自来水、去离子水或蒸馏水。基于显影剂的总重量，水的使用量优选在45～98重量％的范围，特别优选为50～95重量％，尤其优选为80～95重量％。
芳水聚合物
用在本发明的显影剂中的亲水聚合物含有衍生于下述化合物的结构单元：
(m1)至少一种含有聚氧化亚烷基链和至少一种可自由基聚合的结构单元两者的化合物，
和
(m2)至少一种能够与(m 1)的可自由基聚合的结构单元进行共聚，并进一步含有至少一个pKs＜5的官能团的单体，其中酸性官能团可以游离酸基团或盐的形式存在。
在亲水聚合物中存在的酸性官能团可以全部为游离酸形式，或所有所述的基团以盐的形式，或它们中的一部分以游离酸形式而剩余部分以盐的形式存在。当提到与亲水聚合物相关的酸性官能团时，除非另作定义，酸性官能团应当包括游离酸基团、盐及其混合物。
任选的，聚合物还可含有衍生于至少一个与单体(m1)和(m2)不同的共聚单体(m3)的结构单元，其含有至少一个可自由基聚合的基团，但该基团既不是聚氧化亚烷基链也不是pKs＜5的官能基。通过共聚单体(m3)，可调节物理性质如在水中的溶解性。
化合物(m1)优选含有聚环氧乙烷和/或聚环氧丙烷链；在本发明的范围内，前缀“聚”也包含低聚物。
化合物(m1)的可自由基聚合的结构单元优选衍生自丙烯酸和/或甲基丙烯酸。术语“(甲基)丙烯酸”包括丙烯酸和甲基丙烯酸；类似的，“(甲基)丙烯酸酯”的含义也包括丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯。
合适的化合物(m1)的例子包括：
聚(乙二醇)甲基丙烯酸酯、
聚(乙二醇)丙烯酸酯、
聚(丙二醇)甲基丙烯酸酯、
聚(丙二醇)丙烯酸酯、
丙烯酸或甲基丙烯酸与环氧乙烷和环氧丙烷的嵌段共聚物的单酯，
2，4-甲苯二异氰酸酯封端的聚乙二醇、聚丙二醇、聚乙二醇和聚丙二醇的嵌段共聚物或统计聚(乙二醇-丙二醇)共聚物与丙烯酸羟烷基酯或甲基丙烯酸羟烷基酯(例如丙烯酸羟乙酯或甲基丙烯酸羟乙酯)或烯丙醇的反应产物，
异氰酸根合烷基丙烯酸酯或异氰酸根合烷基甲基丙烯酸酯(尤其是丙烯酸异氰根合乙酯或甲基丙烯酸异氰根合乙酯)与聚乙二醇、聚丙二醇、聚乙二醇和聚丙二醇的嵌段共聚物或统计聚(乙二醇-丙二醇)共聚物的单反应物，
聚亚烷基二醇的丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯(尤其是由聚(乙二醇)丙烯酸酯和聚(乙二醇)甲基丙烯酸酯)所衍生的酯或醚。
优选的化合物(m1)的例子包括：聚(乙二醇)丙烯酸酯、聚(乙二醇)甲基丙烯酸酯、聚(乙二醇)丙烯酸酯的烷基醚、聚(乙二醇)甲基丙烯酸酯的烷基醚、聚(丙二醇)丙烯酸酯和聚(丙二醇)甲基丙烯酸酯和聚(乙二醇)(甲基)丙烯酸磷酸单酯；尤其优选的是聚(乙二醇)丙烯酸酯、聚(乙二醇)甲基丙烯酸酯和聚(丙二醇)甲基丙烯酸酯。
除了可自由基聚合的基团外，单体(m2)还含有至少一个pKs＜5的酸性官能基团。该至少一个酸性官能基团优选选自羧酸基、磺酸基、膦酸基、磷酸基及其混合物。酸性官能基团可以游离酸基团或以盐的形式存在。
单体(m2)的合适的例子包括丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、用C1-C6烷醇开环的马来酸酐、乙烯基苯甲酸、乙烯基膦酸、乙烯基磺酸、乙烯基苯磺酸、磷酸与(甲基)丙烯酸羟烷基酯(尤其是甲基丙烯酸羟乙基酯和丙烯酸羟乙基酯)或烯丙醇的单酯、磷酸与乙二醇(甲基)丙烯酸酯或丙二醇(甲基)丙烯酸酯的单酯、磷酸与聚(乙二醇)(甲基)丙烯酸酯或聚(丙二醇)(甲基)丙烯酸酯的单酯、磺丙基(甲基)丙烯酰基乙基二烷基-氢氧化铵。
尤其优选的单体(m2)是(甲基)丙烯酸、乙烯基膦酸、磷酸与(甲基)丙烯酸羟乙基酯或聚(乙二醇)(甲基)丙烯酸酯的单酯和(甲基)丙烯酰二甲基-(3-磺丙基)-氢氧化铵。
任选的可自由基聚合的共聚单体(m3)进行均聚反应后可形成疏水或亲水的均聚物。共聚单体(m3)的合适的例子包括(甲基)丙烯酰胺、N-乙烯基吡咯烷酮、醋酸乙烯酯、(甲基)丙烯酸羟烷基酯(尤其是丙烯酸羟乙酯和甲基丙烯酸羟乙酯)、烯丙基醇和N-乙烯基咪唑。使用共聚单体(m3)的混合物也在本发明的范围之内，其中的一部分形成亲水均聚物，另一部分形成疏水均聚物。
对化合物(m1)、(m2)和任选的(m3)的摩尔比率没有特别的限制。优选地，以所有结构单元为基准，由(m1)衍生出的结构单元占亲水聚合物的5～95重量％，特别优选为20～80重量％。
优选地，以所有结构单元为基准，由(m2)衍生出的结构单元占亲水聚合物的5～95重量％，特别优选为20～80重量％。
优选地，以所有结构单元为基准，由(m3)衍生出的结构单元占亲水聚合物的0～50重量％，特别优选为0～30重量％。
根据一种实施方案，亲水聚合物是水溶性的。
亲水聚合物的分子量可通过熟知的自由基聚合方法进行调节，如在链转移剂如烷基巯基化合物存在的条件下进行聚合。此外，可通过K.Matyjaszewski等人在J.Phys.Org.Chem.8(1995)306～315页中描述的所谓“活性和可控的”自由基聚合来对分子量、多分散性和端基官能性进行良好的控制。
化合物(m1)、(m2)和任选的(m3)的共聚合反应优选在溶液中进行。有机溶剂或溶剂混合物、水或水和与水混溶的有机溶剂的混合物可用于本目的。优选地，起始组分(m1)、(m2)和任选的(m3)以及产物均可溶于其中。根据一种实施方案，可使用蒸气压力可忽略(即蒸气压力不能通过商用的渗压计测得)的溶剂(这种溶剂也称之为“绿色溶剂”)，如离子性液体；更多关于“绿色溶剂”的信息可参见ACSSymposium Series No.856中Robin D.Rogers和Kenneth R.Seddon的″Ionic Liquids as Green Solvents：Progress and Prospects″以及PeterWasserscheid和Thomas Welton，Wiley-VCH 2003的″Ionic Liquids inSynthesis″。
已发现在蒸气压力可忽略的溶剂，如离子性液体中通过聚合反应制得的聚合物与相同单体在具有可测量的蒸气压力的溶剂中通过溶剂聚合反应制得的聚合物的性质是不同的。根据一种实施方案，在离子性液体中通过聚合制得的具有上述定义的结构单元的聚合物用作亲水聚合物。在本发明中使用该聚合物时，不是必须要将离子性液体从聚合物中完全去除。还可以不使用离子性液体制备亲水聚合物，之后再将所得的聚合物与离子性液体混合。本发明者们还发现使用在离子性液体中通过聚合制得的共聚物(或共聚物与离子性液体的混合物)使得非成像区域获得更好的亲水性从而进一步改善调色现象。
例如下述的离子性液体可被用于聚合反应：
通式(A)的咪唑鎓盐
Figure A20078003470700521
其中X-例如选自BF4 -、PF6 -、二甲基磷酸根、甲苯磺酸根、甲基硫酸根，以及
Figure A20078003470700522
(n≥1，Z＝H或烷基)，
R1和R3例如是选自烷基取代基和
Figure A20078003470700523
(n≥1，Z＝H或烷基)，
以及
R2，R4和R5独立地选自烷基取代基，
Figure A20078003470700524
(n≥1，Z＝H或烷基)和H，
通式(B)的吡啶盐
Figure A20078003470700531
其中X-例如选自BF4 -、PF6 -、二甲基磷酸根、甲苯磺酸根、烷基磺酸根以及
Figure A20078003470700532
(n≥1，Z＝H或烷基)，
R1例如选自烷基取代基和
Figure A20078003470700533
(n≥1，Z＝H或烷基)以及
R2、R3、R4、R5和R6例如独立选自烷基取代基，
Figure A20078003470700534
(n≥1，Z＝H或烷基)以及H，
通式(C)的膦盐
Figure A20078003470700535
其中X-例如选自BF4、PF6、二甲基磷酸根、甲苯磺酸根、甲基硫酸根和
Figure A20078003470700541
(n≥1，Z＝H或烷基)，
R1，R2，R3和R4例如独立选自烷基取代基和
Figure A20078003470700542
(n≥1，Z＝H或烷基)以及
通式(D)的铵盐
Figure A20078003470700543
其中X-例如选自BF4 -、PF6 -、二甲基磷酸根、甲苯磺酸根、甲基硫酸根和
Figure A20078003470700544
(n≥1，Z＝H或烷基)
并且R1、R2、R3和R4例如是独立选自烷基取代基和
(n≥1，Z＝H或烷基)。
显影剂优选含有0.01～15重量％的亲水聚合物，更优选为0.1～5重量％且最优选为0.3～3重量％。
碱性组分
在本发明中使用的显影剂任选地含有碱性组分。
碱性组分例如可选自碱金属硅酸盐、碱金属氢氧化物、Na3PO4、K3PO4、NR4OH，其中每个R独立选自C1-C4烷基、C1-C4羟烷基、胺和2种或多种上述物质的混合物。
对碱性组分的量，或在混合物的情况下碱性组分的总量的选择优选满足使显影剂的pH值＞6～14，优选为pH在7.5～13.5的范围内，更优选为在10～13.5的范围内。
如在本发明中所使用的，术语“碱金属硅酸盐”还包括金属硅酸盐和水玻璃。硅酸钠和硅酸钾是优选的硅酸盐。当使用碱金属硅酸盐时，以显影剂为基准，硅酸盐的量优选至少为1重量％(以SiO2计算)。
在所有的碱金属氢氧化物中，NaOH和KOH是特别优选的。
通常使用碱金属硅酸盐很容易提供大于12的pH值而不需要进一步加入碱性添加剂例如碱金属氢氧化物。当使用水玻璃时，如果需要pH值超过12，则要添加碱金属氢氧化物。
优选的季铵氢氧化物NR4OH包括例如四甲基氢氧化铵、三甲基乙醇氢氧化铵、甲基三乙醇氢氧化铵及它们的混合物；特别优选的氢氧化铵为四甲基氢氧化铵。
合适的胺为伯胺、仲胺和叔胺。例如有单烷醇胺和双烷醇胺如单乙醇胺和双乙醇胺。
表面活性剂
本发明中使用的显影剂中的另一可选组分为表面活性剂。
对表面活性剂没有特别的限制，只要表面活性剂与显影剂中其它的组分能够相容并且可溶于pH＞7的碱性水溶液即可。表面活性剂可以为阳离子、阴离子、两性离子或非离子表面活性剂。
阴离子表面活性剂的例子包括羟基烷磺酸盐、烷基磺酸盐、二烷基磺基琥珀酸盐、直链烷基苯磺酸盐、支化烷基苯磺酸盐、烷基萘磺酸盐、烷基苯氧基聚氧乙烯丙基磺酸盐、聚氧乙烯烷基磺苯基醚的盐、N-甲基-N-油酰基牛磺酸钠、单酰胺N-烷基磺基琥珀酸二钠、石油磺酸盐、硫酸化蓖麻油、硫酸化脂油、脂肪族烷基酯的硫酸酯的盐、烷基硫酸酯的盐、聚氧乙烯烷基醚的硫酸酯、脂肪族甘油一酸酯的硫酸酯的盐、聚氧乙烯基烷基苯基醚的硫酸酯的盐、聚氧乙烯基苯乙烯基烷基苯基醚的硫酸酯的盐、烷基磷酸酯盐、聚氧乙烯基烷基醚的磷酸酯的盐、聚氧乙烯基烷基苯基醚的磷酸酯的盐、苯乙烯-马来酸酐共聚物的部分皂化的化合物、烯烃-马来酸酐共聚物的部分皂化的化合物、萘磺酸甲醛缩合物、十二烷基苯氧基苯二磺酸钠、烷基化萘磺酸的钠盐、亚甲基-二萘-二磺酸二钠、十二烷基苯磺酸钠，(二)磺化烷基二苯基氧化物、全氟烷基磺酸铵或钾和二辛基磺基琥珀酸钠。
在阴离子表面活性剂中特别优选的是烷基萘磺酸盐、二磺化烷基二苯基氧化物和烷基磺酸盐。
非离子表面活性剂的合适的例子包括聚氧乙烯烷基醚、聚氧乙烯苯基醚、聚氧乙烯2-萘基醚、聚氧乙烯烷基苯基醚、聚氧乙烯聚苯乙烯苯基醚、聚氧乙烯聚氧丙烯烷基醚、聚氧乙烯聚氧丙烯嵌段共聚物、甘油脂肪族酸的部分酯化物、脱水山梨醇脂肪族酸的部分酯化物、季戊四醇脂肪族酸的部分酯化物、丙二醇单脂肪族酯、蔗糖脂肪族酸的部分酯化物、聚氧乙烯脱水山梨醇脂肪族酸的部分酯化物、聚氧乙烯山梨糖醇脂肪族酸的部分酯化物、聚氧乙烯二醇脂肪族酯、聚甘油脂肪族酸的部分酯化物、聚氧乙烯蓖麻油、聚氧乙烯甘油脂肪族酸的部分酯化物、脂肪族二乙醇酰胺、N，N-二-2-羟烷基胺，聚氧乙烯烷基胺、三乙醇胺脂肪族酸酯和三烷基氧化胺。在这些非离子的表面活性剂中特别优选的是聚氧乙烯苯基醚和聚氧乙烯-2-萘基醚。
此外，同时还可使用氟和硅的阴离子以及非离子表面活性剂。
两性表面活性剂例如是N-烷基氨基酸三乙醇铵盐、椰油酰胺基丙基甜菜碱、椰油酰胺基烷基甘氨酸盐、短链烷基氨基羧酸钠盐、N-2-羟乙基-N-2-羧乙基脂肪酸氨乙基氨基钠盐、和羧酸氨基醚丙酸盐；以椰油酰胺基丙基甜菜碱为优选。
阳离子表面活性剂的例子有四烷基氯化铵，如四丁基氯化铵和四甲基氯化铵，以及聚丙氧基化的氯化季铵盐。
优选的是非离子的、阴离子的和两性离子的表面活性剂以及它们的混合物。
用于本发明中的显影剂优选含有至少一种选自表面活性剂和碱性组分的成分。
可将两种或多种上面所述的表面活性剂组合使用。对表面活性剂的量(或者当使用超过一种时的重量)没有具体的限制，但以显影剂总重量为基准其含量优选为0.01～20重量％，更优选为2～8重量％。
形成水溶性膜的亲水聚合物
显影剂的一种任选组分是形成水溶性膜的亲水聚合物。
适合的聚合物的例子有阿拉伯树胶、普鲁兰多糖(pullulan)、纤维素衍生物如羟甲基纤维素、羧甲基纤维素、羧乙基纤维素或甲基纤维素、淀粉衍生物如(环)糊精、聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、多羟基化合物如多醣、丙烯酸、甲基丙烯酸或丙烯酰胺的均聚物和共聚物、乙烯甲基醚和马来酸酐的共聚物、醋酸乙烯酯和马来酸酐的共聚物、或苯乙烯和马来酸酐的共聚物。优选的聚合物为含有羧基、磺酸基或膦酸基或其盐如(甲基)丙烯酸、醋酸乙烯酯、苯乙烯磺酸、乙烯基磺酸、乙烯基膦酸以及丙烯酰胺基丙烷磺酸、多羟基化合物和淀粉衍生物的均聚物或共聚物。
多羟基化合物和淀粉衍生物是特别优选的。淀粉衍生物应为水溶性的，优选为冷水可溶并且选自淀粉水解产物如糊精和环糊精、淀粉酯如磷酸酯和氨基甲酸酯、淀粉醚如阳离子淀粉醚和羟丙基醚、羧甲基淀粉和乙酰化淀粉；上述衍生物糊精(包括含有四硼酸钠的糊精以及从Emsland
Figure A20078003470700571
GmbH获得的硼砂糊精)是优选的。
用作淀粉衍生物起始产品的淀粉可以有多种来源，其可以由玉米、土豆、裸麦、小麦、稻、树薯、木薯、栗子或橡树果获得；优选为玉米淀粉和土豆淀粉。
合适的水溶性多羟基化合物可以通过下述结构来代表：
R1(CHOH)nR2
其中n为4～7；并且
(i)R1为氢、芳基或CH2OH；且R2为氢、具有1～4个碳原子的烷基，CH2OR3，其中的R3为氢或具有1～4个碳原子的烷基、CH2N(R4R5)，其中的R4和R5各自独立地为氢或具有1～4个碳原子的烷基、
或CO2H，
或者(ii)R1和R2一起形成C-C单键。
在一组多羟基化合物中，R1为氢或CH2OH且R2为氢。在优选的一组这类多羟基化合物中，n为5或6。该组包括糖醇、结构H(CHOH)nH的化合物，其不带有游离醛基或酮基并且不显示还原性。糖醇可获自天然来源或通过还原糖的加氢反应制得。优选的糖醇包括甘露醇、山梨糖醇、木糖醇、核醣醇和阿糖醇。其它的糖醇包括例如塔罗糖醇、半乳糖醇和别-半乳糖醇(allodulcitol)。
在另一组多羟基化合物中，R1和R2一起形成C-C单键。其中包括结构为(CHOH)n的碳环化合物，其中n为4～7。在优选的一组这类多羟基化合物中，n为5或6，更优选为6。1，2，3，4，5，6-六羟基环己烷有9种可能的立体异构体，它们中的几个是天然存在的。优选的多羟基化合物为内消旋-肌醇(顺式-1，2，3，5-反式-4，6-六羟基环己烷)。内消旋-肌醇可从玉米浆中分离出来。
在另一组多羟基化合物中，R1为氢、芳基或CH2OH；且R2为具有1～4个碳原子的烷基、CH2OR3，其中的R3为具有1～4个碳原子的烷基、CH2N(R4R5)，其中的R4和R5各自独立地为氢或具有1～4个碳原子的烷基、或CO2H。
在另一组多羟基化合物中，R1为氢或CH2OH并且R2为CO2H。更优选地，R1为H并且n是4或5。该组包括结构为H(CHOH)nCO2H的多羟基化合物，其中n是4或5。从概念上讲，这些多羟基化合物可通过对相应的己醣或戊糖进行氧化得到，即对己醣如葡萄糖、半乳糖、阿洛糖、甘露糖等的醛基进行氧化或对戊糖如树胶醛醣、核糖、木糖的醛基进行氧化。
特别优选的多羟基化合物是上述提及的糖醇，如山梨糖醇。
对成膜聚合物的量没有特别的限制；以显影剂的总重量为基准，其优选为1～30重量％，更优选为5～20重量％。
显影剂的其它任选组分
除了必需的组分以及上面提及的任选组分外，用于本发明中的显影剂还可以含有进一步的添加剂如有机溶剂、杀生物剂、配位剂、缓冲物、染料、防沫剂、加味剂、防腐蚀剂以及自由基抑制剂。
防沫剂：
合适的防沫剂包括如可由商业渠道获得的硅酮防沫剂乳液SE57(Wacker)，
Figure A20078003470700591
CF32(Rohm&Haas)，
Figure A20078003470700592
LF(醚羧酸ChemY)，Agitan 190(Münzing Chemie)，
Figure A20078003470700593
Foamese 825(改性的聚硅氧烷，TEGO Chemie Service GmbH，Germany)。硅酮-基的防沫剂是优选的。它们可分散或溶于水。以显影剂的重量为基准，在显影剂中防沫剂的量优选0～1重量％，特别优选为0.01～0.5重量％。可使用一种防沫剂或两种或多种防沫剂的混合物。
缓冲液：
合适的缓冲物包括如三(羟甲基)-氨基甲烷(TRIS)、磷酸氢盐、甘氨酸、3-(环己基氨基)-丙磺酸(CAPS)、碳酸氢盐，硼酸盐包括硼砂、2-氨基-2-甲基-1-丙醇(AMP)、3-(环己基氨基)-2-羟基-1-丙磺酸(CAPSO)以及2-(N-环己基氨基)乙磺酸(CHES)。
杀生物剂：
杀生物剂应有效防止细菌、真菌和/或酵母。适合的杀虫剂包括N-羟甲基-氯乙酰胺、苯甲酸、对羟基苯甲酸酯、苯酚及它的衍生物、福尔马林、咪唑衍生物、异噻唑啉酮衍生物如1，2-苯并异噻唑啉-3-酮、苯并三唑衍生物、脒、胍衍生物、季铵盐、吡啶、喹啉衍生物、二嗪、三唑衍生物、噁唑和噁嗪衍生物以及它们的混合物。对它们的量没有特别的限制，以溶液的总重量为基准，优选在显影剂中占0～10重量％，特别优选占0.1～1重量％。可使用一种杀生物剂或两种或多种杀生物剂的混合物。
配位剂：
适合的配位剂的例子包括：氨基多羧酸及其盐，例如乙二胺四乙酸及其钾盐和钠盐、二乙三胺五乙酸及其钾盐和钠盐、三亚乙基四氨基-六乙酸及其钾盐和钠盐、羟乙基乙二胺三乙酸及其钾盐和钠盐、氨三乙酸及其钾盐和钠盐、1，2-二氨基环己烷-四乙酸及其钾盐和钠盐以及1，3-二氨基-2-丙醇-四乙酸及其钾盐和钠盐以及有机膦酸、膦酰烷三羧酸及其盐，如2-膦酰丁烷-1，2，4-三羧酸及其钾盐和钠盐、膦酰丁烷-2，3，4-三羧酸及其钾盐和钠盐、膦酰丁烷-2，2，2-三羧酸及其钾盐和钠盐、氨基三-(亚甲基-膦酸)及其钾盐和钠盐以及葡糖酸钠。配位剂可单独使用或将两种或多种组合使用。上述提及的配位剂的有机胺盐可用来代替其钾盐或钠盐。以溶液的总重量为基准，配位剂的量优选在显影剂中占0～5重量％，特别优选占0.01～1重量％。
溶剂：
显影剂还可含有有机溶剂或有机溶剂的混合物。显影剂为单相。因此，有机溶剂必须能够与水混溶或至少一定程度溶于其所加入的显影剂中，使得不会产生相分离。下述溶剂以及这些溶剂的混合物适合用在显影剂中。苯酚和环氧乙烷和环氧丙烷的反应产物例如乙二醇苯醚，苄醇，乙二醇和丙二醇与具有6个或更少碳原子的酸的酯，以及具有6个或更少碳原子的烷基的乙二醇，二乙二醇，和丙二醇如2-乙基乙醇和2-丁氧基乙醇的醚。可使用单一有机溶剂或有机溶剂的混合物。以显影剂的重量为基准，有机溶剂通常在显影剂中存在的浓度约0重量％～约15重量％，优选约3重量％～约5重量％。
“淤渣抑制剂”：
如在US 6,383,717B1和US 6,482,578B2中所详细描述的，在显影剂浴中会形成淤渣，这是由于使用负性工作前体的情况下可自由基聚合材料的累积所导致，在这种情况下，成像是基于涂覆前体涂中的自由基聚合进行的。在显影剂中存在至少一种选自滤光染料和自由基抑制剂的材料可防止淤渣形成。滤光染料吸收周围的紫外光和可见辐射从而减少所加载的显影剂中的辐射敏感引发系统的吸收量。自由基引发剂抑制加载的显影剂中的单体的自由基聚合。
滤光染料的吸收与辐射敏感引发系统中的吸收相一致，此外滤光染料在显影剂中应当稳定并且不会与显影剂或辐射敏感层中的组分发生任何化学反应。
在日光或类似条件下产生稳定效果的滤光染料的浓度取决于许多因素；然而，以显影剂的重量为基准，滤光染料的浓度优选约0～2重量％，更优选为约0.4％～2重量％。
滤光染料必须在显影剂中充分可溶从而足够的滤光染料可溶解在显影剂中以吸收光谱范围在约350nm～约650nm的辐射。有一个或多个磺酸基取代的染料通常在显影剂中具有充分的溶解性。优选的染料包括磺酸基取代的微黄色、黄色、橙色和红色染料。特别优选地是磺酸偶氮染料。合适的染料包括例如间胺黄(CI.13065)和其它类似的水溶性偶氮染料，例如甲基橙(CI.13025)、金莲橙O(CI.14270)、金莲橙OO(CI.13080)、酒石黄(CI.19140)、活性黄K(Riedel-de-Haen)；酸性黄类型的染料，例如CI.13900、CI.14170、CI.18835、CL 18965、CI.18890、CI.18900、CI.18950(普拉黄)、CI.22910以及CI.25135；以及酸性红类型的染料，例如CI.14710、CL 14900、CL 17045、CL 18050、CL 18070和CL 22890。本领域的技术人员还了解其它合适的染料。可使用单一滤光染料或滤光染料的混合物。
合适的自由基抑制剂，其也被称为聚合物稳定剂或自由基捕捉剂，是单体和聚合物稳定化领域内所熟知的。
任何能够与自由基反应形成不引发单体聚合的产物，在显影剂中具有必要的溶解性和稳定性，以及对显影剂或印刷版的性质不产生不利影响的材料均可能被使用。它们包括如：含有醌或氢醌部分的化合物，尤其是苯醌和取代的苯醌，以及氢醌和取代的氢醌，例如氢醌单甲基醚(4-甲氧基苯酚)、叔丁基氢醌(4-叔丁基苯酚，TBHQ)和叔丁基羟基苯甲醚(BHA)；雷琐辛(recorcinol)、pyrrogallol、磷酸酯；和受阻酚和双酚，如2，6-二-叔丁基-4-甲基苯酚、2，6-二叔丁基-4-甲氧基苯酚、2，4，6-三-叔丁基苯酚；稳定的自由基，如二-叔丁基硝基氧和2，2，6，6-四甲基-4-吡啶酮硝基氧；硝基取代的芳香族化合物；氨基苯酚；吩噻嗪；和仲二芳基胺如取代的二苯基胺、N，N′-二苯基-对苯二胺和N-苯基-萘胺。优选的自由基抑制剂为醌、氢醌、氢醌的醚和受阻酚。更优选的是氢醌的醚，尤其是氢醌和受阻酚的醚。优选的化合物是氢醌单甲基醚(4-甲氧基苯酚)、2，6-二-叔丁基-4-甲基苯酚和2，4，6-三-叔丁基苯酚。可使用单一的自由基抑制剂或自由基抑制剂的混合物。以显影剂的重量为基准，自由基抑制剂或自由基抑制剂的混合物通常在显影剂中存在的浓度约0重量％～约3.0重量％，优选在约0.5重量％～约1.5重量％。
抗腐蚀剂：
抗腐蚀剂的例子有膦酸及其盐，如羟乙基膦酸及其盐、氨基三亚甲基膦酸及其盐、以及二亚乙基三胺五亚甲基膦酸及其盐；磷酸盐如磷酸三钠；硼酸盐如硼砂；以及丙三醇和具有下式结构的二醇
Figure A20078003470700611
(其中z为0、1或2，R20和R21独立地为氢或C1-C3烷基)。
以显影剂的重量为基准，抗腐蚀剂或这种试剂的混合物通常在显影剂中存在的浓度约0重量％～10重量％，优选0.1重量％～1.5重量％，当抗腐蚀剂为丙三醇和二醇时，其含量为5～10重量％。
其它的添加剂：
如果需要，也可在显影剂中含有加味剂和染料。染料的添加是为了防止在同时使用不同加工化学品如显影剂和补充物时产生混淆。可使用的这类染料的例子有偶氮染料、三芳基甲烷染料或酞菁染料。染料在显影剂中的浓度通常为0.0005～0.5wt.-％。
使用加味剂时为了抵消显影剂中其它组分产生的不愉快的气味。加味剂的浓度一般在0.001～1wt.-％的范围内。
在下面的实施例中对本发明将作更详细的描述；但它们不意味着对本发明产生任何限制。
实施例
使用了如下的缩写：
Figure A20078003470700621
N100三官能的异氰酸酯(六亚甲基二异氰酸酯的缩
                 二脲)，来自Bayer，
Basonyl Violet 610三芳基甲烷染料，来自BASF
HEA               丙烯酸(2-羟乙基)酯
HEMA              甲基丙烯酸(2-羟乙基)酯
HEPi              2-(2-羟乙基)-哌啶
HMDI              六亚甲基二异氰酸酯
Joncryl 683       丙烯酸树脂，来自SC Johnson&Son Inc.
                  USA，酸值＝162mg KOH/g
IR dye 66e      IR吸收花青染料，来自FEW Chemicals GmbH
Figure A20078003470700631
IR dye S0306
Figure A20078003470700632
IR吸收花青染料，来自FEW Chemicals GmbH
(λmax＝820nm)
Kayamer PM-2    1mol磷酸与1.5mol甲基丙烯酸羟乙基酯的
                酯，来自Nippon Kayaku
Paste           阴离子表面活性剂(烷基萘磺酸，钠盐)，来
                自BASF
NK Ester BPE 500乙氧基化双酚A二甲基丙烯酸酯(大约有10
                个环氧乙烷单元)，来自Shin Nakamura Ltd.
NK Ester BPE-200乙氧基化双酚A二甲基丙烯酸酯(大约有4
                个环氧乙烷单元)，来自Shin Nakamura Ltd.
PETA            季戊四醇三丙烯酸酯
PC1199          非离子表面活性剂(乙氧基化/丙氧基化
                C10-C12醇)，来自Polygon Chemie AG
Renolblue       分散于聚乙烯醇缩丁醛中的酞菁铜颜料，来自
B2G-
Figure A20078003470700634
          Clariant
Hydropalat 3204    分散剂；部分中和的乙酰膦酸胺盐；来自
                   Henkel
Figure A20078003470700641
          NLS  阴离子表面活性剂(十二烷基硫酸钠)，来自
28                 REWO
PETRO AA           甲基萘磺酸钠，来自Witco
Figure A20078003470700642
 842             阴离子表面活性剂(辛基硫酸钠)，来自Henkel
Figure A20078003470700643
 CPS             阴离子表面活性剂(辛基硫酸钠)，来自Henkel
Amphotensid B5     两性表面活性剂(椰油酰胺丙基甜菜碱)，来
                   自Zschimmer&Schwarz GmbH
Dowfax 2Al         阴离子表面活性剂(十二烷基二苯基氧二硫酸
                   钠，45％)，来自Dow Chemicals
Surfynol 465       非离子表面活性剂(乙氧化基的2，4，7，9-四甲基
                   -5-癸炔-4，7-二醇)，来自Airproducts
Dowfax 8390        阴离子表面活性剂(n-十六烷基二苯氧基二硫
                   酸钠，35％)，来自Dow Chemicals
Mergal K7          防腐剂(甲基氯-异噻唑啉酮)，来自Troy
Sorbidex 200       99％D-山梨糖醇，来自Ceresda
Newcol B 13        具有13个氧乙烯单元的聚氧乙烯萘醚，来自
                   Nippon Nyukarai
Akypo LF2          阴离子表面活性剂，来自Kao Chemicals/JP
Emdex 30AN 45      从土豆淀粉制得的可溶于冷水的糊精，来自
                   Emsland
Figure A20078003470700644
GmbH
Pluriol P600       聚丙二醇，Mw＝600
Sequion 10Na       羟基-乙-1，1-二膦酸的钠盐，来自Polygon
                   Chemie AG
Sequion MS 84      羧酸聚合物，来自Polygon Chemie AG
Rewoteric AM-V     N-β-羟乙基-N-羧甲基-脂肪酸酰氨基乙基胺的
                   钠盐
Dehyton AB 30    月桂基二甲基氨基乙酸甜菜碱(来自Cogris
                 的40重量％水性溶液(两性表面活性剂))
Reworyl NXS 40   二甲苯磺酸钠，来自REWO Chemical Group
Synperonic 304T  用聚亚丙基酸(polypropylene acide)/聚环氧
                 乙烷的嵌段共聚物烷氧化的乙二胺，来自ICI
                 Surfactants
AA               丙烯酸
PEGMA            聚(乙二醇)甲基丙烯酸酯
AAM              丙烯酰胺
MAA              甲基丙烯酸
MEDMSPA          甲基丙烯酰乙基二甲基磺丙基-氢氧化铵
PRO-W            正丙醇与水4∶1的混合物
MEK              甲乙酮
MBIM+BF4 -        甲基-3-丁基咪唑鎓四氟硼酸盐
Ammoeng 100      来自Solvent Innovations GmbH的离子液体
                 m+n＝1～14
Electra Excel HRO来自Kodak Polychrome Graphics GmbH的在
                 810～830nm范围内敏化的正性工作平版印
                 刷版
DITP Gold        来自Kodak Polychrome Graphics GmbH的在
                 810～830nm范围内敏化的负性工作平版印
                 刷版
ThermalNews Gold 来自Kodak Polychrome Graphics GmbH的在
                 810～830nm范围内敏化的负性工作平版印
                 刷版
亲水聚合物CoPo 1～CoPo 4的合成
对亲水聚合物CoPo 1～CoPo 4的合成是根据表1中的单体量进行合成步骤S1和S2。
合成步骤S 1(表1中亲水聚合物的制备)
在反应烧瓶中加入85wt.-％PROH-W，以氮气吹扫并加热到70℃。在整个反应时间内持续以氮气吹扫。
将单体1、单体2、单体3以及0.6mol-％AIBN(以单体量为基准)溶解在MEK中形成50重量％溶液。将溶液转移到滴液漏斗中并缓慢滴加到反应烧瓶的PROH-W中。在整个溶液滴加完成后，对反应混合物搅拌10小时同时将反应混合物慢慢冷却到室温。在真空状态下去除过量的溶剂。通过重复溶解在合适的溶剂中并沉淀来对产品进行纯化。
最后，在真空条件下将产品在50℃下干燥24小时。使用IR光谱、元素分析以及NMR光谱对得到的共聚物进行检验。
合成步骤S2(表1中亲水聚合物的制备)
将由有机阳离子和阴离子、单体1、单体2和单体3组成的85重量％溶液(离子液体)加入到反应烧瓶中，以氮气吹扫并加热到70℃。在整个反应时间内持续以氮气吹扫。然后加入0.13mole-％AIBN(以单体量为基准)，并在间隔2小时下重复该步骤2次。持续搅拌10小时。分离出沉淀的共聚物，如需要可使用乙腈进行洗涤，然后在真空条件下将产品在50℃下干燥24小时。使用IR光谱、元素分析以及NMR光谱对得到的共聚物进行检验。
表1CoPo 1～CoPo 4合成中的单体量
  共聚物   单体1(量)   单体2(量)  单体3(量)   用于合成的溶剂   根据合成步骤进行合成
  CoPo1   AA(25g)   PEGMA(15g)   AAM(10g)   PRO-W/MEK   S1
  CoPo2   MAA(25g)   PEGMA(15g)   AAM(10g)   PRO-W/MEK   S1
  CoPo3   MEDMSPA(25g)   PEGMA(15g)   AAM(10g)   PRO-W/MEK   S1
  CoPo4   AA(25g)   PEGMA(15g)   AAM(10g)   MBIM+BF4 -   S2
  CoPo5   AA(25g)   PEGMA(15g)   AAM(10g)   Ammoeng 100   S2
实施例1-35以及对比例1-9
在盐酸中经电化学磨版，随后使用含有磷酸钠和葡萄糖酸钠的水溶液进行清洗，在硫酸中进行阳极氧化，使用水清洗并干燥制得平版铝基板。氧化物重量为2.5g/m2，平均粗糙度为O.6μm。过滤涂层溶液后在得到的基板上涂覆一层相应于表2(与表3-8组合)的涂层组合物。样品在90℃下干燥4分钟。
使用聚乙烯醇水溶液(来自Air Products的Celvol 203，水解度为88％)作为得到的版#1～#5外涂而得到印刷版前体，其在90℃下干燥4分钟后外涂层的干涂层重量如表2中所示。
表2用于实施例和对比例的板
  版号   光聚合物层/版   光敏层的涂层重量   外涂层的涂层重量   曝光步骤   预热步骤
  #1   表3   1.7g/m2   25g/m2   来自Lithotech的405nm(30mW)印版照排机ANDROMEDA   90℃下2分钟
  #2   表4   1.7g/m2   2.0g/m2   来自Creo的Trendsetter 3244(830nm，40to 90mJ/cm2)   90℃下2分钟
  #3   表5   1.7g/m2   0.6g/m2   来自Creo的Trendsetter 3244(830nm，40to 90mJ/cm2)   -
  #4   表6   1.5g/m2   3g/m2   来自Lithotech的405nm(30mW)印版照排机ANDROMEDA   -
  #5   表7   2.0g/m2   2.6g/m2   配备了掺杂有Ga的汞灯的THEIMER真空架   90℃下2分钟
  #6   表8   1.6g/m2   无外涂层   来自Creo的Trendsetter 3244(830nm，300mJ/cm2)   -
  #7   ElectraExcel HRO   1.5g/m2   无外涂层   来自Creo的Trendsetter 3244(830nm，150mJ/cm2)   -
  #8   DITP Gold   1.35g/m2   无外涂层   来自Creo的Trendsetter 3244(830nm，120mJ/cm2)   -
  #9   ThermalNews Gold   1.6g/m2   2.0g/m2   来自Creo的Trendsetter 3244(830nm，70mJ/cm2)   90℃下2分钟
版#2，#3，#6，#7，#8和#9在830nm下的激光曝光：
使用含有用于评价复制品质量的不同元件的UGRA/FOGRAPostscript Strip version 2.0EPS(来自UGRA)用于以Creo的Trendsetter3244(830nm)对版#2，#3，#6，#7，#8和#9进行成像。
在830nm曝光的版的光速度通过用不同能量对版进行曝光来评价。版#2和#9在曝光后直接加热2分钟至90℃。版的曝光能量被定义为与经显影的板的色调测量值相比，产生最小偏离目标色调值的最低能量。结果见表10。
版#1和#4在405nm下的激光曝光：
用配备了在405nm发射(P＝30mW，cw)的激光二极管的图像照排机(来自Lithotech的
Figure A20078003470700691
A750M)对印刷版#1和#4进行曝光。在上述版前体上对具有定义色调值(为了获得近似的期望色调值，对所有的数据进行线性化)的UGRA灰阶V2.4进行曝光。版在曝光后直接加热2分钟至90℃。版的灵敏度在整片曝光下使用上述公开的印版照排机按照UGRA Offset试验标度1982进行确定。这种版的光速度定义为获得显影板的UGRA阶中的两阶灰标度所需的能量。结果见表10。
掺杂Ga的汞灯在真空架中对版#5进行的曝光
印版#5在配备了掺杂Ga的汞灯的Theimer真空架中与UGRAOffset试验标度1982接触下被曝光。版在曝光后直接加热2分钟至90℃。这种版的光速度定义为获得显影板的UGRA阶中的两阶灰标度所需的能量。结果见表10。
版的显影
在配备了两个刮刷辊的TDP 60(Horsell)单浴处理器中用表9中所示的显影剂对版进行显影。显影温度为22℃，显影剂浸泡时间为20秒。实施例1～14以及对比例1～4的版在显影后直接干燥而无进一步的冲洗和涂胶步骤。实施例15～30以及对比例5～9的版在显影后用水冲洗，随后用Kodak 850S酸性树胶进行涂胶。
版的印刷
将这样制备的版装入平张纸胶版印刷机中，使用的是研磨墨(来自Sun Chemical的Offset S 7184，含10％的碳酸钙)。检查无图像区域的调色现象。印制了20,000份，但除非另外指出，印刷可继续进行。
进行了如下测试：
对显影速度的评价：
为了评价显影性，将5×30cm2未曝光的版条浸入置于玻璃烧杯中的相应显影剂中，并每隔5秒使版条下降4cm到显影剂中更深处。在这之前，在烤箱中将版#1，#2和#5在90℃处理2分钟。50秒后，将条从显影剂抽出，用水冲洗，并将到第一清洗步骤之前的时间记作显影时间。结果总结于下表10中。
清洗
对在印刷出清晰图案之前所需的纸张数进行计数。当需要的纸张少于20张时，认为表现是令人满意的。结果见表10。
印刷机上的调色
在完成印刷工作之后检查没有图像的部分是否存在墨印。结果见表10。
表3在405nm敏化的版#1的光敏聚合物层的组成
  6.48g   将由甲基丙烯酸甲酯和甲基丙烯酸制得的共聚物溶解在丙二醇单甲基醚中形成酸值为85的27.9wt％溶液
  1.12g   在丙二醇单甲基醚中含有7.25wt％的铜酞菁以及7.25wt％的聚乙烯醇缩醛粘合剂的分散液，所述粘合剂含有39.9mol％乙烯醇、1.2mol％醋酸乙烯酯、15.4mol％来自乙醛的缩醛基、36.1mol％来自丁醛的缩醛基以及来自4-甲酰苯甲酸的7.4缩醛基。
  0.08g   Kayamer PM-2
  10.98g   HMDI+HEMA+HEPi反应制得的低聚物在甲基乙基酮中形成的30重量％的溶液
  0.6g   NK酯BPE 500
  1.12g   2-苯基-4-(2-氯苯基)-5-(4-二乙基氨基苯基)-噁唑
  0.273g   2，2-双-(2-氯苯基)-4，5，4’，5’-四苯基-2’H-[1，2’]联咪唑基
  0.497g   巯基-3-三唑
  36ml   丙二醇单甲基醚
  24ml   甲醇
  29ml   甲乙酮
表4在810～830nm敏化的版#2的光敏聚合物层的组成
  4.26g   470重量份的苯乙烯、336重量份的甲基丙烯酸甲酯和193重量份的甲基丙烯酸制得的三元共聚物的30％丙二醇单甲基醚溶液
  1.26g   Ioncryl 683
  9g   Desmodur N100与1mol的聚(丙二醇)甲基丙烯酸酯和2mol的甘油二甲基丙烯酸酯反应制得的低聚物在甲基乙基酮中的30重量％溶液
  0.10g   苯胺乙酰乙酸
  0.30g   2-(4-甲氧基苯基)4，6-三氯甲基-1，3，5-三嗪，
  1.5g   颜料溶液(MIKUNI氰，20重量％)
  0.021g   磷酸(85％)
  0.09g   IR染料66e
  0.33g   5-(4-乙烯基苄基)硫代-1，3，4-噻二唑-2-硫醇(thiole)
  30ml   丙二醇单甲基醚
  3ml   丙酮
表5在810～830nm敏化的版#3的无预热光敏聚合物层的组成
  2.92g   20mol％甲基丙烯酸和80mol％烯丙基甲基丙烯酸酯反应制得的共聚物
  3.93g   Desmodur N100与1mol的聚(丙二醇)甲基丙烯酸酯和2mol的甘油二甲基丙烯酸酯反应制得的低聚物在甲基乙基酮中的30重量％溶液
  1.18g   NK酯BPE-200
  0.10g   苯胺乙酰乙酸
  0.15g   2-(4-甲氧基苯基)4，6-三氯甲基-1，3，5-三嗪，
  1.5g   颜料溶液(MIKUNI氰，20重量％)
  0.02g   磷酸(85％)
  0.09g   IR染料66e
  0.12g   5-(4-乙烯基苄基)硫代-1，3，4-噻二唑-2-硫醇(thiole)
  0.18g   Kayamer PM-2
  38ml   丙二醇单甲基醚
  4ml   2-丁酮
表6在405nm敏化的版#4的无预热光敏聚合物层的组成
Figure A20078003470700731
表7：版#5的近UV敏感光聚合物组合物的组成
Figure A20078003470700741
表8：810～830nm敏化的版#6的热聚集层的组成
  0.45g   S0306
  28.02g  水中的颗粒分散体(80％苯乙烯和20％甲基丙烯酸形成的10％聚合物分散体)
表9显影剂的组成
  显影剂   组分   组成
  D1  水Surfynol 465三磷酸钠Sorbidex防沫剂K900CoPo 1混合后加入几滴10重量％KOH溶液将pH调节到12   77.99wt-％5wt-％5wt-％10wt-％0.01wt-％2wt-％
 D2a  水Surfynol 465三磷酸钠糊精(Emdex 30AN 45)防沫剂K900CoPo 1混合后加入几滴10重量％KOH溶液将pH调节到12   77.99wt-％5wt-％5wt-％10wt-％0.01wt-％2wt-％
 D2b  水Surfynol 465三磷酸钠糊精(Emdex 30AN 45)防沫剂K900CoPo 2混合后加入几滴10重量％KOH溶液将pH调节到12   77.99wt-％5wt-％5wt-％10wt-％0.01wt-％2wt-％
 D2c  水Surfynol 465三磷酸钠糊精(Emdex 30AN 45)防沫剂K900CoPo 3混合后加入几滴10重量％KOH溶液将pH调节到12   77.99wt-％5wt-％5wt-％10wt-％0.01wt-％2wt-％
 D2d  水Surfynol 465三磷酸钠糊精(Emdex 30AN 45)防沫剂K900CoPo 4混合后加入几滴10重量％KOH溶液将pH调节到12   77.99wt-％5wt-％5wt-％10wt-％0.01wt-％2wt-％
 D2e  水Surfynol 465三磷酸钠糊精(Emdex 30AN 45)防沫剂K900CoPo 5混合后加入几滴10重量％KOH溶液将pH调节到12   77.99wt-％5wt-％5wt-％10wt-％0.01wt-％2wt-％
 D3a  水PC1199CoPo 1混合后加入几滴10重量％KOH溶液将pH调节到12   93.008wt-％4.992wt-％2wt-％
 D3b   水PC1199CoPo 2混合后加入几滴10重量％KOH溶液将pH调节到12   92.84wt-％4.992wt-％2wt-％
 D3c   水PC1199CoPo 3混合后加入几滴10重量％KOH溶液将pH调节到12   93.008wt-％4.992wt-％2wt-％
 D3d   水PC1199CoPo 4混合后加入几滴10重量％KOH溶液将pH调节到12   93.008wt-％4.992wt-％2wt-％
 D3e   水PC1199CoPo 5混合后加入几滴10重量％KOH溶液将pH调节到12   93.008wt-％4.992wt-％2wt-％
 D4a   水Newcol B13CoPo 1混合后加入几滴10重量％KOH溶液将pH调节到12   93.008wt-％4.992wt-％2wt-％
 D4b   水Newcol B13CoPo 2混合后加入几滴10重量％KOH溶液将pH调节到12   93.008wt-％4.992wt-％2wt-％
 D4c   水Newcol B13CoPo 3混合后加入几滴10重量％KOH溶液将pH调节到12   93.008wt-％4.992wt-％2wt-％
 D4d   水Newcol B13CoPo 4混合后加入几滴10重量％KOH溶液将pH调节到12   93.008wt-％4.992wt-％2wt-％
 D4e   水Newcol B13CoPo 5混合后加入几滴10重量％KOH溶液将pH调节到12   92.84wt-％4.992wt-％2wt-％
  D5a   水Surfynol 465Amphotensid B5氢氧化钾溶液(45重量％)CoPo 1混合后加入几滴10重量％KOH溶液将pH调节到12   93.008wt-％2.5wt-％2.5wt-％0.2wt.％2wt-％
  D5b   水Surfynol 465Amphotensid B5氢氧化钾溶液(45重量％)CoPo 2混合后加入几滴10重量％KOH溶液将pH调节到12   92.8wt-％2.5wt-％2.5wt-％0.2wt-％2wt-％
  D5c   水Surfynol 465Amphotensid B5氢氧化钾溶液(45重量％)CoPo 3混合后加入几滴10重量％KOH溶液将pH调节到12   92.8wt-％2.5wt-％2.5wt-％0.2wt-％2wt-％
  D5d   水Surfynol 465Amphotensid B 5氢氧化钾溶液(45重量％)CoPo 4混合后加入几滴10重量％KOH溶液将pH调节到12   92.8wt-％2.5wt-％2.5wt-％0.2wt-％2wt-％
  D5e   水Surfynol 465Amphotensid B5氢氧化钾溶液(45重量％)CoPo 5混合后加入几滴10重量％KOH溶液将pH调节到12   92.8wt-％2.5wt-％2.5wt-％0.2wt-％2wt-％
  D6   水CoPo 1混合后加入几滴10重量％KOH溶液将pH调节到12   98wt-％2wt-％
  D7   水偏硅酸钠硅酸钠(37/40°Baumé)Akypo LF2Dehyton AB30硅酮防沫乳液SE 57(Wacker)CoPo 1混合后加入几滴30重量％KOH溶液将pH调节到135   81.945wt-％11.158wt-％2.012wt-％0.915wt-％1.189wt-％0.037wt-％2.744wt-％
  D8   水Hydropalat 3204TEXAPON CPSPETROAA二乙醇胺4-甲苯磺酸Dowand PMCoPo 1混合后加入几滴二乙醇胺将pH调节到9.5   82.2wt-％2.6wt-％5.3wt-％1.2wt-％1.2wt-％4.5wt-％1wt-％2wt-％
  D9   水偏硅酸钠×5H2O磷酸三钠×12H2O磷酸钠Sequion 10NaSequion MS 84Pluriol P600乙二醇甘油CoPo 1混合后加入几滴30重量％KOH溶液将pH调节到135   71.65wt-％10.135wt-％1.912wt-％0.117wt-％0.194wt-％0.214wt-％0.049wt-％7.476wt-％5.34wt-％2.913wt-％
  D10   水Sorbidex 240Reworyl NXS 40氢氧化钾(45wt％溶液)Synperonic 304TCoPo 1混合后加入几滴30重量％KOH溶液将pH调节到135   63.421wt-％18.303wt-％2.105wt-％5.949wt-％8.392wt-％1.83wt-％
  D11   水氢氧化钾(45wt％溶液)水中85％的磷酸水中的钾水玻璃42/43度BeREWOTERIC AM-VSequion 10NaPluriol P600乙二醇CoPo 1混合后加入几滴30重量％KOH溶液将pH调节到135   69.877wt-％13.396wt-％2.599wt-％7.298wt-％0.23wt-％0.23wt-％0.002wt-％4.369wt-％1.999wt-％
  CD1   水Surfynol 465Sorbidex防沫剂K900混合后加入三磷酸钠将pH调节到12   84.99wt-％5wt-％10wt-％0.01wt-％
  CD2   水Surfynol 465糊精(Emdex 30AN 45)防沫剂K900混合后加入三磷酸钠将pH调节到12   84.99wt-％5wt-％10wt-％0.01wt-％
  CD3   水PC1199混合后加入氢氧化钾将pH调节到12   95.008wt-％4.992wt-％
  CD4   水Newcol B13混合后加入氢氧化钾将pH调节到12   95.008wt-％4.992wt-％
  CD5   水Surfyno 1465Amphotensid B5混合后加入氢氧化钾将pH调节到12   95wt-％2.5wt-％2.5wt-％
  CD6   水偏硅酸钠硅酸钠(37/40°Baumé)Akypo LF2(Kao Chemicals)(阴离子表面活性剂)Dehyton AB30(40wt％水溶液；Cognis)(1-1)硅酮防沫乳液SE 57(Wacker)混合后pH＞13   84.548wt-％11.261wt-％2.031wt-％0.923wt-％1.2wt-％0.037wt-％
  CD7   水Hydropal at 3204TEXAPONCPSPETRO AA二乙醇胺4-甲苯磺酸Dowartol PM混合后pH为10.2   84.2wt-％2.6wt-％5.3wt-％1.2wt-％1.2wt-％4.5wt-％1wt-％
  CD8   水偏硅酸钠×5H2O磷酸三钠×12H2O磷酸钠Sequion 10NaSequion MS 84Pluriol P600乙二醇丙三醇混合后pH＞13   73.8wt-％10.44wt-％1.97wt-％0.12wt-％0.2wt-％0.22wt-％0.05wt-％7.7wt-％5.5wt-％
  CD9   水Sorbidex 240Reworyl NXS 40Synperonic 304T混合后加入氢氧化钾将pH调节到12   68.77wt-％19.847wt-％2.283wt-％9.1wt-％
  CD10   水氢氧化钾(45wt％溶液)水中85％的磷酸水中的钾水玻璃42/43度BeREWOTERIC AM-VSequion 10NaPluriol P600乙二醇混合后pH＞13   71.302wt-％13.669wt-％2.652wt-％7.477wt-％0.235wt-％0.235wt-％0.002wt-％4.458wt-％
表10实施例1～30和对比例1～9的结果
  显影液   版号   显影性(s)   漏光时间   清洗   印刷机上的调色现象   运行寿命
  实施例1   D1   #1   15   50μJ/cm2   ＜20 无   ＞20000
  实施例2   D1   #2   20   130mJ/cm2   ＜20   无   ＞20000
  实施例3   D1   #3   20   80mJ/cm2   ＜20   无   ＞20000
  实施例4   D1   #4   25   80μJ/cm2   ＜20 无   ＞20000
  实施例5   D1   #5   20   10mJ/cm2   ＜20 无   ＞20000
  实施例6   D2a   #1   15   50μJ/cm2   ＜20 无   ＞20000
  实施例7   D2a   #2   20   130mJ/cm2   ＜20 无   ＞20000
  实施例8   D2b   #2   15   125mJ/cm2   ＜20 无   ＞20000
  实施例9   D2c   #2   20   135mJ/cm2   ＜20 无   ＞20000
  实施例10   D2d   #2   25   130mJ/cm2   ＜20 无   ＞20000
  实施例11   D2e   #2   15   130mJ/cm2   ＜20 无   ＞20000
  实施例12   D2a   #3   20   80mJ/cm2   ＜20 无   ＞20000
  实施例13   D2a   #4   25   80μJ/cm2   ＜20 无   ＞20000
  实施例14   D2a   #5   20   10mJ/cm2   ＜20 无   ＞20000
  实施例15   D3a   #1a)   15   40μJ/cm2   ＜20 无   ＞20000
  实施例16   D3b   #1a)   10   45μJ/cm2   ＜20 无   ＞20000
  实施例17   D3c   #1a)   15   45μJ/cm2   ＜20 无   ＞20000
  实施例18   D3d   #1a)   15   40μJ/cm2   ＜20 无   ＞20000
  实施例19   D3e   #1a)   10   45μJ/cm2   ＜20 无   ＞20000
  实施例20   D4a   #1a)   10   40μJ/cm2   ＜20 无   ＞20000
  实施例21   D4b   #1a)   10   35μJ/cm2   ＜20 无   ＞20000
  实施例22   D4c   #1a)   15   35μJ/cm2   ＜20 无   ＞20000
  实施例23   D4d   #1a)   10   40μJ/cm2   ＜20 无   ＞20000
  实施例24   D4e   #1a)   10   40μJ/cm2   ＜20 无   ＞20000
  实施例25   D5a   #1a)   15   40μJ/cm2   ＜20   无   ＞20000
  实施例26   D5a   #1a)   20   40μJ/cm2   ＜20   无   ＞20000
  实施例27   D5a   #1a)   15   40μJ/cm2   ＜20 无   ＞20000
  实施例28   D5a   #1a)   15   40μJ/cm2   ＜20   无   ＞20000
  实施例29   D5a   #1a)   15   45μJ/cm2   ＜20   无   ＞20000
  实施例30   D6   #6a)   10   300mJ/cm2   ＜20   无   ＞10000
  实施例31   D7   #7   5   150mJ/cm2   ＜20   无   ＞20000
  实施例32   D8   #9a)   5   70ml/cm2   ＜20 无   ＞20000
  实施例33   D9   #8a)   10   120mJ/cm2   ＜20   无   ＞20000
  实施例34   D10   #7   5   150mJ/cm2   ＜20   无   ＞20000
  实施例35   D11   #8a)   10   120mJ/cm2   ＜20   无   ＞20000
  对比例1   CD1   #1   20   50μJ/cm2   ＞50   有   在2000次印刷后由于很强的调色而中止
  对比例2   CD1   #4   20   40μJ/cm2   ＞50   有   在2000次印刷后由于很强的调色而中止
  对比例3   CD1   #5   25   10mJ/cm2   ＞50   有   在2000次印刷后由于很强的调色而中止
  对比例4   CD2   #2   20   130mJ/cm2   ＞50   有   在2000次印刷后由于很强的调色而中止
  对比例5   CD3   #1a)   15   45μJ/cm2   ＞50   有   在2000次印刷后由于很强的调色而中止
  对比例6   CD4   #1a)   15   45μJ/cm2   ＞50   有   在2000次印刷后由于很强的调色而中止
  对比例7   CD5   #1a)   15   45μJ/cm2   ＞50   有   在2000次印刷后由于很强的调色而中止
  对比例8   水   #6a)   10   300mJ/cm2   ＞20   有   在2000次印刷后由于很强的调色而中止
  对比例9   水   #6a)b)   10   300mJ/cm2   ＜20   无   在2000次印刷后由于很强的调色而中止
a)在显影后使用850S对板进行涂胶b)与实施例30的版#6相比，在具有12mg/m2聚乙烯基膦酸的夹层的基版上进行了涂层
在实施例1-14中，在没有经过预清洗或后冲洗的单浴洗片机中使用显影剂D1和D2a-e的测试在印刷开始或重新开始时显示了良好的清洁性并且没有出现调色。使用了含有碱性试剂和表面活性剂但不含本发明水性聚合物的显影剂的对比例1-4具有良好的显影性，然而在印刷机上的调色现象严重。已知在显影剂中被用作防腐胶(preservationgum)的CD1和CD2中的Sorbitex或糊精成分在不带夹层的基板中不能防止调色。此外，在使用不含本发明的亲水聚合物的显影剂对版进行显影后进行的润洗和涂胶步骤(对比例5～8)不能防止印刷过程中出现调色。
因此我们可以清楚地证明上述类型的光聚合物版的单浴洗片只有在使用了本发明中所描述的显影剂后才能获得成功，其中单浴洗片能够节省加工步骤、印刷室用化学品和润洗水以及空间。
实施例15-29显示蓝紫色光聚合物版可使用未封印的基板在一个步骤内完成显影和后封印。这导致粘附力增强并使那些版能够FM。
实施例30表明当使用了未封印的基板和显影剂D6后，基于热颗粒聚结的版显示了优良的印刷特性。在对比例8中，相同的版使用水进行显影并在印刷机上出现很强的调色。这体现出向本发明的显影剂中加入亲水聚合物的效果。在对比例9中，版#6的涂层是涂覆在具有聚乙烯基膦酸夹层的平版基板上。该版在印刷机上未出现调色但在印刷过程中出现了非常强烈的图像磨损。这表明本发明的亲水聚合物可用在使用未封印的平版基板上，这种基板对涂层具有很强的粘合力但在印刷时却不存在调色这种缺点。

Claims (15)

1.一种制备成像的平版印刷版的方法，包括：
(a)经辐射对平版印刷版前体进行成像曝光，该前体包括
(i)基板
(ii)包含一层或多层的辐射敏感涂层，以及
(iii)任选的不渗氧外涂层，其中辐射为使辐射敏感涂层感光的辐射；
(b)使用水性显影剂对已成像曝光的前体进行处理，其中水性显影剂的pH值＞6且包含
(i)水，
(ii)至少一种亲水聚合物，其包含
(m1)由至少一种包含聚氧亚烷基链和可自由基聚合的基团两者的化合物衍生出的结构单元，以及
(m2)由至少一种可与(m1)的可自由基聚合的基团进行共聚并包含至少一个pKs＜5的官能团的化合物衍生出的结构单元，其中酸性官能团可以游离酸基团或盐的形式存在，
(iii)任选的至少一种选自表面活性剂，碱性试剂，形成水溶性膜的亲水性聚合物，选自有机溶剂、杀生物剂、配位剂、缓冲物质、滤光染料、防沫剂、抗腐蚀剂以及自由基抑制剂的添加剂；以及
(c)任选的至少一步选自用水冲洗、干燥和烘焙的步骤。
2.根据权利要求1的方法，其中辐射敏感涂层存在于不含夹层的基板上。
3.根据权利要求1或2的方法，其中辐射敏感性涂层对波长范围为250～750nm的辐射敏感，并且在步骤(a)中，前体通过选自250～750nm范围内的波长的辐射进行成像曝光。
4.根据权利要求1或2的方法，其中辐射敏感性涂层对范围从超过750nm至1200nm的波长的辐射敏感，并且在步骤(a)中，前体通过范围从超过750nm至1200nm内的波长的辐射进行成像曝光。
5.根据权利要求1～4中任何一项的方法，其中亲水聚合物(ii)包含衍生自至少一种化合物的结构单元(m1)，该至少一种化合物选自聚(乙二醇)甲基丙烯酸酯；聚(乙二醇)丙烯酸酯；聚(丙二醇)甲基丙烯酸酯、聚(丙二醇)丙烯酸酯、丙烯酸或甲基丙烯酸与环氧乙烷和环氧丙烷的嵌段共聚物的单酯；2，4-甲苯二异氰酸酯封端的聚乙二醇或聚丙二醇或聚乙二醇与聚丙二醇的嵌段共聚物或聚(乙二醇-无规-环氧丙烷)与丙烯酸羟乙酯、甲基丙烯酸羟乙酯或烯丙醇的反应产物；丙烯酸异氰酸根乙酯或甲基丙烯酸异氰酸根乙酯与聚乙二醇或聚丙二醇或聚乙二醇和聚丙二醇的嵌段共聚物或聚(乙二醇-无规-环氧丙烷)的单反应物；聚(乙二醇)丙烯酸酯或聚(乙二醇)甲基丙烯酸酯通过酯化或醚化反应制得的反应产物。
6.根据权利要求1～5中任何一项的方法，其中亲水聚合物(ii)包含衍生自至少一种化合物的结构单元(m2)，该至少一种化合物选自丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、用C1-C6烷醇开环的马来酸酐环、乙烯基苯甲酸、乙烯基膦酸、乙烯基磺酸、乙烯基苯磺酸、磷酸与甲基丙烯酸羟乙酯、丙烯酸羟乙酯或烯丙醇的单酯、磷酸与乙二醇甲基丙烯酸酯或乙二醇丙烯酸酯的单酯、磷酸与聚乙二醇甲基丙烯酸酯或聚乙二醇丙烯酸的单酯、磺丙基(甲基)丙烯酰基乙基二烷基氢氧化胺。
7.根据权利要求1～6中任何一项的方法，其中亲水聚合物(ii)进一步包含衍生自至少一种单体的结构单元(m3)，该至少一种单体包含至少一个可自由基聚合的基团，但其既不含有pKs＜5的酸性基也不含聚氧亚烷基链。
8.根据权利要求7的方法，其中亲水聚合物(ii)进一步包含衍生自至少一种单体的结构单元(m3)，该至少一种单体选自丙烯酰胺、N-乙烯基吡咯烷酮、醋酸乙烯酯、丙烯酸羟乙酯和甲基丙烯酸羟乙酯和烯丙醇。
9.根据权利要求1～8中任何一项的方法，其中显影剂的pH为10～14。
10.根据权利要求1～9中任何一项的方法，其中显影剂含有表面活性剂。
11.根据权利要求1～10中任何一项的方法，其中显影剂含有碱性试剂。
12.根据权利要求1～11中任何一项的方法，其中显影剂含有形成水溶性膜的亲水性聚合物，该亲水性聚合物选自糊精和糖醇。
13.根据权利要求1～12中任何一项的方法，其中前体含有在步骤(a)和(b)之间去除的外涂层。
14.根据权利要求1～13中任何一项的方法，其中该方法进一步包括在步骤(a)和(b)之间的预热步骤。
15.一种具有pH值＞6的水性显影剂，其包含至少一种在权利要求1和5-8中的任何一项中定义的亲水聚合物以及至少一种碱性试剂。
CN200780034707.2A 2006-09-20 2007-09-18 用于平版印刷版的显影和封印的方法 Expired - Fee Related CN101517493B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP06019680A EP1903399B1 (en) 2006-09-20 2006-09-20 Method for developing and sealing of lithographic printing plates
EP06019680.5 2006-09-20
PCT/EP2007/008129 WO2008034592A1 (en) 2006-09-20 2007-09-18 Method for developing and sealing of lithographic printing plates

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101517493A true CN101517493A (zh) 2009-08-26
CN101517493B CN101517493B (zh) 2012-01-11

Family

ID=37636036

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN200780034707.2A Expired - Fee Related CN101517493B (zh) 2006-09-20 2007-09-18 用于平版印刷版的显影和封印的方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US8507181B2 (zh)
EP (1) EP1903399B1 (zh)
JP (1) JP2010504543A (zh)
CN (1) CN101517493B (zh)
DE (1) DE602006009936D1 (zh)
WO (1) WO2008034592A1 (zh)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102486609A (zh) * 2010-12-01 2012-06-06 第一毛织株式会社 应用于彩色滤光片的光敏性树脂组合物及使用其的彩色滤光片
CN103229106A (zh) * 2010-12-03 2013-07-31 伊斯曼柯达公司 显影剂和其用于制备平版印刷版的用途
CN103665369A (zh) * 2012-09-14 2014-03-26 中国科学院兰州化学物理研究所 一种聚乙二醇功能化多金属氧酸盐离子液体及其制备方法
CN104136996A (zh) * 2012-02-29 2014-11-05 富士胶片株式会社 平版印刷版原版及平版印刷版的制造方法
US9069132B2 (en) 2012-12-26 2015-06-30 Cheil Industries Inc. Photosensitive resin composition for light blocking layer and light blocking layer using the same

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8409785B2 (en) * 2003-07-17 2013-04-02 Kodak Graphic Communications Gmbh Apparatus and method for treating imaging materials
JP5422146B2 (ja) * 2008-03-25 2014-02-19 富士フイルム株式会社 平版印刷版作成用処理液および平版印刷版原版の処理方法
JP5228631B2 (ja) * 2008-05-29 2013-07-03 富士フイルム株式会社 平版印刷版現像用処理液及び平版印刷版の作製方法
JP2010102330A (ja) * 2008-09-24 2010-05-06 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法
EP2194429A1 (en) * 2008-12-02 2010-06-09 Eastman Kodak Company Gumming compositions with nano-particles for improving scratch sensitivity in image and non-image areas of lithographic printing plates
CN101750910B (zh) * 2008-12-18 2012-11-21 京东方科技集团股份有限公司 显影液组成物
JP5541913B2 (ja) * 2009-12-25 2014-07-09 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
US20110177456A1 (en) * 2010-01-21 2011-07-21 Mathias Jarek Method of making lithographic printing plates
CN101825848B (zh) * 2010-04-19 2011-11-23 张万诚 一种印刷用热敏阳图型感光版的显影液及其制备方法
US20120129093A1 (en) * 2010-11-18 2012-05-24 Moshe Levanon Silicate-free developer compositions
JP5736993B2 (ja) * 2011-06-15 2015-06-17 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 感光性樹脂組成物、パターン硬化膜の製造方法及び電子部品
US20120322008A1 (en) * 2011-06-16 2012-12-20 Kevin Ray Development of printing members having post-anodically treated substrates
JP5718176B2 (ja) * 2011-06-23 2015-05-13 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法及び処理液組成物
EP2762973B1 (en) 2011-09-26 2017-11-29 Fujifilm Corporation Method for producing lithographic printing plate
US8647811B2 (en) * 2012-01-12 2014-02-11 Eastman Kodak Company Positive-working lithographic printing plate precursors
US9229325B2 (en) * 2014-02-25 2016-01-05 Eastman Kodak Company Method for making lithographic printing plates
KR101759571B1 (ko) * 2017-04-10 2017-07-19 영창케미칼 주식회사 Euv용 감광성 포토레지스트 미세패턴 형성용 현상액 조성물
US11718743B2 (en) * 2019-07-12 2023-08-08 3D Systems, Inc. Build materials for 3D printing

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19755295A1 (de) * 1997-12-12 1999-06-17 Agfa Gevaert Ag Entwickler für bestrahlte, strahlungsempfindliche Aufzeichnungsmaterialien
JPH11327156A (ja) * 1998-05-07 1999-11-26 Konica Corp 感光性平版印刷版の処理方法及び処理剤並びに該処理剤で処理された感光性平版印刷版
US6100016A (en) * 1999-09-14 2000-08-08 Agfa-Gevaert Ag Developer for irradiated, radiation-sensitive recording materials
US6649319B2 (en) * 2001-06-11 2003-11-18 Kodak Polychrome Graphics Llc Method of processing lithographic printing plate precursors
JP2004077590A (ja) * 2002-08-12 2004-03-11 Konica Minolta Holdings Inc 感光性平版印刷版の現像液及び処理方法
JP2004094154A (ja) * 2002-09-04 2004-03-25 Konica Minolta Holdings Inc 感光性平版印刷版材料及び該平版印刷版材料の現像処理方法
JP4026763B2 (ja) * 2003-02-04 2007-12-26 コダックグラフィックコミュニケーションズ株式会社 平版印刷版原版および製版方法
JP4276468B2 (ja) * 2003-05-14 2009-06-10 富士フイルム株式会社 感光性平版印刷版用現像液及び平版印刷版の製版方法
DE102004041942B3 (de) * 2004-08-30 2006-03-30 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Verfahren zur Herstellung einer Lithographie-Druckplatte
ES2320561T3 (es) * 2005-11-18 2009-05-25 Agfa Graphics N.V. Metodo para fabricar una plancha de impresion litografica.

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102486609A (zh) * 2010-12-01 2012-06-06 第一毛织株式会社 应用于彩色滤光片的光敏性树脂组合物及使用其的彩色滤光片
US8617796B2 (en) 2010-12-01 2013-12-31 Cheil Industries Inc. Photosensitive resin composition for color filter and color filter using the same
CN102486609B (zh) * 2010-12-01 2014-10-08 第一毛织株式会社 应用于彩色滤光片的光敏性树脂组合物及使用其的彩色滤光片
CN103229106A (zh) * 2010-12-03 2013-07-31 伊斯曼柯达公司 显影剂和其用于制备平版印刷版的用途
CN104136996A (zh) * 2012-02-29 2014-11-05 富士胶片株式会社 平版印刷版原版及平版印刷版的制造方法
CN103665369A (zh) * 2012-09-14 2014-03-26 中国科学院兰州化学物理研究所 一种聚乙二醇功能化多金属氧酸盐离子液体及其制备方法
US9069132B2 (en) 2012-12-26 2015-06-30 Cheil Industries Inc. Photosensitive resin composition for light blocking layer and light blocking layer using the same

Also Published As

Publication number Publication date
US20090202948A1 (en) 2009-08-13
EP1903399A1 (en) 2008-03-26
CN101517493B (zh) 2012-01-11
WO2008034592A1 (en) 2008-03-27
EP1903399B1 (en) 2009-10-21
JP2010504543A (ja) 2010-02-12
DE602006009936D1 (de) 2009-12-03
US8507181B2 (en) 2013-08-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101517493B (zh) 用于平版印刷版的显影和封印的方法
CN101784961B (zh) 采用含亲水性聚合物的显影剂溶液对平版印刷版的冲洗
CN102483588B (zh) 用于在平版印版的单步冲洗之后干燥的方法和装置
CN101467104B (zh) 带有罩面层的光致聚合物印刷版的冲洗方法
CN101305322B (zh) 制作平版印刷印版的方法
CN1984778B (zh) 阴片热敏平版印刷版前体的制备方法
CN101375210B (zh) 制作平版印刷印版的方法
CN101322076B (zh) 制作平版印刷印版的方法
EP2855152B1 (en) A lithographic printing plate precursor
CN101331433B (zh) 制作平版印刷印版的方法
CN101861547B (zh) 制造平版印刷版的方法
CN101305324B (zh) 制作平版印刷印版的方法
CN101809504A (zh) 用于制作平版印刷版的方法
CN101390018B (zh) 制造平版印版的方法
CN105960335A (zh) 平版印刷版原版及其制造方法、平版印刷版的制版方法以及印刷方法
CN101331432A (zh) 制作平板印刷印版的方法
CN102460308B (zh) 制备具有增强的对比度的平版印版的方法
CN102227685A (zh) 用于改善平版印刷版的成像和非成像区域的划痕敏感性的具有纳米颗粒的上胶组合物
CN101868358A (zh) 用整理溶液中的亲水聚合物处理平版印刷板
JP4526346B2 (ja) 感光性平版印刷版材料
CN101341026B (zh) 制造平版印版的方法
JP2007139840A (ja) 光重合性組成物および感光性平版印刷版材料
CN103415808A (zh) 平版印刷版原版和用于制备平版印刷版的方法
JP4895893B2 (ja) 現像液組成物
JP2005275032A (ja) 感光性平版印刷版

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20120111

Termination date: 20160918

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee