CN101467104B - 带有罩面层的光致聚合物印刷版的冲洗方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 43
- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims description 8
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims abstract description 57
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 46
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 46
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 86
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 77
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 38
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 claims description 21
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 21
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 19
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 16
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 15
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 claims description 14
- 150000003077 polyols Chemical group 0.000 claims description 14
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 13
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 claims description 12
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 12
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 11
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 claims description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 9
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 claims description 8
- 229920001353 Dextrin Polymers 0.000 claims description 7
- 239000004375 Dextrin Substances 0.000 claims description 7
- 229920000881 Modified starch Polymers 0.000 claims description 7
- 239000004599 antimicrobial Substances 0.000 claims description 7
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims description 7
- 235000019425 dextrin Nutrition 0.000 claims description 7
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 claims description 7
- 235000019426 modified starch Nutrition 0.000 claims description 7
- 150000005846 sugar alcohols Chemical class 0.000 claims description 7
- 239000002671 adjuvant Substances 0.000 claims description 4
- 239000012928 buffer substance Substances 0.000 claims description 4
- 230000006835 compression Effects 0.000 claims description 3
- 238000007906 compression Methods 0.000 claims description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 77
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 43
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 30
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 29
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 28
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 23
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 22
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 22
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 20
- 239000002585 base Substances 0.000 description 19
- 238000011161 development Methods 0.000 description 19
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 19
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 19
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 18
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 18
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 17
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 16
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 description 15
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 14
- 239000010408 film Substances 0.000 description 14
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 13
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 13
- 159000000000 sodium salts Chemical group 0.000 description 13
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 12
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 12
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 12
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 12
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 12
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 11
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 10
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 10
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 10
- 125000002837 carbocyclic group Chemical group 0.000 description 9
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 9
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 8
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 8
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 8
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 7
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 7
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 7
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 7
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 7
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 7
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 6
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 6
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 6
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 6
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 6
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerol Natural products OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 5
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 5
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 5
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 5
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 4
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 4
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 4
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000001118 alkylidene group Chemical group 0.000 description 4
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005030 aluminium foil Substances 0.000 description 4
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 4
- 125000000058 cyclopentadienyl group Chemical group C1(=CC=CC1)* 0.000 description 4
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 4
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 4
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229960000367 inositol Drugs 0.000 description 4
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 4
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 4
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004328 sodium tetraborate Substances 0.000 description 4
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 4
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 4
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 1H-pyrrole Natural products C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-M 2-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC1=CC=CC=C1S([O-])(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZXTHWIZHGLNEPG-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-4,5-dihydro-1,3-oxazole Chemical compound O1CCN=C1C1=CC=CC=C1 ZXTHWIZHGLNEPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YYPNJNDODFVZLE-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-2-enoic acid Chemical compound CC(C)=CC(O)=O YYPNJNDODFVZLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 244000215068 Acacia senegal Species 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 3
- 241001597008 Nomeidae Species 0.000 description 3
- 206010034960 Photophobia Diseases 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 3
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 3
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 3
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004925 dihydropyridyl group Chemical class N1(CC=CC=C1)* 0.000 description 3
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 3
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Natural products C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 3
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N formaldehyde Substances O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 3
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 3
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 3
- 208000013469 light sensitivity Diseases 0.000 description 3
- HEBKCHPVOIAQTA-UHFFFAOYSA-N meso ribitol Natural products OCC(O)C(O)C(O)CO HEBKCHPVOIAQTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SQDFHQJTAWCFIB-UHFFFAOYSA-N n-methylidenehydroxylamine Chemical compound ON=C SQDFHQJTAWCFIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 150000003009 phosphonic acids Chemical class 0.000 description 3
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 3
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 3
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 3
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 3
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 3
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 3
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N pyridine Substances C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical group 0.000 description 2
- PFEFOYRSMXVNEL-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tritert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 PFEFOYRSMXVNEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOC(=O)C=C LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTUVQQKHBMGYEH-UHFFFAOYSA-N 2-(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC=NC=N1 QTUVQQKHBMGYEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940058020 2-amino-2-methyl-1-propanol Drugs 0.000 description 2
- YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-ol Chemical compound CCCCC(CC)CO YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ILKNNHYSEPMBSD-UHFFFAOYSA-N 4-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1.COC1=CC=C(O)C=C1 ILKNNHYSEPMBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 2
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PQMOXTJVIYEOQL-UHFFFAOYSA-N Cumarin Natural products CC(C)=CCC1=C(O)C(C(=O)C(C)CC)=C(O)C2=C1OC(=O)C=C2CCC PQMOXTJVIYEOQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000858 Cyclodextrin Polymers 0.000 description 2
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 2
- FBPFZTCFMRRESA-KAZBKCHUSA-N D-altritol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-KAZBKCHUSA-N 0.000 description 2
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 2
- QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N Disodium Chemical compound [Na][Na] QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Natural products NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 240000003183 Manihot esculenta Species 0.000 description 2
- 235000016735 Manihot esculenta subsp esculenta Nutrition 0.000 description 2
- FSOGIJPGPZWNGO-UHFFFAOYSA-N Meomammein Natural products CCC(C)C(=O)C1=C(O)C(CC=C(C)C)=C(O)C2=C1OC(=O)C=C2CCC FSOGIJPGPZWNGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UTGQNNCQYDRXCH-UHFFFAOYSA-N N,N'-diphenyl-1,4-phenylenediamine Chemical compound C=1C=C(NC=2C=CC=CC=2)C=CC=1NC1=CC=CC=C1 UTGQNNCQYDRXCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical group CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical class N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- OUUQCZGPVNCOIJ-UHFFFAOYSA-M Superoxide Chemical compound [O-][O] OUUQCZGPVNCOIJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BGNXCDMCOKJUMV-UHFFFAOYSA-N Tert-Butylhydroquinone Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(O)=CC=C1O BGNXCDMCOKJUMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 240000008042 Zea mays Species 0.000 description 2
- 235000005824 Zea mays ssp. parviglumis Nutrition 0.000 description 2
- 235000002017 Zea mays subsp mays Nutrition 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005210 alkyl ammonium group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000008052 alkyl sulfonates Chemical class 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- CBTVGIZVANVGBH-UHFFFAOYSA-N aminomethyl propanol Chemical compound CC(C)(N)CO CBTVGIZVANVGBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 2
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 2
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 2
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 2
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 2
- 150000003851 azoles Chemical class 0.000 description 2
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- 150000004054 benzoquinones Chemical class 0.000 description 2
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 2
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007767 bonding agent Substances 0.000 description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 2
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 2
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 2
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 2
- 239000004359 castor oil Substances 0.000 description 2
- 235000019438 castor oil Nutrition 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- HGAZMNJKRQFZKS-UHFFFAOYSA-N chloroethene;ethenyl acetate Chemical compound ClC=C.CC(=O)OC=C HGAZMNJKRQFZKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 2
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 2
- 238000007640 computer printing Methods 0.000 description 2
- 235000005822 corn Nutrition 0.000 description 2
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 2
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O diazynium Chemical compound [NH+]#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical class C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 150000008376 fluorenones Chemical class 0.000 description 2
- ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N glycerol triricinoleate Natural products CCCCCC[C@@H](O)CC=CCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](COC(=O)CCCCCCCC=CC[C@@H](O)CCCCCC)OC(=O)CCCCCCCC=CC[C@H](O)CCCCCC ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 2
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 2
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 2
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 2
- 150000002972 pentoses Chemical class 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 2
- 229920002006 poly(N-vinylimidazole) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920002503 polyoxyethylene-polyoxypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 125000004309 pyranyl group Chemical class O1C(C=CC=C1)* 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003921 pyrrolotriazines Chemical class 0.000 description 2
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 2
- XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N quinoxaline Chemical compound N1=CC=NC2=CC=CC=C21 XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- HFHDHCJBZVLPGP-UHFFFAOYSA-N schardinger α-dextrin Chemical compound O1C(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(O)C2O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC2C(O)C(O)C1OC2CO HFHDHCJBZVLPGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N sulfonic acid Chemical compound OS(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 125000005537 sulfoxonium group Chemical group 0.000 description 2
- NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001003 triarylmethane dye Substances 0.000 description 2
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 2
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- PSXVVEFTUBMHJR-UHFFFAOYSA-N (1,3-dioxoisoindol-2-yl) benzoate Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)N1OC(=O)C1=CC=CC=C1 PSXVVEFTUBMHJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHOWDZOIZKMVAI-UHFFFAOYSA-N (2-chlorophenyl)(4-chlorophenyl)pyrimidin-5-ylmethanol Chemical compound C=1N=CN=CC=1C(C=1C(=CC=CC=1)Cl)(O)C1=CC=C(Cl)C=C1 NHOWDZOIZKMVAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIZLYZVAYZQVPG-UHFFFAOYSA-N (3-bromo-2-fluorophenyl)methanol Chemical compound OCC1=CC=CC(Br)=C1F LIZLYZVAYZQVPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLECMSNCZUMKLM-UHFFFAOYSA-N (4-ethenylphenyl)methanol Chemical compound OCC1=CC=C(C=C)C=C1 CLECMSNCZUMKLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006700 (C1-C6) alkylthio group Chemical group 0.000 description 1
- ZXKXJHAOUFHNAS-FVGYRXGTSA-N (S)-fenfluramine hydrochloride Chemical compound [Cl-].CC[NH2+][C@@H](C)CC1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 ZXKXJHAOUFHNAS-FVGYRXGTSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUWCWMOCWKCZTA-UHFFFAOYSA-N 1,2-thiazol-4-one Chemical class O=C1CSN=C1 VUWCWMOCWKCZTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNGDWRXWKFWCJY-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dihydropyridine Chemical group C1C=CNC=C1 YNGDWRXWKFWCJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAUGBVWVWDTCJV-UHFFFAOYSA-N 1-(prop-2-enoylamino)propane-1-sulfonic acid Chemical compound CCC(S(O)(=O)=O)NC(=O)C=C IAUGBVWVWDTCJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGNSDRMLWYNUED-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexyl-4-[4-[4-(4-cyclohexylcyclohexyl)cyclohexyl]cyclohexyl]cyclohexane Chemical group C1CCCCC1C1CCC(C2CCC(CC2)C2CCC(CC2)C2CCC(CC2)C2CCCCC2)CC1 OGNSDRMLWYNUED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylimidazole Chemical class C=CN1C=CN=C1 OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TURGQPDWYFJEDY-UHFFFAOYSA-N 1-hydroperoxypropane Chemical compound CCCOO TURGQPDWYFJEDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFBBKYQYNPNMAT-UHFFFAOYSA-N 1h-1,2,4-triazol-1-ium-3-thiolate Chemical compound SC=1N=CNN=1 AFBBKYQYNPNMAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKQCQCXUVZBOCL-UHFFFAOYSA-N 1h-pyrrole-2-sulfonic acid Chemical class OS(=O)(=O)C1=CC=CN1 KKQCQCXUVZBOCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZBSIABKXVPBFY-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)CO GZBSIABKXVPBFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNTWKPAKVQFCCF-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydro-1h-triazole Chemical compound N1NC=CN1 SNTWKPAKVQFCCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEPOHXYIFQMVHW-XOZOLZJESA-N 2,3-dihydroxybutanedioic acid (2S,3S)-3,4-dimethyl-2-phenylmorpholine Chemical compound OC(C(O)C(O)=O)C(O)=O.C[C@H]1[C@@H](OCCN1C)c1ccccc1 VEPOHXYIFQMVHW-XOZOLZJESA-N 0.000 description 1
- KMZHZAAOEWVPSE-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxypropyl acetate Chemical compound CC(=O)OCC(O)CO KMZHZAAOEWVPSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLUKQUGVTITNSY-UHFFFAOYSA-N 2,6-di-tert-butyl-4-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 SLUKQUGVTITNSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PANIBUVGEJDJGE-UHFFFAOYSA-N 2-(2-sulfophenoxy)benzenesulfonic acid Polymers OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1OC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O PANIBUVGEJDJGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDCARMUOSMFFI-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl-(2-hydroxyethyl)amino]acetic acid Chemical compound OCCN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O URDCARMUOSMFFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEQOJEGTZCTHCF-UHFFFAOYSA-N 2-amino-1-phenylethanone Chemical compound NCC(=O)C1=CC=CC=C1 HEQOJEGTZCTHCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminophenol Chemical compound NC1=CC=CC=C1O CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXNSZCSYBXHETP-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-n-(hydroxymethyl)acetamide Chemical compound OCNC(=O)CCl TXNSZCSYBXHETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQQVCMQJDJSRFU-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.CCC(CO)(CO)CO IQQVCMQJDJSRFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-(7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-trien-2-yl)-2-phenylethanone Chemical compound OC(C(=O)c1cccc2Oc12)c1ccccc1 NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWVHTXAYIKBMEE-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyacetophenone Chemical group OCC(=O)C1=CC=CC=C1 ZWVHTXAYIKBMEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEHJHHHUIGULEI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethylphosphonic acid Chemical class OCCP(O)(O)=O SEHJHHHUIGULEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVRYCPZDHKLBNR-UHFFFAOYSA-N 2-mercaptoindole Chemical class C1=CC=C2NC(S)=CC2=C1 FVRYCPZDHKLBNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INEWUCPYEUEQTN-UHFFFAOYSA-N 3-(cyclohexylamino)-2-hydroxy-1-propanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC(O)CNC1CCCCC1 INEWUCPYEUEQTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDOUZKKFHVEKRI-UHFFFAOYSA-N 3-bromo-n-[(prop-2-enoylamino)methyl]propanamide Chemical compound BrCCC(=O)NCNC(=O)C=C CDOUZKKFHVEKRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DYUMBFTYRJMAFK-UHFFFAOYSA-N 3-cyano-2-pyridone Chemical class OC1=NC=CC=C1C#N DYUMBFTYRJMAFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHJDTUHLRPOPSK-UHFFFAOYSA-N 4-amino-4-oxo-3-sulfobutanoic acid Chemical class NC(=O)C(S(O)(=O)=O)CC(O)=O WHJDTUHLRPOPSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxystyrene Chemical class OC1=CC=C(C=C)C=C1 FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKTORXLUQLQJCM-UHFFFAOYSA-N 4-phosphonobutylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CCCCP(O)(O)=O JKTORXLUQLQJCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHPQWRBYOIRBIT-UHFFFAOYSA-N 4-tert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 QHPQWRBYOIRBIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFNMUZCFSDMZPQ-GHXNOFRVSA-N 7-[(z)-3-methyl-4-(4-methyl-5-oxo-2h-furan-2-yl)but-2-enoxy]chromen-2-one Chemical compound C=1C=C2C=CC(=O)OC2=CC=1OC/C=C(/C)CC1OC(=O)C(C)=C1 CFNMUZCFSDMZPQ-GHXNOFRVSA-N 0.000 description 1
- WPDAVTSOEQEGMS-UHFFFAOYSA-N 9,10-dihydroanthracene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3CC2=C1 WPDAVTSOEQEGMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001270131 Agaricus moelleri Species 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FBXFSONDSA-N Allitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FBXFSONDSA-N 0.000 description 1
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-M Aminoacetate Chemical compound NCC([O-])=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonium chloride Substances [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000945 Amylopectin Polymers 0.000 description 1
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- 125000002853 C1-C4 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920002825 CELVOL ® 203 Polymers 0.000 description 1
- 239000008000 CHES buffer Substances 0.000 description 1
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M Carbamate Chemical compound NC([O-])=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 241001070941 Castanea Species 0.000 description 1
- 235000014036 Castanea Nutrition 0.000 description 1
- 229920001747 Cellulose diacetate Polymers 0.000 description 1
- DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N Cellulose propionate Chemical compound CCC(=O)OCC1OC(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C1OC1C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(COC(=O)CC)O1 DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K Citrate Chemical compound [O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002261 Corn starch Polymers 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-IVMDWMLBSA-N D-allopyranose Chemical compound OC[C@H]1OC(O)[C@H](O)[C@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-IVMDWMLBSA-N 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-QTVWNMPRSA-N D-mannopyranose Chemical compound OC[C@H]1OC(O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-QTVWNMPRSA-N 0.000 description 1
- HMFHBZSHGGEWLO-SOOFDHNKSA-N D-ribofuranose Chemical compound OC[C@H]1OC(O)[C@H](O)[C@@H]1O HMFHBZSHGGEWLO-SOOFDHNKSA-N 0.000 description 1
- QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N Diacetyl Chemical compound CC(=O)C(C)=O QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Divinylene sulfide Natural products C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000233866 Fungi Species 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N Glucose Natural products OC[C@H]1OC(O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N 0.000 description 1
- 239000004347 Glyceryl monoacetate Substances 0.000 description 1
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMQAIKKJIZYHQC-UHFFFAOYSA-M Milling yellow 3G Chemical compound ClC=1C=CC(=C(C=1)S(=O)(=O)[O-])N1N=C(C(=C1O)N=NC1=CC=C(C=C1)OS(=O)(=O)C1=CC=C(C=C1)C)C.[Na+] UMQAIKKJIZYHQC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M N,N,N-Trimethylmethanaminium chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)C OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N N,N-bis{2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl}glycine Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(=O)O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQVWYOYUZDUNRW-UHFFFAOYSA-N N-Phenyl-1-naphthylamine Chemical class C=1C=CC2=CC=CC=C2C=1NC1=CC=CC=C1 XQVWYOYUZDUNRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SREKYKXYSQMOIB-UHFFFAOYSA-N N-carbamoylsarcosine Chemical compound NC(=O)N(C)CC(O)=O SREKYKXYSQMOIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKWKNSIESPFAQN-UHFFFAOYSA-N N-cyclohexyl-2-aminoethanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CCNC1CCCCC1 MKWKNSIESPFAQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N N-phenylglycine Chemical compound OC(=O)CNC1=CC=CC=C1 NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 239000004218 Orcein Substances 0.000 description 1
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N Resorcinol Chemical group OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVWLUVNSQYXYBE-UHFFFAOYSA-N Ribitol Natural products OCC(C)C(O)C(O)CO JVWLUVNSQYXYBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYMYPHUHKUWMLA-LMVFSUKVSA-N Ribose Natural products OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)C=O PYMYPHUHKUWMLA-LMVFSUKVSA-N 0.000 description 1
- 240000004808 Saccharomyces cerevisiae Species 0.000 description 1
- 241000209056 Secale Species 0.000 description 1
- 235000007238 Secale cereale Nutrition 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- 244000061456 Solanum tuberosum Species 0.000 description 1
- 235000002595 Solanum tuberosum Nutrition 0.000 description 1
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 description 1
- 229930006000 Sucrose Natural products 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000186561 Swietenia macrophylla Species 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 235000021307 Triticum Nutrition 0.000 description 1
- 244000098338 Triticum aestivum Species 0.000 description 1
- 229920004482 WACKER® Polymers 0.000 description 1
- TVXBFESIOXBWNM-UHFFFAOYSA-N Xylitol Natural products OCCC(O)C(O)C(O)CCO TVXBFESIOXBWNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APZPSKFMSWZPKL-UHFFFAOYSA-N [3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(CO)CO APZPSKFMSWZPKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLNFINLXAKOTJB-UHFFFAOYSA-N [As].[Se] Chemical compound [As].[Se] QLNFINLXAKOTJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDONNITUKPKTIG-UHFFFAOYSA-N [Nitrilotris(methylene)]trisphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CN(CP(O)(O)=O)CP(O)(O)=O YDONNITUKPKTIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFEPDPYXKGSTNK-UHFFFAOYSA-N [OH-].[NH4+].CC(CO)(C)C Chemical compound [OH-].[NH4+].CC(CO)(C)C GFEPDPYXKGSTNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFCIMSXHQSIHQW-UHFFFAOYSA-N [O].[P] Chemical compound [O].[P] AFCIMSXHQSIHQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-ONCXSQPRSA-N abietic acid Chemical compound C([C@@H]12)CC(C(C)C)=CC1=CC[C@@H]1[C@]2(C)CCC[C@@]1(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-ONCXSQPRSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 239000000999 acridine dye Substances 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- PNNNRSAQSRJVSB-BXKVDMCESA-N aldehydo-L-rhamnose Chemical compound C[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)C=O PNNNRSAQSRJVSB-BXKVDMCESA-N 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008051 alkyl sulfates Chemical class 0.000 description 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- HMFHBZSHGGEWLO-UHFFFAOYSA-N alpha-D-Furanose-Ribose Natural products OCC1OC(O)C(O)C1O HMFHBZSHGGEWLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-PHYPRBDBSA-N alpha-D-galactose Chemical compound OC[C@H]1O[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-PHYPRBDBSA-N 0.000 description 1
- SRBFZHDQGSBBOR-LECHCGJUSA-N alpha-D-xylose Chemical compound O[C@@H]1CO[C@H](O)[C@H](O)[C@H]1O SRBFZHDQGSBBOR-LECHCGJUSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001409 amidines Chemical class 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- 230000002421 anti-septic effect Effects 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- PYMYPHUHKUWMLA-WDCZJNDASA-N arabinose Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)C=O PYMYPHUHKUWMLA-WDCZJNDASA-N 0.000 description 1
- PYMYPHUHKUWMLA-UHFFFAOYSA-N arabinose Natural products OCC(O)C(O)C(O)C=O PYMYPHUHKUWMLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Substances [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- HXCHRJMJMALFHP-UHFFFAOYSA-N azanium;ethanol;hydroxide Chemical compound N.O.CCO HXCHRJMJMALFHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- QEYWFXYXWMGDGV-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2-disulfonic acid;sodium Chemical compound [Na].OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O QEYWFXYXWMGDGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N benzil Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005605 benzo group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 1
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 229960004217 benzyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- SRBFZHDQGSBBOR-UHFFFAOYSA-N beta-D-Pyranose-Lyxose Natural products OC1COC(O)C(O)C1O SRBFZHDQGSBBOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-VFUOTHLCSA-N beta-D-glucose Chemical compound OC[C@H]1O[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-VFUOTHLCSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 1
- JRZCGMGYTDEOII-UHFFFAOYSA-N butanedioic acid;2-sulfobutanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCC(O)=O.OC(=O)CC(C(O)=O)S(O)(=O)=O JRZCGMGYTDEOII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000014121 butter Nutrition 0.000 description 1
- 150000001717 carbocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 229920003064 carboxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229920003065 carboxyethylmethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 1
- 229920006218 cellulose propionate Polymers 0.000 description 1
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 235000019646 color tone Nutrition 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 235000009508 confectionery Nutrition 0.000 description 1
- 230000021615 conjugation Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000008120 corn starch Substances 0.000 description 1
- 229940099112 cornstarch Drugs 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N coumarin Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M crystal violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1[C+](C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 125000001485 cycloalkadienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- CKJMHSMEPSUICM-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl nitroxide Chemical class CC(C)(C)N([O])C(C)(C)C CKJMHSMEPSUICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005266 diarylamine group Chemical group 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 235000019329 dioctyl sodium sulphosuccinate Nutrition 0.000 description 1
- KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfone Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBGACYCWOALKCS-UHFFFAOYSA-L disodium 3-[(2,4-dimethylphenyl)diazenyl]-4-hydroxynaphthalene-2,7-disulfonate Chemical compound CC1=CC(=C(C=C1)N=NC2=C(C=C3C=C(C=CC3=C2[O-])S(=O)(=O)[O-])S(=O)(=O)O)C.[Na+].[Na+] JBGACYCWOALKCS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UQGFMSUEHSUPRD-UHFFFAOYSA-N disodium;3,7-dioxido-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3,5,7-tetraborabicyclo[3.3.1]nonane Chemical compound [Na+].[Na+].O1B([O-])OB2OB([O-])OB1O2 UQGFMSUEHSUPRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSSMQLIMSVAUDK-UHFFFAOYSA-L disodium;5-[(4-ethoxyphenyl)diazenyl]-2-[4-[(4-ethoxyphenyl)diazenyl]-2-sulfonatophenyl]sulfanylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].C1=CC(OCC)=CC=C1N=NC(C=C1S([O-])(=O)=O)=CC=C1SC1=CC=C(N=NC=2C=CC(OCC)=CC=2)C=C1S([O-])(=O)=O VSSMQLIMSVAUDK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 1
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N endo-cyclopentadiene Natural products C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-N ethanesulfonic acid Chemical class CCS(O)(=O)=O CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTWTYVWXUKTLCP-UHFFFAOYSA-L ethenyl-dioxido-oxo-$l^{5}-phosphane Chemical compound [O-]P([O-])(=O)C=C ZTWTYVWXUKTLCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000001207 fluorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 239000003205 fragrance Substances 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-GUCUJZIJSA-N galactitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-GUCUJZIJSA-N 0.000 description 1
- 229930182830 galactose Natural products 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000008103 glucose Substances 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 150000004676 glycans Chemical class 0.000 description 1
- 235000019442 glyceryl monoacetate Nutrition 0.000 description 1
- 235000013905 glycine and its sodium salt Nutrition 0.000 description 1
- 230000003370 grooming effect Effects 0.000 description 1
- LHGVFZTZFXWLCP-UHFFFAOYSA-N guaiacol Chemical compound COC1=CC=CC=C1O LHGVFZTZFXWLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002357 guanidines Chemical class 0.000 description 1
- 229940083094 guanine derivative acting on arteriolar smooth muscle Drugs 0.000 description 1
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 150000002402 hexoses Chemical class 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000413 hydrolysate Substances 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 229920013821 hydroxy alkyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Substances C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- JGIDSJGZGFYYNX-YUAHOQAQSA-N indian yellow Chemical compound O1[C@H](C(O)=O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1OC1=CC=C(OC=2C(=C(O)C=CC=2)C2=O)C2=C1 JGIDSJGZGFYYNX-YUAHOQAQSA-N 0.000 description 1
- HOBCFUWDNJPFHB-UHFFFAOYSA-N indolizine Chemical compound C1=CC=CN2C=CC=C21 HOBCFUWDNJPFHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001802 infusion Methods 0.000 description 1
- 230000000266 injurious effect Effects 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 125000006303 iodophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N isocrotonic acid Chemical compound C\C=C/C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 239000002648 laminated material Substances 0.000 description 1
- 235000012204 lemonade/lime carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZXGZAJMDLJLMF-UHFFFAOYSA-N methylaminomethanol Chemical compound CNCO IZXGZAJMDLJLMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- VYHUMZYFJVMWRC-UHFFFAOYSA-N n-(2-hydroxyethyl)-n-methylprop-2-enamide Chemical compound OCCN(C)C(=O)C=C VYHUMZYFJVMWRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZGCWICUHCMQAR-UHFFFAOYSA-N n-(3-hydroxypropyl)-n-methylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)N(C)CCCO ZZGCWICUHCMQAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZZYXUGECOQHPU-UHFFFAOYSA-M n-octyl sulfate Chemical compound CCCCCCCCOS([O-])(=O)=O UZZYXUGECOQHPU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N nitrilotriacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 125000006574 non-aromatic ring group Chemical group 0.000 description 1
- SBOJXQVPLKSXOG-UHFFFAOYSA-N o-amino-hydroxylamine Chemical class NON SBOJXQVPLKSXOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940067739 octyl sulfate Drugs 0.000 description 1
- 235000019248 orcein Nutrition 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- KTFFTVGPHKWIOK-UHFFFAOYSA-N oxalate;phenylazanium Chemical compound OC(=O)C(O)=O.NC1=CC=CC=C1.NC1=CC=CC=C1 KTFFTVGPHKWIOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004893 oxazines Chemical class 0.000 description 1
- 238000006025 oxidative dimerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002924 oxiranes Chemical group 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N pentamethylene Natural products C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003330 pentetic acid Drugs 0.000 description 1
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000001476 phosphono group Chemical group [H]OP(*)(=O)O[H] 0.000 description 1
- 125000005499 phosphonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007539 photo-oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007540 photo-reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920000412 polyarylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000151 polyglycol Polymers 0.000 description 1
- 239000010695 polyglycol Substances 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001282 polysaccharide Polymers 0.000 description 1
- 239000005017 polysaccharide Substances 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTECDUFMBMSHKR-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl prop-2-enoate Chemical compound C=CCOC(=O)C=C QTECDUFMBMSHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 150000003233 pyrroles Chemical class 0.000 description 1
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical compound C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000005510 radiation hardening Methods 0.000 description 1
- 238000007348 radical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 239000001022 rhodamine dye Substances 0.000 description 1
- HEBKCHPVOIAQTA-ZXFHETKHSA-N ribitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO HEBKCHPVOIAQTA-ZXFHETKHSA-N 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000004513 sizing Methods 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- COEZWFYORILMOM-UHFFFAOYSA-M sodium 4-[(2,4-dihydroxyphenyl)diazenyl]benzenesulfonate Chemical compound [Na+].OC1=CC(O)=CC=C1N=NC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 COEZWFYORILMOM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- AZLXCBPKSXFMET-UHFFFAOYSA-M sodium 4-[(4-sulfophenyl)diazenyl]naphthalen-1-olate Chemical compound [Na+].C12=CC=CC=C2C(O)=CC=C1N=NC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 AZLXCBPKSXFMET-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MSXHSNHNTORCAW-GGLLEASOSA-M sodium;(2s,3s,4s,5r,6s)-3,4,5,6-tetrahydroxyoxane-2-carboxylate Chemical compound [Na+].O[C@H]1O[C@H](C([O-])=O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H]1O MSXHSNHNTORCAW-GGLLEASOSA-M 0.000 description 1
- MLVYOYVMOZFHIU-UHFFFAOYSA-M sodium;4-[(4-anilinophenyl)diazenyl]benzenesulfonate Chemical compound [Na+].C1=CC(S(=O)(=O)[O-])=CC=C1N=NC(C=C1)=CC=C1NC1=CC=CC=C1 MLVYOYVMOZFHIU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WYLWMAWLDZBLRN-UHFFFAOYSA-M sodium;4-[3-methyl-4-[[4-methyl-3-(phenylsulfamoyl)phenyl]diazenyl]-5-oxo-4h-pyrazol-1-yl]benzenesulfonate Chemical compound [Na+].CC1=NN(C=2C=CC(=CC=2)S([O-])(=O)=O)C(=O)C1N=NC(C=1)=CC=C(C)C=1S(=O)(=O)NC1=CC=CC=C1 WYLWMAWLDZBLRN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- STZCRXQWRGQSJD-UHFFFAOYSA-M sodium;4-[[4-(dimethylamino)phenyl]diazenyl]benzenesulfonate Chemical compound [Na+].C1=CC(N(C)C)=CC=C1N=NC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 STZCRXQWRGQSJD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WOMLYDIIIDEUHC-UHFFFAOYSA-M sodium;4-chloro-3-(3-methyl-5-oxo-4-phenyldiazenyl-4h-pyrazol-1-yl)benzenesulfonate Chemical compound [Na+].CC1=NN(C=2C(=CC=C(C=2)S([O-])(=O)=O)Cl)C(=O)C1N=NC1=CC=CC=C1 WOMLYDIIIDEUHC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DXKDBQWDRGRKGC-UHFFFAOYSA-M sodium;5-chloro-2-[3-methyl-4-[[4-(4-methylphenyl)sulfonyloxyphenyl]diazenyl]-5-oxo-4h-pyrazol-1-yl]benzenesulfonate Chemical compound [Na+].CC1=NN(C=2C(=CC(Cl)=CC=2)S([O-])(=O)=O)C(=O)C1N=NC(C=C1)=CC=C1OS(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 DXKDBQWDRGRKGC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HIEHAIZHJZLEPQ-UHFFFAOYSA-M sodium;naphthalene-1-sulfonate Chemical class [Na+].C1=CC=C2C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC2=C1 HIEHAIZHJZLEPQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000012453 solvate Substances 0.000 description 1
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 230000003019 stabilising effect Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 239000005720 sucrose Substances 0.000 description 1
- SEEPANYCNGTZFQ-UHFFFAOYSA-N sulfadiazine Chemical class C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)NC1=NC=CC=N1 SEEPANYCNGTZFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUUPQKDIAURBJP-UHFFFAOYSA-N sulfinic acid Chemical compound OS=O BUUPQKDIAURBJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- UZZYXUGECOQHPU-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid monooctyl ester Natural products CCCCCCCCOS(O)(=O)=O UZZYXUGECOQHPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- 235000012756 tartrazine Nutrition 0.000 description 1
- 239000004250 tert-Butylhydroquinone Substances 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 235000019281 tert-butylhydroquinone Nutrition 0.000 description 1
- 125000005207 tetraalkylammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- 238000010023 transfer printing Methods 0.000 description 1
- 125000005270 trialkylamine group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000003628 tricarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000005209 triethanolammonium group Chemical class 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004953 trihalomethyl group Chemical group 0.000 description 1
- XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)(=O)OC1=CC=CC=C1 XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N vinylsulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=C NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001429 visible spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000007601 warm air drying Methods 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
- 239000001018 xanthene dye Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000811 xylitol Substances 0.000 description 1
- HEBKCHPVOIAQTA-SCDXWVJYSA-N xylitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO HEBKCHPVOIAQTA-SCDXWVJYSA-N 0.000 description 1
- 235000010447 xylitol Nutrition 0.000 description 1
- 229960002675 xylitol Drugs 0.000 description 1
- 229960003487 xylose Drugs 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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Abstract
描述了由包含可自由基聚合涂层和不透氧罩面层的前体制造成像的平版印刷版的方法,其特征在于罩面层的去除、显影和涂胶在单一步骤中进行。
Description
本发明涉及冲洗具有罩面层的依图像曝光平版印刷版的方法,特别是其中罩面层的去除、显影和涂胶在无任何中间洗涤步骤的情况下在单一步骤中进行的方法。
平版印刷基于油和水的不混溶性,其中图像区域优选接受油性材料或印刷油墨,非图像区域优选接受水或润版液。当适当制成的表面被水润湿并施加印刷油墨时,背景或非图像区域接受水并推斥印刷油墨,而图像区域接受印刷油墨并推斥水。图像区域中的印刷油墨随后转移到要在其上形成图像的如纸、织物之类的材料表面上。但是,通常,首先将印刷油墨转移到被称作转印布(blanket)的中间材料上,其随后将印刷油墨转移到要在其上形成图像的材料表面上;这种技术被称作胶版印刷。
常用类型的平版印刷版前体包含施加到铝基基底上的光敏涂层。该涂层可以对辐射起反应以致曝光的部分变得如此可溶以便在显影过程中除去。这种版被称作正性工作。另一方面,如果涂层的曝光部分通过辐射硬化,版被称作负性工作。在这两种情况下,留下的图像区域接受印刷油墨,即是亲油的,且非图像区域(背景)接受水,即是亲水的。图像和非图像区域之间的差异在曝光过程中发生,胶片(film)在真空下粘贴到印刷版前体上以确保良好的接触。然后借助辐射源使该版曝光,该辐射源的一部分由UV辐射构成。当使用正性版时,胶片上的与版上的图像对应的区域如此不透明以致光不会到达该版,而胶片上的与非图像区域对应的区域是透明的并允许光透过涂层,该涂层的溶解度提高。在负性版的情况下,发生相反情况:胶片上的与版上的图像对应的区域是透明的,而非图像区域不透明。透明胶片区域下方的涂层由于入射光而硬化(例如通过光致聚合),同时在显影过程中除去不受光影响的区域。因此,负性工作版的光硬化表面是亲油的并接受印刷油墨,而要被通过显影剂除去的涂层涂布的非图像区域的感光性降低并因此亲水。
或者,该版也可以在无胶片的情况下以数字方式依图像曝光。根据最近的开发,使用带有热敏层的版前体,其中通过依图像直接加热或用转化成热的红外线辐射,产生涂层的加热和未加热区域的显影剂溶解度的差异。
有时,使用水溶性聚合物作为具有氧敏涂层如可光致聚合涂层的平版印刷版前体上的临时涂层(有时被称作“罩面层”)。水溶性聚合物具有在储存、曝光过程中,特别是在曝光和进一步冲洗(显影等)之间的期间保护该涂层免受大气氧作用的功能。在此期间,临时涂层必须表现出与光敏基底的充足粘合性以便在层不撕裂的情况下确保安全操作(制造、包装、运输、曝光等)。在显影前,优选通过用水洗涤,除去罩面层。
对整洁的印刷图像而言,图像区域(即依图像留下的涂层)必须很好地接受印刷油墨,而非图像区域(即依图像曝光出的基底,如铝基底)不应该接受印刷油墨。为了保护依图像曝光出的基底,如铝基底免于出现指印、形成氧化铝、腐蚀和机械侵蚀,如划痕,在将印刷版安装在印刷机中时,即为了保持和可能改进非图像区域的亲水性,通常对显影的印刷版施以“涂胶”处理(也称作“精加工”)。在储存之前或在印刷机长期静置之前将版涂胶确保非图像区域保持亲水。在印刷开始时,涂胶溶液必须能够用润版液从版上迅速洗除,以便图像区域能够立即接受油墨。涂胶溶液长期已知并例如公开在DE 29 26 645、DE 20 42 217 A1、US 4,880,555 A1、US 4,033,919 A1和US 4,162,920 A1中。
现有技术中所述的涂胶组合物的共同点在于,它们包含水溶性胶体或粘合剂,如阿拉伯树胶、聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯烷酮、羧甲基纤维素、山梨醇或聚丙烯酰胺,且它们通常调节至pH值<6。在DE 10345388A1中公开了用优选含有tetraborat的水溶性淀粉或淀粉衍生物的碱性溶液涂胶;在涂胶步骤之前进行洗除罩面层和显影的单独步骤。
具有罩面层的平版印刷版前体的冲洗是耗时的并产生大量废水,因为在曝光和任选预热步骤后通常需要下列步骤。
(1)通过用水洗涤来除去罩面层
(2)通过用水性碱性显影剂处理来除去非图像区域
(3)用水漂洗
(4)用通常酸性的涂胶组合物涂胶。
在US 6,482,578 B2、US 6,383,717 B1和WO 02/31599 A2中描述了负性工作前体的水性显影剂;但是,在漂洗显影的版后进行显影和涂胶之前,在处理器的预洗段中洗除罩面层。
适用于负性工作前体的显影剂也描述在US 4,370,406和US4,350,756中;但是这些专利不涉及具有罩面层的前体。在US 5,155,011中,描述了带有罩面层的再生层用的水性显影剂,其包含有机溶剂、碱试剂、阴离子型表面活性剂、链烷酸、乳化剂、络合剂和缓冲物质;该专利没有涉及涂胶。
在GB 1,148,362中,公开了带有罩面层的可光致聚合的元件;该元件通过用显影剂处理曝光的元件,用水漂洗并任选涂胶来冲洗。US2003/0165777 A1和US 2004/0013968 A1公开了用于负性前体的非碱性的水性显影剂。
对于无罩面工艺的前体,在现有技术中描述了同时显影和涂胶的方法。例如,DE 25 30 502 A1公开了用于可光固化层的同时显影和涂胶的方法和装置;所用液体包含水、有机溶剂和水溶性胶体。其中没有公开带有罩面层的负性前体的处理。US 4,200,688涉及可用于除去非图像区域和用于在显影后保留非图像部分的具有水相和水不混溶相的乳状液;这些乳状液容易在加载过程中变不稳定,且没有描述带有罩面层的负性前体。在US 4,381,340中,描述了可用于同时显影和整理(finishing)的包含2-丙氧基乙醇、HLB值大于17的非离子型表面活性剂、无机盐和聚合成膜剂的组合物;没有描述带有罩面层的前体的处理。WO02/101469描述了用包含特定多羟基化合物的水性碱性显影-涂胶溶液的前体冲洗;没有描述带有罩面层的负性工作前体。在US 4,873,174中公开了含有特定醇、磷酸盐、特定聚合物、柠檬酸或苯甲酸、辛基硫酸盐、苯甲酸盐、柠檬酸盐和溶剂合物作为必要组分的显影和整理组合物;没有公开带有罩面层的前体。在WO 2005/111727 A1中公开了用pH值最多9的胶料溶液显影带有可光致聚合层的前体。
本发明的目的是提供简化具有罩面层的负性工作前体的冲洗并由此节省时间和金钱(由于使用小和便宜的处理机)并减少废水量同时不影响可显影性、光敏性和卷起(roll up)(也称作启动(start up))的方法。
令人惊讶地通过下列方法实现该目的,该方法包括
(a)用可自由基聚合涂层对其敏感的辐射依图像曝光负性工作的平版印刷版前体,该前体包含
(i)具有亲水表面的基底
(ii)可自由基聚合涂层和
(iii)不透氧的水溶性或分散性罩面层,
(b)用水性碱性冲洗液处理依图像曝光的前体,该冲洗液包含
(i)水
(ii)至少一种表面活性剂
(iii)至少一种水溶性成膜亲水聚合物
(iv)至少一种碱性试剂,其量足以获得pH 9.5至14,和
(v)任选一种或多种选自有机溶剂、抗微生物剂、络合剂、缓冲物质、滤光染料、防沫剂、防腐蚀剂和自由基抑制剂的添加剂,
(c)从步骤(b)中获得的处理过的前体中除去任何过量的冲洗液,
(d)任选干燥,
(e)任选烘烤,
(f)将步骤(c)、(d)或(e)中获得的前体安装在印刷机上,然后使其同时或随后与润版液和印刷油墨接触,
前提是在步骤(a)至(f)任意之间没有洗涤步骤,进一步前提是步骤(c)不是洗涤步骤且进一步前提是在步骤(b)后没有涂胶步骤。
负性工作的平版印刷版前体
根据本发明的方法成像的前体是负性工作的并包含具有亲水表面的基底、可自由基聚合涂层和不透氧罩面层。
基底
用于前体的基底优选为尺寸稳定的板或箔形材料,如已经用作印刷品基底的材料。此类基底的实例包括纸、涂有塑料材料(如聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯)的纸、金属板或箔,如铝(包括铝合金)、锌和铜板、由例如二乙酸纤维素、三乙酸纤维素、丙酸纤维素、乙酸纤维素、乙酸丁酸纤维素、硝酸纤维素、聚对苯二甲酸乙二酯、聚乙烯、聚苯乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯和聚乙酸乙烯酯制成的塑料薄膜,和由纸或塑料薄膜和上述金属之一制成的层压材料,或已经通过气相沉积法金属化的纸/塑料薄膜。在这些基底中,铝板或箔尤其优选,因为其表现出显著程度的尺寸稳定性、便宜并且还表现出与辐射敏感涂层的优异粘合性。此外,可以使用复合薄膜,其中铝箔层压到塑料薄膜,例如聚对苯二甲酸乙二酯薄膜,或纸张,或已通过气相沉积法在其上施加了铝的塑料薄膜上。
金属基底,特别是铝基底,优选经过表面处理,例如通过在干状态下刷擦或用磨料悬浮液刷擦来颗粒化,或电化学颗粒化,例如借助盐酸电解质或HNO3,和任选阳极化,例如在硫酸或磷酸中。
优选具有0.1至0.7毫米,更优选0.15至0.5毫米厚度的铝箔是尤其优选的基底。该箔优选颗粒化(优选电化学方式),并随后表现出0.2至1微米,尤其优选0.3至0.8微米的平均粗糙度。
根据尤其优选的实施方案,颗粒化的铝箔进一步阳极化。所得氧化铝的层重量优选为1.5至5克/平方米,尤其优选2至4克/平方米。
此外,为了改进已经颗粒化和任选阳极化的金属基底的表面的亲水性质,可以用例如硅酸钠、氟化钙锆、聚乙烯基膦酸或磷酸的水溶液对该金属基底施以后处理。
上述基底处理的细节是本领域技术人员公知的。
可自由基聚合涂层(UV/VIS和IR)
负性工作的涂层包含,作为必要要素,(a)至少一种选自光引发剂和敏化剂/共引发剂体系的吸收剂组分,其吸收波长250至1200纳米的辐射并且能够引发自由基聚合,和(b)至少一种可自由基聚合的单体、低聚物和/或预聚物。
吸收剂组分
吸收剂组分选自光引发剂和敏化剂/共引发剂体系。
选择吸收剂组分以使其能够在随后成像过程中使用的辐射源发出的范围内显著吸收;优选地,吸收剂表现出在此范围内的最大吸收。因此,如果辐射敏感元件例如要借助红外激光成像,吸收剂应该基本吸收在大约750至1200纳米范围内的辐射并优选表现出在此范围内的最大吸收。另一方面,如果成像要借助UV/VIS辐射进行,吸收剂应该基本吸收在大约250至750纳米范围内的辐射并优选表现出在此范围内的最大吸收。合适的光引发剂和/或敏化剂是本领域技术人员已知的,或可以容易地通过简单试验确定在所需波长范围内是否发生显著吸收(例如记录吸收谱)。
在本发明中,光引发剂是在曝光时能够吸收辐射并且能够单独,即在不添加共引发剂的情况下形成自由基的化合物。合适的吸收UV或VIS辐射的光引发剂的实例包括带有1至3个CX3基团(其中每个X独立地选自氯或溴原子,优选为氯原子)的三嗪衍生物、六芳基双咪唑化合物、安息香醚、偶苯酰缩酮、肟醚、肟酯、α-羟基-或α-氨基-苯乙酮、酰基膦、酰基膦氧化物、酰基膦硫化物、金属茂、过氧化物等。合适的三嗪衍生物包括2-苯基-4,6-双(三氯甲基)-均三嗪、2,4,6-三(三氯甲基)-均三嗪、2-甲基-4,6-双(三氯甲基)-均三嗪、2-(苯乙烯基-4,6-双(三氯甲基)-均三嗪、2-(对甲氧基苯乙烯基)-4,6-双(三氯甲基)-均三嗪、2-(4-甲氧基-萘酚-1-基)-4,6-双(三氯甲基)-均三嗪、和2-(4-乙氧基-萘酚-1-基)-4,6-双(三氯甲基)-均三嗪和2-[4-(2-乙氧基乙基)-萘酚-1-基]-4,6-双(三氯甲基)-均三嗪。合适的肟醚和肟酯是例如衍生自苯偶姻的那些。优选的金属茂是例如具有两个五元环二烯基(如环戊二烯基)与一个或两个含至少一个邻位氟原子的六元芳基与任选的一个吡咯基的二茂钛;最优选的金属茂是双(环戊二烯基)-双-[2,6-二氟-3-(吡咯-1-基)-苯基]钛和二环戊二烯-双-2,4,6-三氟苯基-钛或锆。
在本发明中,可以使用单一光引发剂或两种或更多种的混合物。
光引发剂可以单独使用或与一种或多种共引发剂结合使用;共引发剂的添加可以提高光引发效率。
对光引发剂的量没有特别限制;但是,如果存在光引发剂,其优选在干层重量的0.2至25重量%,尤其优选0.5至15重量%的范围内。
本发明中提到的敏化剂是在曝光时可吸收辐射但其自身不能,即在不添加共引发剂的情况下形成自由基的化合物。
可光致氧化或光致还原或能够将其激发能转移到受体分子中的所有光吸收化合物是适用在本发明中的敏化剂。此类染料的实例包括花青染料、部花青染料、氧醇类染料、二芳基甲烷染料、三芳基甲烷染料、呫吨染料、香豆素衍生物、香豆素酮类染料、吖啶染料、吩嗪染料、喹喔啉染料、吡咯染料或硫代吡咯染料(thiapyrrylium dyes)、azaanulene染料(如酞菁染料和紫菜碱)、靛蓝染料、蒽醌染料、聚芳撑、聚芳基多烯、2,5-二苯基异苯并呋喃、2,5-二芳基呋喃、2,5-二芳基硫代呋喃、2,5-二芳基吡咯、2,5-二芳基环戊二烯、聚芳基亚苯基、聚芳基-2-吡唑啉、羰基化合物,如芳族酮或醌,例如二苯甲酮衍生物、术蚩酮、噻吨酮衍生物、蒽醌衍生物和芴酮衍生物。
式(I)的香豆素敏化剂例如适用于电磁谱的UV范围:
其中
R1、R16、R17和R18独立地选自-H、卤素原子、C1-C20烷基、-OH、-O-R4和-NR5R6,其中R4是C1-C20烷基、C5-C10芳基或C6-C30芳烷基(优选C1-C6烷基),R5和R6独立地选自氢原子和C1-C20烷基,
或R1和R16、R16和R17或R17和R18一起形成在与式(I)中所示的苯环相邻的一个或两个位置上具有选自N和O的杂原子的5-或6-元杂环,
或R16或R17与其两个相邻取代基的每一个一起形成在与式(I)中所示的苯环相邻的一个或两个位置上具有选自N和O的杂原子的5-或6-元杂环,
其中每个形成的5-或6-元杂环可以独立地被一个或多个C1-C6烷基取代,
条件是R1、R16、R17和R18的至少一个不同于氢和C1-C20烷基,
R2是氢原子、C1-C20烷基、C5-C10芳基或C6-C30芳烷基,且
R3是氢原子或选自下列的取代基:-COOH、-COOR7、-COR8、-CONR9R10、-CN、C5-C10芳基、C6-C30芳烷基、任选苯并稠合的5-或6-元杂环基团、基团-CH=CH-R12和
其中R7是C1-C20烷基,R8是C1-C20烷基或5-或6-元杂环基团,R9和R10独立地选自氢原子和C1-C20烷基,R11是C1-C12烷基或链烯基、杂环非芳族环或任选具有选自O、S和N的杂原子的C5-C20芳基,且R12是C5-C10芳基或5-或6-元杂环,任选为芳环;
或R2和R3和与它们键合的碳原子一起形成5-或6-元环,任选为芳环。
例如在WO 2004/049068 A1中更详细描述了它们。
其中X是包含至少一个与杂环共轭的C-C双键的间隔基,
Y和Z独立地代表任选被取代的稠合芳环,且
V和W独立地选自O、S和NR,其中R是任选可被单取代或多取代的烷基、芳基或芳烷基,
其中R1、R2和R3各自独立地选自卤素原子、任选被取代的烷基、可以也稠合的任选被取代的芳基、任选被取代的芳烷基、基团-NR4R5和基团-OR6,
其中R4和R5独立地选自氢原子、烷基、芳基或芳烷基,
R6是任选被取代的烷基、芳基或芳烷基,或氢原子,且k、m和n独立地为0或1至5的整数。
如WO 2004/111731 A1中所述的式(IV)的1,4-二氢吡啶化合物是另一类适用于UV范围的敏化剂的实例
其中
R1选自氢原子、-C(O)OR7、任选被取代的烷基、任选被取代的芳基和任选被取代的芳烷基,
R2和R3独立地选自任选被取代的烷基、任选被取代的芳基、CN和氢原子,
R4和R5独立地选自-C(O)OR7、-C(O)R7、-C(O)NR8R9和CN,
或R2和R4一起形成任选被取代的苯环或5-至7-元碳环或杂环,其中单元
存在于与该二氢吡啶环的位置5相邻的该碳环或杂环中,且其中该碳环或杂环任选包含附加的取代基,
或R2和R4以及R3和R5都形成任选被取代的苯环或5-至7-元碳环或杂环,其中单元
存在于与该二氢吡啶环的位置3和5相邻的该碳环或杂环中,且其中该碳环或杂环任选包含附加的取代基,
或成对的R2/R4和R3/R5之一形成5-至7-元碳环或杂环,其中单元
存在于与该二氢吡啶环的位置5或3相邻的该碳环或杂环中,且其
中该碳环或杂环任选包含附加的取代基,且另一对形成任选被取代的苯环,
或R2与R1或R3与R1形成可任选包含一个或多个取代基且除了与1,4-二氢吡啶环共享的氮原子外还任选包含附加的氮原子、-NR13基团、-S-或-O-的5-至7-元杂环,
R13选自氢原子、烷基、芳基和芳烷基,
R6选自任选被卤素原子或-C(O)基团取代的烷基、任选被取代的芳基、任选被取代的芳烷基、任选被取代的杂环基和基团
Y是亚烷基或亚芳基,
R7是氢原子、芳基、芳烷基或烷基,其中该烷基和芳烷基的烷基单元任选包含一个或多个C-C双键和/或C-C三键,
且R8和R9独立地选自氢原子、任选被取代的烷基、任选被取代的芳基和任选被取代的芳烷基。
下列化合物也是适用于UV-敏感元件的敏化剂:
DE 10 2004 051 810中更详细描述的式(V)的敏化剂
其中
各个R1和R2独立地选自卤素原子、烷基、芳基或芳烷基、基团-NR4R5或基团-OR6,
R4、R5和R6独立地选自烷基、芳基和芳烷基,
n是至少为2的整数,且
k和m独立地代表0或1至5的整数,
以及DE 10 2004 055 733中更详细描述的式(VI)的低聚或聚合化合物
其中是芳族或杂芳族单元或两者的组合,使得在结构(I)中的两个基团Z之间存在共轭π-体系,
各个Z独立地代表连接间隔基AS和共轭体系的杂原子,
各个R1和R2独立地选自卤素原子、烷基、芳基、烷芳基或芳烷基、基团-NR3R4和基团-OR5,
各个R3、R4和R5独立地选自烷基、芳基、烷芳基和芳烷基,
a和b独立地代表0或1至4的整数,
n具有>1的值,且
AS是脂族间隔基。
如果辐射-敏感元件被VIS激光二极管照射,如WO 03/069411 A1中所述的氰基吡啶酮衍生物例如适合作为敏化剂。
对于IR-敏感元件而言,敏化剂例如选自炭黑、酞菁颜料/染料和聚噻吩、方酸(squarylium)、噻唑克酮酸酯(croconate)、部花青、花青、吲嗪、吡喃(pyrylium)或metaldithiolin类的颜料/染料,尤其优选选自花青类。例如US 6,326,122的表1中提到的化合物是合适的IR吸收剂。在US 4,327,169、US 4,756,993、US 5,156,938、WO 00/29214、US 6,410,207和EP 1 176 007 A1中可以找到进一步的实例。
根据一个实施方案,使用式(VII)的花青染料
其中
各个Z1独立地代表S、O、NRa或C(烷基)2;
各个R’独立地代表烷基、烷基磺酸根或烷基铵基团;
R″代表卤素原子、SRa、ORa、SO2Ra或NRa 2(优选为卤素原子、SRa或NRa 2);
各个R″′独立地代表氢原子、烷基、-COORa、-ORa、-SRa、-NRa 2或卤素原子;R″′也可以是苯并稠环;
A-代表阴离子;
Rb和Rc均代表氢原子,或和与它们键合的碳原子一起形成五元或六元碳环;
Ra代表氢原子、烷基或芳基(在SRa中,Ra优选为以S为芳环中的一员的芳基;在NRa 2中,各Ra优选为芳基);
各个b独立地为0、1、2或3。
如果R′代表烷基磺酸根,可以形成内盐,这样阴离子A-不是必需的。如果R′代表烷基铵基团,需要与A-相同或不同的第二抗衡离子。
在式(VII)的IR染料中,具有对称结构的染料尤其优选。尤其优选的染料的实例包括:
5-氯-2-(2-{3-[2-(5-氯-1-乙基-3,3-二甲基-1,3-二氢-吲哚-2-亚基)-亚乙基]-2-二苯基氨基-环戊-1-烯基}-乙烯基)-1-乙基-3,3-二甲基-3H-吲哚盐(例如,四氟硼酸盐)和
下列化合物也是适用于本发明的IR吸收剂:
在本发明中,可以使用一种敏化剂或两种或更多种的混合物。
敏化剂与一种或多种共引发剂结合使用。另外,可以使用光引发剂;但是,这不是优选的。
对敏化剂的量没有特别限制;但是,如果存在敏化剂,其优选为干层重量的0.2至15重量%,尤其优选为0.5至10重量%。如果涂层中存在光引发剂和敏化剂,它们的总量优选为干层重量的0.5至30重量%,尤其优选为1至15重量%。
本发明中被称作共引发剂的是在被照射时基本不能吸收但与本发明中所用的吸收辐射的敏化剂一起形成自由基的化合物。该共引发剂例如选自类化合物,例如这样的类化合物——其中的阳离子选自碘(如三芳基碘盐)、锍(如三芳基锍盐)、磷氧基氧化锍(oxylsulfoxonium)、氧基锍(oxysulfonium)、氧化锍、铵、重氮(diazonium)、硒砷和N-取代N-杂环阳离子,其中N被任选被取代的烷基、链烯基、链炔基或芳基取代;N-芳基甘氨酸及其衍生物(例如N-苯基甘氨酸);芳族磺酰卤;三卤代甲基芳基砜;酰亚胺,如N-苯甲酰氧基邻苯二甲酰亚胺;重氮磺酸盐;9,10-二氢蒽衍生物;具有至少两个羧基(其中至少一个键合到芳基单元的氮、氧或硫原子上)的N-芳基、S-芳基或O-芳基多羧酸(例如苯胺二乙酸及其衍生物和US-A-5,629,354中所述的其它共引发剂);六芳基联咪唑;硫醇化合物(例如巯基苯并噻唑、巯基苯并咪唑和巯基三唑);具有1至3个CX3基团的1,3,5-三嗪衍生物(其中每个X独立地选自氯或溴原子,优选为氯原子),如2-苯基-4,6-双(三氯甲基)-均三嗪、2,4,6-三(三氯甲基)-均三嗪、2-甲基-4,6-双(三氯甲基)-均三嗪、2-苯乙烯基-4,6-双(三氯甲基)-均三嗪、2-(对甲氧基苯乙烯基)-4,6-双(三氯甲基)-均三嗪、2-(4-甲氧基-萘酚-1-基)-4,6-双(三氯甲基)-均三嗪、2-(4-乙氧基-萘酚-1-基)-4,6-双(三氯甲基)-均三嗪和2-[4-(2-乙氧基乙基)-萘酚-1-基]-4,6-双(三氯甲基)-均三嗪;肟醚和肟酯,如衍生自苯偶姻的那些;金属茂(优选二茂钛,尤其优选具有两个5元环二烯基(如环戊二烯基)和一个或两个含至少一个邻位氟原子和任选吡咯基的六元芳基的那些,如双(环戊二烯基)-双-[2,6-二氟-3-(吡咯-1-基)-苯基]钛和二环戊二烯-双-2,4,6-三氟苯基-钛或锆);酰基膦氧化物、二酰基膦氧化物和过氧化物(例如EP 1 035 435 A1中作为有机过氧化物型活化剂列出的那些);α-羟基或α-氨基苯乙酮、酰基膦、酰基膦硫化物、羰基化合物,如芳族酮或醌,例如二苯甲酮衍生物、米蚩酮、噻吨酮衍生物、蒽醌衍生物和芴酮衍生物。
合适的2,2′,4,4′,5,5′-六芳基联咪唑(下文中简称为六芳基联咪唑)表示为下式(VIII):
其中A1-A6是取代的或未取代的C5-C20芳基,它们彼此相同或不同,并且在其环中一个或多个碳原子可以任选被选自O、N和S的杂原子取代。适用于该芳基的取代基是不会抑制光诱发离解成三芳基咪唑基的那些,例如卤素原子(氟、氯、溴、碘)、-CN、C1-C6烷基(任选具有一个或多个选自卤素原子、-CN和-OH的取代基)、C1-C6烷氧基、C1-C6烷基硫代、(C1-C6烷基)磺酰基。
优选的芳基是取代的和未取代的苯基、联苯基、萘基、吡啶基、呋喃基和噻吩基。尤其优选的是取代的和未取代的苯基,特别优选的是卤素取代的苯基。
实例包括:
2,2′-双(溴苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑,
2,2′-双(对羧基苯基)-4,4′,5,5″-四苯基联咪唑,
2,2′-双(邻氯苯基)-4,4′,5,5′-四(对甲氧基苯基)联咪唑,
2,2′-双(对氯苯基)-4,4′,5,5′-四(对甲氧基苯基)联咪唑,
2,2′-双(对氰基苯基)-4,4′5,5′-四(对甲氧基苯基)联咪唑,
2,2′-双(2,4-二氯苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑,
2,2′-双(2,4-二甲氧基苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑,
2,2′-双(邻乙氧基苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑,
2,2′-双(间氟苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑,
2,2′-双(邻氟苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑,
2,2′-双(对氟苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑,
2,2′-双(邻己氧基苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑,
2,2′-双(邻己基苯基)-4,4′,5,5′-四(对甲氧基苯基)联咪唑,
2,2′-双(3,4-亚甲二氧基苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑,
2,2′-双(邻氯苯基)-4,4′,5,5′-四(间甲氧基苯基)联咪唑,
2,2′-双(邻氯苯基)-4,4′,5,5′-四[间(β苯氧基-乙氧基苯基)]联咪唑,
2,2′-双(2,6-二氯苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑,
2,2′-双(邻甲氧基苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑,
2,2′-双(对甲氧基苯基)-4,4′-双(邻甲氧基苯基)-5,5′-二苯基联咪唑,
2,2′-双(邻硝基苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑,
2,2′-双(对苯基磺酰基苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑,
2,2′-双(对氨磺酰基苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑,
2,2′-双(2,4,5-三甲基苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑,
2,2′-二-4-联苯基-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑,
2,2′-二-1-萘基-4,4′,5,5′-四(对甲氧基苯基)联咪唑,
2,2′-二-9-菲基-4,4′,5,5′-四(对甲氧基苯基)联咪唑,
2,2′-二苯基-4,4′,5,5′-四-4-联苯基联咪唑,
2,2′-二苯基-4,4′,5,5′-四-2,4-二甲苯基联咪唑,
2,2′-二-3-吡啶基-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑,
2,2′-二-3-噻吩基-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑,
2,2′-二-邻甲苯基-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑,
2,2′-二-对甲苯基-4,4′-二-邻甲苯基-5,5′-二苯基联咪唑,
2,2′-二-2,4-二甲苯基-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑,
2,2′,4,4′,5,5′-六(对苄基苯硫基)联咪唑,
2,2′,4,4′,5,5′-六-1-萘基联咪唑,
2,2′,4,4′,5,5′-六苯基联咪唑,
2,2′-双(2-硝基-5-甲氧基苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑,
2,2′-双(邻硝基苯基)-4,4′,5,5′-四(间甲氧基苯基)联咪唑,和
2,2′-双(2-氯-5-磺苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑,
尤其优选的是:
2,2′-双(邻氯苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑,
2,2′-双(邻氯苯基)-4,4′,5,5′-四(对氟苯基)联咪唑,
2,2′-双(邻溴苯基)-4,4′,5,5′-四(对碘苯基)联咪唑,
2,2′-双(邻氯苯基)-4,4′,5,5′-四(对氯萘基)联咪唑,
2,2′-双(邻氯苯基)-4,4′,5,5′-四(对氯苯基)联咪唑,
2,2′-双(邻溴苯基)-4,4′,5,5′-四(对氯-对甲氧基苯基)联咪唑,
2,2′-双(邻氯苯基)-4,4′,5,5′-四(邻,对二氯苯基)联咪唑,
2,2′-双(邻氯苯基)-4,4′,5,5′-四(邻,对二溴苯基)联咪唑,
2,2′-双(邻溴苯基)-4,4′,5,5′-四(邻,对二氯苯基)联咪唑或
2,2′-双(邻,对二氯苯基)-4,4′,5,5′-四(邻,对二氯苯基)联咪唑;
但本发明不限于这些化合物。
可以根据已知方法制备合适的六芳基联咪唑(参见例如US-A-3,445,232)。优选方法是相应的三芳基咪唑与铁-(III)-六氰基高铁酸盐(II)在碱溶液中的氧化二聚。
对本发明目的而言,使用哪种六芳基联咪唑异构体(或异构体混合物)是无关紧要的(例如1,2′,1,1′,1,4′,2,2′,2,4′-和4,4′-异构体),只要其是可光离解的并在该方法中提供三芳基咪唑基自由基。
适合用作共引发剂的三卤甲基化合物能够形成自由基。三卤甲基取代的三嗪和三卤甲基-芳基砜是优选的。作为实例可以提到下列化合物(本发明不限于这些化合物):
2-(4-甲氧基苯基)-4,6-双(三氯甲基)-均三嗪,
2-(4-氯苯基)-4,6-双-(三氯甲基)-均三嗪,
2-苯基-4,6-双(三氯甲基)-均三嗪,
2,4,6-三-(三氯甲基)-均三嗪,
2,4,6-三-(三溴甲基)-均三嗪和
三溴甲基苯基砜。
许多共引发剂当暴露在其吸收谱带中时也可以充当光引发剂。由此,可以获得例如在宽的光谱范围内敏感的光敏层,因为光引发剂或敏化剂覆盖长波长的光谱范围(IR和/或可见光范围)且共引发剂覆盖短波长的光谱范围(例如UV范围)。如果用户想要用不同的辐射源照射相同的材料,这种效果可能是有利的。在这种情况下,共引发剂在上文对IR或可见光范围给出的定义的意义上充当实际共引发剂,同时其充当UV范围的光引发剂。
在本发明中,可以使用一种共引发剂或共引发剂混合物。
对共引发剂的量没有特别限制;但是其优选为干层重量的0.2至25重量%,尤其优选0.5至15重量%。
在WO 2004/041544、WO 2000/48836和DE 10 2004 003143中也提到适用于IR-光敏涂层的敏化剂和共引发剂的进一步实例。
可自由基聚合的组分
可以使用包含至少一个非芳族C-C双键的所有单体、低聚物和聚合物作为可自由基聚合的单体、低聚物和聚合物。也可以使用带有C-C三键的单体/低聚物/聚合物,但是它们不优选。合适的化合物是本领域技术人员公知的并可以没有任何特别限制地用在本发明中。单体、低聚物或预聚物形式的含有一个或多个不饱和基团的丙烯酸和甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸和异巴豆酸、马来酸和富马酸的酯是优选的。它们可以以固体或液体形式存在,其中固体和高粘形式是优选的。适合作为单体的化合物包括例如三羟甲基丙烷三丙烯酸酯和三甲基丙烯酸酯、三丙烯酸季戊四醇酯或三甲基丙烯酸季戊四醇酯、双季戊四醇单羟基五丙烯酸酯和五甲基丙烯酸酯、双季戊四醇六丙烯酸酯和六甲基丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯和四甲基丙烯酸酯、双三羟甲基丙烷四丙烯酸酯和四甲基丙烯酸酯、二乙二醇二丙烯酸酯和二甲基丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯和二甲基丙烯酸酯或四乙二醇二丙烯酸酯和二甲基丙烯酸酯。合适的低聚物和/或预聚物是例如聚氨酯丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯或不饱和聚酯树脂。
除单体和/或低聚物外,也可以使用在主链或侧链中包含可自由基聚合的C-C双键的聚合物。其实例包括马来酸酐共聚物与(甲基)丙烯酸羟烷基酯的反应产物(参见例如DE 4 311 738 C1);用烯丙醇部分或全部酯化的(甲基)丙烯酸聚合物(参见例如DE 3 332 640 A1);聚合多元醇与异氰酸根合烷基(甲基)丙烯酸酯的反应产物;不饱和聚酯;(甲基)丙烯酸酯封端的聚苯乙烯、聚(甲基)丙烯酸酯、聚(甲基)丙烯酸、聚(甲基)丙烯酰胺;用包含可自由基聚合基团的环氧化物部分或全部酯化的(甲基)丙烯酸聚合物;例如可通过(甲基)丙烯酸烯丙酯(任选与其它共聚单体)的聚合获得的具有烯丙基侧基的聚合物;用乙烯醇部分酯化的(甲基)丙烯酸聚合物;和用(甲基)丙烯酸乙二醇酯部分酯化的(甲基)丙烯酸聚合物。
本发明中可用的可自由基聚合化合物也包括分子量为3,000或更低的化合物,并且是通过使二异氰酸酯与(i)含一个羟基的烯键式不饱和化合物和同时与(ii)含一个NH基团和一个OH基团的饱和有机化合物反应获得的反应产物,其中反应物以符合下列条件的量使用:
异氰酸酯基团的摩尔数≤OH+NH基团的摩尔数
二异氰酸酯的实例如下式所示:
O=C=N-(CR9 2)a-D-(CR9 2)b-N=C=O (IX)
其中a和b独立地代表0或1至3的整数,各个R9独立地选自H和C1-C3烷基,且D是饱和或不饱和的间隔基,其可以任选包含除两个异氰酸酯基团外的其它取代基。D可以是链型或环型单元。本发明中所用的术语“二异氰酸酯”是指包含两个异氰酸酯基团但不含OH基团和仲氨基和伯氨基的有机化合物。
D可以例如是亚烷基(CH2)w,其中w是1至12的整数,优选1至6,且一个或多个氢原子任选被如烷基(优选C1-C6)的取代基替代;环亚烷基;亚芳基或饱和或不饱和二价杂环基。
包含羟基的烯键式不饱和化合物(i)包含至少一个非芳族C-C双键,其任选为端基。该羟基优选不键合到双重键合的碳原子上;该羟基不是羧基的一部分。除一个OH基团外,该烯键式不饱和化合物(i)不含任何可以与异氰酸酯反应的其它官能团,例如NH。
烯键式不饱和化合物(i)的实例包括
(甲基)丙烯酸羟基(C1-C12)烷基酯(例如(甲基)丙烯酸2-羟乙基酯、(甲基)丙烯酸2-或3-羟丙基酯、(甲基)丙烯酸2-、3-或4-羟丁基酯)、羟基(C1-C12)烷基-(甲基)丙烯酰胺(例如2-羟乙基(甲基)丙烯酰胺、2-或3-羟丙基(甲基)丙烯酰胺、2-、3-或4-羟丁基(甲基)丙烯酰胺)、低聚或聚合的乙二醇或丙二醇的单(甲基)丙烯酸酯(例如聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇单(甲基)丙烯酸酯)、烯丙醇、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、4-羟基(C1-C12)烷基苯乙烯(例如,4-羟甲基苯乙烯)、4-羟基苯乙烯、羟基环己基(甲基)丙烯酸酯。
本发明通篇使用的术语“(甲基)丙烯酸酯”及类似术语表示甲基丙烯酸酯和丙烯酸酯等。
饱和有机化合物(ii)是具有一个OH和一个NH基团的化合物。
该饱和有机化合物(ii)例如可以由下式(X)或(XI)表示
其中R10是直链(优选C1-C12、尤其优选C1-C4)、支链(优选C3-C12、尤其优选C3-C6)或环状(优选C3-C8、尤其优选C5-C6)烷基,
E是直链(优选C1-C6、尤其优选C1-C2)、支链(优选C3-C12、尤其优选C3-C6)或环状(优选C3-C8、尤其优选C5-C6)亚烷基,
R11是OH或被OH基团取代的直链、支链或环状烷基,
且如果该杂环包含NR12且R12是被OH取代的烷基,z=0,
且如果该饱和杂环不含NR12或如果该饱和杂环包含NR12且R12是未取代的烷基,z=1。
异氰酸酯基团的摩尔数必须不超过OH基团和NH基团的总摩尔数,因为该产物不应该再包含自由异氰酸酯基团。
在例如EP 1176007 A2中描述了其它合适的C-C不饱和可自由基聚合化合物。
当然可以使用不同类型的单体、低聚物或聚合物的混合物;此外,在本发明中可以使用单体和低聚物和/或聚合物的混合物,以及低聚物和聚合物的混合物。
可自由基聚合的组分优选以干层重量的5至95重量%,尤其优选10至85重量%的量使用。
可自由基聚合涂层的任选组分
无论该元件是UV/VIS-还是IR-敏感的,可光致聚合的涂层除了基本组分外还可以包含一种或多种下列任选组分。如果该涂层由几层构成,任选组分可以存在于一层、几层或所有层中。可以存在在可见光谱范围内具有高吸收的染料或颜料以提高对比度(“对比染料和颜料”)。特别合适的染料和颜料是在用于涂布的溶剂或溶剂混合物中充分溶解或容易以颜料分散体形式引入的那些。
合适的对比染料尤其包括若丹明染料、三芳基甲烷染料,如Victoria蓝R和Victoria蓝BO、结晶紫和甲基紫、蒽醌颜料、偶氮颜料和酞菁染料和/或颜料。着色剂优选以干层重量的0至15重量%,更优选0.5至10重量%,特别优选1.5至7重量%的量存在。
此外,该层可以包含表面活性剂(例如阴离子型、阳离子型、两性的或非离子型表面活性剂或其混合物)。合适的实例包括含氟聚合物、具有环氧乙烷和/或环氧丙烷基团的聚合物、山梨糖醇-三-硬脂酸酯和烷基-二-(氨基乙基)-甘氨酸。它们优选以干层重量的0至10重量%,更优选0.1至5重量%,尤其优选0.2至1重量%的量存在。
该层还可以包含印出染料,如结晶紫内酯或光致变色染料(例如螺环吡喃等)。它们优选以干层重量的0至15重量%,尤其优选0.5至5重量%的量存在。
此外,层中可以存在流动改进剂,例如聚(甘醇)醚-改性的硅氧烷;它们优选以干层重量的0至1重量%的量存在。
该层可以进一步包含抗氧化剂,例如巯基化合物(2-巯基-苯并咪唑、2-巯基苯并噻唑、2-巯基苯并唑和3-巯基-1,2,4-三唑)和磷酸三苯酯。它们优选以干层重量的0至15重量%,尤其优选0.5至5重量%的量存在。
当然也可以存在其它涂料添加剂。
罩面层
在可光致聚合涂层上施加罩面层以便在储存、曝光过程中,特别是在曝光和进一步冲洗之间的期间保护该涂层免受大气氧作用。在此期间,该罩面层必须表现出与光敏涂层的充足粘合性以便在层不撕裂的情况下确保安全操作(制造、包装、运输、曝光等)。除了作为氧阻隔层的功能外,该罩面层也保护可光致聚合的涂层免受指印和机械破坏如划痕。
文献中描述了大量适合用于此类罩面层的水溶性聚合物。合适的实例是聚乙烯醇、也可以含有乙烯基醚和乙烯基缩醛单元的部分皂化的聚乙酸乙烯酯、聚乙烯基吡咯烷酮及其与乙酸乙烯酯和乙烯基醚的共聚物、羟烷基纤维素、明胶、聚丙烯酸、阿拉伯树胶、聚丙烯酰胺、糊精、环糊精、烷基乙烯基醚和马来酸酐的共聚物以及分子量高于5,000的环氧乙烷的水溶性高分子聚合物是特别合适的。聚乙烯醇是优选的罩面层聚合物。也可以使用如WO 99/06890中所述的与聚(1-乙烯基咪唑)或1-乙烯基-咪唑和至少一种其它单体的共聚物结合的聚乙烯醇。
聚乙烯醇也可以与作为粘合剂的聚乙烯基吡咯烷酮结合使用。
在US 3,458,311、US 4,072,527、US 4,072,528、EP 275 147 A1、EP403 096 A1、EP 354475 A1、EP 465 034 A1和EP 352 630 A1中也描述了罩面层。
在优选实施方案中,该罩面层包含聚乙烯醇或与聚(1-乙烯基咪唑)结合的聚乙烯醇(或其共聚物)。
合适的聚乙烯醇可以以不贵的价格购得。它们通常具有0.1至30重量%的乙酸根残留量。尤其优选的是由残留乙酸根含量为1.5至22重量%的聚乙酸乙烯酯获得的聚乙烯醇。通过所用聚乙烯醇的分子量,可以控制本发明的罩面层的粘合性和水溶性。较低分子量有利于用水溶液除去罩面层。
可以通过熟练从业者已知的表面涂布法,如刮涂、辊涂、狭缝涂布、幕涂、喷涂或浸渍法施加水溶性罩面层。0.05至10克/平方米,更优选0.2至3克/平方米,最优选0.3至1克/平方米的干层重量是合适的。
在许多情况下,在水溶液中施加水溶性罩面层是有利的。这对环境和人体具有最不有害的影响。
但是,对一些用途而言,使用有机溶剂也有利。在一些基底中,在涂布水溶液中加入0.5至60重量%的有机溶剂改进了粘合性。通过要被罩面的表面的轻微溶剂化,进一步提高本发明的罩面层的聚合物的粘合作用。这类充当溶剂的添加剂可以是例如醇或酮。
为了均匀和迅速地润湿要涂布的表面,可以在涂布溶液中加入阴离子型、阳离子型或非离子型润湿剂。罩面层可以进一步包含稳定剂、防腐剂、染料、泡沫分离剂和流变添加剂。
冲洗液
本发明的方法中所用的冲洗液是pH值为9.5至14的碱性水溶液。
水
可以使用自来水、去离子水或蒸馏水。水的量优选为冲洗液总重量的45至95重量%,尤其优选50至90重量%且特别优选55至85重量%。
碱性组分
碱性组分选自碱金属硅酸盐、碱金属氢氧化物、Na3PO4、K3PO4、NR4OH,其中各个R独立地选自C1-C4烷基和C1-C4羟烷基,及其2种或更多种的混合物。
选择碱性组分的量(或在混合物的情况下,碱性组分的总量)以使冲洗液的pH值为9.5至14,优选地,pH值为10.5至13。
本发明中所用的术语“碱金属硅酸盐”还包括偏硅酸盐和水玻璃。硅酸钠和硅酸钾是优选的硅酸盐。当使用碱金属硅酸盐时,硅酸盐的量优选为冲洗液的至少1重量%(按SiO2计算)。
在碱金属氢氧化物中,NaOH和KOH尤其优选。
通常,使用碱金属偏硅酸盐容易在不用其它碱性添加剂如碱金属氢氧化物的情况下提供大于12的pH值。当使用水玻璃时,如果需要高于12的pH值,还要使用碱金属氢氧化物。
优选的季铵氢氧化物NR4OH包括例如四甲基氢氧化铵、三甲基乙醇氢氧化铵、甲基三乙醇氢氧化铵及其混合物;尤其优选的氢氧化铵是四甲基氢氧化铵。
表面活性剂
对表面活性剂没有具体限制,只要其与冲洗液的其它组分相容,并且可溶于pH值为9.5至14的碱性水溶液。该表面活性剂可以是阳离子型、阴离子型、两性型或非离子型的。
阴离子型表面活性剂的实例包括aliphates、松香盐、羟基链烷磺酸盐、烷基磺酸盐、二烷基磺基丁二酸盐、直链烷基苯磺酸盐、支链烷基苯磺酸盐、烷基萘磺酸盐、烷基苯氧基聚氧乙烯丙基磺酸盐、聚氧乙烯烷基磺苯基醚的盐、N-甲基-N-油烯基牛磺酸钠、N-烷基磺基琥珀酸单酰胺二钠、石油磺酸盐、硫酸化蓖麻油、硫酸化牛油、脂族烷基酯的硫酸酯的盐、烷基硫酸酯的盐、聚氧乙烯烷基醚的硫酸酯、脂族甘油单酸酯的硫酸酯的盐、聚氧乙烯烷基苯基醚的硫酸酯的盐、聚氧乙烯苯乙烯基苯基醚的硫酸酯的盐、烷基磷酸酯的盐、聚氧乙烯烷基醚的磷酸酯的盐、聚氧乙烯烷基苯基醚的磷酸酯的盐、苯乙烯马来酸酐共聚物的部分皂化的化合物、烯烃-马来酸酐共聚物的部分皂化的化合物、萘磺酸酯-甲醛缩合物、十二烷基苯氧基苯二磺酸钠、烷基化萘磺酸钠盐、亚甲基-二萘-二磺酸的二钠盐、十二烷基苯磺酸钠、(二)磺酸化烷基二苯醚、全氟烷基磺酸的铵盐或钾盐、以及二辛基-磺基丁二酸钠。
这些阴离子型表面活性剂中特别优选的是烷基萘磺酸盐、二磺酸化烷基二苯醚和烷基磺酸盐。
非离子型表面活性剂的合适实例包括聚氧乙烯烷基醚、聚氧乙烯烷基苯基醚、聚氧乙烯聚苯乙烯基苯基醚、聚氧乙烯聚氧丙烯烷基醚、聚氧乙烯聚氧丙烯嵌段聚合物、甘油脂族酸的偏酯、脱水山梨醇脂族酸的偏酯、季戊四醇脂族酸的偏酯、丙二醇单脂族酸酯、蔗糖脂族酸的偏酯、聚氧乙烯脱水山梨醇脂族酸的偏酯、聚氧乙烯山梨糖醇脂族酸的偏酯、聚乙二醇脂族酯、聚-甘油脂族酸的偏酯、聚氧乙烯化蓖麻油、聚氧乙烯甘油脂族酸的偏酯、脂族二乙醇酰胺、N,N-双-2-羟基烷基胺、聚氧乙烯烷基胺、三乙醇胺脂族酯、和三烷基胺氧化物。这些非离子型表面活性剂中特别优选的是聚氧乙烯烷基苯基醚和聚氧乙烯-聚氧丙烯嵌段聚合物。
此外,类似地可以使用氟类(fluorinic)和硅类(siliconic)阴离子型和非离子型表面活性剂。
优选的非离子型表面活性剂是聚氧乙烯和/或聚氧丙烯烷基醚。
两性表面活性剂是例如N-烷基氨基酸三乙醇铵盐、椰油酰氨基丙基甜菜碱、椰油酰氨基烷基甘氨酸盐、短链烷基氨基羧酸的钠盐、N-2-羟乙基-N-2-羧基乙基脂肪酸酰氨基乙胺钠盐和羧酸酰氨基醚丙酸盐;优选的是椰油酰氨基丙基甜菜碱。
阳离子型表面活性剂的实例是四烷基氯化铵,如四丁基氯化铵和四甲基氯化铵,以及聚丙氧基化氯化季铵。
非离子型、阴离子型和两性表面活性剂及其混合物是优选的。
可以联合使用两种或更多种上述表面活性剂。对表面活性剂的量(或如果使用多于一种,则是表面活性剂的总量)没有具体限制,但优选为冲洗液总重量的0.01至20重量%,更优选2至8重量%。
成膜聚合物
冲洗液的另一基本组分是水溶性成膜亲水聚合物。
合适的聚合物的实例是阿拉伯树胶、支链淀粉、纤维素衍生物如羧甲基纤维素、羧乙基纤维素或甲基纤维素,淀粉衍生物如(环)糊精,聚(乙烯醇)、聚(乙烯基吡咯烷酮)、多羟基化合物如多糖,丙烯酸、甲基丙烯酸或丙烯酰胺的均聚物和共聚物、乙烯基甲基醚与马来酸酐的共聚物、乙酸乙烯酯与马来酸酐的共聚物或苯乙烯与马来酸酐的共聚物。优选的聚合物是含有羧酸、磺酸或膦酸基团或其盐的单体(例如(甲基)丙烯酸、乙酸乙烯酯、苯乙烯磺酸、乙烯基磺酸、乙烯基膦酸和丙烯酰氨基丙烷磺酸)的均聚物或共聚物、多羟基化合物和淀粉衍生物。
多羟基化合物和淀粉衍生物尤其优选。淀粉衍生物应当是水溶性的,优选可溶于冷水,并选自如糊精和环糊精的淀粉水解产物、如磷酸酯和氨基甲酸酯的淀粉酯、如阳离子型淀粉醚和羟丙基醚的淀粉醚,羧甲基淀粉和乙酰化淀粉;上述衍生物中糊精(包括含有四硼酸钠并可以硼砂糊精为名购自EmslandGmbH的糊精)是优选的。
用作淀粉衍生物的原材料的淀粉可以是各种来源的,其可以获自例如玉米、马铃薯、黑麦、小麦、水稻、木薯、木薯淀粉、栗子或橡子;玉米淀粉和马铃薯淀粉是优选的。
合适的水溶性多羟基化合物可以表示为下列结构:
R1(CHOH)nR2
其中n是4至7;且
或者(i)R1是氢、芳基或CH2OH;且R2是氢、具有1至4个碳原子的烷基、其中的R3是氢或具有1至4个碳原子的烷基的CH2OR3,其中的R4和R5各自独立地为氢或具有1至4个碳原子的烷基的CH2N(R4R5),或CO2H,
或者(ii)R1和R2一起形成碳-碳单键。
在一组多羟基化合物中,R1是氢或CH2OH,且R2是氢。在这些多羟基化合物的优选组中,n是5或6。该组包括糖醇,结构为H(CHOH)nH的化合物,其不含游离醛或酮基团,并且没有表现出还原性。糖醇可以获自天然来源,或通过还原糖的氢化制备。优选的糖醇包括甘露醇、山梨糖醇、木糖醇、核糖醇和阿拉伯糖醇。其它糖醇包括例如塔罗糖醇(talitol)、卫矛醇和异卫矛醇(allodulcitol)。
在另一组多羟基化合物中,R1和R2一起形成碳-碳单键。包括以下结构的碳环化合物:(CHOH)n,其中n是4至7。在这些多羟基化合物的优选组中,n是5或6,更优选为6。1,2,3,4,5,6-六羟基环己烷有九种可能的立体异构体,其中几种是天然存在的。优选的多羟基化合物是内消旋-肌醇(顺式-1,2,3,5-反式-4,6-六羟基环己烷)。内消旋-肌醇可以从玉米浸渍液体中分离。
在另一组多羟基化合物中,R1是氢、芳基或CH2OH;且R2是具有1至4个碳原子的烷基、其中的R3是具有1至4个碳原子的烷基的CH2OR3、其中的R4和R5各自独立地为H或具有1至4个碳原子的烷基的CH2N(R4R5)、或CO2H。
在另一组多羟基化合物中,R1是氢或CH2OH;且R2是CO2H。更优选地,R1是H且n是4或5。该组包括结构H(CHOH)nCO2H的多羟基化合物,其中n是4或5。概念上,这些多羟基化合物可以通过相应已糖或戊糖的氧化来制造,即己糖(如葡萄糖、半乳糖、阿洛糖、甘露糖等)的醛基的氧化,或戊糖(如阿拉伯糖、核糖、木糖等)的醛的氧化。
特别优选的多羟基化合物是上文提到的糖醇,如山梨糖醇。
对成膜聚合物的量没有具体限制;其优选为冲洗液总重量的1至30重量%,更优选5至20重量%。
冲洗液的任选组分
除基本组分(即表面活性剂、成膜亲水聚合物和碱性化合物)外,本发明中所用的冲洗液可以含有其它添加剂,如有机溶剂、抗微生物剂、络合剂、缓冲物质、染料、防沫剂、添味剂、防腐蚀剂和自由基抑制剂。
合适的防沫剂包括例如市售Silicone Antifoam Emulsion SE57(Wacker)、CF32(Rohm & Haas)、LF(醚羧酸Chem Y)、Agitan 190(Münzing Chemie)、Foamese 825(改性聚硅氧烷,TEGO Chemie Service GmbH,Germany)。有机硅基(Silicone-based)防沫剂是优选的。它们可以分散或溶解在水中。冲洗液中防沫剂的量优选为冲洗液重量的0至1重量%,尤其优选0.01至0.5重量%。可以使用一种防沫剂或两种或多种防沫剂的混合物。
合适的缓冲物质包括例如三(羟甲基)-氨基甲烷(TRIS)、磷酸氢盐、甘氨酸、3-(环己氨基)-丙烷磺酸(CAPS)、碳酸氢盐、包括硼砂的硼酸盐、2-氨基-2-甲基-1-丙醇(AMP)、3-(环己氨基)-2-羟基-1-丙烷磺酸(CAPSO)、和2-(N-环己氨基)乙烷磺酸(CHES)。
抗微生物剂应有效对抗细菌、真菌和/或酵母。合适的抗微生物剂包括例如N-羟甲基-氯乙酰胺、苯甲酸、苯酚或其衍生物、福尔马林、咪唑衍生物、异噻唑啉酮衍生物、苯并三唑衍生物、脒类、胍衍生物、季铵盐、吡啶、喹啉衍生物、二嗪、三唑衍生物、唑和嗪衍生物及其混合物。对它们的量没有特殊限制,优选在冲洗液中占该溶液总重量的0至10重量%,尤其优选0.1至1重量%。可以使用一种抗微生物剂或两种或多种抗微生物剂的混合物。
合适的络合剂的实例包括:氨基多羧酸及其盐,如乙二胺四乙酸及其钾或钠盐、二亚乙基三胺五乙酸及其钾或钠盐、三亚乙基四氨基-六乙酸及其钾或钠盐、羟乙基乙二胺三乙酸及其钾或钠盐、次氮基三乙酸及其钾或钠盐、1,2-二氨基环己烷-四乙酸及其钾或钠盐和1,3-二氨基-2-丙醇-四乙酸及其钾或钠盐以及有机膦酸、膦酰基链烷三羧酸或其盐,如2-膦酰基丁烷-1,2,4-三羧酸及其钾或钠盐、膦酰基丁烷-2,3,4-三羧酸及其钾或钠盐、膦酰基乙烷-2,2,2-三羧酸及其钾或钠盐、氨基三-(亚甲基膦酸)及其钾或钠盐、以及葡萄糖酸钠。该络合剂可以单独使用,或两种或多种混合使用。可以使用上述络合剂的有机胺盐代替其钾或钠盐。络合剂的量优选在冲洗液中占该溶液总重量的0至5重量%,尤其优选0.01至1重量%。
该冲洗液还可以包含有机溶剂或有机溶剂的混合物。该冲洗液为单相。因此,有机溶剂必须可以与水混溶,或至少在冲洗液中可以溶解到将其添加到冲洗液中时不会发生相分离的程度。下列溶剂和这些溶剂的混合物适用在冲洗液中:苯酚与环氧乙烷和环氧丙烷的反应产物,如乙二醇苯醚;苄醇;乙二醇和丙二醇与具有六个或更少碳原子的酸的酯,和乙二醇、二乙二醇和丙二醇与具有六个或更少碳原子的烷基的醚,如2-乙基乙醇和2-丁氧基乙醇。可以使用单一有机溶剂或有机溶剂的混合物。该有机溶剂通常在冲洗液中以冲洗液重量的大约0重量%至大约15重量%的浓度存在,优选为冲洗液重量的大约3重量%至大约5重量%。
如在US 6,383,717 B1和US 6,482,578 B2中详细描述的那样,由于可自由基聚合材料的累积,在显影剂浴中可能形成淤渣。在冲洗液中存在至少一种选自滤光染料和自由基抑制剂的材料可以防止生成淤渣。滤光染料吸收环境紫外线和可见光辐射,并降低加载的冲洗液中存在的辐射敏感引发剂体系吸收的辐射量。自由基抑制剂抑制加载的冲洗液中单体的自由基聚合。
滤光染料的吸收与辐射敏感的引发剂体系的吸收相配合,此外,滤光染料应该在冲洗液中稳定并且不应该与冲洗液或辐射敏感层的组分发生任何化学反应或相互作用。
在日光或类似条件下产生稳定化作用所需的滤光染料的浓度取决于许多因素;但是,滤光染料的浓度优选为冲洗液重量的大约0至2重量%,优选为冲洗液重量的大约0.4至2重量%。
滤光染料必须充分可溶于冲洗液以使足够的滤光染料可溶解在冲洗液中以吸收光谱的大约350纳米至大约650纳米区域内的辐射。被一个或多个磺酸根取代的染料通常在显影剂中具有足够的可溶性。优选的染料包括被磺酸根取代的淡黄色、黄色、橙色和红色染料。尤其优选的是磺化偶氮染料。
合适的染料包括例如间胺黄(C.I.13065)和其它类似的水溶性偶氮染料,例如甲基橙(C.I.13025)、金莲橙O(C.I.14270)、金莲橙OO(C.I.13080)、酒石黄(C.I.19140);氧醇黄(Oxonol Yellow)K(Riedel-de-Haen);酸性黄类型的染料,如C.I.13900、C.I.14170、C.I.18835、C.I.18965、C.I.18890、C.I.18900、C.I.18950(普拉黄)、C.I.22910和C.I.25135;以及酸性红类型的染料,如C.I.14710、C.I.14900、C.I.17045、C.I.18050、C.I.18070和C.I.22890。其它合适的染料是本领域技术人员显而易见的。可以使用单一滤光染料,或滤光染料的混合物。
合适的自由基抑制剂(也称为聚合物稳定剂或自由基捕集剂)在单体和聚合物稳定化领域是公知的。
有可能可以使用能够与自由基反应形成不会引发单体聚合,在冲洗液中具有足够溶解度和稳定性并且不会不利地影响冲洗液或印刷版的性质的产物的任何材料。它们包括例如:含有醌或氢醌部分的化合物,尤其是苯醌和取代苯醌,以及氢醌和取代氢醌,如氢醌单甲醚(4-甲氧基酚)、叔丁基氢醌(4-叔丁基酚,TBHQ)和叔丁基羟基苯甲醚(BHA);recorcinol、pyrrogallol、磷酸酯;以及受阻酚和双酚,如2,6-二叔丁基-4-甲基酚(BHT)和2,6-二叔丁基-4-甲氧基酚、2,4,6-三叔丁基酚;稳定的自由基,如二叔丁基硝基氧和2,2,6,6-四甲基-4-吡啶酮硝基氧;硝基取代的芳族化合物;氨基酚;吩噻嗪;和仲二芳基胺,如取代二苯胺、N,N′-二苯基-对苯二胺和N-苯基-萘基胺。优选的自由基抑制剂是醌、氢醌、氢醌的醚以及受阻酚。更优选的是氢醌类的醚,尤其是氢醌的醚,以及受阻酚。优选的化合物是氢醌单甲醚(4-甲氧基酚)、2,6-二叔丁基-4-甲基酚和2,4,6-三叔丁基酚。可以使用单一的自由基抑制剂,或自由基抑制剂的混合物。该自由基抑制剂或自由基抑制剂混合物通常在冲洗液中以冲洗液重量的大约0重量%至大约3.0重量%的浓度存在,优选为冲洗液重量的大约0.5重量%至大约1.5重量%。
防腐蚀剂的实例是膦酸及其盐,如羟乙基膦酸及其盐、氨基三亚甲基膦酸及其盐和二乙三胺五亚甲基膦酸及其盐;磷酸盐,如磷酸三钠;硼酸盐,如硼砂;以及甘油和具有下式的甘醇
(其中z是0、1或2,R20和R21独立地为氢或C1-C3烷基)。
防腐蚀剂或此类试剂的混合物通常在冲洗液中以冲洗液重量的大约0至10重量%的浓度存在,优选为0.1至5重量%,在甘油或甘醇的情况下为5至10重量%。
依图像曝光
如果可光致聚合涂层中所用的吸收剂组分吸收UV/VIS辐射,以本领域技术人员已知的方式用波长250至750纳米的UV/VIS辐射将前体依图像曝光。为此,可以使用普通灯,如碳孤灯、汞灯、氙灯和金属卤化物灯,或激光器或激光二极管。发射在大约405纳米范围内(例如405±10纳米)的UV辐射的UV激光二极管、发射可见光范围(488纳米或514纳米)的氩离子激光器和发射大约532纳米的频率加倍fd:Nd:YAG激光器特别可用作辐射源。激光辐射可以经由电脑数字控制,即其可以经由电脑中存储的数字化信息开启或切断以便可以实现版的依图像曝光;由此,可以获得所谓的电脑制版(ctp)印刷版。
如果吸收剂组分吸收IR辐射,即显著吸收波长在大于750至1200纳米范围内的辐射,并优选在其吸收谱中在此范围内表现出最大吸收,可以用IR辐射源进行依图像曝光。合适的辐射源是例如半导体激光器或在750至1200纳米范围内发光的激光二极管,例如Nd:YAG激光器(1,064纳米),在790至990纳米之间发光的激光二极管,和Ti:蓝宝石激光器。该激光辐射可以经由电脑数字控制,即其可以经由电脑中存储的数字化信息开启或切断以便可实现版的依图像曝光;由此,可以获得所谓的电脑制版(ctp)印刷版。可以使用本领域技术人员已知的配有IR激光器的任何图像照排机(image-setters)。
依图像曝光的前体包含曝光和未曝光的涂层区域。
曝光前体的冲洗
在曝光后,在没有任何预洗步骤(其通常用于除去罩面层)的情况下将前体用冲洗液处理。根据一个实施方案,在曝光和用冲洗液处理之间进行预热步骤。通过用冲洗液处理曝光的前体,在曝光和未曝光区域中除去罩面层,在单一步骤中除去辐射敏感涂层的未曝光区域和为显影的前体提供保护性胶料。
尽管在用碱性显影剂处理之后在施加通常酸性涂胶溶液之前通常将前体用水漂洗,但根据本发明的方法不进行这种漂洗步骤。此外,根据本发明的方法,在已经用冲洗液处理曝光前体后不进行涂胶步骤。
通常,通过用含这种液体的涂施器摩擦或擦拭可成像层,使曝光的前体与冲洗液接触。或者,可以用冲洗液刷拭曝光前体或可以将冲洗液通过喷涂施加到前体上。也可以通过将曝光前体浸在冲洗液浴中来用冲洗液进行处理。在任一情况下,制造无罩面层的显影和涂胶的版。优选地,可以在仅含一个冲洗液浴和干燥段的市售冲洗机,如TDP 60(KodakPolychrome Graphics)中进行冲洗。另外,可以在冲洗机中并入电导率测量装置。
尽管可以使用配有浸渍型显影浴、水漂洗段、涂胶段和干燥段的传统冲洗机,但漂洗步骤和涂胶步骤不根据本发明的方法进行。本发明的优点在于,可以使用仅含一个浴和干燥段的简单冲洗机,因为这类冲洗机比带有漂洗和涂胶段的冲洗机小和便宜得多,并因此节省空间和成本。另外,可以在冲洗机中并入电导率测量装置以控制冲洗液的显影剂活性。
曝光的前体通常用冲洗液在18℃至大约28℃下处理大约5秒至大约60秒。
在已经冲洗了一定数量的曝光前体后,冲洗液浴的显影活性(例如通过滴定或电导率测量法测得)降至低于预定水平。在冲洗浴中加入新鲜冲洗液(也称作“注满”法)。通常每1平方米冲洗的前体必需大约30毫升至大约100毫升,通常大约50-80毫升的新鲜冲洗液以保持冲洗液的体积及其活性/电导率值常数。冲洗过的平版印刷版包含已经除去可成像层以暴露出下方亲水基底表面的区域,和没有除去可成像层的补充(complimentary)区域。尚未除去可成像层的区域是接受墨的。
可以加入补充剂来代替添加新鲜冲洗液,以使冲洗浴的活性保持恒定。补充剂合适地与新鲜冲洗液的不同之处在于,碱性试剂的浓度高于所用新鲜冲洗液中碱性试剂的浓度;其它组分的浓度可以与新鲜冲洗液中相同或更高。
在前体已经与冲洗液接触后,除去留在前体上的任何过量的所述冲洗液(例如借助挤压辊);这种除去步骤不在于或包含用液体(如水等)洗涤/漂洗前体。在后继任选干燥步骤后,将冲洗过的前体转移到印刷机。在印刷机上,使冲洗过的前体同时或接连(以任何次序,但优选先润版液,再油墨)与润版液和印刷油墨接触。通过使前体与润版液和油墨接触,此后与纸接触,除去通过用冲洗液处理尚未除去的任何残留的多余涂层(非图像区域和/或罩面层中的辐射敏感涂层)。因此,本发明的方法可以被解释为通过用冲洗液处理而进行的“传统显影”(即通过显影剂水溶液除去辐射敏感涂层的未曝光区域)与在印刷机上(on-press)显影的组合;在本发明中,用冲洗液处理不仅除去辐射敏感涂层的未曝光区域,还在单个步骤中也除去罩面层,并提供了涂胶,从而避免了罩面层洗除、漂洗和单独涂胶的单独步骤。
在下列实施例中更详细描述本发明;但是,它们不是要以任何方式限制本发明。
实施例
使用下列缩写:
实施例1-10和对比例1-15
使用聚乙烯基膦酸(PVPA)水溶液后处理的电化学颗粒化和阳极化的铝箔在过滤溶液后用如表1至6中所示的组合物涂布。将版在90℃下干燥4分钟;所得干涂层重量显示在表1中。
将所得样品用聚(乙烯醇)(来自Airproducts的Celvol 203,水解度88%)的水溶液罩面以产生在90℃下干燥4分钟后具有如表1中所概括的罩面层干涂层重量的印刷版前体。
版1至5的曝光如下进行:
用来自Creo(830nm)的Trendsetter 3244,对成像版#2和#3使用含有用于评测复制件品质的不同元件的UGRA/FOGRA Postscript Stripversion 2.0 EPS(可获自UGRA)。
用配有在405纳米下发光的激光二极管(P=30mW,cw)的图像照排机(A750M,来自Lithotech)将印刷版#1和#4曝光。使具有指定色调值的UGRA灰度标V2.4(所有数据都线性化以大致获得所需色调值)照射到上述版前体上。另外,使用UGRA胶印试验标度(scale)1982以总曝光量测定版的敏感性。
使用UGRA胶印试验标度1982用配有Ga掺杂Hg灯的Theimer真空晒版架照射印刷版#5。
版的进一步冲洗如下:
样品号1、2和5在曝光后直接预热。
所有版直接在配有2个硬毛刷辊的TDP 60(Kodak PolychromeGraphics)单浴冲洗机中用如表7中所示的冲洗液(在表7中,“CD”是指对比冲洗液)处理,在所述处理之前没有任何洗涤步骤。通过出口挤压辊除去过量液体并将版用温空气干燥;不进行附加洗涤步骤和涂胶步骤。
将由此制成的版装在使用润版液和研磨油墨的片材给料胶版印刷机中(可获自Sun Chemical的Offset S 7184,其含有10%碳酸钙)。检查无图像区域的脏版情况(scumming)。如果该版在少于100个复制件内不整洁,印刷试验在1000个复制件时过早停止。否则,制造至多20 000个复制件,但除非另行指明,可继续印刷工作。
进行下列试验:
可显影性:
对可显影性的评估而言,将5×30平方厘米的未曝光版条带浸入置于玻璃烧杯中的相应显影剂中,并每5秒将条带降至更深入显影剂4厘米。在此之前,将版#1、#2和#5在炉中在90℃下处理2分钟。在总共50秒后,将条带从显影剂中拉出,用水漂洗,并记录到达第一清洁步骤的时间作为显影时间。
对405纳米辐射敏感的版(版#1、#4和#5)的光敏性:
使用上文公开的制版机在泛光照明下评测在405纳米下曝光的版的感光度(photospeed)。对这些版测得的感光度是在显影后获得UGRA标度的两个灰度进阶所需的能量。
对830纳米辐射敏感的版(版#2和#3)的光敏性:
通过使版暴露在不同能量下,评测在830纳米下曝光的版的感光度(表3中公开的配方)。在显影后获得所有微结构元件的清晰图像所需的最低能量被取作与这种系统的光敏性相关的量。
卷起(Roll up):
计数印刷清晰图像之前所需的纸张数。当需要少于20张时,该性能被视为令人满意。
可以从表8中推导出上述试验的结果。
表1
表2
表3
表4
表5
表6
表7
表8 实施例1-10和对比例1-15的结果
在实施例1-10中,在无预洗或后漂洗的在单浴冲洗机中使用冲洗液D1和D2的试验表现出良好的卷起性能且在印刷开始或重启时在印刷机上无脏版情况。使用含有碱性剂和表面活性剂但不含亲水成膜聚合物如Sorbidex的显影剂的对比例1-5表现出良好的可显影性,但印刷机上的脏版情况严重。对于含有亲水聚合物和表面活性剂但不含碱性剂的(冲洗液)对比例6-15,不可以从涂布版上除去非图像区域。
Claims (12)
1.制造成像的平版印刷版的方法,包括:
(a)用可自由基聚合涂层所敏感的辐射依图像曝光负性工作的平版印刷版前体,该前体包含
(i)具有亲水表面的基底
(ii)可自由基聚合涂层和
(iii)不透氧的水溶性或分散性罩面层
(b)用水性的碱性冲洗液处理依图像曝光的前体,该冲洗液包含
(i)水
(ii)至少一种表面活性剂
(iii)至少一种水溶性成膜亲水聚合物,所述水溶性成膜亲水聚合物选自多羟基化合物和淀粉衍生物
(iv)至少一种碱性试剂,其量足以使冲洗液获得9.5至14的pH,和
(v)任选一种或多种选自有机溶剂、抗微生物剂、络合剂、缓冲物质、滤光染料、防沫剂、防腐蚀剂和自由基抑制剂的添加剂,
(c)从步骤(b)中获得的处理过的前体中除去任何过量的冲洗液,
(d)任选干燥,
(e)任选烘烤,
(f)将步骤(c)、(d)或(e)中获得的前体安装在印刷机上,然后使其同时或随后与润版液和印刷油墨接触,
前提是在步骤(a)至(f)任意之间没有洗涤步骤。
2.根据权利要求1的方法,其中可自由基聚合涂层对波长选自250至750纳米范围的辐射敏感,且在步骤(a)中,前体依图像曝光在波长选自250至750纳米范围的辐射下。
3.根据权利要求1的方法,其中可自由基聚合涂层对波长选自从大于750至1200纳米范围的辐射敏感,且在步骤(a)中,前体依图像曝光在波长选自从大于750至1200纳米范围的辐射下。
4.根据权利要求1至3任一项的方法,其中水溶性成膜亲水聚合物选自糊精和糖醇。
5.根据权利要求1的方法,其中冲洗液具有10.5至13的pH值。
6.根据权利要求1的方法,其中冲洗液包含非离子型表面活性剂。
7.根据权利要求1的方法,其中步骤(b)在冲洗液浴中进行。
8.根据权利要求1的方法,其中在步骤(c)中通过挤压辊除去过量冲洗液。
9.根据权利要求1的方法,其中该方法由步骤(a)、(b)、(c)、(d)和(f)构成。
10.根据权利要求1的方法,其中该方法在步骤(a)和(b)之间进一步包括预热步骤。
11.根据权利要求1的方法,其中步骤(c)不是洗涤步骤。
12.根据权利要求11的方法,其中在步骤(b)后没有涂胶步骤。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP06012306A EP1868036B1 (en) | 2006-06-14 | 2006-06-14 | Method for processing of photopolymer printing plates with overcoat |
EP06012306.4 | 2006-06-14 | ||
PCT/EP2007/004988 WO2007144096A1 (en) | 2006-06-14 | 2007-06-05 | Method for processing of photopolymer printing plates with overcoat |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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CN101467104A CN101467104A (zh) | 2009-06-24 |
CN101467104B true CN101467104B (zh) | 2013-07-24 |
Family
ID=37461510
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN200780022075.8A Active CN101467104B (zh) | 2006-06-14 | 2007-06-05 | 带有罩面层的光致聚合物印刷版的冲洗方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8105755B2 (zh) |
EP (1) | EP1868036B1 (zh) |
JP (1) | JP5113162B2 (zh) |
CN (1) | CN101467104B (zh) |
DE (1) | DE602006017047D1 (zh) |
WO (1) | WO2007144096A1 (zh) |
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JP5422134B2 (ja) | 2008-03-25 | 2014-02-19 | 富士フイルム株式会社 | 浸漬型平版印刷版用自動現像方法 |
JP5264427B2 (ja) | 2008-03-25 | 2013-08-14 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
JP5020871B2 (ja) * | 2008-03-25 | 2012-09-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製造方法 |
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JP4914864B2 (ja) | 2008-03-31 | 2012-04-11 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
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JP5248203B2 (ja) | 2008-05-29 | 2013-07-31 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版現像用処理液及び平版印刷版の作製方法 |
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- 2006-06-14 DE DE602006017047T patent/DE602006017047D1/de active Active
- 2006-06-14 EP EP06012306A patent/EP1868036B1/en not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-06-05 JP JP2009514672A patent/JP5113162B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-06-05 WO PCT/EP2007/004988 patent/WO2007144096A1/en active Application Filing
- 2007-06-05 CN CN200780022075.8A patent/CN101467104B/zh active Active
- 2007-06-05 US US12/300,206 patent/US8105755B2/en not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
DE602006017047D1 (de) | 2010-11-04 |
US8105755B2 (en) | 2012-01-31 |
CN101467104A (zh) | 2009-06-24 |
WO2007144096A1 (en) | 2007-12-21 |
EP1868036A1 (en) | 2007-12-19 |
EP1868036B1 (en) | 2010-09-22 |
JP5113162B2 (ja) | 2013-01-09 |
JP2009540377A (ja) | 2009-11-19 |
US20090148794A1 (en) | 2009-06-11 |
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---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
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C10 | Entry into substantive examination | ||
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C14 | Grant of patent or utility model | ||
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