CN101390018B

CN101390018B - 制造平版印版的方法

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Publication number: CN101390018B
Application number: CN2006800052495A
Authority: CN
Inventors: H·鲍曼; U·费巴希; U·德瓦斯; B·施特雷梅尔; M·弗卢格尔; H·-J·廷珀
Original assignee: Kodak Polychrome Graphics GmbH
Current assignee: Kodak Polychrome Graphics GmbH
Priority date: 2005-02-18
Filing date: 2006-02-01
Publication date: 2012-06-13
Anticipated expiration: 2026-02-01
Also published as: DE102005007615B3; EP1849042B1; US20080145790A1; WO2006087102A3; CN101390018A; EP1849042A2; WO2006087102A2

Abstract

制造平版印版的方法，该方法包括：(a)提供具有亲水性表面的平版底材；(b)将阴图制版辐射感光组合物施涂于该亲水性表面上，其中该组合物包括：(i)一种或多种类型的单体和/或低聚物和/或聚合物，各自包括至少一个可供自由基聚合的烯属不饱和基团，(ii)至少一种感光剂，在至少一种助引发剂的存在下，在用波长300到＜480nm或＞750到1,100nm的辐射照射时该感光剂引发组分(i)的自由基聚合；和(iii)至少一种具有酸性官能团的粘结剂，并且该组合物对480-750nm的波长范围基本上不感光；(c)取决于所使用的感光剂或引发剂体系，所得阴图制版平版印版前体用选自波长范围为300到＜480nm或＞750到1,100nm的辐射中的辐射成像曝光；和(d)通过用pH值为9-14的碱性显影剂处理而除去未照射区，该碱性显影剂包括：(i)水，(ii)其量足以将pH值调节在9-14范围内的一种或多种碱金属氢氧化物，和(iii)1-30wt％的至少一种式(I)的化合物，其中R¹、R²、R³和R⁴各自独立地选自C₁-C₁₂烷基和芳基，X选自-CH＝CH-，-C≡C-，式(II)、式(III)和式(IV)，n+m为2-30的值，p+q为0-30的值，其中在p+q≠0的情况下，氧化乙烯和氧化丙烯单元作为嵌段存在或无规分布。

Description

制造平版印版的方法

技术领域

本发明涉及制造平版印版的方法。本发明此外涉及根据该方法制造的印版。

背景技术

平版印刷以油和水的不混溶性为基础，其中油性材料或印刷油墨优选被图像区所接受，而水或润版药水优选被非图像区所接受。当适当形成的表面用水润湿并施用印刷油墨时，背景或非图像区接受水并排斥印刷油墨，而图像区接受印刷油墨并排斥水。图像区中的印刷油墨然后转移到材料如纸张、织物等的表面上，在该表面上形成了图像。然而，印刷油墨通常首先转移到称之为橡皮布(blanket)的中间材料上，然后印刷油墨被转移到所要形成图像的材料的表面上；该技术被称为平版胶印术。

通常使用的一类平版印版前体包括施涂于铝基底材上的光敏涂层。该涂层能够对辐射起反应，使得曝光部分被溶解，在显影过程中被除去。这种印版被称为阳片版。另一方面，如果涂层的曝光部分被辐射所硬化，那么该印版被称为阴片版。在两种情况下，保留的图像区接受印刷油墨，即，是亲油性的，而非图像区(背景)接受水，即，是亲水性的。图像区和非图像区之间的差别在曝光期间产生，为此，将薄膜在真空下-以便保证良好的接触-附着于印版前体上。该印版然后用辐射源来曝光。当使用阳片版时，对应于印版上图像的薄膜上的区域是不透明的，光不能达到印版，而对应于非图像区的薄膜上的区域是透明的，允许光透过该涂层，其溶解性增高。在阴片版的情况下，发生了相反的情况：对应于印版上的图像的薄膜上的区域是透明的，而非图像区是不透明的。透明薄膜区域下的涂层由于入射光而被硬化，而光未达到的区域在显影过程中被除去。阴片版的光硬化表面因此是亲油性的，接受印刷油墨，而通常用通过显影剂除去的涂层涂布的非图像区感光性降低，因此是亲水性的。

另外，印版还可以数字曝光，不用薄膜，例如用紫外激光器。

光敏混合物已经在光聚合组合物中使用多年了，用于制备光敏材料，例如印版前体。

然而，新的、先进的应用(例如用激光曝光)需要改进的感光性，尤其在紫外线和可见光谱范围内的改进的感光性。此外，印版应该在印刷过程中转印一致的色调值，并且在印刷时没有调色的倾向性。试验表明，这些性能很大程度受用于显影的液体类型的影响。因此，对改进的印版显影剂具有很高的要求。

文献DE 32 23 386A1描述了包括重氮邻萘醌的阳图制版辐射感光涂层的显影方法。用于该目的的显影剂例如包括表面活性剂乙氧基化烷烃二醇。该显影剂的目的是防止重氮邻萘醌所需的显影剂的高碱度而造成的对底材表面的侵袭。

文献EP-A1-1 115 035和US 6,455,234 B1描述了烷氧基化炔二醇，它们在半导体的生产过程中作为表面活性剂引起了显影剂的低表面张力，同时减少了发泡。水性光刻胶显影剂包括10-10,000ppm的烷氧基化衍生物以及0.1-3wt％的四甲基氢氧化铵。已经发现，这种显影剂在平版印版中导致了强烈的网点锐化。

EP-A2-1 253 472公开了用于感红外光的阳图制版平版印版前体的碱性显影剂，例如包括硅酸盐或非还原糖和炔二醇或其乙氧基化衍生物。已经发现，使用硅酸盐获得了在印刷期间具有调色倾向性的印版；此外，使用还原糖导致了显影机的淤泥形成。

EP-A1-0 732 628描述了包含碱金属硅酸盐或偏硅酸盐、非离子表面活性剂和阴离子或两性表面活性剂的含水碱性显影剂。给出了许多非离子表面活性剂的实例，尤其乙氧基化四甲基癸炔二醇。然而，已经发现，使用这种显影剂导致了印刷过程中的调色问题。

JP2000-056480描述了除了水以外包括羟基胺、pKa＝7.5-13、水溶性有机溶剂和炔属醇/环氧烷加合物的光刻胶剥离剂。然而，已经发现，这些溶液导致了平版印版的强烈的网点锐化。

DE 44 11 176A1涉及包括碱金属硅酸盐和糖醇的水溶性环氧乙烷加合物的预感光平版印版的显影剂。

在文献EP-A1-1 199 606中，除了无机碱试剂以外还包括携带聚氧化烯醚基的非离子表面活性剂的显影剂溶液用于显影阴图制版平版印版前体。EP 1 353 235A1，US 6,686,126B2，EP1 172 699A1，US3,586,504，EP 1 346 843A1和US 6,641,980B2描述了具有包括聚氧化亚烷基醚基的非离子表面活性剂的其它显影剂。

US 4,098,712公开了可以包括聚乙二醇的烷基醚和烷芳基醚作为表面活性剂的碱性显影剂溶液。

US 4,959,296描述了制备不用润版药水印刷的平版印版的显影剂；这些显影剂可以包括具有聚氧化乙烯单元的非离子表面活性剂。

文献EP 0 111 136A2和EP 0 269 760A1描述了用于胶印的润版药水组合物；这些组合物例如可以包括2，4，7，9-四甲基-5-癸炔-4，7-二醇的乙氧基化产物作为润湿剂。

US 2004/0,053,172A1提出了烷氧基化炔二醇的溶液，用于改进涂布之前的底材的表面润湿能力。

文献JP 08-286386和JP2000-194135描述了在照射时释放酸的组分以及被酸破坏和因此在显影剂中变得可溶的树脂的正性光刻胶组合物。包括具有乙炔-聚氧化乙烯结构的表面活性剂的四甲基氢氧化铵的溶液用作显影剂；这种显影剂在JP10-171128中也有述。

JP2003-162072描述了包括在辐射感光涂层中包含二茂钛引发剂的阴图制版平版印版前体。用于这些前体的显影剂包括几种碱试剂以及炔醇和/或炔二醇与聚氧化烯醚表面活性剂。

EP 1 260 867A1描述了包括非离子表面活性剂的阴图制版的感红外涂层的显影剂；所列举的表面活性剂包括聚氧化烯单元。

US 6,638,687B2和EP 1 213 619A1描述了阴图制版平版印版前体，其涂层包括难以生产和因此昂贵的特殊尿烷粘结剂。用于这些前体的显影剂包括具有聚氧化烯醚基的非离子表面活性剂。

WO 02/31599描述了用于阴图制版平版印版前体的水性显影剂，包括一种或多种阻光染料或者一种或多种自由基抑制剂。借助于这些组分，可以大大减少或防止显影机中的淤泥形成。

DE 198 45 605A1涉及包括两性表面活性剂、阴离子表面活性剂、络合剂、氨基醇和N-烷氧基化单官能或多官能胺的碱性含水显影剂浓缩物。根据该文件，显影剂可以由该浓缩物制备，该浓缩物适合于印版前体等的阳图制版、阴图制版和逆转法涂布，并且不会导致显影机中淤泥形成。

EP 0 080 042A1公开了具有酸值为10-200的高分子有机聚合物和重氮树脂的光硬化涂层的显影剂；该显影剂包括有机溶剂、碱试剂、表面活性剂和水软化剂；聚二醇烷基苯基醚和聚二醇烷基醚例如作为非离子表面活性剂提到。水软化剂用于防止显影机中淤泥形成。

发明内容

本发明的目的是提供制造平版印版的方法，该平版印版允许高显影速度，在显影机中不形成或很少形成淤泥；同时，当印版用于印刷时不出现调色问题，并且相对网点锐化应该是低的。此外，该印版前体应表现黄光稳定性，在该方法中使用的显影剂不应侵袭泵阀的密封。还有，显影剂应需要尽可能少的组分。

本发明的目的通过一种制造平版印版的方法来达到，该方法包括：

(a)提供具有亲水性表面的平版底材，以及

(b)将阴图制版辐射感光组合物施涂于该亲水性表面上，其中该组合物包括：

(i)一种或多种类型的单体和/或低聚物和/或聚合物，各自包括至少一个自由基聚合可用的烯属不饱和基团，

(ii)至少一种感光剂，在至少一种助引发剂的存在下，在用波长300到＜480nm或＞750到1,100nm的辐射照射时该感光剂引发组分(i)的自由基聚合；和

(iii)至少一种具有酸性官能团的粘结剂，并且该组合物对480-750nm的波长范围基本上不感光；

(c)取决于所使用的感光剂或引发剂体系，所得阴图制版平版印版前体用选自波长范围为300到＜480nm或＞750到1,100nm的辐射中的辐射成像曝光；和

(d)通过用pH值为9-14的碱性显影剂处理而除去未照射区，该碱性显影剂包括：

(i)水

(ii)其量足以将pH值调节在9-14范围内的一种或多种碱金属氢氧化物，和

(iii)1-30wt％的至少一种式(I)的化合物：

其中R¹、R²、R³和R⁴各自独立地选自C₁-C₁₂烷基和芳基，

X选自-CH＝CH-，-C≡C-，

和

n+m为2-30的值，

p+q为0-30的值，其中在p+q≠0的情况下，氧化乙烯和氧化丙烯单元作为嵌段存在或无规分布。

具体实施方式

本发明中所使用的术语平版印版(还称为“平版印刷表单(form)”)是指由平版印版前体制备的成像印版。

除非另有规定，本发明中使用的术语“烷基”是指优选包括1-18个碳原子，尤其优选1-10个碳原子和最优选1-6个碳原子的直链、支化或环状饱和烃基。该烷基可以任选包括一个或多个例如选自卤素原子(氟、氯、溴、碘)、CN、NO₂、NR⁷ ₂、COOR⁷和OR⁷(R⁷独立地表示氢原子、烷基或芳基)中的取代基(优选0或1个取代基)。以上定义还适用于芳烷基和烷氧基的烷基单元。

除非另有规定，本发明中所使用的术语“芳基”是指具有一个或多个稠环的芳族碳环基团，优选含有5-14个碳原子。芳基可以任选含有一个或多个例如选自卤素原子、烷基、烷氧基、CN、NO₂、NR⁷ ₂、COOR⁷和OR⁷(其中每一R⁷独立地选自氢、烷基和芳基)中的取代基(优选0-3个)。以上定义还适用于芳烷基的芳基单元和芳氧基的芳基单元。优选的实例包括可以任选被取代的苯基和萘基。

可自由基聚合的组分

可自由基聚合的且包括至少一个C-C双键的所有单体、低聚物和聚合物可以用作烯属不饱和单体、低聚物和聚合物。还可以使用具有C-C三键的单体/低聚物/聚合物，但它们不是优选的。适合的化合物是本领域技术人员所公知的，并且可以在本发明中没有任何特定限制地使用。单体、低聚物或预聚物形式的具有一个或多个不饱和基团的丙烯酸和甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、异巴豆酸、马来酸和富马酸的酯是优选的。此外，可以使用包括苯乙烯基团的单体、低聚物和预聚物。它们可以固态或液态存在，其中固态和高粘性形式是优选的。适合作为单体的化合物例如包括三羟甲基丙烷三丙烯酸酯和三甲基丙烯酸酯，季戊四醇三丙烯酸酯和三甲基丙烯酸酯，二季戊四醇单羟基五丙烯酸酯和五甲基丙烯酸酯，二季戊四醇六丙烯酸酯和六甲基丙烯酸酯，季戊四醇四丙烯酸酯和四甲基丙烯酸酯，双三羟甲基丙烷四丙烯酸酯和四甲基丙烯酸酯，二甘醇二丙烯酸酯和二甲基丙烯酸酯，三甘醇二丙烯酸酯和二甲基丙烯酸酯或四甘醇二丙烯酸酯和二甲基丙烯酸酯。适合的低聚物和/或预聚物例如是尿烷丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，环氧丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，聚酯丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，聚醚丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯或不饱和聚酯树脂。

除了单体和/或低聚物以外，还可以使用主链或侧链包括可自由基聚合的C-C双键的聚合物。它们的实例包括马来酸酐共聚物和(甲基)丙烯酸羟烷基酯的反应产物(例如参见DE-A-4 311 738)；用烯丙醇部分或完全酯化的(甲基)丙烯酸聚合物(例如参见DE-A-3 332 640)；聚合多元醇和(甲基)丙烯酸异氰酸根烷基酯的反应产物；不饱和聚酯；(甲基)丙烯酸酯封端的聚苯乙烯；具有苯乙烯侧基的聚合物(参见US 6,746,820)；聚(甲基)丙烯酸酯，聚(甲基)丙烯酸，聚(甲基)丙烯酰胺；用包括可自由基聚合基团的环氧化物部分或完全酯化的(甲基)丙烯酸聚合物；以及携带烯丙基侧基的聚合物，它例如可以通过(甲基)丙烯酸烯丙酯(任选与其它共聚单体)的聚合所获得。

可以在本发明中使用的可自由基聚合的单体还包括分子量为3,000或更低且属于通过让二异氰酸酯与(i)携带羟基的烯属不饱和化合物和(ii)携带一个NH基团和一个OH基团的饱和有机化合物反应所获得的反应产物的化合物，其中各反应剂以符合以下条件的量使用：

异氰酸酯基的摩尔数≤OH+NH基团的摩尔数。

二异氰酸酯的实例用下式表示：

O＝C＝N-(CR⁸ ₂)_a-D-(CR⁸ ₂)_b-N＝C＝O (II)

其中a和b独立地表示0或整数1-3，各R⁸独立地选自H和C₁-C₃烷基，D是饱和或不饱和间隔基，除了两个异氰酸酯基以外，它任选可以包括其它取代基。D可以是链形或环形单元。本发明中所使用的术语“二异氰酸酯”是指含有两个异氰酸酯基、但没有OH基团和没有仲氨基或伯氨基的有机化合物。

R⁸优选是H或CH₃。

a和b优选独立地是0或1。

D例如可以是亚烷基(CH₂)_w，其中w是1-12，优选1-6的整数，一个或多个氢原子任选被诸如烷基(优选C₁-C₆)、亚环烷基、亚芳基或饱和或不饱和杂环基之类的取代基置换。

适合的二异氰酸酯例如是以下这些：

三甲基六亚甲基二异氰酸酯

1，6-双-[异氰酸酯]-己烷

5-异氰酸酯-3-(异氰酸根甲基)-1，1，3-三甲基环己烷

1，3-双-[5-异氰酸酯-1，1，3-三甲基-苯基]-2，4-二氧代-1，3-二氮杂环丁烷

3，6-双-[9-异氰酸根壬基]-4，5-二-(1-庚烯基)-环己烯

双-[4-异氰酸酯-环己基]-甲烷

反式-1，4-双-[异氰酸酯]-环己烷

1，3-双-[异氰酸根甲基]-苯

1，3-双-[1-异氰酸酯-1-甲基-乙基]-苯

1，4-双-[2-异氰酸根乙基]-环己烷

1，3-双-[异氰酸根甲基]-环己烷

1，4-双-[1-异氰酸酯-1-甲基-乙基]苯

双-[异氰酸酯]-异十二烷基-苯

1，4-双-[异氰酸酯]-苯

2，4-双-[异氰酸酯]-甲苯

2，6-双-[异氰酸酯]-甲苯

N，N’-双-[3-异氰酸酯-4-甲基-苯基]脲

1，3-双-[3-异氰酸酯-4-甲基-苯基]-2，4-二氧代-1，3-二氮杂环丁烷

双-[2-异氰酸酯-苯基]-甲烷

(2-异氰酸酯-苯基)-(4-异氰酸酯-苯基)-甲烷

双-[4-异氰酸酯-苯基]-甲烷

1，5-双-[异氰酸酯]-萘

4，4’-双-[异氰酸酯]-3，3’-二甲基-联苯

含有羟基的烯属不饱和化合物(i)包括至少一个非芳族C-C双键，优选末端C-C双键。该羟基优选不键接于双键碳原子；该羟基不是羧基的一部分。除了一个羟基以外，烯属不饱和化合物(i)不包括任何其它官能团，例如NH，它可以与异氰酸酯反应。

烯属不饱和化合物(i)的实例包括：

(甲基)丙烯酸羟基(C₁-C₁₂)烷基酯(例如，(甲基)丙烯酸2-羟乙基酯，(甲基)丙烯酸2-或3-羟丙基酯，(甲基)丙烯酸2-，3-或4-羟丁基酯)，羟基(C₁-C₁₂)烷基(甲基)丙烯酰胺(例如，2-羟乙基(甲基)丙烯酰胺，2-或3-羟丙基(甲基)丙烯酰胺，2-、3-或4-羟丁基(甲基)丙烯酰胺)，低聚或聚合乙二醇或丙二醇的单(甲基)丙烯酸酯(例如，聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯，三甘醇单(甲基)丙烯酸酯)，烯丙醇，季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯，4-羟基(C₁-C₁₂)烷基苯乙烯(例如4-羟甲基苯乙烯)，4-羟基苯乙烯，(甲基)丙烯酸羟基环己基酯。

本发明中所使用的术语“(甲基)丙烯酸酯”等既表示甲基丙烯酸酯，又表示丙烯酸酯等。

饱和有机化合物(ii)是具有一个OH和一个NH基团的化合物。

饱和有机化合物(ii)例如可以用下式(III)或(IV)来表示：

其中R⁹是直链(优选C₁-C₁₂，尤其优选C₁-C₄)，支化(优选C₃-C₁₂，尤其优选C₃-C₆)或环状(优选C₃-C₈，尤其优选C₅-C₆)烷基，

E是直链(优选C₁-C₆，尤其优选C₁-C₂)，支化(优选C₃-C₁₂，尤其优选C₃-C₆)或环状(优选C₃-C₈，尤其优选C₅-C₆)亚烷基，

表示具有5-7个环原子的饱和杂环，除了以上所示氮原子以外，它还任选包括另一选自S、O和NR¹¹中的杂原子，其中R¹¹ 是任选被OH基团取代的烷基，

R¹⁰是OH或被OH基团取代的直链、支化或环烷基，和

如果该杂环包括NR¹¹和R¹¹是被OH取代的烷基，那么z＝0，

如果该饱和杂环不包括NR¹¹或如果该饱和杂环包括NR¹¹且R¹¹是未取代的烷基，那么z＝1。

在式(III)的化合物中，其中E表示-CH₂CH₂-和R₉是直链C₁-C₁₂ (优选C₁-C₄)烷基的那些是优选的。

在式(IV)的化合物中，其中在环中不存在另外的杂原子且R¹⁰ 是被OH取代的烷基的那些(即，羟烷基取代的哌啶)或者在环中存在基团NR¹¹且R¹¹是被OH取代的烷基的那些(即，N-羟烷基取代的哌嗪)是优选的。

尤其，以下化合物应该作为化合物(ii)提到：

2-或3-(2-羟乙基)哌啶，

2-或3-羟甲基哌啶，

N-(2-羟乙基)哌啶和

N-(2-羟甲基)哌嗪。

异氰酸酯基的摩尔数必须不超过OH基团和NH基团的总摩尔数，因为该产物不应再包括任何游离异氰酸酯基。

二异氰酸酯和烯属不饱和化合物(i)和饱和化合物(ii)的反应通常在非质子溶剂如酮(例如丙酮，甲基乙基酮，二乙基酮，环戊酮和环己酮)、醚(例如二乙醚，二异丙基醚，四氢呋喃，二噁烷和1，2-二氧戊环)和酯(例如乙酸乙酯，乙酸甲酯，乙酸丁酯，二乙酸乙二醇酯，乳酸甲酯和乳酸乙酯)或工业溶剂如乙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单甲醚乙酸酯等中进行。

优选采用缩合反应用催化剂。可以采用所有已知适用于缩合反应的催化剂。实例包括叔胺，如三乙胺，吡啶等和锡化合物，如二月桂酸二丁基锡。

该反应优选在10-120℃，尤其优选30-70℃的温度下进行。

在优化合成条件下，可以获得均匀的产物。然而，通常，必须假定形成了混合产物。产物的分子量应为3,000或更低。在混合产物的情况下，该分子量是重均分子量。可以使用均匀反应产物和混合产物作为本发明中的可自由基聚合的化合物。

其它适合的C-C不饱和可自由基聚合的化合物例如在EP 1 176007A1中描述。

当然在该混合物中可以采用不同类型的单体、低聚物或聚合物；此外，可以在本发明中使用单体和低聚物和/或聚合物的混合物，以及低聚物和聚合物的混合物。以由本发明的辐射感光组合物制备的辐射感光涂层的干燥层重量为基准计，可自由基聚合的单体/低聚物/聚合物的存在量优选为5-95wt％；如果使用单体/低聚物，尤其优选为20-85wt％。本发明中所使用的术语“辐射感光涂层的干燥层重量”因此与术语“辐射感光组合物的固体”同义。

感光剂和助引发剂

作为另一种必要组分，辐射感光涂层包括在助引发剂的存在下照射时引发可自由基聚合的单体的自由基聚合的感光剂。根据本发明的辐射感光元件是否能够用紫外射线(300到＜480nm)或红外射线(＞750到1,100nm)成像取决于感光剂的类型。

在吸收紫外射线(300到＜480nm)时直接形成自由基的光引发剂是本领域技术人员所已知的，例如在K.K.Dietliker：“Chemistry &Technology of UV & EB formulation for coatings，inks & prints”，第3卷(SITA Technology，伦敦(1991))中有述。在用紫外射线照射时直接形成自由基的这些光引发剂获得了低感光度。因此，在本发明中使用更有效的感光剂和助引发剂的组合。为了获得更有效的感光剂和助引发剂的组合，基于该技术知识，本领域技术人员选择其中由感光剂吸收的激发能借助助引发剂以高效率转化为自由基，该自由基然后引发单体、低聚物和/或反应性粘结剂的聚合的组合。在选择感光剂和助引发剂时，必须考虑诸如感光剂的激发波长、单线态和三线态能、激发态的寿命、荧光和磷光量子收率与吸收系数以及感光剂和助引发剂的半波还原和半波氧化电位。此外，必须调节感光剂/助引发剂体系以适应相应的辐射源，并且在该层中必须选择适合的浓度，使得吸收足够的辐射，包括足够部分的在底材表面的附近的辐射。

在本发明的范围内，当结合下列组合时，感光剂/助引发剂组合是有效的：

(a)至少一种吸收紫外射线或红外射线(即，300到＜480nm或＞750到1,100nm的辐射)但本身不形成自由基的感光剂，和

(b)至少一种本身基本上不吸收紫外或红外射线(300到＜480nm或＞750到1,100nm)但与感光剂一起形成自由基的助引发剂。

在本发明的范围内，这些感光剂/助引发剂组合被分为两组，即，其中至少一种感光剂吸收300到＜480nm范围内的辐射并且优选显示了在该范围内的最大吸收(还简称为“紫外线感光剂”或“紫外线吸收剂”)的那些，以及其中至少一种感光剂吸收＞750到1,100nm的辐射并且优选显示了该范围内的最大吸收(还简称为“红外吸收剂”)的那些。

如果使用前一组的感光剂/助引发剂组合，那么获得了红外线感光元件，而使用后一组的引发剂体系获得了紫外线感光元件。

下文中使用的术语“红外线感光组合物或涂层”是指对＞750到1,100nm的辐射感光的组合物或涂层。下文中使用的术语“紫外线感光组合物或涂层”是指对300到＜480nm的辐射感光的组合物或涂层。

本文中的术语“感光”是指所提到的波长范围的辐射以使得能够引发照射区中印版前体的涂层的聚合和因此在足以形成成像印版的显影过程中获得照射区和非照射区的溶解速率的差别的这种程度被吸收。

1，4-二氢吡啶类、噁唑类、双噁唑类和类似物以及香豆素类例如可以用作紫外线吸收感光剂。这种感光剂例如在DE 42 17 495A1，DE44 18 645C1，DE 3 801 065C2，EP 1 041 074A1和DD 287 796A中有述。可以使用一种或多种紫外线感光剂；当使用两种或多种感光剂时，还可以使用不同化学类别的紫外线感光剂的组合。

式(V)的化合物优选用作1，4-二氢吡啶类的紫外线感光剂：

其中：

R¹选自氢原子，-C(O)OR⁷，任选取代的烷基，任选取代的芳基和任选取代的芳烷基，

R²和R³独立地选自任选取代的烷基，任选取代的芳基，CN和氢原子，

R⁴和R⁵独立地选自-C(O)OR⁷，-C(O)R⁷，-C(O)NR⁸R⁹和CN，

或者R²和R⁴一起形成了任选取代的苯环或5-7元碳环或杂环，其中以下单元：

存在于与二氢吡啶环的5位相邻的碳环或杂环上，其中该碳环或杂环任选包括其它取代基，

或者，R²与R⁴以及R³与R⁵均形成任选取代的苯环或5-7元碳环或杂环，其中以下单元：

存在于与二氢吡啶环的3位和5位相邻的碳环或杂环上，其中该碳环或杂环任选包括其它取代基，

或者两对R²/R⁴和R³/R⁵之一形成了5-7元碳环或杂环，其中以下单元：

存在于与二氢吡啶环的5位或3位相邻的碳环或杂环上，其中该碳环或杂环任选包括其它取代基，而另一对形成了任选取代的苯环，

或者R²与R¹或R³与R¹形成了5-7元杂环，该杂环可以任选包括一个或多个取代基，除了它与1，4-二氢吡啶环共有的氮原子以外，任选包括其它氮原子，-NR¹³基团，-S-或-O-，

R¹³选自氢原子，烷基，芳基和芳烷基，

R⁶选自任选被卤素原子或-C(O)基团取代的烷基，任选取代的芳基，任选取代的芳烷基，任选取代的杂环基和以下基团：

其中：

Y是亚烷基或亚芳基，

R⁷是氢原子，芳基，芳烷基或烷基，其中该烷基和该芳烷基的烷基单元任选包括一个或多个C-C双键和/或C-C三键，

以及R⁸和R⁹独立地选自氢原子，任选取代的烷基，任选取代的芳基和任选取代的芳烷基。

根据一个优选实施方案，R¹是氢原子。

如果R²和R³不与相邻的取代基形成环，那么它们优选独立地选自C₁-C₅烷基或芳基。

如果R⁴和R⁵不与相邻的取代基形成环，那么它们优选独立地选自-C(O)OR⁷。

R⁶优选选自C₁-C₅烷基或芳基。

R⁷优选选自C₁-C₅烷基，尤其优选的是，它表示甲基。

根据一个实施方案，1，4-二氢吡啶环被R²/R⁴和R³/R⁵的取代是对称的，即，R²＝R³和R⁴＝R⁵。

根据一个优选实施方案，R²和R³独立地选自任选取代的烷基，任选取代的芳基，CN和氢原子，以及R⁴和R⁵独立地选自-C(O)OR⁷，-C(O)R⁷，-C(O)NR⁸R⁹和CN。

适合作为紫外线感光剂的具体1，4-二氢吡啶衍生物是式(Va)、式(Vb)、式(Vc)、式(Vd)、式(Ve)、式(Vf)和式(Vg)的那些：

其中R¹和R⁶如以上所定义，

基团R^8a-R^8d和R^9a-R^9d独立地选自氢原子，烷基和芳基，其中相邻环碳原子的两个基团R⁹或R⁸还可以一起形成饱和或不饱和碳环或杂环或者稠合的芳环，

每一个U独立地选自CR¹³ ₂，O，S和NR¹³，以及

每一个R¹³独立地表示氢原子，烷基，芳烷基或芳基；

其中R¹和R⁶如以上所定义，和

基团R^10a-R^10d和R^11a-R^11d独立地选自氢原子，烷基，芳基，芳烷基，卤素原子(氟，氯，溴，碘)，CN，NR¹³ ₂，C(O)OR¹³和OR¹³ (每一个R¹³独立地表示氢原子，烷基，芳基或芳烷基)，其中相邻环碳原子的两个基团R¹¹或R¹⁰还可以一起形成不饱和碳环或杂环或者稠合的芳环；

其中R¹、R³、R⁵和R⁶如以上所定义，基团R^9a-R^9f独立地选自氢原子，烷基，芳基，芳烷基，卤素原子(氟，氯，溴，碘)，CN，NR¹³ ₂，C(O)OR¹³和OR¹³(R¹³独立地表示氢原子，烷基，芳基或芳烷基)，其中相邻环碳原子的两个基团R⁹还可以一起形成饱和或不饱和碳环或杂环或者稠合的芳环；

其中R¹、R²、R³、R⁴和R⁵如以上所定义，Y选自亚烷基和亚芳基，

其中R²、R⁴、R⁵和R⁶如以上所定义，基团R^9a-R^9f的定义同上式(Va)的基团R^9a-R^9d；

其中R²、R⁴、R⁵和R⁶如以上所定义，基团R^9a-R^9h的定义同上式(Va)的基团R^9a-R^9d；

其中R²、R⁴、R⁵和R⁶如以上所定义，基团R^11a-R^11d独立地选自氢，烷基，芳基，芳烷基，卤素原子(氟，氯，溴，碘)，CN，NR¹³ ₂，C(O)OR¹³和OR¹³(R¹³独立地表示氢原子，烷基，芳基或芳烷基)，其中相邻环碳原子的两个基团R¹¹还可以一起形成不饱和碳环或杂环或者稠合的芳环；

很显然，如果相邻环碳原子的两个基团R⁸或R⁹一起形成了稠环芳环，那么式(Va)、(Vc)、(Ve)和(Vf)中的基团R⁸或R⁹的数目减少。

在式(Va)的1，4-二氢吡啶衍生物中，R¹优选是氢原子，R⁶是甲基或苯基，U优选是O或CH₂；取代基R^8a-R^8d和R^9a-R^9d独立地优选选自氢原子和甲基。在式(Va)的衍生物中，在二氢吡啶环上具有对称取代的那些是特别优选的。

在式(Vb)的衍生物中，R¹优选是氢原子，R⁶优选是甲基或苯基。取代基R^10a-R^10d和R^11a-R^11d独立地优选选自C₁-C₅烷基，OR¹³ 和卤素原子；两个芳环的对称取代是尤其优选的。

在式(Vc)的1，4-二氢吡啶衍生物中，R¹优选是氢原子，R⁶是甲基或苯基，R³优选是甲基，R⁵优选是C(O)OR⁷(其中R⁷如以上所定义)。取代基R^9a-R^9f独立地优选选自C₁-C₅烷基。甲基是特别优选的。

在式(Vd)的衍生物中，Y优选是1，4-亚苯基或1，2-亚乙基。此外优选的是，两个基团R¹是相同的，两个基团R²是相同的，两个基团R³是相同的，两个基团R⁴是相同的，两个基团R⁵是相同的；对于式(V)给出的优选定义适用于所有基团R¹-R⁵。

在式(Ve)的衍生物中，R²优选是C₁-C₅烷基，R⁴优选是-C(O)OR⁷，R⁵优选是C(O)OR⁷和R⁶优选是C₁-C₅烷基或苯基(R⁷如以上所定义)。取代基R^9a-R^9f独立地优选选自C₁-C₅烷基。

在式(Vf)的衍生物中，R²优选是C₁-C₅烷基，R⁴优选是C(O)OR⁷，R⁵优选是C(O)OR⁷和R⁶优选是C₁-C₅烷基或苯基(R⁷如以上所定义)。取代基R^9a-R^9h优选独立地选自C₁-C₅烷基。

在式(Vg)的衍生物中，R²优选是C₁-C₅烷基，R⁴优选是C(O)OR⁷，R⁵优选是C(O)OR⁷和R⁶优选是C₁-C₅烷基或苯基。取代基R¹¹优选独立地选自C₁-C₅烷基。

在式(Va)-(Vg)的1，4-二氢吡啶衍生物中，式(Va)和(Vd)的那些是特别优选的。

可以在本发明中用作紫外线感光剂的1，4-二氢吡啶衍生物可以根据本领域技术人员公知的方法来制备，例如Hantzsch合成法。例如，参阅J.Org.Chem.30(1965)，第1914页及以下和Angew.Chem.[AppliedChemistry](Intern.)20(1981)，第762页及以下；其中所述的方法还能够通过相应改变起始化合物而用于合成没有具体公开的1，4-二氢吡啶类。

式(VI)的化合物优选用作噁唑类的紫外线感光剂：

其中R^d、R^e和R^f各自独立地选自卤素原子，任选取代的烷基，任选取代的芳基(还可以是稠合的)，任选取代的芳烷基，基团-NR’R”和基团-OR’”，

其中R’和R”独立地选自氢原子、烷基、芳基或芳烷基，

R’”是任选取代的烷基，芳基或芳烷基或氢原子，k、m和n独立地是0或1-5的整数。

优选地，R^d、R^e和R^f独立地选自卤素原子，C₁-C₈烷基和基团-NR’R”，其中R’和R”优选独立地选自氢原子和C₁-C₆烷基，

k、m和n优选独立地是0或1，优选，k+m+n≥1。

其中R^d、R^e和R^f的至少一个表示基团-NR’R”，而R’和R”优选独立地选自氢原子和C₁-C₆烷基，尤其优选R’＝R”＝C₁-C₆烷基的式(VI)的噁唑衍生物是特别优选的。

在本发明中用作紫外线吸收剂的噁唑衍生物可以根据本领域技术人员公知的方法来制备。在这方面，参考DE 120 875A1和EP 129059A1；在这些文件中所述的方法还可以通过相应改变起始化合物而用于合成在上述专利中没有具体描述的噁唑。

根据本发明，式(VII)的化合物，即，双噁唑类及其类似物，还可以用作紫外线感光剂：

其中X是包括至少一个与杂环共轭的C-C双键的间隔基，

D¹和D²独立地表示任选取代的稠合芳环，以及

V和W独立地选自O、S和NR，其中R选自可以任选单取代或多取代的烷基、芳基和芳烷基。

优选地，V＝W，表示O或NR。

R优选是C₁-C₁₂烷基。

间隔基X可以是链状或环状单元或它们的结合物。它优选选自：

亚苯基，任选包括一个或多个苯稠合的芳环(例如，亚萘基)，其中连接于该两个杂环的结合部位可以位于同一环或不同环上，

在以上所示的六元环中，优选的是，该结合部位是在1，4-位，在五元环中，2，5-位是优选的。以上所示的五元环和六元环可以任选包括一个或多个取代基，例如C₁-C₁₀烷基和卤素原子，即使它们在上式中未示出。

D¹和D²优选表示可以任选被取代的稠环芳环。

优选的式(VII)的紫外线感光剂用式(VIIa)、(VIIb)和(VIIc)表示：

其中p和q独立地是1-4的整数，每一基团R¹⁴和R¹⁵独立地选自卤素原子，烷基，芳基，芳烷基，烷氧基，芳氧基，芳烷氧基，饱和或非芳族不饱和碳环，稠合芳基，-SO₃H，-NR¹⁶ ₂，-COOR¹⁷和-COR¹⁷；

每一基团R¹⁶独立地是氢原子或烷基，每一基团R¹⁷独立地选自氢原子，烷基和芳基，以及

X和R如以上所定义。

R¹⁴和R¹⁵优选独立地选自-NR³ ₂，烷氧基和芳基。

R¹⁶优选是C₁-C₁₀烷基。

R¹⁷优选是C₁-C₁₀烷基。

可以在本发明中用作紫外线感光剂的式(VII)的化合物可以按照本领域技术人员公知的方法来制备。在这方面，参考A.Dorlars等人，Angew.Chemie[Applied Chemistry]，第87卷(1975)，693-707；其中所述的方法还可以通过相应改变起始化合物用于合成没有具体公开的化合物。

此外，可以使用式(VIII)的香豆素化合物作为辐射感光涂层中的紫外线感光剂：

其中：

R¹、R¹⁶、R¹⁷和R¹⁸独立地选自-H，卤素原子，C₁-C₂₀烷基，-OH，-OR⁴和-NR⁵R⁶，其中R⁴是C₁-C₂₀烷基，C₅-C₁₀芳基或C₆-C₃₀芳烷基(优选C₁-C₆烷基)，R⁵和R⁶独立地选自氢原子和C₁-C₂₀烷基，

或R¹和R¹⁶，R¹⁶和R¹⁷，或R¹⁷和R¹⁸一起与式(VIII)所示的苯环相邻的一个或两个位置上的选自N和O中的杂原子形成5或6元杂环，

或者R¹⁶或R¹⁷与其两个相邻取代基的每一个一起与式(VIII)所示的苯环相邻的一个或两个位置上的选自N和O中的杂原子形成5或6元杂环，

其中每一形成的5或6元杂环可以独立地被一个或多个C₁-C₆烷基取代，

前提是R¹、R¹⁶、R¹⁷和R¹⁸的至少一个不是氢或C₁-C₂₀烷基，

R²是氢原子，C₁-C₂₀烷基，C₅-C₁₀芳基或C₆-C₃₀芳烷基，以及

R³是氢原子，或选自下列之中的取代基：-COOH，-COOR⁷，-COR⁸，-CONR⁹R¹⁰，-CN，C₅-C₁₀芳基，C₆-C₃₀芳烷基，任选苯稠合的5或6元杂环基团，基团-CH＝CH-R¹²和以下基团：

其中R⁷是C₁-C₂₀烷基，R⁸是C₁-C₂₀烷基，或5或6元杂环基团，R⁹和R¹⁰独立地选自氢原子和C₁-C₂₀烷基，R¹¹是C₁-C₁₂烷基或烯基，非芳族杂环或任选具有选自O、S和N中的杂原子的C₅-C₂₀芳基，以及R¹²是C₅-C₁₀芳基或任选为芳族的5或6元杂环；

或者R²和R³与它们所键接的碳原子一起形成任选为芳族的5或6元环。

在一个实施方案中，R¹、R¹⁶、R¹⁷和R¹⁸之一是基团-NR⁵R⁶，尤其优选二甲基氨基或二乙基氨基。优选地，其它基团全部是氢原子。

在另一个实施方案中，R¹和R¹⁶，R¹⁶和R¹⁷，或R¹⁷和R¹⁸一起形成5或6元杂环，优选6元杂环，在与苯环相邻的一个或两个位置(优选一个)上具有选自N和O中的杂原子(优选N)；优选地，所形成的杂环是具有氮原子的饱和6元环。在该实施方案中，剩余基团(R¹⁷ 和R¹⁸，R¹和R¹⁸，或R¹和R¹⁶)优选表示氢原子。所形成的杂环可以包括一个或多个取代基，独立地选自C₁-C₆烷基(优选CH₃)，它们优选不在该杂原子处键接。

根据另一个实施方案，R¹⁶或R¹⁷与其两个相邻取代基的每一个一起形成5或6元(优选6元)杂环，在与苯环相邻的一个或两个位置(优选一个)上具有选自N和O中的杂原子(优选N)；优选地，所形成的两个杂环是两个具有共同氮原子的饱和6元环，即，所形成的两个杂环与式(VIII)中所示的苯环一起形成了久洛尼定单元。在该实施方案中，剩余基团(R¹⁸或R¹)优选表示氢原子。所形成的两个杂环(它们优选与苯环一起表示久洛尼定单元)可以被一个或多个取代基取代，其中所述取代基独立地选自C₁-C₆烷基(优选CH₃)。

取代基R²优选是氢原子或任选取代的C₁-C₆烷基，尤其优选H，-CH₃或-CF₃。

R³优选是选自-COOH，-COOCH₂CH₃，-COOCH₃，-CN和-CO-CH₃ 中的受体取代基。

最优选的式(VIII)的紫外线感光剂的实例包括下列化合物：

此外，可以使用式(IX)的化合物作为本发明中的紫外线感光剂，即，对于300到＜480nm的范围：

其中：

X选自O、S和Se；

n表示0或正整数；

m、p和q独立地是0或正整数；

π-单元和

独立地是不饱和单元，各自具有共轭π电子体系，它们以共价键连接于杂环单元：

与该单元一起再次形成共轭π电子体系，以及

基团R¹、R²和R³各自独立地选自氢原子，卤素原子，烷基，芳烷基，基团-NR⁴R⁵和基团-OR⁶，

其中R⁴、R⁵和R⁶独立地选自烷基、芳基和芳烷基。对于本领域技术人员来说，显而易见的是，由于在π-单元和

上可获得的结合部位的数目，取代基R¹、R²和R³的最大数目(即，m，p和q)是有限的；相同的原因适用于键接于

的杂环单元的最大数目(2+n)。

如果X＝O，那么获得了2，4，5-取代的噁唑类，

相应地，如果X＝S，那么获得了2，4，5-取代的噻唑类，

相应地，如果X＝Se，那么获得了2，4，5-取代的硒唑类；在这些化合物中，噁唑类和噻唑类是优选的，噁唑类是特别优选的。

n优选是0、1或2，尤其优选0或1。

取代的杂环单元

至少两次(n＝0)键接于

的这些取代基不必全部相同，即，对于

的每一个取代基来说，各个X、

R²，R³，p和q独立地选择。

不饱和单元

优选选自：

具有交替双键的多烯基因SUS-1：

其中z₁是正整数(优选1-3，尤其优选1或2)，和

R^a和R^b独立地选自H，烷基，芳基，卤素，-CN，-COOH和-COO-烷基(优选H，-CN和CH₃)，

具有交替三键的多炔基团SUS-2：

其中z₂是正整数(优选1或2，尤其优选1)，

属于具有(4n+2)π-电子的π-支化芳族单元的基团SUS-3，优选结构式SUS-3-a，SUS-3-b和SUS-3-c之一：

属于π-支化的缺电子杂芳族单元的基团SUS-4，优选基团SUS-4-a，SUS-4-b，SUS-4-c，SUS-4-d和SUS-4-e：

属于π-支化的富电子杂芳族单元的基团SUS-5，优选基团SUS-5-a，SUS-5-b或SUS-5-c：

其中X选自O、S和Se，以及

属于具有两个稠合芳环的π-支化的富电子杂芳族单元的基团SUS-6：

其中X¹表示杂原子，优选O、S、Se、NH或N-烷基(其中该烷基优选包括1-5个碳原子)，尤其优选O或S；

还可以使用上述基团SUS-1到SUS-6的组合作为单元

只要单元

和整个体系(IX)中的π-共轭不会由于该组合而失去。

在基团SUS-1到SUS-6中没有示出任选的取代基R¹。

尤其优选的是，表示：

尤其优选的是，

表示：

单元

和

优选还表示结构式SUS-1到SUS-6；没有示出任选的取代基R²和R³。尤其优选的是，

和

各自表示任选取代的芳基，尤其苯基，它们任选被卤素原子或基团NR⁷ ₂(各R⁷优选独立地选自烷基和芳基)。

以下所示的在

和

之间具有共价键的化合物：

不是根据本发明的紫外线感光剂；在

和

之间的该相互作用导致了不会产生高灵敏度光系统的发色团。

任选取代基R¹、R²和R³独立地选自氢原子，卤素原子，烷基(优选C₁-C₈)，芳烷基，基团-NR⁴R⁵(其中R⁴和R⁵独立地选自烷基(优选C₁-C₈)，芳基和芳烷基)和基团-OR⁶(其中R⁶选自烷基(优选C₁-C₈)，芳基和芳烷基)。

以下式(IX)的化合物是尤其优选的：

4-(5-(2-氯苯基)-2-(4-(5-(2-氯苯基)-4-(4-(二乙基氨基)苯基)噁唑-2-基)苯基噁唑-4-基)-N，N-二乙基苯胺

4-(2-(4-(4-(4-(二甲基氨基)苯基)-5-苯基噁唑-2-基)苯基)-5-苯基噁唑-4-基)-N，N-二甲基苯胺

4-(5-(2-氯苯基)-2-(4-(5-(2-氯苯基)-4-(4-(二乙基氨基)苯基)噁唑-2-基)-2，3，5，6-四氟苯基)噁唑-4-基)-N，N-二乙基苯胺

4-(5-(2-氯苯基)-2-(9-(5-(2-氯苯基)-4-(4-(二乙基氨基)苯基)噁唑-2-基)蒽-10基)噁唑-4-基)-N，N-二乙基苯胺

4-(2-(2-((1E，13E)-4-((E)-2-(4-(4-(二甲基氨基)苯基)-5-苯基噁唑-2-基)苯乙烯基)苯乙烯基)苯基-5-苯基噁唑-4-基)-N，N-二甲基苯胺

4-(2-(4-((1E，13E)-4-((E)-2-(4-(4-(二甲基氨基)苯基)-5-苯基噁唑-2-基)苯乙烯基)苯乙烯基)苯基-5-苯基噁唑-4-基)-N，N-二甲基苯胺

4-(5-(2-氯苯基)-2-(2-(5-(2-氯苯基)-4-(4-(二乙基氨基)苯基)噁唑-2-基)-3，4，5，6-四氟苯基)噁唑-4-基)-N，N-二乙基苯胺

4-(2-((1E，28E)-4-((E)-2-(4-(4-(二甲基氨基)苯基)-5-苯基噁唑-2-基)乙烯基)苯乙烯基)-5-苯基噁唑-4-基)-N，N-二甲基苯胺

(E)-4-(2-(4-(4-(4-(二甲基氨基)苯基)-5-苯基噁唑-2-基)苯乙烯基)苯基)-5-苯基噁唑-4-基)-N，N-二甲基苯胺

4-(2-(4-((1E，26E)-4-((E)-4-(4-(4-(二甲基氨基)苯基)-5-苯基噁唑-2-基)苯乙烯基)苯乙烯基)苯基)-5-苯基噁唑-4-基)-N，N-二甲基苯胺

4-(2-((E)-2-(5-((E)-2-(4-(4-(二甲基氨基)苯基)-5-苯基噁唑-2-基)乙烯基)噻吩-2-基)乙烯基-5-苯基噁唑-4-基)-N，N-二甲基苯胺

N-4-(2-(4-(4-(4-(二苯基氨基)苯基)-5-(全氟苯基)噁唑-2-基)苯基)-5-(全氟苯基)噁唑-4-基)苯基)-N苯基苯胺

4-(5-(2-氯苯基)-2-(6-(5-(2-氯苯基)-4-(4-(二乙基氨基)苯基)噁唑-2-基)吡啶-2-基)噁唑-4-基)-N，N-二乙基苯胺

4-(2-(3，5-双(5-(2-氯苯基)-4-(4-(二乙基氨基)苯基)噁唑-2-基)苯基)-5-(2-氯苯基)噁唑-4-基)-N，N-二乙基苯胺

4-(2-((1E，9E，11E)-3，5-双((E)-2-(4-(4-(二甲基氨基)苯基)-5-苯基噁唑-2-基)乙烯基)苯乙烯基)-5-苯基噁唑-4-基)-N，N-二甲基苯胺

(E)-4-(5-(2-氯苯基)-2-(2-(5-(2-氯苯基)-4-(4-(二乙基氨基)苯基)噁唑-2-基)乙烯基)噁唑-4-基)-N，N-二乙基苯胺

4-(5-(2-氯苯基)-2-((1E，3E)-4-(5-(2-氯苯基)-4-(4-(二乙基氨基)苯基)噁唑-2-基)丁-1，3-二烯基)噁唑-4-基)-N，N-二乙基苯胺

可以在本发明中使用的式(IX)的紫外线感光剂显示出强烈的黄色到浅绿色荧光。它们可以根据本领域技术人员公知的方法来制备，例如与EP 0 129 059A1和US 3,257,203A中所述的方法类似；这些文件中描述的方法还可以通过相应改变起始化合物而用于合成没有具体描述的化合物。

还可以使用式(X)的化合物作为紫外线感光剂：

其中：

和各

独立地表示芳族或杂芳族单元，

基团R¹和R²各自独立地选自卤素原子，烷基，芳基或芳烷基，基团-NR⁴R⁵或基团-OR⁶，

R⁴、R⁵和R⁶独立地选自烷基、芳基和芳烷基，

n是至少2的整数，以及

k和m独立地表示0或1-5的整数。

优选选自苯、萘、蒽、芴、联苯、咔唑、呋喃、二苯并呋喃、噻吩、二苯并噻吩、噁二唑、噻二唑、吡啶、嘧啶和三嗪单元以及可以相同或不同的以上单元的两种或多种的任意组合。

单元

可以任选包括一个或多个选自卤素原子、烷基、芳烷基、烷氧基和芳氧基中的取代基。

各自优选独立地选自苯、萘、蒽、芴、咔唑、噻吩和噁二唑单元以及可以相同或不同的以上单元的两种或多种的任意组合。

每一单元可以任选包括一个或多个选自卤素原子、烷基、芳烷基、烷氧基和芳氧基中的取代基。尤其优选的是，式(X)中的所有单元

是相同的。

基团R¹和R²各自优选独立地选自烷基、烷基-O-和卤素。CH₃、Cl和F是尤其优选的。

如果k＝1和/或m＝1，那么取代基R¹或R²优选位于式(X)中键接于氮原子的C原子的对位。

n优选是2或3的整数；尤其优选的是，n＝2。

k和m优选独立地是0或1；特别优选的是，k＝m＝0或1。

以下化合物是优选的式(X)的化合物：

可以在本发明中使用的式(X)的紫外线感光剂显示出强烈的黄色到浅绿色荧光；这些化合物因此不是光学增白剂。它们可以根据本领域技术人员公知的方法来制备，例如与C.Lambert等人的“Bridge-mediated hopping or superexchange electron-transfer processes inbis(triarylamine)systems”，Nature-Materials，2002，1，69或A.de. Meijire，F.Diederich，“Metal Catalyzed Cross-Coupling Reactions”，Wiley-VCH，Weinheim，2004中所述的方法类似；这些文献中所述的方法还可以通过相应改变起始化合物而用于合成没有具体公开的化合物。

还可以使用含有以下结构单元(XI)的低聚或聚合化合物作为本发明中的紫外线感光剂：

其中是芳族或杂芳族单元或二者的结合，使得在结构式(XI)中的两个基团Z之间存在共轭π体系，

各个Z独立地表示连接间隔基AS和该共轭体系的杂原子，

各个R¹和R²独立地选自卤素原子，烷基，芳基，烷芳基或芳烷基，基团-NR³R⁴或基团-OR⁵，

各个R³、R⁴和R⁵独立地选自烷基、芳基、烷芳基和芳烷基，

a和b独立地表示0或1-4的整数，

n具有＞1的值，以及

AS是脂族间隔基。

优选衍生于苯，萘，蒽，芴，联苯，咔唑，呋喃，二苯并呋喃，噻吩，二苯并噻吩，二噻吩并噻吩，噁二唑，噻二唑，吡啶，嘧啶以及可以相同或不同的以上两个或多个基团的结合。

芳族或杂芳族单元

Z表示优选选自O、N、S和Si中的杂原子，更优选的是，Z是O或S，最优选Z是O。

R¹和R²优选独立地选自卤素原子，烷基和基团-OR⁵，更优选选自基团-OR⁵；尤其优选的是，R¹和R²是相同的。

基团R³、R⁴和R⁵优选独立地选自烷基和烷芳基，尤其优选选自C₁-C₆烷基。

a和b优选独立地是0、1或2，尤其优选0或1；尤其优选的是，a和b是相同的。

n表示平均值，优选具有2-25的值。

脂族间隔基AS优选是：

基团

其中x和y各自独立地表示至少1的整数(尤其优选的是，y是2或3，x优选是2-12的整数，和z表示≥0的整数(尤其优选的是，z是0、1、2、3或4；如果z≠0，x优选是2，如果z＝0，x优选是4-12的整数)，

基团

其中s是至少1的整数(尤其优选的是，s是2-6)，

硅氧烷单元或硅烷单元。

尤其优选的是，脂族间隔基是-CO-(-CH₂-)₄-CO-，-(CH₂)₈-或

优选的是，具有结构单元(XI)的紫外线感光剂的分子量(通过使用聚苯乙烯标准的凝胶渗透色谱法测定的重均分子量)是至少500g/mol，优选至少1,000g/mol，最优选5,000到30,000。

仅由结构单元(XI)组成，即，不包括任何其它结构单元的具有结构单元(XI)的紫外线感光剂是特别优选的。

适合的具有结构单元(XI)的紫外线感光剂的实例是包括一个或多个以下结构单元(XIa)到(XIi)并且优选仅由一个或多个这些单元组成的那些：

可以在本发明中使用的具有结构单元(XI)的紫外线感光剂显示出黄色到浅绿色荧光。它们可以根据本领域技术人员公知的Wittig聚合反应由膦酸酯和双醛制备，例如与Macromolecules 1999，32，7409-7413中所述的方法类似；该文件中所述的方法还可以通过相应改变起始化合物而用于合成没有具体公开的化合物。关于使用鏻盐的Wittig聚合反应的其它方法变型例如在Macromolecules 2001，33，7426-7430和Macromolecules 2001，34，4124-4129中有描述。

对于具有紫外线感光剂的紫外线感光涂层(即，对300到＜480nm感光的涂层)，助引发剂例如选自鎓化合物，例如其中鎓阳离子选自碘鎓、锍、鏻、oxysulfoxonium、oxysulfonium、氧化锍、铵、重氮、硒鎓、砷鎓和N-取代的N-杂环鎓阳离子中的那些化合物，其中N被任选取代的烷基、烯基、炔基或芳基取代；N-芳基甘氨酸及其衍生物(例如N-苯基甘氨酸)；芳族磺酰卤；三卤代甲基芳基砜；酰亚胺，例如N-苯甲酰基-氧基邻苯二甲酰亚胺；9，10-二氢蒽衍生物；N-芳基、S-芳基或O-芳基多羧酸，具有至少两个羧基，其至少一个羧基键接于芳基单元的氮、氧或硫原子(例如US 5,629,354A中所述的苯胺二乙酸及其衍生物和其它助引发剂)；六芳基双咪唑类；硫醇化合物(巯基噻唑类，巯基噁二唑类，巯基四嗪类，巯基咪唑类，巯基四唑类，巯基吡啶类，巯基噁唑类和巯基三唑类；它们包括2-巯基苯并噁唑，2-巯基苯并噻唑，2-巯基苯并咪唑，季戊四醇-四(巯基乙酸酯)，4-乙酰胺基苯硫酚，巯基琥珀酸，十二烷硫醇，β-巯基乙醇，6-乙氧基-2-巯基苯并噻唑，4-甲基-4H-1，2，4-三唑-3-硫醇，2-巯基-1-甲基咪唑，2-巯基-5-甲硫基-1，3，4-噻二唑，5-正丁硫基-2-巯基-1，3，4-噻二唑，4-甲氧基苯硫醇，1-苯基-1H-四唑-5-硫醇，4-苯基-4H-1，2，4-三唑-3-硫醇，季戊四醇-四(3-巯基丙酸酯)，三羟甲基丙烷-三(巯基乙酸酯)，2-巯基吡啶，4-巯基吡啶，2-巯基-3H-喹唑啉和2-巯基噻唑啉)；多卤代烷基取代的化合物，例如具有1-3个CX₃基团的1，3，5-三嗪衍生物(其中每一个X独立地选自氯或溴原子，优选是氯原子)；肟醚和肟酯，例如由苯偶姻衍生的那些；酰基氧化膦，二酰基氧化膦和过氧化物(例如EP 1 035 435A1中作为有机过氧化物类活化剂列举的那些)。

本发明的阴图制版辐射感光组合物不包括任何金属茂，因为已经发现，它们不利地影响印版前体的黄光稳定性。

六芳基双咪唑类、鎓化合物、硫醇化合物和多卤化烷基取代的化合物是优选用于紫外线感光剂的助引发剂。

适合的六芳基双咪唑类例如用下式(XII)表示：

其中A¹-A⁶是彼此相同或不同的取代或未取代C₅-C₃₀芳基，在它的环中，一个或多个碳原子可以任选被选自O、N和S中的杂原子取代。所述芳基的适合取代基是不抑制光诱导的解离至三芳基咪唑基的过程的那些取代基，例如卤素原子(氟，氯，溴，碘)，-CN，C₁-C₆ 烷基(任选具有一个或多个选自卤素原子、-CN和-OH中的取代基)，C₁-C₆烷氧基，C₁-C₆烷硫基，(C₁-C₆烷基)磺酰基。

优选的芳基是取代和未取代的苯基、联苯基、萘基、吡啶基、呋喃基和噻吩基。尤其优选的是取代和未取代的苯基，特别优选的是卤代苯基。

实例包括：

2，2’-双(溴苯基)-4，4’，5，5’-四苯基联咪唑，

2，2’-双(对-羧基苯基)-4，4’，5，5’-四苯基联咪唑，

2，2’-双(邻-氯苯基)-4，4’，5，5’-四(对甲氧基苯基)-联咪唑，

2，2’-双(对-氯苯基)-4，4’，5，5’-四(对甲氧基苯基)-联咪唑，

2，2’-双(对-氰基苯基)-4，4’，5，5’-四(对甲氧基苯基)-联咪唑，

2，2’-双(2，4-二氯苯基)-4，4’，5，5’-四苯基联咪唑，

2，2’-双(2，4-二甲氧基苯基)-4，4’，5，5’-四苯基联咪唑，

2，2’-双(邻-乙氧基苯基)-4，4’，5，5’-四苯基联咪唑，

2，2’-双(间-氟苯基)-4，4’，5，5’-四苯基联咪唑，

2，2’-双(邻-氟苯基)-4，4’，5，5’-四苯基联咪唑，

2，2’-双(对-氟苯基)-4，4’，5，5’-四苯基联咪唑，

2，2’-双(邻-己氧基苯基)-4，4’，5，5’-四苯基联咪唑，

2，2’-双(邻-己基苯基)-4，4’，5，5’-四(对甲氧基苯基)-联咪唑，

2，2’-双(3，4-亚甲基二氧基苯基)-4，4’，5，5’-四苯基联咪唑，

2，2’-双(邻-氯苯基)-4，4’，5，5’-四(间甲氧基苯基)-联咪唑，

2，2’-双(邻-氯苯基)-4，4’，5，5’-四[间-(β-苯氧基-乙氧基苯基)]联咪唑，

2，2’-双(2，6-二氯苯基)-4，4’，5，5’-四苯基联咪唑，

2，2’-双(邻-甲氧基苯基)-4，4’，5，5’-四苯基联咪唑，

2，2’-双(对-甲氧基苯基)-4，4’-双(邻-甲氧基苯基)-5，5’-二苯基联咪唑，

2，2’-双(邻-硝基苯基)-4，4’，5，5’-四苯基联咪唑，

2，2’-双(对-苯基磺酰基苯基)-4，4’，5，5’-四苯基-联咪唑，

2，2’-双(对-氨磺酰基苯基)-4，4’，5，5’-四苯基联咪唑，

2，2’-双(2，4，5-三甲基苯基)-4，4’，5，5’-四苯基联咪唑，

2，2’-二-4-联苯基-4，4’，5，5’-四苯基联咪唑，

2，2’-二-1-萘基-4，4’，5，5’-四(对甲氧基苯基)-联咪唑，

2，2’-二-9-菲基-4，4’，5，5’-四(对甲氧基苯基)-联咪唑，

2，2’-二苯基-4，4’，5，5’-四-4-联苯基联咪唑，

2，2’-二苯基-4，4’，5，5’-四-2，4-二甲苯基联咪唑，

2，2’-二-3-吡啶基-4，4’，5，5’-四苯基联咪唑，

2，2’-二-3-噻吩基-4，4’，5，5’-四苯基联咪唑，

2，2’-二-邻甲苯基-4，4’，5，5’-四苯基联咪唑，

2，2’-二-对甲苯基-4，4’-二邻甲苯基-5，5’-二苯基联咪唑，

2，2’-二-2，4-二甲苯基-4，4’，5，5’-四苯基联咪唑，

2，2’，4，4’，5，5’-六(对苯基苯硫基)联咪唑，

2，2’，4，4’，5，5’-六-1-萘基联咪唑，

2，2’，4，4’，5，5’-六苯基联咪唑，

2，2’-双(2-硝基-5-甲氧基苯基)-4，4’，5，5’-四苯基联咪唑，

2，2’-双(邻-硝基苯基)-4，4’，5，5’-四(间甲氧基苯基)-联咪唑，

2，2’-双(2-氯-5-磺基苯基)-4，4’，5，5’-四苯基联咪唑，

2，2’，5-三(2-氯苯基)-4-(3，4-二甲氧基苯基)-4，5’-二苯基联咪唑，

2，2’-双(邻-氯苯基)-4，4’，5，5’-四苯基联咪唑，

2，2’-双(邻-氯苯基)-4，4’，5，5’-四(对氟苯基)联咪唑，

2，2’-双(邻-溴苯基)-4，4’，5，5’-四(对碘苯基)联咪唑，

2，2’-双(邻-氯苯基)-4，4’，5，5’-四(对氯萘基)联咪唑，

2，2’-双(邻-氯苯基)-4，4’，5，5’-四(对氯苯基)联咪唑，

2，2’-双(邻-溴苯基)-4，4’，5，5’-四(对-氯-对-甲氧基苯基)联咪唑，

2，2’-双(邻-氯苯基)-4，4’，5，5’-四(邻，对-二氯苯基)联咪唑，

2，2’-双(邻-氯苯基)-4，4’，5，5’-四(邻，对-二溴苯基)联咪唑，

2，2’-双(邻-溴苯基)-4，4’，5，5’-四(邻，对-二氯苯基)联咪唑，或

2，2’-双(邻，对-二氯苯基)-4，4’，5，5’-四(邻，对-二氯苯基)联咪唑。

适合的六芳基联咪唑例如在US-A-4,565,769和US-A-3,445,232中有述，可以根据已知方法，例如三芳基咪唑类的氧化二聚来制备。

本发明中所使用的术语“多卤化烷基取代的化合物”是指包括一个多卤化或几个单卤化烷基取代基的化合物。卤化烷基优选包括1-3个碳原子；卤化甲基是尤其优选的。氟、氯和溴原子优选用作卤素原子，其中氯和溴原子是特别优选的。

尤其适合在本发明中用作助引发剂的多卤化烷基取代的化合物的实例包括：三卤化甲基芳基砜和三卤化甲基杂芳基砜，例如三溴甲基苯基砜和三溴甲基-2-吡啶基砜；2-苯基-4，6-双(三氯甲基)-s-三嗪，2，4，6-三(三氯甲基)-s-三嗪，2-甲基-4，6-双(三氯甲基)-s-三嗪，2-(苯乙烯基-4，6-双(三氯甲基)-s-三嗪，2-(对-甲氧基苯乙烯基)-4，6-双(三氯甲基)-s-三嗪，2-(4-甲氧基-萘-1-基)-4，6-双-三氯甲基-s-三嗪，2-(4-乙氧基-萘-1-基)-4，6-双(三氯甲基)-s-三嗪和2-[4-(2-乙氧基乙基)-萘-1-基]-4，6-双(三氯甲基)-s-三嗪；其它具有至少一个C(Hal)3基团的杂环，例如2-三氯甲基苯并噁唑，2-三氯甲基苯并噻唑，2-三氯甲基-5-苯基-1，3-噁唑；1，2，3，4-四溴-丁烷。

红外感光元件(即，对＞750到1,100nm的光谱范围感光的元件)包括至少一种红外感光剂和一种或多种助引发剂。

在本发明中，红外吸收剂优选选自三芳基胺类染料、噻唑鎓类染料、吲哚鎓类染料、噁唑鎓类染料、菁类染料、聚苯胺类染料、聚吡咯类染料、聚噻吩类染料和酞菁类染料和颜料。然而，还可以使用其它红外线吸收剂，例如US2002/0025489 A1中所述的那些。

适合的红外线吸收剂例如包括下列化合物：

根据本发明的另一个实施方案，使用式(XIII)的红外线感光剂。

其中：

各个D³独立地是S，O，NR¹²或C(烷基)₂；

各个R¹⁸独立地表示烷基；

R¹⁹表示卤素原子、SR¹²、OR¹²或NR¹² ₂；

各个R²⁰独立地表示氢原子，烷基，SR¹²，OR¹²或NR¹² ₂或卤素原子；R²⁰还可以是苯稠合的环；

A^-表示阴离子；

表示任选存在的五元或六元碳环；

R¹²表示烷基或芳基；在NR¹² ₂的情况下，一个基团R¹²还可以表示H；

各个r独立地是0、1、2或3。

这些红外感光剂吸收范围为800到大约1,100nm的光线；吸收范围810-860nm的式(XIII)的那些是特别优选的。

D³优选是C(烷基)₂基团，其中该烷基优选包括1-3个碳原子。

R¹⁸优选是具有1-4个碳原子的烷基。

R¹⁹优选是SR¹²。

R²⁰优选是氢原子。

R¹²优选是苯基。

优选的是，虚线表示具有5或6个碳原子的环基。

抗衡离子A^-优选是氯离子或甲苯磺酸根阴离子。

在结构式(XIII)的红外线吸收剂中，具有对称结构的那些是特别优选的。

特别优选的结构式(XIII)的红外线吸收剂的实例包括：

2-[2-[2-苯基磺酰基-3-[2-(1，3-二氢-1，3，3-三甲基-2H-吲哚-2-叉基)-乙叉基]-1-环己烯-1-基]-乙烯基]-1，3，3-三甲基-3H-氯化吲哚鎓，2-[2-[2-苯硫基-3-[2-(1，3-二氢-1，3，3-三甲基-2H-吲哚-2-叉基)-乙叉基]-1-环己烯-1-基]-乙烯基]-1，3，3-三甲基-3H-氯化吲哚鎓，2-[2-[2-苯硫基-3-[2-(1，3-二氢-1，3，3-三甲基-2H-吲哚-2-叉基)-乙叉基]-1-环戊烯-1-基]-乙烯基]-1，3，3-三甲基-3H-甲苯磺酸吲哚鎓，2-[2-[2-氯-3-[2-(1，3-二氢-1，3，3-三甲基-2H-苯并[e]-吲哚-2-叉基)-乙叉基]-1-环己烯-1-基]-乙烯基]-1，3，3-三甲基-1H-苯并[e]-甲苯磺酸吲哚鎓和2-[2-[2-氯-3-[2-乙基-3H-苯并噻唑-2-叉基]-乙叉基]-1-环己烯-1-基]-乙烯基]-3-乙基-甲苯磺酸苯并噻唑鎓。

基本上，以上在紫外线感光体系中所提到的所有助引发剂可以用作红外线感光体系的助引发剂，优选US6,309,792B1中所述的多卤化烷基取代的化合物，鎓盐和其它化合物。多卤化烷基取代的化合物，硫醇化合物，N-芳基甘氨酸及其衍生物，具有至少两个羧基、至少一个键接于芳基单元的氮、氧或硫原子的N-芳基、S-芳基或O-芳基多羧酸以及在紫外线感光引发剂体系的助引发剂中所提到的鎓化合物是特别适合的。

尤其，通式(XIV)的多羧酸是适合的多羧酸：

R²¹-(CR²²R²³)_a-A-CH₂COOH (XIV)

其中：

A选自O、S或NR²⁴，其中R²⁴表示氢原子，C₁-C₆烷基，基团CH₂CH₂COOH或被-COOH取代的C₁-C₅烷基，R²¹、R²²和R²³独立地选自氢原子，C₁-C₆烷基，取代或未取代的芳基，-COOH或NR²⁵CH₂COOH，其中R²⁵选自-CH₂COOH，-CH₂OH和-(CH₂)N(CH₂)COOH；和

a是0、1、2或3，

其中选择A、R²¹、R²²和R²³，使得除了式(XIV)中所示的基团COOH以外，在该分子中存在至少一个另外的基团COOH。

N-芳基-多羧酸是特别优选的；尤其，下式(XIVa)和(XIVb)的那些：

其中Ar表示单取代或多取代或未取代的芳基，s是1-5的整数，

其中R²⁶表示氢原子或C₁-C₆烷基，t和v各自是1-5的整数。

可能的芳基的取代基是C₁-C₃烷基，C₁-C₃烷氧基，C₁-C₃硫烷基和卤素原子。芳基可以包括1-3个相同或不同的取代基。

Ar优选表示苯基。

在式(XIVb)中，v优选式1，R²⁶优选表示氢原子。

适合的多羧酸的实例包括：

(对-乙酰胺基苯基亚氨基)二乙酸

3-(双(羧甲基)氨基)苯甲酸

4-(双(羧甲基)氨基)苯甲酸

2-[(羧甲基)苯基氨基]苯甲酸

2-[(羧甲基)苯基氨基]-5-甲氧基苯甲酸

3-[双(羧甲基)氨基]-2-萘羧酸

N-(4-氨基苯基)-N-(羧甲基)甘氨酸

N，N’-1，3-亚苯基-双甘氨酸

N，N’-1，3-亚苯基-双[N-(羧甲基)]甘氨酸

N，N’-1，2-亚苯基-双[N-(羧甲基)]甘氨酸

N-(羧甲基)-N-(4-甲氧基苯基)甘氨酸

N-(羧甲基)-N-(3-甲氧基苯基)甘氨酸

N-(羧甲基)-N-(3-羟苯基)甘氨酸

N-(羧甲基)-N-(3-氯苯基)甘氨酸

N-(羧甲基)-N-(4-溴苯基)甘氨酸

N-(羧甲基)-N-(4-氯苯基)甘氨酸

N-(羧甲基)-N-(2-氯苯基)甘氨酸

N-(羧甲基)-N-(4-乙基苯基)甘氨酸

N-(羧甲基)-N-(2，3-二甲基苯基)甘氨酸

N-(羧甲基)-N-(3，4-二甲基苯基)甘氨酸

N-(羧甲基)-N-(3，5-二甲基苯基)甘氨酸

N-(羧甲基)-N-(2，4-二甲基苯基)甘氨酸

N-(羧甲基)-N-(2，6-二甲基苯基)甘氨酸

N-(羧甲基)-N-(4-甲酰基苯基)甘氨酸

N-(羧甲基)-N-乙基氨茴酸

N-(羧甲基)-N-丙基氨茴酸

N-(羧甲基)-N-苄基甘氨酸

5-溴-N-(羧甲基)氨茴酸

N-(2-羧基苯基)甘氨酸

邻联茴香胺-N，N，N’，N’-四乙酸

4-羧基苯氧基乙酸

儿茶酚-O，O’-二乙酸

4-甲基儿茶酚-O，O’-二乙酸

间苯二酚-O，O’-二乙酸

氢醌-O，O’-二乙酸

α-羧基-邻-茴香酸

2，2’-(二苯并呋喃-2，8-二基二氧基)二乙酸

2-(羧甲基硫基)苯甲酸

5-氨基-2-(羧甲基硫基)苯甲酸

3-[(羧甲基)硫基]-2-萘羧酸

亚乙基二氨基四乙酸

次氮基三乙酸

最优选的多羧酸是苯胺基二乙酸。在红外感光体系中，这些多羧酸另外能够提高储存稳定性。

在本发明中，可以使用一种助引发剂或助引发剂的混合物。包括硫醇化合物和另一所提到的助引发剂的助引发剂混合物是特别优选的。还有，在感光剂的情况下，可以使用一种感光剂或两种或多种的混合物。

由于适当的感光剂的组合，既为紫外线感光又为红外线感光的体系也是可行的；然而，它们不是优选的。

助引发剂的量不是特别限制的；然而，它的用量优选为基于干燥层重量的0.2-25wt％，尤其优选0.5-15wt％。感光剂的用量不是特别限制的；然而，它的用量也优选在0.2-25wt％的范围内。感光剂的最佳量取决于各种因素，例如它在发射波长下的消光系数，或辐射源的发射波长，辐射感光元件的辐射感光层的厚度以及它的摩尔质量。通常，它们的用量是基于腐蚀感光涂层的干燥层重量的0.5-15wt％。这些值适用于两组的引发剂体系，即300到＜480nm的范围的引发剂体系和＞750到1,100nm范围的引发剂体系。每一种引发剂体系具有感光剂(Sens)和助引发剂(Conit)的摩尔比(n_M＝Mol Sens：Mol Coinit)的最佳值。它一般为0.1-2。

辐射感光组合物此外包括至少一种具有酸基的粘结剂。该粘结剂优选选自聚乙烯醇缩醛，丙烯酸类聚合物，聚氨酯及其共聚物。优选的是，该粘结剂含有羧基作为酸基。最优选的是丙烯酸类聚合物。粘结剂优选具有20-180mg KOH/g聚合物的酸值。任选地，粘结剂可以包括能够进行环加成反应(例如2+2光致环加成)和/或自由基聚合的基团。粘结剂的量不是特别限制的，优选为基于干燥层重量的0-90wt％，尤其优选5-60wt％。

紫外线或红外线感光组合物还可以任选包括少量的热聚合抑制剂。不希望的热聚合的抑制剂的适当例子包括氢醌，对甲氧基苯酚，二叔丁基-对甲酚，连苯三酚，叔丁基儿茶酚，苯醌，4，4’-硫代-双-(3-甲基-6-叔丁基苯酚)，2，2’-亚甲基-双-(4-甲基-6-叔丁基苯酚)和N-亚硝基苯基羟胺盐。热聚合抑制剂的量优选是基于干燥层重量的0-5wt％，尤其优选0.01-2wt％。这种抑制剂常常经由商品单体或低聚物引入到辐射感光组合物中，因此在这里不特意提及。

此外，本发明的紫外线或红外线感光组合物可以包括用于使涂层着色的染料或颜料(对比染料和颜料)。着色剂的实例包括例如酞菁颜料，偶氮颜料，碳黑和二氧化钛，三芳基甲烷染料，例如乙基紫和结晶紫，偶氮染料，蒽醌染料和菁染料。着色剂的量优选是基于干燥层重量的0-20wt％，尤其优选0.5-10wt％。

为了改进硬化层的物理性能，紫外线或红外线感光组合物可以另外包括其它添加剂，如增塑剂或无机填料。适合的增塑剂包括例如邻苯二甲酸二丁酯，邻苯二甲酸二辛酯，邻苯二甲酸双十二烷基酯，己二酸二辛酯，癸二酸二丁酯，三乙酰甘油和磷酸三甲苯酯。增塑剂的用量不是特别限制的，然而，它优选为干燥层重量的0-10wt％，尤其优选0.25-5wt％。适合的无机填料包括例如Al₂O₃和SiO₂；它们的存在量优选为干燥层重量的0-20wt％，尤其优选0.1-5wt％。

紫外线或红外线感光组合物还可以包括已知的链转移剂。它们的用量优选为干燥层重量的0-15wt％，尤其优选0.5-5wt％。

此外，紫外线或红外线感光组合物可以包括隐色染料，例如隐色结晶紫和隐色孔雀绿。它们的存在量优选为干燥层重量的0-10wt％，尤其优选0.5-5wt％。

另外，紫外线或红外线感光组合物可以包括表面活性剂(流动改进剂)。适合的表面活性剂包括含硅氧烷的聚合物，含氟的聚合物和携带氧化乙烯和/或氧化丙烯基团的聚合物。它们的存在量优选为干燥层重量的0-10wt％，尤其优选0.2-5wt％。

曝光指示剂，例如4-苯基偶氮二苯基胺，还可以作为紫外线或红外线感光组合物的任选组分存在；它们的存在量优选为干燥层重量的0-5wt％，尤其优选0-2wt％。

本发明中所使用的紫外线或红外线感光组合物基本上对480到750nm范围的辐射不感光。这意味着，在480到约600nm的光谱范围内，用0.2mJ/cm²的能量在印版前体上不能产生图像，即，曝光区的聚合没有被引发至足以在显影期间在曝光区和未曝光区之间形成区别的程度。在约600到750nm的光谱范围内，用0.2mJ/cm²的能量不能获得图像。

在制造本发明的平版印版时，首先制备平版印版前体，然后成像曝光，随后显影。该前体通过将辐射感光涂层施涂于平版底材上来形成。尺寸稳定的板或箔形材料，包括已知作为适合的平版底材的压缩元件形式的材料，用作平版底材。这种底材的实例包括纸，用塑料(如聚乙烯，聚丙烯，聚苯乙烯)涂布的纸，金属板或箔，例如铝(包括铝合金)，锌和铜板，例如由二乙酸纤维素、三乙酸纤维素、丙酸纤维素、乙酸纤维素、乙酸丁酸纤维素、硝酸纤维素、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚乙烯、聚苯乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯和聚乙酸乙烯酯制备的塑料膜，以及由纸或塑料膜和上述金属之一制备的层压材料，或通过蒸气沉积镀金属的纸/塑料膜。在这些底材中，铝板或箔是尤其优选的，因为它显示了显著的尺寸稳定性，价格便宜，并且表现了优异的对涂层的附着力。此外，可以使用铝箔层压于聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜上的复合薄膜。

平版底材具有天然亲水性表面或进行产生这种表面的处理。

金属底材，尤其铝底材，优选进行选自磨版(graining)(例如通过在干燥状态下刷拭或用悬浮磨料刷拭，或电化学磨版，例如用盐酸电解质)、阳极化(例如在硫酸或磷酸中)和亲水化中的至少一种处理。

为了改进已磨版和任选在硫酸或磷酸中阳极化的金属底材的表面的亲水性能，金属底材可以用硅酸钠、氟化锆钙、聚乙烯膦酸或磷酸的水溶液后处理。

上述底材预处理的细节是本领域技术人员所已知的。

为了制备平版印版前体，用常规涂布方法(例如旋转涂布、喷涂、浸涂、刮刀涂布)将辐射感光组合物施涂于底材的亲水性表面上。还可以在底材的双面上施涂辐射感光组合物；然而，对于本发明来说，优选的是，仅将辐射感光涂层施涂于底材的一面。

通常，由有机溶剂或溶剂混合物施涂辐射感光组合物。

适合的溶剂包括低级醇(例如甲醇，乙醇，丙醇和丁醇)，二醇醚衍生物(例如乙二醇单甲醚，乙二醇二甲醚，丙二醇单甲醚，乙二醇单甲醚乙酸酯，乙二醇单乙醚乙酸酯，丙二醇单甲醚乙酸酯，丙二醇单乙醚乙酸酯，乙二醇单异丙基醚乙酸酯，乙二醇单丁醚乙酸酯，二甘醇单甲醚，二甘醇单乙醚)，酮(例如二丙酮醇，乙酰丙酮，丙酮，甲基乙基酮，环己酮，甲基异丁基酮)，酯(例如乳酸甲酯，乳酸乙酯，乙酸乙酯，乙酸3-甲氧基丙基酯和乙酸丁酯)，芳族化合物(例如甲苯和二甲苯)，环己烷，3-甲氧基-2-丙醇，1-甲氧基-2-丙醇，甲氧基甲氧基乙醇，γ-丁内酯和偶极非质子溶剂(例如THF，二甲亚砜，二甲基甲酰胺和N-甲基吡咯烷酮)和它们的混合物。所要施涂的辐射感光混合物的固体含量取决于所使用的涂布方法，优选是1-50wt％。

辐射感光层的干燥层重量优选为0.5-4g/m²，更优选0.8-3g/m²。

另外将水溶性不透氧的罩涂层施涂于辐射感光层能够是有利的。适用于这种罩涂层的聚合物尤其包括聚乙烯醇，聚乙烯醇/聚乙酸乙烯酯共聚物，聚乙烯吡咯烷酮，聚乙烯吡咯烷酮/聚乙酸乙烯酯共聚物，聚乙烯基甲基醚，马来酸酐和共聚单体如甲基乙烯基醚的开环共聚物，聚丙烯酸，纤维素醚，明胶等；聚乙烯醇是优选的。优选地，不透氧的罩涂层的组合物以在水中或在与水混溶的溶剂中的溶液的形式施涂；在任何情况下，选择溶剂，使得已存在于底材上的辐射感光涂层在施涂罩涂层组合物时基本上不溶解。罩涂层的层重量例如可以是0.1-6g/m²，优选0.5-4g/m²。然而，根据本发明的印版前体即使没有罩涂层也显示出优异的性能。罩涂层还可以包括消光剂(即，粒度为2-20μm的有机或无机颗粒)，这有利于在接触曝光过程中薄膜的平面定位。为了改进罩涂层对辐射感光层的附着力，该罩涂层可以包括增粘剂，例如聚(乙烯吡咯烷酮)聚(乙烯亚胺)和聚(乙烯基咪唑)。

适合的罩涂层例如在WO 99/06890中有述。

如果感光剂明显吸收300到＜480nm范围波长的辐射并优选显示出在该范围内吸收光谱中的最大吸收，那么成像照射可以用这些波长的普通灯，例如本领域技术人员已知的碳弧灯、汞灯、氙灯和金属卤化物灯或激光器或激光二极管来进行。激光辐射可以用计算机数字控制，即，它能够开启或关掉，使得元件的成像曝光可以由计算机中储存的数字化信息来进行。这类平版印版前体因此被称为计算机直接制版(CTP)印版。发射约405nm(例如405±10nm)的紫外线辐射的紫外线激光二极管作为紫外线辐射源具有特殊意义。

如果引发剂/引发剂体系吸收红外辐射，即，明显吸收＞750到1,100nm范围波长的辐射，并且优选显示出在该范围内吸收光谱的最大吸收，那么成像照射可以用红外辐射源来进行。例如，本发明的红外线感光元件可以通过发射约800到1,100nm的半导体激光器来成像。发射810到830nm波长范围的半导体激光二极管和固体激光器如发射1,064nm的Nd-YAG激光器是特别优选的。

在成像曝光后，但在显影之前，如果需要，可以在50-180℃，优选90-150℃下进行热处理。

本发明中所使用的显影剂具有9-14的pH值，包括下列必需组分：

(i)水，

(ii)其量足以调节9-14的pH值的一种或多种碱金属氢氧化物MOH(M＝碱金属)，和

(iii)1-30wt％的至少一种式(I)的化合物：

其中R¹、R²、R³和R⁴各自独立地选自C₁-C₁₂直链、支化和环状烷基和芳基，

X选自-CH＝CH-，-C≡C-，

和

n+m为2-30的值，

p+q为0-30的值，

该显影剂是含水碱性显影剂，然而，可以任选包括至多10wt％有机溶剂，例如二醇，二醇醚，二醇醚酯，高沸点醇，例如苄醇或苯氧基乙醇和类似溶剂。

显影剂的碱性pH值(9-14，优选10-12.5)通过使用一种或多种碱金属氢氧化物MOH，优选KOH来获得。换句话说：碱金属氢氧化物是该显影剂的唯一碱性组分；因此，该显影剂不含已知在碱性显影剂中使用的硅酸盐、偏硅酸盐、氢氧化铵、叔胺等(例如参见EP 0 732628A1和EP 1 115 035A1)。

显影剂的必需组分(iii)在显影剂中的存在量为1-30wt％，优选1.5-20wt％，尤其优选2-10wt％。

基团R¹、R²、R³和R⁴优选选自直链烷基；尤其优选的是，R¹＝R² ＝R³＝R⁴＝甲基。

X优选选自-CH＝CH-和-C≡C-；尤其优选的是，X表示-C≡C-。

在p+q≠0的情况下，式(I)中所示的氧化乙烯和氧化丙烯单元作为嵌段存在或无规分布；两种形式应该被认为包括在本发明的范围内。

尤其优选的是，n+m＜15和p+q＜10。

尤其优选的显影剂的组分(iii)是式(Ia)的那些：

其中m、n、p和q如对于式(I)所定义，以及

t和r独立地是1-10的整数，优选1或2；尤其优选的是，t＝r。

式(I)和(Ia)的化合物可以根据已知方法通过相应二醇用环氧乙烷/环氧丙烷的乙氧基化/丙氧基化来制备；在这方面，例如参考US6,313,182B2。这些化合物的一些可以市购。适合的化合物的实例是2，4，7，9-四甲基-癸-5-炔-4，7-二醇(式(Ia)，其中t＝r＝1)和2，5，8，11-四甲基-十二碳-6-炔-5，8-二醇(式(Ia)，其中t＝r＝2)的乙氧基化或乙氧基化/丙氧基化产物。

除了上述必需组分以外，该显影剂此外可以包括一种或多种选自水溶助长剂、自由基抑制剂和滤色染料中的任选组分。聚氧化烯芳基醚表面活性剂在本发明中不是适合的显影剂组分。

适合的水溶助长剂例如是磷酸酯，乙氧基化季化脂肪胺，烷基糖苷，烷基亚氨基二丙酸酯，复合椰油酸亚氨基甘氨酸酯，复合椰油酸亚氨基二丙酸酯，烷醇聚乙二醇磷酸烷基酯和芳基磺酸的碱金属盐。它们在显影剂中的存在量优选为0-20wt％，尤其优选至多15wt％，特别优选至多10wt％；如果它们存在的话，它们的用量优选为至少1wt％，尤其优选至少2wt％。

将一种或多种自由基抑制剂加入到本发明的显影剂中可以进一步抑制显影机中淤泥的形成，因为在显影期间，在去除印版前体的未照射区时，它们防止了释放到显影机中的单体的聚合。基本上，所有满足以下条件的物质可以用作自由基抑制剂：(1)与自由基反应，形成不引发单体聚合的产物，(2)在显影剂中可溶，(3)在显影剂中稳定和(4)既不影响显影剂也不影响所要显影的印版前体。不受限于这些化合物，这种抑制剂包括具有醌或氢醌单元的化合物，尤其苯醌和取代的苯醌，氢醌和取代的氢醌，例如2，6-二甲基氢醌；氢醌的醚，尤其氢醌和取代氢醌的醚，例如氢醌单甲醚(4-甲氧基苯酚)，叔丁基氢醌(4-叔丁基苯酚，TBHQ)和叔丁基羟基苯甲醚(BHA)；间苯二酚；连苯三酚；亚磷酸酯；以及位阻酚和双酚，例如2，6-二叔丁基-4-甲基苯酚(BHT)，2，6-二叔丁基-4-甲氧基苯酚和2，4，6-三叔丁基苯酚；稳定自由基，例如二叔丁基硝基氧和2，2，6，6-四甲基-4-吡啶酮硝基氧；硝基取代的芳族化合物，氨基苯酚；吩噻嗪和仲二芳基胺，例如取代的二苯基胺，N，N’-二苯基-对亚苯基二胺和N-苯基萘基胺。醌类、氢醌类、氢醌类的醚和位阻苯酚类是优选的自由基抑制剂。最优选的是氢醌类的醚，尤其氢醌的醚和位阻苯酚类。氢醌单甲醚(4-甲氧基苯酚)，2，6-二叔丁基-4-甲基苯酚和2，4，6-三叔丁基苯酚是优选的化合物。

自由基抑制剂的量不是特别限制的，然而，它们优选以0-3.0wt％，更优选2wt％，尤其优选1.5wt％的量存在；如果它们存在的话，它们的用量优选为至少0.1wt％，尤其优选至少0.5wt％。

如WO 02/31599A 2中所述，已经发现，如果印版是紫外线感光的，在显影剂中使用滤色染料还对预防显影机中的淤泥具有积极效应。应该选择滤色染料，使得它与紫外线感光印版前体的涂层中所用的引发剂/引发剂体系吸收同样的波长范围。滤色染料应该在显影剂中可溶并且稳定，不参与化学反应或与显影剂的其它组分相互作用；尤其，它在照射时不应形成自由基或者激活由显影剂去除的非照射区的涂层的引发剂体系。包括一个或多个磺酸取代基的染料通常显示了充分的溶解性。优选的染料是包括磺酸取代基的浅黄色、黄色、橙色和红色染料；磺化偶氮染料是尤其优选的。实例包括以下这些：酸性间胺黄(C.I.13065)，甲基橙(C.I.13025)，旱金莲素O(C.I.14270)，旱金莲素OO(C.I.13080)，酒石黄(C.I.19140)；氧杂菁黄(oxonolyellow)K(Riedel-de-Haen)；黄色染料，例如C.I.13900，C.I.14170，C.I.18835，C.I.18965，C.I.18890，C.I.18900，C.I.18950，C.I.22910和C.I.25135；以及红色染料，例如C.I.14710，C.I.14900，C.I.17045，C.I.18050，C.I.18070和C.I.22890。

显影元件可以采用普通方法用保存剂处理(“上胶”)。上胶剂是亲水性聚合物、润湿剂和其它添加剂的水溶液，并且通常在本技术领域中是已知的。

此外能够有利的是，通过让显影后保留的涂层部分进行热处理(称为“烘焙”)和/或烘焙和总曝光(例如曝露于紫外光)的组合，提高它们的机械强度。为此，在处理之前，显影元件用保护非图像区的溶液处理，使得热处理不引起这些区域接受油墨。适于此目的的溶液例如在US-A-4,355,096中有述。烘焙在150-250℃的温度范围进行。当同时进行烘焙和总曝光时，两个处理步骤可以同时或相继进行。

以下用实施例来详细说明本发明；然而，这些实施例不限制本发明。

实施例

实施例1-6和对比例1-12

电化学磨版的(用HCl)和阳极化的铝箔(平均粗糙度0.55μm；氧化铝层3.2g/m²)用聚乙烯膦酸(PVPA)的水溶液处理，干燥后，用如表1-5中所述的滤过溶液涂布，再干燥。

表1：

表2：

0.22g	包括80mol％甲基丙烯酸烯丙酯和20mol％甲基丙烯酸的共聚物，具有95mg KOH/1g的酸值
		0.1g	Kayamer PM-2(用1.5mol甲基丙烯酸羟乙酯酯化的1mol 磷酸，出自日本Coa Corp.Ltd.)
0.31g	巯基-1，2，4-三唑
		2.3g	21.1wt％酞菁铜和2.1wt％聚乙烯醇缩醛粘结剂在丙二醇单甲醚中的分散体，所述聚乙烯醇缩醛含有39.9mol％乙烯醇基团、1.2mol％乙酸乙烯酯基团、15.4mol％的源于乙醛的缩醛基团、36.1mol％的源于丁醛的缩醛基团和7.4mol％的源于3-甲酰基苯甲酸的缩醛基团
15.25g	通过应用0.1g二月桂酸二丁基锡催化剂使16.82g六亚甲基二异氰酸酯、13.01g甲基丙烯酸羟乙酯、6.46g 2-(2-羟乙基)- 哌啶在85g甲基乙基酮中反应所制备的29.8％单体溶液
		0.7g	2-苯基-4-(2-氯苯基)-5-(4-N，N-二乙基氨基苯基)-1，3-噁唑
0.17g	2，2-双-(2-氯苯基)-4，5，4’，5’-四苯基-2’H-[1，2’]联咪唑
		22.8m l	丙二醇单甲醚
16.3m l	甲醇
		26ml	甲基乙基酮

[0574] 表3：

表4：

表5：

将各溶液过滤，施涂于平版底材上，再将涂层在90℃下干燥4分钟。在所有情况下，光聚合物层的干燥层重量为大约1.5g/m²。通过用聚乙烯醇的水溶液(出自Celanese的Celvol

203，水解度88％)涂布所得印版而在其上提供罩涂层；在90℃下干燥4分钟后，该罩涂层具有约3g/m²的干燥层重量。

实施例1-4和对比例1-8的印版前体用出自Lithotec的Andromeda

图文影排机(具有405nm的30mW紫色激光二极管)曝光。曝光后，立即将印版在90℃的烘箱内加热2分钟。

实施例5和6的印版前体用Creo Trendsetter

3244图文影排机(830nm激光二极管；激光能量分别为50-75mJ/cm²和100mJ/cm²)曝光；使用含有用于评价印刷物质量的不同元件的UGRA/FOGRAPostscript Strip Version 2.0EPO。曝光后立即将印版在90℃的烘箱内加热2分钟。

然后，用水洗罩涂层(顶涂层)，每一实施例的印版用表7所列显影剂处理30秒。各显影剂组成可以从表6中推断。

表6：

	组分	量	pH
				显影剂D1	水 KOH溶液(45wt％) Surfynol 465¹⁾	94.84wt％ 0.169wt％ 4.992wt％	12±0.1
显影剂D2	水 KOH溶液(45wt％) Surfynol 2502²⁾	94.84wt％ 0.169wt％ 4.992wt％	12±0.1
				显影剂D3	水 KOH溶液(45wt％) Surfynol 2502²⁾ Triton H66³⁾	89.958wt％ 0.531wt％ 4.733wt％ 4.779	12±0.1
对比显影剂 CD1	水 KOH溶液(45wt％)	99.831wt％ 0.169wt％	12±0.1
				对比显影剂 CD2	水 Surfynol 465¹⁾	95.009wt％ 4.992wt％	8
对比显影剂 CD3	水 N(CH₃)₄OH 溶液 (25wt％) Surfynol 465¹⁾	94.567wt％ 0.441wt％ 4.992wt％	12±0.1
				对比显影剂 CD4	水三乙醇胺 Surfynol 465¹⁾	94.825wt％ 0.183wt％ 4.992wt％	12±0.1

¹⁾具有10mol％氧化乙烯含量的2，4，7，9-四甲基-癸-5-炔-4，7-二醇(式(Ia)，r＝t＝1)的乙氧基化产物；出自Airproducts

²⁾2，4，7，9-四甲基-癸-5-炔-4，7-二醇(式(Ia)，r＝t＝1)的乙氧基化/丙氧基化产物；出自Airproducts

³⁾水溶助长剂：阴离子聚醚磷酸酯；出自Dow Chemicals

⁴⁾乙氧基化(n＝13)β-萘酚；出自Nippon Nyukazai Co.，Ltd.

⁵⁾乙氧基化/丙氧基化C₁₀-C₁₂一元醇；出自Polygon

⁶⁾聚氧化乙烯苯基醚，出自Rewo Chemical Group

⁷⁾络合剂

然后，用棉塞将该显影剂溶液再次在该表面上擦拭另外30秒，然后用水冲洗整个印版。在该处理之后，曝光部分保留在印版上。为了评价感光性，印版在湿态下用印刷油墨着墨。

为了评价显影性能，将未曝光的5cm×30cm印版条在90℃的烘箱内加热2分钟，随后用水洗去罩涂层，再干燥。印版条然后部分浸渍在相应的显影剂中，其中每隔5秒浸渍另外的4cm的印版条。在总共50秒停留时间后，从显影剂中取出印版条，记录首次完全去除光聚合物层的时间点。

为了评价显影期间淤泥的形成，使用下列方法：采用出自Gunz&Jensen的Raptor Polymer HW型显影机来将印版加热至110℃(在印版的无涂层背面测定)，用自来水洗去罩涂层，采用相应的显影剂，借助两把刷子将印版在23℃下显影20秒(参见表6和7)，最后用出自Kodak Polychrome Graphics的胶水850S处理印版。

在各显影液添加15m²的相应未曝光印版/升的显影剂之后，通过用水简单清洗按以下2个方面评价该方法：(1)残留淤泥和(2)显影机的清洁度；该评价按以下标准进行：

(A)没有形成淤泥或淤泥形成极少

(B)所形成的淤泥通过用自来水冲洗很容易去除

(C)所形成的淤泥只有在用自来水长期冲洗后才能去除

(D)所形成的淤泥不能通过用自来水冲洗来去除，需要使用二丙二醇单甲醚。

为了制备印版平版，将成像层施涂于铝箔上，如上所述，曝光，加热，显影，用水冲洗后，显影过的印版用0.5％磷酸和6％阿拉伯树胶擦拭和上胶。这样制备的印版装入到单张纸胶印机中，采用耐磨印刷油墨(购自Sun Chemical的Offset S 7184，含有10％碳酸钾)。检查非图像区的调色。

相对网点锐化如下测定：

术语“网点锐化”描述了在印刷期间线性化印版的色调值的改变。线性化是指对预定色调值(STV)的偏差通过RIP软件(RIP＝光栅图像处理器)来补偿。可获得的测量值是印刷表单上的印刷前的色调值(TVB)和印刷后的色调值(TVA)。为了测定色调值的损失，测定印刷前的线性化色调值(TVB)。线性化和显影过的印版在印刷机中使用达10,000次印刷，清洗，然后再次测验色调值，这给出了印刷后的色调值(TVA)。然后，使用对所有预定色调值(STV)求积分的方程式1计算网点锐化。

理想地，网点锐化应该向0会聚。换句话说：网点锐化越低，印版越好。

对比例7的印版，即，在不同色调值印刷期间具有明显的网点锐化的印版作为参照。相对网点锐化使用以下方程式(2)计算：

黄光稳定性如下测定：

印版用强度200勒克斯(在印版表面上测定)的黄色光源(出自Encapsulite的G10)照射。在照射后，将印版加热，用上述各种显影剂显影。检测显影过的印版的非图像区的涂层残留物。

此外，检查其阀门用EPDM橡胶密封的再生泵的稳定性。为此，将根据本发明的显影剂泵抽15分钟，然后将泵停止15分钟；重复该周期，直至泵不能再适当运转。为了控制泵的适当功能，每隔24肖氏测定显影剂料流，检查泵是否抽空显影剂。

用各种显影剂显影的各种印版的结果在表7中总结。这些实施例显示，本发明的方法获得了高显影速度并且显影机中的淤泥形成量少，显影过的印版令人惊奇的在印刷机中没有出现调色问题。此外，本发明的显影剂不侵袭EPDM阀门密封。令人惊奇的发现，该显影剂影响了印刷期间的网点锐化。与对比显影剂7相比，本发明中所使用的显影剂全部导致了网点锐化的改进；对比显影剂7此外引起了显影机中的高度淤泥形成，并且该淤泥难以去除。虽然对比显影剂6也改进了网点锐化，但它导致了印刷期间的调色问题。

显影剂的组分(iii)以＜1wt％的量使用(参见对比例11)导致了显影速度的显著下降。另外使用聚氧化乙烯苯基醚和K₂CO₃或单独的K₂CO₃也全部没有提供所需的效果(参见对比例8-10)。

从对比例3和4可以推断-与实施例1比较-碱性试剂的类型令人惊奇地对印刷期间的网点锐化具有显著影响。

对比例5和7显示，使用乙氧基化一元醇导致了与根据本发明使用的式(I)或(Ia)的乙氧基化二醇明显不同的结果。

对比例12此外显示，根据本发明使用的显影剂不适于阳片版。