CN101488459A - 一种自对准的金属氧化物薄膜晶体管的制作方法 - Google Patents
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Cited By (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102122620A (zh) * | 2011-01-18 | 2011-07-13 | 北京大学深圳研究生院 | 一种自对准薄膜晶体管的制作方法 |
CN102130009A (zh) * | 2010-12-01 | 2011-07-20 | 北京大学深圳研究生院 | 一种晶体管的制造方法 |
CN102386237A (zh) * | 2011-11-23 | 2012-03-21 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种薄膜晶体管、阵列基板及装置和一种制备方法 |
CN102437059A (zh) * | 2011-12-06 | 2012-05-02 | 北京大学 | 一种顶栅自对准氧化锌薄膜晶体管的制备方法 |
CN102544108A (zh) * | 2012-01-12 | 2012-07-04 | 北京大学 | 一种氧化锌薄膜晶体管的制备方法 |
CN102593008A (zh) * | 2012-02-29 | 2012-07-18 | 北京大学 | 一种底栅自对准氧化锌薄膜晶体管的制备方法 |
CN102822979A (zh) * | 2010-03-26 | 2012-12-12 | 株式会社半导体能源研究所 | 半导体器件 |
GB2496239A (en) * | 2011-11-01 | 2013-05-08 | Ibm | Transistor with self-aligned gate structure on transparent substrate |
CN103094205A (zh) * | 2013-02-04 | 2013-05-08 | 广州新视界光电科技有限公司 | 一种薄膜晶体管、薄膜晶体管驱动背板的制备方法及薄膜晶体管驱动背板 |
CN103177970A (zh) * | 2013-02-26 | 2013-06-26 | 上海大学 | 一种氧化物薄膜晶体管制备方法 |
CN103311128A (zh) * | 2013-06-13 | 2013-09-18 | 北京大学深圳研究生院 | 一种自对准金属氧化物薄膜晶体管及其制作方法 |
WO2013170574A1 (zh) * | 2012-05-16 | 2013-11-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 氧化物薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板和显示装置 |
WO2014146291A1 (zh) * | 2013-03-22 | 2014-09-25 | 深圳市柔宇科技有限公司 | 薄膜晶体管及其像素单元的制造方法 |
CN106057662A (zh) * | 2016-06-03 | 2016-10-26 | 杭州潮盛科技有限公司 | 射频标签及其制作工艺 |
CN107170811A (zh) * | 2017-05-12 | 2017-09-15 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种金属氧化物薄膜晶体管结构背板及其制备方法 |
CN108231597A (zh) * | 2018-01-02 | 2018-06-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 薄膜晶体管及其制造方法、阵列基板、显示装置 |
WO2018133195A1 (zh) * | 2017-01-20 | 2018-07-26 | 中国科学院物理研究所 | 一种全透明薄膜晶体管的制备方法 |
CN108878540A (zh) * | 2018-07-12 | 2018-11-23 | 南方科技大学 | 一种底栅薄膜晶体管及其制备方法 |
CN109427569A (zh) * | 2017-08-21 | 2019-03-05 | 中国科学院物理研究所 | 薄膜晶体管和场效应二极管的制备方法 |
-
2009
- 2009-02-13 CN CN2009100777315A patent/CN101488459B/zh active Active
Cited By (37)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9040980B2 (en) | 2010-03-26 | 2015-05-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Transistor with an oxide semiconductor layer |
CN102822979A (zh) * | 2010-03-26 | 2012-12-12 | 株式会社半导体能源研究所 | 半导体器件 |
CN102822979B (zh) * | 2010-03-26 | 2015-08-26 | 株式会社半导体能源研究所 | 半导体器件 |
CN102130009A (zh) * | 2010-12-01 | 2011-07-20 | 北京大学深圳研究生院 | 一种晶体管的制造方法 |
WO2012071878A1 (zh) * | 2010-12-01 | 2012-06-07 | 北京大学深圳研究生院 | 一种晶体管的制造方法 |
WO2012097564A1 (zh) * | 2011-01-18 | 2012-07-26 | 北京大学深圳研究生院 | 一种自对准薄膜晶体管的制作方法 |
CN102122620A (zh) * | 2011-01-18 | 2011-07-13 | 北京大学深圳研究生院 | 一种自对准薄膜晶体管的制作方法 |
GB2496239A (en) * | 2011-11-01 | 2013-05-08 | Ibm | Transistor with self-aligned gate structure on transparent substrate |
GB2496239B (en) * | 2011-11-01 | 2016-01-06 | Ibm | Transistor with self-aligned gate structure on transparent substrate |
US9064748B2 (en) | 2011-11-01 | 2015-06-23 | International Business Machines Corporation | Graphene and nanotube/nanowire transistor with a self-aligned gate structure on transparent substrates and method of making same |
US8569121B2 (en) | 2011-11-01 | 2013-10-29 | International Business Machines Corporation | Graphene and nanotube/nanowire transistor with a self-aligned gate structure on transparent substrates and method of making same |
US8802514B2 (en) | 2011-11-01 | 2014-08-12 | International Business Machines Corporation | Graphene and nanotube/nanowire transistor with a self-aligned gate structure on transparent substrates and method of making same |
CN102386237A (zh) * | 2011-11-23 | 2012-03-21 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种薄膜晶体管、阵列基板及装置和一种制备方法 |
CN102437059B (zh) * | 2011-12-06 | 2013-12-25 | 北京大学 | 一种顶栅自对准氧化锌薄膜晶体管的制备方法 |
CN102437059A (zh) * | 2011-12-06 | 2012-05-02 | 北京大学 | 一种顶栅自对准氧化锌薄膜晶体管的制备方法 |
CN102544108B (zh) * | 2012-01-12 | 2015-02-11 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种氧化锌薄膜晶体管的制备方法 |
CN102544108A (zh) * | 2012-01-12 | 2012-07-04 | 北京大学 | 一种氧化锌薄膜晶体管的制备方法 |
CN102593008A (zh) * | 2012-02-29 | 2012-07-18 | 北京大学 | 一种底栅自对准氧化锌薄膜晶体管的制备方法 |
CN102593008B (zh) * | 2012-02-29 | 2015-10-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种底栅自对准氧化锌薄膜晶体管的制备方法 |
WO2013170574A1 (zh) * | 2012-05-16 | 2013-11-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 氧化物薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板和显示装置 |
CN103094205B (zh) * | 2013-02-04 | 2015-11-18 | 广州新视界光电科技有限公司 | 一种薄膜晶体管、薄膜晶体管驱动背板的制备方法及薄膜晶体管驱动背板 |
CN103094205A (zh) * | 2013-02-04 | 2013-05-08 | 广州新视界光电科技有限公司 | 一种薄膜晶体管、薄膜晶体管驱动背板的制备方法及薄膜晶体管驱动背板 |
CN103177970A (zh) * | 2013-02-26 | 2013-06-26 | 上海大学 | 一种氧化物薄膜晶体管制备方法 |
US9679995B2 (en) | 2013-03-22 | 2017-06-13 | Shenzhen Royole Technologies Co., Ltd. | Method for manufacturing thin film transistor and pixel unit thereof |
WO2014146291A1 (zh) * | 2013-03-22 | 2014-09-25 | 深圳市柔宇科技有限公司 | 薄膜晶体管及其像素单元的制造方法 |
CN103311128A (zh) * | 2013-06-13 | 2013-09-18 | 北京大学深圳研究生院 | 一种自对准金属氧化物薄膜晶体管及其制作方法 |
CN106057662A (zh) * | 2016-06-03 | 2016-10-26 | 杭州潮盛科技有限公司 | 射频标签及其制作工艺 |
CN108335985A (zh) * | 2017-01-20 | 2018-07-27 | 中国科学院物理研究所 | 一种全透明薄膜晶体管的制备方法 |
US10749016B2 (en) | 2017-01-20 | 2020-08-18 | Institute Of Physics, Chinese Academy Of Sciences | Preparation method for fully transparent thin film transistor |
WO2018133195A1 (zh) * | 2017-01-20 | 2018-07-26 | 中国科学院物理研究所 | 一种全透明薄膜晶体管的制备方法 |
CN107170811A (zh) * | 2017-05-12 | 2017-09-15 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种金属氧化物薄膜晶体管结构背板及其制备方法 |
US10461175B2 (en) | 2017-05-12 | 2019-10-29 | Boe Technology Group Co., Ltd. | TFT-containing backplate and method for fabricating the same |
CN107170811B (zh) * | 2017-05-12 | 2019-12-31 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种金属氧化物薄膜晶体管结构背板及其制备方法 |
CN109427569A (zh) * | 2017-08-21 | 2019-03-05 | 中国科学院物理研究所 | 薄膜晶体管和场效应二极管的制备方法 |
CN109427569B (zh) * | 2017-08-21 | 2022-07-15 | 中国科学院物理研究所 | 薄膜晶体管和场效应二极管的制备方法 |
CN108231597A (zh) * | 2018-01-02 | 2018-06-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 薄膜晶体管及其制造方法、阵列基板、显示装置 |
CN108878540A (zh) * | 2018-07-12 | 2018-11-23 | 南方科技大学 | 一种底栅薄膜晶体管及其制备方法 |
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Publication number | Publication date |
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