CN101452799A - 等离子体显示面板及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及等离子体显示面板及其制造方法，抑制成为PDP的无效电力的增加和驱动裕量的减小的原因的电容耦合。本发明是在形成于前面基板结构体(第一基板结构体)上的两对X电极(14)和Y电极(15)(显示电极对)之间形成的非发光区域(16)内，具有与X电极(14)和Y电极(15)隔开间隔形成的多个遮光膜(10)的PDP(等离子体显示面板)(1)。遮光膜(10)含有与构成X电极(14)和Y电极(15)的金属材料通用的金属材料。而且，遮光膜(10)在形成于背面基板结构体(第二基板结构体)上的相邻的隔壁(22)之间隔开间隔形成为岛状。根据上述结构，能够减小可能与X电极(14)、Y电极(15)或地址电极(20)构成电容耦合的遮光膜(10)的面积，所以即使遮光膜(10)使用导电性材料，也能抑制电容耦合。

Description

等离子体显示面板及其制造方法

技术领域

本发明涉及等离子体显示面板的技术，特别是关于适用于在显示电极对之间的非发光区域形成暗色的遮光膜的等离子体显示面板的有效技术。

背景技术

近年来，作为平面型的等离子体显示装置，进行面放电的交流型等离子体显示装置被实用化，广泛使用为个人计算机、工作站等的等离子体显示装置、平面型的壁挂式电视机、或者用于显示广告和信息等的装置。而且，在组装于这种等离子体显示装置的等离子体显示面板(PDP：Plasma Display Panel)中，为了改善画质，强烈要求能够得到高对比度的技术。

PDP包括前面基板与背面基板，在前面基板与背面基板之间形成有在这些基板之间密封入稀有气体等放电气体的放电空间。在前面基板上配置有多个显示电极对，形成有覆盖该显示电极对的电介质层。而且，在相邻的显示电极对之间具有对PDP的显示发光没有贡献的非发光区域。而且，在背面基板上形成有划分放电空间的隔壁和按照与上述显示电极对交叉的方式配置的地址电极。而且，在由隔壁所划分的各放电空间内的发光区域，形成有分别发出三原色的红色(R)、绿色(G)、和蓝色(B)可见光的荧光体。

在PDP中对该显示电极对之间施加电压，使放电空间内发生面放电，通过此时发生的真空紫外线激励荧光体，由此显示所希望的彩色图像。而且，选择点亮/非点亮的单元在每个该显示电极对与地址电极的交叉处构成。

单元的选择方式是，通过对显示电极对的一方与地址电极之间施加电压，在它们交叉的单元发生相向放电(地址放电)，选择进行上述面放电的单元。

外界光从前面基板侧照射到上述非发光区域，该外界光被反射时，PDP的对比度(亮室对比度)下降。作为改善该亮室对比度的方法，例如在日本专利特开2000-82395公报(专利文献1)中记述有在前面基板侧的非发光区域形成被称为黑带层的带状遮光膜的结构。

而且，例如在日本专利特开2002-75229公报(专利文献2)中，作为使形成该遮光膜的工序有效率的方法，记述有使用与构成显示电极对的总线电极相同的材料形成遮光膜的方法。

发明内容

然而，在上述非发光区域形成以与总线电极相同的材料构成的遮光膜的情况下，本发明的发明人发现以下的问题。

即，在使用与总线电极相同的导电性材料作为遮光膜的情况下，在总线电极与遮光膜之间，或遮光膜与地址电极之间会发生电容耦合。

如果发生电容耦合，则在电流流过总线电极或地址电极时，增加对发光没有贡献的无效电力。

而且，在作为用于选择单元的点亮/非点亮的放电的地址放电时，如果在总线电极与地址电极之间施加大的电压，由于电容耦合而存在发生误放电的情况。即，由于为了防止误放电而必须使地址放电时的施加电压小，所以发生适当的放电的容许电压值的裕量(驱动裕量)也减小。

本发明是鉴于上述问题而提出的发明，其目的在于，提供能够抑制成为无效电力的增加和驱动裕量的减小的原因的电容耦合的技术。

本发明的上述及其它目的以及新的特征，能够通过本说明书的记载和附图得到更好的理解。

在本申请公开的发明中，对代表性的内容的概要简单说明如下。

即，本发明的一个实施方式的等离子体显示面板，具有隔着放电空间相互相对的第一基板结构体与第二基板结构体，

上述第一基板结构体包括：第一基板；在上述第一基板与上述第二基板结构体相对的第一面侧，沿第一方向形成的多个显示电极对；覆盖上述多个显示电极对的电介质层；以在相邻的两对上述显示电极对之间沿上述第一方向延伸的方式形成的非发光区域；和在上述非发光区域，与上述显示电极对隔开间隔形成的多个遮光膜，

上述第二基板结构体包括：第二基板；在上述第二基板的与上述第二基板结构体相对的第二面侧，沿与上述第一方向交叉的第二方向形成的地址电极；和形成于上述第二基板的上述第二面侧，并且以划分上述放电空间的方式沿上述第二方向形成的隔壁，

上述多个遮光膜含有与构成上述显示电极对的金属材料通用的金属材料，在相邻的上述隔壁之间隔开间隔形成为岛状。

在本申请公开的发明中，对代表性的内容所得到的效果简单说明如下。

即，根据本发明的一个实施方式，由于能够使具有与显示电极对或地址电极构成电容耦合部的可能性的遮光膜的面积减小，所以即使在遮光膜中使用导电性材料，也能够抑制与显示电极对或地址电极的电容耦合。

本发明的上述及其它特征、方式与优点，可以通过以下参照附图的实施例的说明而得到更深刻的理解。

附图说明

图1是表示组装有本发明的实施方式1中PDP的PDP装置的一个例子的整体结构的概略框图。

图2是表示图1所示的PDP装置的灰度等级驱动顺序的一个例子的说明图。

图3是对本发明的实施方式1的PDP的主要部分进行放大表示的主要部分放大立体图。

图4是表示图3所示的电极组、隔壁、和遮光膜的平面位置关系的从显示面侧所观察到的主要部分放大平面图。

图5是对沿图4所示的A-A线的截面的一部分进行放大表示的主要部分放大截面图。

图6是表示本发明的实施方式2的PDP的电极组、隔壁、和遮光膜的平面位置关系的从显示面侧所观察到的主要部分放大平面图。

图7是对沿图6所示的C-C线的截面的一部分进行放大表示的主要部分放大截面图。

图8是表示本发明的实施方式3的PDP的电极组、隔壁、和遮光膜的平面位置关系的从显示面侧所观察到的主要部分放大平面图。

图9是对沿图8所示的D-D线的截面的一部分进行放大表示的主要部分放大截面图。

图10是表示本发明的实施方式4的PDP的电极组、隔壁、和遮光膜的平面位置关系的从显示面侧所观察到的主要部分放大平面图。

图11是进一步放大图10所示的E区域的主要部分放大平面图。

图12是表示作为本发明的比较例的PDP的电极组、隔壁、和遮光膜的平面位置关系的从显示面侧所观察到的主要部分放大平面图。

图13是对沿图12所示的B-B线的截面的一部分进行放大表示的主要部分放大截面图。

具体实施方式

在以下的实施方式中，为了方便，在必要时，分为多个部分或实施方式进行说明，但是除了特别说明的情况之外，这些并非相互无关，而是存在一方为另一方的一部分或全部的变形例、详细说明和补充说明等的关系。

此外，在为了说明本实施方式的全部的图中，对具有相同功能的要素都赋予同样的符号，原则上省略其重复说明。而且，在为了说明本实施方式的全部的图中，为了对各部分的结构容易理解，即使是在平面图中，也有赋予阴影和模样的情况，下面使用附图详细说明本发明的实施方式。

(实施方式1)

<等离子体显示装置的整体结构>

首先，使用图1和图2，对组装有本实施方式1的PDP的等离子体显示装置(以下记载为PDP装置)的整体结构和灰度等级驱动方法进行说明。

图1是表示组装有本发明的实施方式1的PDP的PDP装置的一个例子的整体结构的概略框图。而图2是表示图1所示的PDP装置的灰度等级驱动顺序的一个例子的说明图。

图1所示的PDP1的详细结构后面叙述，PDP1由X电极14、Y电极15、地址电极20、以及未图示的隔壁(肋)等构成。此外，为了对各电极(14、15、20)施加电压，电连接有地址驱动器ADRV、Y扫描驱动器YSCDRV、Y维持驱动器YSUSDRV、X维持驱动器XSUSDRV。而且，还具备用于控制各驱动器的控制电路CNT。

例如，从TV调谐器和计算机等外部装置输入表示红(R)、绿(G)、蓝(B)三色的亮度等级的作为多值图像数据的场数据(field data)和各种同步信号(时钟信号CLK、水平同步信号Hsync、垂直同步信号Vsync)。而且，控制电路CNT从上述场数据和各种同步信号输出适合于各个驱动器的控制信号，进行规定的图像显示。

PDP1构成为，进行维持放电(维持放电、显示放电)的X电极(X1、X2、X3、…Xn)14与Y电极(Y1、Y2、Y3、…Yn)15交替配置构成显示行，在由X电极14与Y电极15的对构成的显示电极对和与该显示电极对(显示行)大体直角交叉的地址电极(A1、A2、A3、…An)20的每个交叉处构成矩阵状的单元。

Y扫描驱动器YSCDRV在地址过程TA(参照图2)中，控制Y电极15，依次选择Y电极(显示行)15，使与地址驱动器ADRV电连接的地址电极20与各Y电极15之间，发生用于选择对各子场SF1～SFn(参照图2)的单元的点亮/非点亮的地址放电。

而且，Y维持驱动器YSUSDRV和X维持驱动器XSUSDRV，在显示过程TS(参照图2)中，对于通过地址放电所选择的单元，发生对应于各子场的权重的数目的维持放电。

而且，如图2所示，PDP装置的灰度等级驱动顺序是，由分别具有规定的亮度权重的多个子场(子帧)SF1～SFn构成一个场(帧)F1，通过各子场SF1～SFn的组合进行所希望的灰度等级显示。

若对多个子场的结构例进行说明，例如，由具有2的乘方的亮度权重的8个子场SF1～SF8(维持放电的次数比为1：2：4：8：16：32：64：128)而进行256灰度等级的显示。其中，子场的数目和各子场的权重，当然可以进行各种组合。

而且，各子场SF1～SFn由使各个显示区域的全部单元的壁电荷均匀的初始化过程(复位期间)TR、选择点亮单元的地址过程(地址期间)TA、和以对应于亮度(各子场的权重)的次数使所选择的单元放电(点亮)的显示过程(维持放电期间)TS所构成，对各子场的每个显示根据亮度使单元点亮，例如，通过显示8个子场(SF1～SF8)进行一个场的显示。

<PDP的基本结构>

接着，使用图3和图4对本实施方式1的PDP结构的一个例子，以交流放电型的PDP为例进行说明。图3是对本发明的实施方式1的PDP的主要部分进行放大表示的主要部分放大组装立体图。图4是表示图3所示的电极组、隔壁、和遮光膜的平面位置关系的从显示面侧所观察到的主要部分放大平面图。

其中，为了容易理解地表示图4中PDP所具有的电极组、隔壁、和遮光膜的位置关系，对于其他的部件在图中予以省略。

在图3中，PDP1具有前面基板结构体(第一基板结构体)11与背面基板结构体(第二基板结构体)12。前面基板结构体11与背面基板结构体12以相互相对的状态重合，在其之间有放电空间24。

前面基板结构体11包括PDP1的显示面，在显示面侧具有主要由玻璃构成的前面基板(基板、第一基板)13。在与前面基板13的显示面相反一侧的面(第一面)13a上，分别形成有多个作为PDP1的显示电极的X电极(第二电极、维持电极、SUSTAIN电极)14、和Y电极(第一电极、扫描电极、SCAN电极)15(参照图4)。

X电极14和Y电极15是构成用于进行维持放电(也称为显示放电或维持放电)的一对显示电极对，例如，以沿行方向(第一方向、横方向)DX延伸的方式相互交替配置。该一对X电极14和Y电极15构成PDP1中的显示行。

一般地，该X电极14和Y电极15例如由ITO(Indium Tin Oxide：氧化铟锡)等透明电极材料所构成的X透明电极(透明电极部)14a、Y透明电极(透明电极部)15a、与各透明电极电连接的X总线电极(遮光电极部)14b、Y总线电极(遮光电极部)15b所构成。

该X透明电极14a、Y透明电极15a与X总线电极14b、Y总线电极15b，对于从后述的荧光体部23发出的可见光的透过性不同。

该X透明电极14a、Y透明电极15a，为了维持放电的稳定化和放电效率的提高，例如如图4所示，以一对电极对之间的最短距离(称为放电间隙)对应于单元25的位置而局部靠近的方式从X总线电极14b、Y总线电极15b分别向相对的方向突出而形成。由于该X透明电极14a、Y透明电极15a突出形成的位置与PDP1的单元25相当，所以为了使从后述的荧光体部23发出的可见光透过，X透明电极14a、Y透明电极15a由透明的电极材料所形成。

其中，图4中作为X透明电极14a、Y透明电极15a分别具有的突出部的形状的一个例子，表示的是T型的形状，但是并不限于该形状，能够适用各种变形例。

例如，突出部的前端可以不是T型，而是单纯的I型结构。而且，也存在X透明电极14a、Y透明电极15a上不形成突出部，而是与X总线电极14b、Y总线电极15b相同，为带状的电极结构的情况。

另一方面，X总线电极14b和Y总线电极15b是为了降低X电极14与Y电极15的电阻而形成，与透明电极相比，由电阻低的Cu、Ag等金属材料所形成。而且，该金属材料也不限于单一的成分，例如在使用Cu的情况下，为了防止Cu的氧化、提高与ITO的粘接性，也可以是Cr/Cu/Cr依次叠层的结构。

这样，由于X总线电极14b与Y总线电极15b是由金属材料所构成，所以对于可见光的遮光性与前面基板13和X透明电极14a、Y透明电极15a相比，相对较高。即可见光的透过率低。而且，为了防止或抑制外界光的反射，在X总线电极14b和Y总线电极15b的表面以成为黑色或暗色的色调的方式而形成。

因此，当外界光照射到该前面基板结构体11的厚度方向时，在配置有X总线电极14b、Y总线电极15b的位置光被吸收，成为降低外界光的反射率的结构。

而且，如图4所示，在相邻的2对显示电极对(X电极14、Y电极15的对)之间，形成有对PDP1的显示发光没有贡献的非发光区域16。非发光区域16沿着行方向DX而形成。在该非发光区域16上形成有多个遮光膜10。该遮光膜10的详细结构和功能在后面叙述。

而且，如图3所示，在前面基板结构体11上形成的电极组(X电极14、Y电极15)和遮光膜10被电介质层17所覆盖。而且，在电介质层17的表面形成有由MgO(氧化镁)等金属氧化物所构成的保护层18。保护层18以覆盖电介质层17的一个表面的方式而形成。

由于要求保护层18具有高的耐溅射性和2次电子放出系数，所以一般使用MgO，但材料也不限定于此。例如也可以使用在MgO中混合有CaO(氧化钙)的复合材料。通过混合CaO，能够提高保护层18的耐溅射性。或者，也可以使用2次电子放出系数比MgO高的SrO等材料。

另一方面，图3所示的背面基板结构体12具有主要由玻璃构成的背面基板(基板、第二基板)19。在背面基板19的与前面基板结构体11相对的面(第二面)19a上，形成有多个地址电极(第三电极)20。各地址电极20以沿与X电极14和Y电极15的延伸方向交叉(大体正交)的列方向(第二方向、纵方向)DY延伸的方式形成。而且，各地址电极20以大体平行的方式以规定的配置间隔配置。

该地址电极20与形成在前面基板结构体11上的Y电极15构成用于进行作为用于选择单元25的点亮/非点亮的放电的地址放电的电极对。即，Y电极14兼具有作为维持放电用的电极的功能和作为地址放电用的电极的功能。

地址电极20由电介质层21所覆盖。在电介质层21上形成有在背面基板结构体12的厚度方向上延伸的多个隔壁(第一隔壁、纵肋)22。隔壁22以沿着地址电极20延伸的列方向DY线状地延伸的方式形成。而且，隔壁22的平面上的位置，如图4所示，配置在相邻的地址电极20之间。通过将隔壁22配置在相邻的地址电极20之间，对应于各地址电极的位置，形成将电介质层21的表面在列方向DY上进行划分的放电空间24。

而且，在地址电极20上的电介质层21上面，以及隔壁22的侧面，分别在规定的位置形成有由真空紫外线激励而发生红(R)、绿(G)、蓝(B)各色的可见光的荧光体部23r、23g、23b。

而且，图3所示的前面基板结构体11与背面基板结构体12，是在形成有保护层18的面与形成有隔壁22的面相对的状态下固定。而且，未图示的PDP1的周围部，例如由被称为玻璃料的低熔点玻璃材料等密封材料所密封，在放电空间24内，以规定的压力封入有未图示的被称为放电气体的气体(例如Ne与Xe的混合气体)。

如图4所示，对应于一对X电极14和Y电极15与地址电极20的交叉而构成一个单元25。单元25的平面面积由一对X电极14与Y电极15的配置间隔和隔壁22的配置间隔所规定。

而且，在各单元25分别形成有图3所示的红色用荧光体部23r、绿色用荧光体部23g、或者蓝色用荧光体部23b中的任意一个。

由该R、G、B的各单元25的组合(set)构成像素(pixel)。即，各荧光体部23r、23g、23b是PDP1的发光元件，由维持放电发生的规定波长的真空紫外线所激励，发出红(R)、绿(G)、蓝(B)各色的可见光。

PDP1是使每个该单元25发生维持放电，由通过维持放电而发生的真空紫外线激励R、G、B各荧光体部23而发光的结构。

<遮光膜的详细结构>

接着，使用图3～图5，对图3和图4所示的遮光膜10的详细结构进行说明。其中，作为本发明的实施方式1的PDP1的比较例，在图12和图13中表示本实施方式1的比较例的PDP50。

图5是对沿图4所示的A-A线的截面的一部分进行放大表示的主要部分放大截面图。而且，图12是表示本实施方式1的比较例的PDP的电极组、隔壁、和遮光膜的平面位置关系的从显示面侧所观察到的主要部分放大平面图，图13是对沿图12所示的B-B线的截面的一部分进行放大表示的主要部分放大截面图。

其中，在图12和图13所示的PDP50中，对具有与本发明的实施方式1相同的结构、功能的部件赋予同样的符号，其重复说明予以省略。

在图4中，遮光膜10由与构成PDP1(参照图3)的显示电极对的X电极14和Y电极15相同的材料所形成。即，遮光膜10具有由与X透明电极14a、Y透明电极15a相同的材料(例如ITO等)构成的透明部10a、和由与X总线电极14b、Y总线电极15b相同的材料所构成的金属材料(例如Cr/Cu/Cr叠层体)构成的遮光部10b。

这样，由于遮光膜10由导电性材料所形成，所以与X电极14和Y电极15隔开间隔而形成。

通过由与构成PDP1(参照图3)的显示电极对的X电极14和Y电极15相同的材料形成遮光膜10，在PDP1的制造工序中，由于能够将遮光膜10与X电极14和Y电极15一并形成，所以能够缩短制造工序。

然而，如图12所示的PDP50所具有的遮光膜51那样，将由导电性材料构成的遮光膜51沿着行方向DX形成带状时，X总线电极14b或Y总线电极15b与遮光膜51相互沿着延伸的面积就增大。

因此，导致X总线电极14b或Y总线电极15b与遮光膜51电容耦合，像电容器一样起作用。在这样的状态下，例如，在使用图2说明过的初始化过程(复位期间)TR、选择点亮单元的地址过程(地址期间)TA、或者显示过程(维持放电期间)TS中的任意一个过程中，对X总线电极14b或Y总线电极15b供给规定的电位时，在X总线电极14b或Y总线电极15b与遮光膜51之间流过充电电流。该充电电流不是对发光有贡献的电流。即，为了充电而消耗的电力是对PDP50的图像显示没有贡献的无效电力。

而且，如果由该电容耦合而在遮光膜51上形成电荷，则在进行使用图2说明过的地址放电或维持放电时，也存在成为误放电的原因的情况。

在发生电容耦合的情况下，该电容耦合部的电容，可以认为与平面平板电容(condenser)等电容器(capacitor)的静电电容相同。平面平板电容的静电电容是与相对配置的2枚平板之间存在物质的介电常数(相对介电常数)成比例增大。而且，也与2枚平板的相对面的平面面积成比例(即相对面的平面面积越小，静电电容越小)。而且，与2枚平板间的距离成反比，距离越大，静电电容越小。

因此，在本实施方式1中，如图5所示，遮光膜10形成为岛状，在每个单元25(参照图4)为孤立的结构。通过将遮光膜10形成为岛状，能够减小与X总线电极14b或Y总线电极15b大体平行配置的遮光膜10的相对面的面积。

所以，能够抑制成为无效电力或误放电原因的X总线电极14b或Y总线电极15b与遮光膜51的电容耦合。

而且，透明部10a和遮光部10b，如图3所示，是从前面基板13的面13a一侧开始依次叠层。当在显示面侧的基板的前面基板13的表面上直接形成具有黑色或暗色色调的遮光部10b时，形成有遮光部10b的区域为镜面状态。

形成有成为镜面状态的遮光部10b的区域，直角入射的外界光的反射(规则反射)增加。因此，在组装有PDP1的PDP装置中，产生观察者等的姿态照入在该显示面上的现象。

因此，在本实施方式1中，通过从前面基板13的13a一侧开始依次叠层透明部10a和遮光部10b，制成在遮光部10b与前面基板13之间隔有透明部10a的结构。

由此，能够防止形成有遮光部10b的区域成为镜面状态。即，能够抑制上述照入现象。

而且，如图4和图5所示，遮光膜10是在相邻的隔壁22之间隔开间隔而形成。即，遮光膜10未形成在与隔壁22重叠的位置。

这里，在本实施方式1的比较例的图13所示的PDP50的情况下，由与X电极14和Y电极15相同的材料所形成的遮光膜51也形成在与隔壁22重叠的位置。在遮光膜51形成在与隔壁22重叠的位置的情况下，如图13中作为电容器(电容耦合部)CA而模式性地表示的那样，存在遮光膜51与地址电极20电容耦合的情况。

这是由于，在形成有隔壁22的区域，通过介电常数比放电空间24内封入的放电气体高的电介质层17、保护层18、隔壁22、荧光体部23、电介质层21等，遮光膜51与地址电极20(大体直线地)连接。

这样，当遮光膜51与地址电极20由介电常数高的部件(大体直线地)连接时，该电容器CA的理论上的电容就大到不能忽视的程度。即，在使用图2说明过的地址过程(地址期间)TA，对图13所示的地址电极20施加用于供给规定电位的脉冲时，在遮光膜51与地址电极20之间流过对发光没有贡献的充电电流，PDP50的无效电力增大。

而且，如图13所示，电容器CA跨越隔壁22而形成。因此，例如，在对形成有电容器CA的地址电极20a施加用于供给规定电位的脉冲时，存在由电容器CA所示的电容耦合而在与相邻的放电空间24a重叠的区域52形成电荷的情况。

这样，在与配置有地址电极20a的行的相邻放电空间24a重叠的区域52形成电荷时，在配置在该放电空间24a的单元25(参照图12)中进行地址放电动作、维持放电动作等时成为误放电的原因。

为了防止该误放电，需要将地址电极20a与Y电极14(参照图12)之间施加的脉冲电压抑制得较低，但是，在将施加的脉冲电压抑制得过低时则可能会不发生规定的地址放电。所以，为了在防止遮光膜51与地址电极20电容耦合而引起的误放电的同时实现规定的地址放电动作，所施加的脉冲电压的裕量(容许范围、驱动裕量)就很小。即，图2中说明过的地址过程(地址期间)TA的控制困难。

因此，在本实施方式1中，如图5所示，将遮光膜10在相邻的隔壁22之间隔开间隔形成为岛状，为遮光膜10不形成在与隔壁22重合的位置的结构。

根据这样的结构，能够避免在PDP1(参照图4)中，通过比放电空间24内封入的放电气体的介电常数高的电介质层17、保护层18、隔壁22、荧光体部23、电介质层21等，遮光膜10与地址电极20(大体直线地)连接的情况。

此外，遮光膜10与地址电极20通过放电空间24内封入的放电气体而连接的位置产生。但是，由于放电气体的介电常数与电介质层17、保护层18、隔壁22、荧光体部23、电介质层21相比极其低，所以，这里即使在发生了电容耦合的情况下，其电容也小得可以忽略不计。

然而，如图4所示，PDP1在形成有隔壁22的区域未形成遮光膜10的遮光部10b。因此，形成有隔壁22的区域的外界光的反射率与图12所示的PDP50相比要高。

但是，在形成有隔壁22的区域未形成图3所示的荧光体部23(由于一般具有白色的色调，所以反射率高)。所以，形成有隔壁22的区域的反射率为形成有荧光体部23的区域的一半以下，能够抑制亮室对比度的下降。

如以上所述，根据本实施方式1，通过使遮光膜10形成为岛状，由于能够减小与X总线电极14b或Y总线电极15b大体平行配置的遮光膜10的相对面的面积，所以能够抑制成为无效电力、误放电原因的X总线电极14b或Y总线电极15b与遮光膜10的电容耦合。

此外，通过使遮光膜10在相邻的隔壁22之间隔开间隔形成为岛状，能够抑制成为无效电力、误放电原因的跨越隔壁22的电容耦合的形成。

<PDP的制造方法>

接着，使用图3和图4，对本实施方式1的PDP1的制造方法的概要进行说明。本实施方式1的PDP1的制造方法包括以下工序。

(a)首先，形成图3所示的前面基板结构体11。前面基板结构体11例如按照以下方式形成。

首先，准备前面基板(第一基板)13，在与显示面相反一侧的面(第一面)13a上形成X电极14、Y电极15和遮光膜10。X电极14、Y电极15和遮光膜10的形成方法，例如可以通过光刻法和蚀刻法进行。

首先，在前面基板13的面13a上，例如由印刷法形成作为X透明电极(透明电极部)14a、Y透明电极(透明电极部)15a和遮光膜10的透明部10a的材料的例如ITO等透明的透明材料膜。

接着，对该表面涂覆抗蚀膜后，例如在由图4所示图形的掩模覆盖的状态下进行曝光、显影，形成所希望图形的抗蚀膜。接着，通过蚀刻，将未被抗蚀膜覆盖的区域去除，之后剥离抗蚀膜，由此得到例如图4所示的所希望图形的X透明电极14a、Y透明电极15a和透明部10a。

接着，在X透明电极14a、Y透明电极15a上分别叠层形成X总线电极(遮光电极部)14b、Y总线电极(遮光电极部)15b。该X总线电极14b、Y总线电极15b和遮光膜10的遮光部10b，也同样可以通过光刻法和蚀刻法进行。

首先，在形成有X透明电极14a、Y透明电极15a和遮光膜10的透明部10a的前面基板13的面13a上，形成作为X总线电极(遮光电极部)14b、Y总线电极(遮光电极部)15b和遮光膜10的遮光部10b的材料的金属材料膜。

在形成该金属材料膜的工序中，例如在涂敷被称为导电性浆料的、分散有Ag等金属颗粒的树脂浆料以后，对其进行烧制而得到。而且，例如在形成Cr/Cu/Cr的叠层结构的金属材料膜的情况下，可以由蒸镀法形成。

接着，对该表面涂覆抗蚀膜后，例如在由图4所示图形的掩模覆盖的状态下进行曝光、显影，形成所希望图形的抗蚀膜。接着，通过蚀刻，将未被抗蚀膜覆盖的区域去除以后，剥离抗蚀膜，由此得到例如图4所示的所希望图形的X透明电极14a、Y透明电极15a和透明部10a。

这里，在使用光刻法和蚀刻法的情况下，由于加工精度的关系，使各透明电极14a、15a和透明部10a的面积分别大于各总线电极14b、15b和遮光部10b的面积。这是由于使前面基板13与各总线电极14b、15b和遮光部10b之间隔有各透明电极14a、15a和透明部10a的缘故。

在本实施方式1中，由与X电极14、Y电极15相同的材料形成遮光膜10。所以，如上所述，由于能够将遮光膜10与X电极14、Y电极15一并形成，所以能够缩短制造工序。

在前面基板13的面13a上形成有X电极14、Y电极15和遮光膜10之后，在前面基板13上，依次叠层形成覆盖X电极14、Y电极15和遮光膜10的电介质层17、保护层18。

(b)此外，形成图1所示的背面基板结构体12。背面基板结构体12例如按照以下方式形成。

首先，准备背面基板19，在一个面(第二面)上以规定的图形形成地址电极20。接着在背面基板19的表面以覆盖地址电极20的方式形成电介质层21。接着，在电介质层21的表面形成划分放电空间24的隔壁22。隔壁22以沿着地址电极20延伸的方式形成。接着，在由隔壁22划分的放电空间24内，涂敷、加热形成荧光体部23。

其中，背面基板结构体12并非一定要在该阶段准备，也可以在后述的(c)工序之前准备。

(c)接着，将前面基板结构体11的第一面侧与第二基板结构体的第二面侧，在相对的状态下重合组装。

在该工序中，形成在各基板结构体11、12的任一个上的电极组(X电极14、Y电极15、地址电极20)，例如在按照成为图2所示的规定位置关系的方式进行定位之后，在重叠的状态下固定，对各基板结构体11、12的外周，由未图示的密封材料(例如密封玻璃料)等密封。

在各基板结构体11、12的外周被密封后，放电空间24的内部空间的气体，通过至少一个基板结构体11、12上形成的未图示的通气孔排出。而且之后通过该通气孔以规定的压力封入规定的放电气体。在封入放电气体之后，密封通气孔，得到图3所示的PDP1。

(实施方式2)

在上述实施方式1中，以构成X电极14和Y电极15的材料与构成遮光膜10的材料完全使用相同的材料为例进行了说明。但是，也可以通过形成遮光膜10，为了得到能够降低对于外界光的反射率、提高亮室对比度的效果，而形成有遮光部10b。

以下使用图6和图7对本实施方式2的PDP进行说明。其中，在本实施方式2中说明的PDP30中，对具有与上述实施方式1中说明过的PDP1相同的结构、功能的部件赋予同样的符号，其重复说明予以省略。

图6是表示作为本实施方式1的第一变形例的PDP的电极组、隔壁、和遮光膜的平面位置关系的从显示面侧所观察到的主要部分放大平面图。图7是对沿图6所示的C-C线的截面的一部分进行放大表示的主要部分放大截面图。

图6所示的本实施方式2的PDP30与图4所示的PDP1的不同点在于，图6所示的PDP30的遮光膜10仅由遮光部10b所形成。

遮光膜10的构成材料，并非一定要与X电极14、Y电极15完全相同。即，如图6和图7所示，X电极14、Y电极15的构成材料中，具有与具有遮光性的金属材料(例如Ag和Cu、Cr等)通用的金属材料即可。

X电极14、Y电极15的构成材料中，通过使用与具有遮光性的金属材料(例如Ag和Cu、Cr等)通用的金属材料形成遮光膜10，与上述实施方式1相同，能够将遮光膜10与X电极14、Y电极15一并形成。

在X电极14、Y电极15的构成材料中，通过仅由具有遮光性的金属材料形成遮光膜10(即仅由遮光部10b形成遮光膜10)，如图6和图7所示，能够增大非发光区域16内的遮光部10b的面积。这是由于，在上述形成遮光部10b的工序中，没有必要在透明部10a(参照图4)上形成遮光部10b，所以即使考虑到光刻法和蚀刻法的加工精度，也能够将遮光部10b扩大到图4所示的透明部10a同等程度的大小(即，与X电极14、Y电极15和隔壁22不重叠的范围的最大限度的大小)。

这样，根据本实施方式2，PDP30与前面实施方式1中说明过的PDP1相比，由于能够扩大遮光膜10的遮光部10b的面积，所以能够更有效吸收照射到非发光区域16的外界光。因此，能够进一步改善亮室对比度。

(实施方式3)

接着，使用图8和图9对本实施方式3的PDP进行说明。其中，在本实施方式3中说明的PDP35中，对具有与上述实施方式1中说明过的PDP1相同的结构、功能的部件赋予同样的符号，其重复说明予以省略。

图8是表示本实施方式3的PDP的电极组、隔壁、和遮光膜的平面位置关系的从显示面侧所观察到的主要部分放大平面图。图9是对沿图8所示的D-D线的截面的一部分进行放大表示的主要部分放大截面图。

图8所示的本实施方式3的PDP35与图4所示的PDP1的不同点在于，图8所示的PDP35的遮光膜10的透明部10a的面积，形成得比遮光部10b的面积小。

如上所述，遮光膜10的透明部10a具有防止外界光的规则反射的增加，抑制照入现象的功能。上述实施方式2中说明过PDP30由于没有该透明部10a(参照图8)，所以与上述实施方式1的PDP1相比，发生该照入现象的可能性高。

这里，在图8所示的PDP35中，遮光膜10是具有透明部10a的结构。通过形成透明部10a，能够抑制照入现象。

其中，由于PDP35如图9所示，遮光部10b的外缘部是在前面基板13上直接形成的状态，所以与上述实施方式1中说明过的PDP1相比，发生照入现象的可能性少许偏高。

但是，在前面基板13上直接形成的部分仅是外缘部，遮光部10b与前面基板13接触的面积小于透明部10a与前面基板13接触的面积。所以，与上述实施方式2中说明过的PDP30相比，发生照入的程度极其低。

而且，如图8和图9所示，PDP35按照遮光膜10的透明部10a的面积小于遮光部10b的面积的方式形成。通过使透明部10a的面积小于遮光部10b的面积，即使考虑光刻法和蚀刻法的加工精度，也能够增大非发光区域16内的遮光部10b的面积。

根据这样的实施方式3，通过使透明部10a的面积小于遮光部10b的面积，能够抑制照入现象，且由于能够增大遮光部10b的面积，所以能够更有效吸收照射到非发光区域16的外界光。

(实施方式4)

接着，使用图10和图11对本实施方式4的PDP进行说明。其中，在本实施方式4中说明的PDP40中，对具有与上述实施方式1中说明过的PDP1相同的结构、功能的部件赋予同样的符号，其重复说明予以省略。

图10是表示本实施方式4的PDP的电极组、隔壁、和遮光膜的平面位置关系的从显示面侧所观察到的主要部分放大平面图。图11是进一步放大图10所示的区域E的主要部分放大平面图。

图10所示的本实施方式4的PDP40与图4所示的PDP1的不同点在于，图10所示的PDP40所具有的遮光膜41形成为带状。其中，遮光膜41与图3和图4所示的遮光膜10的不同点仅在于其形状，其它方面(材质、制造方法、由透明部41a和遮光部41b构成的方面等)都与上述实施方式1中说明过的遮光膜10相同，所以其重复的说明予以省略。

如图10所示，通过将遮光膜41形成为带状，能够提高在形成该遮光膜41的工序中的制造效率。其理由说明如下。

本实施方式4的PDP40可以由与上述实施方式1中说明过的PDP1相同的制造工序进行制造。

如上述实施方式1中的说明，遮光膜41使用光刻法和蚀刻法形成。这里，如上述实施方式1中的说明，为了以所希望的图形形成遮光膜41的透明部41a和遮光部41b，需要在曝光前由所希望图形形成的掩模覆盖的工序和蚀刻后去除抗蚀膜的工序。

这里，在上述实施方式1中说明过的PDP1的情况下，由于遮光膜10是形成孤立的岛状，所以该覆盖掩模的工序，或剥离抗蚀膜的工序，就必须对每个孤立的遮光膜10单独进行。

另一方面，由于本实施方式4的PDP40是将遮光膜41连接成带状，所以在该覆盖掩模的工序，或剥离抗蚀膜的工序中，能够一并进行处理。

由此，根据本实施方式4，能够提高形成遮光膜41的工序中的制造效率。

然而，在将遮光膜41连接成带状的情况下，如上述实施方式1中的说明，必须有效地抑制X总线电极14b、Y总线电极15b或地址电极20与遮光膜41的电容耦合。

因此，本实施方式4的PDP40如图11所示，是以使与隔壁22重叠的区域(第一区域)42的遮光膜41的宽度L42窄于与隔壁22不重叠的区域(第二区域)43的遮光膜41的宽度L43的方式而形成。其中，在图11中是以宽度L42、L43作为遮光部41b的宽度而表示，但是关于透明部41a的宽度也是同样。

与隔壁22重叠的区域42的遮光膜41的宽度L42，在上述覆盖掩模的工序，或剥离抗蚀膜的工序中，只要是具有掩模和抗蚀膜不被切断的程度的宽度即可，优选尽可能的窄。

如上述实施方式1中的说明，在遮光膜41b与地址电极20之间形成电容耦合部的情况下，如果以跨越隔壁22的方式形成电容耦合部，则其电容会大到不能忽视的程度。

但是在本实施方式4中，通过减小与隔壁22重叠的区域42的遮光膜41的宽度L42，能够使以跨越隔壁22的方式形成电容耦合部的遮光膜41的面积保持为最小限度。

所以，与上述实施方式1中作为比较例说明过的图12和图13所示的PDP50相比，能够抑制成为无效电力的增加和驱动裕量的减小的原因的电容耦合。

其中，在本实施方式4中说明过的图10所示的PDP40中，也可以适用上述实施方式2或上述实施方式3中说明过的结构。即，图10所示的遮光膜41可以仅由遮光部41b所形成。而且，也能够以遮光膜41的透明部41a的面积小于遮光部41b的面积的方式形成。

在这种情况下，当然也可以得到上述实施方式2或上述实施方式3中说明过的效果。

以上，基于实施方式对由本发明的发明人完成的发明进行了具体说明，但本发明并不限于上述实施方式，在不脱离其技术思想的范围中，能够进行各种变更。

例如，PDP根据要求性能和驱动方式等具有各种结构，也能够适用于与实施方式1～4中说明过的PDP1、30、35、40不同结构的PDP。

例如，在实施方式1中作为PDP的结构例，对放电空间24由线状(纵方向)延伸的隔壁(第一隔壁、纵肋)22所划分的被称为条纹肋的结构进行了说明。

但是也存在以提高亮度等为目的，形成多个与该隔壁22大体正交方向交叉的横隔壁(第二隔壁、横肋)，在每个单元25由隔壁22与横隔壁所划分的被称为盒形肋的结构。

在适用于这样的盒形肋结构的PDP的情况下，例如，通过使实施方式1中说明过的遮光膜10在相邻的上述第一隔壁与相邻的上述第二隔壁之间隔开间隔形成为岛状，能够抑制电容耦合。

而且，如本实施方式4中的说明，在形成带状遮光膜41的情况下，由于不需要在与上述第二隔壁重叠的区域形成遮光膜41，所以，如果以与上述第一隔壁重叠的区域的遮光膜41的宽度窄于与上述第一隔壁不重叠的区域的遮光膜41的宽度的方式而形成，能够抑制电容耦合。

Claims (9)

1.一种等离子体显示面板，其特征在于：

包括隔着放电空间相互相对的第一基板结构体和第二基板结构体，

所述第一基板结构体包括：

第一基板；

在所述第一基板的与所述第二基板结构体相对的第一面侧，沿第一方向形成的多个显示电极对；

覆盖所述多个显示电极对的电介质层；

以在相邻的两对所述显示电极对之间沿所述第一方向延伸的方式形成的非发光区域；和

在所述非发光区域，与所述显示电极对隔开间隔形成的多个遮光膜，

所述第二基板结构体包括：

第二基板；

在所述第二基板的与所述第一基板结构体相对的第二面侧，沿与所述第一方向交叉的第二方向形成的地址电极；和

形成于所述第二基板的所述第二面侧，并且以划分所述放电空间的方式沿所述第二方向形成的隔壁，

所述多个遮光膜含有与构成所述显示电极对的金属材料通用的金属材料，在相邻的所述隔壁之间隔开间隔形成为岛状。

2.根据权利要求1所述的等离子体显示面板，其特征在于：

所述显示电极对具有对可见光的遮光性不同的透明电极部和遮光电极部，

所述遮光电极部由金属材料构成，

所述遮光膜从所述第一基板的所述第一面侧依次叠层有由与所述透明电极部相同的材料构成的透明部、和由与所述遮光电极部相同的所述金属材料构成的遮光部。

3.根据权利要求2所述的等离子体显示面板，其特征在于：

所述遮光膜的所述透明部的面积比所述遮光膜的所述遮光部的面积小。

4.根据权利要求1所述的等离子体显示面板，其特征在于：

所述显示电极对具有对可见光的遮光性不同的透明电极部和遮光电极部，

所述遮光电极部由金属材料构成，

所述遮光膜仅由与所述遮光电极部相同的所述金属材料构成的遮光部所形成。

5.一种等离子体显示面板，其特征在于：

包括隔着放电空间相互相对的第一基板结构体和第二基板结构体，

所述第一基板结构体包括：

第一基板；

在所述第一基板的与所述第二基板结构体相对的第一面侧，沿第一方向形成的多个显示电极对；

覆盖所述多个显示电极对的电介质层；

以在相邻的两对所述显示电极对之间沿所述第一方向延伸的方式形成的非发光区域；和

在所述非发光区域，与所述显示电极对隔开间隔形成为带状的遮光膜，

所述第二基板结构体包括：

第二基板；

在所述第二基板的与所述第一基板结构体相对的第二面侧，沿与所述第一方向交叉的第二方向形成的地址电极；和

形成于所述第二基板的所述第二面侧，并且以划分所述放电空间的方式沿所述第二方向形成的隔壁，

所述多个遮光膜含有与构成所述显示电极对的金属材料通用的金属材料，与所述隔壁重叠的第一区域的所述遮光膜的宽度窄于与所述隔壁不重叠的第二区域的所述遮光膜的宽度。

6.根据权利要求5所述的等离子体显示面板，其特征在于：

所述显示电极对具有对可见光的遮光性不同的透明电极部和遮光电极部，

所述遮光电极部由金属材料构成，

所述遮光膜从所述第一基板的所述第一面侧依次叠层有由与所述透明电极部相同的材料构成的透明部、和由与所述遮光电极部相同的所述金属材料构成的遮光部。

7.根据权利要求6所述的等离子体显示面板，其特征在于：

所述遮光膜的所述透明部的面积比所述遮光膜的所述遮光部的面积小。

8.根据权利要求5所述的等离子体显示面板，其特征在于：

所述显示电极对具有对可见光的遮光性不同的透明电极部和遮光电极部，

所述遮光电极部由金属材料构成，

所述遮光膜仅由与所述遮光电极部相同的所述金属材料构成的遮光部所形成。

9.一种等离子体显示面板的制造方法，其特征在于，包括：

(a)在第一基板的第一面上沿第一方向一并形成多个显示电极对和多个遮光膜之后，形成覆盖所述显示电极对的电介质层，形成第一基板结构体的工序；

(b)在第二基板的第二面上沿与所述第一方向交叉的第二方向形成地址电极之后，形成将所述第二面侧划分为多个放电空间的隔壁，形成在由所述隔壁划分的放电空间内形成有荧光体部的第二基板结构体的工序；和

(c)使所述第一基板结构体的所述第一面侧与所述第二基板结构体的所述第二面侧在相对的状态下叠合的工序，

所述多个遮光膜在相邻的两对所述显示电极对之间分别沿所述第一方向延伸的非发光区域，与所述显示电极对隔开间隔形成为带状，

与所述隔壁重叠的第一区域的所述遮光膜的宽度窄于与所述隔壁不重叠的第二区域的所述遮光膜的宽度。

Images