CN101373343A - 用于薄膜晶体管液晶显示器的彩色光阻剂剥离溶液组合物 - Google Patents
用于薄膜晶体管液晶显示器的彩色光阻剂剥离溶液组合物 Download PDFInfo
- Publication number
- CN101373343A CN101373343A CNA2008102108528A CN200810210852A CN101373343A CN 101373343 A CN101373343 A CN 101373343A CN A2008102108528 A CNA2008102108528 A CN A2008102108528A CN 200810210852 A CN200810210852 A CN 200810210852A CN 101373343 A CN101373343 A CN 101373343A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- ether
- potassium
- stripping solution
- glycol
- solution composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 58
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 title abstract description 61
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title abstract description 6
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title abstract description 4
- -1 alkylammonium hydroxides Chemical class 0.000 claims abstract description 60
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 42
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 claims abstract description 18
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 65
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 17
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N monobenzene Natural products C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 10
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 10
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 9
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 claims description 9
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 claims description 9
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M potassium acetate Chemical compound [K+].CC([O-])=O SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 8
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000005210 alkyl ammonium group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 7
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- ASUDFOJKTJLAIK-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethanamine Chemical compound COCCN ASUDFOJKTJLAIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- DLMMQHNYEBTUFT-UHFFFAOYSA-N n-ethoxypropan-1-amine Chemical group CCCNOCC DLMMQHNYEBTUFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- BOGFHOWTVGAYFK-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-propoxyethoxy)ethoxy]propane Chemical compound CCCOCCOCCOCCC BOGFHOWTVGAYFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- CHHHXKFHOYLYRE-UHFFFAOYSA-M 2,4-Hexadienoic acid, potassium salt (1:1), (2E,4E)- Chemical compound [K+].CC=CC=CC([O-])=O CHHHXKFHOYLYRE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical group CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- VATRWWPJWVCZTA-UHFFFAOYSA-N 3-oxo-n-[2-(trifluoromethyl)phenyl]butanamide Chemical compound CC(=O)CC(=O)NC1=CC=CC=C1C(F)(F)F VATRWWPJWVCZTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- NDKBVBUGCNGSJJ-UHFFFAOYSA-M benzyltrimethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 NDKBVBUGCNGSJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 claims description 4
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 235000011056 potassium acetate Nutrition 0.000 claims description 4
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 235000010235 potassium benzoate Nutrition 0.000 claims description 4
- 239000004300 potassium benzoate Substances 0.000 claims description 4
- 229940103091 potassium benzoate Drugs 0.000 claims description 4
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 claims description 4
- 239000004323 potassium nitrate Substances 0.000 claims description 4
- 235000010241 potassium sorbate Nutrition 0.000 claims description 4
- 239000004302 potassium sorbate Substances 0.000 claims description 4
- 229940069338 potassium sorbate Drugs 0.000 claims description 4
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- MZKKJVZIFIQOPP-UHFFFAOYSA-M potassium;4-aminobenzoate Chemical compound [K+].NC1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 MZKKJVZIFIQOPP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol monomethyl ether Chemical compound COCCOCCOCCO JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KAKVFSYQVNHFBS-UHFFFAOYSA-N (5-hydroxycyclopenten-1-yl)-phenylmethanone Chemical compound OC1CCC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 KAKVFSYQVNHFBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- GDXHBFHOEYVPED-UHFFFAOYSA-N 1-(2-butoxyethoxy)butane Chemical compound CCCCOCCOCCCC GDXHBFHOEYVPED-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- BQCCJWMQESHLIT-UHFFFAOYSA-N 1-propylsulfinylpropane Chemical compound CCCS(=O)CCC BQCCJWMQESHLIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- COBPKKZHLDDMTB-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-butoxyethoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCOCCO COBPKKZHLDDMTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- CCAFPWNGIUBUSD-UHFFFAOYSA-N diethyl sulfoxide Chemical compound CCS(=O)CC CCAFPWNGIUBUSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 claims description 3
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 claims description 3
- QOHMWDJIBGVPIF-UHFFFAOYSA-N n',n'-diethylpropane-1,3-diamine Chemical compound CCN(CC)CCCN QOHMWDJIBGVPIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- GKKCIDNWFBPDBW-UHFFFAOYSA-M potassium cyanate Chemical compound [K]OC#N GKKCIDNWFBPDBW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- 229940096992 potassium oleate Drugs 0.000 claims description 3
- KAQHZJVQFBJKCK-UHFFFAOYSA-L potassium pyrosulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OS([O-])(=O)=O KAQHZJVQFBJKCK-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- DPLVEEXVKBWGHE-UHFFFAOYSA-N potassium sulfide Chemical compound [S-2].[K+].[K+] DPLVEEXVKBWGHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- MLICVSDCCDDWMD-KVVVOXFISA-M potassium;(z)-octadec-9-enoate Chemical compound [K+].CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC([O-])=O MLICVSDCCDDWMD-KVVVOXFISA-M 0.000 claims description 3
- 229940048842 sodium xylenesulfonate Drugs 0.000 claims description 3
- QUCDWLYKDRVKMI-UHFFFAOYSA-M sodium;3,4-dimethylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1C QUCDWLYKDRVKMI-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229940073455 tetraethylammonium hydroxide Drugs 0.000 claims description 3
- LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J tetrapotassium;phosphonato phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims description 3
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KNYKHCLCBHSFCK-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-1-amine Chemical compound CCC(N)OC KNYKHCLCBHSFCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4-phenylpyridine Chemical compound C1=NC(C)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 2
- FUGIIBWTNARRSF-UHFFFAOYSA-N decane-5,6-diol Chemical compound CCCCC(O)C(O)CCCC FUGIIBWTNARRSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XMYQHJDBLRZMLW-UHFFFAOYSA-N methanolamine Chemical compound NCO XMYQHJDBLRZMLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 claims description 2
- ZFPGARUNNKGOBB-UHFFFAOYSA-N 1-Ethyl-2-pyrrolidinone Chemical compound CCN1CCCC1=O ZFPGARUNNKGOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 235000015076 Shorea robusta Nutrition 0.000 claims 1
- 229940098424 potassium pyrophosphate Drugs 0.000 claims 1
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 23
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 21
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 19
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 7
- 229910001854 alkali hydroxide Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 abstract 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 abstract 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 abstract 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 abstract 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 description 6
- 150000001983 dialkylethers Chemical class 0.000 description 5
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 5
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 239000007767 bonding agent Substances 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- 229940093476 ethylene glycol Drugs 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 3
- 229960004109 potassium acetate Drugs 0.000 description 3
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 3
- LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxyethane Chemical compound CCOCCOCC LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentane-2,4-diol Chemical compound CC(O)CC(C)(C)O SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019923 CrOx Inorganic materials 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 2
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 235000014347 soups Nutrition 0.000 description 2
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 125000000229 (C1-C4)alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQSLKNLISLWZQH-UHFFFAOYSA-N 1-(2-propoxyethoxy)propane Chemical compound CCCOCCOCCC HQSLKNLISLWZQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UICGXCCDQFJUFM-UHFFFAOYSA-N 1-ethylpyrrolidin-2-one Chemical compound C(C)N1C(CCC1)=O.C(C)N1C(CCC1)=O UICGXCCDQFJUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSIUFWMDOOFBSP-UHFFFAOYSA-N 2-azanylethanol Chemical compound NCCO.NCCO BSIUFWMDOOFBSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBZKBSXREAQDTO-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-n-(2-methoxyethyl)ethanamine Chemical compound COCCNCCOC IBZKBSXREAQDTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAXDZWQIWUSWJH-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropan-1-amine Chemical compound COCCCN FAXDZWQIWUSWJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- ZKZRMUAPBYSHGK-UHFFFAOYSA-N C(CC)OCC(=S)OCCO Chemical compound C(CC)OCC(=S)OCCO ZKZRMUAPBYSHGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N N-[2-oxo-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 229910018503 SF6 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 1
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000009931 harmful effect Effects 0.000 description 1
- 229940051250 hexylene glycol Drugs 0.000 description 1
- 230000008595 infiltration Effects 0.000 description 1
- 238000001764 infiltration Methods 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- QKCGXXHCELUCKW-UHFFFAOYSA-N n-[4-[4-(dinaphthalen-2-ylamino)phenyl]phenyl]-n-naphthalen-2-ylnaphthalen-2-amine Chemical compound C1=CC=CC2=CC(N(C=3C=CC(=CC=3)C=3C=CC(=CC=3)N(C=3C=C4C=CC=CC4=CC=3)C=3C=C4C=CC=CC4=CC=3)C3=CC4=CC=CC=C4C=C3)=CC=C21 QKCGXXHCELUCKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- VWBWQOUWDOULQN-UHFFFAOYSA-N nmp n-methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O.CN1CCCC1=O VWBWQOUWDOULQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229940057199 potassium aminobenzoate Drugs 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- OTYBMLCTZGSZBG-UHFFFAOYSA-L potassium sulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])(=O)=O OTYBMLCTZGSZBG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052939 potassium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011151 potassium sulphates Nutrition 0.000 description 1
- DHERNFAJQNHYBM-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1.O=C1CCCN1 DHERNFAJQNHYBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010129 solution processing Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- SFZCNBIFKDRMGX-UHFFFAOYSA-N sulfur hexafluoride Chemical compound FS(F)(F)(F)(F)F SFZCNBIFKDRMGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000909 sulfur hexafluoride Drugs 0.000 description 1
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 1
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/42—Stripping or agents therefor
- G03F7/422—Stripping or agents therefor using liquids only
- G03F7/425—Stripping or agents therefor using liquids only containing mineral alkaline compounds; containing organic basic compounds, e.g. quaternary ammonium compounds; containing heterocyclic basic compounds containing nitrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D1/00—Detergent compositions based essentially on surface-active compounds; Use of these compounds as a detergent
- C11D1/38—Cationic compounds
- C11D1/40—Monoamines or polyamines; Salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/02—Inorganic compounds ; Elemental compounds
- C11D3/04—Water-soluble compounds
- C11D3/044—Hydroxides or bases
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/039—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
- G03F7/0392—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists the macromolecular compound being present in a chemically amplified positive photoresist composition
- G03F7/0397—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists the macromolecular compound being present in a chemically amplified positive photoresist composition the macromolecular compound having an alicyclic moiety in a side chain
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/42—Stripping or agents therefor
- G03F7/422—Stripping or agents therefor using liquids only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D2111/00—Cleaning compositions characterised by the objects to be cleaned; Cleaning compositions characterised by non-standard cleaning or washing processes
- C11D2111/10—Objects to be cleaned
- C11D2111/14—Hard surfaces
- C11D2111/22—Electronic devices, e.g. PCBs or semiconductors
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
本发明涉及一种为了回收使用薄膜晶体管液晶显示器的滤色器形成工艺中产生的不良基板，而用于去除彩色光阻剂图案及涂层的彩色光阻剂剥离溶液组合物，具体涉及一种包含1－20重量％的选自无机碱氢氧化物、氢氧化铵、具有C1－C4烷基的烷基氢氧化铵或具有C1－C4烷基的苯烷基氢氧化铵中的氢氧化物；1－70重量％的选自具有C1－C4烷基的烷撑二醇醚或烷撑二醇中的至少一种化合物；0.5－10重量％的羟胺；0.5－50重量％的烷氧基烷基胺；以及余量水的彩色光阻剂剥离溶液组合物。本发明的组合物可以在短时间内去除彩色光阻剂和涂层，从而可以回收使用以往技术中由于难以去除彩色光阻剂图案而大部分被废弃的滤色器基板。
Description
技术领域
本发明涉及一种用于薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)的彩色光阻剂剥离溶液组合物，特别涉及对滤色器工艺中发生的不良基板的彩色光阻剂和包含彩色光阻剂的覆盖涂层的去除效果优秀，并且可以重新回收使用从黑膜(Black Mask)或玻璃基板去除掉的彩色光阻剂，且能够回收使用滤色器基板的薄膜晶体管液晶显示器用彩色光阻剂剥离溶液组合物。
背景技术
一般，滤色器的基板由阻挡滤色器的红绿蓝图案和各像素之间的漏光并用于提高对比度的黑色矩阵、作为保护膜使用的涂层以及向液晶单元施加电压的共同电极组成。
所述滤色器的制造工艺如下：
首先，根据用途将作为黑色矩阵材料所使用的Cr/CrOx或者有机材料涂敷到玻璃基板上，以此来形成图案。在形成黑膜图案之后，通过光刻技术形成用于显示色彩的彩色光阻剂的图案。将彩色光阻剂涂敷到玻璃基板上，然后进行曝光，并通过光聚合反应来固化彩色光阻剂。当曝光结束之后，彩色光阻剂中没有被曝光的部分通过显影来去除，然后进行焙烧过程。
彩色光阻剂通过颜料分散法、染色法、电沉积法等来制造，其中颜料分散法使用最广泛。通常，如光刻胶的感光组合物，即光聚合引发剂、单体、粘合剂等上分散有显示色彩的有机颜料。光聚合引发剂是在受光之后产生自由基(radical)的高敏感化合物，单体通过自由基引发聚合反应之后，结合成高分子，成为不溶于显影溶剂中的状态。粘合剂在常温条件下在显影液中保护液体状态的单体，并对颜料分散的稳定性以及红绿蓝图案的耐热性、耐光性、耐药品性等的可靠性起决定作用。
目前，滤色器工艺中产生的不良滤色器基板的彩色光阻剂被固化一次之后，就不能仅通过去除错误图案部分来进行整修。而且，能去除彩色光阻剂的溶剂几乎不存在，因此大部分不良滤色器一般不经过修整等的重复作业就被废弃。
所述彩色光阻剂具有负型抗蚀剂的特性，通常负型抗蚀剂相对于正型抗蚀剂，其剥离难度大，因此负型抗蚀剂需要有较强的剥离性能。
由于上述理由，现有技术中使用了利用无机剥离溶液或有机剥离溶液以及等离子体的反应离子蚀刻(RIE，reactive ion etching)方法。但是，就所述有机剥离溶液而言，其相对于无机剥离溶液处理时间较长，并且对涂敷在滤色器上的涂敷材料进行剥离时非常困难。就无机剥离溶液而言，其相对于有机剥离溶液稳定性差，长时间使用时无机盐会从溶液中析出来，因此在使用时需要格外小心。关于所述的有机剥离溶液，日本专利公开公报昭51-72503号中已有公开，而脱膜剂也已在欧洲专利公报第0119337号中公开。
并且，为了解决在有机剥离溶液中进行剥离时的困难，部分发明专利公开了通过易溶于有机溶剂的无机盐来提高剥离涂敷材料性能的方法，然而其剥离时间与无机剥离溶液相比较还有一定的差距。就这种有机剥离溶液而言，韩国发明专利公开第2005-0006980号中已有公开。
另外，美国发明专利第5,756,239号中已经公开了一种作为使用等离子体的反应离子刻蚀(RIE；reactive ionetching)的方法，通过连续使用O2-RIE、SF6-RIE来去除由通常的湿式蚀刻方法无法去除的固化彩色光阻剂的方法。并且，美国发明专利第5,059,500号公开了如下方法：在将聚酯、聚酰胺、酚醛清漆树脂作为吸收层，将聚硅烷、聚硅氧烷、有机硅化合物、硅石、氮化硅的混合物作为障壁层来使用的固化彩色光阻剂中，吸收层通过使用氧气的等离子体来去除，而障壁层使用六氟化硫或者三氟化氮的反应离子刻蚀法RIE来去除。然而，使用此类等离子体的滤色器的蚀刻需要在高真空、高能量的条件下进行，因此这些条件是很难掌握的。另外，该方法还具有难以在大面积中使用和设备昂贵等的缺点。
如上所述，现有去除彩色光阻剂的方法存在以下缺点。即，很难稳定地将大量的彩色光阻剂及涂敷材料去除、缺乏安全性、或者生产效率或产率下降。
因此，亟需开发一种通过安全的方法能够大量去除彩色光阻剂的方法。
技术内容
为了解决上述技术问题，本发明的目的在于提供一种通过安全的方法能够大量去除在薄膜晶体管液晶显示器的滤色器制造工艺中使用的彩色光阻剂及涂层的剥离溶液组合物。
本发明的另一个目的在于提供一种能够把剥离后废弃的彩色光阻剂和滤色器基板重新使用的彩色光阻剂剥离溶液组合物。
为了达到所述目的，本发明提供一种彩色光阻剂剥离溶液组合物，其包含：(a)1-20重量％的选自无机碱氢氧化物、氢氧化铵、具有C1-C4烷基的烷基氢氧化铵或具有C1-C4烷基的苯烷基氢氧化铵中的氢氧化物；(b)1-70重量％的从具有C1-C4烷基的烷撑二醇醚(alkylene glycol ether)或烷撑二醇中选择的至少一种化合物；(c)0.5-10重量％的羟胺；(d)0.5-50重量％的烷氧基烷基胺；以及(e)余量水。
所述组合物进一步包含选自1-30重量％的具有C1-C4烷基的二烷撑二醇二烷基醚(dialkyleneglycol dialkylether)或烷撑二醇二烷基醚(alkyleneglycol dialkyl ether)、0.05-10重量％的无机盐化合物或1-55重量％的极性溶剂中的至少一种成分。
本发明的彩色光阻剂剥离溶液组合物具有可以在短时间内容易去除彩色光阻剂和涂层材料的优点，以及后续的漂洗工序中不必使用如异丙醇、二甲基亚砜的有机溶剂，只要用水就可以清洗的优点。特别是，由于可以去除彩色光阻剂图案，可以重新使用滤色器基板。
具体实施方式
下面对本发明进行详细描述。
为了比现有技术更有效地去除彩色光阻剂和涂层，并为了重新使用大部分被废弃的滤色器基板，本发明进行了反复研究，结果发现只要利用特定组合的剥离溶液组合物就可以容易去除彩色光阻剂及涂层，从而完成了本发明。
本发明的剥离溶液组合物所使用的氢氧化物可以是选自无机碱氢氧化物、氢氧化铵、具有C1-C4烷基的烷基氢氧化铵或具有C1-C4烷基的苯烷基氢氧化铵中的化合物。并且，滤色器工艺受残留金属的影响不大，因此还可以使用无机碱氢氧化物。所述氢氧化物的含量最好是占全部组合物的1-20重量％，若其含量小于1重量％，向组成彩色光阻剂的高分子成分的渗透力下降，因此难以完全去除彩色光阻剂。而若超过20重量％，由于其他溶剂的成分比减少，反而会引起去除时间变长的不良影响。另外，由于烷基氢氧化铵和苯烷基氢氧化铵不够稳定，因此最好是以溶于水的状态使用。
优选地，所述无机碱氢氧化物使用选自氢氧化锂(lithium hydroxide)、氢氧化钠(sodium hydroxide)或氢氧化钾(potassium hydroxide)中的一种或两种以上的混合物。优选地，所述具有C1-C4烷基的烷基氢氧化铵是选自四乙基氢氧化铵(tetraethyl ammonium hydroxide)、四甲基氢氧化铵(tetramethylammonium hydroxide)或四丁基氢氧化铵(tetrabutyl ammonium hydroxide)中的一种或两种以上的混合物。并且，具有C1-C4烷基的苯烷基氢氧化铵最好是使用苄基三甲基氢氧化铵(benzyltrimethyl ammonium hydroxide)。
选自所述具有C1-C4烷基的烷撑二醇醚(alkyleneglycol ether)或烷撑二醇(alkylene glycol)中的至少一种化合物，由于其对彩色光阻剂的溶解性和降低表面张力的能力优秀，因此其能够降低作用于玻璃面与从其翘起的彩色光阻剂之间的表面张力，使得彩色光阻剂能够易于剥离，而且所述化合物还具有溶解所述被剥离的彩色光阻剂的粘合剂或聚合物等的功能。所述烷撑二醇醚(alkylene glycol ether)或烷撑二醇(alkylene glycol)的使用量最好是占全部组合物的1-70重量％，此时，若其含量小于1重量％，就不能完全去除彩色光阻剂，若超过70重量％，剥离溶液的极性就会下降，从而溶解涂敷材料—丙烯酸树脂或者聚酰亚胺树脂的能力下降。优选地，本发明中所使用的烷撑二醇醚(alkylene glycol ether)是选自乙二醇单丁醚(ethyleneglycol monobutylether)、二乙二醇单丁醚(diethylene glycolmonobutylether)、三乙二醇单丁醚(triethyleneglycol monobutylether)、乙二醇单甲醚(ethyleneglycol monomethylether)、二乙二醇单甲醚(diethyleneglycolmonomethylether)、三乙二醇单甲醚(triethyleneglycol monomethylether)、乙二醇单乙醚(ethyleneglycol monoethylether)、乙二醇(ethylene glycol)、二甘醇(diethylene glycol)、三甘醇(triethylene glycol)、己二醇(hexylene glycol)或丙三醇(glycerol)中的一种或者两种以上的混合物。
所述羟胺(hydroxylamine)具有渗透到组成彩色光阻剂的高分子内，将彩色光阻剂从玻璃基板分离的功能，并具有分解颜料成分的作用。即，就这种羟胺而言，若与水溶性胺一起使用，就会提供容易生成羟自由基(hydorxylradical)或铵自由基(aminium radical)等的条件，因此能够把不易溶解的颜料成分逐渐分解及氧化，从而缩短工艺时间。所述羟胺的使用量占全部组合物的0.5-10重量％。若其含量小于0.5重量％，就不能保持药液的初始功效，其结果会导致使用寿命缩短；若超过10重量％，就不能达到缩短工艺时间的效果。
所述烷氧基烷基胺具有渗透到组成彩色光阻剂的高分子内，将彩色光阻剂从玻璃基板分离的功能。所述烷氧基烷基胺最好是占全部组合物的0.5-50重量％。若烷氧基烷基胺的含量小于0.5重量％，对彩色光阻剂的渗透力就会变弱，从而彩色光阻剂不能完全被去除，会发生与无机碱氢氧化物分层的现象；若大于50重量％，就会阻碍无机碱金属离子的活动性，其功能不能得到提高。所述烷氧基烷基胺可以是选自具有C1-C4烷氧基和烷基的化合物，例如乙氧基丙胺(ethoxypropyl amine)、甲氧基丙胺(methoxypropyl amine)或甲氧基乙胺(methoxyethyl amine)中的一种或两种以上的混合物。
优选地，在本发明中所使用的水是经离子交换树脂过滤的纯水(去离子水)，最好是使用电阻率为18(MΩ)以上的超纯水。所述水的使用量可以是剥离溶液组合物中的残余量，最好是占全部组合物的4-49重量％。此时，若水的含量小于4重量％，在工艺温度下所述组合物的组成就会发生变化，将析出无机碱离子，从而会导致所述滤色器用剥离溶液组合物的贮存期(potlife)缩短；若超过49重量％，在工艺温度条件下由于水的蒸发，会导致滤色器用的剥离溶液组合物的损失变大。
而且，为了提高去除光阻剂的功能，本发明的组合物可以包含选自1-30重量％的具有C1-C4烷基的二烷撑二醇二烷基醚或烷撑二醇二烷基醚(alkyleneglycol dialkylether)、0.5-50重量％的除烷氧基烷基胺以外的水溶性胺、0.05-10重量％的无机盐化合物或者1-55重量％极性溶剂中的至少一种成分。
所述具有C1-C4烷基的二烷撑二醇二烷基醚(dialkyleneglycoldialkylether)以及烷撑二醇二烷基醚(alkyleneglycol dialkylether)，由于其溶解度参数(Solubility Parameter)与作为涂敷材料使用的丙烯酸树脂或酰亚胺树脂(imide resin)相近，因此具有可稳定地溶解由药液中玻璃基板剥离出的涂层高分子材料的作用。所述二烷撑二醇二烷基醚可以使用选自二亚甲基二醇二甲醚(dimethylene glycol dimethylether)、二乙二醇二甲醚(diethyleneglycol dimethylether)、二乙二醇二乙醚(diethyleneglycoldiethylether)、二乙二醇二丁醚(diethyleneglycol dibutylether)、二乙二醇二丙醚(diethyleneglycol dipropylether)、二丁二醇二丁醚(dibutylene glycoldibutyl ether)或二丙二醇二甲醚(dipropyleneglycol dimethylether)中的一种或两种以上的混合物。所述烷撑二醇二烷基醚(alkylene glycol dialkyl ether)可以使用选自乙二醇二甲醚(Ethylene Glycol dimethyl ether)、乙二醇二乙醚(Ethylene Glycol diethyl ether)、乙二醇二丁醚(Ethylene Glycol dibutylether)、乙二醇二丙醚(ethyleneglycol dipropylether)中的一种或两种以上的混合物。
优选地，所述二烷撑二醇二烷基醚或烷撑二醇二烷基醚(alkyleneglycoldialkylether)的使用量占全部组合物的1-30重量％。此时，若其含量小于1重量％，剥离彩色光阻剂及涂敷材料的功能就会下降；若超过30重量％，就会阻碍无机碱金属离子的活动性，并产生析出，所以其功能无法得到提高。
所述水溶性胺可以使用选自N-甲基甲醇胺、二乙氨基丙胺(diethylaminopropylamine)、双(2-甲氧基乙基)胺(bis(2-methoxyethyl)amine)、单乙醇胺(mono ethanolamine)、1，2-乙二胺(ethylene diamine)或单甲醇胺(monomethanolamine)中的一种或两种以上的混合物。
本发明所使用的所述无机盐，与所述氢氧化物一起使用可以提高去除光阻剂的效果。尤其是，将无机盐和烷基氢氧化铵以及苯烷基氢氧化铵一起使用时，可以增加对作为涂层材料的丙烯酸树脂(acrylic resin)和聚酰亚胺树脂的渗透及溶胀特性，从而具有明显缩短去除时间的优点。所述无机盐的使用量最好是占全部组合物的0.05-10重量％。此时，若其含量小于0.05重量％，就无法提高去除涂层材料的效果；若超过10重量％，在剥离溶液组合物中对可包含的最大量的残余水也超出了其饱和限度，从而析出加快，使设备发生问题。本发明使用的无机盐最好是选自乙酸钾(potassiumacetate)、硝酸钾(potassium nitrate)、碳酸钾(potassium carbonate)、焦磷酸钾(potassium pyrophosphate)、油酸钾(potassium oleate)、苯甲酸钾(potassiumbenzoate)、月桂酸钾(potassium laurate)、叔丁醇钾(potassium tert-butoxide)、硫酸钾(potassium sulfate)、山梨酸钾(potassium sorbate)、氨基苯甲酸钾(potassium aminobenzoate)、焦硫酸钾(potassium disulfate)、氰酸钾(potassiumcyanate)、硫化钾(potassium sulfide)、二甲苯磺酸钾(potassiumxylenesulfonate)或二甲苯磺酸钠(sodium xylenesulfonate)中的一种或两种以上的混合物。
而且，本发明所使用的所述极性溶剂，其对彩色光阻剂的渗透力和溶解度较为优秀，因此能够渗透到彩色光阻剂的高分子之间，引起溶胀现象。极性溶剂的使用量最好是占全部组合物的1-55重量％。此时，若其含量小于1重量％，完全去除彩色光阻剂的时间明显变长；若大于55重量％，与无机碱氢氧化物化合物的溶解度下降，其性能不能够得到提高。本发明中的极性溶剂最好是选自二甲基亚砜(dimethylsulfoxide)、二乙基亚砜(diethylsulfoxide)、二丙基亚砜(dipropylsulfoxide)、环丁砜(sulfolane)、N-甲基吡咯烷酮(N-Methyl-2-pyrrolidone)、吡咯烷酮(pyrrolidone)或N-乙基吡咯烷酮(N-ethyl pyrrolidone)中的一种或两种以上的混合物。
如上所述，本发明使用特定含量的上述氢氧化物、烷撑二醇醚(alkyleneglycol ether)、羟胺(hydroxyl amine)、含有烷氧基烷基胺的水溶性胺、二烷撑二醇二烷基醚或烷撑二醇二烷基醚(alkyleneglycol dialkylether)以及水，并可进一步使用无机盐化合物及极性溶剂，从而通过各种成分的相乘作用而在短时间内较容易地去除彩色光阻剂和涂层材料，特别是对彩色光阻剂图案的去除变得容易，所以可以回收使用过去大部分被废弃的滤色器基板。本发明的较佳组合物可以是包含氢氧化物、烷撑二醇醚(alkyleneglycol ether)、羟胺、烷氧基烷基胺、二烷撑二醇二烷基醚(dialkylene glycoldialkyl ether)或烷撑二醇二烷基醚、无机盐、极性溶剂及水的组合物。
下面，参照以下实施例对本发明进行详细描述。这些实施例仅是本发明的示例性实施方式而已，本发明的权利范围并不局限于此。
以下，如果实施例中没有特别说明，百分比和混合比均以重量为准。
[实施例及比较例]
按照表1和表2所示的比例，混合各种成分，从而制造各实施例及比较例所示的彩色光阻剂剥离溶液组合物。
[表1]
[表2]
KOH：氢氧化钾
TMAH：四甲基氢氧化铵
MTG：三乙二醇单甲醚
MDG：二乙二醇单甲醚
MG：乙二醇甲醚
EG：乙二醇
DMDG：二乙二醇二甲醚(diglyme)
EPA：乙氧基丙胺，MEA：单乙醇胺
HDA：羟胺
DMSO：二甲基亚砜，NMP：n-甲基吡咯烷酮
PA：乙酸钾，PB：苯甲酸钾，PN：硝酸钾，
PC：碳酸钾，PBu：叔丁醇钾，PS：山梨酸钾
PAB：氨基苯甲酸钾
EGDE：乙二醇二甲醚
[实验例]
对所述实施例1-24及比较例1-3所示的彩色光阻剂剥离溶液组合物的性能评价，是通过使用由下面工程制造的滤色器基板来进行的，并对彩色光阻剂进行了如下面所述的去除试验。
制造试样
在下部沉积有Cr/CrOx的康宁液晶显示器玻璃(LCD corning glass)上制作滤色器图案，彩色光阻剂分别以红、绿、蓝的顺序通过下面的光刻工序来涂敷。对常规的彩色光阻剂组合物(东进世美肯公司生产的，商品名称：DCR-725S)进行旋转涂敷，并使最终薄膜的厚度达到1.7μm。然后，在90℃温度条件下，在加热板上对所述彩色光阻剂膜进行120秒的预烘烤(pre-bake)。接着，对其进行曝光，再用1％氢氧化钾(KOH)显影液在常温条件下进行60秒的显影处理，然后在烘箱内对已形成所述图案的样品以220℃温度进行长达20分钟的硬烘烤。
如此在试样上完成滤色器后，通过旋转涂敷方法再将涂层材料—聚酰亚胺或聚丙烯酸树脂(polyacrylic resin)涂敷到所述试样上，并使最终薄膜厚度达到3μm。然后，在加热板上以90℃的温度对所述彩色光阻剂膜进行120秒的预烘烤(pre-bake)。接着，对其进行曝光，再用1％氢氧化钾(KOH)显影液在常温下进行60秒的显影处理，然后在烘箱内对已形成所述图案的试样以220℃的温度进行20分钟的硬烘烤。
彩色光阻剂的去除试验
在70℃的温度下，将所述制得的试样浸渍到用于去除彩色光阻剂及涂层材料的剥离溶液组合物中，并检测彩色光阻剂及涂层从基板完全被剥离的时间。接着，将所述试样从彩色光阻剂剥离溶液组合物中取出后用超纯水进行水洗，并用氮气进行干燥。然后，用奥林巴斯显微镜进行扩大100倍后，对图案内部是否残留有彩色光阻剂进行了检测，以此来观察基板内是否残留有彩色光阻剂。下表3显示涂层材料和彩色光阻剂被完全剥离后，没有发现残渣为止所消耗的时间。
[表3]
从上述表3可以看出，本发明实施例的去除彩色光阻剂的性能相对于比较例非常优秀，并且二乙二醇二甲醚和乙氧基丙胺等分别对提高去除性能起到了一定作用。特别是，在添加钾盐、二乙二醇二甲醚及乙氧基丙胺等的实施例中，可以看出其性能提高了5倍到10倍。
相反，针对没有添加钾盐的比较例1、2而言，其去除性能几乎没有得到提高。并且，比较例3由于其没有包含胺和烷撑二醇醚(alkylene glycolether)化合物，因此其剥离性能也有一定的差距。
Claims (10)
1.一种彩色光阻剂剥离溶液组合物，其特征在于，包括:
a)1-20重量％的选自无机碱氢氧化物、氢氧化铵、具有C1-C4烷基的烷基氢氧化铵或具有C1-C4烷基的苯烷基氢氧化铵中的氢氧化物；
b)1-70重量％的从具有C1-C4烷基的烷撑二醇醚或烷撑二醇中选择的至少一种化合物；
c)0.5-10重量％的羟胺；
d)0.5-50重量％的烷氧基烷基胺；以及
e)余量水。
2.根据权利要求1所述的彩色光阻剂剥离溶液组合物，其特征在于:
所述无机碱氢氧化物是选自氢氧化锂、氢氧化钠或氢氧化钾中的一种或者两种以上的混合物。
3.根据权利要求1所述的彩色光阻剂剥离溶液组合物，其特征在于:
所述具有C1-C4烷基的烷基氢氧化铵是选自四乙基氢氧化铵、四甲基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵或苄基三甲基氢氧化铵中的一种或者两种以上的混合物；所述具有C1-C4烷基的苯烷基氢氧化铵是苄基三甲基氢氧化铵。
4.根据权利要求1所述的彩色光阻剂剥离溶液组合物，其特征在于:
所述具有C1-C4烷基的烷撑二醇醚或烷撑二醇是选自乙二醇单丁醚、二乙二醇单丁醚、三乙二醇单丁醚、乙二醇单甲醚、二乙二醇单甲醚、三乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、己二醇或丙三醇中的一种或两种以上的混合物。
5.根据权利要求1所述的彩色光阻剂剥离溶液组合物，其特征在于:
所述烷氧基烷基胺是选自乙氧基丙胺、甲氧基丙胺或甲氧基乙胺中的一种或两种以上的混合物。
6.根据权利要求1所述的彩色光阻剂剥离溶液组合物，其特征在于:
所述组合物进一步包含选自1-30重量％的具有C1-C4烷基的二烷撑二醇二烷基醚或烷撑二醇二烷基醚、0.5-50重量％的除烷氧基烷基胺以外的水溶性胺、0.05-10重量％的无机盐化合物或1-55重量％的极性溶剂中的至少一种成分。
7.根据权利要求6所述的彩色光阻剂剥离溶液组合物，其特征在于：
所述具有C1-C4烷基的二烷撑二醇二烷基醚(dialkyleneglycoldialkylether)是选自二亚甲基二醇二甲醚(dimethylene glycol dimethylether)、二丁二醇二丁醚(dibutylene glycol dibutyl ether)、二乙二醇二甲醚(diethyleneglycol dimethylether)、二乙二醇二乙醚(diethyleneglycoldiethylether)、二乙二醇二丁醚(diethyleneglycol dibutylether)、二乙二醇二丙醚(diethyleneglycol dipropylether)或二丙二醇二甲醚(dipropyleneglycoldimethylether)中的一种或者两种以上的混合物。
8.根据权利要求6所述的彩色光阻剂剥离溶液组合物，其特征在于：
所述水溶性胺是选自N-甲基甲醇胺、单甲醇胺、单乙醇胺、1，2-乙二胺、二乙氨基丙胺或双(2-甲氧基乙基)胺中的一种或者两种以上的混合物。
9.根据权利要求6所述的彩色光阻剂剥离溶液组合物，其特征在于：
所述无机盐是选自乙酸钾、硝酸钾、碳酸钾、焦磷酸钾、油酸钾、苯甲酸钾、月桂酸钾、叔丁醇钾、硫酸钾、山梨酸钾、氨基苯甲酸钾、焦硫酸钾、氰酸钾、硫化钾、二甲苯磺酸钾或二甲苯磺酸钠中的化合物。
10.根据权利要求6所述的彩色光阻剂剥离溶液组合物，其特征在于：
所述极性溶剂是选自二甲基亚砜、二乙基亚砜、二丙基亚砜、环丁砜、N-甲基吡咯烷酮、吡咯烷酮或N-乙基吡咯烷酮中的一种或者两种以上的混合物。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR10-2007-0083612 | 2007-08-20 | ||
| KR1020070083612 | 2007-08-20 | ||
| KR1020070083612A KR101333779B1 (ko) | 2007-08-20 | 2007-08-20 | 티에프티 엘시디용 칼라 레지스트 박리액 조성물 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN101373343A true CN101373343A (zh) | 2009-02-25 |
| CN101373343B CN101373343B (zh) | 2012-05-23 |
Family
ID=40447564
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN2008102108528A Active CN101373343B (zh) | 2007-08-20 | 2008-08-20 | 用于薄膜晶体管液晶显示器的彩色光阻剂剥离溶液组合物 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR101333779B1 (zh) |
| CN (1) | CN101373343B (zh) |
| TW (1) | TWI442192B (zh) |
Cited By (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101995777A (zh) * | 2009-08-18 | 2011-03-30 | 三星电子株式会社 | 用于剥离滤色片的组合物以及使用其再生滤色片的方法 |
| CN102298277A (zh) * | 2010-06-25 | 2011-12-28 | 安集微电子（上海）有限公司 | 一种用于厚膜光刻胶的清洗液 |
| CN102314101A (zh) * | 2010-07-08 | 2012-01-11 | 东友Fine-Chem股份有限公司 | 用于除去聚酰亚胺的清洗剂组合物 |
| CN102483591A (zh) * | 2009-09-02 | 2012-05-30 | 和光纯药工业株式会社 | 抗蚀剂剥离剂组合物和使用该组合物的抗蚀剂的剥离方法 |
| CN103293883A (zh) * | 2012-02-23 | 2013-09-11 | 奇美实业股份有限公司 | 光阻剥离液组合物及其应用 |
| CN104098950A (zh) * | 2013-04-03 | 2014-10-15 | 东莞市剑鑫电子材料有限公司 | 一种玻璃镜片脱漆剂及其制备和使用方法 |
| CN105368611A (zh) * | 2014-08-06 | 2016-03-02 | 东友精细化工有限公司 | 清洁组合物 |
| CN105368612A (zh) * | 2014-08-06 | 2016-03-02 | 东友精细化工有限公司 | 清洁组合物 |
| CN105700207A (zh) * | 2016-04-06 | 2016-06-22 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 框胶固化率测试样品的制备方法及框胶固化率测试方法 |
| CN106873236A (zh) * | 2017-04-11 | 2017-06-20 | 惠科股份有限公司 | 显示面板的制造方法和显示面板 |
| CN106896652A (zh) * | 2015-12-17 | 2017-06-27 | 东友精细化工有限公司 | 彩色抗蚀剂剥离液组合物 |
| CN106959589A (zh) * | 2016-01-12 | 2017-07-18 | 东友精细化工有限公司 | 彩色光阻剂或有机系绝缘膜剥离液组合物 |
| WO2018214203A1 (zh) * | 2017-05-23 | 2018-11-29 | 深圳市华星光电技术有限公司 | Tft基板的制作方法 |
| CN109808325A (zh) * | 2019-03-26 | 2019-05-28 | 信利光电股份有限公司 | 一种改善丝印图案边缘锯齿效果的方法 |
| CN110161812A (zh) * | 2019-06-06 | 2019-08-23 | 成都中电熊猫显示科技有限公司 | 重工药液及其制备方法、重工装置 |
| CN111566567A (zh) * | 2018-07-27 | 2020-08-21 | 花王株式会社 | 树脂掩膜剥离用清洗剂组合物 |
| CN111999994A (zh) * | 2020-08-25 | 2020-11-27 | 福建天甫电子材料有限公司 | 一种电子级tft光阻剥离液的制备工艺 |
| CN112470079A (zh) * | 2018-07-27 | 2021-03-09 | 花王株式会社 | 清洗方法 |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102040064B1 (ko) * | 2012-12-24 | 2019-11-04 | 동우 화인켐 주식회사 | 칼라레지스트 박리액 조성물 |
| KR102009530B1 (ko) * | 2013-05-28 | 2019-08-09 | 동우 화인켐 주식회사 | 칼라 레지스트 및 유기계 절연막 박리액 조성물 |
| KR102010593B1 (ko) | 2013-05-28 | 2019-08-13 | 동우 화인켐 주식회사 | 칼라 레지스트 및 유기계 절연막 박리액 조성물 |
| KR102009532B1 (ko) * | 2013-08-26 | 2019-08-09 | 동우 화인켐 주식회사 | 레지스트 박리액 조성물 |
| KR102009533B1 (ko) * | 2013-09-06 | 2019-08-09 | 동우 화인켐 주식회사 | 레지스트 박리액 조성물 및 이를 이용한 평판표시장치의 제조방법 |
| KR102317153B1 (ko) | 2016-06-15 | 2021-10-26 | 동우 화인켐 주식회사 | 레지스트 박리액 조성물 |
| KR20180087624A (ko) | 2017-01-25 | 2018-08-02 | 동우 화인켐 주식회사 | 레지스트 박리액 조성물 |
| KR20180087820A (ko) | 2017-01-25 | 2018-08-02 | 동우 화인켐 주식회사 | 레지스트 박리액 조성물 |
| KR102040066B1 (ko) | 2019-08-02 | 2019-11-04 | 동우 화인켐 주식회사 | 칼라 레지스트 및 유기계 절연막 박리액 조성물 |
| KR20220056193A (ko) * | 2019-08-30 | 2022-05-04 | 다우 글로벌 테크놀로지스 엘엘씨 | 포토레지스트 박리 조성물 |
| KR20220058094A (ko) | 2020-10-30 | 2022-05-09 | 주식회사 이엔에프테크놀로지 | 포토레지스트 제거용 박리액 조성물 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000122309A (ja) * | 1998-10-15 | 2000-04-28 | Nagase Denshi Kagaku Kk | 半導体基板のレジスト剥離・洗浄方法 |
| KR100779037B1 (ko) * | 2001-09-26 | 2007-11-27 | 주식회사 동진쎄미켐 | 티에프티 엘시디용 칼라 레지스트 박리액 조성물 |
| KR101043397B1 (ko) * | 2003-07-10 | 2011-06-22 | 주식회사 동진쎄미켐 | 티에프티 엘시디 제조 공정의 칼라 레지스트 제거용박리액 조성물 |
| KR101191402B1 (ko) * | 2005-07-25 | 2012-10-16 | 삼성디스플레이 주식회사 | 포토레지스트 스트리퍼 조성물, 이를 이용하는 배선 형성방법 및 박막 트랜지스터 기판의 제조 방법 |
-
2007
- 2007-08-20 KR KR1020070083612A patent/KR101333779B1/ko active IP Right Grant
-
2008
- 2008-08-20 CN CN2008102108528A patent/CN101373343B/zh active Active
- 2008-08-20 TW TW097131776A patent/TWI442192B/zh active
Cited By (31)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101995777A (zh) * | 2009-08-18 | 2011-03-30 | 三星电子株式会社 | 用于剥离滤色片的组合物以及使用其再生滤色片的方法 |
| CN101995777B (zh) * | 2009-08-18 | 2016-05-18 | 三星显示有限公司 | 用于剥离滤色片的组合物以及使用其再生滤色片的方法 |
| US8951949B2 (en) | 2009-08-18 | 2015-02-10 | Samsung Display Co., Ltd. | Composition for stripping color filter and regeneration method of color filter using the same |
| CN102483591B (zh) * | 2009-09-02 | 2014-09-17 | 和光纯药工业株式会社 | 抗蚀剂剥离剂组合物和使用该组合物的抗蚀剂的剥离方法 |
| CN102483591A (zh) * | 2009-09-02 | 2012-05-30 | 和光纯药工业株式会社 | 抗蚀剂剥离剂组合物和使用该组合物的抗蚀剂的剥离方法 |
| CN102298277B (zh) * | 2010-06-25 | 2015-06-17 | 安集微电子（上海）有限公司 | 一种用于厚膜光刻胶的清洗液 |
| CN102298277A (zh) * | 2010-06-25 | 2011-12-28 | 安集微电子（上海）有限公司 | 一种用于厚膜光刻胶的清洗液 |
| CN102314101A (zh) * | 2010-07-08 | 2012-01-11 | 东友Fine-Chem股份有限公司 | 用于除去聚酰亚胺的清洗剂组合物 |
| CN103293883A (zh) * | 2012-02-23 | 2013-09-11 | 奇美实业股份有限公司 | 光阻剥离液组合物及其应用 |
| CN104098950B (zh) * | 2013-04-03 | 2016-04-06 | 东莞市剑鑫电子材料有限公司 | 一种玻璃镜片脱漆剂及其制备和使用方法 |
| CN104098950A (zh) * | 2013-04-03 | 2014-10-15 | 东莞市剑鑫电子材料有限公司 | 一种玻璃镜片脱漆剂及其制备和使用方法 |
| CN105368611A (zh) * | 2014-08-06 | 2016-03-02 | 东友精细化工有限公司 | 清洁组合物 |
| CN105368612A (zh) * | 2014-08-06 | 2016-03-02 | 东友精细化工有限公司 | 清洁组合物 |
| CN105368611B (zh) * | 2014-08-06 | 2018-12-07 | 东友精细化工有限公司 | 清洁组合物 |
| CN105368612B (zh) * | 2014-08-06 | 2018-08-14 | 东友精细化工有限公司 | 清洁组合物 |
| CN106896652A (zh) * | 2015-12-17 | 2017-06-27 | 东友精细化工有限公司 | 彩色抗蚀剂剥离液组合物 |
| CN106896652B (zh) * | 2015-12-17 | 2020-06-02 | 东友精细化工有限公司 | 彩色抗蚀剂剥离液组合物 |
| CN106959589A (zh) * | 2016-01-12 | 2017-07-18 | 东友精细化工有限公司 | 彩色光阻剂或有机系绝缘膜剥离液组合物 |
| CN105700207A (zh) * | 2016-04-06 | 2016-06-22 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 框胶固化率测试样品的制备方法及框胶固化率测试方法 |
| CN106873236A (zh) * | 2017-04-11 | 2017-06-20 | 惠科股份有限公司 | 显示面板的制造方法和显示面板 |
| CN106873236B (zh) * | 2017-04-11 | 2019-11-29 | 惠科股份有限公司 | 显示面板的制造方法和显示面板 |
| WO2018188143A1 (zh) * | 2017-04-11 | 2018-10-18 | 惠科股份有限公司 | 一种显示面板的制造方法和显示面板 |
| US11340489B2 (en) | 2017-04-11 | 2022-05-24 | HKC Corporation Limited | Manufacturing method of display panel and display panel |
| WO2018214203A1 (zh) * | 2017-05-23 | 2018-11-29 | 深圳市华星光电技术有限公司 | Tft基板的制作方法 |
| US10297623B2 (en) | 2017-05-23 | 2019-05-21 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | TFT substrate manufacturing method |
| CN111566567A (zh) * | 2018-07-27 | 2020-08-21 | 花王株式会社 | 树脂掩膜剥离用清洗剂组合物 |
| CN112470079A (zh) * | 2018-07-27 | 2021-03-09 | 花王株式会社 | 清洗方法 |
| CN109808325A (zh) * | 2019-03-26 | 2019-05-28 | 信利光电股份有限公司 | 一种改善丝印图案边缘锯齿效果的方法 |
| CN110161812A (zh) * | 2019-06-06 | 2019-08-23 | 成都中电熊猫显示科技有限公司 | 重工药液及其制备方法、重工装置 |
| CN111999994A (zh) * | 2020-08-25 | 2020-11-27 | 福建天甫电子材料有限公司 | 一种电子级tft光阻剥离液的制备工艺 |
| CN111999994B (zh) * | 2020-08-25 | 2023-08-25 | 福建天甫电子材料有限公司 | 一种电子级tft光阻剥离液的制备工艺 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW200910027A (en) | 2009-03-01 |
| CN101373343B (zh) | 2012-05-23 |
| KR20090019299A (ko) | 2009-02-25 |
| KR101333779B1 (ko) | 2013-11-29 |
| TWI442192B (zh) | 2014-06-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN101373343B (zh) | 用于薄膜晶体管液晶显示器的彩色光阻剂剥离溶液组合物 | |
| JP4395020B2 (ja) | レジスト除去用剥離液組成物 | |
| CN101000468B (zh) | 薄膜晶体管液晶显示器用彩色抗蚀剂剥离液组合物 | |
| KR101488265B1 (ko) | 박리 조성물 및 박리 방법 | |
| KR100646793B1 (ko) | 씬너 조성물 | |
| WO2006011747A1 (en) | Aqueous resist stripper composition | |
| KR100945157B1 (ko) | 티에프티 엘씨디용 칼라 레지스트 박리액 조성물 | |
| KR100779037B1 (ko) | 티에프티 엘시디용 칼라 레지스트 박리액 조성물 | |
| KR101399502B1 (ko) | 티에프티 엘시디용 열경화성 수지 박리액 조성물 | |
| KR100842853B1 (ko) | 포토레지스트 및 열경화된 오버코트 제거용 수계 박리액조성물 | |
| JP4906516B2 (ja) | Ｔｆｔ−ｌｃｄ用カラーレジスト剥離液組成物 | |
| KR101758051B1 (ko) | 칼라필터용 박리액 조성물 | |
| KR101821034B1 (ko) | 포토레지스트의 박리 방법 | |
| KR100483372B1 (ko) | 포토레지스트용 수계 박리액 | |
| KR20030043190A (ko) | 레지스트 제거용 신너 조성물 | |
| KR20110049066A (ko) | 컬러 레지스트 박리액 조성물 | |
| JP4262207B2 (ja) | 低気泡性感放射線性組成物用現像液 | |
| CN111596533B (zh) | 抗蚀剂剥离液组合物 | |
| KR101766209B1 (ko) | 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정방법 | |
| KR0152490B1 (ko) | 감광성 착색조성물의 현상액 및 현상방법 | |
| KR20180087624A (ko) | 레지스트 박리액 조성물 | |
| CN107193187A (zh) | 抗蚀剂剥离液组合物 | |
| KR20180079999A (ko) | 레지스트 박리액 조성물 | |
| KR20180080000A (ko) | 레지스트 박리액 조성물 | |
| KR19990030437A (ko) | 티에프티 엘시디용 칼라레지스트 제거액 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant |