CN101995777B - 用于剥离滤色片的组合物以及使用其再生滤色片的方法 - Google Patents
用于剥离滤色片的组合物以及使用其再生滤色片的方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN101995777B CN101995777B CN201010140213.6A CN201010140213A CN101995777B CN 101995777 B CN101995777 B CN 101995777B CN 201010140213 A CN201010140213 A CN 201010140213A CN 101995777 B CN101995777 B CN 101995777B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- colour filter
- dividing plate
- colour
- composition
- glycol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 55
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 52
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 title description 3
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 title description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 124
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 92
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 46
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 23
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 claims description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 11
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 6
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 claims description 5
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000004568 cement Substances 0.000 claims description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 4
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 claims description 4
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 claims description 3
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000003049 inorganic solvent Substances 0.000 claims 1
- 229910001867 inorganic solvent Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000009418 renovation Methods 0.000 abstract description 6
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 30
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 20
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 8
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 208000034699 Vitreous floaters Diseases 0.000 description 6
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 5
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 4
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- XEUCQOBUZPQUMQ-UHFFFAOYSA-N Glycolone Chemical compound COC1=C(CC=C(C)C)C(=O)NC2=C1C=CC=C2OC XEUCQOBUZPQUMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWIULCYKVGIOPW-UHFFFAOYSA-N Glycolone Natural products CCOC1=C(CC=CC)C(=O)N(C)c2c(O)cccc12 UWIULCYKVGIOPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 and wherein Substances 0.000 description 1
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- PTNGTIMIEJADLN-UHFFFAOYSA-N ethene;2-hydroxyacetic acid Chemical compound C=C.OCC(O)=O PTNGTIMIEJADLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093470 ethylene Drugs 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/42—Stripping or agents therefor
- G03F7/422—Stripping or agents therefor using liquids only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/26—Organic compounds containing oxygen
- C11D7/261—Alcohols; Phenols
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
- G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/2014—Contact or film exposure of light sensitive plates such as lithographic plates or circuit boards, e.g. in a vacuum frame
- G03F7/2016—Contact mask being integral part of the photosensitive element and subject to destructive removal during post-exposure processing
- G03F7/2018—Masking pattern obtained by selective application of an ink or a toner, e.g. ink jet printing
-
- C11D2111/22—
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/02—Inorganic compounds ; Elemental compounds
- C11D3/04—Water-soluble compounds
- C11D3/044—Hydroxides or bases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/16—Organic compounds
- C11D3/20—Organic compounds containing oxygen
- C11D3/2068—Ethers
Abstract
本发明提供了一种用于剥离滤色片的组合物以及滤色片的再生方法。根据本发明的示例性实施方式的用于剥离滤色片的组合物包括二醇和氢氧化钾(KOH),其中,(a)二醇的浓度在83wt%至91wt%的范围内,并且氢氧化钾的浓度满足条件:(KOH的wt%)≥6-(0.065×(二醇的wt%)),或(b)二醇的浓度大于91wt%,并且氢氧化钾(KOH)的浓度大于0.2wt%。
Description
技术领域
本发明涉及一种用于剥离滤色片(colorfilter)的组合物以及使用该组合物来再生滤色片的方法。
背景技术
用于液晶显示器的滤色片通常包括在基板上形成的黑底(blackmatrix)以及被黑底包围的彩色抗蚀剂(例如红色、绿色、以及蓝色图案)。
为了形成彩色抗蚀剂,主要使用颜料分散、染色、电化学沉积以及喷墨印刷方法。在这样的方法中,最广泛使用的是颜料分散方法。颜料分散方法使用一种彩色抗蚀剂组合物,其中,颜料被分散在光硬化树脂组合物中,从而获得微小的图案。然而,当使用该方法用于高色彩再现性以及用于诸如电视的大尺寸基板上时,在该方法的涂覆和显影阶段(developingstage)产生诸如污点(stains)的问题,使得该过程(process)的管理很困难。
由于这样的问题,还正在对于喷墨印刷方法进行研究,以使喷墨印刷更适于批量生产并简化使用该方法的制造过程。然而,当使用喷墨印刷方法来制造滤色片时,可能产生诸如图案的部分提升、线宽扩大(扩展)、以及与黑底未对准的问题,并且在未对准的情况下,对于仅选择性地除去先前硬化的彩色抗蚀剂的未对准部分来说是不可行的。
当在滤色片中出现缺陷时,包括滤色片的玻璃基板被废弃或被再生用于另外的用途。为了再生基板,必须去除滤色片。常规地,通过使用强碱,诸如KOH和TMAH来去除滤色片。然而,常规的去除方法在剥离滤色片的过程中,降低了黑底的厚度和/或增加了表面粗糙度。
以上在该背景技术部分中披的信息仅用于增强对本发明背景的理解,因此,其可包含并不构成本领域普通技术人员已经已知的现有技术的信息。
发明内容
本发明涉及一种组合物以及用于选择性去除有缺陷的滤色片而不会对隔板(或分隔壁,partition)或挡光件(遮光件,lightblockingmember)造成损坏的方法。
在一个方面,用于剥离滤色片的组合物包括二醇(glycol)和氢氧化钾(KOH),并且二醇的浓度在83wt%至91wt%的范围内,而氢氧化钾的浓度满足条件:(KOH的wt%≥6-(0.065×二醇的wt%))。
用于剥离滤色片的组合物可以在20摄氏度至30摄氏度范围内的温度下制造。
用于剥离滤色片的所述组合物可以包括极性溶剂、胺、以及无机溶剂中的一种。
二醇可以包括二乙二醇单丁醚(二甘醇一丁醚)、二乙二醇单乙醚(二甘醇一乙醚)、以及乙二醇单乙醚中的一种。
在另一方面,用于剥离滤色片的组合物包括二醇和氢氧化钾(KOH),其中,二醇的浓度大于91wt%,而氢氧化钾(KOH)的浓度大于0.2wt%。
用于剥离所述滤色片的组合物可以在20摄氏度至30摄氏度范围内的温度下制造。
用于剥离滤色片的组合物可以包括极性溶剂、胺、以及无机溶剂中的一种。
二醇可以包括二乙二醇单丁醚、二乙二醇单乙醚、以及乙二醇单乙醚中的一种。
滤色片再生的方法包括:在基板上形成隔板;形成填充在该隔板中的第一滤色片;以及用包括二醇和氢氧化钾(KOH)的用于剥离滤色片的组合物去除该第一滤色片,其中,(a)二醇的浓度在83wt%至91wt%的范围内,并且氢氧化钾的浓度满足条件:(KOH的wt%)≥6-(0.065×(二醇的wt%)),或者(b)所述二醇的浓度大于91wt%,并且氢氧化钾(KOH)的浓度大于0.2wt%。
可以在20摄氏度至30摄氏度范围内的温度下去除该第一滤色片。
用于剥离滤色片的组合物可在20摄氏度至30摄氏度范围内的温度下制造。
该方法可以进一步包括,在形成第一滤色片后,在低于150摄氏度的温度下,自然干燥或烘干。
第一滤色片可以在形成隔板后通过喷墨印刷方法来形成。
该方法可以进一步包括,在去除第一滤色片后,在不去除隔板的情况下,通过使用喷墨印刷方法在该隔板内形成第二滤色片。
该方法可以进一步包括在形成第二滤色片之前对隔板进行等离子体处理。
该方法可以进一步包括在形成隔板之后对该隔板进行等离子体处理。
在一个方面,当通过使用喷墨印刷方法来制造滤色片时,在产生印刷错误或污点的情况下,可选择性地去除该滤色片,而不会损坏隔板或挡光件。
附图说明
图1是示出了使用根据示例性实施方式的用于剥离滤色片的组合物的滤色片再生方法的流程图。
图2至图4是示出了使用根据示例性实施方式的用于剥离滤色片的组合物的滤色片再生方法的剖视图。
图5和图6是在使用根据示例性实施方式的用于剥离滤色片的组合物去除滤色片之前和之后的SEM(扫描电子显微镜)照片。
图7是示出了在使用常规的剥离溶剂后的滤色片区域的透光率(透射率,transmittance)的曲线图。
图8是示出了在使用根据示例性的实施方式的剥离方法后的滤色片区域的透光率的曲线图。
图9至图11是示出了随着根据示例性的实施方式的用于剥离滤色片的组合物中KOH的浓度改变,透光率变化的曲线图。
图12至图14是示出了随着根据示例性的实施方式的用于剥离滤色片的组合物中二醇的浓度改变,透光率变化的曲线图。
图15是示出了在根据示例性的实施方式的用于剥离滤色片的组合物中KOH与二醇的浓度关系的曲线图。
<附图中表示主要元件的参考标号的描述>
100玻璃基板
110隔板
120滤色片
具体实施方式
在下文中,将参照附图更充分地描述本发明,其中示出了示例性的实施方式。然而,本发明并不限于本文描述的示例性实施方式,并且可以以其它形式来具体体现。
在附图中,为了清晰而夸大了层和区域的厚度。应当注意的是,当层被称作在另一个层或基板“上”时,其可直接形成在其它层或基板上或者可以通过置于其间的第三层而形成在其它层或基板上。在整个说明书中,相同的构成要素(或元件)由相同的参考标号来表示。
根据示例性实施方式的用于剥离滤色片的组合物包括二醇和氢氧化钾(KOH),其中,(a)二醇的浓度在83wt%至91wt%的范围内,并且氢氧化钾的浓度满足条件:(KOH的wt%)≥6-(0.065×(二醇的wt%)),或者(b)所述二醇的浓度高于91wt%,并且氢氧化钾(KOH)的浓度高于0.2wt%。
当用于剥离滤色片的二醇和氢氧化钾组合物被用来剥离通过喷墨印刷方法形成的滤色片时,可将对挡光件(黑底)的损坏减到最小。同样,剥离过程后剩余的滤色片的量可被降低。
二醇可以包括二乙二醇单丁醚、二乙二醇单乙醚、以及乙二醇单乙醚中的至少一种。
用于剥离滤色片的组合物可以包括极性溶剂、胺、以及无机溶剂中的至少一种。
用于剥离滤色片的组合物可以在20摄氏度至30摄氏度范围内的温度下制造。
图1是示出了使用根据示例性的实施方式的用于剥离滤色片的组合物的滤色片再生方法的流程图。图2至图4是示出了使用根据示例性实施方式的用于剥离滤色片的组合物的滤色片再生方法的剖视图。
将参照图1至图4来描述使用以上描述的用于剥离滤色片的组合物来再生滤色片的方法。
如图2所示,在由透明玻璃或塑料制成的绝缘基板100上形成隔板110(图1中的S10)。该隔板110在绝缘基板100上可具有例如格子形状。隔板110可以由有机层或透明有机层形成。隔板110起挡光件(例如:黑底)的作用,以防止漏光。
在形成隔板110之前,在绝缘基板100上形成诸如栅极线、数据线的布线(或配线),以及薄膜晶体管。
隔板110通常通过使用CF4来进行等离子体处理(图1中的S20),从而为隔板110提供疏水性。
接着,如图3所示,形成第一滤色片120,使得滤色片120填充在隔板110内形成的空间(图1中的S30)。可以通过使用喷墨印刷方法来形成第一滤色片120。该第一滤色片120包括,例如红色滤色片120a、绿色滤色片120b以及蓝色滤色片120c。
第一滤色片120可以被自然干燥,而无需另外加热,即,在大约室温的环境条件下(在文中称为“自然干燥”)或可以通过在低于150摄氏度的温度下进行烘干而被干燥(图1中的S40)。
在自然干燥方法中,在第一滤色片120形成后,可将其原样放置约10分钟至约300分钟,更特别地,约60分钟,而不需要烘干。
该烘干方法可在特定的温度(例如,110摄氏度)下执行特定的时间,例如90秒。
当通过使用喷墨印刷方法在隔板110内形成滤色片时,可能出现缺陷,例如,滤色片可能形成在不希望的位置,或可能产生由于颗粒引起的污点。当在滤色片中出现缺陷时,如上所述,通过使用根据示例性实施方式的滤色片剥离溶剂来去除滤色片,然后其可被再次形成。
根据示例性的实施方式,如图4所示,当滤色片是有缺陷的并且需要去除时,在室温下,通过使用剥离溶剂来选择性地去除第一滤色片120(图1的S50),使得仅滤色片120被去除,但是例如隔板110和绝缘基板100被保留。
剥离溶剂包括二醇和氢氧化钾(KOH),并使用这样的用于剥离滤色片的组合物,其中二醇的浓度在83wt%至91wt%的范围内,并且氢氧化钾的浓度满足条件:(KOH的wt%)≥6-(0.065×(二醇的wt%)),或者二醇的浓度大于91wt%,且氢氧化钾(KOH)的浓度大于0.2wt%。
这里,“室温”可以表示在20摄氏度至30摄氏度范围内的温度。例如,约25摄氏度的室温可以是适当的。如上所述,当在室温下(在20摄氏度至30摄氏度的范围内),使用根据示例性实施方式的用于去除滤色片的组合物来去除第一滤色片120时,可使对于隔板110的损坏最小化。
如果在室温下通过使用剥离溶剂来去除第一滤色片120,则仅绝缘基板100和隔板110被保留。在常规的高温滤色片剥离方法中,仅绝缘基板100被保留,而第一滤色片120和隔板110均被去除,或隔板110的厚度被减小,并且表面的粗糙度在去除过程中增加。然而,当使用根据示例性实施方式的剥离溶剂和方法时,仅第一滤色片120被去除,并且其在没有损坏隔板110的情况下被去除。
接着,通过使用CF4对隔板110再次进行等离子体处理(图1中的S60)。
接着,通过使用喷墨印刷方法来形成第二滤色片(未示出)(图1中的S70)。
在形成第二滤色片之后,可以形成覆盖隔板110和第二滤色片的外涂层(overcoat)(未示出)。
现在将描述使用根据示例性实施方式的用于剥离滤色片的组合物的效果。
图5和图6是通过使用根据示例性实施方式的用于剥离滤色片的组合物来去除滤色片之前和之后拍摄的SEM照片。
图5示出了在去除滤色片之前的隔板的厚度。图5B是图5A的放大照片。图6是在去除滤色片之后的隔板的照片,并且表明在去除滤色片之后的隔板的厚度非常类似于在去除滤色片之前的隔板的厚度。如果隔板的厚度在剥离滤色片后减小,则当修正滤色片时,可能发生溢出。
<示例性实施方式1>
在室温下使用包括大于0.4wt%的氢氧化钾(KOH)以及大于91wt%的二醇的剥离溶剂。
下面的表1是通过使用根据示例性实施方式的用于剥离滤色片的组合物剥离滤色片之前和之后,用作隔板的黑底的表面粗糙度的比较。
(表1)
根据5次试验,在剥离滤色片之前,平均粗糙度为而在剥离滤色片之后,平均粗糙度为使得表面粗糙度增加了的平均值。这意味着,当使用根据示例性实施方式的用于剥离滤色片的组合物剥离滤色片时,对黑底造成的损坏在极小的范围内。
下面的表2示出了当使用四种不同的用于剥离溶剂的组合物进行等离子体处理之后的平均接触角。每种剥离溶剂通常包括91wt%浓度的二醇,并分别包括(1)0.2wt%的KOH,(2)2wt%的TMAH,(3)PGMEA,或(4)LGL。“接触角”表示由黑底的上表面与滤色片的侧表面所形成的角。如果接触角非常小,则可能出现滤色片的溢出。
(表2)
等离子体再处理后的接触角平均值 | 实施例1 | 实施例2 |
(1)KOH 0.4wt% | 59.0 | 59.9 |
(2)TMAH 2wt% | 58.5 | 58.0 |
(3)PGMEA | 58.9 | 56.4 |
(4)LGL | 55.0 | 55.9 |
在剥离滤色片前,平均接触角为约58度。当剥离组合物包括0.4wt%的氢氧化钾(KOH)和91wt%的二醇(组合物(1))时,测试的两个实施例样品的接触角分别为59度和59.9度。与剥离之前的约58度的平均接触角相比,这些接触角略微增加,并且两次试验之间的接触角几乎不变。
当使用2wt%的氢氧化四甲铵(TMAH)和91wt%的二醇(组合物(2))时,平均接触角的结果类似于剥离前的结果。然而,当使用丙二醇单甲醚乙酸酯(PGMEA)(组合物(3))时,在两次试验中测量到58.9度和56.4度的结果,并且两次试验的结果之间的差异表明该组合物的再现性问题。
当使用有机清洁剂(organiccleansing)(LGL)(组合物(4)),接触角为55.0度和55.9度,其与剥离之前相比被降低。
图7是示出了在使用常规的剥离溶剂之后滤色片区域的透光率的曲线图。
图7示出了通过使用常规的剥离溶剂剥离滤色片之后,玻璃基板的透光率。当玻璃基板为新的时,透光率为100%。
当滤色片已通过使用常规的剥离溶剂被剥离时,对于短波长的透光率很低。
图8是示出了在使用根据示例性实施方式的新的剥离方法后,滤色片区域的透光率的曲线图。
与使用常规的剥离溶剂时滤色片残留的情况相比,当使用根据示例性实施方式的剥离溶剂时,在去除滤色片后的透光率与裸基板的透光率相同。
接着,将描述使用根据实施方式的具有不同浓度的氢氧化钾的剥离溶剂来去除滤色片的实验实施例。图9至图11是示出了随着根据示例性实施方式的用于剥离滤色片的组合物中KOH的浓度改变,在剥离滤色片之后玻璃基板和滤色片区域的透光率变化的曲线图。
<实验实施例1>
在实验实施例1中,氢氧化钾的浓度为约0.1wt%,约0.2wt%,以及约0.4wt%。同样,通过喷墨印刷方法来形成滤色片,对其进行自然干燥约60分钟,并在室温下将其去除。此外,在该剥离溶剂中包括作为二醇的91wt%的卡必醇(Carbitol)。
图9示出了在使用具有0.1wt%的KOH的剥离溶剂后,玻璃基板和滤色片区域的透光率。当裸玻璃基板A1和A2的透光率为约100%时,红色滤色片区域R1、R2和R3的透光率,绿色滤色片区域G1和G2的透光率,以及蓝色滤色片区域B1、B2和B3的透光率为约96%至99%。特别地,蓝色滤色片的剩余量较大,使得蓝色滤色片区域B1、B2和B3的透光率被降低。
图10示出了在使用具有0.2wt%的KOH的剥离溶剂后,蓝色滤色片区域B1、B2和B3的透光率。在短波长区域的情况下,透光率接近100%,然而在波长大于530nm的情况下,透光率在97%至99%的范围内。
图11示出了在使用具有0.4wt%的KOH的剥离溶剂后,滤色片区域的透光率。红色滤色片区域R1和R2,绿色滤色片区域G1和G2,以及蓝色滤色片区域B1和B2中大多数的透光率接近100%。
结果,当KOH以大于0.4wt%的浓度存在于剥离溶剂组合物中时,实验结果证实,滤色片被完全去除。
接着,将描述使用根据实施方式的具有不同浓度的二醇的剥离溶剂来去除滤色片的实验实施例。图12至图14是示出了随着根据示例性实施方式的用于剥离滤色片的组合物中二醇的浓度改变,在剥离滤色片后玻璃基板和滤色片区域的透光率变化的曲线图。
<实验实施例2>
在实验实施例2中,在使用三种不同的组合物:(a)0.7wt%的氢氧化钾和83wt%的二醇;(b)0.4wt%的氢氧化钾和91wt%的二醇;以及(c)0.2wt%的氢氧化钾和96wt%的二醇来剥离滤色片后,测量玻璃基板和滤色片区域的透光率。同样,通过喷墨印刷方法来形成滤色片,并对其进行自然干燥约60分钟,并在室温下将其去除。
图12示出了在使用组合物(a):0.7wt%的氢氧化钾和83wt%的二醇来剥离滤色片后,红色滤色片区域R1、R2和R3的透光率。在短波长区域中,滤色片的透光率尤其被降低。
图13示出了在使用组合物:(b)0.4wt%的氢氧化钾和91wt%的二醇来剥离滤色片后,滤色片区域的透光率。红色滤色片区域R1和R2,绿色滤色片区域G1和G2,以及蓝色滤色片区域B1和B2中大多数的透光率接近100%。
图14示出了使用组合物:(c)0.2wt%的氢氧化钾和96wt%的二醇来剥离滤色片后,滤色片区域的透光率。红色滤色片区域R1和R2,绿色滤色片区域G1和G2,以及蓝色滤色片区域B1和B2中大多数的透光率接近100%。
图15示出了绘制(汇集)在单个图(singlegraph)中的实验实施例1和2的结果。
X轴为二醇的wt%,Y轴为氢氧化钾(KOH)的wt%,而斜线区域表示根据示例性实施方式的滤色片剥离溶剂的组合物的浓度。
在二醇的浓度在83wt%到91wt%之间的曲线区域内,氢氧化钾(KOH)的浓度满足条件(KOH的wt%)≥6-(0.065×(二醇的wt%))。
在二醇的浓度为91wt%以上的曲线区域内,氢氧化钾(KOH)的浓度满足条件KOH的wt%>0.2wt%。
根据示例性实施方式的用于剥离滤色片的组合物以及滤色片再生方法可以被应用于液晶显示器的上基板。
液晶显示器(LCD)是最广泛使用的平板显示器(FPD)之一,并且其由其上形成有电极的两个显示面板以及置于两个显示面板之间的液晶层构成。将电压施加于电极以在液晶层上产生电场,电场改变液晶层中的液晶分子的取向,因此,入射在显示面板上的光被偏振,通过产生的电场来显示图像。
在LCD中,具有其中产生场的电极分别形成在两个显示面板上的结构的LCD被广泛使用。在两个显示面板中,多个像素电极和薄膜晶体管以矩阵形式布置在一个显示面板上,红色、绿色、和蓝色彩色滤色片以及挡光件形成在另一个显示面板上,并且一个公用电极覆盖另一个显示面板的整个表面。
然而,当像素电极和滤色片形成在不同的显示面板上时,很难准确地对准像素电极和滤色片,并且可能导致对准误差。
为了解决该问题,提供了一种阵列上滤色片(colorfilteronarray)(COA)结构,其中,像素电极和滤色片形成在相同的显示面板上。
当在具有薄膜晶体管的相同显示面板上形成滤色片时,可以通过喷墨印刷方法来形成滤色片。在喷墨印刷方法中,向显示面板上的预定分开的部分中喷射(喷出)将形成滤色片的液体油墨,以实现每种油墨着色的滤色片。使用该方法,多种颜色,包括红色、绿色、以及蓝色可以同时形成,使得简化了制造过程,其可以显著降低制造时间和成本。
当通过喷墨印刷来形成滤色片时,可通过使用具有防止光在像素的边界区域泄漏的作用的隔板,将油墨喷射到期望的区域中。
根据另一个示例性实施方式的用于剥离滤色片的组合物以及滤色片的再生方法可被应用于这样的情况,其中滤色片形成在薄膜晶体管基板(如COA结构)上。
虽然已经结合目前被认为实用的示例性实施方式描述了本发明,但应该理解的是,本发明并不限于所披露的实施方式,相反,本发明旨在覆盖包括在所附权利要求的精神和范围内的各种变形和等同布置。
Claims (13)
1.一种用于剥离滤色片的组合物,包括:
二醇;以及
氢氧化钾(KOH),
其中,所述二醇的浓度大于91wt%且小于96wt%,并且所述氢氧化钾(KOH)的浓度大于0.4wt%,其中
所述用于剥离滤色片的组合物是在20摄氏度至30摄氏度范围内的温度下制造的。
2.根据权利要求1所述的组合物,其中
所述用于剥离滤色片的组合物包括极性溶剂、胺、以及无机溶剂中的一种。
3.根据权利要求2所述的组合物,其中
所述二醇包括二乙二醇单丁醚、二乙二醇单乙醚、以及乙二醇单乙醚中的一种。
4.一种用于再生滤色片的方法,包括:
在基板上形成隔板;
形成填充在所述隔板内的第一滤色片;以及
用包括二醇和氢氧化钾(KOH)的用于剥离滤色片的组合物来去除所述第一滤色片,
其中,所述二醇的浓度大于91wt%且小于96wt%,并且所述氢氧化钾(KOH)的浓度大于0.4wt%,其中
在20摄氏度至30摄氏度范围内的温度下去除所述第一滤色片。
5.根据权利要求4所述的方法,其中
所述用于剥离滤色片的组合物是在20摄氏度至30摄氏度范围内的温度下制造的。
6.根据权利要求5所述的方法,进一步包括
在形成所述第一滤色片后,在低于150摄氏度的温度下执行自然干燥或烘干。
7.根据权利要求6所述的方法,其中
在形成所述隔板后,通过喷墨印刷方法来形成所述第一滤色片。
8.根据权利要求7所述的方法,进一步包括
在去除所述第一滤色片后,在不去除所述隔板的情况下,通过使用所述喷墨印刷方法在所述隔板内形成第二滤色片。
9.根据权利要求8所述的方法,进一步包括:
在形成所述第二滤色片之前,对所述隔板进行等离子体处理。
10.根据权利要求9所述的方法,进一步包括:
在形成所述隔板之后,对所述隔板进行等离子体处理。
11.根据权利要求4所述的方法,进一步包括:
在形成所述第一滤色片后,在低于150摄氏度的温度下执行自然干燥或烘干。
12.根据权利要求4所述的方法,其中
在形成所述隔板后,通过喷墨印刷方法来形成所述第一滤色片。
13.根据权利要求4所述的方法,进一步包括
在去除所述第一滤色片后,在不去除所述隔板的情况下,通过使用喷墨印刷方法在所述隔板内形成第二滤色片。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020090076403A KR20110018775A (ko) | 2009-08-18 | 2009-08-18 | 컬러 필터 박리용 조성물 및 이를 이용한 컬러 필터 재생 방법 |
KR10-2009-0076403 | 2009-08-18 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN101995777A CN101995777A (zh) | 2011-03-30 |
CN101995777B true CN101995777B (zh) | 2016-05-18 |
Family
ID=43604304
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201010140213.6A Active CN101995777B (zh) | 2009-08-18 | 2010-03-24 | 用于剥离滤色片的组合物以及使用其再生滤色片的方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8334246B2 (zh) |
JP (1) | JP5706098B2 (zh) |
KR (1) | KR20110018775A (zh) |
CN (1) | CN101995777B (zh) |
TW (1) | TWI525402B (zh) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10028753B2 (en) | 2008-09-26 | 2018-07-24 | Relievant Medsystems, Inc. | Spine treatment kits |
KR20110018775A (ko) * | 2009-08-18 | 2011-02-24 | 삼성전자주식회사 | 컬러 필터 박리용 조성물 및 이를 이용한 컬러 필터 재생 방법 |
JP2012124262A (ja) * | 2010-12-07 | 2012-06-28 | Fuji Electric Co Ltd | 太陽電池の製造方法 |
CN106873236B (zh) * | 2017-04-11 | 2019-11-29 | 惠科股份有限公司 | 显示面板的制造方法和显示面板 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101373343A (zh) * | 2007-08-20 | 2009-02-25 | 株式会社东进世美肯 | 用于薄膜晶体管液晶显示器的彩色光阻剂剥离溶液组合物 |
CN101398639A (zh) * | 2007-09-28 | 2009-04-01 | 三星电子株式会社 | 用于剥离的组合物以及剥离方法 |
Family Cites Families (36)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1195019A (ja) * | 1997-09-25 | 1999-04-09 | Canon Inc | カラーフィルタ支持基板の再生方法 |
US6440647B1 (en) * | 1998-02-26 | 2002-08-27 | Alpha Metals, Inc. | Resist stripping process |
US6630274B1 (en) * | 1998-12-21 | 2003-10-07 | Seiko Epson Corporation | Color filter and manufacturing method therefor |
KR100356987B1 (ko) | 2000-01-22 | 2002-10-18 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 열경화성 수지 제거용 조성물 |
US6274296B1 (en) * | 2000-06-08 | 2001-08-14 | Shipley Company, L.L.C. | Stripper pretreatment |
JP2002098948A (ja) * | 2000-09-20 | 2002-04-05 | Hitachi Ltd | 液晶表示装置の製造方法 |
JP2002131524A (ja) * | 2000-10-20 | 2002-05-09 | Canon Inc | カラーフィルタとその製造方法、液晶素子 |
JP2005010816A (ja) | 2002-01-16 | 2005-01-13 | Nishiyama Stainless Chem Kk | ガラス基板の再生方法 |
WO2004025359A1 (ja) * | 2002-08-30 | 2004-03-25 | Mitsubishi Chemical Corporation | カラー液晶表示装置 |
KR100546977B1 (ko) | 2003-05-16 | 2006-01-26 | 일동화학 주식회사 | 유기 박막 제거제 조성물 및 이를 사용한 불량 유리상판재생방법 |
KR101043397B1 (ko) | 2003-07-10 | 2011-06-22 | 주식회사 동진쎄미켐 | 티에프티 엘시디 제조 공정의 칼라 레지스트 제거용박리액 조성물 |
JP2005189679A (ja) | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Shinryo Corp | カラーフィルター用ガラス基板の再生方法 |
US7830472B2 (en) * | 2004-04-26 | 2010-11-09 | Mitsubishi Chemical Corporation | Blue color composition for color filter, color filter, and color image display device |
KR100617855B1 (ko) * | 2004-04-30 | 2006-08-28 | 산요가세이고교 가부시키가이샤 | 알칼리 세정제 |
JP2005331619A (ja) * | 2004-05-18 | 2005-12-02 | Sharp Corp | パターン部材およびその製造方法 |
JP2006154752A (ja) | 2004-11-02 | 2006-06-15 | Shinryo Corp | カラーフィルター用ガラス基板の再生方法 |
US20060154186A1 (en) * | 2005-01-07 | 2006-07-13 | Advanced Technology Materials, Inc. | Composition useful for removal of post-etch photoresist and bottom anti-reflection coatings |
JP4678673B2 (ja) * | 2005-05-12 | 2011-04-27 | 東京応化工業株式会社 | ホトレジスト用剥離液 |
CN101326452B (zh) * | 2005-12-16 | 2011-09-07 | 富士胶片株式会社 | 滤色片用隔壁的制造方法、带有滤色片用隔壁的基板、显示元件用滤色片、以及显示装置 |
WO2007072682A1 (ja) * | 2005-12-22 | 2007-06-28 | Fujifilm Corporation | 感光性転写材料、表示装置用部材及びその製造方法、ブラックマトリクス、カラーフィルタ及びその製造方法、表示装置用基板、並びに表示装置 |
KR20070074080A (ko) * | 2006-01-06 | 2007-07-12 | 삼성전자주식회사 | 잉크 조성물, 상기 잉크 조성물을 포함하는 표시판 및 그제조 방법 |
KR100742122B1 (ko) | 2006-01-31 | 2007-07-24 | 주식회사 동진쎄미켐 | 컬러잉크 제거용 씬너 조성물 |
JP4870447B2 (ja) * | 2006-02-22 | 2012-02-08 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ用インクジェットインク、カラーフィルタ、およびそれらの製造方法、ならびにそれらを用いた液晶表示装置 |
TWI323391B (en) * | 2006-03-21 | 2010-04-11 | Daxin Material Corp | Remover solution composition and use thereof |
JP2007254555A (ja) * | 2006-03-22 | 2007-10-04 | Sanyo Chem Ind Ltd | 洗浄剤組成物 |
US8329067B2 (en) * | 2006-04-03 | 2012-12-11 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Method of producing color filter and color filter |
JP2007322731A (ja) * | 2006-05-31 | 2007-12-13 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造方法 |
WO2008039730A1 (en) * | 2006-09-25 | 2008-04-03 | Advanced Technology Materials, Inc. | Compositions and methods for the removal of photoresist for a wafer rework application |
KR20080046450A (ko) | 2006-11-22 | 2008-05-27 | 헨켈코리아 유한회사 | 컬러필터 제거용 조성물 |
US20090032069A1 (en) * | 2007-08-02 | 2009-02-05 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Non-aqueous coating removal composition |
US20090073356A1 (en) * | 2007-09-19 | 2009-03-19 | Seiko Epson Corporation | Color filter ink, color filter, image display device, and electronic device |
JP4548476B2 (ja) * | 2007-11-27 | 2010-09-22 | セイコーエプソン株式会社 | カラーフィルター用インクの製造方法、カラーフィルター用インク、カラーフィルター、画像表示装置、および、電子機器 |
EP2254981A4 (en) * | 2008-02-20 | 2012-10-03 | Diversey Inc | CLEANING COMPOSITION WITH LOW CONTENT OF VOLATILE ORGANIC COMPOUNDS |
KR101542399B1 (ko) * | 2008-08-26 | 2015-08-07 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 트랜지스터 기판 및 그 제조 방법 |
KR20110018775A (ko) * | 2009-08-18 | 2011-02-24 | 삼성전자주식회사 | 컬러 필터 박리용 조성물 및 이를 이용한 컬러 필터 재생 방법 |
US20140100151A1 (en) * | 2012-10-08 | 2014-04-10 | Air Products And Chemicals Inc. | Stripping and Cleaning Compositions for Removal of Thick Film Resist |
-
2009
- 2009-08-18 KR KR1020090076403A patent/KR20110018775A/ko active Search and Examination
-
2010
- 2010-01-26 US US12/694,014 patent/US8334246B2/en active Active
- 2010-03-15 TW TW099107509A patent/TWI525402B/zh active
- 2010-03-24 CN CN201010140213.6A patent/CN101995777B/zh active Active
- 2010-04-16 JP JP2010095083A patent/JP5706098B2/ja active Active
-
2012
- 2012-12-14 US US13/715,912 patent/US8951949B2/en active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101373343A (zh) * | 2007-08-20 | 2009-02-25 | 株式会社东进世美肯 | 用于薄膜晶体管液晶显示器的彩色光阻剂剥离溶液组合物 |
CN101398639A (zh) * | 2007-09-28 | 2009-04-01 | 三星电子株式会社 | 用于剥离的组合物以及剥离方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201107907A (en) | 2011-03-01 |
JP5706098B2 (ja) | 2015-04-22 |
KR20110018775A (ko) | 2011-02-24 |
TWI525402B (zh) | 2016-03-11 |
US8334246B2 (en) | 2012-12-18 |
US20130102512A1 (en) | 2013-04-25 |
JP2011039487A (ja) | 2011-02-24 |
US8951949B2 (en) | 2015-02-10 |
US20110041876A1 (en) | 2011-02-24 |
CN101995777A (zh) | 2011-03-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN102260437B (zh) | 用于黑矩阵的油墨以及使用该油墨制造基板的方法 | |
CN102436094B (zh) | 液晶显示装置及其制作方法 | |
CN101995777B (zh) | 用于剥离滤色片的组合物以及使用其再生滤色片的方法 | |
CN103197472B (zh) | 一种液晶面板的制备方法 | |
CN104576655A (zh) | 一种coa基板及其制作方法 | |
KR101396941B1 (ko) | 레지스트잉크 및 이를 이용한 패턴형성방법 | |
CN101382690A (zh) | 彩色滤光片基板、液晶显示面板及彩色滤光片基板的制造方法 | |
CN100447591C (zh) | 彩色滤光片基板的形成方法 | |
CN107390415A (zh) | Tft‑lcd液晶显示屏制作工艺 | |
CN106990597A (zh) | 彩色滤光基板及其制造方法及显示面板及显示装置 | |
CN100538409C (zh) | 电子元件图纹缺陷的修补方法 | |
CN101544929A (zh) | 彩色滤光片制程中用的边胶清洗剂 | |
CN106405924A (zh) | 黑色矩阵光罩、黑色矩阵制作方法及显示面板 | |
CN114236889B (zh) | 一种lcd的制备方法 | |
WO2020024472A1 (zh) | 阵列面板的检测修复方法和光阻修补装置 | |
JPH08179113A (ja) | カラーフィルタの製造方法、該方法により得られたカラーフィルタ及び該カラーフィルタを配して構成した液晶表示パネル | |
US20080099429A1 (en) | Methods for repairing patterned structures of electronic devices | |
CN108170000A (zh) | 掩膜板及彩色滤光片的制作方法 | |
CN109709705A (zh) | 液晶显示面板的制备方法及液晶显示面板 | |
CN102792215B (zh) | 液晶面板的制造方法、液晶面板以及修复装置 | |
CN102792216B (zh) | 液晶面板的制造方法、液晶面板以及修复装置 | |
CN101330059A (zh) | 像素结构的制作方法 | |
CN103955121A (zh) | 一种用于彩色滤光片的显影液 | |
TWI286271B (en) | Method for repairing a pattern defect and a color filter pattern defect | |
CN114280832B (zh) | 一种lcd和tp一体化彩色液晶显示屏的制备方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
ASS | Succession or assignment of patent right |
Owner name: SAMSUNG DISPLAY CO., LTD. Free format text: FORMER OWNER: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. Effective date: 20130109 |
|
C41 | Transfer of patent application or patent right or utility model | ||
TA01 | Transfer of patent application right |
Effective date of registration: 20130109 Address after: Gyeonggi Do, South Korea Applicant after: Samsung Display Co., Ltd. Address before: Gyeonggi Do, South Korea Applicant before: Samsung Electronics Co., Ltd. |
|
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant |