CN101329885A - 介质处理装置及其控制方法 - Google Patents

Abstract

提供一种介质处理装置及其控制方法，相对于对介质进行信息处理的介质处理部的介质盒进行介质双重馈送的检测，能够防止介质处理部的内部机构损伤。发行机构(1)的控制方法具有：搬送工序(步骤S01)，其相对于具有对圆板状的介质(M)进行信息处理的标签印刷机(11)和介质驱动器(41)的介质盒(41a)、(45)，通过介质搬送机构(31)的搬送臂(36)来搬送介质(M)并载置；双重馈送检测工序，其在搬送工序之后，测定载置的介质(M)的高度H2(步骤S10)，求出测定的介质的高度H2与介质盒的基准面高度H1之间的差值(H3)，当差值(H3)大于规定的阈值(T+H4)时(步骤13：是)，判断出介质(M)已经双重馈送给介质盒(步骤S02～步骤S15)。

Description

介质处理装置及其控制方法

技术领域

本发明涉及一种对CD或DVD等介质进行规定处理的介质处理装置及其控制方法。

背景技术

近年来，对多张空白CD(Compact Disc)或DVD(Digital Versatile Disc)等介质(信息记录媒体)进行数据写入的磁盘复制装置、以及进行数据写入和标签印刷从而制作介质并可以发行的CD/DVD发行机构(publisher)等介质处理装置开始使用起来。作为这种介质处理装置，其公知的结构是，具有：向介质写入数据的驱动器；向介质的标签面施加印刷的打印机；以及相对于这些驱动器和打印机保持并搬送介质的介质搬送机构(例如，参照专利文献1)。

另外，作为将保持层叠状态的多个介质依次取出并搬送到规定部位的介质取出装置(磁盘取出装置)，其公知的结构是，具有：将多个磁盘保持在层叠状态并使之升降的磁盘升降机构；检测磁盘的磁盘检测机构；当磁盘检测机构检测出处于层叠状态的磁盘的上端部时则使磁盘升降机构的升降停止的磁盘升降控制部；以及将位于层叠状态的磁盘中的最上部的磁盘从磁盘升降机构依次取出并搬送到规定部位的搬送机构。而且，磁盘升降控制部控制磁盘升降机构，通过磁盘检测机构的检测将层叠状态的磁盘从停止的位置下降规定距离，从该下降位置通过搬送机构取出磁盘，磁盘检测机构检测出上升的磁盘的厚度(例如，参照专利文献2)。

专利文献2所述的磁盘取出装置在使层叠状态的磁盘的上端部位于磁盘检测机构检测的一定位置的状态下，使层叠状态的磁盘暂时停止，之后再下降规定的距离。然后，在将层叠状态的最上部的磁盘一张一张地利用搬送机构从该下降位置取出并搬送到规定部位时，搬送机构使磁盘暂时上升并利用磁盘检测机构进行检测，之后搬送到规定的部位。因此，磁盘检测机构在使层叠状态的磁盘停止在一定位置时来检测层叠状态的磁盘的上端部，在通过搬送机构搬送最上部的磁盘时，通过检测出搬送的磁盘的厚度从而来判断取出的磁盘是一张还是多张。

专利文献1：日本特开2006-202379号公报

专利文献2：日本特开2005-44392号公报

专利文献2所述的装置是一种防止从多张层叠的介质中取出一张介质来搬送时发生双重馈送情况的装置。如果发生双重馈送的情况，则在接收搬送的介质的一侧不能检测出双重馈送。在专利文献1所述的介质处理装置中，在将介质双重馈送给用以向介质写入数据的驱动器或向介质的标签面施加印刷的打印机时，与驱动器的写入磁头或打印机的打印机磁头等内部机构互相干涉，从而存在损伤内部机构的担忧。

发明内容

因此，本发明的目的在于提供一种对于介质驱动器或介质打印机等对介质进行信息处理的介质处理部的介质盒来检测介质双重馈送的情况，从而能够防止介质处理部的内部机构损伤的介质处理装置及其控制方法。

能够解决上述课题的本发明的介质处理装置的控制方法，其相对于对圆板状的介质进行信息处理的介质处理部所具有的介质盒，通过介质搬送机构的搬送臂来搬送所述介质，取得从载置于所述介质盒上的所述介质表面到所述搬送臂的基准位置的距离，求出所述取得的距离与从所述介质盒的基准面到所述搬送臂的基准位置的规定距离之间的差值，当所述求得的差值大于规定的阈值时，判断为所述介质被双重馈送给所述介质盒。

根据这种控制方法，在将介质搬送给具有介质处理部的介质盒之后，测定从载置于介质盒上的介质表面到搬送臂的基准位置的距离。求出该测定值与从介质盒的基准面到基准位置的距离之间的差值，如果该差值大于规定的阈值，则能够判断双重馈送的情况。因为介质盒的基准面位置只要在介质处理装置的工厂发货时存储测定值或理论值即可，所以双重馈送检测工序中所需要的时间大致等于测定介质高度的时间，从而能够以较短的时间来进行。因此，能够简单且尽早地检测介质双重馈送的情况，并且能够防止介质处理部的内部机构的损伤。

另外，所述阈值是考虑了使用的介质的厚度的偏差和翘曲的影响之后的介质最大厚度与从介质盒的基准面高度到介质的下表面的距离之和，也可以采用只有一张介质处于介质盒上时的介质的最大高度值。

本发明的介质处理装置的控制方法中，优选利用设置在所述搬送臂上的介质检测部来检测载置于所述介质盒上的所述介质表面的位置。

根据这种控制方法，利用搬送臂的动作，基于其移动量来测定介质的高度是比较容易的。

在本发明的介质处理装置的控制方法中，优选所述介质检测部具有检测杆和检测器，所述检测杆具有检测端子部，所述检测端子部能够抵接于所述介质表面，且通过与所述介质表面的抵接能够从非检测位置移动到检测位置，并且所述检测杆移动自如地被支承在所述搬送臂上；所述检测器检测所述检测杆是否到了所述检测位置，

所述介质检测部通过所述搬送臂的移动，将所述检测杆从所述检测位置和所述非检测位置中的一个位置移位到另一位置时的所述检测杆的位置作为所述介质表面的位置检测出。

并且，所述搬送臂的基准位置优选包括所述搬送臂位于规定位置时的所述检测杆的下端位置。

根据这种控制方法，由于根据搬送臂的移动而将检测杆从检测位置和非检测位置中的一个位置移位到另一位置时的检测杆的位置作为介质表面的位置来检测，所以能够分别以搬送臂的位置作为基准来求出介质盒的基准面与介质表面的位置，从而能够使双重馈送检测用的计算处理简单化。

在本发明的介质处理装置的控制方法中，在所述检测杆移位到了所述检测位置时，使所述搬送臂暂时停止，使所述搬送臂上升直到所述检测杆移位到所述非检测位置为止，在所述取得工序中，从移位到所述非检测位置时的所述检测杆的位置到所述基准位置的距离，作为从所述介质表面到所述基准位置的距离而被取得。

根据这种控制方法，由于通过在检测杆移位到了检测位置的位置使搬送臂暂时停止，然后以该位置作为基准使搬送臂上升，从而测定从介质表面到基准位置的距离，所以能够高精度地测定介质的高度。另外，相比于通过使搬送臂下降来检测介质表面的高度来说，难以受到检测杆的惯性影响，测定精度优良。

能够解决上述课题的本发明的介质处理装置，其具有：介质处理部，该介质处理部具备介质盒，且对载置于该介质盒上的圆板状的介质进行信息处理；介质搬送机构，该介质搬送机构具备保持所述介质并且将所述介质搬送到所述介质盒的搬送臂；介质检测部，该介质检测部用于检测载置于所述介质盒上的所述介质表面的位置；以及控制部，该控制部求出如下两个距离之间的差值，其中一个距离是通过所述介质检测部检测出的所述介质表面的位置和所述搬送臂的基准位置间的距离，另一个距离是从所述介质盒的基准面到所述搬送臂的基准位置的距离，并且当所述差值大于规定的阈值时，判断为所述介质已被双重馈送给所述介质盒。

根据这种结构的介质处理装置，在将介质搬送给介质处理部所具有的介质盒之后，能够使用介质检测部算出从载置于介质盒上的介质表面到基准位置的距离。由于控制部求出该测定值与从介质盒的基准面到基准位置的距离，如果该差值大于规定的阈值则判断为双重馈送，所以能够简单且尽早地检测介质双重馈送的情况，能够防止介质处理部的内部机构的损伤。另外，因为介质盒的基准面高度优选介质处理装置在工厂发货时存储测定值或理论值，所以双重馈送检测工序中所需要的时间大致等于测定介质高度的时间，从而能够以较短的时间来进行。

在本发明的介质处理装置中，所述介质检测部优选设置在所述搬送臂上。

根据这种结构的介质处理装置，利用搬送臂的动作，基于其移动量来测定其到介质表面的距离是比较容易的。作为介质检测部可以使用接触式或非接触式的任一种。

在本发明的介质处理装置中，优选的是所述介质检测部具有检测杆和检测器，所述检测杆具有检测端子部，所述检测端子部能够抵接于所述介质表面，且通过与所述介质表面的抵接能够从非检测位置移动到检测位置，并且所述检测杆移动自如地被支承在所述搬送臂上，所述检测器检测所述检测杆是否到了所述检测位置。

根据这种结构的介质处理装置，由于根据搬送臂的移动而将检测杆从检测位置和非检测位置中的一个位置移位到另一位置时的位置作为介质表面的位置来检测，所以能够分别以搬送臂的位置作为基准来求出介质盒的基准面高度与介质表面的高度，从而能够使双重馈送检测用的计算处理简单化。

附图说明

图1是发行机构(介质处理装置)的外观立体图；

图2是使各部分处于打开状态的发行机构的外观立体图；

图3是从前方上侧观察的发行机构除掉壳体的状态的立体图；

图4是设置在发行机构上的标签打印机部分的立体图；

图5是表示介质搬送机构的立体图；

图6是说明夹紧机构的臂底座的俯视图；

图7是夹紧机构的保持爪部分的立体图；

图8是保持爪部分的放大俯视图；

图9是分别说明旋转板以及保持爪的动作的俯视图；

图10是分别说明旋转板以及保持爪的动作的俯视图；

图11是分别说明旋转板以及保持爪的动作的俯视图；

图12是说明保持爪的保持爪的剖面图；

图13是表示介质检测机构的结构的剖面图；

图14是说明介质检测机构的动作的剖面图；

图15是表示发行机构的控制系统的框图；

图16是表示本发明的控制方法的流程图；

图17是本发明的控制方法的双重馈送检测的模式图。

具体实施方式

下面，参照附图，对本发明的介质处理装置及其控制方法的实施方式的例子进行说明。

并且，在本实施方式中，以介质处理装置的磁盘发行机构为例来进行说明。

图1是使各部处于关闭状态的发行机构(介质处理装置)的外观立体图，图2是各部处于打开状态的发行机构的外观立体图，图3是从前方上侧观察的发行机构除掉壳体的状态下的立体图，图4是设置在发行机构上的标签打印机部分的立体图。

如图1所示，发行机构1是例如向CD或DVD等圆板状的介质(信息记忆介质)进行数据的写入和/或数据的读入或对介质的标签面进行印刷的介质处理装置，其具有基本呈长方体形状的壳体2。在该壳体2的正面上安装有左右可以开闭的开闭门3、4。在壳体2的上侧左端部上设有操作面5，操作面5上排列着指示灯、操作键等。另外，在壳体2的下端，左右两侧设有载置用的脚部6，脚部6向下方突出。在左右脚部6之间的位置上设有拉出机构7。

如图2所示，主视右侧的开闭门3是用来开闭发行机构1的正面侧的开口部8的门。其是在例如将未使用(空白)的介质M经过开口部8来安放时，或将制作完成的介质M经过开口部8取出时，来进行开闭的门。

另外，主视左侧的开闭门4是在如图3所示更换标签打印机11的墨盒12时用来开闭的门。在打开该开闭门4时，具有多个在铅直方向排列的盒支架13的盒安装部14露出。

如图2和图3所示，在发行机构1的壳体2的内部，以与被保管的介质M的中心轴线一致的方式上下配置介质堆积器21和介质堆积器22，其中介质堆积器21作为介质保管部能够堆积多张(例如50张)没有进行数据写入处理的未使用的介质M，介质堆积器22作为介质保管部保管多张(例如50张)未使用的介质M或制作完成的介质M。介质堆积器21和介质堆积器22分别相对于规定的位置装拆自如。

上侧的介质堆积器21具有左右一对的圆弧状的框板24、25。由此，从上侧收纳介质M，从而在同轴层叠的状态下形成可以收容的结构。在介质堆积器21收容或补充介质M的作业可以通过打开开闭门3并取出介质堆积器21而可以简单地进行。

下侧的介质堆积器22也形成相同的结构，其具有左右一对的圆弧状的框板27、28。由此，从上侧收纳介质M，从而在同轴层叠的状态下形成可以收容的结构。

如图3所示，在介质堆积器21和介质堆积器22的后侧配置有介质搬送机构31。介质搬送机构31具有在本体架30和台架32的顶板33之间垂直架设的垂直导向轴35。搬送臂36被垂直导向轴35支承在可以升降和旋转的状态下。搬送臂36在驱动电动机37的作用下能够沿垂直导向轴35升降，并且也可以以垂直导向轴35为中心左右旋转。

在上下的堆积器21、22和介质搬送机构31侧方的后方的部位上配置有上下层叠的两个介质驱动器41，在这些介质驱动器41的下侧，配置有可以移动的标签打印机11的后面所述的滑动架62。

介质驱动器41分别具有能够在介质M的数据写入位置和进行介质M的领取交接的介质交接位置之间进行移动的介质盒41a。

另外，标签打印机11具有能够在向介质M的标签面进行标签印刷的印刷位置和进行介质M的领取交接的介质交接位置之间进行移动的介质盒45。

在图3中，表示了上下的介质驱动器41的介质盒41a被拉出到前面且位于介质交接位置的状态以及下侧的标签打印机11的介质盒45位于前面侧的介质交接位置的状态。另外，标签打印机11是喷墨打印机，作为墨液供给机构60，使用各色(在本实施方式中为黑、青绿、洋红、黄、浅青绿、浅洋红六种)的墨盒12，这些墨盒12从前方安装在盒安装部14的各盒支架13上。

这里，在介质堆积器21的左右一对框板24、25之间与介质堆积器22的左右一对框板27、28之间形成有介质搬送机构31的搬送臂36可以升降的间隙。另外，在这些上下的介质堆积器21和介质堆积器22之间开有间隙，使得介质搬送机构31的搬送臂36水平旋转，能够位于介质堆积器22的正上方。并且，在将两介质盒41a压入介质驱动器41中时，使介质搬送机构31的搬送臂36下降，从而可以对位于介质交接位置的介质盒45进行访问。

介质搬送机构31的搬送臂36在使两介质盒41a位于数据写入位置、使介质盒45位于里侧的印刷位置的状态下，可以下降到比介质盒45的高度位置更低的下侧。并且，在介质盒45的介质交接位置的下方形成有导向孔65(参照图2)，其安装后述的介质堆积器(另外的堆积器)，并且是在搬送臂36下降到该位置时释放的介质M通过的导向孔。

如图2和图3所示，拉出机构7在本体架30的下侧具有能够从本体架30拉出而打开、收纳则关闭的拉出盒70。在拉出盒70上向下方凹陷而设有堆积部71。当拉出盒70处于收纳位置(关闭位置)时，堆积部71位于导向孔65的下方，堆积部71的中心部与处于交接位置的两介质盒41a和介质盒45的中心轴线一致。该堆积部71收纳经过导向孔65而投入的介质M，只收纳较少量(例如五张～十张左右)的介质M。堆积部71从上侧收纳介质M，在同轴层叠的状态下可以收容介质M。

介质M的收容量比堆积部71多的介质堆积器(另外的堆积器)72能够装拆在处于收纳状态的拉出盒70的堆积部71和导向孔65上(参照图3)。该介质堆积器72还具有一对圆弧状的框板73、74，由此，在从上侧收纳介质M并同轴层叠的状态下，可以收容多张(例如50张)介质M。在一对圆弧状的框板73、74之间形成有介质搬送机构31的搬送臂36可以升降的间隙。另外，在一方的框板74的上部设有装拆时由用户把持的手柄75。

并且，如果在安装了介质堆积器72的状态下，从下侧的介质堆积器22取出未使用的介质M，由介质驱动器41和标签打印机11进行了数据记录和印刷之后，能够收容在介质堆积器72。

另外，例如，在上侧的介质堆积器21和下侧的介质堆积器22装填各自最大收容张数(50张+50张)的未使用的介质M，然后依次处理下侧的介质堆积器22的全部张数(50张)的介质并收容在介质堆积器72中，接下来，依次处理上侧的介质堆积器21的全部张数(50张)的介质M并收容在已经变空的下侧的介质堆积器22中。这样，能够一次地处理上侧的介质堆积器21与下侧的介质堆积器22的最大收容张数(50张+50张)的介质M(批处理模式)。

另外，如果在卸下了介质堆积器72的状态下，从上侧的介质堆积器21或下侧的介质堆积器22取出未使用的介质M，由介质驱动器41和标签打印机11进行了数据记录和印刷之后，能够收容在处于收纳状态的拉出盒70的堆积部71。

由此，之后，通过将拉出盒70拉出，能够从堆积部71取出已经处理完毕的介质M。即，即使正处于对介质M的处理中，在关闭开闭门3的状态不变的情况下，也能够依次从处理完毕的介质M中每次取出一张或每次取出多张(外部排出模式)。

在此，根据介质搬送机构31的搬送臂36的升降和左右旋转的组合动作，介质M适当地在介质堆积器21、介质堆积器22、拉出盒70的堆积部71(或介质堆积器72)、各介质驱动器41的介质盒41a以及标签打印机11的介质盒45之间被搬送。

如图4所示，标签打印机11具有滑动架62，该滑动架62具有具备喷墨用的喷嘴(省略图示)的喷墨头61。该滑动架62在滑动架电动机的驱动力的作用下沿着滑动架导向轴在水平方向上往复移动(省略图示)。

标签打印机11具有墨液供给机构60，该喷墨供给机构具备安装墨盒12的盒安装部14。该墨液供给机构60具有纵型结构，并且立设在发行机构1的本体架30上，并配设在铅直方向上。在该墨液供给机构60上连接着具有可挠性的墨液供给管63的一端，而该墨液供给管63的另一端则连接在滑动架62上。

并且，安装在墨液供给机构60上的墨盒12的墨液经过墨液供给管63而供给向滑动架62。然后，经过设置在该滑动架62上的减震器单元和背压调整单元(省略图示)供给向喷墨头61，再从墨液喷嘴(省略图示)喷出。

并且，在墨液供给机构60上设有加压机构64，加压机构64的主部配置在墨液供给机构60的上部。该加压机构64将压缩空气送出，然后对墨盒12内进行加压，从而将贮留在墨盒12内的墨袋之中的墨液送出。

另外，在滑动架62的初始位置(图4所示位置)的下方侧设有头部维修机构81。

该头部维修机构81具有：头部盖82，其覆盖露出于配置在初始位置的滑动架62下表面的喷墨头61的喷嘴；废墨吸引泵83，其吸引通过喷墨头61的头部清洁动作或喷墨填充动作而排出到头部盖82的墨液。

并且，由该头部维修机构81的废墨吸引泵83吸引的墨液经过管84被送入废墨吸收槽85。

该废墨吸收槽85在箱体86内配置有未图示的吸收材料，其上表面由具有多个通气孔87的罩88覆盖。

并且，在头部维修机构81的下方设有废墨吸收槽85的一部分即废墨收容部89，其接住从头部维修机构81掉落的墨液，然后由吸收材料进行吸收。

(介质搬送机构)

图5是表示介质搬送机构的立体图。如图5所示，介质搬送机构31具有垂直安装的台架32，在安装于底座30上的水平支承板部34和台架32的顶板33之间安装有垂直导向轴35。而且，在该垂直导向轴35上将搬送臂36支承在可以升降且可以旋转的状态下。

搬送臂36的升降机构具有作为驱动源的升降用的驱动电动机37。该驱动电动机37的旋转被传递给驱动侧滑轮，驱动侧滑轮驱动遍及台架32的上下架设的计时带(timing belt)。该计时带的一部分与搬送臂36的基部110(参照图6)连结。

因此，在驱动驱动电动机37时，计时带在上下方向上移动，安装于此的搬送臂36沿着垂直导向轴35升降。并且，驱动电动机37是步进电动机，根据其步进数能够控制搬送臂36的上下位置。

如图5所示，搬送臂36的旋转机构具有作为驱动源的旋转用的驱动电动机105。在该驱动电动机105的输出轴上安装有小齿轮(省略图示)，该小齿轮的旋转通过具有传递齿轮107的减速齿轮列而传递到扇形的最终段齿轮109。扇形的最终段齿轮109以垂直导向轴35为中心可以左右旋转。另外，在最终段齿轮109上搭载有台架32，该台架32上安装了搬送臂36的升降机构的构成零件。在驱动驱动电动机105时，因为扇形的最终段齿轮109左右旋转，所以搭载于此的台架32形成一体且以垂直导向轴35为中心左右旋转。其结果是被搭载于台架32的升降机构保持的搬送臂36以垂直导向轴35为中心左右旋转。

下面，对具有搬送臂36的各机构进行说明。

图6是说明夹紧机构的臂底座的俯视图，图7是夹紧机构的保持爪部分的立体图，图8是夹紧机构的放大俯视图，图9至图11是说明旋转板和保持爪的动作的各自的俯视图。

如图6所示，搬送臂36具有：俯视为矩形状的细长的臂底座125a；遮盖在该臂底座125a上面的同一轮廓形状的臂箱(省略图示)。另外，在搬送臂36上设有用以保持介质M的夹紧机构130以及介质检测机构200。

夹紧机构130具有以相等角度(120°)的间隔配置在同一个圆上的三个圆柱状的保持爪141～143。这些保持爪141～143从形成于臂底座125a的前端部的圆形孔125c垂直向下方突出，插入介质M的中心孔，并向半径方向外侧扩张，与介质M的中心孔的内周面抵接来保持介质M。

如图6和图7所示，各保持爪141～143安装在支承销151～153的下端。各支承销151～153贯穿臂底座125a的圆形孔125c且垂直延伸，各支承销151～153分别固定在配置于臂底座125a上表面的三块旋转板161～163上。在包围该圆形孔125c的状态下，旋转中心轴171～173在同一圆上以等角度间隔垂直地被固定在臂底座125a上，各旋转板161～163在以这些旋转中心轴171～173为中心可以旋转的状态下被支承。

如图6至图8所示，各旋转板161～163沿着臂底座125a，其具有：沿着圆形孔125c的大致圆周方向向前方(俯视时逆时针方向)侧延伸的前方腕部161a～163a；沿着圆形孔125c的大致圆周方向向后方(俯视时顺时针方向)侧延伸的后方腕部161b～163b；从旋转中心向圆形孔125c的内侧突出的支承腕161c～163c。支承腕161c～163c的前端部的里面分别垂直地固定有支承销151～153。

在旋转板161的后方腕部161b上形成有沿圆形孔125c的大致径向的长孔161d，而在旋转板163的前方腕部163a的后端，向下方突设的滑动销163f可以滑动地插通该长孔161d。

另外，在旋转板163的后方腕部163b的前端上形成有沿圆形孔125c的大致径向的滑动面163e，该滑动面163e以旋转板162的前方腕部162a的前端部不接触的方式设定。另外，在旋转板162的后方腕部162b的前端形成有沿圆形孔125c的大致径向的滑动面162e，该滑动面162e可以和旋转板161的前方腕部161a的前端部滑动接触。在此，旋转板161的长孔161d以及旋转板162、163的滑动面162e、163e形成为各旋转板161～163向同一方向旋转而设定的凹状的弯曲形状。

在旋转板161的后方腕部161b与旋转板162的后方腕部162b之间、在旋转板162的后方腕部162b与旋转板163的后方腕部163b之间、以及在旋转板163的后方腕部163b与旋转板161的后方腕部161b之间，分别架设有拉伸螺旋弹簧(施力部件)174。而且，通过这些拉伸螺旋弹簧174的拉伸力，旋转板161～163不会松动地被保持，并且对各旋转板161～163施加如图8中箭头R1所示方向(扩张保持爪141～143的方向)的施力。

在图8的状态下，安装在各旋转板161～163的支承腕161c～163c的前端上的保持爪141～143的外接圆的直径大于介质M的中心孔的内径。在该状态下，在使一块旋转板161向箭头R2所示的方向旋转时，与此连动，其他的两块旋转板162、163也向同一方向旋转。其结果是旋转板161～163的支承腕161c～163c朝向圆形孔125c的中心移动，安装在它们前端部的保持爪141～143被缩窄到可以插入介质M的中心孔的状态。

在该状态下，将保持爪141～143插入介质M的中心孔，之后在使旋转板161～163向反方向R1旋转时，保持爪141～143向半径方向的外侧扩张。其结果是，这些保持爪141～143被压到介质M的中心孔的内周面，形成保持介质M的状态。

在旋转板161上形成有从支承腕161c的相反侧延伸出的操作腕161g。在该操作腕161g的前端部上，以旋转自如的状态连结有连杆175一方的腕部175a的前端。连杆175以其中间部为中心可以旋转地被支承在臂底座125a上，相反侧的腕部175b的前端部连结在电磁螺线管176的动作杆176a上。电磁螺线管176在断开状态下，其动作杆176a在内置的弹簧的弹簧力的作用下变成突出状态。

如果在该状态下将电磁螺线管176切换到接通状态，则动作杆176a反抗内置弹簧力而被拉入，连杆175旋转，旋转板161向R2方向旋转。于是，如图9所示，旋转板162的后方腕部162b的滑动面162e与旋转板161的前方腕部161a的前端滑动接触，并且旋转板161的后方腕部161b的长孔161d的内表面与旋转板163的前方腕部163a的滑动销163f滑动接触。由此，旋转板162的滑动面162e与旋转板161的前方腕部161a的前端滑动接触，通过向圆形孔125c的径向外侧滑动，旋转板162向R2方向旋转，另外，旋转板161的后方腕部161b的长孔161d的内表面与旋转板163的前方腕部163a的滑动销163f滑动接触，通过旋转板163的前方腕部163a向圆形孔125c的中心方向滑动，旋转板163也向R2方向旋转。

如此，如果旋转板161向R2方向旋转，则该旋转板161向R2方向的旋转力会传递给其他的旋转板162、163，如图10所示，旋转板162、163也向R2方向旋转，设置在旋转板161～163的支承腕161c～163c上的保持爪141～143被配置在比介质M的中心孔还足够小的外接圆内，被缩窄到可以插入介质M的中心孔的状态。

在该状态下，如果将电磁螺线管176切换到断开状态，则动作杆176a在内置的弹簧的弹簧力的作用下突出，连杆175旋转。于是，连杆175的旋转运动传递给旋转板161，该旋转板161向R1方向旋转。与此连动，其他的两块旋转板162、163也在拉伸螺旋弹簧174的拉伸力的作用下，向圆形孔125c的中心方向拉伸各自的后方腕部162b、163b，由此，这些旋转板162、163也与旋转板161同样向R1方向旋转。其结果是，如图11所示，保持爪141～143被扩张，保持爪141～143被压到介质M的中心孔的内周面Mb，形成保持介质M的状态。

此时，相对于旋转板161，由于旋转板162、163在拉伸螺旋弹簧174的拉伸力的作用下独立向R1方向旋转，所以各保持爪141～143也分别独立向半径方向外侧移动，压到介质M的中心孔的内周面。

如图12所示，三个保持爪141～143具有：从支承销151～153的下端突出的圆柱状的销141a～143a；以同心状态包围该销141a～143a的由橡胶等形成的弹性圆筒141b～143b。这里，圆柱状的销142a以及弹性圆筒142b虽然在图12中未表示，但是这些要素的结构与保持爪141、143的结构相同，设置在保持爪142上。而且，这三个保持爪141～143向下方突出的长度l的尺寸小于等于保持的介质M的厚度t1的尺寸。该突出长度l优选处于介质M的中心孔Ma的内周面Mb的厚度t2以上且处于包括环状突起部Mc的高度的介质M的厚度t1以下。由此，在厚度方向上保持处于层叠状态的介质M时，保持爪141～143不会接触两个介质M的内周面Mb，而只保持最上部的一个介质M。

图13是表示介质检测机构的结构的剖面图。

如图6和图13所示，介质检测机构(介质检测部)200具有检测杆201，并且还具有在该检测杆201的一侧设置的检测器(介质检测器)202，其中检测杆201具有：杆本体201a，其后端201c以水平轴线为中心而被支承，前端侧可以上下摇动；抵接部201b，其作为检测端子部，杆本体201a的前端向下方弯曲从而向臂底座(底座板)125a的下面侧突出。

在图13所示的非检测位置上，检测杆201的杆本体201a处于载在臂底座125a之上的状态，抵接部201b通过形成于臂底座125a上的开口部125d，以规定的长度向臂底座125a的下方侧即保持介质侧突出。另外，检测器202是透过型光学式传感器，如图13所示，当检测杆201位于非检测位置时，由于突出于图6所示的杆本体201a的前端侧附近的侧面的检测板201d处于检测器202的检测区域内而遮住检测光，所以检测器202的检测信号消失。

并且，在该介质检测机构200中，通过搬送臂36下降而介质M的上表面抵接在检测杆201的前端的抵接部201b上，检测杆201向上方摇动，从抵接在臂底座125a上的非检测位置(图13所示的位置)向从臂底座125a离开的检测位置(图14所示的位置)移位，在检测杆201的检测板201d从检测器202的检测区域脱离时，检测器202切换到开启状态。根据该检测器202的检测信号能够检测出接近介质M的状态，即在夹紧机构130上有被保持的介质M的情况。

另外，在介质检测机构200中，在检测杆201的杆本体201a上设有磁铁(吸引部)203。该磁铁203由向合成树脂中混入磁性体的树脂磁铁而成形，并被固定在检测杆201的杆本体201a上。另外，在臂底座125a的上表面，在与设置于检测杆201的杆本体201a上的磁铁203相对的位置上，设有由磁铁203吸引的被吸引部件即铁板(吸引部)204。

并且，在该介质检测机构200中，检测杆201抵接在臂底座125a上，在检测杆201的抵接部201b配置于向臂底座125a的下表面侧突出的非检测位置的状态下，通过磁铁203的磁力，吸引而吸附磁铁203和铁板204。因此，检测杆201在抵接部201b配置于向臂底座125a的下表面侧突出的非检测位置的状态下，通过相互吸附的磁铁203和铁板204的吸附力被维持在限制摇动的状态下。

在该状态下，如果搬送臂36下降且介质M的上表面抵接在检测杆201的前端的抵接部201b上，则如图14所示，在检测杆201的前端部分上产生朝向上方的推举力。并且，通过该推举力，如果相互吸附的磁铁203和铁板204分离开，则检测杆201以杆本体201a的后端的与臂底座125a的连结部位为中心向上方摇动。而且，检测杆201从抵接在臂底座125a上的非检测位置向从臂底座125a离开的检测位置移位。

与此相反，如果解除夹紧机构130所保持的介质M的保持，之后搬送臂36上升从介质M离开，则向上方摇动且配置在检测位置上的检测杆201由于自重而向下方摇动。如果检测杆201向下方摇动且向非检测位置配置，则杆本体201a的磁铁203抵接在铁板204上，磁铁203和铁板204通过磁铁203的磁力而相互吸附。由此，检测杆201再次被维持在通过磁铁203和铁板204之间的吸附力限制摇动的状态下。

接下来，对用于实施本实施方式的控制方法的发行机构1的控制系统进行说明。

如图15所示，发行机构1具有管理各部动作的控制部100，控制部100与设置在发行机构1外部的主机101以可以通信的方式相连接。控制部100由具有CPU、ROM、RAM以及EEPROM的微型电子计算机构成。控制部100基于来自主机101的各种执行指令，利用介质搬送机构31来搬送介质M，利用介质驱动器41对介质M进行数据写入处理，利用标签印刷机11对介质M的标签面进行印刷处理。另外，控制部100也与介质检测机构200连接，也可以基于介质检测机构200的检测信号来控制介质搬送机构31的动作，或输出错误信号。

控制部100如果接收到来自主机101的执行指令，则按照批处理模式等预先设定的处理模式的工序，对介质M进行数据写入处理或印刷处理。此时，执行搬送工序，通过介质搬送机构31将收容在上侧的介质堆积器21或下侧的介质堆积器22中的介质M搬送到介质驱动器41的介质盒41a或标签打印机11的介质盒45。收容在介质堆积器21、22中的介质M由于处于多张层叠的状态下，所以存在上下的介质紧密粘着的情况，要考虑到介质搬送机构31会将两张介质同时搬送的情况。因此，在本实施方式的控制方法中，对于介质盒41a、45通过介质搬送机构31的搬送臂36来搬送并载置介质M的搬送工序之后，执行判断介质M是否双重馈送给介质盒41a、45的双重馈送检测工序。

参照图16所示的流程图来对双重馈送检测工序进行说明。

首先，在双重馈送检测工序之前的向介质盒的搬送工序(步骤S01)中，通过介质搬送机构31的搬送臂36来保持收容在介质堆积器21、22中的介质M，并通过搬送臂36的移动将介质M搬送给介质盒45(或介质盒41a)，然后载置(步骤S01)。然后，在将介质盒45维持在前面侧的介质交接位置处不变的情况下，使搬送臂36上升到规定的高度(步骤S02)。这里，所谓规定的高度，可以设定为移动上限即初始位置或上下的中间位置等。

以第S02步中的规定高度为基准，一边以驱动驱动电动机37的步进数(step number)来管理搬送臂36的高度，一边开始双重馈送检测工序(步骤S03)。首先，接通设置在搬送臂36上的电磁螺线管176(步骤S04)，在三个保持爪141～143缩窄到可以插入介质M的中心孔的状态下，使搬送臂36开始下降(步骤S05)。此时，设搬送臂36到达低于介质盒45的基准面高度一定距离(例如100步进的距离)的位置为到达目标位置。这里，所谓介质盒45的基准面高度，如图17所示，是指将步骤S02中搬送臂36位于规定高度时的、介质检测机构200的抵接部201b的下端位置设为基准高度H0的情况下，搬送臂36下降时与介质盒45抵接的部位与基准高度H0(搬送臂的基准位置)的距离H1，作为测定值或理论值，在发行机构1的工厂发货时被存储在EEPROM中。另外，也可以在发行机构1的电源开启时测定并进行存储。

一边使搬送臂36下降，一边监视介质检测机构200的检测器(介质检测器)202(步骤S06)，如果检测器202关闭(步骤S06：否)，则判断搬送臂36是否到达低于介质盒45的基准面高度一定距离的所述到达目标位置(步骤S07)。如果搬送臂36未到达所述到达目标位置(步骤S07：否)，则返回步骤S06。

如果在步骤S06检测器202开启，即如果检测杆201的抵接部201b抵接在介质M的上表面而被举起，检测杆201移位到检测位置(步骤S06：是)，则使搬送臂36减速并暂时停止(步骤S08)。

之后，使搬送臂36开始上升(步骤S09)，将检测杆201移位到非检测位置而检测器202关闭的位置作为介质M的高度H2((从搬送臂基准位置到介质表面的距离)，参照图17)进行存储(步骤S10)。此时，由于通过使搬送臂36暂时停止后将其位置作为基准使搬送臂36上升而来测定介质M的高度H2，所以测定精度优良。另外，如果使搬送臂36以比通常慢的速度上升直到检测器202关闭，则测定精度进一步提高。由于此时的搬送臂36的上升距离很小，所以几乎不影响双重馈送检测工序的处理速度。

经过步骤S10，一边使搬送臂36进一步上升，一边在规定的位置(例如上下的中间位置)使电磁螺线管176断开(步骤S11)，使搬送臂36停止在其移动上限的初始位置上(步骤S12)。

并且，如图17所示，求出介质盒45的基准面高度H1与介质M的高度H2之间的差值H3，并判断该差值H3是否大于规定的阈值(双重馈送判定；步骤S13)。此处采用的阈值，除了考虑了使用的介质M的厚度的偏差和翘曲等影响的介质最大厚度T以及从介质盒45的基准面高度H1到介质M的下表面的距离H4以外，也可以采用仅一张介质M置于介质盒45上时的介质M的最大高度值(T+H4)。

当差值H3大于规定的阈值(T+H4)时(步骤S13：是)，由于能够判断出介质盒45上载置有两张以上的介质M，所以输出双重馈送错误信号，在操作面5(参照图1)的指示灯或主机101的显示器等上进行错误表示，在将介质盒45维持在前面侧的介质交接位置上不变的状态下，结束双重馈送检测工序(步骤S14)。

当差值H3处于规定的阈值以下时(步骤S13：否)，由于能够判断出介质盒45上只载置有一张介质M，所以就这样结束双重馈送检测工序(步骤S15)。步骤S15之后，将介质盒45搬送到标签打印机11内从而能够执行印刷处理。当进行了双重馈送检测的介质盒为介质驱动器41的介质盒41a时，将介质盒41a搬送到介质驱动器41内，从而能够执行数据的写入处理。

并且，在步骤S06和步骤S07中，当检测器202在关闭的状态下搬送臂36到达比介质盒45的基准面高度H1低规定距离的所述到达目标位置时(步骤S07：是)，能够判断为介质盒45不在正规的位置(介质交接位置)，发生了异常。此时，使搬送臂36减速而暂时停止(步骤S16)，使搬送臂36开始上升(步骤S17)，在规定的位置(例如上下的中间位置)使电磁螺线管176断开(步骤S18)，使搬送臂36停止在其移动上限的初始位置上(步骤S19)，进行致命错误处理(步骤S20)。

另外，也可以不进行步骤S10，而在步骤S06将检测杆201移位到检测位置的位置作为介质M的高度H2进行测定，但是此时由于搬送臂36的移动距离长，所以从处理速度的观点来看，难以减缓下降速度。另外，如果在搬送臂36下降时进行测定，则必须考虑受到检测杆201的惯性的影响从而检测精度下降的情况，但是在本实施方式中，由于利用磁铁203和铁板204之间的吸附力将检测杆201维持在其摇动受到限制的状态，所以能够防止检测精度的下降。

如此，根据本实施方式的介质处理装置(发行机构1)及其控制方法，在将介质M搬送给介质盒41a、45之后，测定载置于介质盒41a、45上的介质M的高度。求出该测定值H2与介质盒41a、45的基准面高度H1之间的差值H3，如果该差值H3大于规定的阈值(H4+T)，则能够判断为双重馈送。此时，双重馈送检测工序所需时间与测定介质M高度的时间大致相等，能够在比较短的时间内进行。因此能够简单且尽快地检测出介质M被双重馈送的情况，从而能够防止标签打印机11或介质驱动器41的内部机构损伤。

另外，由于利用设置在搬送臂36上的介质检测机构200来测定载置于介质盒41a、45上的介质M的高度，所以利用搬送臂36的动作，基于其移动量，能够容易地测定介质M的高度。并且，作为测定介质M高度的介质检测部，除了可以使用介质检测机构200这样的接触式的机构以外，也可以使用反射型光学式传感器等非接触式的距离传感器。当介质检测部为非接触式时，也可以将介质检测部设置在搬送臂36以外的位置上。

另外，由于介质检测机构200可以根据搬送臂36的移动将检测杆201从检测位置以及非检测位置中的一个位置移位到另一位置时的位置作为介质M表面的高度来测定，所以能够以搬送臂36位于规定高度时的检测杆201的下端位置(基准高度H0)为基准，来求出介质盒41a、45的基准面高度H1与介质M的高度H2，从而能够以单纯的演算处理(H1-H2＝H3是否大于阈值H4+T)来进行双重馈送检测。

并且，本发明中所使用的介质不限于上述实施方式的介质M这样的圆板状的介质，也可以适用于矩形状的多边形状或椭圆状的介质，另外，其记录方式也可以是光记录方式、光磁记录方式等任一种，没有限制。

Claims (18)

1.一种介质处理装置的控制方法，其中，

相对于对介质进行信息处理的介质处理部所具有的介质盒，通过介质搬送机构的搬送臂来搬送并载置所述介质，

取得从载置于所述介质盒上的所述介质表面到所述搬送臂的基准位置的距离，

求出所述取得的距离与从所述介质盒的基准面到所述搬送臂的基准位置的规定距离之间的差值，

当所述求得的差值大于规定的阈值时，判断为所述介质被双重馈送给所述介质盒。

2.如权利要求1所述的介质处理装置的控制方法，其中，

利用设置在所述搬送臂上的介质检测部来检测载置于所述介质盒上的所述介质表面的位置。

3.如权利要求2所述的介质处理装置的控制方法，其中，

所述介质检测部具有检测杆和检测器，所述检测杆具有检测端子部，所述检测端子部能够抵接于所述介质表面，且通过与所述介质表面的抵接能够从非检测位置移动到检测位置，并且所述检测杆移动自如地被支承在所述搬送臂上；所述检测器检测所述检测杆是否到了所述检测位置，

所述介质检测部通过所述搬送臂的移动，将所述检测杆从所述检测位置和所述非检测位置中的一个位置移位到另一位置时的所述检测杆的位置作为所述介质表面的位置检测出。

4.如权利要求3所述的介质处理装置的控制方法，其中，

在所述检测杆移位到了所述检测位置时，使所述搬送臂暂时停止，

使所述搬送臂上升直到所述检测杆移位到所述非检测位置为止，

在所述取得工序中，从移位到所述非检测位置时的所述检测杆的位置到所述基准位置的距离，作为从所述介质表面到所述基准位置的距离而被取得。

5.如权利要求3所述的介质处理装置的控制方法，其中，

所述搬送臂的基准位置为所述搬送臂位于规定的位置时的所述检测杆的下端位置。

6.一种介质处理装置，其中，

其具有：

介质处理部，该介质处理部具备介质盒，且对载置于该介质盒上的介质进行信息处理；

介质搬送机构，该介质搬送机构具备保持所述介质并且将所述介质搬送到所述介质盒的搬送臂；

介质检测部，该介质检测部用于检测载置于所述介质盒上的所述介质表面的位置；以及

控制部，该控制部求出如下两个距离之间的差值，其中一个距离是通过所述介质检测部检测出的所述介质表面的位置和所述搬送臂的基准位置间的距离，另一个距离是从所述介质盒的基准面到所述搬送臂的基准位置的距离，并且当所述差值大于规定的阈值时，判断为所述介质已被双重馈送给所述介质盒。

7.如权利要求6所述的介质处理装置，其中，

所述介质检测部设置在所述搬送臂上。

8.如权利要求6所述的介质处理装置，其中，

所述介质检测部具有检测杆和检测器，

所述检测杆具有检测端子部，所述检测端子部能够抵接于所述介质表面，且通过与所述介质表面的抵接能够从非检测位置移动到检测位置，并且所述检测杆移动自如地被支承在所述搬送臂上，

所述检测器检测所述检测杆是否到了所述检测位置。

9.一种介质处理装置的控制方法，其中，

通过介质搬送机构的搬送臂将所述介质搬送并载置到对介质进行信息处理的介质处理部的介质盒上，

取得从载置于所述介质盒上的所述介质表面到规定的基准位置的距离，

求出所述取得的距离与从所述介质盒的基准面到所述基准位置的规定距离之间的差值，

当所述求得的差值大于规定的阈值时，判断为所述介质被双重馈送给所述介质盒。

10.如权利要求9所述的介质处理装置的控制方法，其中，

利用设置在所述搬送臂上的介质检测部来检测载置于所述介质盒上的所述介质表面的位置。

11.如权利要求10所述的介质处理装置的控制方法，其中，

所述介质检测部具有检测杆和检测器，所述检测杆具有检测端子部，所述检测端子部能够抵接于所述介质表面，且通过与所述介质表面的抵接能够从非检测位置移动到检测位置，并且所述检测杆移动自如地被支承在所述搬送臂上；所述检测器检测所述检测杆是否到了所述检测位置，

所述介质检测部通过所述搬送臂的移动，将所述检测杆从所述检测位置和所述非检测位置中的一个位置移位到另一位置时的所述检测杆的位置作为所述介质表面的位置检测出。

12.如权利要求11所述的介质处理装置的控制方法，其中，

在所述检测杆移位到了所述检测位置时，使所述搬送臂暂时停止，

使所述搬送臂上升直到所述检测杆移位到所述非检测位置为止，

在所述取得工序中，从移位到所述检测位置时的所述检测杆的位置到所述基准位置的距离，作为从所述介质表面到所述基准位置的距离而被取得。

13.一种介质处理装置的控制方法，其中，

相对于对介质进行信息处理的介质处理部所具有的介质盒，通过介质搬送机构的搬送臂来搬送并载置所述介质，

取得从载置于所述介质盒上的所述介质表面到所述介质盒的基准面的距离，

当所述取得的距离大于规定的阈值时，判断为所述介质被双重馈送给所述介质盒。

14.如权利要求13所述的介质处理装置的控制方法，其中，

利用设置在所述搬送臂上的介质检测部来检测载置于所述介质盒上的所述介质表面的位置。

15.如权利要求14所述的介质处理装置的控制方法，其中，

所述介质检测部具有检测杆和检测器，所述检测杆具有检测端子部，所述检测端子部能够抵接于所述介质表面，且通过与所述介质表面的抵接能够从非检测位置移动到检测位置，并且所述检测杆移动自如地被支承在所述搬送臂上；所述检测器检测所述检测杆是否到了所述检测位置，

所述介质检测部通过所述搬送臂的移动，将所述检测杆从所述检测位置和所述非检测位置中的一个位置移位到另一位置时的所述检测杆的位置作为所述介质表面的位置检测出。

16.如权利要求15所述的介质处理装置的控制方法，其中，

在所述检测杆移位到了所述检测位置时，使所述搬送臂暂时停止，

使所述搬送臂上升直到所述检测杆移位到所述非检测位置为止，

在所述取得工序中，从移位到所述检测位置时的所述检测杆的位置到所述基准面的距离，作为从所述介质表面到所述基准面的距离而被取得。

17.如权利要求13所述的介质处理装置的控制方法，其中，

所述介质检测部包括对从所述介质的所述表面到所述介质盒的所述基准面的距离进行测量的非接触式的传感器。

18.一种介质高度检测方法，其中，

相对于对介质进行信息处理的介质处理部所具有的介质盒，通过介质搬送机构的搬送臂来搬送并载置所述介质，

取得从载置于所述介质盒上的所述介质表面到所述搬送臂的基准位置的距离，

求出所述取得的距离与从所述介质盒的基准面到所述搬送臂的基准位置的规定距离之间的差值，

比较所述求得的差值和规定的阈值，检测介质的高度。

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