CN101142868A - 透光电磁波屏蔽膜、滤光器和等离子体显示面板 - Google Patents

透光电磁波屏蔽膜、滤光器和等离子体显示面板 Download PDF

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Abstract

本发明提供同时实现优异的电磁波屏蔽性质和优异的近红外线切断功能的透光电磁波屏蔽膜。本发明的透光电磁波屏蔽膜具有金属银部分和透光部分，它们通过曝光形成于支持体上的包含银盐乳状液的乳状液层，然后显影来形成，其中所述透光电磁波屏蔽膜具有红外线屏蔽性质。

Description

透光电磁波屏蔽膜、滤光器和等离子体显示面板
技术领域
本发明涉及透光电磁波屏蔽膜，其能够屏蔽从显示器如阴极射线管(CRT)、等离子体显示面板(PDP)、液晶显示器、电致发光(EL)显示器或场发射显示器(EFD)、微波炉、电子装置、印刷线路板等正面产生的电磁波并且具有透光性、以及具有这种透光电磁波屏蔽膜的滤光器和等离子体显示面板。
背景技术
随着近来各种电气设备和电子器件的使用的增加，电磁干扰(EMI)急剧增大。应指出，EMI不仅在电气和电子器件中引起机械故障和阻碍，而且对操作这些器件的工作人员的健康也有不利影响。因此，需要控制从电气装置/电子器件产生的电磁波的强度以不超过标准或规定水平。
作为针以上述EMI的对策，需要屏蔽电磁波，显然利用金属不允许电磁透过的特性可以实现这一点。因此，例如，已经采用了使用由金属或高导电材料制成的壳体的方法，在电路基板间插入金属板的方法和用金属箔涂布电缆的方法。然而，CRT、PDP等的显示器应该是透明的，因为操作人员应确认屏幕上显示的字符等。然而，在上述每种方法中，显示器的正面经常变成不透明的，从而使这些方法不适于作为电磁波屏蔽方法。
与CRT等相比，PDP产生大量电磁波。因此，要求PDP具有更强的电磁波屏蔽性能。电磁波屏蔽性能可以简单地以表面电阻率表示。用于CRT的透光电磁波屏蔽材料其表面电阻率应为约300Ω/sq或更小，用于PDP的透光电磁波屏蔽材料其表面电阻率应为约2.5Ω/sq或更小。此外，用于消费者使用的等离子体TV用的透光电磁波屏蔽材料应具有极高导电性，即表面电阻率约1.5Ω/sq或更小，优选0.1Ω/sq或更小。
关于透明度，用于CRT的透光电磁波屏蔽材料其透明度应为约70％或更大，用于PDP的透光电磁波屏蔽材料其透明度更高，为80％或更大。
为克服上述问题，已经提出了使用具有开口的金属网来获得良好的电磁波屏蔽性能和高透明度的各种材料和方法，下面将进行说明。
(1)导电纤维
例如，专利文献1公开了一种由导电纤维制成的电磁波屏蔽材料。然而，这种屏蔽材料面临的问题在于，具有较宽的网状线宽度，因此，在用于屏蔽显示屏幕时，使屏幕变暗。其结果是，显示器上所示的字符几乎无法看到。
(2)通过无电镀方法得到的网状
已经提出了一种方法，包括使用无电镀催化剂印刷格子图案，然后进行无电镀(参见例如，专利文献2和专利文献3等)。然而，在这种情况下，印刷的催化剂具有较宽的线宽，约60μm，这使得其不适于需要相对较窄线宽和精密图案的显示器。
此外，已经提出了一种方法，包括涂布含有无电镀催化剂的光致抗蚀剂、曝光并显影，形成无电镀催化剂图案，然后进行无电镀(参见例如，专利文献4)。然而，导电膜的可见光透过率为72％，因此，这样仅能获得不充分的透明度。此外，该方法面临的问题在于制造成本，即需要使用高价的钯作为无电镀催化剂，以除去曝光后的大部分曝光部。
(3)使用照相平版印刷术通过蚀刻法得到的网状
已经提出了一种方法，其中使用照相平版印刷术通过蚀刻法在透明基材上形成金属网状薄膜(参见例如，专利文献5至专利文献8等)。由于能够进行微加工，因而这种方法的优点在于形成具有高开口率(高透过率)的网状并能够屏蔽更强的电磁释放。另一方面，其面临的问题在于，制造过程麻烦和复杂，因此，成本高。此外，已知的是，由于使用蚀刻过程，因而格子图案的问题在于，交点的线宽比直线更宽。此外，已经指出，这种方法面临应克服波纹的问题。
(4)使用卤化银通过在导电金属银和显影银上镀铜得到的网状
已经提出了使用经使卤化银显影得到的导电金属银形成导电网状的方法，或通过用金属铜镀经使卤化银显影得到的网状显影银形成导电网状的方法(参见例如，专利文献9和专利文献10)。
为了防止例如在远程控制方面的故障，近红外射线-切断功能被认为是如上所述电磁波屏蔽膜和PDP所需要的重要因素，如在专利文献11和专利文献1 2中所报道。
专利文献1：JP-A-5-327274
专利文献2：JP-A-11-170420
专利文献3：JP-A-5-283889
专利文献4：JP-A-11-170421
专利文献5：JP-A-2003-46293
专利文献6：JP-A-2003-23290
专利文献7：JP-A-5-16281
专利文献8：JP-A-10-338848
专利文献9：JP-A-2004-207001
专利文献10：JP-A-2004-221564
专利文献11：JP-A-9-247581
专利文献12：JP-A-10-75087
发明内容
本发明要解决的问题
与通过使用光刻法蚀刻制备网状的方法相比，如上所述通过使用卤化银的银盐照相术获得的金属网是有利的，因为它能够以更低的生产成本借助更少量的步骤制备，并且另外几乎不显示光散射并具有低的雾度。
另一方面，随着PDP亮度的最近改进，产生增加量的近红外线。
因此，已经需要改善近红外线切断功能。
另外，在上面专利文献中公开的方法遇到下面的问题。
(无电镀方法中低的生产率)
例如，通过使用在专利文献10中公开的银盐的照相感光材料制备的透光导电膜在能够精确地形成细线图案，因此实现高的透光率、允许低成本大规模制备等方面是有利的。但是，因为显影的银网具有高电阻，如此得到的膜可能难以经受直接电解电镀。在电镀具有大面积的这种膜的情况中，因此均需要使用无电镀和电解电镀。但是，当无电镀和电解电镀一起使用时，引起例如生产率降低和电镀成本增加的问题。
当通过使用包括由专利文献10公开的技术的片进料系统分批进行电解电镀时，经常引起的问题是，在表面电阻率为1Ω/□或更高的膜中，通过电流侧附近的区域电镀程度高于与电镀溶液接触部分。这种现象在电镀开始，即第一次通电时特别明显，使得即使然后继续电镀也难以形成均匀的镀层。随着表面电阻率增加，这种问题变得更加严重。
(由不连续网状图案引起的低生产率)
除了由专利文献1公开的纤维方法外，通过当前可获得的形成网状的方法都不能形成单个图案连续3m或更长的网。例如，在使用丝网印刷的方法中，通过以网版尺寸重复印刷图案来形成网状图案。结果，所得的图案在每个网版尺寸单元中断或者形成重叠部分。也就是说，该方法在既不使形成结点也不使连续性断裂下不能完全形成印刷图案。在光刻法中，网状被每个曝光掩模尺寸单元中断。即，由光刻法形成的图案具有无网状图案部分。这是因为使用片型光掩模进行曝光，因此不能全部连续地曝光长的卷膜形式的光致抗蚀剂并且在相应于光掩模尺寸的区域中不可避免地重复进行曝光。
为了用于PDP，例如惯例是使用其中用PDP模块或正面板或具有由玻璃等制成的基材的滤光器定位构建的屏蔽材料的网状图案的制备方法。该方法引起屏蔽材料的显著损失。此外，当打算使用连接并且卷曲成辊的屏蔽材料来改善生产率时，花费长时间定位并因此不能充分地提高生产速度。
例如通过向电磁波屏蔽膜粘合功能层来赋予近红外线切断功能。只要通过使用如上所述中断状态的电磁波屏蔽膜并且引起显著损失来制造滤光器，具有近红外线切断功能的膜还遇到仅在中断状态中是有效的缺点。
已经在这些情况下完成的本发明的一个目的是解决上述关于电磁波屏蔽膜性能改善的问题。更具体地说，本发明目的在于在使屏蔽材料损失最小下以高的生产率和低的价格提供一种具有连续网状图案的透光电磁波屏蔽膜，其在耐用性方面是优异的、具有高的电磁波屏蔽性质、几乎不显示光散射并具有高的透光率。
本发明的另一目的是提供一种同时实现优异的电磁波屏蔽性质和优异的近红外线切断功能的透光电磁波屏蔽膜。
本发明的再一目的是通过使用这种透光电磁波屏蔽膜提供同时实现优异的电磁波屏蔽性质和优异的近红外线切断功能的滤光器和等离子体显示面板。
解决问题的方法
通过下面的发明已经解决了如上所述的问题。
(1)一种透光电磁波屏蔽膜，其具有金属银部分和透光部分，这些部分通过曝光形成于支持体上的包含银盐乳状液的乳状液层，然后显影来形成，并且
其中所述透光电磁波屏蔽膜具有红外线屏蔽性质。
(2)如上面(1)中所述的透光电磁波屏蔽膜，其在支持体中包含红外线吸收染料。
(3)如上面(1)中所述的透光电磁波屏蔽膜，其在形成于支持体上的层中包含红外线吸收染料。
(4)如上面(3)中所述的透光电磁波屏蔽膜，其在与金属银部分相反侧的形成于支持体上的层中包含红外线吸收染料。
(5)如上面(3)中所述的透光电磁波屏蔽膜，其在与金属银部分相同侧的形成于支持体上的层中包含红外线吸收染料。
(6)如上面(1)中所述的透光电磁波屏蔽膜，其具有粘合层并且在所述粘合层中包含红外线吸收染料。
(7)如上面(1)-(6)任何一项中所述的透光电磁波屏蔽膜，其在金属银部分中具有含有导电金属的导电金属部分，所述导电金属部分通过向所述金属银部分施用物理显影和/或电镀过程而形成。
(8)如上面(7)中所述的透光电磁波屏蔽膜，
其中所述导电金属部分由1μm-40μm尺寸的形成网状的细线组成并且所述网状图案连续3m或更长。
(9)如上面(1)-(8)任何一项中所述的透光电磁波屏蔽膜，
其中通过在输送支持体的同时用光束扫描曝光具有包含银盐乳状液的乳状液层的支持体来进行所述曝光。
(10)如上面(1)-(9)任何一项中所述的透光电磁波屏蔽膜，
其中通过显影所述乳状液层获得的银网具有1-1000Ω/□的表面电阻率并且在显影处理后在1-30m/min的输送速度下被连续地电解电镀。
(11)如上面(3)-(10)任何一项中所述的透光电磁波屏蔽膜，
其中所述包含红外线吸收染料的层或者与所述包含红外线吸收染料的层接触的层包含含有无机氧化物的抗静电剂。
(12)一种滤光器，其包含如上面(1)-(11)任何一项中所述的透光电磁波屏蔽膜。
(13)一种等离子体显示面板，其包含如上面(1)-(11)任何一项中所述的透光电磁波屏蔽膜或者如上面(12)中所述的滤光器。
本发明的优点
根据本发明，可以提供一种透光电磁波屏蔽膜，其在耐用性、电导率和透光性质方面是优异的，几乎不显示光散射并且同时实现了优异的电磁波屏蔽性能和优异的近红外线切断功能。本发明还提供了一种包含具有连续网状图案的网状的如上所述的透光电磁波屏蔽膜。
通过使用这种透光电磁波屏蔽膜，本发明还可以提供一种同时具有优异的电磁波屏蔽性质和优异的近红外线切断功能的滤光器和等离子体显示面板。
另外，根据本发明，可以大规模低成本地提供这些产品并且不会引起生产的损失。
附图说明
图1是显示可适当地用于本发明电解电镀过程中的电解电镀槽的一个实例的示意图。
附图标记说明
10  电解电镀槽
11  镀浴
12a，12b进料辊
13  阳极板
14  导辊
15  镀液
16  膜
17  排水辊
具体实施方式
此处使用的术语“电磁波屏蔽膜”表示包含具有电磁波屏蔽膜的膜状支持体和至少一个其它功能膜的膜。在一些情况下，“电磁波屏蔽膜”仅称作“膜”。
将包含等离子体显示部件如滤光器或含有其的玻璃基料的层合材料称作“电磁波屏蔽层合物”。
本文中使用的“连续网状图案”中的术语“网状”意指基于本领域中已知的方式，由多根细线组成的网络图案或者由多根细线组成的网络。术语“连续的”意指长的膜例如卷曲的膜，其中在所述长膜的长度方向上连续地形成单一图案而不中断。下文将讨论它们的优点。
根据本发明的透光电磁波屏蔽膜是其中通过曝光形成于支持体上的包含银盐乳状液的乳状液层，然后显影形成金属银部分和透光部分，并且特征在于具有屏蔽红外线性质的透光电磁波屏蔽膜。
[透光电磁波屏蔽膜的构成]
在根据本发明的透光电磁波屏蔽膜中，支持体的厚度优选为5-200μm，更优选为30-150μm。只要支持体的厚度落在5-200μm的范围内，可以获得所需的可见光透光率并且可以容易地处理膜。
根据待涂布在支持体上的含银盐涂层的涂布厚度可以适当地确定施用物理显影和/或电镀过程之前在支持体上形成的金属银部分的厚度。金属银部分的厚度优选为30μm或更低，更优选20μm或更低，更优选0.01-9μm并且最优选0.05-5μm。图案化的金属银部分是优选的。金属银部分可以具有单层结构或者具有两层或多层的层合结构。在金属银部分是图案化的并且是具有两层或多层的层合结构的情况中，可以赋予其不同的颜色感光性，从而可以在各种波长下被增感。通过在各种波长下曝光，可以形成从层到层不同的图案。
在将电磁波屏蔽膜用于显示器的情况中，导电金属部分优选具有尽可能小的厚度来增加显示器的视角。在使用导电接线材料的情况中，需要更薄的膜来实现更高的密度。从这些点来看，负载在所述导电金属部分上的导电金属层优选具有小于9μm，更优选0.1μm或更大但是小于5μm并且再优选0.1μm或更大但是小于3μm的厚度。
在本发明中，因为通过控制含银盐层的涂布厚度可以形成所需厚度的金属银层并且通过物理显影和/或电镀过程可以任意控制导电金属颗粒层，所以甚至可以容易地形成厚度小于5μm，优选小于3μm的透光电磁波屏蔽膜。
与其中必须刻蚀掉并且丢弃大部分金属薄膜的已知蚀刻方法相反，本发明能够仅在支持体上形成包含所需量的导电金属图案，可以仅使用所需最小量的金属，从而获得生产成本降低和丢弃金属的量减少的优点。
[透光电磁波屏蔽膜的制备方法]
根据本发明的透光电磁波屏蔽膜可以通过如下方法制备：通过使在支持体上具有含卤化银的乳液层的感光材料曝光，然后进行显影过程，分别在曝光区和未曝光区形成金属银部分和透光部分，如果需要，对金属银部分施加物理显影和/或电镀过程，从而使金属银部分带有导电金属。
形成本发明透光电磁波导电膜的方法根据使用的感光材料和显影过程包括以下两种模式。
(I)使不含物理显影核的感光卤化银单色感光材料接受化学显影或者热显示，从而在所述感光材料上形成金属银部分的模式。
(II)使卤化银乳状液层中包含物理显影核的感光卤化银单色感光材料接受溶解物理显影从而在所述感光材料上形成金属银部分的模式。
在上述一体化单色显影型实施方案(I)中，在感光材料上形成金属银。如此获得的显影的银是具有大比表面积的细丝形式的化学显影的银或者热显影的银。因此，在物理显影过程中，后续电镀是高度活性的。
在实施方案(II)中，卤化银颗粒在物理显影核附近溶解并且沉积在曝光区域中的物理显影核上。因此，在感光材料上形成金属银。这种模式也落入一体化单色显影型类别中。尽管显影过程引起在物理显影核上沉积并因此实现了高活性，但是显影的银是具有小的表面积的球形。
在这些模式的各自中，可以选择负型显影或反转显影
此处使用的术语“化学显影”、“热显影”和“溶解物理显影”具有在本领域常用的意义。在普遍使用的光化学文献，例如ShashinKagaku，Shinichi Kikuchi(Kyoritsu Shuppan，1955)和The Theory ofPhotographic Processes，第4版，C.E.K.Mees编(Mcmillan，1977)中描述了这些术语。尽管本文使用液体处理，但是热显影系统也可在其它应用中用作显影系统。即，用途可以包括例如JP-A-2004-184693、JP-A-2004-334077、JP-A-2005-010752、日本专利申请2004-244080和日本专利申请2004-085655。
(1)感光材料
(1-1)支持体
作为用于根据本发明的制备方法中的感光材料的支持体，可以使用塑料膜、塑料板、玻璃板等。
作为如上所述的塑料膜和塑料板的材料，可以使用例如聚醚如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)和聚对萘二甲酸乙二醇酯；聚烯烃如聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯和EVA；乙烯基基树脂如聚氯乙烯和聚偏氯乙烯；聚醚醚酮(PEEK)、聚砜类(PSF)、聚醚砜(PES)、聚碳酸酯(PC)、聚酰胺、聚酰亚胺、丙烯酸树脂、三乙酰纤维素(TAC)等。
在本发明中，从透明度、耐热性、易处理性和成本方面，优选如上所述的塑料膜是聚对苯二甲酸乙二醇酯膜或者三乙酰纤维素(TAC)膜。
因为用于显示器的电磁波屏蔽膜应该是透明的，所以优选支持体具有高的透明度。在此情况下，塑料膜或塑料板的总可见光透光率优选为70-100％，更优选85-100％并且特别优选90-100％。在本发明中，还可以使用已经着色但其程度不会干扰实现本发明目的的塑料膜或塑料板。
用于本发明中的塑料膜或塑料板可以是单层的或是包含结合在一起的两层或更多层的多层。
在本发明中使用玻璃板作为支持体的情况中，玻璃的种类没有特别限制。在电磁波屏蔽膜用于显示器的情况中，优选使用在表面上提供有硬化层的硬化玻璃。与非硬化玻璃相比，硬化玻璃可以防止破裂。从安全性的观点来看，通过气冷方法获得的硬化玻璃是更优选的，因为在破碎时，其碎成没有锋利边缘的小片。
支持体的厚度优选是200μm或更小，更优选20μm或更大但不大于180μm并且最优选50μm或更大但不大于120μm。
(1-2)保护层
本文使用的感光材料可以具有形成在后述乳状液层上的保护层。本文使用的术语“保护层”意指如下的层，其由粘结剂如或明胶或高分子聚合物构成并形成在感光乳状液层上，从而赋予防擦伤作用并改进机械性能。考虑到电镀处理，优选的是不形成保护层或如果形成也使其厚度最小。保护层的厚度优选0.2μm或更小。可以通过任何公知的涂布方法形成保护层，没有限制。
(1-3)乳状液层
优选用于制备根据本发明的透光电磁波屏蔽膜的感光材料在支持体上具有乳状液层(含银盐的层)。本发明中的乳状液层除了银盐外还可以任选地包含染料、粘结剂、溶剂等。
<染料>
感光材料可以至少在乳状液层中包含染料。出于各种目的向乳状液层中添加染料，即作为滤光染料、用于防止照射等。作为染料，可以包含固体分散染料。优选可用于本发明中的染料的实例包括由如JP-A-9-179243中记载的通式(FA)、(FA1)、(FA2)和(FA3)代表的染料。更具体地说，优选在该专利文献中引用的化合物F1-F34。此外，可以优选使用由JP-A-7-152112报道的染料(II-2)-(II-24)、由JP-A-7-152112报道的染料(III-5)-(III-18)、由JP-A-7-152112报道的染料(IV-2)-(IV-7)等。
作为可用于本发明中的染料的其它实例，可以例举的有在显影或定影过程中被漂白的细固体颗粒形式的固体染料，如由JP-A-3-138640报道的菁染料、吡喃鎓染料和胺鎓染料。在处理中未被漂白的染料的实例包括由JP-A-9-96891报道的具有羧基的菁染料、由JP-A-8-245902报道的没有酸基团的菁染料、由JP-A-8-333519报道的色淀型菁染料、由JP-A-1-266536报道的菁染料、由JP-A-3-136038报道的空孔型菁染料、由JP-A-62-299959报道的吡喃鎓染料、由JP-A-7-253639报道的聚合物型菁染料、由JP-A-2-282244报道的细固体颗粒分散体的oxonol染料、由JP-A-63-131135报道的光散射颗粒、由JP-A-9-5913报道的Yb3+化合物、由JP-A-7-113072报道的ITO粉末等。另外，还可以使用由JP-A-9-179243报道的通式(F1)和(F2)代表的染料，更具体地说是在该专利文献中引用的化合物F35-F112。
如上所述的染料包括水溶性染料。这些水溶性染料的实例包括oxonol染料、亚苄基染料、melocyanine染料、菁染料和偶氮染料。其中，oxonol染料、hemioxonol染料和亚苄基染料在本发明中特别有用。可用于本发明的水溶性染料的具体实例包括由英国专利584,609、同前1,177,429、JP-A-48-85130、JP-A-49-99620、JP-A-49-114420、JP-A-52-20822、JP-A-59-154439、JP-A-59-208548、美国专利2,274,782、同前2,533,472、同前2,956,879、同前3,148,187、同前3,177,078、同前3,247,127、同前3,540,887、同前3、575,704、同前3,653,905 and同前3,718,427中报道的那些染料。
从防止照射的效果和因含量增加而使感光度下降的观点来看，乳状液层中的染料的含量基于总固体物质优选在0.01-10重量％的范围内，更优选为0.1-5重量％。
<银盐>
作为在本发明中使用的银盐，可以例举的有无机银盐，如卤化银。在本发明中优选使用具有优异特性的卤化银作为感光材料。
下面，说明本发明优选使用的卤化银。
在本发明中优选使用起到感光材料作用的卤化银。因此，关于已经用在卤化银光薄膜、照相纸、制版薄膜、光掩模用乳状液掩模等中的卤化银技术也适用于本发明。
上述卤化银中所含的卤元素可以是氯、溴、碘和氟中的任一种。此外，可以使用这些元素的组合。例如，优选使用的卤化银包括AgCl、AgBr或AgI作为主要成分。更优选使用的卤化银包括AgBr或AgI作为主要成分。还优选使用氯化银和溴化银的混合物，碘化银、氯化银和溴化银的混合物，或碘化银和溴化银的混合物。更优选使用氯化银和溴化银的混合物，溴化银，碘化银、氯化银和溴化银的混合物，或碘化银和溴化银的混合物。最优选使用含有50摩尔％或更多氯化银的氯化银和溴化银的混合物或碘化银、氯化银和溴化银的混合物。
本说明书中，表述“含有AgBr(溴化银)作为主要成分的卤化银”指卤化银组合物中溴离子的摩尔比达到50％或更大的卤化银。除了溴离子之外，含有AgBr作为主要成分的卤化银颗粒可以含有溴离子和氯离子。
卤化银是固体颗粒形式。考虑到曝光和显影处理后形成的图案化金属银层中的图像质量，优选的是以相应球的直径表示的卤化银的平均粒径为0.1-1000nm(1μm)，更优选0.1-100nm，再更优选1-50nm。
术语卤化银颗粒的“相应球的直径”指具有相同体积的球形颗粒的直径。
乳状液层中包含的银盐的含量优选为0.1-80重量％，更优选1-50重量％，并且更优选3-30重量％。
卤化银颗粒在形状方面没有特别限制。即，它们可以是各种形状如球形、立方体、片形(六方形片、三角形片、正方形片等)、八角形、14-面体等等。立方体和14-面体是优选的。
卤化银颗粒可以由内部和作为均匀相的表面构成。可选择地，其可以具有卤素组成不同的局部层作为内部或表面。
在本发明的乳状液层中用作涂布溶液的卤化银乳状液可以使用例如记载在G.Glafkides，Chimie et Physique Photographique(PaulMontel，1997)，G.F.Dufin，Photographic Emulsion Chemistry(TheForcal Press，1966)，V.L.Zelikman等人，Making and CoatingPhotographic Emulsion(The Forcal Press，1964)等中的方法制备。
作为制备上述卤化银乳状液的方法，可以使用酸性方法或中性方法。作为使可溶性银盐与可溶性卤素盐反应的方法，可以使用单侧混合方法、同时混合方法或其组合。
为了形成银颗粒，还可以使用在过量银离子存在下形成颗粒的方法(即，所谓的逆混合方法)。此外，作为同时混合方法之一，可以使用其中pAg在用于形成卤化银的液相中保持恒定水平的方法，即所谓的控制双喷射方法。
还优选的是使用所谓的卤化银溶剂如氨水、硫醚或四取代的硫脲形成颗粒。在这些方法中，特别优选使用在JP-A-53-82408和JP-A-55-77737中记载的四取代的硫脲化合物。四取代的硫脲化合物的优选例子包括四甲基硫脲和1，3-二甲基-2-咪唑啉硫酮。尽管卤化银溶剂的加入量随所用化合物的种类、所需粒径和卤素组成变化，但优选为10-5-10-2mol/mol卤化银。
通过使用上述控制双喷射方法或利用卤化银溶剂形成颗粒的方法，可以容易地得到具有规则晶型和较窄粒径分布的卤化银乳状液。因此，这些方法优选用于本发明中。
为了使粒径均匀，优选的是使银通过使用如下方法在不超过临界饱和度的范围内快速生长：在英国专利1,535,016、JP-B-48-36890和JP-B-52-16354中记载的根据颗粒生长速度改变氮化银或碱金属卤化物加入速度的方法，或在英国专利4,242,445和JP-A-55-158124中记载的改变水溶液浓度的方法。形成本发明的乳状液层中所用的卤化银乳状液优选是单分散的乳状液，优选{(粒径的标准偏差)/(平均粒径)}×100代表的变化系数为20％或更小，更优选15％或更小，最优选10％或更小。
本发明中使用的卤化银乳状液可以是具有不同粒径的多种卤化银乳状液的混合物。
本发明中使用的卤化银乳状液可以含有属于VII或VIIB族的金属。为获得高对比和低雾度，特别优选的是含有铑化合物、铱化合物、钌化合物、铁化合物、锇化合物等。这些化合物可以具有各种配体。配体的例子包括氰根离子、卤素离子、硫氰酸根离子、亚硝酰离子、水、氢氧根等。除了这些拟卤素和氨水之外，还可以使用有机分子如胺(甲基胺、乙二胺等)、杂环化合物(咪唑、噻唑、5-甲基噻唑、巯基咪唑等)、脲和硫脲。
为了提高感光度，有利地使用金属六氰络合物掺杂剂，如K4[Fe(CN)6]、K4[Ru(CN)6]或K3[Cr(CN)6]。
作为如上所述的铑化合物，本发明中可以使用水溶性的铑化合物。水溶性的铑化合物的实例包括卤化铑(III)、六氯铑(III)络合物盐、五氯acor铑络合物盐(pentachloro acorhodium complex salt)、四氯diagno铑络合物盐(tetrachloro diagnorhodium complex salt)、六溴铑(III)络合物盐、六胺铑(III)络合物盐、三草酸合铑(III)络合物盐和K3Rh2Br9。
通过在水或适合的溶剂中溶解使用这种铑化合物。还可以使用常用方法以稳定铑化合物的溶液，即加入卤化氢(如盐酸、氢溴酸或氢氟酸)或碱金属卤化物(如KCl、NaCl、KBr或NaBr)水溶液的方法。代替使用水溶性铑化合物的是，在制备卤化银时，还可以加入并溶解用铑掺杂的其它卤化银颗粒。
上述铱化合物的实例包括六氯铱络合物盐如K2IrCl6或K3IrCl6、六溴铱络合物盐、六胺铱络合物盐和五氯亚硝酰(nitrisil)铱络合物盐。
上述钌化合物的实例包括六氯钌、五氯亚硝酰钌和K4[Ru(CN)6]。
上述铁化合物的实例包括六氰合铁(II)酸钾和硫氰酸亚铁。
如JP-A-63-2042、JP-A-1-285941、JP-A-2-20852和JP-A-2-20855中所述以水溶性络合物盐形式添加钌或锇。作为特别优选的实例，可以引用由下面通式代表的6-配位络合物：
[ML6]-n
其中M代表Ru或Os；并且n代表0、1、2、3或4。
在这种情况下，反离子并不重要，例如可以是碱金属离子的铵。此外，配体的优选例子包括卤化物配体、氰化物配体、氧氰化物配体、亚硝酰基配体和硫代亚硝酰基配体。接下来，示出本发明所用的络合物的具体例子，但本发明不限于这些例子。
[RuCl6]-3、[RuCl4(H2O)2]-1、[RuCl5(NO)]-2、[RuBr5(NS)]-2、
[Ru(CO)3Cl3]-2、[Ru(CO)Cl5]-2、[Ru(CO)Br5]-2、[OsCl6]-3、[OsCl5(NO)]-2、
[Os(NO)(CN)5]-2、[Os(NS)Br5]-2、[Os(CN6)]-4和[Os(O)2(CN)5]-4。
所述化合物优选加入量为每摩尔卤化银10-10-10-2 mol/mol.Ag，更优选10-9-10-3 mol/mol.Ag。
还优选的是，在本发明中使用含有Pd(II)离子和/或Pd金属的卤化银。Pd可以均匀分布在卤化银颗粒内，但优选包含在卤化银颗粒的表面层附近。术语Pd“包含在卤化银颗粒的表面层附近”是指卤化银颗粒具有钯含量比其它层更高的层，该层距卤化银颗粒表面的深度50nm。
通过在形成卤化银颗粒的过程中加入Pd可以制备这种卤化银颗粒，优选的是在加入超过总加入量50％的银离子和卤素离子之后加入Pd。还优选的是通过在后熟化阶段中加入Pd(II)离子，使Pd(II)离子存在于卤化银的表面层中。
这种含有Pd的卤化银颗粒增大了物理显影或无电镀的速度，从而改进了所需电磁波屏蔽材料的制造效率。其结果是，有助于降低制造成本。Pd是众所周知的，并用作无电镀的催化剂，在本发明中，可以在卤化银颗粒的表面层中使Pd局部化，从而节省极昂贵的Pd。
在本发明中，相对于卤化银中的银的摩尔数，在卤化银中的Pd离子和/或Pd金属优选含量为10-4-0.5mole/mol.Ag，更优选0.01-0.3mole/mol.Ag。
使用的Pd化合物的实例包括PdCl4和Na2PdCl4。
在本发明中，可以进行在照相乳状液中实施的化学增感，从而进一步改进作为感光材料的感光度。作为化学增感，可以使用硫属元素增感如硫增感、硒增感或碲增感，贵金属增感如金增感，或还原增感。所述增感可以单独使用或组合使用。在使用上述的化学增感的组合的情况下，例如，硫增感和金增感的组合，硫增感、硒增感和金增感的组合，或硫增感、碲增感和金增感的组合是优选的。
通常通过加入硫增感剂并在40℃以上的高温下搅拌乳状液一定时间来进行硫增感。作为硫增感剂，可以使用已知的硫化合物，例如，明胶中所含的硫化合物或各种硫化合物如硫代硫酸盐、硫脲、噻唑或绕丹宁。优选的硫化合物是硫代硫酸盐或硫脲化合物。硫增感剂的加入量随例如化学熟化时的pH和温度、卤化银的粒径等各种条件变化，并优选为10-7-10-2mol/mol卤化银，更优选10-5-10-3mol。
作为硒增感中使用的硒增感剂，可以使用已知的硒化合物。通常通过加入不稳定的和/或非不稳定的硒化合物并在40℃以上的高温下搅拌乳状液一定时间来进行硒增感。作为不稳定的硒化合物，可以使用在JP-B-44-15748、JP-B-43-13489、JP-A-4-109240和JP-A-4-324855中记载的那些。特别优选的是使用JP-A-4-324855中的通式(VIII)和(IX)所代表的化合物。
在碲增感中使用的碲增感剂是能够在卤化银颗粒表面或内部产生碲化银的化合物，猜想碲化银构成增感核。卤化银乳状液中的碲化银产生速度可通过在JP-A-5-313284中记载的方法测试。所述化合物的具体例子包括在USP No.1,623,499、同上No.3,320,069、同上No.3,772,031、英国专利No.235,211、同上No.1,121,496、同上No.1,295,462、同上No.1,396,696、加拿大专利No.800,958、JP-A-4-204640、JP-A-4-271341、JP-A-4-333043、JP-A-5-303157、JChem.Soc.Chem.Commun.，635(1980)、同上1102(1979)、同上645(1979)、J.Chem Soc.Perkin.Trans.，1，2191(1980)、S.Patai、TheChemistry of Organic Selenium and Tellurium Compounds，Vol.1(1986)和同上Vol.2(1987)中记载的那些。其中，JP-A-5-313284的通式(II)、(III)和(IV)所代表的化合物是优选的。
本发明使用的硒增感剂或碲增感剂的量随所用的卤化银颗粒和化学熟化条件变化。通常，其范围为10-8-10-2mol/mol卤化银，优选10-7-10-3mol。本发明的化学增感的条件没有特别限制，但通常在pH为5-8，pAg为6-11、优选7-10，温度40-95℃，优选45-85℃下进行。
作为贵金属增感剂，可以使用金、铂、钯或铱，其中金增感是特别优选的。金增感中使用的金增感剂的例子包括氯金酸、氯金酸钾、金硫代氰酸钾、硫化金、硫代葡萄糖金(I)和硫代甘露糖金(I)。金增感剂用量约10-7-约10-2mol/mol卤化银。在本发明使用的卤化银乳状液中，在卤化银颗粒形成或物理熟化中可以包括镉盐、亚硫酸盐、铅盐或铊盐。
在本发明中，还可以使用还原增感。作为还原增感剂，可以使用亚锡盐、胺、甲脒亚磺酸或硅烷化合物。卤化银乳状液可以通过在欧洲专利(EP)No.293917中记载的方法含有硫代磺酸化合物。在制备用于本发明的感光材料中使用的卤化银乳状液可以是一种乳状液或两种或多种乳状液的组合(例如，平均粒径、卤素组成、结晶态、化学增感条件或感光度不同的那些)。为获得高对比度，如在JP-A-6-324426中记载的，优选的是在支持体附近处涂布高感光度的乳状液。
<粘结剂>
在乳状液层中，可以使用粘结剂，以均匀分散银盐颗粒并有助于乳状液层和支持体之间的粘合。作为在本发明中的粘结剂，非水溶性聚合物或水溶性聚合物都适用，但水溶性聚合物是优选的。
粘结剂的例子包括明胶、聚乙烯醇(PVA)、聚乙烯基吡咯烷酮(PVP)、多糖如淀粉、纤维素及其衍生物、聚环氧乙烷、多糖、聚乙烯基胺、壳聚糖、聚赖氨酸、聚丙烯酸、聚褐藻酸、聚透明质酸、羧基纤维素等。这些材料根据官能团的离子性能具有中性、阴离子或阳离子性能。
乳状液层中含有的粘结剂的量没有特别限制，可以在发挥分散性和粘合性的范围内适当地选择。
<溶剂>
对形成上述乳状液层中使用的溶剂没有特别限制。例如，可以使用水、有机溶剂(例如醇如甲醇，酮如丙酮，酰胺如甲酰胺，亚砜如二甲基亚砜，酯如乙酸乙酯，或醚)、离子液体或其混合物。
在本发明的乳状液层中，相对于乳状液层中所含的银盐、粘结剂等的总重量，所用溶剂量为30-90重量％，优选50-80重量％。
(2)各个步骤
(2-1)曝光
在本发明中，对在支持体上设置的涂布有含银盐的层的感光材料进行曝光。可以用电磁波射线进行曝光。电磁波射线可以是光，例如可见光或紫外光，或射线如X-射线。可以使用具有波长分布的光源或特定波长的光源进行曝光。
作为光源，在需要时，可以使用在可见光谱区表现出光发射的各种发光物质。例如，红色发光物质、绿色发光物质或蓝色发光物质可以单独使用或以两种或多种的混合物使用。光谱区不限于上述红色、绿色和蓝色区，还可以使用在黄色、橙色、紫色或红外区发光的荧光物质。特别地，经常使用通过混合这些发光物质发白光的阴极射线管。紫外线灯也是优选的，还可以使用水银灯的g-线或i-线。
在本发明中，优选的是使用各种激光束进行曝光。例如，优选通过扫描曝光方法进行本发明的曝光，其中使用气体激光器、发光二极管、半导体激光器、由使用半导体激光器作为激励光源的半导体激光器或固态激光器与非线性光学晶体的组合构成的第二谐波产生器(SHG)的单色高密度光。此外，还可以使用KrF受激准分子激光器、ArF受激准分子激光器或F2激光器。为获得紧凑和便宜的系统，优选的是使用半导体激光器或由半导体激光器或固态激光器与非线性光学晶体的组合构成的第二谐波产生器(SHG)进行曝光。为了设计特别紧凑、便宜、长寿命和高度稳定的装置，最优选的是使用半导体激光器进行曝光。
在使用卤化银的情况中，曝光能量优选为1mJ/cm2或更低，更优选100μJ/cm2或更低，并且更优选50μJ/cm2或更低。
激光器光源的具体例子包括波长430-460nm的蓝色半导体激光器(由Nichia Chemical Co.在48th United Meeting of Applied Physics(2001年3月)发表)；通过具有波导型反转畴(inverted domain)结构的LiNbO3 SHG晶体的半导体激光器(振动波长约1060nm)对光波长变换而得到的约530nm的绿光激光器；波长约685nn的红色半导体激光器(Hitachi型：HL6738MG)；和波长约650nm的红色半导体激光器(Hitachi型：HL6501MG)。
在输送具有包含如上所述的银盐乳状液的乳状液层的支持体(也称作膜)的同时，通过用激光束(也称作光束)扫描曝光可以进行含有银盐层的图案曝光。特别地，优选使用在JP-A-2000-39677中记载的绞盘(capstan)激光器扫描曝光装置。还优选的是使用在JP-A-2000-1244中记载的光束扫描系统中的DMD，代替绞盘系统中多边形镜面旋转下的光束扫描。
关于使用光束的扫描方法，优选使用其中通过使用基本上与输送方向或者旋转多面镜垂直取向的线性光源进行曝光的方法。在此情况下，应该将光束的光强度调制成具有两个或多个值。以连续的点图案化直线。因为是连续的点，所以单点的细线具有阶梯式的边缘。细线的厚度相应于最窄部分的宽度。
作为另一种光扫描方法，还优选扫描适合网格图案的倾斜的与输送方向倾斜的光束。在此情况下，优选使两个扫描光束正交，从而曝光面上光束的光强度基本上变为1。
(2-2)显影处理
在本发明中，在乳状液层曝光后进行显影处理。可以使用在显影卤化银照相薄膜或纸、平版印刷薄膜、光掩模用的乳状液掩模等中常用的技术进行显影处理。显影溶液没有特别限制，可以使用PQ显影剂、MQ显影剂或MAA显影剂。还可以使用市售产品，例如，显影溶液或试剂盒中的显影溶液，如Fuji Film Co.制造的CN-16、CR-56、CP45X、FD-3或Papitol，或者Eastman Kodak Co.制造的C-41、E-6、RA-4、D-19或D-72。还可以使用平版印刷显影溶液。作为平版印刷显影溶液，可以使用例如由Eastman Kodak Co.制造的D85。在本发明中，通过如上所述的曝光和显影过程，在曝光区形成金属银部分，优选图案化的金属银部分，而在未曝光区中形成后述的透光部分。
作为本发明制造方法中的显影溶液，可以使用二羟基苯类的显影剂作为显影溶液。二羟基苯显影剂的例子包括对苯二酚、氯对苯二酚、异丙基对苯二酚、甲基对苯二酚和对苯二酚单磺酸盐，其中对苯二酚是特别优选的。作为对上述二羟基苯显影剂表现出超叠加性的辅助显影剂，可以使用1-苯基-3-吡唑啉酮和对氨基苯酚。作为本发明制造方法中使用的显影溶液，可以优选使用二羟基苯显影剂与1-苯基-3-吡唑啉酮的组合或二羟基苯显影剂与对氨基苯酚的组合。
可以与作为辅助显影剂的1-苯基-3-吡唑啉酮或其衍生物组合的显影剂的例子包括1-苯基-3-吡唑啉酮、1-苯基-4，4-二甲基-3-吡唑啉酮、1-苯基-4-甲基-4-羟基甲基-3-吡唑啉酮等。
对氨基苯酚类辅助显影剂的例子包括N-甲基-对氨基苯酚、对氨基苯酚、N-(β-羟基乙基)-对氨基苯酚、N-(4-羟基苯基)甘氨酸等，其中N-甲基-对氨基苯酚是优选的。二羟基苯显影剂的常用量为0.05-0.8mol/升，但在本发明中优选用量为0.23mol/升或更高，更优选在0.23-0.6mol/升的范围。在使用二羟基苯与1-苯基-3-吡唑啉酮或对氨基苯酚的组合的情况下，优选的是前者用量为0.23-0.6mol/升，更优选0.23-0.5mol/升，后者用量为0.06mol/升或更小，更优选0.03-0.003mol/升。
在本发明中，优选的是显影起始溶液和显影剂补充溶液均具有“在将0.1mol氢氧化钠加到1升溶液的情况下使pH增加0.5或更小”的性能。通过调节待测试的显影起始溶液或显影剂补充溶液其pH值为10.5，然后将0.1mol氢氧化钠加到1升这种溶液中，并测量溶液的pH值，可以确认待使用的显影起始溶液或显影剂补充溶液的这种性能。当pH增加0.5或更小时，溶液被认为具有上述性能。在本发明的制造方法中，优选使用在上述测试中显示pH增加0.4或更小的显影起始溶液和显影剂补充溶液。
为赋予显影起始溶液或显影剂补充溶液上述性能，优选使用利用缓冲液的方法。作为缓冲液，可以使用碳酸盐、在JP-A-62-186259中记载的硼酸、在JP-A-60-93433中记载的糖类(如蔗糖)、肟(如丙酮肟)、苯酚(如5-磺基水杨酸)或三代磷酸盐(如钠盐或钾盐)，优选碳酸盐或硼酸。优选使用量为0.25mol/升或更高，特别优选0.25-1.5mol/升的缓冲液(特别是碳酸盐)。
在本发明中，显影起始溶液优选pH值为9.0-11.0，特别优选9.5-10.7。此外，在连续处理时，显影槽中的显影剂补充溶液和显影溶液的pH值落入此范围。为调节pH，可以使用碱，其是普通的水溶性无机碱金属盐(如氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠或碳酸钾)。
在处理根据本发明制造方法的1m2感光材料时，显影溶液中的显影剂补充溶液的含量为2000ml或更小，优选303-1000ml，特别优选50-600ml。显影剂补充溶液可以与显影起始溶液具有相同的组成。可选择地，关于在显影中消耗的某一成分，其可以具有比显影起始溶液更高的浓度。
用于本发明感光材料显影处理的显影溶液(下面有时将“显影起始溶液”和“显影剂补充溶液”统称作“显影溶液”)可以含有常用添加剂(如稳定剂或螯合剂)。稳定剂的例子包括亚硫酸盐，如亚硫酸钠、亚硫酸钾、亚硫酸锂、亚硫酸铵、亚硫酸氢钠、偏亚硫酸氢钾、甲醛亚硫酸氢钠等。优选使用亚硫酸盐的量为0.20mol/升或更高，更优选0.3mol/升或更高。然而，优选的是其上限为1.2mol/升，因为过量加入会在显影溶液中引起银污。特别优选的范围是0.35-0.7mol/升。还可以使用与亚硫酸盐组合的少量抗坏血酸衍生物，作为二羟基苯显影剂稳定剂。抗坏血酸衍生物的例子包括抗坏血酸、作为其立体异构体的刺桐酸(erysorbic acid)和其碱金属盐(如钠盐或钾盐)。作为抗坏血酸衍生物，从材料成本的观点来看，优选使用刺桐酸钠。优选使用的抗坏血酸衍生物的量与二羟基苯显影剂的摩尔比为0.03-0.12，特别优选0.05-0.10。在使用抗坏血酸衍生物作为稳定剂的情况下，优选的是显影溶液优选不含有硼化合物。
显影溶液中使用的其它添加剂包括显影抑制剂，如溴化钠或溴化钾；有机溶剂，如乙二醇、二乙二醇、三乙二醇或二甲基甲酰胺；显影促进剂，例如，烷醇胺如二乙醇胺或三乙醇胺、咪唑或其衍生物；作为防起雾剂或黑胡椒斑点防止剂的巯基化合物、吲唑化合物、苯并三唑化合物或苯并咪唑化合物。上述苯并咪唑化合物的具体例子包括5-硝基吲唑、5-对硝基苯甲酰基氨基吲唑、1-甲基-5-硝基吲唑、6-硝基吲唑、3-甲基-5-硝基吲唑、5-硝基苯并咪唑、2-异丙基-5-硝基苯并咪唑、5-硝基苯并三唑、4-[(2-巯基-1，3，4-噻二唑-2-基)硫代]丁烷磺酸钠、5-氨基-1，3，4-噻二唑-2-硫醇、甲基苯并三唑、5-甲基苯并三唑、2-巯基苯并三唑等。苯并咪唑化合物通常用量为0.01-10mmol/升显影溶液，更优选0.1-2mmol。
显影溶液还可以含有有机或无机螯合剂。无机螯合剂的例子包括四聚磷酸钠、六偏磷酸钠等。作为有机螯合剂，基本上可以使用有机羧酸、氨基多羧酸、有机膦酸、氨基膦酸或有机膦基羧酸。
上述有机羧酸的例子包括丙烯酸、草酸、丙二酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、琥珀酸、壬二酸、癸二酸、壬烷二羧酸、癸烷二羧酸、十一烷二羧酸、马来酸、衣康酸、苹果酸、柠檬酸、酒石酸等，但本发明不限于此。
上述氨基多羧酸的例子包括亚氨基二乙酸、次氮基三乙酸、次氮基三丙酸、乙二胺单羟基乙基三乙酸、乙二胺四乙酸、乙二醇醚四乙酸、1，2-二氨基丙烷四乙酸、二亚乙基三胺五乙酸、三亚乙基四胺六乙酸、1，3-二氨基-2-丙醇四乙酸、乙二醇醚二胺四乙酸和在JP-A-52-25632、JP-A-55-67747、JP-A-57-102624和JP-B No.53-40900中记载的化合物。
有机膦酸的例子包括在USP No.3，214,454、USP No.3,794,591和GP-A No.2227639中记载的羟基亚烷基二膦酸，或者在ResearchDisclosure，vol.181，项18170(1979年5月)中记载的化合物。
如上所述的氨基膦酸的实例包括氨基三(亚甲基膦酸)、乙二胺四亚甲基膦酸氨基三亚甲基膦酸等等。另外，还可以使用在ResearchDisclosure，第18170号、JP-A-57-208554、JP-A-54-61125、JP-A-55-29883和JP-A-56-97347中公开的化合物。
膦基羧酸的例子包括在JP-A-52-102726、JP-A-53-42730、JP-A-54-121127、JP-A-55-4024、JP-A-55-4025、JP-A-55-126241、JP-A-55-65955、JP-A-55-65956和Research Disclosure No.18170中记载的化合物。螯合剂可以以碱金属盐或铵盐的形式使用。
按每1升显影溶液计，螯合剂优选加入量为1×10-4-1×10-1mol，更优选1×10-3-1×10-2mol。
显影溶液还可以含有在JP-A-56-24347、JP-A-56-46585、JP-B-62-2849和JP-A-4-362942中记载的化合物作为银污防止剂。作为辅助溶剂，还可以使用在JP-A-61-267759中记载的化合物。显影溶液在必要时还可以含有调色剂、表面活性剂、消泡剂、硬化剂等。显影温度和显影时间相互关联，并根据总处理时间决定。然而，通常显影温度优选为约20-约50℃，更优选25-45℃。显影时间优选为5秒-2分钟，更优选7-90秒。
为节约运输成本、包装成本和显影溶液的空间，还优选的实施方案是浓缩显影溶液并在使用之前稀释。为浓缩显影溶液，有效地是使用钾盐作为在显影溶液中所含的盐类。
本发明中的显影处理可以包括用于除去未曝光区中的银盐从而实现稳定化而进行的定影处理。可以使用例如在卤化银照相薄膜或纸、平版印刷薄膜或光掩模用乳状液掩模中常用的定影技术进行本发明中的定影处理。
定影步骤中使用的定影溶液的优选成分如下。
即，优选的是定影溶液含有硫代硫酸钠或硫代硫酸铵，并在需要时含有酒石酸、柠檬酸、葡糖酸、硼酸、亚氨基二乙酸、5-磺基水杨酸、glucoheptanoic酸、钛试剂、乙二胺四乙酸、二乙三胺五乙酸、硝基三乙酸、其盐等。从近年来环境保护的观点来看，优选不含有硼酸。本发明中使用的定影溶液中的定影剂的例子包括硫代硫酸钠、硫代硫酸铵等。从定影速度的观点来看，硫代硫酸铵是优选的。然而，从近年来环境保护的观点来看，还可以使用硫代硫酸钠。尽管这种已知的定影剂的量可以适当地变化，但其通常范围为约0.1-约2mol/升，优选0.2-1.5mol/升。在需要时，定影溶液可以含有硬化剂(如水溶性铝化合物)、稳定剂(如亚硫酸盐或亚硫酸氢盐)、pH缓冲液(如乙酸)、pH调节剂(如氨或硫酸)、螯合剂、表面活性剂、增湿剂、定影促进剂等。
上述表面活性剂的例子包括阴离子表面活性剂，如硫酸盐化合物或磺酸化的化合物，聚乙烯基表面活性剂，或在JP-A-57-6740中记载的两性表面活性剂。此外，定影溶液可以含有公知的消泡剂。
上述增湿剂的例子包括烷醇胺、烷二醇等。作为定影促进剂，还可以使用在JP-B-5-35754、JP-B-58-122535和JP-B-58-122536中记载的硫脲衍生物；在分子中具有三键的醇；在USP No.4,126,459中记载的硫醚化合物；在JP-A-4-229860中记载的介离子(mesoion)化合物；或在JP-A-2-44355中记载的化合物。上述pH缓冲液的例子包括有机酸，如乙酸、苹果酸、琥珀酸、酒石酸、柠檬酸、草酸、马来酸、乙醇酸、或己二酸；和无机缓冲液，如硼酸、磷酸盐或亚硫酸盐。pH缓冲液优选为乙酸、酒石酸或亚硫酸盐。pH缓冲液用于防止被携带显影溶液而在定影溶液中pH增加，优选其量为0.01-1.0mol/升，更优选0.02-0.6mol/升。定影溶液优选其pH值为4.0-6.5，特别优选4.5-6.0。作为染料溶解促进剂，还可以使用在JP-A-64-4739中记载的化合物。
本发明的定影溶液中使用的硬化剂的例子包括水溶性铝盐和铬盐。优选的是硬化剂是水溶性铝盐，如氯化铝、硫酸铝或明矾，优选加入量为0.01-0.2mol/升，更优选0.03-0.08mol/升。
在上述定影步骤中，定影温度优选为约20℃-约50℃，更优选25-45℃，定影时间优选为5秒-1分钟，更优选7-50秒。相对于感光材料的处理量，定影溶液的补充量优选为600ml/m2或更小，更优选500ml/m2或更小，特别优选300ml/m2或更小。
已经进行过显影和定影处理的感光材料优选进行水漂洗处理或稳定化处理。在水漂洗处理或稳定化处理中，对于每m2的感光材料，经常用20升或更少的水进行漂洗，补充量为3升或更少(包括0，即在立式水浴中漂洗)。因此，不仅可以节省水，而且省却在自动处理器中的管道。为降低漂洗水的补充量，已知的有多步(2-或3-步)逆流系统。在本发明的制造方法中使用上述多步逆流系统的情况下，以合适方向顺次处理定影步骤之后的感光材料，即朝着被定影溶液污染更小的处理溶液，从而可以进行更有效的漂洗。此外，在用少量水进行漂洗的情况下，优选提供带有在JP-A-63-18350和JP-A-62-287252中记载的挤压辊或交叉辊的漂洗槽。此外，为了减轻用少量水漂洗造成的污染，可以使用加入各种氧化剂或用过滤器过滤的组合。此外，在所述方法中，来自漂洗浴或稳定化浴的溢流液体或部分所述溢流液体，其由用水补充漂洗浴或稳定化浴产生，并包括防霉装置可以在JP-A-60-235133中记载的预先处理步骤中用作具有定影能力的处理溶液。此外，可以加入水溶性表面活性剂或消泡剂，以防止在用少量水漂洗时产生气泡图案和/或将处理成分从挤压辊转移到处理的薄膜。
此外，在水漂洗处理或稳定化处理中，在JP-A-63-163456中记载的染料吸收剂可以置于漂洗浴中，从而防止从感光材料溶出的染料的污染。此外，在漂洗处理之后的稳定化处理中，含有在JP-A-2-201357、JP-A-2-132435、JP-A-1-102553和JP-A-46-44446中记载的化合物的浴可以用作感光材料的最终浴。在这种情况下，在需要时，可以加入铵化合物、例如Bi或Al等的金属化合物、荧光增白剂、螯合剂、薄膜pH调节剂、硬化剂、杀菌剂、防霉剂、烷醇胺或表面活性剂。漂洗处理或稳定化处理中使用的水可以是自来水，或优选去离子水或用卤素、紫外线杀菌灯或氧化剂(如臭氧、过氧化氢或高氯酸盐)杀菌后的水。还可以使用含有在JP-A-4-39652和JP-A-5-241309中记载的化合物的漂洗水。在水漂洗处理或稳定化处理中，优选的是使用浴温度0-50℃和浴中时间5秒-2分钟。
本发明中使用的处理溶液如显影溶液或定影溶液优选保存在JP-A-61-73147中记载的低氧渗透度的包装材料中。为降低补充量，还优选的是处理槽与空气的接触面积较小，以避免溶液蒸发和大气氧化。辊传送型自动处理器例如记载在USP No.3,025,779和3,545,971中，下面简称作辊传送处理器。辊传送处理器优选包括显影、定影、漂洗和干燥四个步骤。尽管这四个步骤在本发明中最优选使用，但不排除其它步骤(如停止步骤)。此外，这四个步骤中可以使用稳定化步骤代替漂洗步骤。
在每一上述步骤中，显影溶液或定影溶液的成分可通过除去水以固体供应，并可以在使用前溶解在预定量的水中形成显影溶液或定影溶液。这种形式的处理材料被称作固体处理材料。固体处理材料以粉末、片剂、颗粒、块体或糊状物的形式使用。处理材料的优选形式是在JP-A-61-259921中记载的形式或片剂。所述片剂可通过例如在JP-A-51-61837、JP-A-54-155038、JP-A-52-88025和BP No.1,213,808中记载的常用方法制造。颗粒形式的固体处理材料可通过例如在JP-A-2-109042、JP-A-2-109043、JP-A-3-39735和JP-A-3-39739中记载的常用方法制造。粉末形式的处理材料可通过例如在JP-A-54-133332、BP No.725,892和729,862和GP No.3,733,861中记载的常用方法制造。
考虑到溶解度，固体处理材料优选其堆密度为0.5-6.0g/cm3，更优选1.0-5.0g/cm3。
为制备固体处理材料，可以使用以下方法：包括在构成处理材料的物质中，以分层方式提供反应性物质，使得至少两种相互反应性颗粒物质构成被至少一层对反应性物质惰性的物质的中间分隔层分离的层，然后使用能够真空包装的袋作为包装材料，抽空并密封该袋。本说明书中，术语“惰性”指相互接触的物质在包装内的通常状态下不会反应，也不会发生显著的反应。不活性物质可以对两种相互反应性物质是惰性的，或者可以在两种相互反应性物质的预期应用中是惰性的。此外，惰性物质是与两种反应性物质同时使用的物质。例如，在显影溶液中，由于对苯二酚和氢氧化钠直接接触，因此亚硫酸钠等可以用作真空包装中对苯二酚和氢氧化钠之间的分隔层，从而能够长时间保存。此外，对苯二酚等可制成球状，从而减小与氢氧化钠的接触面积，从而改进保存性能并能够以混合物使用。作为真空包装的包装材料，可以使用由惰性塑料薄膜或塑料材料和金属箔的层合物形成的袋。
按曝光之前曝光区中所含的银的重量计，显影处理后曝光区中所含的金属银的重量优选为50重量％或更大，更优选80重量％或更大。优选的是按曝光之前曝光区中所含的银的重量计，曝光区中所含的金属银其量为50重量％或更大，因为在这种情况下可以获得高导电性。
尽管对于本发明显影处理后进行的等级没有特别限制，但优选高于4.0。显影处理后的等级高于4.0可以增加导电金属部分的导电性，同时保持透光部分的高透明度。高于4.0的等级可以通过例如按上述用铑离子或铱离子掺杂实现。
(2-3)物理显影和电镀处理
为了赋予通过曝光和显影处理的金属银部分以导电性，在本发明中优选的是进行物理显影和/或电镀处理，从而使金属银部分带有导电金属颗粒。在本发明中，通过物理显影和电镀处理之一可以将导电金属颗粒负载于金属银部分上。此外，金属银部分上负载有导电金属颗粒还可以通过组合物理显影和电镀处理来实现。已经进行过物理显影和/或电镀处理的金属银部分有时被称作“导电金属部分”。
本发明中使用的术语“物理显影”指用还原剂来还原金属离子如银离子，以在金属或金属化合物的核上沉积金属颗粒。这种物理显影已用在即显B&M薄膜、即显滑膜或制备印刷板中，这些技术也可用在本发明中。
物理显影可以与曝光之后的显影处理同时进行，或在显影处理后单独进行。
在本发明中，电镀处理可以是无电镀(化学还原电镀或置换电镀)或电解电镀。可选择地，可以同时使用无电镀和电解电镀。
接下来，将参考附图详细描述电解电镀处理的优选实施方案。适合进行上述电解电镀处理的电镀设备具有如下结构：其中从围绕有膜的解绕轴(未示出)将已经受过乳状液层的曝光和显影过程的膜连续地供入电解电镀槽中，并且在电镀完成后，围绕缠绕轴(未显示)连续缠绕膜。
图1显示了适合用于如上所述的电解电镀处理中的电解电镀槽。通过如图1中所示的电解电镀槽(10)，可以连续电镀长的膜(16)(如上所述已经经受曝光和显影处理的膜)。箭头表示膜(16)的输送方向。电解电镀槽(10)提供有其中汇集了镀液(15)的镀浴(11)。在镀浴(11)中，平行提供一对阳极板(13)。在阳极板(13)中间布置一对导辊(14)，使其可与阳极板(13)平行旋转。导辊(14)可以垂直移动，从而可以调节膜(16)的电镀处理时间。
在镀浴(11)上方，以各自可旋转的方式提供一对进料辊(阴极)(12a，12b)。在镀浴(11)上方，在出口侧进料辊(12b)下方可旋转地提供排水辊(17)。在该排水辊(17)和进料辊(12b)之间，提供水洗喷雾装置(未显示)以从膜中除去镀液。
借助电线(未显示)将阳极板(13)与电源(未显示)的正接线端连接，而进料辊(12a，12b)与电源(未显示)的负接线端连接。
在电解电镀槽(10)具有例如10×10×10cm至100×200×300cm的尺寸的情况中，优选将入口侧进料辊(12a)与膜(16)的接触面的最下面部分和镀液面间的距离(图1中所示的距离La)调整为0.5-15cm，更优选1-10cm并且更优选1-7cm。还优选将出口侧进料辊(12b)与膜(16)的接触面的最下面部分和镀液面间的距离(图1中所示的距离Lb)调整为0.5-15cm。
接下来，将说明通过使用具备如上所述的电解电镀槽(10)的电镀设备在膜的网状图案上形成铜板的方法。
首先，在镀浴(11)中汇集镀液(15)。作为镀液，可以使用包含30-300g/L五水合硫酸铜和30-300g/L硫酸的溶液。在镀镍的情况中，可以使用包含硫酸镍、氯化镍等的溶液。在镀银的情况中，可以使用包含氰化银等的溶液。镀液还进一步包含添加剂例如表面活性剂、硫化合物或者氮化合物。
膜(16)处于围绕解绕轴(未显示)缠绕的状态。然后，围绕输送辊(未显示)缠绕膜(16)，使得镀层由膜(16)形成的侧面与进料辊(12a，12b)接触。在电解电镀前即刻，膜的表面电阻优选为1-1000Ω/□，更优选5-500Ω/□，并且更优选10-100Ω/□。
向阳极板(13)和进料辊(12a，12b)施加电压并且在与进料辊(12a，12b)接触下输送膜(16)。将膜(16)送入镀浴(11)中，其中膜浸在镀液(15)中以形成铜镀层。当膜穿过排水辊(17)时，擦去粘附至膜(16)的镀液并且回收入镀浴(11)中。在多个电解电镀槽中重复该过程。在最后用水洗涤后，围绕缠绕轴(未显示)缠绕膜。
优选将膜(16)的输送速度设为1-30m/min。更优选膜(16)的输送速度为1-10至30m/min，更优选2-5m/min。
尽管电解电镀槽的数量没有特别限制，但是优选使用2-10个槽，更优选3-6个槽。
施加电压优选在1-100V，更优选2-60V的范围内。在提供两个或更多个电解电镀槽的情况中，优选逐步降低施加到电解电镀槽上的电压。还优选第一个槽内侧中的电流量为1-30A，更优选2-10A。
还优选进料辊(12a，12b)与整个膜表面接触(基于总的接触面积，基本上电学接触的面积比达到80％或更大)。
在如上所述的电解电镀浴中进行电镀处理前，优选进行水洗和酸洗。作为在酸洗中使用的处理溶液，可以使用包含硫酸等的溶液。
在将电磁波屏蔽材料用于显示器的的情况下，由此形成的金属镀层优选具有尽可能小的厚度，以增大显示器视角。在用作导电配线材料的情况下，为获得更高密度，需要薄膜更薄。从这些观点出发，由此电镀的导电金属形成的层优选具有厚度小于9μm，更优选0.1μm或更大但小于5μm，再更优选0.1μm或更大但小于3μm。
在本发明的电镀过程中，还可以在电解电镀前进行无电镀过程。
在进行无电镀的情况中，可以使用公知的无电镀技术，例如已经用于印刷线路板的无电镀技术，优选是无电镀铜。
无电镀铜溶液中包含的化学物质的实例包括硫酸铜或氯化铜，还原剂例如福尔马林或乙醛酸，铜配体例如EDTA或三乙醇胺，以及用于浴稳定和改善电镀薄膜光滑度的添加剂例如聚乙二醇、亚铁氰酸盐或联吡啶。
还优选的是膜上的导电图案甚至在其部分处是连续的(不是电学中断的)。当导电图案被中断时，存在在电镀的电解电镀浴中未被电镀的一些部分变得不平的危险。
可以在温和的电镀速度条件下或在5μm/hr或更高的高电镀速度下进行电镀处理。在电镀处理中，可以使用各种添加剂，如配体，例如EDTA，以改进电镀溶液的稳定性。
(2-4)氧化处理
在本发明中优选的是，对显影处理后的金属银部分和通过物理显影和/或电镀处理形成的导电金属部进行氧化处理。通过进行氧化处理，可以除去最终略微沉积在透光部分中的金属，从而在透光部分中获得约100％的透明度。
可以通过利用各种氧化剂的已知处理进行氧化处理，如用Fe(III)离子处理。如上所述，可以在曝光和显影处理乳状液层之后或在物理显影或电镀处理之后进行氧化处理。还可以在显影处理之后和物理显影或电镀处理之后进行氧化处理。
在本发明中，还可以在曝光和显影处理之后用含有Pd的溶液处理金属银部分。Pd可以是二价钯离子或金属Pd。由于这种处理，可以加速无电镀或物理显影。
(3)导电金属部分
在用作透光电磁波屏蔽材料的情况下，本发明的导电金属部分优选具有通过三角形如等边三角形、等腰三角形或直角三角形，四边形如正方形、矩形、菱形、平行四边形或梯形，正(n)-多边形如正六边形或正八边形，圆，椭圆或星形的组合形成的几何形状，更优选由这些几何形状构成的网状。从EMI屏蔽性能的观点来看，三角形是最有效的，但考虑到可见光透过率，n值较大的正(n)-多边形是有利的，因为对于相同线宽提供了较大的开口率，从而提高了可见光透过率。为最小化波纹，还优选的是提供以随机或非周期性方式改变线宽的几何形状。
在用作导电配线材料的情况下，导电金属部分的形状没有特别限制，可以根据用途选择任意的形状。
在用作透光电磁波屏蔽材料的情况下，导电金属部分中的细线应被调节到1μm或更大但不超过40μm，优选5μm或更大但不超过30μm，最优选10μm或更大但不超过25μm。线间隔优选为50μm或更大但不超过500μm，更优选200μm或更大但不超过400μm，最优选250μm或更大但不超过350μm。为接地等目的，导电金属部分可以具有线宽超过20μm的部分。
在考虑可见光透过率时，本发明的导电金属部分优选其开口率为85％或更高，更优选90％或更高，最优选95％或更高。本说明书中，术语“开口率”指构成网状的细线外部部分在整个面积中所占比率，例如，线宽15μm和间距300μm的正方形格子网其开口率为90％。
(4)透光部分
在此使用的术语“透光部分”指除了透光电磁波屏蔽膜中的导电金属部分之外的具有透明度的部分。如上所述，“透光部分的透过率”指具有在380-780nm波长区内由最小透过率代表的透过率的部分，不包括支持体的吸收和反射的贡献，其透过率为90％或更高，更优选95％或更高，再优选97％或更高，再更优选98％或更高。最优选99％或更高。
本发明中的导电金属部分的网状图案优选地连续3m或更长。具有较大重复数的模式是优选的，因为这样可以减小在制造滤光器材料中的损失。另一方面，重复数增加经常会造成以下问题：例如在卷取成卷时，辊直径增加，辊变重，辊中心的压力升高，造成包括粘合及变形等麻烦。因此，优选的是网状图案的长度不长于2000m，优选100m或更长但不长于1000m，更优选200m或更长但不长于800m，最优选300m或更长但不长于500m。
出于同样原因，支持体的厚度优选为200μm或更小，更优选20μm或更大但不超过180μm，最优选50μm或更大但不超过120μm。
在此使用的表述“由基本上平行的直细线相互交叉构成的图案”指所谓的格子图案，其中构成格子图案的邻近细线平行，或在±2°角度内平行排列。
本发明中优选的是，使网状图案相对于输送方向倾斜角度30°-60°，更优选40°-50°，最优选43°-47°。这是因为具有相对于框架倾斜约45°的网状图案的掩模通常难于制造，并伴随有一些问题，包括出现不均匀性和成本升高。另一方面，在上述方法中，在约45°时不均匀性比较小，因此，与掩模对齐曝光系统的照相平版印刷术或通过丝网印刷图案化相比，本发明具有显著优点。
[透光电磁波屏蔽膜的功能层]
(1)红外线屏蔽层
根据本发明的透光电磁波屏蔽膜具有红外线屏蔽性质(特别是近红外线屏蔽性质)。如上所述，由于等离子体显示器产生强的近红外线，因此滤光器不仅应阻断电磁波，而且应阻断近红外线，从而使实用上没有问题。因此，必须将波长区800-1000nm的透过率调节到25％或更小，优选15％或更小，更优选10％或更小。
作为具体的实施方式，可以例举：(1)在支持体中包含红外线吸收染料；和(2)在形成于支持体上的层中包含红外线吸收染料。
因为可以改善红外线吸收染料的耐用性，实施方式(1)是优选的并且因而可以减少制备透光电磁波屏蔽膜的步骤数。在实施方式(1)中，通过向如上所述的支持体中加入将在下面描述的红外线吸收染料或能够吸收红外线的金属络合物可以制备透光电磁波屏蔽膜。更具体地说，可以例举(I)包括捏合用于支持体的树脂与红外线吸收染料，然后通过热模塑形成支持体的方法；和(II)包括在聚合催化剂存在下与树脂单体或者树脂单体的预聚体一起浇铸聚合红外线吸收染料来形成支持体的方法。
在实施方式(2)中，通过向支持体上涂布涂布组合物可以制备透光电磁波屏蔽膜，所述组合物包含将在下面描述的红外线吸收染料或能够吸收红外线的金属络合物、溶剂、透明树脂等。在此情况下，可以与如上所述的乳状液层的涂布步骤同时或者之后进行涂布。通过与如上所述的乳状液层的涂布步骤同时或者之后进行涂布，可以高效地形成透光电磁波屏蔽膜，从而提高生产率。还可以通过溅射方法形成具有红外线屏蔽性质的层(称作红外线屏蔽层、红外线阻断层或者红外线吸收层)。
形成红外线屏蔽层的涂布方法可以选自浸涂方法、辊涂方法、喷涂方法、凹版涂布方法、模涂布方法等。所述涂布方法可用于连续处理，并因此生产率优于分批型沉积方法。可选地，可以使用旋涂方法，通过该方法可以形成薄且均匀的涂膜。
在实施方式(2)中，在与金属银部分相同侧或者其相对侧中穿过支持体可以形成包含红外线吸收染料的层(红外线阻断层)。还优选向将在下面描述的用于粘合层的组合物中加入红外线吸收染料等，从而赋予粘合层红外线屏蔽性质。
此外，可以形成两层或更多层红外线阻断层。在此情况下，根据在JP-A-2001-14206中第[0039]-[0049]段中描述的方法可以形成两层或更多层红外线阻断层。
为了获得有效的近红外线屏蔽作用，优选红外线屏蔽层的厚度为0.5μm或更大。从在成膜步骤中容易除去残留溶剂并且容易进行成膜过程的角度，优选所述厚度为20μm或更小。特别优选所述厚度在1-10μm的范围内。
(红外线吸收染料)
作为红外线吸收染料，可以使用二亚铵(diimonium)化合物。二亚铵化合物的实例包括由在JP-B-43-25335中描述的通式(2)代表的化合物。作为由所述通式(2)代表的化合物的具体实例，可以引用N，N，N′，N′-四(对二乙氨基苯基)-对苯醌-二亚铵盐等。可以任选地合成并且使用这种化合物。可选地，可以使用市售的化合物。二亚铵化合物在900-1100nm波长的近红外区中具有摩尔吸光系数大约100,000的强吸光度。尽管因为它在400-500nm波长的可见光区中表现出某些吸收而具有淡黄棕色至绿色的透过颜色，但是它在可见光透光率方面优于其它近红外线吸收染料。
作为二亚铵化合物，可以使用由JP-A-2003-75628公开的通式(3)代表的化合物。
尽管二亚铵化合物的含量取决于红外线屏蔽层的厚度，但是为了实现实用的红外线屏蔽性质，其近红外线(波长：900-1000nm)透光率应该调整至20％或更小。在设置红外线屏蔽层的厚度为大约1至大约20μm的厚度的情况中，因此从红外线屏蔽层中化合物的分离(segregation)和可见光透明度的角度，优选控制化合物的总量为每100重量份透明树脂大约0.05至大约5.0重量份。
为了赋予红外线屏蔽层实际可用的耐用性，优选使用如上所述具有190℃或更高熔点的二亚铵化合物。熔点低于190℃的化合物在高温和高湿度下易于变性。通过使用将在下文讨论的具有190℃或更高熔点的化合物并且选择适当的树脂种类，可以建立实际可用的耐用性。
为了控制近红外线(波长：900-1000nm)透光率为20％或以下从而实现实际可用的近红外线吸收性质，优选使用一种或多种近红外线吸收染料作为加到近红外线吸收树脂组合物中的第二种近红外线吸收染料，其各自最大吸收波长为750-900nm并且在可见光区基本上没有吸收，例如最大吸收波长下吸收系数与450nm(蓝色中心波长)、550nm(绿色中心波长)和620nm(红色中心波长)下吸收系数的比例各自是8.0或以上。
吸收系数比例为8.0或更小的任一情况不是优选的。这是因为在这种情况下，在450nm(蓝色中心波长)、550nm(绿色中心波长)和620nm(红色中心波长)下的任一可见光透光率变为65％或更小，相当于在实际需要的800-900nm下的近红外线透光率为20％或更小，并且这种可见光透光率的降低导致透过近红外线吸收层的光着色。另一方面，优选各自吸收系数比例为8.0或更大，从而不会发生上述问题。另外，在此情况下，可以建立68％或更大的可见光透光率，作为还具有将在下面描述的防反射膜层的近红外线屏蔽层合物，这是合适的。
作为在750-900nm下具有最大吸收并且在最大吸收波长下的吸收系数与在450nm(蓝色中心波长)、550nm(绿色中心波长)和620nm(红色中心波长)下的吸收系数的比例各自为8.0或以上的近红外线吸收染料的实例，可以例举二硫醇镍络合物、二氢吲哚鎓(indolium)化合物、酞菁化合物和萘酞菁(naphthalocyanine)化合物。其中，因为一般具有优异的耐用性，可以适当地使用酞菁化合物和萘酞菁化合物。但是，因为后者是更昂贵的而优选使用前者。
近年来，已经建议了许多种在近红外区具有最大吸收的酞菁化合物，它们通过向酞菁骨架中引入共轭π电子体系取代基如苯基或者向其中引入大量给电子取代基如烷氧基来获得。其中，可以适当地使用由在JP-A-2002-138203中描述的通式(3)代表的酞菁化合物，因为其如上所述的吸收系数比例各自为8.0或以上。
还可以使用蒽醌化合物。作为蒽醌化合物，可以使用由在JP-A-2003-75628中描述的通式(1)或(2)代表的化合物。
另外，可以使用酞菁化合物或萘酞菁作为红外线吸收染料。其中，优选使用由在JP-A-2003-222721中描述的通式(1)代表的酞菁化合物或者由在相同文献中通式(2)代表的萘酞菁。
除了如上所述的染料外，可以例举多次甲基化合物、金属络合物、铵化合物、亚铵(imonium)化合物、二亚铵化合物、蒽醌化合物、二硫醇金属络合物、萘醌化合物、吲哚酚化合物、偶氮化合物、三烯丙基甲烷化合物和水溶性染料例如假吲哚菁和oxole巴比妥酸盐染料，但是本发明不限于此。在用于电子装置中吸热射线或者防止噪声的情况中，优选使用最大吸收波长为750-1100nm的近红外线吸收染料。因此，优选使用金属络合物染料、铵染料、酞菁染料、萘酞菁染料或者二亚铵染料。
可以以水溶液而不溶解在有机溶剂中的形式涂布水溶性染料例如假吲哚菁和oxole巴比妥酸盐染料，从减小环境影响并且降低涂料成本的角度这是有利的。
为了有效地建立红外线屏蔽效应，优选使用基于透明树脂用量为0.1重量％或更多，更优选2重量％或更多的红外线吸收染料。为了保持透明树脂的物理性质，还优选调整红外线吸收染料的含量不超过10重量％。
(金属络合物)
作为金属络合物，可以使用如在JP-A-2003-262719中描述的由通式(1)或通式(2)代表的金属络合物。
尽管金属络合物的浓度根据红外线阻断层的厚度、所需吸收强度、所需可见光透光率等而改变，但是通常基于透明树脂的重量为0.1-30％的范围。
(其它染料)
还可以加入一种或多种最大吸收波长落在300-800nm范围内的色彩修正(color correction)染料。作为色彩修正染料的实例，可以例举常用的染料例如无机颜料、有机颜料和有机染料。
作为有机染料，可以使用将在下面描述的其中树脂可溶的酮或酯、或者在芳香溶剂中可溶的脂溶性染料或者有机溶剂可溶的染料。作为有机颜料，可以使用偶氮颜料、酞菁颜料、喹吖啶酮颜料、二噁二烯(dioxadine)颜料等等。
无机颜料的实例包括钴染料、铁染料、铬染料、钛染料、钒染料、锆染料、钼染料、钌染料、铂染料、ITO染料、ATO染料等等。有机颜料和有机染料的实例包括铝染料、菁染料、mellocyanine染料、croconium颜料、squarium染料、azlenium染料、多次甲基染料、萘醌染料、吡喃鎓染料、酞菁染料、萘酞菁染料、萘内酰胺染料、偶氮染料、稠合偶氮染料、靛兰染料、perinone染料、苝染料、二噁二烯染料、喹吖啶酮染料、异吲哚啉酮染料、奎萘酮染料、吡咯染料、硫靛蓝染料、金属络合物染料、二硫醇金属配位物染料、吲哚酚染料、三烯丙基甲烷染料等。在这些染料中，金属络合物染料、铵染料、酞菁染料、萘酞菁染料、吡咯染料等是优选的。
优选将色彩修正染料的量基于透明树脂和所有染料的固体物质总量控制为0.1-10.0重量％的范围。通过使用0.1重量％或更多的色彩修正染料，可以建立足够的修正颜色的能力。通过调整其用量不超过10重量％，可以控制染料间的相互作用并且可以实现有利的染料稳定性。从这些点来看，特别优选控制其用量为1.0-9.0重量％。
(透明树脂)
优选用于红外线阻断层的组合物包含用于形成涂膜的透明树脂。透明树脂的具体实例包括聚乙烯，聚苯乙烯，聚丙烯酸，聚丙烯酸酯，乙烯基化合物如聚乙酸乙烯酯、聚丙烯腈、聚氯乙烯和聚氟乙烯，这些乙烯基化合物的加聚物，聚甲基丙烯酸，聚甲基丙烯酸酯，聚偏氯乙烯，聚偏二氟乙烯，聚偏二氰乙烯，乙烯基化合物或者氟化合物的共聚物例如偏二氟乙烯/三氟乙烯共聚物、偏二氟乙烯/四氟乙烯共聚物和偏二氰乙烯/乙酸乙烯酯共聚物，氟化树脂例如聚三氟乙烯、聚四氟乙烯和聚六氟丙烯，聚酰胺例如尼龙6和尼龙66，聚酰亚胺，聚氨酯，多肽，聚酯例如聚对苯二甲酸乙二醇酯，聚醚例如聚碳酸酯、聚氧化亚甲基，聚环氧乙烷和聚环氧丙烷，环氧树脂，聚乙烯醇，聚乙烯醇缩丁醛等。然而本发明不限制于此并且还优选使用具有可以用作玻璃替代品的高硬度和高透明度的树脂、热固性树脂例如硫代氨基甲酸乙酯树脂、光学树脂例如ARTONTM(由JSR公司制造)、ZEONEXTM(由ZEON公司制造)、OPTOREZTM(由HITACHICHEMICALCo.，Ltd.制造)或者O-PETTM(由KANEBO制造)。
在如上所述的树脂中，优选透明树脂是玻璃化转变温度为70℃或更高的丙烯酸树脂或者甲基丙烯酸树脂。当透明树脂的玻璃化转变温度低于70℃时，树脂在长期暴露于70℃或更高的高温下时软化，同时近红外线屏蔽层中的二亚铵化合物容易变性。结果，不可取地影响它们的长期稳定性，即色平衡损坏或者近红外线屏蔽性质变坏。另一方面，当其玻璃化转变温度为70℃或更高时，可以防止包含染料，特别是二亚铵化合物的近红外线吸收染料的热变性。作为满足这些需求的树脂，可以例举聚酯基树脂、丙烯酸树脂、甲基丙烯酸树脂等。考虑到碱性染料二亚铵化合物的染色性质，可以适当地使用丙烯酸树脂或甲基丙烯酸树脂。
在聚合催化剂存在下聚合树脂单体或者树脂单体的预聚体的情况中，可以在该过程期间模制许多树脂。例如，可以使用树脂单体，如丙烯酸树脂、二甘醇二(烯丙基碳酸酯)树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚苯乙烯树脂、多硫化物或者有机硅树脂。其中，因为可以获得在硬度、耐热性和耐化学性方面优异的丙烯酰基片，所以甲基丙烯酸甲酯的嵌段聚合是优选的。作为聚合催化剂，可以使用自由基热聚合引发剂，例如公知的催化剂如过氧化物，例如过氧化苯甲酰、过氧化对氯苯甲酰、二异丙基过氧碳酸酯、二-2-乙基己基过氧碳酸酯、叔丁基过氧新戊酸酯或者叔丁基过氧(2-乙基己酸酯)或者偶氮化合物例如偶氮二异丁腈。聚合催化剂的用量基于混合物的总量通常为0.01-5重量％。在热聚合中，加热温度通常为40-200℃并且加热时间通常为大约3分钟至大约8小时。除了热聚合外，还可以使用利用光聚合引发剂或者增感剂的光聚合方法。
[溶剂]
通过公知的方法在其中可以溶解或者分散这些组分的溶剂中溶解或者分散如上所述的红外线吸收染料、透明树脂等可以获得用于红外线屏蔽层的组合物。所述溶剂的实例包括甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮、丙酮、乙腈、二氯甲烷、二甲基甲酰胺、乙酸丁酯、甲苯等。可以适当地使用它们中任一种或者它们的混合物。
在以水溶液而不是溶解在有机溶剂中的形式涂布水溶性染料例如假吲哚菁或oxole巴比妥酸盐染料的情况中，可以与水溶性聚合物例如明胶或聚乙烯醇一起施用包含这些水溶性染料的水溶液。
(2)粘合层
在集成进滤光器、液晶显示面板、等离子体显示面板、其它图像显示Glat板、CCD等所代表的摄像用半导体集成电路的情况下，优选的是通过粘合层粘合本发明的电磁波屏蔽膜。
在本发明中，优选的是使用折射率1.40-1.70的粘合剂。这是因为通过使本发明中使用的粘合剂和透明基材如塑料薄膜之间的折射率差最小可以防止可见光透过率降低。只要折射率在1.40-1.70的范围内，可见光透过率几乎不下降，因此可以得到良好结果。
优选使用通过加热或加压可流动的粘合剂。特别优选当加热到200℃或更低或在1kgf/cm2或更大下加压时表现出流动性的粘合剂。通过使用这种粘合剂，可以使粘合层可流动，从而使具有透光电磁波屏蔽性质的膜粘合到被粘物如显示器或塑料板上。由于可以流动，粘合层能够通过层合、加压成形容易地使具有透光电磁波屏蔽性质的膜与被粘物粘合，特别地，加压成形甚至能与具有曲面或复杂形状的被粘物粘合。为此，优选的是粘合剂的软化点为200℃或更低。由于具有透光电磁波屏蔽性质的膜经常用在温度低于80℃的环境下，因此优选的是粘合剂的软化点为80℃或更高，考虑到加工性最优选80-120℃。术语“软化点”指粘度变为1012P或更低的温度。在此温度下，物质的粘度降低至1012P(1013Pas或更低)。在该温度下，物质通常在约1至约10秒内变得可以流动。
下面列出上述通过加热或加压变得可以流动的包括热塑性树脂的粘合剂的代表例子。即，可以使用天然橡胶(折射率n＝1.52)、聚异戊二烯(n＝1.521)、聚-1，2-丁二烯(n＝1.50)、聚异丁烯(n＝1.505-1.51)、聚丁烯(n＝1.513)，二烯，如聚-2-庚基-1，3-丁二烯(n＝1.50)、聚-2-叔丁基-1，3-丁二烯(n＝1.506)和聚-1，3-丁二烯(n＝1.515)，聚氧乙烯(n＝1.456)、聚氧丙烯(n＝1.450)，聚醚，如聚乙烯基乙基醚(n＝1.454)、聚乙烯基己基醚(n＝1.459)和聚乙烯基丁基醚(n＝1.456)，聚酯，如聚乙酸乙烯酯(n＝1.467)和聚丙酸乙烯酯(n＝1.467)、聚氨酯(n＝1.5-1.6)，乙基纤维素(n＝1.479)、聚氯乙烯(n＝1.54-1.55)、聚丙烯腈(n＝1.52)、聚甲基丙烯腈(n＝1.52)、聚砜(n＝1.633)、聚硫化物(n＝1.6)、苯氧基树脂(n＝1.5-1.6)，聚(甲基)丙烯酸酯，如聚丙烯酸乙酯(n＝1.469)、聚丙烯酸丁酯(n＝1.466)、聚丙烯酸2-乙基己基酯(n＝1.463)、聚丙烯酸叔丁酯(n＝1.464)、聚丙烯酸3-乙氧基丙基酯(n＝1.465)、聚氧羰基四亚甲基(polyoxycarbonyl tetramethylene)(n＝1.465)、聚丙烯酸甲酯(n＝1.472-1.480)、聚甲基丙烯酸异丙酯(n＝1.473)、聚甲基丙烯酸十二烷酯(n＝1.474)、聚甲基丙烯酸十四烷酯(n＝1.475)、聚甲基丙烯酸正丙酯(n＝1.484)、聚甲基丙烯酸3，3，5-三甲基环己酯(n＝1.484)、聚甲基丙烯酸乙酯(n＝1.485)、聚甲基丙烯酸2-硝基-2-甲基丙酯(n＝1.487)、聚甲基丙烯酸1，1-二乙基丙酯(n＝1.489)和聚甲基丙烯酸甲酯(n＝1.489)。在需要时，可以共聚这些丙烯酰基聚合物中的两种或多种。还可以使用其两种或多种的共混物。
作为通过共聚丙烯酸酯树脂与丙烯酸酯树脂之外的树脂得到的树脂，还可以使用环氧丙烯酸酯(n＝1.48-1.60)、氨基甲酸酯丙烯酸酯(n＝1.5-1.6)、聚醚丙烯酸酯(n＝1.48-1.49)、聚酯丙烯酸酯(n＝1.48-1.54)等。从粘合性的观点来看，氨基甲酸酯丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯和聚醚丙烯酸酯极为优异。环氧丙烯酸酯的例子包括1，6-己二醇二缩水甘油基醚、新戊二醇二缩水甘油基醚、烯丙醇二缩水甘油基醚、间苯二酚二缩水甘油基醚、二缩水甘油基己二酸酯、二缩水甘油基邻苯二甲酸酯、聚乙二醇二缩水甘油基醚、三羟甲基丙烷三缩水甘油基醚、甘油三缩水甘油基醚、季戊四醇四缩水甘油基醚、山梨糖醇四缩水甘油基醚等的(甲基)丙烯酸加成物。在分子中具有羟基的聚合物如环氧丙烯酸酯对于改进粘合性有效。在需要时，这些共聚物树脂的两种或多种可以一起使用。从处理性能的观点来看，用作粘合剂的聚合物的软化点适当地为200℃或更低，优选150℃或更低。由于电磁波屏蔽粘合剂膜经常用在温度低于80℃的环境下，因此考虑到加工性最优选的是粘合剂的软化点为80-120℃。另一方面，优选使用重均分子量为500或更大的聚合物(使用聚苯乙烯作为标准，使用通过明胶渗透色谱得到的校准曲线测量的值；以下相同)。分子量小于500的聚合物仅能使粘合剂组合物具有不充分的粘合力，这可能会降低对被粘物的粘合性。在需要时，本发明使用的粘合剂可以含有添加剂，如稀释剂、增塑剂、抗氧化剂、填料、着色剂、紫外线吸收剂或增粘剂。粘合层的厚度优选为约5至约50μm，特别优选为约1至约20μm。
优选的是将涂布几何图案的粘合剂和透明塑料基材之间的折射率差调节为0.14或更小。在透明塑料基材通过粘合层在导电材料上层合的情况下，粘合层和涂布几何图案的粘合剂之间的折射率差被调节为0.14或更小。这是因为，当透明塑料基材和粘合层的折射率或粘合剂和粘合层的折射率有很大不同时，可见光透过率降低。只要折射率差为0.14或更小，可见光透过率几乎不下降，因此可以得到良好结果。在使用聚对苯二甲酸乙二醇酯(折射率n＝1.575)作为透明塑料基材的情况下，作为满足上述要求的粘合剂材料，可以使用环氧树脂(折射率：1.55-1.60)，如双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、四羟基苯基甲烷型环氧树脂、酚醛环氧树脂、间苯二酚型环氧树脂、多元醇聚二醇型环氧树脂、聚烯烃型环氧树脂、脂环族或卤代双酚等。环氧树脂之外的例子包括天然橡胶(n＝1.52)、聚异戊二烯(n＝1.521)、聚-1，2-丁二烯(n＝1.50)、聚异丁烯(n＝1.505-1.51)、聚丁烯(n＝1.5125)，二烯，如聚-2-庚基-1，3-丁二烯(n＝1.50)、聚-2-叔丁基-1，3-丁二烯(n＝1.506)和聚-1，3-丁二烯(n＝1.5 1 5)、聚氧乙烯(n＝1.4563)、聚氧丙烯(n＝1.495)，聚醚，如聚乙烯基乙基醚(n＝1.454)、聚乙烯基己基醚(n＝1.4591)和聚乙烯基丁基醚(n＝1.4563)，聚酯，如聚乙酸乙烯酯(n＝1.4665)和聚丙酸乙烯酯(n＝1.4665)、聚氨酯(n＝1.5-1.6)，乙基纤维素(n＝1.479)、聚氯乙烯(n＝1.54-1.55)、聚丙烯腈(n＝1.52)、聚甲基丙烯腈(n＝1.52)、聚砜(n＝1.633)、聚硫化物(n＝1.6)、苯氧基树脂(n＝1.5-1.6)等。这种材料可以显示适当的可见光透过率。
在使用丙烯酸酯树脂作为透明塑料基材的情况下，除了上述树脂之外，可以使用聚(甲基)丙烯酸酯，如聚丙烯酸酯乙酯(n＝1.4685)、聚丙烯酸丁酯(n＝1.466)、聚丙烯酸2-乙基己基酯(n＝1.463)、聚丙烯酸叔丁酯(n＝1.4638)、聚丙烯酸3-乙氧基丙基酯(n＝1.465)、聚氧羰基四甲基丙烯酸酯(n＝1.465)、聚丙烯酸甲酯(n＝1.472-1.480)、聚甲基丙烯酸异丙酯(n＝1.4728)、聚甲基丙烯酸十二烷酯(n＝1.474)、聚甲基丙烯酸十四烷酯(n＝1.4746)、聚甲基丙烯酸正丙酯(n＝1.484)、聚甲基丙烯酸3，3，5-三甲基环己酯(n＝1.484)、聚甲基丙烯酸乙酯(n＝1.485)、聚甲基丙烯酸2-硝基-2-甲基丙酯(n＝1.4868)、聚甲基丙烯酸四羰基酯(n＝1.4889)、聚甲基丙烯酸1，1-二乙基丙酯(n＝1.4889)和聚甲基丙烯酸甲酯(n＝1.489)。在需要时，可以共聚这些丙烯酰基聚合物中的两种或多种。还可以使用两种或多种的共混物。
作为通过共聚丙烯酸酯树脂与丙烯酸酯树脂之外的树脂得到的树脂，还可以使用环氧丙烯酸酯、氨基甲酸酯丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯等。从粘合性的观点来看，环氧丙烯酸酯和聚醚丙烯酸酯极为优异。环氧丙烯酸酯的例子包括1，6-己二醇二缩水甘油基醚、新戊二醇二缩水甘油基醚、烯丙醇二缩水甘油基醚、间苯二酚二缩水甘油基醚、二缩水甘油基己二酸酯、二缩水甘油基邻苯二甲酸酯、聚乙二醇二缩水甘油基醚、三羟甲基丙烷三缩水甘油基醚、甘油三缩水甘油基醚、季戊四醇四缩水甘油基醚、山梨糖醇四缩水甘油基醚等的(甲基)丙烯酸加成物。由于在分子中具有羟基，因此环氧丙烯酸酯对于改进粘合性有效。在需要时，这些共聚物树脂的两种或多种可以一起使用。作为粘合剂的主要成分，可以使用重均分子量为1,000或更大的聚合物。当分子量小于1,000时，粘合剂仅具有不充分的粘合力，这会降低对被粘物的粘合性。
作为粘合剂的硬化剂，可以使用胺，如三亚乙基四胺、二甲苯二胺和二氨基二苯基甲烷，酸酐，如邻苯二甲酸酐、马来酸酐、十二烷基琥珀酸酐、均四苯酸酐和二苯甲酮四羧酸酐，二氨基二苯基砜、三(二甲基氨基甲基)苯酚、聚酰胺树脂，二氰基二酰胺，乙基甲基咪唑等。可以使用这些硬化剂中的一种或两种或多种的混合物。按100重量份上述聚合物，交联剂的量为0.1-50重量份，优选1-30重量份。当硬化剂加入量小于0.1重量份时，硬化不充分。另一方面，当其量超过50重量份时，会造成过度交联，有时对粘合性有不利影响。在需要时，用作本发明粘合剂的树脂组合物可以含有添加剂，如稀释剂、增塑剂、抗氧化剂、填料或增粘剂。涂布这种用作粘合剂的树脂组合物，使得完全或部分地涂布构成基材，所述基材具有用导电材料在透明塑料基材表面上绘制的几何图案。蒸发掉溶剂并加热硬化之后，得到本发明的粘合薄膜。这样得到的粘合薄膜具有电磁波屏蔽性能和透明度，并且由于粘合薄膜中所含的粘合剂，被直接粘合到CRT、PDP、液晶或EL显示器上。可选择地，其被粘合到板或片如丙烯酸酯树脂板或玻璃板，然后用于显示器中。还可以在用于观察产生电磁波的测量装置、测量仪器或制造装置的内部或壳体的孔中以上述相同方式使用这种粘合薄膜。此外，还可以用在具有被电波塔或高压线的电磁干扰危险的建筑物窗户、汽车窗户等中。优选的是用导电材料绘制的几何图案具有接地线。
已经除去导电材料的透明塑料基材表面的一部分，故意形成峰和谷，或者将导电材料的背面图案转移到其上。因此，表面上的光散射使透明度减小。通过用折射率接近透明塑料基材的树脂平滑地涂布具有峰和谷的面，从而使不规则反射最小并表现出透明度，可以克服此问题。由于线宽极小，因此用导电材料在透明塑料基材上绘制的几何图案用肉眼不能看到。此外，间隔足够大，这看似有助于表现出明显透明度。另一方面，几何图案的间隔比被阻断的电磁波的波长小很多，这也看似有助于表现出透明度。
如JP-A-2003-188576所示，在将由具有高热熔性乙烯-乙酸乙烯酯共聚物树脂或高热熔性树脂如离聚物树脂的薄膜单独地或与另一种树脂的层合物构成的透明塑料基材层合在金属箔上的情况下，可以在没有形成粘合层的情况下进行层合。然而，常用的是，使用粘合层等的干燥层合方法进行层合。构成粘合层的粘合剂的例子包括含有丙烯酸酯树脂、聚酯树脂、聚氨酯树脂、聚乙烯醇树脂、氯乙烯/乙酸乙烯酯共聚物树脂、乙烯/乙酸乙烯酯共聚物树脂等的粘合剂。此外，可以使用热固性树脂或电离射线-硬化树脂(紫外线硬化树脂，电子束-硬化树脂等)。
由于显示器通常具有玻璃表面，因而使用压敏粘合剂将透明塑料薄膜粘合到玻璃板上。因此，产生各种问题，如粘合面起泡或发生剥离，并使得图像变形或由待显示的固有颜色发生色变。起泡和剥离问题均由压敏粘合剂从塑料薄膜或玻璃板的剥离引起。这种现象可能出现在塑料薄膜侧和玻璃板侧。即出现在粘合力较小的一侧。因此，压敏粘合剂在高温下应对塑料薄膜和玻璃板均具有较大的粘合力。更具体而言，优选的是压敏粘合剂在80℃下对塑料薄膜和玻璃板的粘合力均为10g/cm或更大，更优选30g/cm或更大。然而，有时不需要使用粘合力超过2000g/cm的压敏粘合剂，因为在这种情况下粘合过程变得繁杂，尽管在没有上述麻烦的情况下可以没有任何问题地使用这种压敏粘合剂。还可以提供在没有面对透明塑料薄膜一侧具有纸张(隔板)的压敏粘合剂部分，从而防止与其它部分不必需的接触。
优选使用透明压敏粘合剂。更具体而言，压敏粘合剂的总透光率优选为70％或更高，更优选80％或更高，最优选85-92％。还优选的是压敏粘合剂具有低雾度。更具体而言，压敏粘合剂的雾度优选为0-3％，更优选0-1.5％。为防止从待显示的固有颜色发生色变，优选的是本发明使用的压敏粘合剂是无色的。然而，具有较小厚度的压敏粘合剂基本上被认作基本上是无色的，尽管树脂本身是有颜色的。此外，后述故意着色的情况不在此范围内。
具有上述特性的压敏粘合剂的例子包括丙烯酰基-基树脂、α-烯烃树脂、乙酸乙烯酯-基树脂、丙烯酸酯共聚物-基树脂、氨基甲酸酯-基树脂、环氧-基树脂、偏二氯乙烯-基树脂、乙烯-乙酸乙烯酯-基树脂、聚酰胺-基树脂、聚酯-基树脂等。其中，丙烯酰基-基树脂是优选的。即使在使用一种树脂的情况下，通过例如降低在用聚合方法合成压敏粘合剂中交联剂的加入量、加入增粘成分或改性分子的端基，也可以改进压敏粘合性。此外，即使在使用一种压敏粘合剂的情况下，通过例如表面改性透明塑料薄膜或玻璃板与压敏粘合剂粘合的面也可以改进粘合性。表面改性方法的例子包括物理过程，如电晕放电和等离子体辉光处理，以及形成用于改进粘合性的底涂层。
从透明度、无色性和处理性能的观点来看，优选的是压敏粘合剂层的厚度为约5-约50μm。在使用粘合剂形成压敏粘合剂层的情况下，厚度可以在上述范围内减小，更具体而言，为约1-约20μm。然而，在使显示颜色本身没有变化并且获得上述范围内的透明度的情况下，层厚度可以超出上述上限。
(3)包含无机氧化物的抗静电剂
优选的是包含红外线吸收染料的层或者与其接触的层包含含有无机氧化物的抗静电剂。这是因为由此可以防止由于静电导致通过显影处理无意形成金属银部分。
作为无机氧化物，导电金属氧化物是优选的。
作为导电金属氧化物颗粒，针形颗粒是优选的。优选使用长轴与短轴的比例(长轴/短轴)为3-50，特别优选10-50的针形颗粒。优选这些针形颗粒的短轴落在0.001-0.1μm，特别是0.01-0.02μm的范围内。还优选其长轴落在0.1-5.0μm，特别是0.1-2.0μm的范围内。
如上所述的导电金属氧化物颗粒的材料的实例包括ZnO、TiO2、SnO2、Al2O3、In2O3、MgO、BaO和MoO3、它们的复合氧化物以及与杂原子一起包含这些金属氧化物的金属氧化物。作为金属氧化物，SnO2、ZnO、Al2O3、TiO2、In2O3和MgO是优选的，SnO2、ZnO、In2O3和TiO2是更优选并且SnO2是特别优选的。作为包含少量杂原子的金属氧化物的实例，可以例举Al-或In-掺杂的ZnO、Nb-或Ta-掺杂的TiO2、Sn-掺杂的In2O3和Sb-、Nb-或卤素掺杂的SnO2，各自具有0.01-30摩尔％(优选0.1-10摩尔％)的杂原子。当杂原子的加入量小于0.01摩尔％时，不能赋予复合金属氧化物充分的导电性。当其量超过30摩尔％时，颗粒的黑化程度提高并且抗静电层(包含抗静电剂的层)变黑，这不适合作为银盐感光材料。因此，在本发明中优选使用包含少量杂原子的金属氧化物或复合金属氧化物作为导电金属氧化物颗粒的材料。另外，在其晶体结构中具有氧缺陷的金属氧化物是优选的。作为包含少量杂原子的导电金属氧化物颗粒，优选锑掺杂的SnO2颗粒并且特别优选用0.2-2.0摩尔％锑掺杂的SnO2颗粒。为了形成具有高的透明度和有利的导电性的抗静电层，在本发明中有利地是使用具有如上所述的短轴长度和长轴长度的金属氧化物(例如锑掺杂的SnO2)颗粒。因此，可以容易地获得具有雾度为3％或更小且表面层的表面电阻率为8×106至6×108Ω的不太有静电的支持体的银盐感光材料。
使用短和长轴尺寸如上面指定的针形金属氧化物(例如锑掺杂的SnO2)颗粒有利地形成具有高透明度和有利的导电性的抗静电层的原因似乎如下。在抗静电层中，这些针形金属氧化物颗粒以与抗静电层表面平行的长轴方向伸展，而这些颗粒在厚度方向上仅占据相应于短轴直径的空间。因为如上所述沿着长轴方向伸展，这些针形金属氧化物颗粒以比通常使用的球形颗粒更高的频率彼此接触。因此，甚至以少量也能实现高的电导率。因此，可以在不损害透明度下降低表面电阻率。在如上所述的针形金属氧化物颗粒中，短轴直径通常小于或者几乎与抗静电层的厚度相同。因此，这些颗粒很少在表面上突出。如果存在突出的情况，突出是非常小的并因此几乎被在抗静电层上面形成的表面层完全覆盖。结果是带来另一个优点：在输送用于银盐感光材料支持体的过程中或者在输送用于曝光或显影的感光材料的过程中很少发生起灰(即层中突出物脱落)。在球形颗粒的情况中，银盐感光材料的的表面电阻率在显影处理之前和之后改变较大。与此相反，在使用如上所述的针形金属氧化物颗粒的情况中，观察到极端变化。因此，可以说很大地改善了显影处理后的输运性质。这似乎是因为在球形颗粒中，由于显影处理导致的膜的膨胀或收缩更大程度地改变了取向并因此颗粒间的接触面积变得小于针形颗粒中的面积。
优选以与用来分散并且保持导电金属氧化物颗粒的粘结剂的混合物的形式涂布用于本发明中的抗静电剂。作为粘结剂的材料，可以使用各种聚合物例如丙烯酸树脂、乙烯基树脂、聚氨酯树脂和聚酯树脂。从防止起灰的角度，优选所述粘结剂是包含聚合物(优选丙烯酸聚合物、乙烯基聚合物、聚氨酯聚合物或者聚酯聚合物)和碳二亚胺化合物的硬化产品。从维持有利的工作环境并防止空气污染的角度，在本发明中优选所述聚合物和碳二亚胺化合物都是水溶性的或者以分散在水中的状态，如乳状液使用。为了能够与碳二亚胺化合物交联，聚合物具有羟甲基、羟基、羧基和氨基。其中，羟基和羧基是优选的并且羧基是特别优选的。聚合物中包含的羟基或羧基的量优选为0.0001至1eq./kg，特别优选0.001至1eq./kg。
抗静电层中包含的无机氧化物的量优选为1-95重量％，更优选5-85重量％，并且更优选10-70重量％。
(4)可剥离的保护薄膜
本发明的透光电磁波屏蔽膜可以提供有保护薄膜。
这种保护薄膜不总是提供在电磁波屏蔽膜(透光电磁波屏蔽膜)的两面上。也即还可以将保护薄膜仅设在网状导电金属部分上，而不设在透明基膜侧(即，相应于在此提及的“透明支持体”)。还可以将保护薄膜仅提供在透明基膜侧，而不设在导电金属部上。
当用于如上所述的滤光器、液晶显示面板、等离子体显示面板等中时，借助粘合层粘结电磁波屏蔽膜。因此，应该在层合步骤中剥离如上所述的保护薄膜。因此，优选以所谓可剥离的方式在电磁波屏蔽膜上层合保护薄膜。
保护薄膜的剥离强度优选为5mN/25mm宽度至5N/25mm宽度，更优选10mN/25mm宽度至100mN/25mm宽度。剥离强度低于上述下限是不希望的，因为剥离太易于发生，因此，在这种情况下在处理中或由于非故意接触可能会剥离保护薄膜。此外，剥离强度超过上述上限是不希望的，因为需要较大的力进行剥离，在这种情况下在剥离时会使网状导电金属部分与透明基膜(或粘合层)分离。
优选的是在透明基膜侧层合的保护薄膜能耐受显影和电镀条件。即优选的是保护薄膜在这些处理后不会剥离也不会污染。
为了满足上述要求，作为构成保护薄膜的薄膜，优选使用由聚烯烃树脂如聚乙烯树脂或聚丙烯树脂、聚酯树脂如聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂、聚碳酸酯树脂、丙烯酸酯树脂等构成的树脂薄膜。从上述观点来看，还优选的是，当用于层合物时，用作最外面的保护薄膜的至少一面已经经受了电晕放电处理，或已在其上形成粘合促进层。
作为构成保护薄膜的压敏粘合剂，可以使用丙烯酸酯-基、橡胶-基或聚硅氧烷-基压敏粘合剂。
保护薄膜和压敏粘合剂用的薄膜材料也适用于在导电金属层侧应用的保护薄膜。因此，作为这些保护薄膜，可以使用不同的薄膜或相同的薄膜。
(5)黑化层
根据本发明的透光电磁波屏蔽膜可以经受黑化处理。
黑化处理例如由JP-A-2003-188576公开。由所述黑化处理形成的黑化层可以赋予防锈作用和防反射性质。例如可通过Co-Cu合金电镀形成的黑化层可以抑制金属箔表面上的反射。此外，可以在其上进行铬酸盐处理作为防锈处理。通过在含有铬酸盐或重铬酸盐作为主要成分的溶液中浸渍层合物、干燥以形成防锈涂膜而进行铬酸盐处理。在需要时，可以在金属箔的一面或两面上进行铬酸盐处理。通过电镀方法可以形成黑化层，从而获得黑色涂膜。例如，通过使用镍(Ni)、锌(zn)或锡(Sn)的化合物可以形成该层。可选择地，通过使用可电沉积的离子性聚合物材料例如可电沉积的涂布材料可以形成该层。
作为包含如上所述的黑化材料的电解质浴(黑色镀浴)，在本发明中可以使用含有硫酸镍作为主要成分的黑色电镀浴。此外，可以使用市售黑色电镀浴。在此使用的具体例子包括Shimizu Co.，Ltd.制造的黑色电镀浴(NOBUROI SNCTM，Sn-Ni合金基)，NIHON KAGAKUSANGYO Co.，Ltd.制造的黑色电镀浴(NIKKA BLACKTM，Sn-Ni合金基)，KINZOKU KAGAKU KOGYO K.K.制造的黑色电镀浴(EBONY CHROMTM 85SERIES，Cr基)等。
在如此形成电沉积的金属层的情况中，可以使用本领域常用的金属电解质技术。因为有多种廉价金属电解质，有利的是可以自由选择适于目的的金属电解质。
在例如电解电镀金属是Cu的情况中，通过用硫化氢(H2S)溶液表面处理可以使Cu表面黑化。
在本发明中，通过使用硫化物-基化合物可以容易地制备黑化剂。可选择地，有多种可商购的处理剂例如COPPER BLACKTM CuO，COPPER BLACKTM CuS，硒-基COPPER BLACK No.65等(由ISOLATE KAGAKU KENKYUSHO 生产)和 EBONOL CSPECIALTM(由MELTEX Inc.生产)也可以用于本发明。
(6)其它功能层
在本发明中，如果需要还可以单独形成具有各种功能的功能层。根据目的所述功能层可以具有各种性能。例如，通过控制折射率和膜厚可以给用于显示器的电磁波屏蔽材料提供具有防反射功能的防反射层，非眩光层或者防眩层(两者均具有防眩的功能)，在有限波长区域内能够吸收可见光的色调控制层，具有容易除去指纹等污染的功能的防污层，防止磨痕的硬涂层，能够吸收重击的层，能够在破裂时防止玻璃片散落的层等。这些功能层可以在穿过支持体的含银盐层的相对面上形成或者可以在相同面上形成。
这些功能层可以与PDP直接粘结。可选择地，可以将这些层粘结到与等离子体显示面板主体分离的透明支持体例如玻璃板或丙烯酸树脂板上。将如此构成的功能膜称作光学滤光器(或者仅称作滤光器)。
(防反射和防眩性质)
优选的是透光电磁波屏蔽膜具有防止外部光反射的防反射(AR性质、防止镜面反射的防眩(AG)性质或者赋予其的满足两种需求的防反射且防眩(ARAG)性质。
归因于这些性能，可以克服由照明设备的反射等引起的外来图像干扰显示屏的观测的问题。通过降低膜表面的可见光反射率，不仅可以防止外部光反射而且可以提高对比度等。在向透光电磁波屏蔽膜粘合防反射/防眩功能膜的情况中，可见光折射率优选为2％或更小，更优选1.3％或更小并且更优选0.8％或更小。
如上所述的功能膜可以通过在适当的透明基底上提供防反射/防眩功能层而形成。
防反射层可以如下制备：通过形成由透明氟聚合物树脂、氟化镁、聚硅氧烷-基树脂或氧化硅构成的薄膜以例如1/4波长光学薄膜厚度的单层来制备，或者通过层合具有不同折射率并由无机化合物如金属氧化物、氟化物、硅化物、氮化物或硫化物或者有机化合物如聚硅氧烷-基树脂、丙烯酸酯树脂或氟化树脂构成的薄膜的多层来制备。
使用表面上具有大约0.1μm至大约10μm的小的峰和谷的防眩层可以形成防眩层。更具体地说，通过在热固性或光固化树脂如丙烯酸酯树脂、聚硅氧烷-基树脂、三聚氰胺-基树脂、氨基甲酸酯-基树脂、醇酸树脂-基树脂或氟化树脂中分散无机化合物或有机化合物如二氧化硅、有机硅化合物、三聚氰胺或丙烯酸酯的颗粒得到油墨，然后将油墨涂布在基材上，再硬化，从而制造这种功能薄膜。
颗粒的平均直径优选为大约1-大约40μm。
可选择地，通过涂布热固性或光固性树脂，在具有所需光泽或表面状态的模具压制然后硬化，可以形成防眩层。
在形成防眩层后，透光电磁波屏蔽膜的雾度为0.5％或更大但不大于20％，优选1％或更大但不大于10％。当雾度太低时，仅能获得不足的防眩性质。另一方面，在非常高的雾度下，透射图像的清晰度(sharpness)倾向于下降。
(硬涂层性质)
为赋予透光电磁波屏蔽膜足够的耐擦伤性，优选的是功能薄膜具有硬涂性能。通过使用例如热固性或光固化树脂如丙烯酸酯树脂、聚硅氧烷-基树脂、三聚氰胺-基树脂、氨基甲酸酯-基树脂、醇酸树脂-基树脂或氟化树脂可以形成硬涂薄膜，但是材料和形成方法没有特别限制。硬涂层的厚度优选为约1-约50μm。优选在硬涂层上形成抗反射层和/或防眩层，因为这样可以得到具有耐擦伤性、抗反射性能和/或防眩性能的功能薄膜。
考虑到对其赋予硬涂性质的透光电磁波屏蔽膜的表面硬度，根据JIS(K-5400)确定的其铅笔强度优选至少为H，更优选2H或者以上，并且更优选3H或以上。
(抗静电性质)
为了在与人体接触时防止由于静电电荷或者放电引起的灰尘和碎片的粘附，优选透光电磁波屏蔽膜具有抗静电性质。
作为具有抗静电性质的功能膜，可以使用具有高电导率，例如以表面电阻率表示为约1011Ω/□或更低的功能膜。
通过在透明基底上形成抗静电层可以获得具有高电导率的膜。可用于抗静电层中的抗静电剂的具体实例包括PELLESTATTM(由SANYO CHEMICAL INDUSTRIES，Ltd.生产)、ELECTROSLIPPERTM(由KAO生产)等。还可以通过使用以ITO为代表的公知的透明导电膜或者其中分散有导电微粒例如ITO微粒或氧化锡微粒的导电膜来形成抗静电层。还可以通过例如加入导电微粒以给硬涂层、防反射层或防眩层赋予抗静电性质。
(防污性质)
优选的是透光电磁波屏蔽膜具有防污性，因为可以防止指纹等污垢，并且在有污垢时，也可以容易地除去。
例如，通过在透明基底上提供防污化合物可以获得具有防污性质的功能膜。作为防污化合物，可以使用对水和/或脂肪及油不具有润湿性质的物质，例如氟化合物或者硅化合物。含氟防污剂的具体实例包括OPTOOLTM(由DAIKIN INDUSTRIES，Ltd.生产)等，而硅化合物的具体实例包括TAKATAQUANTUMTM(由NOF公司生产)等。
(紫外线屏蔽性质)
为了防止将在下面描述的染料和透明基底劣化，优选的是透光电磁波屏蔽膜具有紫外线屏蔽性质。通过向透明基底本身添加紫外线吸收剂或者对其形成紫外线吸收层可以获得具有紫外线屏蔽性质的所述功能膜。
为了切断紫外线以保护染料，在波长短于380nm的紫外区中的透光率应该为20％或更小，优选10％或更小并且更优选5％或更小。通过在透明基底上形成包含紫外线吸收剂或者反射或吸收紫外线的无机化合物的层可以获得能够切断紫外线的功能膜。作为所述紫外线吸收剂，可以使用公知的吸收剂例如苯并三唑或二苯酮。根据在待分散或溶解的介质中的可分散性或可溶性、吸收波长、吸收系数、介质厚度等来确定其种类和浓度，没有特别限制。
优选的是能够切断紫外线的功能膜在可见光区具有小的吸收并且不会引起可见光透过率的大的下降并且不会引起着色例如变黄。
在所述功能膜中形成将在下文描述的含染料的层的情况中，优选的是紫外线切断层位于该层的外面。
(气体阻挡性质)
当透光电磁波屏蔽膜用于温度高于室温或湿度高于普通湿度的环境中时，有时观察到由于出现水分使后述染料劣化，或由于在粘合用的粘合剂中或粘合界面处水分聚集而出现混浊。因此，优选的是透光电磁波屏蔽膜具有气体阻挡性能。
为防止染料变性或混浊，应该防止水侵入含染料的层或粘合剂层中。为此，优选的是透光电磁波屏蔽膜的蒸汽透过度为10g/m2.天或更小，优选5g/m2.天或更小。
(其它光学特性)
在将透光电磁波屏蔽膜用于等离子体显示器中的情况中，优选的是其透射颜色是中性灰色或蓝灰色。这是因为必须保持或提高等离子体显示器的发光特性和对比度，并且在一些情况下比标准白色略高一些色温的白色是优选的。据认为，彩色等离子体显示器的色彩再现性不充分。因此，优选的是，选择性地降低引起上述问题的荧光体或排放气体的不需要的发光。特别地，红色显示中的发光谱在波长范围约580nm-约700nm内显示数个发射峰，引起的问题在于，由于在短波长侧相对较强的发射，使得红色发光接近色纯度低的橙色。使用染料可以控制这些光学特性。即使用近红外吸收剂可以切断近红外线，使用能够选择性地吸收不需要的发光的染料可以减小不需要的发光，从而获得所需的光学特性。使用在可见区内具有适当吸收的染料，可以使滤光器的色调良好。
使用一种或多种选自以下的方法可以包含染料：(1)使用通过捏合一种或多种染料与透明树脂制造的聚合物薄膜或树脂板；(2)使用通过在包括树脂单体/有机溶剂的浓树脂溶液中分散或溶解一种或多种染料经浇铸方法制造的聚合物薄膜或树脂板；(3)使用通过将一种或多种染料和树脂粘结剂加到有机溶剂中得到的涂料涂布的聚合物薄膜或树脂板；和(4)使用含有一种或多种染料的透明压敏粘合剂；但是本发明不限于此。本说明书中，术语“包含”不仅指包含于基材、层如涂膜或压敏粘合剂中，而且也涂布在基材或层的表面上。
上述染料可以是在可见区具有所需吸收波长的常用染料或颜料，其种类没有特别限制。其例子包括一般市售的有机染料，如蒽醌、酞菁、甲碱(methine)、甲亚胺、噁嗪、imonium、偶氮、苯乙烯基类、香豆素、porphyline、二苯并呋喃、二氧代吡咯并吡咯、若丹明、氧杂蒽、吡咯甲川(pyrromethene)、二硫醇和diimonium化合物。染料的种类和浓度根据染料的吸收波长和吸收系数、滤光器所需的透过性能和透过率和染料在其中分散的介质或涂膜的种类和厚度来确定，没有特别的限制。
在具有高表面温度和用于高环境温度的等离子体显示面板中，滤光器温度也升高。因此，优选的是染料的耐热性不会因例如在80℃下分解而严重劣化。除了耐热性之外，一些染料缺乏耐光性。当等离子体显示面板的发光或外部光中的紫外光或可见光造成劣化问题，使用含有紫外线吸收剂的元件或紫外线-阻断元件或使用不会因紫外光或可见光造成严重劣化的染料，来减轻因紫外光而使染料劣化。除了热和光之外，对于湿度和具有这些因素组合的环境也同样适用。当染料劣化时，显示过滤器的透过特性变化，因此其色调变化，或阻断近红外线的能力下降。由于染料将分散在介质或涂膜中，因此在足量溶剂中的溶解度或分散性也是重要因素。在本发明中，具有不同吸收波长的两种或多种染料可以含在单一介质或涂膜中。还可以提供含有两种或多种含染料的介质或涂膜。
一些染料会因与金属接触而劣化。在使用这种染料的情况中，更优选的是在包含所述染料的功能膜中，以不与透光电磁波屏蔽膜中的金属银部分或者导电金属部分接触的方式布置含染料的层。
为了防止透光电磁波屏蔽膜的屏蔽电磁波的能力降低，优选使金属银部分或者导电金属部分接地。即优选在透光电磁波屏蔽膜上形成用于接地的导电部分并且使该导电部分与显示体的接地部分接触。沿着透光电磁波屏蔽膜在金属银部分或者导电金属部分周围适当地形成所述导电部分。
导电部分可以是网状图案层或未图案化的层例如固体金属箔层。但是，为了实现与显示体的接地部分有利的电传导，未图案化的导电部分例如固体金属箔层是优选的。
因为导电部分还可以原样用作电极，所以合适的是导电部分是未图案化的例如固体金属箔和/或导电部分具有足够高的机械强度。
为了在导电部分是网状图案层的情况中保护导电部分和/或实现与接地部分有利的电传导，有时优选在导电部分中形成电极。尽管该电极的形状没有特别限制，但是完全覆盖导电部分的电极是优选的。
从导电性、耐腐蚀性和与透明导电膜粘合性的观点来看，电极用的材料的例子包括可以单独使用或以两种或多种的合金使用的金属如银、铜、镍、铝、铬、铁、锌和碳，这些金属(单独地或合金)与合成树脂的混合物，和包括硼硅酸盐玻璃与这些金属(单独地或合金)的混合物的糊状物。为印刷和涂布这种糊状物，可以使用公知方法。此外，市售导电带可适当地使用。作为导电带，可以使用在两面具有导电性的带，或使用碳分散体型导电粘合剂的单侧粘合剂型。优选使用双面粘合剂型的带。电极的厚度为几μm至几mm，但本发明不限于此。
根据本发明，可以得到具有优异光学特性的滤光器，这样可以保持或甚至提高等离子体显示器的图像质量，而不会大大损害其亮度。还可以得到电磁波屏蔽能力优异的滤光器，其阻断从等离子体显示器产生的被认为可能对健康有不利影响的电磁波，并能够有效地阻断等离子体显示器产生的约800-约1000mn的近红外光束，而不会对外围装置如远程控制、传送光通信系统等使用的波长有不利影响，从而可以防止机械故障。此外，可以低成本提供耐候性优异的滤光器。
当将具有根据本发明的透光电磁波屏蔽膜的膜与如上所述的功能膜、PDP或用作滤光器基底的玻璃粘合时，有时观察到侵入气泡。在此情况下，可以脱气或者通过加压在压敏粘合剂中溶解在粘合时侵入部件之间的气泡。
加压方法的例子包括：包括在平板间夹持层合物并加压的方法，包括使层合物在加压下通过咬合辊(nip rolls)之间的方法，和包括将层合物置于加压容器中然后加压的方法，但本发明并不特别限制于此。在加压容器加压的方法是优选的，因为压力可以均匀施加到整个层合物上，而没有不均匀性，并且可以同时处理多个层合物。作为加压容器，可以使用高压釜。
关于加压条件，可以高效地除去侵入气泡，并且可以在高压下缩短处理。考虑到层合物的耐压性和加压装置的限制，压力为约0.2MPa至约2MPa，优选0.4至1.3MPa。加压时间随加压条件变化，没有限制。过长的加压时间会使成本增加。因此，优选的是在适当条件下，在6小时或更短的停留时间下进行加压。在使用加压容器的情况下，特别适合地是在预定压力水平下保持约10分钟至约3小时。
在一些情况下，优选的是在加压同时进行加热。加热使透光性压敏粘合剂的流动性临时增大，从而促进压敏粘合剂中的气泡脱气或促进溶解。取决于构成滤光器的各元件对热的耐受性，可以在室温至不高于约80℃下进行加热，但本发明没有特别限制于此。
加压或加热处理是有利的，因为可以提高构成滤光器的各元件粘合之后的粘合力。
实施例
接下来，将参考下面的实施例和对比例更详细地说明本发明的特性。在下面的实施例中显示的材料、用量、比例、处理、处理过程等都可以在本发明的范围内任选地改变。也就是说，本发明的范围不应被解释为局限于下面的实施例。
实施例1
[制备近红外线屏蔽膜]
(用于屏蔽近红外线的组合物的制备)
在包含甲基乙基酮和甲苯(重量混合比：50∶50)的溶剂混合物中溶解并且混合2重量份IRG-022(由NIPPON KAYAKU生产，熔点：200℃)，即N，N，N’，N’-四(对二乙基氨基苯基)-对苯醌-二(亚铵)六氟锑酸盐，用作作为第一近红外线吸收染料的二亚铵化合物、1重量份EXCOLOR810K(由NIPPON SHOKUBAI生产，最大吸收波长的吸收系数与在450nm、550nm和620nm下的最大吸收系数的比例分别为10.2、8.3和9.1)，用作作为第二近红外线吸收染料的酞菁染料、以及100重量份DIANAL BR-80(由MITSUBISHI RAYON生产，玻璃化转变温度：105℃)，得到树脂组合物。
(近红外线屏蔽层的形成)
在PET树脂膜(由FUJI PHOTOFILM生产，厚度：75μm)上，涂布包含所述二亚铵化合物的用于近红外线屏蔽层的上述树脂组合物，得到在干燥后15μm的膜厚。因此，层合所述近红外线屏蔽层，得到近红外线屏蔽膜。
[电磁波屏蔽膜的制备]
(卤化银感光材料)
制备包含10.0g明胶至60g在含水介质中的Ag并且包含具有相应球的平均直径为0.1μm的碘溴化银(I＝0.2摩尔％，Br＝40摩尔％)的乳状液。
在该乳状液中，加入K3Rh2Br9和K2IrCl6以得到10-7mol/mol Ag的浓度，从而用Rh离子或Ir离子掺杂溴化银颗粒。向这种乳状液中，加入Na2PdCl4并且使用氯金酸和硫代硫酸钠进行金-硫增感。接下来，在近红外线屏蔽膜上与明胶膜硬化剂一起涂布所述乳状液，以得到1g/m2的银涂布量。在该步骤中，调整Ag/明胶的体积比为1/2。将该乳状液涂布到涂有近红外线屏蔽组合物的面的相对面上。
将乳状液涂布在30cm宽的PET支持体部件上(25cm宽，20m长)。然后，在保持涂布部分的中央(24cm)下切去支持体的两边(3cm)，得到卷曲的卤化银感光材料。
(曝光)
使用在JP-A-2004-1244的具体实施方式中记载的连续曝光装置使卤化银感光材料曝光，其中使用DMD(数字镜面装置)的曝光头在25cm的宽度上排列，在弯曲的状态下提供曝光头和曝光台以将激光束的图像聚焦到感光层上，连接感光材料供给单元和卷曲单元，给定具有起缓冲作用的偏差以防止卷曲和进料单元的速度变化对于曝光部分的速度的影响。曝光波长是400nm，光束图案接近11μm的正方形，并且激光光源输出是100μj。
进行曝光，得到45°格子图案，间隔300μm，宽度24cm，连续长度10m。在将在下文描述的电镀处理后，证实铜图案具有300μm间距的11μm的线宽。
(显影处理)
显影液的组成(1L)(补充液具有相同的组成)
对苯二酚           27g
亚硫酸钠           50g
碳酸钾             40g
乙二胺四乙酸       2g
溴化钾             3g
聚乙二醇2000       1g
氢氧化钾           4g
pH                 调节至10.3
定影液的组成(1L)(补充液具有相同的组成)
硫代硫酸铵(75％溶液)          300ml
亚硫酸铵一水合物              25g
1，3-二氨基丙烷四乙酸酯       8g
乙酸                          5g
氨水(27％)                    1g
pH                            调节至6.2
使用上面列出的溶液，使用FG-710 PTS型自动显影机(由FUJIFILM生产)在下面的显影条件下使曝光的感光材料(也称作增感的材料)经受显影处理：显影：在25℃下40秒，定影：在304℃下23秒，水洗：在流动的水(5L/min)下20秒。
在运行的处理中，在供应500ml/m2的显影剂补充剂和640ml/m2的定影液的同时，显影100m2/天的感光材料3天。
因此，构造出在透明膜上具有格子银网图案的膜。该膜的表面电阻率为50Ω/□。
(电镀处理)
通过使用具备如图1中所示的电解电镀槽(10)的电解电镀设备使上面已经形成了银网图案的膜经受电镀处理。将如上所述的感光材料安装到电解电镀设备上，银网状面朝下(使银网状面与进料辊接触)。
作为进料辊(12a，12b)，使用在表面上具有0.1mm厚的电解铜镀层的专门的不锈钢辊(直径：10cm，长度：70cm)。作为导辊(14)和其它输送辊，使用未镀铜的辊(直径：10cm，长度：70cm)。通过调整导辊(14)的高度，不论线速度如何，在电镀液中保证恒定的处理时间。
将入口侧进料辊(12a)与膜的银网状面的接触面最下面部分和镀液面间的距离(图1中所示的距离La)调整为10cm。将出口侧进料辊(12b)与感光材料的银网状面的接触面最下面部分和镀液面间的距离(图1中所示的距离Lb)调整为20cm。
在电镀处理中，镀液的组成、在每个浴中的浸泡时间(溶液中时间)和对每个浴的施加电压如下。处理液温度和水洗温度全部为25℃。电解电镀液的组成(补充液具有相同组成)
五水合硫酸铜              75g
硫酸                      190g
盐酸(35％)                0.06mL
Copper Gleam PCM          5mL
(由Rohm and Haas Electronic Materials生产)
纯水                 填充至1L
镀浴中的处理时间
水洗        1分钟
酸洗        30秒
电镀1       30秒
电镀2       30秒
电镀3       30秒
电镀4       30秒
水洗        1分钟
防锈处理    30秒
水洗        1分钟
以2m/min的线速度以10m份处理膜样品。因此，获得电磁波屏蔽膜样品1-1，其具有均匀的表面电阻率并且均匀地电镀。
(对比样品的制备和评价)
为了比较，将已经如上述显影的银网状膜切成片(25cm×25cm)。在一侧上连接铜电极后，将其浸在上述的镀液中3分钟并且在10V电压下镀铜。因此，制备对比样品1-2。电极和镀液间的距离是10cm。
测量镀膜的表面电阻率并且用裸眼评价镀层的均匀性。结果，在距液面最近的部分约2cm宽度处电镀样品，但是尽管已经浸在镀液中，下部也未被电镀。
根据专利文献10(JP-A-2004-221564)的实施例1中描述的方法，制备具有电磁波屏蔽性质的电磁波屏蔽膜作为样品1-3。通过使用光掩模(5cm×5cm)进行间歇式曝光和间歇式电解电镀获得该样品。因此，所得网状是5cm×5cm大小。
通过使用这种方法，不可能获得包含如在本发明中连续3m或更长的网状的电磁波屏蔽膜。
通过丝网印刷方法，在如样品1-1中的网状图案中印刷含金属Pd微粒的糊剂并且使用使用硫酸铜和福尔马林的电解铜镀浴进行电解镀铜，从而得到对比样品1-4。由于使用丝网印刷方法，网状图案与丝网尺寸具有相同尺寸。如此获得的能够屏蔽电磁波的网状是20cm×20cm的尺寸。
使用该对比样品限制通过使用其制备的电磁波屏蔽膜的图案尺寸。因此，不可能获得大于其中恒定图案连续的丝网尺寸的电磁波屏蔽膜。
实施例2
(滤光器的制备)
用铜黑化溶液处理如上所述的样品1-1的连续膜以使铜表面黑化。作为黑化溶液，使用市售产品COPPER BLACK(由ISOLATEKAGAKU KENKYUSHO生产)。
该电磁波屏蔽膜的表面电阻率是0.3Ω/□。
该电磁波屏蔽膜的可见光透光率是90％。
如此获得的透光电磁波屏蔽膜具有电磁波屏蔽能力和近红外线屏蔽能力(800-1000nm射线的透光率：15％或更低)而不会引起实用问题。另外，这种膜以单膜形式同时实现了这两种性能。
使用U-3500型分光光度计(由HITACHI生产)测量透光率。
所得膜具有由线宽12μm的细线组成的金属网状并且没有在制备滤光器中引起损失的部分。
通过使用如上所述的具有透光率和电磁波屏蔽能力的膜，借助丙烯酸透光压敏粘合剂(厚度25μm)将玻璃板粘合到透光电磁波屏蔽膜的内部(除去20mm的外周)。丙烯酸透光压敏粘合剂包含色彩修正染料(PS-Red-G，PS-Violet-RC；由MITSUI CHEMICALS生产)来控制滤光器的透光特性。借助压敏粘合剂向玻璃板的主相对面上粘合防反射膜(REALOOKTM；由NOF生产)，从而得到滤光器。
如此获得的滤光器具有黑色金属网，在显示图像中不具有颜色金属化，表现出电磁波屏蔽能力和近红外线切断能力(800-1000nm射线的透光率：15％或更低)而不会引起实用问题，并且由于防反射层而在可见性方面是优异的。此外，所添加的染料赋予色彩修正功能。因此，可以适当地用作等离子体显示器中的滤光器等。
尽管已经参考具体实施方案说明了本发明，本领域技术人员清楚地理解在不背离本发明的精神和范围下可以进行各种变化和修改。
本发明基于申请日为2005年3月15日的日本专利申请(日本专利申请2005-073584)并且以引用的方式将其内容加入本文。

Claims (13)

1.透光电磁波屏蔽膜，其具有金属银部分和透光部分，它们通过曝光形成于支持体上的包含银盐乳状液的乳状液层，然后显影来形成，并且
其中所述透光电磁波屏蔽膜具有红外线屏蔽性质。
2.根据权利要求1的透光电磁波屏蔽膜，其在支持体中包含红外线吸收染料。
3.根据权利要求1的透光电磁波屏蔽膜，其在形成于支持体上的层中包含红外线吸收染料。
4.根据权利要求3的透光电磁波屏蔽膜，其在与金属银部分相反侧的形成于支持体上的层中包含红外线吸收染料。
5.根据权利要求3的透光电磁波屏蔽膜，其在与金属银部分相同侧的形成于支持体上的层中包含红外线吸收染料。
6.根据权利要求1的透光电磁波屏蔽膜，其具有粘合层并且在所述粘合层中包含红外线吸收染料。
7.根据权利要求1-6任何一项的透光电磁波屏蔽膜，其在金属银部分中具有含有导电金属的导电金属部分，所述导电金属部分通过向所述金属银部分施用物理显影和/或电镀处理而形成。
8.根据权利要求7的透光电磁波屏蔽膜，
其中所述导电金属部分由1μm-40μm尺寸的形成网状的细线组成并且所述网状图案连续3m或更长。
9.根据权利要求1-8任何一项的透光电磁波屏蔽膜，
其中通过在输送支持体的同时用光束扫描曝光具有包含银盐乳状液的乳状液层的支持体来进行所述曝光。
10.根据权利要求1-9任何一项的透光电磁波屏蔽膜，
其中通过显影所述乳状液层获得的银网具有1-1000Ω/□的表面电阻率并且在显影处理后在1-30m/min的输送速度下被连续地电解电镀。
11.根据权利要求3-10任何一项的透光电磁波屏蔽膜，
其中所述包含红外线吸收染料的层或者与所述包含红外线吸收染料的层接触的层包含含有无机氧化物的抗静电剂。
12.滤光器，其包含根据权利要求1-11任何一项的透光电磁波屏蔽膜。
13.等离子体显示面板，其包含根据权利要求1-11任何一项的透光电磁波屏蔽膜或者根据权利要求12所述的滤光器。
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