WO2006098335A1 - 積層材料、透光性電磁波シールド膜および光学フィルター - Google Patents

積層材料、透光性電磁波シールド膜および光学フィルター Download PDF

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WO2006098335A1
WO2006098335A1 PCT/JP2006/305056 JP2006305056W WO2006098335A1 WO 2006098335 A1 WO2006098335 A1 WO 2006098335A1 JP 2006305056 W JP2006305056 W JP 2006305056W WO 2006098335 A1 WO2006098335 A1 WO 2006098335A1
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silver
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acid
electromagnetic wave
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PCT/JP2006/305056
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Inventor
Takayasu Yamazaki
Original Assignee
Fujifilm Corporation
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    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
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    • GPHYSICS
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    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H01J2211/44Optical arrangements or shielding arrangements, e.g. filters or lenses
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
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    • H01J2229/863Passive shielding means associated with the vessel
    • H01J2229/8636Electromagnetic shielding
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    • H01J2329/00Electron emission display panels, e.g. field emission display panels
    • H01J2329/86Vessels
    • H01J2329/868Passive shielding means of vessels
    • H01J2329/869Electromagnetic shielding

Definitions

  • the present invention relates to CRT (Cathode Ray Tube), PDP (Plasma Display Panel), Liquid Crystal, EL ( Formatroluminescence), FED (Field Emission Display), etc.
  • Display Front Microwave Oven, Electronic Equipment, Printed Wiring Board
  • the present invention relates to a method for producing an electromagnetic shielding material that shields electromagnetic waves generated from the above and has strength and transparency and an electromagnetic shielding material having transparency obtained by the production method.
  • a PDP generates a larger amount of electromagnetic waves than a CRT or the like, and thus a stronger electromagnetic wave shielding ability is required.
  • the electromagnetic wave shielding ability can be simply expressed by the surface resistance value.
  • the surface resistance value is required to be about 300 ⁇ / sq or less.
  • the required transparency level is about 70% or more for visible transmittance for CRT and 80% or more for PDP, and even higher transparency is desired.
  • Patent Document 1 discloses an electromagnetic shielding material such as a conductive fiber cover.
  • this shield material has a drawback that when the display screen is shielded with a thick mesh line width, the screen becomes dark and it is difficult to see the characters displayed on the display.
  • Patent Documents 5 to 9 A method of forming a metal thin film mesh on a transparent substrate by etching using one photolithography method has been proposed (for example, Patent Documents 5 to 9).
  • This method has the advantage that it can be finely processed, so that a mesh with a high aperture ratio (high transmittance) can be produced and strong electromagnetic wave emission can be shielded.
  • the manufacturing process is complicated and complicated, and the production cost is high.
  • Patent Document 10 A method of forming a conductive mesh with a conductive metal silver obtained by developing a silver halide, and a mesh using a copper plating on the conductive metal silver and developed silver using halogen silver, or There has been proposed a method of forming a conductive mesh by attaching metallic copper to developed mesh silver obtained by developing silver halide silver (for example, Patent Document 10).
  • Patent Document 11 discloses a method for producing a shield material that can be patterned with a thin line by a simple method with high transparency.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-327274
  • Patent Document 2 JP 11 170420 A
  • Patent Document 3 Japanese Patent Laid-Open No. 5-283889
  • Patent Document 4 JP-A-11-170421
  • Patent Document 5 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-46293
  • Patent Document 6 Japanese Patent Laid-Open No. 2003-23290
  • Patent Document 7 JP-A-5-16281
  • Patent Document 8 Japanese Patent Laid-Open No. 10-338848
  • Patent Document 9 Japanese Patent Laid-Open No. 2004-145063
  • Patent Document 10 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-207001
  • Patent Document 11 Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2004-221565
  • the PDP may make the surface normally viewed black. It is desired.
  • the viewing surface of the shield film also needs to be black, and there are various methods.
  • the most common configuration of PDPs on the upper side is that the upper side of the transparent substrate of the shield film is blackened on one side, and the transparent substrate side is pasted on the glass in front of the PDP image display (called a module). This is a so-called front plate type.
  • the viewing surface is a black surface on the substrate, it is considered that the above requirement can be met.
  • the surface opposite to the black surface still has a metallic luster, which may cause inconveniences such as light reflection depending on the viewing angle. May occur.
  • Patent Document 9 has a black layer, and the front visibility of a mesh sample prepared using the black layer is good. However, since the color of the underlying copper foil is visible on the side of the mesh except for the front, it is the same as the shield film described above, and the visibility as an electromagnetic wave shield is not completely good.
  • the electromagnetic wave shielding film produced according to the method described in Patent Document 11 may cause a problem that the stacked fine wires or a part thereof may be peeled off, and the visibility as a visual surface color is good. Poor visibility due to the peeled fine line may cause a decrease in translucency. It was also found that even when the thin wires were peeled off during processing, the storage of the wires particularly in a wet and heat environment caused the fine wires to peel off and adhere to the openings, resulting in poor visibility. If the electromagnetic shielding film to be produced has a large area, the yield decreases due to this problem, and it also causes the problem that the productivity is significantly reduced.
  • the present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide an electromagnetic wave shielding film having good visibility and no image failure such as missing fine lines. It is another object of the present invention to provide a light-transmitting electromagnetic wave shielding film having good light-transmitting properties with little deterioration due to wet heat storage.
  • the inventors of the present invention have made great efforts to obtain an electromagnetic wave shielding film with good visibility and less deterioration due to wet heat storage that eliminates image failures such as missing fine lines! It has been found that the above object can be effectively achieved by the light-transmitting electromagnetic wave shielding film having the following laminated material force, and the present invention has been completed.
  • the object of the present invention is achieved by the following configuration.
  • Laminate with a developed silver part, conductive metal part and black part formed by exposing and developing a photosensitive material having an emulsion layer containing a silver halide grain having a spherical equivalent diameter of 300 nm or less on a transparent support.
  • a black layer selected from nickel, zinc, tin and copper.
  • a laminate material comprising as a main component an alloy containing at least two selected elements.
  • Translucent electromagnetic wave shielding film comprising the laminated material according to any one of 1 to 6 above
  • An optical filter comprising the translucent electromagnetic wave shielding film according to any one of 7 to L1 above.
  • a translucent electromagnetic wave shielding film with good visibility and good translucency with little visibility degradation due to wet heat storage that eliminates image failures such as missing fine lines is obtained. be able to.
  • a translucent electromagnetic wave shielding film with low loss and high productivity can be obtained.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of an electroplating bath suitably used in the electroplating process of the present invention.
  • the symbol “ ⁇ ” is used as a meaning including numerical values described before and after the symbol as a lower limit value and an upper limit value.
  • the laminated material of the present invention is formed by exposing and developing a photosensitive material having an emulsion layer containing a silver salt emulsion having a sphere equivalent diameter of 300 nm or less on a transparent substrate. It has a metal part and a black part. Preferably, the developed silver portion, the conductive metal portion, and the black color portion are laminated in this order.
  • the developed silver portion can be formed by exposing and developing a photosensitive material having an emulsion layer containing a silver salt emulsion on a transparent support, which will be described below.
  • a plastic film, a plastic plate, a glass plate, or the like can be used as the transparent support used in the photosensitive material according to the present invention.
  • the raw material for the plastic film and plastic plate include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate; polyolefins such as polyethylene (PE), polypropylene (PP), polystyrene and EVA; Bulu resin such as vinyl and poly vinylidene; other polyether ether ketone (PEEK), polysulfone (PSF), polyether sulfone (PES), polycarbonate (PC), polyamide, polyimide, acrylic resin Fats, triacetyl cellulose (TAC), etc. can be used.
  • the plastic film is preferably a polyethylene terephthalate film from the viewpoints of transparency, heat resistance, ease of handling, and cost.
  • the electromagnetic wave shielding material for display is required to be transparent, it is desirable that the support has high transparency.
  • the total visible light transmittance of the plastic film or plastic plate is preferably 70% to 100%, more preferably 85% to 100%, and particularly preferably 90% to: LOO%.
  • the plastic film and the plastic plate may be those colored so as not to interfere with the object of the present invention.
  • the plastic film and plastic plate in the present invention can be used as a single layer, but can also be used as a multilayer film in which two or more layers are combined.
  • the thickness of the transparent support is preferably 200 ⁇ m or less, more preferably 20 ⁇ m to 180 ⁇ m, and most preferably 50 ⁇ m to 120 ⁇ m.
  • the type thereof is not particularly limited.
  • tempered glass having a tempered layer on the surface.
  • tempered glass can prevent breakage compared to glass that has not been tempered.
  • the tempered glass obtained by the air cooling method is preferable from the viewpoint of safety because the broken piece is small and the end face is not sharp even if it is broken.
  • the emulsion layer used in the light-sensitive material according to the present invention has an emulsion layer containing a silver salt (silver salt-containing layer) as a photosensor on a support.
  • a silver salt silver salt-containing layer
  • a dye, a binder, a solvent and the like can be contained as necessary.
  • the emulsion layer may contain a dye.
  • the dye is contained in the emulsion layer as a filter dye or for various purposes such as prevention of irradiation.
  • the dye may contain a solid disperse dye.
  • Examples of the dye preferably used in the present invention include dyes represented by general formula (FA), general formula (FA1), general formula (FA2), and general formula (FA3) described in JP-A-9 17 9243.
  • compounds F1 to F34 described in the publication are preferable.
  • (IV-2) to (IV-7) described in the publication are also preferably used.
  • examples of dyes that can be used in the present invention include solid fine particle dispersion dyes that are decolored during development or fixing processing.
  • examples of dyes are cyanine dyes and pyrylium dyes described in JP-A-3-138640. And amino dyes.
  • dyes that do not decolorize at the time of processing cyanine dyes having a carboxyl group described in JP-A-9-96891, cyanine dyes not containing an acid group described in JP-A-8-245902, and the same 8-333519 Lake type cyanine dyes described in Japanese Patent Laid-Open No. 1-266536, cyanopolar dyes described in Japanese Patent Laid-Open No.
  • the dye may contain a water-soluble dye.
  • water-soluble dyes include oxonol dyes, benzylidene dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes and azo dyes. Of these, oxonol dyes, hemioxonol dyes and benzylidene dyes are useful in the present invention.
  • Water-soluble dyes that can be used in the present invention Specific examples of the materials include British Patent Nos. 584, 609, 1, 177, 429, Japanese Patent Publication Nos. 48-85130, 49-99620, 49-114420, 52-20822, 59-154439, 59-208548, U.S. Pat.Nos.
  • the content of the dye in the emulsion layer is preferably 0.01% by mass to 10% by mass with respect to the total solid content from the viewpoint of preventing irradiation and reducing the sensitivity due to an increase in the amount of added calories. 1% by mass to 5% by mass is more preferable.
  • Examples of the silver salt emulsion used in the present invention include inorganic silver salts such as halogen silver and organic silver salts such as silver acetate.
  • halogen silver is excellent in characteristics as an optical sensor. It is preferable to use an emulsion.
  • Techniques used for silver halide photographic film relating to halogenated silver, printing plate-making film, emulsion mask for photomask, and the like can also be used in the present invention.
  • the silver salt emulsion of the present invention has a sphere equivalent diameter of 300 nm or less, and more preferably 200 nm or less, from the viewpoint of image failure prevention effect and sensitivity required for patterning.
  • Image failures such as missing due to rubbing of the sample described above can be improved by increasing the adhesion between the silver salts or the developed silver part and the conductive metal part stacked thereon.
  • This object can be achieved by reducing the grain diameter of the emulsion to be used if the distance between silver salt grains before development is reduced or the surface area per unit area of the silver part after development is increased. It is an aspect of the present invention to achieve both the sensitivity required for notching and the achievement of the above object.
  • the sphere equivalent diameter is a diameter of particles having the same volume and a spherical particle shape.
  • the halogen element contained in the silver halide may be any of chlorine, bromine, iodine and fluorine, or a combination thereof.
  • halogen silver containing mainly AgCl, AgBr and Agl is preferably used, and halogen silver containing mainly AgBr and AgCl is preferably used.
  • Silver chlorobromide, silver iodochlorobromide, silver iodobromide are also preferably used I can.
  • Silver chlorobromide, silver bromide, silver iodochlorobromide and silver iodobromide are more preferable, and silver chlorobromide and iodochlorobromide containing 50 mol% or more of silver chloride are most preferable. Silver is used.
  • halogenated silver mainly composed of AgBr refers to silver halide having a bromide ion mole fraction of 50% or more in the silver halide composition.
  • the silver halide silver grains mainly composed of AgBr may contain iodide ions and chloride ions in addition to bromide ions.
  • the shape of the silver halide grains is not particularly limited.
  • various shapes such as a spherical shape, a cubic shape, a flat plate shape (hexagonal flat plate shape, triangular flat plate shape, quadrangular flat plate shape, etc.), octahedral shape, tetrahedral shape, etc.
  • the cubic shape and the tetrahedron shape are preferable.
  • the silver halide grains can have a uniform internal and surface layer, or they can be different. Moreover, you may have the localized layer from which a halogen composition differs in a particle
  • Halogen silver emulsion used as an emulsion layer coating solution used in the present invention is P. Glalkides, Chimie et Physique Photographique (Paul Montel, 1967), GF Dufin, Photographic Emulsion Chemistry (The Focal Press) , 1966), VL Zelikman Ryo, and Making and Coating Photographic Emulsion (The Focal Press, 1964).
  • the silver halide emulsion may be prepared by either an acidic method or a neutral method, and a method of reacting a soluble silver salt with a soluble halogen salt may be a one-sided mixing method. Any of a simultaneous mixing method, a combination thereof, and the like may be used.
  • a method for forming silver particles a method of forming particles in the presence of excess silver ions (so-called back mixing method) can also be used.
  • a method of keeping pAg constant in a liquid phase in which halogenated silver is formed that is, a so-called controlled double jet method can be used.
  • halogenated silver solvent such as ammonia, thioether or tetrasubstituted thiourea. More preferred as such a method is a tetra-substituted thiourea compound, which is described in JP-A-53-82408 and JP-A-55-77737.
  • Preferred thiourea compounds are tetramethylthiourea, 1,3-dimethyl-2-imidazoli Zincion is mentioned.
  • the controlled double jet method and the grain forming method using a halogenated silver solvent make it easy to produce a halogenated silver emulsion having a regular crystal type and a narrow grain size distribution. It can be preferably used.
  • the silver halide emulsion used for the formation of the emulsion layer in the present invention is preferably a monodisperse emulsion ⁇ (standard deviation of grain size) Z (average grain size) ⁇
  • the coefficient of variation represented by X100 is 20% or less, More preferably, it is 15% or less, and most preferably 10% or less.
  • the silver halide emulsion used in the present invention may be a mixture of a plurality of types of silver halide emulsions having different grain sizes.
  • the halogenated silver emulsion used in the present invention may contain a metal belonging to Group VIII or Group VIIB.
  • a metal belonging to Group VIII or Group VIIB in particular, in order to achieve high contrast and low capri, it is preferable to contain a rhodium compound, an iridium compound, a ruthenium compound, an iron compound, an osmium compound, and the like.
  • These compounds are compounds having various ligands, and examples of such ligands include cyanide ions, halogen ions, thiocyanate ions, nitrosyl ions, water, hydroxide ions, and the like.
  • organic molecules such as amines (such as methylamine and ethylenediamine), heterocyclic compounds (such as imidazole, thiazole, 5-methylthiazole, mercaptoimidazole), urea, and thiourea can be mentioned.
  • rhodium compound a water-soluble rhodium compound can be used.
  • water-soluble rhodium compounds include rhodium halide (III) compounds, hexachlororhodium (III) complex salts, pentachloroacorhodium complex salts, tetrachlorodiacolodium complex salts, hexabromorhodium (III) complex salts, hexanes.
  • Examples include ammine rhodium (III) complex salt, trizalatrdium (III) complex salt, and K Rh Br.
  • rhodium compounds are used by dissolving in water or a suitable solvent, but are generally used in order to stabilize the solution of the rhodium compound, that is, an aqueous hydrogen halide solution (for example, hydrochloric acid, odorous acid, Hydrofluoric acid, etc.) or halogenated alkali (eg ⁇
  • iridium compounds include hexaclonal iridium complex salts such as K IrCl and K IrCl,
  • Hexabromoiridium complex salts Hexabromoiridium complex salts, hexammine iridium complex salts, pentachloro-trosyl iridium complex salts and the like.
  • ruthenium compound examples include hexaclonal ruthenium, pentachloro-trosyl ruthenium, K [Ru (CN)] and the like.
  • iron compound examples include potassium hexanoate ( ⁇ ) and ferrous thiocyanate.
  • M represents Ru or Os, and n represents 0, 1, 2, 3 or 4.
  • the counter ion has no significance, and for example, ammonium or alkali metal ions are used.
  • Preferable ligands include a halide ligand, a cyanide ligand, a cyan oxide ligand, a nitrosyl ligand, a thionitrosyl ligand, and the like. Examples of specific complexes used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited to these. Is not something
  • silver halide is preferably a mole per 10 _1 ° ⁇ 10_ 2 moles Z mol Ag tool 10 one 9 ⁇ 10_ 3 moles Z mol Ag preferable.
  • silver halide containing Pd (II) ions and Z or Pd metal can also be used in the present invention.
  • Pd may be uniformly distributed in the silver halide grains. However, it is preferably contained in the vicinity of the surface layer of the silver halide grains.
  • Pd “contains in the vicinity of the surface layer of the silver halide grains” means that the surface force of the halogenated silver grains has a layer with a higher palladium content than the other layers within 50 nm in the depth direction. Means.
  • Such silver halide grains can be prepared by adding Pd during the formation of silver halide grains. After adding 50% or more of the total amount of silver ions and halogen ions, Pd Is preferably added. It is also preferable to add Pd (II) ions to the surface layer of halogenated silver by adding them at the post-ripening stage.
  • Pd-containing halogenated silver particles increase the speed of physical development and electroless plating, increase the production efficiency of the desired electromagnetic shielding material, and contribute to the reduction of production costs.
  • Pd is a force well known and used as an electroless plating catalyst.
  • Pd can be unevenly distributed in the surface layer of halogenated silver particles, so it is possible to save extremely expensive Pd. is there.
  • the content of Pd ions and / or Pd metal contained in Harogeni ⁇ the silver halide, 10 _4 to 0 with respect to the number of moles of silver 5 mol Z mol Ag Preferably, it is 0.01 to 0.3 mol Z mol Ag.
  • Examples of the Pd compound used include PdCl and Na PdCl.
  • chemical sensitization performed with a photographic emulsion can be performed in order to further improve the sensitivity as an optical sensor.
  • the chemical sensitization method sulfur sensitization, selenium sensitization, chalcogen sensitization such as tellurium sensitization, noble metal sensitization such as gold sensitization, reduction sensitization and the like can be used. These are used alone or in combination.
  • Combining the above chemical sensitization methods When used together, for example, sulfur sensitizing method and gold sensitizing method, sulfur sensitizing method and selenium sensitizing method and gold sensitizing method, sulfur sensitizing method and tellurium sensitizing method and gold sensitizing method, etc. The combination of is preferred.
  • the sulfur sensitization is usually performed by adding a sulfur sensitizer and stirring the emulsion at a high temperature of 40 ° C or higher for a predetermined time.
  • a sulfur sensitizer known compounds can be used.
  • various sulfur compounds such as thiosulfate, thioureas, and thiazoles can be used. , Rhodons, etc. can be used.
  • Preferred sulfur compounds are thiosulfate and thiourea compounds.
  • the amount of sulfur sensitizer added varies depending on various conditions such as pH during chemical ripening, temperature, and the size of silver halide grains, and is preferably 10 _7 to 10_ 2 mol per mol of silver halide. More preferably, 10 — 5 to: LO— 3 moles.
  • the selenium sensitizer used for the selenium sensitization a known selenium compound can be used. That is, the selenium sensitization is usually performed by adding unstable and Z or non-unstable selenium compounds and stirring the emulsion at a high temperature of 40 ° C. or higher for a certain period of time.
  • the unstable selenium compound the compounds described in JP-B-44-15748, JP-A-43-13489, JP-A-4-109240, JP-A-4-324855 and the like can be used. .
  • the tellurium sensitizer used in the tellurium sensitizer is a compound that forms silver telluride presumed to be a sensitization nucleus on the surface or inside of the silver halide silver grains.
  • the formation rate of tellurite silver in the silver halide emulsion can be tested by the method described in JP-A-5-313284. Specifically, U.S. Pat.Nos. 1,623,499, 3,320,069, 3,772,031, British Patent 235,211, No. 1,121,496, No. 1,295,462, No. 1,396,696, Canadian Patent No.
  • the amount of the selenium sensitizer and tellurium sensitizer that can be used in the present invention varies depending on the halogen-molybdenum grains used, chemical ripening conditions, etc., but generally 10 -8 to 10_ 2 moles, preferably using 10 _7 ⁇ 10_ 3 moles.
  • the conditions for chemical sensitization in the present invention are not particularly limited, but the pH is 5 to 8, pAg is 6 to 11, preferably 7 to 10, and the temperature is 40 to 95 ° C. Preferably it is 45-85 degreeC.
  • Examples of the noble metal sensitizer include gold, platinum, noradium, iridium and the like, and gold sensitization is particularly preferable.
  • Specific examples of gold sensitizers used for gold sensitization include salt and gold acid, potassium chromate orate, potassium thiothiocyanate, gold sulfide, tiodarcos gold (1), tiomannose gold ( I) and the like, and 10 7 to 10 per mole of silver halide.
  • a cadmium salt, a sulfite salt, a lead salt, a thallium salt, etc. may coexist in the halogenated silver emulsion used in the present invention in the process of forming a halogenated silver grain or physical ripening.
  • reduction sensitization can be used.
  • the reduction sensitizer stannic salts, amines, formamidinesulfinic acid, silane compounds, and the like can be used.
  • a thiosulfonic acid compound may be added to the above-described halogenated silver emulsion by the method described in European Patent Publication (EP) 293917.
  • EP European Patent Publication
  • Only one type of halogenated silver emulsion may be used in the preparation of the light-sensitive material used in the present invention. Two or more types (for example, those having different average particle sizes, those having different halogen compositions, those having different crystal habits, those having different chemical sensitization conditions, and those having different sensitivities) may be used.
  • a binder can be used in the emulsion layer for the purpose of uniformly dispersing silver salt grains and assisting the adhesion between the emulsion layer and the support.
  • both the water-insoluble polymer and the water-soluble polymer can be used as the binder, but it is preferable to use a water-soluble polymer.
  • binder examples include polysaccharides such as gelatin, polybutyl alcohol (PVA), polyvinylpyrrolidone (PVP), starch, cellulose and derivatives thereof, polyethylene oxide, polysaccharides, polyvinylamine, chitosan, polylysine, Examples include polyacrylic acid, polyalginic acid, polyhyaluronic acid, carboxycellulose, and the like.
  • the content of the binder contained in the emulsion layer is not particularly limited, and can be appropriately determined within a range in which dispersibility and adhesion can be exhibited.
  • the solvent used for forming the emulsion layer is not particularly limited, and examples thereof include water, organic solvents (for example, alcohols such as methanol, ketones such as acetone, amides such as formamide, dimethyl sulfoxide, and the like. Sulphoxides, esters such as ethyl acetate, ethers, etc.), ionic liquids, and mixed solvents thereof.
  • organic solvents for example, alcohols such as methanol, ketones such as acetone, amides such as formamide, dimethyl sulfoxide, and the like.
  • Sulphoxides, esters such as ethyl acetate, ethers, etc. ionic liquids, and mixed solvents thereof.
  • the content of the solvent used in the emulsion layer of the present invention is in the range of 30% by mass to 90% by mass with respect to the total mass of the silver salt and binder contained in the emulsion layer, and 50% by mass to Preferably in the range of 80% by weight.
  • the photosensitive material coated with a silver salt-containing layer or a photopolymer for photolithography provided on a support is exposed.
  • the exposure can be performed using electromagnetic waves.
  • the electromagnetic wave examples include light such as visible light and ultraviolet light, and radiation such as X-rays. Further, for the exposure, a light source having a specific wavelength may be used instead of a light source having a wavelength distribution.
  • a light source having a specific wavelength may be used instead of a light source having a wavelength distribution.
  • various light emitters that emit light in the visible spectrum region are used as necessary. For example, one or more of a red light emitter, a green light emitter, and a blue light emitter are used in combination.
  • the spectral region is not limited to the above red, green, and blue, and a phosphor that emits light in the yellow, orange, purple, or infrared region is also used.
  • a cathode ray tube that emits white light by mixing these light emitters is often used.
  • mercury lamp g-line, mercury lamp i-line, etc. which are also preferred for ultraviolet lamps, are used.
  • the exposure is preferably performed using various laser beams.
  • the exposure in the present invention is a second harmonic light emitting source (SHG) that combines a solid state laser using a gas laser, a light emitting diode, a semiconductor laser, a semiconductor laser, or a semiconductor laser as an excitation light source and a nonlinear optical crystal.
  • SHG second harmonic light emitting source
  • a scanning exposure method using monochromatic high-density light such as KrF excimer laser, ArF excimer laser, and F2 laser can also be used.
  • exposure is performed using a semiconductor laser, a semiconductor laser, or a second harmonic generation light source (SHG) that combines a solid-state laser and a nonlinear optical crystal. It is preferable.
  • SHG second harmonic generation light source
  • exposure is most preferably performed using a semiconductor laser.
  • the energy of the exposure Shi ingredients most preferably favored more is 100 ⁇ jZcm 2 or less preferably fixture 50 ⁇ jZcm 2 or less is 40 ⁇ j / cm 2 or less 4 ⁇ j / cm 2 or more.
  • laser light sources include blue semiconductor lasers with wavelengths of 430nm to 460nm (announced by Nichia Chemical at the 48th Applied Physics Related Conference in March 2001), semiconductor lasers. (Oscillation wavelength approximately 1060nm) Li BO with a waveguide inversion domain structure
  • Scanning exposure with a laser beam is preferred as a method for exposing the silver salt-containing layer in a pattern.
  • the capstan type laser scanning exposure apparatus described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-39677 is preferred.
  • the DMD described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-1244 is used instead of beam scanning by rotating a polygon mirror. For beam scanning system I also like to use it.
  • the development processing can be performed by a normal development processing technique used for silver salt photographic film, photographic paper, printing plate-making film, photomask emulsion mask and the like.
  • a normal development processing technique used for silver salt photographic film, photographic paper, printing plate-making film, photomask emulsion mask and the like.
  • PQ developer, MQ developer, MAA developer, etc. can also be used, and commercially available products such as Cn-16, CR-56, CP45X Developers such as FD-3, Papitool, KODAK prescription C-41, E-6, RA-4, D-19, D-72, or the developer included in the kit can be used.
  • a lith developer use a lith developer.
  • a metallic silver portion preferably a butter-shaped metallic silver portion is formed in the exposed portion, and a light transmitting portion described later is formed in the unexposed portion.
  • a dihydroxybenzene developing agent can be used as the developer.
  • dihydroxybenzene-based developing agents include hydride quinone, chlorohydroquinone, isopropylhydroquinone, methylhydroquinone, and hydroquinone monosulfonate.
  • auxiliary developing agents that exhibit superadditivity with the above-mentioned dihydroxybenzene-based developing agents include 1-phenol 3-virazolidones and p-aminophenols.
  • the developer used is a combination of a dihydroxybenzene developing agent and 1-phenol 3-virazolidone; or a combination of a dihydroxybenzene developing agent and p-aminophenols. Preferably used.
  • the developing agent used in combination with 1-phenol 3-virazolidone or a derivative thereof used as an auxiliary developing agent specifically, 1-phenol-3-virazolidone, 1-phenyl-1,4-dimethyl 1-pyrazolidone, 1-phenyl-4-methyl 4-hydroxymethyl-3-bisazolidone.
  • the above-mentioned P-aminophenol auxiliary developing agent includes n-methyl p-aminophenol.
  • n-methyl-paminophenol is preferable among them, such as phenoxyl, p-aminophenol, n- (13-hydroxyethyl) paminophenol, and n- (4-hydroxyphenol) glycine.
  • the dihydroxybenzene-based developing agent is usually preferably used in an amount of 0.05 to 0.8 mol / liter, but in the present invention, it is particularly preferably used in an amount of 0.23 mol Z liter or more. More preferably, it is in the range of 0.23 to 0.6 mol Z liter.
  • the former is 0.23 to 0.6 mol / liter, more preferably 0.23 to 0.5 mol Z. Liters, the latter is less than 0.06 mol Z liters, more preferred ⁇ 0.03 Monore / Lit Nore ⁇ 0.03 Monore / Lit Nore for use in amounts!
  • both forces of the development starter and the development replenisher are “0.
  • ⁇ rise is 0.5 or less when 1 mol of sodium hydroxide is added.
  • Sodium hydroxide was added to 0.1 mol of sodium hydroxide, and the ⁇ value of the liquid was measured. At this point, if the increase in ⁇ value was 0.5 or less, it was determined that the liquid had the properties specified above.
  • the method of imparting the above properties to the development initiator and the development replenisher is preferably a method using a buffer.
  • the buffer include carbonates, boric acid described in JP-A-62-186259, saccharides (for example, saccharose), oximes (for example, acetooxime), phenols described in JP-A-60-93433.
  • 5-sulfosalicylic acid), triphosphate (for example, sodium salt, potassium salt) and the like can be used, and carbonate and boric acid are preferably used.
  • the amount of the above-mentioned buffering agent (particularly carbonate) is preferably 0.25 monolet / litnore or more, 0.25 ⁇ : L5 monole / litnore power is particularly preferred! / ⁇ .
  • ⁇ of the above-mentioned development start solution is 9.0 to 11.0, particularly preferably 9.5 to 10.7.
  • ⁇ of the above-mentioned developer replenisher and ⁇ of the developer in the developing tank during continuous processing are also in this range.
  • Alkaline agents used for the setting of rhodium are ordinary water-soluble inorganic alkali metal salts (for example, sodium hydroxide, lithium hydroxide , Sodium carbonate, potassium carbonate).
  • the content of the developer replenisher in the developer is 323 ml or less, preferably 323 ml to 30 ml, particularly 225 ml. It is 50 milliliters.
  • the development replenisher may have the same composition as the development initiator. However, the components consumed in development may have a higher concentration than the starting solution.
  • additives usually used for the developer used for developing the light-sensitive material in the present invention (hereinafter, both the development starter and the development replenisher may be simply referred to as "developer") (For example, a preservative and a chelating agent) can be contained.
  • the preservative include sulfites such as sodium sulfite, potassium sulfite, lithium sulfite, ammonium sulfite, sodium bisulfite, potassium metabisulfite, and sodium formaldehyde bisulfite.
  • the sulfite is preferably used in an amount of 0.20 mol Z liters or more, more preferably 0.3 mol Z liters or more.
  • ascorbic acid derivatives may be used in small amounts in combination with sulfites as preservatives for dihydroxybenzene developing agents.
  • the ascorbic acid derivative includes ascorbic acid, its stereoisomer, erythorbic acid and its alkali metal salts (sodium and potassium salts), and the like.
  • sodium erythorbate is preferably used in terms of material cost.
  • the amount of the ascorbic acid derivative added is preferably in the range of 0.03 to 0.12, particularly preferably in the range of 0.05 to 0.10, with respect to the dihydroxybenzene-based developing agent. It is. When an ascorbic acid derivative is used as the preservative, it is preferable that the developer does not contain a boron compound.
  • additives that can be used in the developer include development inhibitors such as sodium bromide and potassium bromide; organic solvents such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, and dimethylformamide.
  • Development accelerators such as alkanolamines such as diethanolamine and triethanolamine, imidazole or derivatives thereof, mercapto compounds, indazole compounds, benzotriazole compounds, benzoimidazo May also be included as an anti-capri or black pepper inhibitor.
  • Specific examples of the benzoimidazole compound include 5--troindazole, 5-p-trobenzoylaminoindazole, 1-methyl-5-troindazole, 6-toluindazole, 3-methyl-5---.
  • Troindazole 5 --- Trobenzimidazole, 2-Isopropyl-5-Trobenzimidazole, 5-Trobenstriazole, 4-[(2 Mercapto 1,3,4-thiadiazol-2-yl) thio] butanesulfone Examples include sodium acid, 5 amino-1,3,4 thiadiazole-2 thiol, methylbenzotriazole, 5 methylbenzotriazole, and 2 mercaptobenzotriazole.
  • the content of these benzimidazole compounds is usually from 0. Olmmol to: LOmmol per liter of developer, more preferably from 0.1 mmol to 2mmol.
  • organic / inorganic chelating agents can be used in combination in the developer.
  • Examples of the inorganic chelating agent that can be used include sodium tetrapolyphosphate and sodium hexametaphosphate.
  • organic chelating agent organic carboxylic acid, aminopolycarboxylic acid, organic phosphonic acid, aminophosphonic acid and organic phosphonocarboxylic acid can be mainly used.
  • organic carboxylic acids examples include acrylic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, dartaric acid, adipic acid, pimelic acid, succinic acid, ashellaic acid, sebacic acid, nonanedicarboxylic acid, decandi power norlevonic acid, undecandi power norlevonic acid.
  • Maleic acid, itaconic acid, malic acid, citrate, tartaric acid and the like are not limited thereto.
  • aminopolycarboxylic acids examples include iminoniacetic acid, ditrimethyl triacetic acid, ditrimethyl tripropionic acid, ethylenediamine monohydroxyethyl triacetic acid, ethylenediammine tetraacetic acid, glycol ether tetraacetic acid, 1, 2-Diaminopropanetetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, triethylenetetraminehexaacetic acid, 1,3 diamino-2-propanoltetraacetic acid, glycol etherdiaminetetraacetic acid, other JP-A-52-25632, 55-67747, 57-102624 And the compounds described in JP-B 53-40900 and the like.
  • organic phosphonic acid examples include hydroxyalkylidene-diphosphates described in US Pat. Nos. 3214454 and 3794591, and West German Patent Publication 2227639. Examples thereof include sulfonic acid and compounds described in Research 'Disclosure (Research Disclosure) No. 181; Item 18170 ( May 1979).
  • aminophosphonic acid examples include aminotris (methylenephosphonic acid), ethylenediaminetetramethylenephosphonic acid, aminotrimethylenephosphonic acid and the like.
  • aminotris methylenephosphonic acid
  • ethylenediaminetetramethylenephosphonic acid examples include aminotrimethylenephosphonic acid and the like.
  • organic phosphonocanolevonic acids JP-A-52-102726, 53-42730, 54-121127, 55-4024, 55-4025, 55-126241 Nos. 55-65 955, 55-65956, and the above-mentioned Research Disclosure 1 8170.
  • These chelating agents may be used in the form of alkali metal salts or ammonium salts.
  • the amount of the chelating agent added is preferably 1 X 10 _4 to 1 X per liter of the developer.
  • JP-A-56-24347, JP-B-56-46585, JP-B-62-2849, and JP-A-4-362942 as silver stain preventing agents in the developer.
  • compounds described in JP-A-61-267759 can be used as dissolution aids.
  • the developer may contain a color toning agent, a surfactant, an antifoaming agent, a hardening agent, and the like as necessary.
  • the development processing temperature and time are interrelated, and the force determined in relation to the total processing time.
  • the development temperature is preferably about 20 ° C to about 50 ° C, more preferably 25 ° C to 45 ° C.
  • the development time is preferably 5 seconds to 2 minutes, more preferably 7 seconds to 1 minute 30 seconds.
  • the development processing in the present invention can include a fixing processing performed for the purpose of removing and stabilizing the silver salt in the unexposed portion.
  • the fixing treatment in the present invention is a standard used for silver salt photographic film, photographic paper, printing plate-making film, photomask emulsion mask and the like. A technique for landing treatment can be used.
  • Preferable components of the fixing solution used in the fixing step include the following.
  • Examples of the fixing agent for the fixing solution used in the present invention include sodium thiosulfate and ammonium thiosulfate, and ammonium thiosulfate is preferred from the viewpoint of fixing speed. Viewpoint power Sodium thiosulfate may be used.
  • the amount of these known fixing agents used can be appropriately changed, and is generally from about 0.1 mol to about 2 mol Z liter. Particularly preferred is 0.2 mol to 1.5 mol Z liter.
  • the fixer contains a hardener (eg, a water-soluble aluminum compound), a preservative (eg, sulfite, bisulfite), a pH buffer (eg, acetic acid), a pH adjuster (eg, ammonia). , Sulfuric acid), chelating agents, surfactants, wetting agents, fixing accelerators.
  • surfactant examples include anionic surfactants such as sulfates and sulfones, polyethylene surfactants, and amphoteric surfactants described in JP-A-57-6740. It is done. A known antifoaming agent may be added to the fixing solution.
  • Examples of the wetting agent include alkanolamine and alkylene glycol.
  • Examples of the fixing accelerator include thiourea derivatives described in Japanese Patent Publication Nos. 45-35754, 58-122535, and 58-122536; alcohols having triple bonds in the molecule; Examples include thioether compounds described in US Pat. No. 4126459; mesoionic compounds described in JP-A-4-229860, and compounds described in JP-A-2-44355 may be used.
  • Examples of the pH buffer include organic acids such as acetic acid, malic acid, succinic acid, tartaric acid, citrate, oxalic acid, maleic acid, glycolic acid and adipic acid, boric acid, phosphate and sulfite.
  • Inorganic buffers such as can be used.
  • the pH buffer acetic acid, tartaric acid, and sulfite are preferably used.
  • the pH buffer is used for the purpose of preventing the pH of the fixing agent from rising due to the introduction of the developer, and is preferably 0.01 mol to 1.0 mol Z liter, more preferably 0.02 mol to 0 mol. .6 mole Z ritsu For spilling.
  • the fixing solution is preferably in the range of ⁇ 4.0 to 6.5, and particularly preferably in the range of 4.5 to 6.0.
  • the dye elution accelerator a compound described in JP-A No. 64-4739 can also be used.
  • Examples of the hardener in the fixing solution of the present invention include water-soluble aluminum salts and chromium salts.
  • a preferable compound as the hardener is a water-soluble aluminum salt, and examples thereof include aluminum chloride, aluminum sulfate, potassium myoban and the like.
  • the preferred amount of added calories of the hardener is from 0.01 monole to 0.2 monole / lit nore, and more preferably from 0.03 monole to 0.08 mole liter.
  • the fixing temperature in the fixing step is preferably about 20 ° C to about 50 ° C, more preferably 25 ° C to 45 ° C.
  • the fixing time is preferably 5 seconds to 1 minute, more preferably 7 seconds to 50 seconds.
  • the replenishing amount of the fixing solution, 600mlZm 2 or less preferably fixture 500 ml / m 2 or less and more preferably fixture 300 ml / m 2 or less is particularly preferred for the process of the photosensitive material.
  • the laminated material that has been subjected to development and fixing treatment is preferably subjected to water washing treatment or stabilization treatment.
  • the water washing amount is usually 20 liters or less per lm 2 of the light-sensitive material, and can be carried out with a replenishing amount of 3 liters or less (including 0, ie, rinsing with water). For this reason, not only water-saving treatment is possible, but also piping for self-installing equipment can be eliminated.
  • a multi-stage countercurrent method for example, two-stage, three-stage, etc. has been known since ancient times.
  • the photosensitive material after fixing is gradually processed in contact with the normal direction, that is, the direction of the processing solution that is not soiled with the fixing solution. More efficient. Washed with water.
  • various oxidizer additions and filter filtration may be combined to reduce the pollution load that becomes a problem when washing with small amounts of water.
  • the overflow liquid from the washing bath or the stable bath produced by replenishing the washing bath or the stable bath with the water subjected to the prevention means according to the treatment. Part or all of As described in JP-A-60-235133, it can also be used for a treatment solution having a fixing ability, which is a previous treatment step.
  • water-soluble surfactants and antifoaming agents are added to prevent water bubble unevenness and to prevent the transfer of the processing agent component attached to the Z or squeeze roller to the processed film. You can do it.
  • a dye adsorbent described in JP-A-63-163456 may be installed in a washing tank in order to prevent contamination with dyes eluted from the photosensitive material.
  • the compounds described in JP-A-2-201357, JP-A-2-132435, JP-A-1102553, and JP-A No. 46-44446 are disclosed. May be used as the final bath of the light-sensitive material.
  • metal compounds such as ammonia compounds, Bi, A1, fluorescent brighteners, various chelating agents, membrane pH regulators, hardeners, bactericides, fungicides, alkanolamines, A surfactant can also be added.
  • Water used in the water washing or stabilization process is sterilized with tap water, deionized water, halogen, UV germicidal lamps, various oxidizing agents (such as ozone, hydrogen peroxide, and chlorate). It is preferred to use fresh water. Further, washing water containing the compounds described in JP-A-4-39 652 and JP-A-5-241309 may be used.
  • the bath temperature and time in the water washing treatment or stable temperature are preferably 0 ° C. to 50 ° C. and 5 seconds to 2 minutes.
  • the processing solution such as a developing solution and a fixing solution used in the present invention is preferably stored in a packaging material having low oxygen permeability described in JP-A-61-73147. Also, when reducing the replenishment amount, it is preferable to prevent liquid evaporation and air oxidation by reducing the contact area of the treatment tank with air.
  • a roller-conveying type automatic developing machine is described in US Pat. Nos. 30,257,795, 3,545,971, etc., and is simply referred to as a roller-conveying processor in this specification.
  • the roller transport type processor 1 is preferably developed, fixed, washed and dried, other processes (for example, the stop process) are not excluded, but the four processes are followed. Most preferably. Moreover, four steps by a stable process may be used instead of the water washing process.
  • the component obtained by removing water from the composition of the developer or the fixer is solidified. It may be used as a developer or a fixing solution after being supplied and dissolved in a predetermined amount of water.
  • a form of treating agent is called a solid treating agent.
  • powder, tablet, granule, powder, lump or paste is used as the solid processing agent.
  • a preferred form of the above-mentioned treatment agent is the form or tablet described in JP-A-61-259921.
  • the method for producing the tablets is generally described in, for example, the publications of JP-A-51-61837, JP-A-54-155038, JP-A-52-88025, and British Patent No. 1,213,808. Can be manufactured by simple methods.
  • the granule treating agent is a general method described in JP-A-2-109042, JP-A-2-109043, JP-A-3-3935 and JP-A-3-39739. Can be manufactured. Further, powder processing agents are generally described in, for example, JP-A-54-133332, British Patents 725,892 and 729,862 and German Patent 3,733,861. Can be manufactured in a conventional manner.
  • At least two kinds of mutually reactive particulate materials among the materials constituting the processing agent should be reduced by a material inert to the reactive material.
  • a method may be employed in which reactive substances are placed in layers so as to be separated by one intervening separation layer, a vacuum-packable bag is used as a packaging material, and the bag is evacuated and sealed.
  • inert means that the substances do not react under normal conditions in the package when they are in physical contact with each other, or even if there is any reaction.
  • the inert material may be inert in the intended use of the two reactive materials, apart from being inert to the two mutually reactive materials.
  • an inert substance is a substance that is used simultaneously with two reactive substances.
  • hydroquinone and sodium hydroxide in a developer react when they come into direct contact with each other. Therefore, by using sodium sulfite or the like as a separation layer between hydroquinone and sodium hydroxide in vacuum packaging, Can be stored in a knockout.
  • the packaging material for these vacuum packaging materials is an inert plastic film, a bag made from a laminate of plastic material and metal foil.
  • the mass of the metallic silver contained in the exposed portion after the development treatment is preferably 80% by mass or more with respect to the mass of silver contained in the exposed portion before the exposure. It is even more preferable that it is at least%. If the mass of silver contained in the exposed part is 50% by mass or more with respect to the mass of V and silver contained in the exposed part before exposure, high conductivity can be obtained.
  • the gradation after development processing in the present invention is not particularly limited, but is preferably more than 4.0.
  • the conductivity of the conductive metal portion can be increased while keeping the transparency of the light transmissive portion high.
  • means for setting the gradation to 4.0 or more include the aforementioned doping of rhodium ions and iridium ions.
  • an oxidation treatment can be performed after the development silver portion after the development treatment and after the formation of the conductive metal portion described later.
  • the metal By performing the oxidation treatment, for example, when the metal is slightly deposited on the light transmissive portion, the metal can be removed and the light transmissive portion can be almost 100% transparent.
  • the oxidation treatment examples include known methods using various oxidizing agents such as Fe (III) ion treatment. As described above, the oxidation treatment can be performed after the exposure and development processing of the emulsion layer and after the conductive metal portion plating treatment, and may be performed after the development processing and after the plating processing.
  • the metallic silver portion after the exposure and development treatment can be further treated with a solution containing Pd.
  • Pd can be divalent palladium ion or metallic palladium! /. This treatment can accelerate electroless plating or physical development speed.
  • a conductive metal portion is laminated for the purpose of imparting further conductivity to a developed silver portion formed by exposure and development processing.
  • the conductive metal part can be laminated by various known methods. However, as a method for selectively laminating the conductive metal part only on the developed silver part patterned by exposure and development, the method is known. Treatment is preferably used. Either copper, aluminum, or nickel can be used as the conductive metal part. Use of copper is the most preferred in terms of price and performance.
  • the physical development may be performed simultaneously with the development processing after exposure or may be performed separately after the development processing. It is preferable to carry out before laminating the conductive metal part by the force bonding process.
  • the plating treatment for forming the conductive metal portion is performed by electroless plating (chemical reduction plating or substitution plating), electrolytic plating, or both electroless plating and electrolytic plating.
  • electroless plating chemical reduction plating or substitution plating
  • electrolytic plating or both electroless plating and electrolytic plating.
  • a known plating technique can be used.
  • the ability to use the electrolysis and electroless plating techniques used in printed wiring boards and the like. The method is preferred.
  • Chemical species contained in the electroless copper plating solution include copper sulfate and copper chloride, as a reducing agent, formalin glyoxylic acid, as a copper ligand, EDTA, triethanolamine, etc.
  • additives for improving the smoothness of the coating film include polyethylene glycol, yellow blood salt, and biviridine.
  • Examples of the electrolytic copper plating bath include a copper sulfate bath and a copper pyrophosphate bath. Like the electroless copper plating solution, various ligands, bath stabilizers, additives such as a plating smoothness improver, etc. Can be added.
  • the plating speed at the time of the plating treatment in the present invention can be performed under a mild condition, and further, high-speed plating of 5 mZhr or more is possible.
  • various additives such as a ligand such as EDTA can be used from the viewpoint of improving the stability of the plating solution.
  • a triangle such as an equilateral triangle, an isosceles triangle, a right triangle, a square, a rectangle, a rhombus, a parallelogram, a trapezoid, etc.
  • geometric shapes are preferably geometric shapes that combine (positive) n-gons, circles, ellipses, stars, etc., such as quadrilaterals, (regular) hexagons, (positive) octagons, etc. More preferably, it is a mesh shape.
  • the triangular shape is the most effective, but if the line width of the visible light is the same (positive), the larger the n number of n-squares, the higher the aperture ratio increases and the visible light transmission Is advantageous. From the standpoint of preventing moiré, it is also preferable to arrange these geometric patterns randomly or change the line width without periodicity.
  • the shape of the said electroconductive metal part is not specifically limited, Arbitrary shapes can be suitably determined according to the objective.
  • the line width of the conductive metal portion is 1 ⁇ m to 50 ⁇ m, preferably 5 ⁇ m to 40 ⁇ m, more preferably 7 ⁇ m. ⁇ 30 ⁇ m.
  • the line spacing is preferably 50 ⁇ m to 500 ⁇ m, more preferably 200 ⁇ m to 400 ⁇ m, and most preferably 250 m to 350 m.
  • the conductive metal part may be wider and have a part for the purpose of strengthening the ground connection!
  • the conductive metal portion in the present invention has an aperture ratio of preferably 85% or more, more preferably 90% or more, and more preferably 95% or more from the viewpoint of visible light transmittance. Is most preferred.
  • the aperture ratio is the percentage of the mesh without fine lines. For example, the aperture ratio of a square grid mesh with a line width of 15 ⁇ m and a pitch of 300 ⁇ m is 90%.
  • a portion having transparency other than the conductive metal portion is referred to as a light transmissive portion.
  • the transmittance of the light transmissive part is 380 ⁇ excluding the contribution of light absorption and reflection of the support!
  • the transmittance indicated by the minimum value of the transmittance in the wavelength region of ⁇ 780 nm is 90% or more, preferably 95% or more, more preferably 97% or more.
  • the mesh pattern in the present invention may be one sample size required at a time! /. However, it may be continuous. It can be said that the longer the mesh pattern is, the more preferable it is because the loss in producing the optical filter material can be reduced. On the other hand, when the continuous length is large, there are problems such as roll diameter becomes large when roll-shaped, the weight of the roll becomes heavy, the pressure at the center of the roll becomes strong, and problems such as adhesion and deformation become cheap. Therefore, force that is 2000 m or less S is preferable, 100111 to 1000111 is preferable, 200 m to 800 m Is more preferable. Most preferably, it is 300m-500m.
  • the mesh may be a pattern of intersecting linear thin lines that are substantially parallel.
  • the pattern of intersecting straight thin lines that are substantially parallel means a so-called lattice pattern, and refers to a case where adjacent straight lines forming a lattice are parallel or parallel within ⁇ 2 °.
  • a scanning method of the light beam a method of exposing with a linear light source or a rotating polygon mirror arranged in a direction substantially perpendicular to the transport direction is preferable.
  • the light beam needs to be intensity-modulated by two or more values, and the straight line is battered as a series of dots. Since the dots are continuous, the edge of the fine line of one dot is stepped, but the thickness of the fine line means the narrowest length of the constricted part.
  • the light beam it is also preferable to scan a beam whose scanning direction is inclined with respect to the carrying direction in accordance with the inclination of the grating pattern. In this case, it is preferable to arrange the two scanning light beams so as to be orthogonal to each other.
  • the light beam has a substantially single intensity on the exposed surface.
  • the mesh pattern is preferably inclined by 30 ° to 60 ° with respect to the conveying direction. More preferably, it is 40 ° to 50 °, and most preferably 43 ° to 47 °. This is because it is generally difficult to create a mask whose mesh pattern is inclined at about 45 ° with respect to the frame, and it is easy to cause problems such as unevenness and high price, but this method is rather 45 °. Since unevenness does not easily occur in the vicinity, the effect of the present invention is more conspicuous than the patterning by screen printing using the mask contact exposure method.
  • the black portion in the present invention has a role of suppressing the metallic luster and preventing poor visibility, and can be recognized as substantially black. It is preferable that the black part is laminated on the developed silver part and the conductive metal part in this order, and the black part is covered over the upper and side surfaces of the conductive metal of the fine mesh wire. Constant and good visibility can be secured without depending on the viewing angle.
  • the black part contains at least two elements selected from the medium strength of nickel, zinc, tin and copper.
  • An example of a suitable lamination method is a plating method.
  • the most suitable method for forming a conductive metal part laminated with a black part more uniformly over the upper and side surfaces of the laminate is an electrolytic plating method. If the conductive metal part is also electroplated, productivity can be improved by continuous production.
  • any known black plating can be used for the plating treatment.
  • Black Ni—Zn alloy plating, black Sn—Ni alloy plating, Sn—Ni—Cu alloy plating, etc. are examples.
  • the black nickel plating bath (trade name, black nickel GT, Ni—Zn) manufactured by Ebara Eugelite Co., Ltd.
  • the black plating bath (trade name, Nitsuka black, manufactured by Nihon Kagaku Sangyo Co., Ltd.) Sn—Ni alloy system) can be used, whether under mild conditions or at high speed.
  • the thickness of the plating can be recognized as black, the thickness is not limited. ⁇ Normally, the thickness of the plating is preferably 10 ⁇ m or less, more preferably 5 ⁇ m or less.
  • a method such as a staining method may be used in combination.
  • the thickness of the support in the translucent electromagnetic wave shielding film of the present invention is preferably 5 ⁇ m to 200 ⁇ m, more preferably 30 / ⁇ ⁇ to 150 / ⁇ ⁇ . If it is in the range of 5 / ⁇ ⁇ to 200 / ⁇ ⁇ , the desired visible light transmittance can be obtained and it can be easily handled.
  • the thickness of the developed silver portion provided on the support before the conductive metal portion laminating treatment is appropriately determined according to the coating thickness of the silver salt-containing layer coating applied on the support. be able to.
  • the thickness of the developed silver portion is preferably 30 m or less, more preferably 20 m or less, and a force of 0.01 ⁇ m to 9 ⁇ m S, more preferably 0.05 ⁇ m Most preferably, it is ⁇ 5 ⁇ m.
  • the developed silver part is preferably a pattern.
  • the developed silver portion may be a single layer or a multilayer structure of two or more layers. When the developed silver part has a pattern and has a multilayer structure of two or more layers, different color sensitivity can be imparted so that it can be exposed to different wavelengths. As a result, when the exposure wavelength is changed for exposure, different patterns can be formed in each layer.
  • the translucent electromagnetic wave shielding film including the patterned developed silver portion having a multilayer structure formed as described above can be used as a high-density printed wiring board
  • the thickness of the conductive metal part is thin for use as an electromagnetic shielding material for displays. It is preferable because the viewing angle of the display is widened.
  • the thickness of the layer having the conductive metal force carried on the conductive metal portion is preferably 9 m or less, more preferably 5 ⁇ m or less.
  • a developed silver portion having a desired thickness is formed by controlling the coating thickness of the above-described silver salt-containing layer, and the thickness of the layer made of conductive metal particles can be freely controlled by physical development and Z or plating treatment. Therefore, even a translucent electromagnetic wave shielding film having a thickness of 5 ⁇ m or less, preferably 3 ⁇ m or less can be easily formed.
  • the translucent electromagnetic shielding film according to the present invention is incorporated in an optical filter, a liquid crystal display panel, a plasma display panel, other image display grat panels, or an imaging semiconductor integrated circuit represented by a CCD, etc. And bonded through an adhesive layer.
  • the refractive index of the adhesive in the adhesive layer is 1.40 ⁇ : It is preferable to use the one of L 70 V ,. This is the relationship between the transparent base material such as a plastic film used in the present invention and the refractive index of the adhesive, so that the difference is reduced to prevent the visible light transmittance from being lowered. 40- 1. 70 is good with little decrease in visible light transmittance.
  • the adhesive is an adhesive that flows by heating or pressurization. Particularly, the adhesive flows by heating at 200 ° C or less or pressurization by 1 kgfZcm 2 (9.8 N / cm 2 ) or more. It is an adhesive that exhibits
  • the adhesive layer is caused to flow on a display or a plastic plate as an adherend using the translucent electromagnetic wave shielding film of the present invention in which the conductive layer is embedded in the adhesive layer. Can be glued together. Since it can flow, translucent electromagnetic wave shielding film is laminated on the adherend, pressure molding, especially by pressure molding, curved surface, complicated It can be easily bonded to an adherend having a shape.
  • the softening temperature of the adhesive is preferably 200 ° C. or lower.
  • the softening temperature of the adhesive layer is preferably 80 ° C or higher because the environment in which it is used is usually less than 80 ° C, and the workability is also 80 ° C to 120 ° C. Is most preferred.
  • the softening temperature is a temperature at which the viscosity becomes 10 12 boise or less, and usually the flow is recognized within a time of about 1 to 10 seconds at that temperature.
  • thermoplastic resins Typical examples of the adhesive that flows by heating or pressurization as described above are mainly the following thermoplastic resins.
  • poly-2 heptirool 1,3 butadiene 1.50
  • poly-1,3-butadiene l.
  • urethane acrylate, epoxy acrylate, and polyether acrylate are excellent in terms of adhesiveness.
  • epoxy acrylate 1,6-hexanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether are used.
  • (Meth) acrylic acid adduct is mentioned.
  • a polymer having a hydroxyl group in the molecule such as epoxy acrylate, is effective in improving adhesion.
  • These copolymerized resins can be used in combination of two or more as required.
  • the softening temperature of the polymer used as the adhesive is preferably 200 ° C. or less, and more preferably 150 ° C. or less in view of handleability. Since the environment in which the translucent electromagnetic shielding film is used is usually 80 ° C. or lower, the softening temperature of the adhesive layer is most preferably 80 ° C. to 120 ° C. from the viewpoint of workability.
  • a polymer having a weight average molecular weight (measured using a standard polystyrene calibration curve by gel permeation chromatography, the same shall apply hereinafter) having a molecular weight of 500 or more.
  • the adhesive used in the present invention may contain additives such as a diluent, a plasticizer, an antioxidant, a filler, a colorant, an ultraviolet absorber and a tackifier, if necessary.
  • the thickness of the adhesive layer is particularly preferably 10 ⁇ m to 50 ⁇ m, more than the thickness of the conductive layer, preferably 10 / ⁇ ⁇ to 80 / ⁇ ⁇ .
  • the adhesive that covers the geometric figure has a refractive index difference of 0.14 or less with respect to the transparent plastic substrate.
  • the difference in refractive index between the adhesive layer and the adhesive covering the geometric figure Is less than 0.14. This is because if the refractive index of the transparent plastic substrate and the adhesive or the refractive index of the adhesive and the adhesive layer are different, the visible light transmittance is lowered, and if the difference in refractive index is 0.14 or less, it is visible. The decrease in light transmittance is small and good.
  • the transparent plastic base material is acrylic resin
  • poly (ethylene acrylate) (n l.4685)
  • poly (butyl acrylate) (n l.466)
  • acrylic acid esters can be used. Two or more of these acrylic polymers may be copolymerized as required. You can also blend two or more types.
  • epoxy acrylate, urea acrylate, polyether acrylate, polyester acrylate and the like can also be used as the copolymer resin of acrylic resin and non-acrylic resin.
  • Epoxy acrylate and polyether acrylate are particularly excellent in terms of adhesiveness.
  • Examples of epoxy acrylate include 1,6-hexanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, and aryl alcohol diglycidyl ether.
  • the weight average molecular weight of the polymer that is the main component of the adhesive is 1,000 or more. When the molecular weight is 1,000 or less, the cohesive force of the composition is too low, and the adhesion to the adherend is reduced.
  • amines such as triethylenetetramine, xylenediamine, diaminodimethane, phthalic anhydride, maleic anhydride, dodecyl succinic anhydride, anhydrous pyromellitic acid, benzophenone anhydride tetracarboxylic acid
  • Acid anhydrides such as acids, diaminodiphenyl sulfone, tris (dimethylaminomethyl) phenol, polyamide resin, dicyandiamide, ethylmethylimidazole and the like can be used. These may be used alone. Two or more kinds may be mixed and used.
  • the addition amount of these cross-linking agents is selected in the range of 0.1 to 50 parts by mass, preferably 1 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer. If the added amount is less than 0.1 parts by mass, curing is insufficient, Exceeding an amount may cause excessive crosslinking, which may adversely affect the adhesion. If necessary, additives such as diluents, plasticizers, antioxidants, fillers and tackifiers may be blended in the adhesive resin composition used in the present invention. The adhesive resin composition is applied to cover a part or the entire surface of the base material of the constituent material provided with a geometric figure drawn with a conductive material on the surface of the transparent plastic base material.
  • the adhesive film according to the present invention is obtained.
  • the adhesive film having electromagnetic shielding properties and transparency obtained as described above can be used by directly sticking it to a display such as CRT, PDP, liquid crystal, EL, etc. with an adhesive of the adhesive film, an acrylic plate, a glass plate, etc. Paste it on the sheet and use it for the display.
  • this adhesive film is used in the same manner as described above for windows and casings for looking inside measuring devices, measuring devices and manufacturing devices that generate electromagnetic waves.
  • it will be installed on the windows of buildings and automobile windows where electromagnetic wave interference may occur due to radio towers or high-voltage lines. And it is preferable to provide a ground wire for geometrical figures drawn with conductive materials.
  • the portion of the transparent plastic substrate from which the conductive material has been removed is intentionally uneven to improve adhesion, or the surface of the conductive material is transferred to transfer the back surface shape. Light is scattered on the surface and the transparency is impaired. However, if a resin with a refractive index close to that of the transparent plastic base material is smoothly applied to the uneven surface, irregular reflection is minimized and transparency appears. A little Furthermore, geometric figures drawn with a conductive material on a transparent plastic substrate cannot be seen with the naked eye because the line width is very small. In addition, the pitch is sufficiently large so that it appears to be transparent. On the other hand, since the pitch of the geometric figure is sufficiently small compared to the wavelength of the electromagnetic wave to be shielded, it is considered that excellent shielding properties are exhibited.
  • a laminate of a transparent base film and a metal foil is used as a transparent base film as a highly heat-fusible ethylene vinyl acetate copolymer resin, or
  • a film of heat-fusible resin such as ionomer resin
  • Lamination is performed by a dry laminating method using an agent layer.
  • the adhesive that constitutes the adhesive layer includes acrylic resin, polyester resin, polyurethane resin, and polyvinyl alcohol. Examples of such adhesives include coal resin, chlor chloride, Z-acetate copolymer resin, and ethylene acetate resin copolymer resin.
  • thermosetting resin, ionizing radiation-curable resin UV curable resin, electron beam curable resin, etc.
  • the surface of the display is made of glass, it is only a transparent plastic film and a glass plate that are bonded together using an adhesive. If bubbles are formed on the adhesive surface or peeling occurs. Problems occur such as the image being distorted and the display color appearing different from the original display. In any case, the problem of bubbles and peeling occurs when the adhesive peels off from the plastic film or glass plate. This phenomenon may occur on both the plastic film side and the glass plate side, and peeling occurs on the side with weaker adhesion. Therefore, it is necessary that the adhesion between the adhesive material and the plastic film or glass plate at high temperature is high.
  • the adhesive strength between the transparent plastic film and glass plate and the adhesive layer is preferably at least 1OgZcm at 80 ° C! /. More preferably, it is 30 gZcm or more.
  • an adhesive material exceeding 2000 gZcm may not be preferable because it makes the bonding work difficult. However, it can be used without problems if no significant problems occur.
  • the adhesive is preferably transparent. Specifically, the total light transmittance is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, and most preferably 85% to 92%. Furthermore, it is preferable that the temperature is low. Specifically, 0% to 3% is preferable, and 0% to 1.5% is more preferable.
  • the adhesive material used in the present invention is preferably colorless so as not to change the original display color of the display. However, even if the resin itself is colored, it can be regarded as virtually colorless if the adhesive material is thin. Similarly, this is also not the case when intentionally coloring as described later.
  • Examples of the adhesive having the above-mentioned properties include acrylic resin, a 1-year-old refin resin, vinyl acetate resin, acrylic copolymer resin, urethane resin, epoxy resin, Examples thereof include a vinyl chloride-based resin, a vinyl chloride-based resin, an ethylene butyl acetate-based resin, a polyamide-based resin, and a polyester-based resin. Of these, acrylic resin is preferred. Good. Even when the same coagulant is used, the adhesive properties can be reduced by reducing the amount of crosslinking agent added, adding a tackifier, or changing the end groups of the molecules when the adhesive material is synthesized by the polymerization method. It is also possible to improve.
  • the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably about 5 ⁇ m to 50 ⁇ m.
  • the thickness is preferably reduced within the above range. Specifically, it is about 1 111-20 111.
  • the display color of the display itself is not changed as described above, and the transparency is within the above range! In the case of rolling, the thickness may exceed the above range.
  • the permeable electromagnetic shielding film according to the present invention can be provided with a peelable protective film.
  • the protective film does not necessarily have to be provided on both surfaces of the electromagnetic wave shielding sheet 1 (transmitting electromagnetic wave shielding film), as shown in (a) of JP-A-2003-188576. It is only necessary to have the protective film 20 on the mesh-like metal foil 11 ′ and not on the transparent base film 14 side. Further, as shown in (b) of the above publication, the protective film 30 is only provided on the transparent base film 14 side of the laminate 10 and may not be provided on the metal foil 11 ′. In FIG. 2 and FIG. 1 of the above publication, the same reference numerals denote the same parts.
  • the transparent base material film 14 in the electromagnetic wave shielding sheet 1 and the mesh-like metal foil 11 in which the apertures are closely arranged are laminated at least with an electromagnetic wave shielding layer having strong transparency.
  • the layer structure of the laminate and the manufacturing process of the laminate will be described with reference to FIGS. 3 (a) to 3 (f) of the above publication.
  • the lamination of the protective film 20 or Z and the protective film 30 will be described again after the description of the manufacturing process of the laminate.
  • a laminate is prepared in which a transparent base film 14 and a metal foil 11 are laminated via an adhesive layer 13.
  • the transparent base film 14 may be acrylic resin, polycarbonate resin, polypropylene resin, polyethylene resin, polystyrene resin, polyester resin, cellulosic resin, polysulfone resin, or polysalt resin.
  • a film such as rosin can be used.
  • a polyester resin film such as polyethylene terephthalate resin having excellent mechanical strength and high transparency is preferably used.
  • the thickness of the transparent base film 14 is not particularly limited, but it is preferably about 50 / ⁇ ⁇ to 200 / ⁇ ⁇ in terms of mechanical strength and increased resistance to bending. May increase. When the electromagnetic wave shielding sheet 1 is used by being laminated on another transparent substrate, the thickness may not necessarily be greater than this range. If necessary, the transparent substrate film 14 may be subjected to a corona discharge treatment on one or both surfaces, or an easy adhesion layer may be provided.
  • the electromagnetic wave shielding sheet 1 is formed on the front and back of the laminate obtained by laminating the above laminate on one substrate via an infrared cut filter, etc. Since the sheets with the effects of reinforcing the outermost surface, imparting antireflection properties and imparting antifouling properties are used in layers, the above protective film must be peeled off during such further lamination. For this reason, it is desirable that the protective film is laminated on the metal foil side so that it can be peeled off.
  • the peel strength when the protective film is laminated on the metal foil is preferably 5mNZ25mm width to 5mNZ2 5mm width, more preferably 10mNZ25mm width to 100mNZ25mm width. If it is less than the lower limit, it is easy to peel off, and the protective film may be peeled off during handling or inadvertent contact. If the upper limit is exceeded, a large force is required for peeling.
  • the mesh-like metal foil may peel off from the transparent base film (or from the adhesive layer), which is also not preferable.
  • the electromagnetic wave shielding sheet 1 a laminate (which may be accompanied by a blackish layer) in which a mesh-like metal foil is laminated on the transparent substrate film 14 with an adhesive layer 13 interposed therebetween.
  • the protective film laminated on the lower surface side that is, the transparent substrate film side, is handled by the lower surface of the transparent substrate film. In order to prevent damage due to medium or inadvertent contact, and to prevent the exposed surface of the transparent substrate film from being contaminated or eroded, particularly during etching, in each step of etching with a resist layer on the metal foil. It is for protection.
  • this protective film also needs to be peeled off when the laminate is further laminated, so that the lamination of the protective film on the transparent substrate film side can also be peeled off.
  • the peel strength that is desired to be performed is preferably 5 mN / 25 mm width to 5 NZ25 mm width, more preferably 10 mNZ25 mm width to 10 OmNZ25 mm width, as with the protective film. If it is less than the lower limit, peeling is too easy and the protective film may be peeled off during handling or inadvertent contact, and if it exceeds the upper limit, a large force is required for peeling.
  • the protective film laminated on the transparent substrate film side can withstand etching conditions, for example, an etching solution of about 50 ° C, in particular, an alkali solution that is not eroded during immersion for several minutes. It is desirable or in the case of dry etching, it should be able to withstand a temperature condition of about 100 ° C.
  • etching conditions for example, an etching solution of about 50 ° C, in particular, an alkali solution that is not eroded during immersion for several minutes. It is desirable or in the case of dry etching, it should be able to withstand a temperature condition of about 100 ° C.
  • the coating liquid adheres to the opposite surface of the laminated body, so that the photosensitive solution is etched during the etching process. It is preferable that the adhesive of the photosensitive resin is obtained so that the photosensitive resin does not peel off and drift in the etching solution.
  • iron chloride, copper chloride, etc. It is preferable to have durability that resists contamination by the etching solution
  • polyethylene resin which is a polyolefin resin, polypropylene resin, polyester resin such as polyethylene terephthalate resin
  • a resin film such as polycarbonate resin or acrylic resin.
  • at least the surface of the protective film that is the outermost surface when applied to the laminate is corona. It is preferable to perform a discharge treatment or to laminate an easy adhesion layer.
  • an acrylic ester, rubber, or silicone material can be used as the adhesive material constituting the protective film.
  • the above-described protective film material and adhesive material can be applied as they are to the protective film applied to the metal foil side, so that different protective films may be used. Good. The same thing can be both protective films.
  • the optical filter according to the present invention can have a functional film including a composite functional layer in addition to the above-described translucent electromagnetic wave shielding film.
  • the functional film (C) is anti-reflective (AR: anti-reflection) to suppress external light reflection or mirror image. It is necessary to have a function of anti-glare (AG: anti-glare) or anti-reflection / anti-glare (ARAG) having both characteristics to prevent the reflection of the image.
  • AR anti-reflective
  • AG anti-glare
  • AOG anti-reflection / anti-glare
  • the functional film (C) having antireflection has an antireflection film, and specifically, a fluorine having a refractive index of 1.5 or less, preferably 1.4 or less in the visible region.
  • There are two or more layers of thin films of inorganic compounds such as halides, nitrides and sulfates, or organic compounds such as silicon-based resins, acrylic resins, and fluorine-based resins. It's not a thing!
  • the visible light reflectance of the surface of the functional film (C) having antireflection properties is 2% or less, preferably 1.3% or less, and more preferably 0.8% or less.
  • the anti-glare functional film (C) has an anti-glare film that is transparent to visible light having a surface state of minute irregularities of about 0.1 m to: LO m. .
  • An ink prepared by dispersing particles of an inorganic compound or an organic compound such as a silicon compound, melamine, or talyl is applied onto a substrate and cured. The average particle size of the particles is 1 ⁇ m to 40 ⁇ m.
  • the above-mentioned thermosetting or photocurable resin is applied to the substrate and has a desired daros value or surface state.
  • the anti-glare property can also be obtained by pressing and curing the mold, but is not necessarily limited to these methods.
  • the haze of the anti-glare functional film (C) is from 0.5% to 20%, preferably from 1% to 10%. If the haze is too small, the antiglare property is insufficient, and if the haze is too large, the transmitted image sharpness tends to be low.
  • the functional film (C) has a hard coat property.
  • the hard coat film include thermosetting or photocurable resin such as acrylic resin, silicon resin, melamine resin, urethane resin, alkyd resin, and fluorine resin. The type and formation method are not particularly limited. The thickness of these films is about 1 ⁇ m to 50 m.
  • the pencil hardness according to JISK-5400 is at least H, preferably 2H, more preferably 3H or more.
  • the optical filter may need to be subjected to an antistatic treatment because dust may adhere to it due to electrostatic charging or may be discharged and receive an electric shock when the human body comes into contact with it. Therefore, the functional film (C) may have conductivity! / ⁇ in order to impart antistatic ability.
  • the electrical conductivity required in this case should be about 10 11 ⁇ ZZsq or less in terms of surface resistance! Examples of the method for imparting conductivity include a method for containing an antistatic agent in the film and a method for forming a conductive layer.
  • the antistatic agent examples include the trade name Pelestat (manufactured by Sanyo Kasei Co., Ltd.), the trade name Electroslipper (manufactured by Kao Corporation), and the like.
  • the conductive layer examples include known transparent conductive films such as ITO, and conductive films in which conductive ultrafine particles such as ITO ultrafine particles and oxide tin ultrafine particles are dispersed. It is preferable that the hard coat film, the antireflection film, and the string protection film have a conductive film or conductive fine particles.
  • the functional film (C) has an antifouling property! /, Since it can be easily removed when the fingerprint is prevented or stained.
  • Those having antifouling property are those having non-wetting properties against water and Z or fats and oils, and examples thereof include fluorine compounds and key compounds.
  • fluorine-based antifouling agent the trade name OPTOOL ( Daikin Co., Ltd.) and the like
  • Takata Quantum trade name Takata Quantum (manufactured by NOF Corporation) and the like can be mentioned.
  • the functional film (C) preferably has an ultraviolet cut property for the purpose of preventing deterioration of a dye or a polymer film described later.
  • Examples of the functional film (C 2) having an ultraviolet cut property include a method of adding an ultraviolet absorbent to the polymer film described later and an ultraviolet absorbing film.
  • the functional film (C) has gas barrier properties because water may aggregate on the interface and become cloudy, or the tackifier in the adhesive may phase separate and precipitate due to the influence of moisture. It is preferable. In order to prevent such pigment deterioration and fogging, it is important to prevent moisture from entering the pigment-containing layer and the adhesive layer, and the water vapor permeability of the functional film (C) is lOgZm 2 ⁇ Day or less, preferably 5gZm 2 ⁇ day or less.
  • the polymer film (A), the conductive mesh layer (B), the functional film (C), and the transparent molded product (E), which will be described later if necessary, are resistant to visible light. Bonded via any transparent and adhesive material (Dl) (D2). Adhesive or adhesive (Dl),
  • (D2) examples include acrylic adhesives, silicone adhesives, urethane adhesives, polyvinyl butyral adhesives (PVB), ethylene vinyl acetate adhesives (EVA), etc.
  • -Luether, saturated amorphous polyester, melamine rosin, etc. may be used, so long as they have practical adhesive strength, they can be in sheet form or liquid form!
  • a sheet-like pressure sensitive adhesive can be suitably used. Bonding is performed by laminating each member after application of the adhesive sheet or after application of the adhesive. Liquid is an adhesive that cures when left at room temperature or heated after application and bonding.
  • the coating method is selected in consideration of the type of adhesive, viscosity, coating amount, etc., which include the no coat method, reverse coat method, gravure coat method, die coat method and roll coat method.
  • the thickness of the layer is not particularly limited, but is 0.5 m to 50 ⁇ m, preferably 1 ⁇ m to 30 ⁇ m. . It is preferable that the surface on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed and the surface to be bonded are previously improved in wettability by an easy adhesion treatment such as an easy adhesion coat or corona discharge treatment. In the present invention, the above-mentioned adhesive or adhesive transparent to visible light is referred to as a translucent adhesive.
  • the light-transmitting pressure-sensitive adhesive layer (D1) is particularly used.
  • Specific examples of the translucent adhesive used for the translucent adhesive layer (D1) are the same as described above, but it is important that the thickness of the conductive mesh layer (B) can be sufficiently embedded. is there. If the thickness of the conductive mesh layer (B) is too thin, a gap will be formed due to insufficient embedding, and bubbles will be swallowed into the recesses, resulting in a turbid display filter with insufficient translucency. On the other hand, if it is too thick, problems such as an increase in the cost of producing an adhesive material and poor handling of the members occur.
  • the thickness of the conductive mesh layer (B) is dm
  • the thickness of the translucent adhesive (D1) is (d-2) / ⁇ ⁇ ! It is preferable to be (d + 30) / zm.
  • the visible light transmittance of the optical filter is preferably 30% to 85%. More preferably, it is 35% to 70%. If it is less than 30%, the luminance is too low and visibility is deteriorated. Also, if the visible light transmittance of the display filter is too high, the display contrast cannot be improved.
  • the visible light transmittance in the present invention is calculated according to JISR-3106 from the wavelength dependence of the transmittance in the visible light region.
  • the functional film (C) is bonded onto the conductive mesh layer (B) via the translucent adhesive layer (D1), air bubbles are swallowed into the recesses, making it cloudy and translucent.
  • a pressure treatment is performed, the gas that has entered between the members at the time of bonding is defoamed or dissolved in an adhesive material to eliminate turbidity and improve translucency. be able to.
  • the pressure treatment may be performed in the state of the configuration of (C) / (Dl) / (B) / (A) or in the state of the display filter of the present invention.
  • Examples of the pressurizing method include a method in which a laminate is sandwiched between flat plates, a press method, a method of passing between press rolls while pressurizing, and a method of pressing in a pressurization vessel, but are not particularly limited. .
  • the method of pressurizing in a pressure vessel is preferable because pressure is uniformly applied to the entire laminate and there is no unevenness of pressurization, and more than one laminate can be processed at a time.
  • Pressurization An autoclave device can be used as the container.
  • the pressure is about 0.2 MPa to 2 MPa, preferably 0.4 to 1.3 MPa.
  • the caloric pressure time varies depending on the caloric pressure condition and is not particularly limited. However, if the length is too long, the processing time is increased and the cost is increased. Therefore, it is preferable that the holding time under appropriate pressure conditions is 6 hours or less. . In particular, in the case of a pressurized container, it is preferable to hold for about 10 minutes to 3 hours after reaching the set pressure.
  • the fluidity of the translucent adhesive is temporarily increased, making it easy to degas bubbles that have been squeezed, and the bubbles are more likely to dissolve in the adhesive.
  • the heating condition is about room temperature to about 80 ° C. depending on the heat resistance of each member constituting the optical filter, but is not particularly limited.
  • the pressurizing process or the pressurizing and heating process is preferable because it can improve the adhesion after bonding between the components constituting the optical filter.
  • the translucent adhesive layer (D2) is provided on the other main surface of the polymer film (A) where the conductive mesh layer (B) is not formed.
  • Specific examples of the translucent adhesive used for the translucent adhesive layer (D2) are as described above, and are not particularly limited.
  • the thickness is not particularly limited, but is 0.5 m to 50 ⁇ m, preferably 1 ⁇ m to 30 ⁇ m. It is preferable that the surface on which the light-transmitting pressure-sensitive adhesive layer (D2) is formed and the surface to be bonded are previously improved in wettability by an easy adhesion treatment such as an easy adhesion coating or a corona discharge treatment.
  • a release film may be formed on the translucent adhesive layer (D2). That is, at least a functional film (C) Z translucent adhesive layer (Dl) Z conductive mesh layer (B) Z polymer film (A) Z translucent adhesive layer (D2) Z release film It is.
  • the release film is obtained by coating silicone or the like on the main surface of a polymer film that is in contact with the adhesive layer.
  • the optical filter of the present invention is bonded to the main surface of the transparent molded product (E) described later, or when it is bonded to the display surface, for example, the front glass of a plasma display panel, the release film is peeled off to make it transparent. Bonding after exposing the light-sensitive adhesive layer (D2) The
  • the optical filter of the present invention is mainly used for the purpose of blocking electromagnetic waves generated by various display forces.
  • a preferable example is a plasma display filter.
  • the display filter of the present invention since the plasma display generates intense near-infrared rays, the display filter of the present invention has practically no problem, and it is necessary to power not only electromagnetic waves but also near-infrared rays to the level. . Wavelength range 800 ⁇ ! ⁇
  • the transmittance in lOOOnm needs to be 25% or less, preferably 15% or less, more preferably 10% or less.
  • the optical filter used in the plasma display is required to have a transmitted color of-neutral gray or blue gray. This is also the power that the light emission characteristics and contrast of the plasma display need to be maintained or improved, and that whites with a slightly higher color temperature than standard whites may be preferred.
  • a color plasma display has insufficient color reproducibility, and it is preferable to selectively reduce unnecessary light emission from the phosphor or discharge gas which is the cause.
  • the emission spectrum of red display shows several emission peaks ranging from 580 nm to 700 nm, and the red emission is close to orange due to the emission peak on the relatively strong V and short wavelength side, and the color purity is improved. ! /
  • These optical properties can be controlled by using a dye.
  • a near-infrared absorber can be used for near-infrared cut, and a dye that selectively absorbs unnecessary luminescence can be used to reduce unnecessary luminescence. It is also possible to make the color tone suitable by using a dye having appropriate absorption in the visible region.
  • a method of containing a dye (1) at least one kind of dye and a polymer film or a resin board mixed with a transparent resin, (2) at least one kind of dye, a resin Or a polymer film or a resin board that is dispersed and dissolved in a resin concentrate in an organic solvent, and is prepared by a casting method. (3) At least one type of dye, an organic binder and an organic solvent. In addition to the system solvent, one or more of a paint, a polymer film or a resin coated on a resin board, and (4) a transparent adhesive containing at least one pigment can be selected. It is not limited to.
  • the term “containing” refers to a base material or Of course, it is contained in a layer such as a coating film or the inside of an adhesive material, and means a state where it is applied to the surface of a substrate or a layer.
  • the above-mentioned dye is a general dye or pigment having a desired absorption wavelength in the visible region, or a near-infrared absorber, and the type thereof is not particularly limited.
  • organic dyes that are generally commercially available, such as minimum compounds.
  • the type'concentration is determined by the absorption wavelength of the dye, the absorption coefficient, the transmission characteristics required for the optical filter, the transmittance, and the type of the medium or coating film to be dispersed, and is not particularly limited. .
  • the dye Since the temperature of the optical filter rises especially when the temperature of the environment where the temperature of the panel surface is high in the plasma display panel, the dye has a heat resistance that does not deteriorate significantly due to decomposition, for example, at 80 ° C. It is preferred that In addition, some dyes have poor light resistance in addition to heat resistance. If the plasma display emits light or the UV light from outside light 'deterioration due to visible light becomes a problem, it is possible to reduce the deterioration of the dye due to UV light by using a material that contains an UV absorber or a material that does not transmit UV light. It is important to use a dye that does not significantly deteriorate due to lines or visible light. The same applies to heat and light as well as humidity and their combined environment.
  • the transmission characteristics of the optical filter will change, changing the color tone and reducing the near-infrared cutting ability.
  • solubility and dispersibility in an appropriate solvent are also important.
  • two or more kinds of dyes having different absorption wavelengths may be contained in one medium or coating film.
  • it may have two or more mediums and coating films containing pigments.
  • the above methods (1) to (4) containing a dye include a high molecular film (A) containing a dye, a functional film (C) containing a dye, and a dye.
  • the layer containing the dye itself and at least one layer selected on the viewer side receiving external light from the layer have a layer having an ultraviolet cutting ability. It is preferable that For example, when the polymer film (A) contains a pigment, the translucent adhesive layer (D 1) and Z or the functional film (C) contains an ultraviolet absorber or has a function of cutting ultraviolet rays. If it has a film
  • the transmittance in the ultraviolet region shorter than the wavelength of 380 nm is 20% or less, preferably 10% or less, more preferably 5% or less.
  • the functional film having ultraviolet ray cutting ability may be a coating film containing an ultraviolet absorber or an inorganic film that reflects or absorbs ultraviolet rays.
  • Conventionally known UV absorbers such as benzotriazole and benzophenone can be used, and the type of concentration is the dispersibility or solubility in the medium to be dispersed or dissolved, the absorption wavelength, the absorption coefficient, the thickness of the medium. It is determined from the above and is not particularly limited.
  • the layer or film having the ability to cut off ultraviolet rays preferably has little absorption in the visible light region and does not significantly lower the visible light transmittance or exhibit a color such as yellow.
  • the functional film (C) containing a dye when a layer containing a dye is formed, a polymer film that is good if the film or functional film on the viewer side of the layer has an ultraviolet cutting ability.
  • the dye may be deteriorated by contact with a metal.
  • a metal such as aluminum, copper, magnesium, or magnesium.
  • the dye-containing layer is preferably a functional film (C), a polymer film (A), or a translucent adhesive layer (D2), particularly a translucent adhesive layer (D2). Preferably there is.
  • the optical filter of the present invention comprises a polymer film (A), a conductive mesh layer (B), a functional film (C), a translucent adhesive layer (D1), and a translucent adhesive layer.
  • (D2) is configured in the order of (C) / (D1) / (B) / (A) / (D2), preferably a conductive mesh layer (B) and a polymer film
  • the conductive mesh film composed of (A) and the functional film are bonded together with the light-transmitting adhesive layer (D1), and the main film on the opposite side of the polymer film (A) from the conductive mesh layer (B).
  • the surface is provided with a translucent adhesive layer (D2).
  • the optical filter of the present invention is mounted on a display
  • the functional film (C) is mounted on the viewer side
  • the translucent adhesive layer (D2) is on the display side.
  • the method of using the optical filter of the present invention by providing it on the front surface of the display includes a method of using it as a front filter plate using a transparent molded product (E) described later as a support, and a translucent property on the display surface.
  • a transparent molded product (E) described later as a support
  • a translucent property on the display surface There is a method of bonding and using the adhesive material layer (D2).
  • D2 adhesive material layer
  • installation of the optical filter is relatively easy, and the mechanical strength is improved by the support, which is suitable for protecting the display.
  • Examples of the transparent molded product (E) include a glass plate and a translucent plastic plate. From the viewpoint of mechanical strength, lightness, and resistance to cracking, a plastic plate is preferable, but a small thermal stability such as deformation due to heat and a glass plate can also be used suitably.
  • Specific examples of the plastic plate include acrylic resin such as polymethyl methacrylate (PMMA), polycarbonate resin, and transparent ABS resin, but are not limited to these resins. In particular, PMMA can be suitably used because of its high transparency and high mechanical strength in a wide wavelength range.
  • the thickness of the plastic plate is not particularly limited as long as sufficient mechanical strength and rigidity to maintain flatness without bending are obtained, but usually lmn! ⁇ About 10mm.
  • the glass is preferably a semi-tempered glass plate or a tempered glass plate that has been subjected to chemical strengthening or air-cooling strengthening to add mechanical strength.
  • the thickness is lmn! It is preferably about 4 mm, but is not particularly limited.
  • the transparent molded product (E) can be subjected to various known pretreatments necessary before bonding the films, and may be printed with a colored frame such as black on the portion that becomes the peripheral edge of the optical filter.
  • the composition of the optical filter when using the transparent molded product (E) is at least a functional film (C) Z light-transmitting adhesive layer (Dl) Z conductive mesh layer (B) Z polymer film ( A) Z transparent adhesive layer (D2) Z transparent molded product (E). Translucent adhesive of transparent molded product (E)
  • the functional film (C) may be provided on the main surface opposite to the surface to be bonded to the material layer (D2) via a translucent adhesive material layer. In this case, it is not necessary to have the same function as the functional film (C) provided on the observer side.For example, when it has an antireflection function, the back reflection of the optical filter having the support is not required. Can be reduced.
  • a functional film (C2) such as an antireflection film may be formed on the main surface opposite to the surface to be bonded to the transparent adhesive material layer (D2) of the same transparent molded product (E).
  • the functional film (C2) can be placed on the display with the observer side, but as described above, the layer having the ability to cut off ultraviolet rays is a layer closer to the observer than the dye-containing layer and the dye-containing layer. It is preferable to provide in.
  • a window-shaped electromagnetic wave shielding filter having a translucent conductive layer such as the optical filter of the present invention, is installed.
  • the optical filter since the electromagnetic wave is absorbed in the conductive layer and then induces an electric charge, if the electric charge is not released by taking the ground, the optical filter again becomes an antenna to oscillate the electromagnetic wave and the electromagnetic wave shielding ability is lowered. Therefore, the optical filter and the ground part of the display body must be in electrical contact.
  • the above-mentioned translucent adhesive layer (D1) and functional film (C) need to be formed on the conductive mesh layer (B) leaving a conductive portion that can be electrically connected from the outside. is there.
  • the shape of the conducting portion is not particularly limited, but it is important that there is no gap for electromagnetic wave leakage between the optical filter and the display body. Therefore, it is preferable that the conductive portion is provided continuously at the peripheral portion of the conductive mesh layer (B). In other words, it is preferable that the conductive portion is provided in a frame shape except for the central portion which is the display portion of the display.
  • the conductive portion may be a mesh pattern layer or a non-patterned metal foil layer, for example.
  • the conductive part should be patterned like a metal foil solid layer.
  • the conducting part is not patterned, for example, like a metal foil solid, and when the mechanical strength of Z or the conducting part is sufficiently strong, the conducting part can be used as an electrode. It is suitable.
  • an electrode on the conductive part it is preferable to form an electrode on the conductive part to protect the conductive part and to make good electrical contact with the grounding part when Z or the conductive part is a mesh pattern layer.
  • the shape of the electrode is not particularly limited, but it is preferable that the electrode is formed so as to cover all the conductive portions.
  • the material used for the electrode is composed of a single substance or two or more of silver, copper, nickel, aluminum, chromium, iron, zinc, carbon, etc. in terms of conductivity, contact resistance and adhesion to the transparent conductive film.
  • An alloy, a synthetic resin and a single substance or a mixture of these alloys, or a paste that also has a mixture force between a borosilicate glass and these single substances or an alloy can be used. Conventionally known methods can be employed for printing and coating the paste.
  • Commercially available conductive tape can also be suitably used.
  • the conductive tape is conductive on both sides, and a single-sided adhesive type and a double-sided adhesive type using a carbon-dispersed conductive adhesive can be suitably used.
  • the thickness of the electrode is also not particularly limited, but is about several / zm to several mm.
  • an optical filter having excellent optical characteristics that can maintain or improve the image quality without significantly impairing the luminance of the plasma display.
  • it has excellent electromagnetic shielding ability to block electromagnetic waves that have been pointed out to be harmful to the health of the plasma display, and near-infrared rays in the vicinity of 800 nm to 1000 nm are also emitted from the plasma display. Therefore, it is possible to obtain an optical filter that does not adversely affect the wavelengths used by the remote control of peripheral electronic devices, transmission optical communication, etc., and can prevent malfunctions thereof.
  • an optical filter having excellent weather resistance can be provided at a low cost.
  • Liquid I shown in Table 1 was placed in the charging vessel and maintained at 36 ° C, and liquids II and III in Table 1 were stirred in 30 minutes while stirring. At this time, the added amounts of solution II and III were adjusted by adjusting the amount of added force of solution III so that the pAg was 8.88 during the addition time of 30 minutes. After that, it was washed with water according to the conventional method. Specifically, the temperature is lowered to 32 ° C, 15 g of the ionic precipitant 1 shown below is added, pH is adjusted with sulfuric acid to a pH of 3.9 ⁇ 0.2, and Logeny silver was allowed to settle.
  • the obtained silver halide silver emulsion was silver iodobromide having an average grain size of 0.05 ⁇ m and containing 2.3 mol% of iodine.
  • Halogenated silver emulsions b to e were prepared in the same manner except that the temperature in the charging vessel shown in Table 2 below and the addition times of the II and III solutions were changed. At this time, the amount of the char-on precipitating agent 1 was adjusted so that the precipitating agent per unit surface area was constant.
  • Table 2 shows the average grain size of the finished silver halide emulsion and the adjustment conditions and average grain size of the above silver halide emulsion a .
  • the coating solution shown in Table 3 below was prepared using the silver halide emulsion shown in Table 2 above, and the coating amount as silver in the silver halide emulsion with a coating width of 25 cm on 30 cm wide polyethylene terephthalate (PET). The coating was carried out at 20 mZ for a 7 gZm 2 . A photosensitive material with a width of 24 cm was produced by cutting off both ends by 3 cm so as to leave 24 cm in the center of the coated part. Photosensitive materials A to E were prepared by using a halogenated silver emulsion from a to e by the method as described above.
  • exposure heads using DMDs digital 'mirror' devices described in the embodiments of JP 2004-1244 A are arranged so as to have a width of 25 cm, and are placed on the emulsion layer of the photosensitive material.
  • the exposure head and exposure stage were curved and arranged so that the laser beam was imaged.
  • the wavelength of exposure was 400 nm
  • the beam shape was approximately 12 m
  • the output of the laser light source was 100 J.
  • the exposed photosensitive materials A to E were processed using an automatic processor FG-710PTS manufactured by Fuji Film Co., Ltd .: Development 35 ° C 30 seconds, fixing 34 It was performed for 23 seconds by washing with running water (5 LZmin) for 20 seconds.
  • the developed materials A to E were subjected to conductive metal part plating treatment under the following conditions and processing agents. That is, the post-development sample prepared in the above process is attached to the electric field plating apparatus using an electrolytic plating apparatus equipped with the electrolytic plating plate 10 shown in FIG. 1 so that the mesh forming surface of the sample is in contact with the feeding roller. Measure processing was performed.
  • the surface of a stainless steel roller (10cm ⁇ ) with a mirror finish is used as the feed rollers 12a and 12b, and a 0.1mm thick copper electroplated surface is used. A 5 cm ⁇ roller was used. By adjusting the height of the guide rollers 14, a constant in-liquid treatment time was secured even if the line speed was different.
  • Electrolytic copper plating solution composition (same replenisher composition)
  • electrolytic plating was performed using the following treatment agent and treatment with conductive metal parts. .
  • Electrolytic plating 12 50 ° C 35 seconds Voltage 3V
  • Electrolytic plating was performed in the same manner as the black portion treatment (1) except for the plating treatment agent and treatment conditions.
  • Electrolytic plating was performed in the same manner as the black portion treatment (1) except for the plating treatment agent and treatment conditions.
  • Electrolytic plating was performed in the same manner as the black portion treatment (1) except for the plating treatment agent and treatment conditions.
  • Electrolytic plating 12 35 ° C Voltage 2V
  • Electrolytic plating 13 35 ° C 35 seconds Voltage 2V
  • Electrolytic plating 14 35 ° C 35 seconds Voltage 1.5 V
  • Electrolytic plating 12 45 ° C 35 seconds Voltage
  • Nitsuka Black manufactured by Nippon Igaku Sangyo Co., Ltd.
  • electrolytic plating was performed on the laminated materials A to E under the following processing conditions.
  • Electrolytic plating 12 50 ° C 35 seconds Voltage 3V
  • a black portion forming treatment was performed so that the laminate materials A to E were immersed for 3 minutes at a temperature of 75 ° C.
  • Trisodium phosphate 12gZL [0195] Corresponding laminated materials as shown in Table 4 below were produced. For the exposure, development, fixing, and plating treatment for conductive metal parts, the above-mentioned formulations were used in common for all the processes.
  • the sample was cut so that the surface and cross section of the thin wire in the sample could be observed, and observed with a scanning electron microscope S-4300SEZN (manufactured by Hitachi Instrument Service Co., Ltd.). At this time, the case where the black layer completely covered the surface and side surfaces of the thin wire and the conductive metal portion was not visible on the surface was evaluated as “O”.
  • Each finished sample is bonded to a glass plate with a thickness of 2.5mm and outer dimensions of 200mm x 200mm with a transparent acrylic adhesive on the PET surface as a bonding surface, and placed on the front of the PDP to check the visibility did.
  • the screens other than the part where the visibility was confirmed were covered with black paper twice, and the sample was observed for eye fatigue and flickering when viewed for 10 minutes.
  • a part of the sample before the aging that had no image failure was selected as the test sample, but when the failure part inevitably entered, the part was covered with black tape as small as possible for evaluation. The results obtained are shown in Table 5.
  • Comparative Examples 1 to 4 there is no image failure because the black portions are not laminated, but the visibility is poor and the object of the present invention cannot be achieved. It can be seen that Comparative Examples 5 to 15, 19 and 20 do not satisfy the performance of image failure after processing, and Comparative Examples 16 to 18 do not satisfy the performance after wet heat aging and do not achieve the object of the present invention.

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Abstract

  視認性が良好で欠落などの画像故障がなく、湿熱経時後の劣化が少ない透光性が良好な透光性シールド膜を提供すること。   透明支持体上に球相当径300nm以下のハロゲン化銀粒子を含む乳剤層を有する感光材料を露光、現像して形成した現像銀部、導電性金属部および黒色部が積層された積層材料であって、該黒色層がニッケル、亜鉛、錫および銅の中から選択される少なくとも2種の元素を含む合金を主成分とすることを特徴とする積層材料。

Description

明 細 書
積層材料、透光性電磁波シールド膜および光学フィルター
技術分野
[0001] 本発明は、 CRT (陰極線管)、 PDP (プラズマディスプレイパネル)、液晶、 EL (エレ タトロルミネッセンス)、 FED (フィールドェミッションディスプレイ)などのディスプレイ 前面、電子レンジ、電子機器、プリント配線板などから発生する電磁波を遮蔽し、力 つ、透明性を有する電磁波遮蔽材料の製造方法とその製造方法により得られる透明 性を有する電磁波遮蔽材料に関する。
背景技術
[0002] 近年、各種の電気設備や電子応用設備の利用の増加に伴!、、電磁波障害 (Electr 0 - Magnetic Interference: EMI)が急増している。 EMIは、電子、電気機器の誤動 作、障害の原因になるほか、これらの装置のオペレーターにも健康障害を与えること が指摘されている。このため、電子電気機器では、電磁波放出の強さを規格又は規 制内に抑えることが要求されて 、る。
[0003] 上記 EMIの対策には電磁波をシールドする必要がある力 それには金属の電磁波 を貫通させない性質を利用すればよい。ことは自明である。例えば、筐体を金属体又 は高導電体にする方法や、回路基板と回路基板との間に金属板を挿入する方法、ケ 一ブルを金属箔で覆う方法などが採用されている。しかし、 CRT, PDPなどではオペ レーターが画面に表示される文字等を認識する必要があるため、ディスプレイにおけ る透明性が要求される。このため、前記の方法では、いずれもディスプレイ前面が不 透明になることが多ぐ電磁波のシールド法としては不適切なものであった。
[0004] 特に、 PDPは、 CRT等と比較すると多量の電磁波を発生するため、より強い電磁 波シールド能が求められている。電磁波シールド能は、簡便には表面抵抗値で表す ことができ、 CRT用の透光性電磁波シールド材料では、表面抵抗値は凡そ 300 Ω / sq以下であることが要求されるのに対し、 PDP用の透光性電磁波シールド材料では 、 2. 5 Q Zsq以下が要求され、 PDPを用いた民生用プラズマテレビにおいては、 1. 5 Ω /sq以下とする必要性が高ぐより望ましくは 0. l Q Zsq以下という極めて高い 導電性が要求されている。
また、透明性に関する要求レベルは、 CRT用として可視域透過率が凡そ 70%以上 、 PDP用として 80%以上が要求されており、更により高い透明性が望まれている。
[0005] 上記の問題を解決するために、以下に示されるように、開口部を有する金属メッシ ュを利用して電磁波シールド性と透明性とを両立させる種々の材料'方法がこれまで 提案されている。
[0006] (1)導電性繊維
例えば、特許文献 1には、導電性繊維カゝらなる電磁波シールド材が開示されている
。し力し、このシールド材はメッシュ線幅が太くディスプレイ画面をシールドすると、画 面が暗くなり、ディスプレイに表示された文字が見えにくいという欠点があった。
[0007] (2)無電解メツキ加工メッシュ
無電解メツキ触媒を印刷法で格子状パターンとして印刷し、次 、で無電解メツキを 行う方法が提案されている(例えば、特許文献 2、特許文献 3など)。しかし、印刷され る触媒の線幅は 60 m程度と太ぐ比較的小さな線幅、緻密なパターンが要求され るディスプレイの用途としては不適切であった。
さらに、無電解メツキ触媒を含有するフォトレジストを塗布して露光と現像を行うこと により無電解メツキ触媒のパターンを形成した後、無電解メツキする方法が提案され ている(例えば、特許文献 4)。しかし、導電膜の可視光透過率は 72%であり、透明性 が不十分であった。更には、露光後に大部分を除去する無電解メツキ触媒として極 めて高価なパラジウムを用いる必要があるため、製造コストの面でも問題があった。
(3)フォトリソグラフィ一法を利用したエッチングカ卩工メッシュ
フォトリソグラフィ一法を利用したエッチング加工により、透明基体上に金属薄膜のメ ッシュを形成する方法が提案されている(例えば、特許文献 5〜9など)。この方法で は、微細加工が可能であるため、高開口率 (高透過率)のメッシュを作成することがで き、強力な電磁波放出も遮蔽できるという利点を有する。しかし、その製造工程は煩 雑かつ複雑で、生産コストが高価になるという問題点があった。また、エッチング工法 によるところから、格子模様の交点部が直線部分の線幅より太い問題があることが知 られている。また、モアレの問題も指摘され、改善が要望されていた。 [0008] (4)ハロゲンィ匕銀を用いた導電性金属銀および現像銀への銅メツキを用いたメッシュ ハロゲン化銀を現像して得られる導電性金属銀で導電性メッシュを形成する方法、 あるいはハロゲンィ匕銀を現像して得られるメッシュ状の現像銀に金属銅をめつきして 導電性メッシュを形成する方法が提案されている (例えば、特許文献 10)。また、特許 文献 11には、高 、透過性と簡便な方法で細線パターユング可能なシールド材料の 製造方法が開示されている。
[0009] 特許文献 1 :特開平 5— 327274号公報
特許文献 2:特開平 11 170420号公報
特許文献 3:特開平 5 - 283889号公報
特許文献 4:特開平 11— 170421号公報
特許文献 5 :特開 2003— 46293号公報
特許文献 6:特開 2003 - 23290号公報
特許文献 7 :特開平 5— 16281号公報
特許文献 8:特開平 10— 338848号公報
特許文献 9:特開 2004 - 145063号公報
特許文献 10:特開 2004— 207001号公報
特許文献 11 :特開 2004— 221565号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0010] ハイコントラストの実現、電源 OFF時に画面が黒い、あるいは画像を見ている時に 目の疲れ等の不快感を引き起こさない等の要求によって、 PDPは通常目視される面 を黒色にすることが望まれている。 目視面を黒色にするためにはシールド膜の目視 面も黒色にする必要があり、方法は様々である。上巿されている PDPの中で最も多 い構成は、シールド膜の透明基体上側を片面黒色化し、 PDP画像表示部(モジユー ルと呼ばれる)前面にあるガラスに透明基体側を貼る構成にする、いわゆる前面板タ イブと呼ばれる構成である。この場合、目視面は基体上の黒色面になるため上記要 求に対応できていると考えられている。しかし、黒色面とは反対側の面には依然とし て金属光沢があるため、目視する角度等によっては光反射が見えたりして不都合を 生じることがある。
[0011] さら〖こは近年、モジュール上に直接透光性電磁波シールド膜を貼った構成の、い わゆる直貼りタイプと呼ばれる構成の PDPも上巿されて 、る。上述のシールド膜を用 いた場合、透明基体の反対側が目視面になるためこの方式に対応できないことにな る。特許文献 9は黒色層を有しており、これを用いて作成したメッシュ状サンプルの正 面視認性は良好である。しかし、正面以外はメッシュ側面に下地の銅箔色が見えるた めに上述のシールド膜同様となり、電磁波シールドとしての視認性は完全に良好とは 言えない。
[0012] また、上記の特許文献 11に記載の方法に従って作製した電磁波シールド膜は、積 層した細線またはその一部が剥がれる問題が起こることがあり、目視面色としての視 認性は良好だ力 剥がれた細線による視認性の悪ィ匕ゃ透光性の低下が起こることが あった。処理時に細線が剥がれな力つた場合も、特に湿熱環境下で保存することで、 細線が剥がれて開口部に付着する問題が起こり視認性を悪化させてしまうことが分か つた。作製する電磁波シールド膜を大面積ィ匕するとこの問題により得率が低下し、生 産性が著しく低下する問題をも生じることが分力つた。
[0013] 本発明は、かかる事情に鑑みなされたものであり、本発明の目的は視認性が良好 で細線欠落等の画像故障がない電磁波シールド膜を提供することにある。さらには 湿熱保存による劣化が少なぐ透光性が良好な透光性電磁波シールド膜を提供する ことにある。
課題を解決するための手段
[0014] 本発明者らは、視認性が良好で細線欠落等の画像故障がなぐ湿熱保存による劣 化の少な!/、透光性が良好な電磁波シールド膜を得る観点力 鋭意検討した結果、上 記目的は、以下の積層材料力もなる透光性電磁波シールド膜により効果的に達成で きることを見出し、本発明を完成するに至った。
[0015] すなわち、本発明の目的は、以下の構成により達成される。
1.透明支持体上に球相当径 300nm以下のハロゲンィ匕銀粒子を含む乳剤層を有 する感光材料を露光、現像して形成した現像銀部、導電性金属部および黒色部が 積層された積層材料であって、該黒色層がニッケル、亜鉛、錫および銅の中から選 択される少なくとも 2種の元素を含む合金を主成分とすることを特徴とする積層材料。
2.前記現像銀部、導電性金属部および黒色部の積層体が 1 μ πι〜50 /ζ mのメッ シュ状の細線にパター-ングされていることを特徴とする上記 1記載の積層材料。
3.前記メッシュ状の細線にパターユングされた現像銀部および導電性金属部積層 体の少なくとも上面及び側面に亘つて黒色部で覆われていることを特徴とする上記 2 に記載の積層材料。
4.パターユング後の積層材料のヘイズ値が 10以下であることを特徴とする上記 2 〜3の 、ずれかに記載の積層材料。
5.前記導電性金属部が銅、アルミニウム、およびニッケルの少なくともいずれかか らなることを特徴とする上記 1〜4のいずれか〖こ記載の積層材料。
6.前記黒色部が電解メツキ処理により形成されたものであることを特徴とする上記 5 に記載の積層材料。
7.上記 1〜6の 、ずれかに記載の積層材料を有してなる透光性電磁波シールド膜
8.接着剤層を有する上記 8に記載の透光性電磁波シールド膜。
9.剥離可能な保護フィルムを有する上記 7又は 8に記載の透光性電磁波シールド 膜。
10.赤外線遮蔽性を有する上記 7〜9の 、ずれかに記載の透光性電磁波シールド 膜。
11.ハードコート性、反射防止性、妨眩性、静電気防止性、防汚性、紫外線カット 性、ガスバリア性、表示パネル破損防止性、力 いずれ力 1つ以上選ばれる機能を有 している機能性透明層を有する上記 7〜10のいずれかに記載の透光性電磁波シー ルド膜。
12.上記 7〜: L 1のいずれかに記載の透光性電磁波シールド膜を備えた光学フィル ター。
発明の効果
本発明の積層材料によれば、視認性が良好で細線欠落等の画像故障がなぐ湿 熱保存による視認性劣化の少ない透光性が良好な透光性電磁波シールド膜を得る ことができる。その結果、本発明によればロスが少なぐ生産性が高い透光性電磁波 シールド膜が得られる。
図面の簡単な説明
[0017] [図 1]本発明の電解めつき処理に好適に用いられる電解めつき槽の一例を示す模式 図である。
符号の説明
[0018] 10 電解めつき槽
11 めっき浴
12a, 12b 給電ローラ
13 アノード板
14 ガイドローラー
16 フィルム
17 液切ローラー
発明を実施するための最良の形態
[0019] 以下に、本発明の透光性電磁波シールド膜及びその製造方法について詳細に説 明する。
なお、本明細書において符号「〜」は、その符号の前後に記載される数値を下限値 および上限値として含む意味として使用される。
[0020] 本発明の積層材料は、透明基体上に球相当径 300nm以下の銀塩乳剤を含む乳 剤層を有する感光材料を露光、現像して形成されたものであり、現像銀部、導電性 金属部、および黒色部を有している。好ましくは現像銀部、導電性金属部、および黒 色部はこの順に積層されて 、る。
[0021] [現像銀部]
現像銀部は、以下に説明する、透明支持体上に銀塩乳剤を含む乳剤層を有する 感光材料を露光および現像処理することにより形成することができる。
〈透明支持体〉
本発明に係る感光材料に用いられる透明支持体としては、プラスチックフィルム、プ ラスチック板、およびガラス板などを用いることができる。 上記プラスチックフィルムおよびプラスチック板の原料としては、例えば、ポリエチレ ンテレフタレート(PET)、およびポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類;ポリ エチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリスチレン、 EVAなどのポリオレフイン類;ポリ 塩化ビニル、ポリ塩ィ匕ビユリデンなどのビュル系榭脂;その他、ポリエーテルエーテル ケトン(PEEK)、ポリサルホン(PSF)、ポリエーテルサルホン(PES)、ポリカーボネー ト(PC)、ポリアミド、ポリイミド、アクリル榭脂、トリァセチルセルロース (TAC)などを用 いることがでさる。
本発明においては、透明性、耐熱性、取り扱いやすさおよび価格の点から、上記プ ラスチックフィルムはポリエチレンテレフタレートフィルムであることが好ましい。
[0022] ディスプレイ用の電磁波シールド材では透明性が要求されるため、支持体の透明 性は高 、ことが望ま 、。この場合におけるプラスチックフィルムまたはプラスチック板 の全可視光透過率は 70%〜100%が好ましぐさらに好ましくは 85%〜100%であ り、特に好ましくは 90%〜: LOO%である。また、本発明では、前記プラスチックフィル ムおよびプラスチック板として本発明の目的を妨げない程度に着色したものを用いる ことちでさる。
本発明におけるプラスチックフィルムおよびプラスチック板は、単層で用いることもで きるが、 2層以上を組み合わせた多層フィルムとして用いることも可能である。
[0023] 透明支持体の厚みは 200 μ m以下が好ましぐ更に好ましくは 20 μ m〜180 μ m、 最も好ましくは 50 μ m〜120 μ mである。
本発明における支持体としてガラス板を用いる場合、その種類は特に限定されない 力 ディスプレイ用電磁波シールド膜の用途として用いる場合、表面に強化層を設け た強化ガラスを用いることが好ましい。強化ガラスは、強化処理していないガラスに比 ベて破損を防止できる可能性が高い。さらに、風冷法により得られる強化ガラスは、 万一破損してもその破 ¾片が小さぐかつ端面も鋭利になることはないため、安全 上好ましい。
[0024] 〈乳剤層〉
本発明に係る感光材料に用いられる乳剤層は、支持体上に、光センサーとして銀 塩を含む乳剤層(銀塩含有層)を有する。本発明における乳剤層には、銀塩のほか、 必要に応じて、染料、バインダー、溶媒等を含有することができる。
(染料)
乳剤層には染料が含まれていてもよい。該染料は、フィルター染料として若しくはィ ラジェーシヨン防止その他種々の目的で乳剤層に含まれる。上記染料としては、固体 分散染料を含有してよい。本発明に好ましく用いられる染料としては、特開平 9 17 9243号公報記載の一般式 (FA)、一般式 (FA1)、一般式 (FA2)、一般式 (FA3) で表される染料が挙げられ、具体的には同公報記載の化合物 F1〜F34が好ましい 。また、特開平 7— 152112号公報記載の(Π— 2)〜(Π— 24)、特開平 7— 152112 号公報記載の(III— 5)〜(III— 18)、特開平 7— 152112号公報記載の(IV— 2)〜 (IV - 7)等も好ましく用いられる。
[0025] このほか、本発明に使用することができる染料としては、現像または定着の処理時 に脱色させる固体微粒子分散状の染料としては、特開平 3— 138640号公報記載の シァニン染料、ピリリウム染料およびアミ-ゥム染料が挙げられる。また、処理時に脱 色しない染料として、特開平 9— 96891号公報記載のカルボキシル基を有するシァ ニン染料、特開平 8 - 245902号公報記載の酸性基を含まな 、シァニン染料および 同 8— 333519号公報記載のレーキ型シァニン染料、特開平 1— 266536号公報記 載のシァニン染料、特開平 3— 136038号公報記載のホロポーラ型シァニン染料、 特開昭 62— 299959号公報記載のピリリウム染料、特開平 7— 253639号公報記載 のポリマー型シァニン染料、特開平 2— 282244号公報記載のォキソノール染料の 固体微粒子分散物、特開昭 63— 131135号公報記載の光散乱粒子、特開平 9 5 913号公報記載の Yb3 +化合物および特開平 7— 113072号公報記載の ITO粉末 等が挙げられる。また、特開平 9 179243号公報記載の一般式 (F1)、一般式 (F2 )で表される染料で、具体的には同公報記載の化合物 F35〜F112も用いることがで きる。
[0026] また、上記染料としては、水溶性染料を含有することができる。このような水溶性染 料としては、ォキソノール染料、ベンジリデン染料、メロシアニン染料、シァニン染料 およびァゾ染料が挙げられる。中でも本発明においては、ォキソノール染料、へミオ キソノール染料およびべンジリデン染料が有用である。本発明に用い得る水溶性染 料の具体例としては、英国特許 584, 609号明細書、同 1, 177, 429号明細書、特 開昭 48— 85130号公報、同 49— 99620号公報、同 49— 114420号公報、同 52— 20822号公報、同 59— 154439号公報、同 59— 208548号公報、米国特許 2, 27 4, 782号明細書、同 2, 533, 472号明細書、同 2, 956, 879号明細書、同 3, 148 , 187号明細書、同 3, 177, 078号明細書、同 3, 247, 127号明細書、同 3, 540, 887号明細書、同 3, 575, 704号明細書、同 3, 653, 905号明細書、同 3, 718, 4 27号明細書に記載されたものが挙げられる。
上記乳剤層中における染料の含有量は、ィラジェーシヨン防止などの効果と、添カロ 量増加による感度低下の観点から、全固形分に対して 0. 01質量%〜10質量%が 好ましぐ 0. 1質量%〜5質量%がさらに好ましい。
[0027] (銀塩乳剤)
本発明で用いられる銀塩乳剤としては、ハロゲンィ匕銀などの無機銀塩および酢酸 銀などの有機銀塩が挙げられるが、本発明にお 、ては光センサーとしての特性に優 れるハロゲンィ匕銀乳剤を用いることが好ましい。ハロゲンィ匕銀に関する銀塩写真フィ ルムゃ印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用ェマルジヨンマスク等で用いられ る技術は、本発明にお 、ても用いることができる。
[0028] 本発明の銀塩乳剤は、画像故障防止効果とパターユングに必要な感度の点から、 球相当径が 300nm以下であり、 200nm以下が更に好ましい。上記で説明したサン プルの擦れによる欠落等の画像故障は、銀塩同士あるいは現像銀部とその上に積 層される導電性金属部との密着力を高めることにより改良される。この目的は現像前 銀塩粒子間の距離を減少させるか、現像後銀部の単位面積当たりの表面積を上昇 させれば良ぐ使用する乳剤の粒子径を下げることで達成できる。ノターニングに必 要な感度確保と上記目的の達成を両立するため、本発明の様態となるものである。 尚、球相当径とは、粒子形状が球形の同じ体積を有する粒子の直径である。
[0029] 上記ハロゲン化銀に含有されるハロゲン元素は、塩素、臭素、ヨウ素およびフッ素 のいずれであってもよぐこれらを組み合わせでもよい。例えば、 AgCl、 AgBr, Agl を主体としたハロゲンィ匕銀が好ましく用いられ、さらに AgBrや AgClを主体としたハロ ゲンィ匕銀が好ましく用いられる。塩臭化銀、沃塩臭化銀、沃臭化銀もまた好ましく用 いられる。より好ましくは、塩臭化銀、臭化銀、沃塩臭化銀、沃臭化銀であり、最も好 ましくは、塩化銀 50モル%以上を含有する塩臭化銀、沃塩臭化銀が用いられる。
[0030] 尚、ここで、「AgBr (臭化銀)を主体としたハロゲンィ匕銀」とは、ハロゲン化銀組成中 に占める臭化物イオンのモル分率が 50%以上のハロゲン化銀を 、う。この AgBrを 主体としたハロゲンィ匕銀粒子は、臭化物イオンのほかに沃化物イオン、塩化物イオン を含有していてもよい。
[0031] ハロゲン化銀粒子の形状は特に限定されず、例えば、球状、立方体状、平板状 (6 角平板状、三角形平板状、 4角形平板状など)、八面体状、 14面体状など様々な形 状であることができ、立方体、 14面体が好ましい。
ハロゲン化銀粒子は内部と表層が均一な相力 なって 、ても異なって 、てもよ 、。 また粒子内部或いは表面にハロゲン組成の異なる局在層を有していてもよい。
[0032] 本発明に用いられる乳剤層用塗布液であるハロゲンィ匕銀乳剤は、 P. Glalkides著 Chimie et Physique Photographique (Paul Montel社刊、 1967年)、 G. F. Dufin 著 Photographic Emulsion Chemistry (The Focal Press刊、 1966年)、 V. L. Zelikman ίま力著 Making and Coating Photographic Emulsion (The Focal Press干、 1964年 )などに記載された方法を用いて調製することができる。
[0033] すなわち、上記ハロゲン化銀乳剤の調製方法としては、酸性法、中性法等のいず れでもよぐ又、可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩とを反応させる方法としては、片側混 合法、同時混合法、それらの組み合わせなどのいずれを用いてもよい。
また、銀粒子の形成方法としては、粒子を銀イオン過剰の下において形成させる方 法 (いわゆる逆混合法)を用いることもできる。さらに、同時混合法の一つの形式とし てハロゲンィ匕銀の生成される液相中の pAgを一定に保つ方法、すなわち、いわゆる コントロールド.ダブルジェット法を用いることもできる。
またアンモニア、チォエーテル、四置換チォ尿素等のいわゆるハロゲンィ匕銀溶剤を 使用して粒子形成させることも好ましい。係る方法としてより好ましくは四置換チォ尿 素化合物であり、特開昭 53— 82408号、同 55— 77737号の各公報に記載されて いる。
好ましいチォ尿素化合物はテトラメチルチオ尿素、 1, 3—ジメチルー 2—イミダゾリ ジンチオンが挙げられる。ハロゲンィ匕銀溶剤の添加量は用いる化合物の種類および 目的とする粒子サイズ、ハロゲン組成により異なる力 ハロゲンィ匕銀 1モルあたり 10_5
〜 10—2モルが好ましい。
[0034] 上記コントロールド ·ダブルジェット法およびハロゲンィ匕銀溶剤を使用した粒子形成 方法では、結晶型が規則的で粒子サイズ分布の狭 ヽハロゲンィ匕銀乳剤を作るのが 容易であり、本発明に好ましく用いることができる。
また、粒子サイズを均一にするためには、英国特許第 1 , 535, 016号明細書、特 公昭 48— 36890号公報、同 52— 16364号公報に記載されているように、硝酸銀や ハロゲンィ匕アルカリの添加速度を粒子成長速度に応じて変化させる方法や、英国特 許第 4, 242, 445号明細書、特開昭 55— 158124号公報に記載されているように 水溶液の濃度を変化させる方法を用いて、臨界飽和度を越えな 、範囲にぉ 、て早く 銀を成長させることが好ましい。本発明における乳剤層の形成に用いられるハロゲン 化銀乳剤は単分散乳剤が好ましぐ { (粒子サイズの標準偏差) Z (平均粒子サイズ) } X 100で表される変動係数が 20%以下、より好ましくは 15%以下、最も好ましくは 1 0%以下であることが好まし 、。
[0035] 本発明に用いられるハロゲンィ匕銀乳剤は、粒子サイズの異なる複数種類のハロゲ ン化銀乳剤を混合してもよ 、。
[0036] 本発明に用いられるハロゲンィ匕銀乳剤は、 VIII族、 VIIB族に属する金属を含有して もよい。特に、高コントラストおよび低カプリを達成するために、ロジウム化合物、イリジ ゥム化合物、ルテニウム化合物、鉄化合物、オスミウム化合物、などを含有することが 好ましい。これら化合物は、各種の配位子を有する化合物であってよぐ配位子とし て例えば、シアン化物イオンやハロゲンイオン、チオシアナ一トイオン、ニトロシルイォ ン、水、水酸化物イオンなどや、こうした擬ハロゲン、アンモニアのほか、アミン類 (メチ ルァミン、エチレンジァミン等)、ヘテロ環化合物(イミダゾール、チアゾール、 5—メチ ルチアゾール、メルカプトイミダゾールなど)、尿素、チォ尿素等の、有機分子を挙げ ることがでさる。
また、高感度化のためには K [Fe (CN) ) ^>K [Ru (CN)〕、K [Cr (CN)〕のごと
4 6 4 6 3 6 き六シァノ化金属錯体のドープが有利に行われる。 [0037] 上記ロジウム化合物としては、水溶性ロジウム化合物を用いることができる。水溶性 ロジウム化合物としては、例えば、ハロゲン化ロジウム(III)化合物、へキサクロロロジ ゥム(III)錯塩、ペンタクロロアコロジウム錯塩、テトラクロロジアコロジウム錯塩、へキサ ブロモロジウム(III)錯塩、へキサァミンロジウム(III)錯塩、トリザラトロジウム(III)錯塩 、 K Rh Br等が挙げられる。
3 2 9
これらのロジウム化合物は、水或いは適当な溶媒に溶解して用いられるが、ロジゥ ム化合物の溶液を安定ィ匕させるために一般によく行われる方法、すなわち、ハロゲン 化水素水溶液 (例えば塩酸、臭酸、フッ酸等)、或いはハロゲンィ匕アルカリ(例えば κ
Cl、 NaCl、 KBr、 NaBr等)を添加する方法を用いることができる。水溶性ロジウムを 用いる代わりにハロゲンィ匕銀調製時に、あら力じめロジウムをドープしてある別のハロ ゲンィ匕銀粒子を添加して溶解させることも可能である。
[0038] 上記イリジウム化合物としては、 K IrCl、 K IrCl等のへキサクロ口イリジウム錯塩、
2 6 3 6
へキサブロモイリジウム錯塩、へキサアンミンイリジウム錯塩、ペンタクロロ-トロシルイ リジゥム錯塩等が挙げられる。
上記ルテニウム化合物としては、へキサクロ口ルテニウム、ペンタクロロ-トロシルル テ-ゥム、 K [Ru (CN)〕等が挙げられる。
4 6
上記鉄化合物としては、へキサシァノ鉄 (π)酸カリウム、チォシアン酸第一鉄が挙 げられる。
[0039] 上記ルテニウム、ォスミニゥムは特開昭 63— 2042号公報、特開平 1 285941号 公報、同 2— 20852号公報、同 2— 20855号公報等に記載された水溶性錯塩の形 で添加され、特に好ましいものとして、以下の式で示される六配位錯体が挙げられる
[ML〕— n
6
(ここで、 Mは Ruまたは Osを表し、 nは 0、 1、 2、 3または 4を表す。 )
この場合、対イオンは重要性を持たず、例えば、アンモ-ゥム若しくはアルカリ金属 イオンが用いられる。また好ましい配位子としてはハロゲン化物配位子、シアン化物 配位子、シアン酸化物配位子、ニトロシル配位子、チォニトロシル配位子等が挙げら れる。以下に本発明に用いられる具体的錯体の例を示すが、本発明はこれに限定さ れるものではない。
[0040] 〔RuCl〕_3、 [RuCl (H O) 〕_1、 [RuCl (NO)〕_2、 [RuBr (NS)〕_2、 [Ru (CO)
6 4 2 2 5 5 3
Cl〕_2、〔Ru (CO) Cl〕_2、〔Ru(CO) Br〕_2、〔OsCl〕_3、 [OsCl (NO) ] "2, 〔Os (
3 5 5 6 5
NO) (CN) Γ 〔Os (NS) Br〕_2、 [Os (CN) Γ 〔Os (0) (CN) 〕 _4
5 5 6 2 5
[0041] これらの化合物の添力卩量はハロゲン化銀 1モル当り 10_1°〜10_2モル Zモル Agで あることが好ましぐ 10一9〜 10_3モル Zモル Agであることがさらに好ましい。
[0042] その他、本発明では、 Pd (II)イオンおよび Zまたは Pd金属を含有するハロゲン化 銀も用いることができる。 Pdはハロゲン化銀粒子内に均一に分布していてもよい。が 、ハロゲン化銀粒子の表層近傍に含有させることが好ましい。ここで、 Pdが「ハロゲン 化銀粒子の表層近傍に含有する」とは、ハロゲンィ匕銀粒子の表面力も深さ方向に 50 nm以内において、他層よりもパラジウムの含有率が高い層を有することを意味する。 このようなハロゲンィ匕銀粒子は、ハロゲン化銀粒子を形成する途中で Pdを添加する ことにより作製することができ、銀イオンとハロゲンイオンとをそれぞれ総添加量の 50 %以上添加した後に、 Pdを添加することが好ましい。また Pd (II)イオンを後熟時に添 加するなどの方法でハロゲンィ匕銀表層に存在させることも好ま U、。
この Pd含有ハロゲンィ匕銀粒子は、物理現像や無電解メツキの速度を速め、所望の 電磁波シールド材の生産効率を上げ、生産コストの低減に寄与する。 Pdは、無電解 メツキ触媒としてよく知られて用いられている力 本発明では、ハロゲンィ匕銀粒子の表 層に Pdを偏在させることが可能なため、極めて高価な Pdを節約することが可能であ る。
[0043] 本発明にお 、て、ハロゲンィ匕銀に含まれる Pdイオンおよび/または Pd金属の含有 率は、ハロゲン化銀の、銀のモル数に対して 10_4〜0. 5モル Zモル Agであることが 好ましく、 0. 01〜0. 3モル Zモル Agであることがさらに好ましい。
使用する Pd化合物の例としては、 PdClや、 Na PdCl等が挙げられる。
4 2 4
[0044] 本発明では、さらに光センサーとしての感度を向上させるため、写真乳剤で行われ る化学増感を施すこともできる。化学増感の方法としては、硫黄増感、セレン増感、テ ルル増感等カルコゲン増感、金増感などの貴金属増感、還元増感等を用いることが できる。これらは、単独または組み合わせて用いられる。上記化学増感の方法を組み 合わせて使用する場合には、例えば、硫黄増感法と金増感法、硫黄増感法とセレン 増感法と金増感法、硫黄増感法とテルル増感法と金増感法などの組み合わせが好 ましい。
[0045] 上記硫黄増感は、通常、硫黄増感剤を添加して、 40°C以上の高温で乳剤を一定 時間攪拌することにより行われる。上記硫黄増感剤としては公知の化合物を使用す ることができ、例えば、ゼラチン中に含まれる硫黄ィ匕合物のほか、種々の硫黄化合物 、例えば、チォ硫酸塩、チォ尿素類、チアゾール類、ローダ-ン類等を用いることが できる。好ましい硫黄化合物は、チォ硫酸塩、チォ尿素化合物である。硫黄増感剤 の添加量は、化学熟成時の pH、温度、ハロゲンィ匕銀粒子の大きさなどの種々の条 件の下で変化し、ハロゲン化銀 1モル当り 10_7〜10_2モルが好ましぐより好ましくは 10_5〜: LO—3モルである。
[0046] 上記セレン増感に用いられるセレン増感剤としては、公知のセレンィ匕合物を用いる ことができる。すなわち、上記セレン増感は、通常、不安定型および Zまたは非不安 定型セレンィ匕合物を添加して 40°C以上の高温で乳剤を一定時間攪拌することにより 行われる。上記不安定型セレンィ匕合物としては特公昭 44— 15748号公報、同 43— 13489号公報、特開平 4— 109240号公報、同 4— 324855号公報等に記載の化 合物を用いることができる。特に特開平 4— 324855号公報中の一般式 (VIII)および (IX)で示される化合物を用いることが好ま 、。
[0047] 上記テルル増感剤に用いられるテルル増感剤は、ハロゲンィ匕銀粒子表面または内 部に、増感核になると推定されるテルル化銀を生成せしめる化合物である。ハロゲン 化銀乳剤中のテルルイ匕銀生成速度については特開平 5— 313284号公報に記載の 方法で試験することができる。具体的には、米国特許 US第 1, 623, 499号明細書、 同第 3, 320, 069号明細書、同第 3, 772, 031号明細書、英国特許第 235, 211 号明細書、同第 1, 121, 496号明細書、同第 1, 295, 462号明細書、同第 1, 396 , 696号明細書、カナダ特許第 800, 958号明細書、特開平 4 204640号公報、 同 4— 271341号公報、同 4— 333043号公報、同 5— 303157号公報、ジャーナル •ォブ 'ケミカル 'ソサイァティ一'ケミカル 'コミュニケーション (J. Chem. Soc. Chem. C ommun. ) 635頁(1980)、同 1102頁(1979)、同 645頁(1979)、ジャーナル ·ォブ · ケミカル'ソサイァテイ^ ~ ·パーキン 'トランザクション(J. Chem. Soc. Perkin. Trans. ) 1卷, 2191頁(1980)、 S.パタイ(S. Patai)編、ザ 'ケミストリ一 ·ォブ'オーガニック' セレニウム'アンド'テルリウム 'カンパウンズ(The Chemistry of Organic Selenium an d Tellurium Compounds) , 1卷(1986)、同 2卷(1987)に記載の化合物を用いるこ とができる。特に特開平 5— 313284号公報中の一般式 (II) (III) (IV)で示される化合 物が好ましい。
[0048] 本発明で用いることのできるセレン増感剤およびテルル増感剤の使用量は、使用 するハロゲンィ匕銀粒子、化学熟成条件等によって変わるが、一般にハロゲンィ匕銀 1モ ル当たり 10_8〜10_2モル、好ましくは 10_7〜10_3モル程度を用いる。本発明におけ る化学増感の条件としては特に制限はないが、 pHとしては 5〜8、 pAgとしては 6〜1 1、好ましくは 7〜10であり、温度としては 40〜95°C、好ましくは 45〜85°Cである。
[0049] また、上記貴金属増感剤としては、金、白金、ノラジウム、イリジウム等が挙げられ、 特に金増感が好ましい。金増感に用いられる金増感剤としては、具体的には、塩ィ匕 金酸、カリウムクロ口オーレート、カリウムォーリチオシァネート、硫化金、チォダルコ一 ス金(1)、チォマンノース金(I)などが挙げられ、ハロゲン化銀 1モル当たり 10一7〜 10
_2モル程度を用いることができる。本発明に用いるハロゲンィ匕銀乳剤にはハロゲンィ匕 銀粒子の形成または物理熟成の過程においてカドミウム塩、亜硫酸塩、鉛塩、タリウ ム塩などを共存させてもょ 、。
[0050] また、本発明においては、還元増感を用いることができる。還元増感剤としては第 ースズ塩、アミン類、ホルムアミジンスルフィン酸、シラン化合物などを用いることがで きる。上記ハロゲンィ匕銀乳剤は、欧州公開特許 (EP) 293917に示される方法により 、チォスルホン酸ィ匕合物を添加してもよい。本発明に用いられる感光材料の作製に 用いられるハロゲンィ匕銀乳剤は、 1種だけでもよい。し、 2種以上 (例えば、平均粒子 サイズの異なるもの、ハロゲン組成の異なるもの、晶癖の異なるもの、化学増感の条 件の異なるもの、感度の異なるもの)の併用であってもよい。中でも高コントラストを得 るためには、特開平 6— 324426号公報に記載されているように、支持体に近いほど 高感度な乳剤を塗布することが好ま U、。
[0051] 〈バインダー〉 乳剤層には、銀塩粒子を均一に分散させ、かつ乳剤層と支持体との密着を補助す る目的でバインダーを用いることができる。本発明において上記バインダーとしては、 非水溶性ポリマーおよび水溶性ポリマーのいずれもバインダーとして用いることがで きるが、水溶性ポリマーを用いることが好ましい。
上記バインダーとしては、例えば、ゼラチン、ポリビュルアルコール(PVA)、ポリビ -ルピロリドン (PVP)、澱粉等の多糖類、セルロースおよびその誘導体、ポリエチレ ンオキサイド、ポリサッカライド、ポリビニルァミン、キトサン、ポリリジン、ポリアクリル酸 、ポリアルギン酸、ポリヒアルロン酸、カルボキシセルロース等が挙げられる。
これらは、官能基のイオン性によって中性、陰イオン性、陽イオン性の性質を有する
[0052] 乳剤層中に含有されるバインダーの含有量は、特に限定されず、分散性と密着性 を発揮し得る範囲で適宜決定することができる。
[0053] 〈溶媒〉
上記乳剤層の形成に用いられる溶媒は、特に限定されるものではないが、例えば、 水、有機溶媒 (例えば、メタノール等アルコール類、アセトンなどケトン類、ホルムアミ ドなどのアミド類、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類、酢酸ェチルなどのエス テル類、エーテル類等)、イオン性液体、およびこれらの混合溶媒を挙げることができ る。
本発明の乳剤層に用いられる溶媒の含有量は、前記乳剤層に含まれる銀塩、バイ ンダ一等の合計の質量に対して 30質量%〜90質量%の範囲であり、 50質量%〜8 0質量%の範囲であることが好まし 、。
[0054] 〈露光〉
本発明では、支持体上に設けられた銀塩含有層またはフォトリソグラフィー用フォト ポリマーを塗工した感光材料への露光を行う。露光は、電磁波を用いて行うことがで きる。
電磁波としては、例えば、可視光線、紫外線などの光、 X線などの放射線等が挙げ られる。さらに露光には波長分布を有する光源を利用してもよぐ特定の波長の光源 を用いてもよい。 [0055] 上記光源としては、必要に応じて可視スペクトル領域に発光を示す各種発光体が 用いられる。例えば、赤色発光体、緑色発光体、青色発光体のいずれか 1種又は 2 種以上が混合されて用いられる。スペクトル領域は、上記の赤色、緑色及び青色に 限定されず、黄色、橙色、紫色或いは赤外領域に発光する蛍光体も用いられる。特 に、これらの発光体を混合して白色に発光する陰極線管がしばしば用いられる。また 、紫外線ランプも好ましぐ水銀ランプの g線、水銀ランプの i線等も利用される。
[0056] また本発明では、露光は種々のレーザービームを用いて行うことが好まし 、。例え ば、本発明における露光は、ガスレーザー、発光ダイオード、半導体レーザー、半導 体レーザー又は半導体レーザーを励起光源に用いた固体レーザーと非線形光学結 晶を組み合わせた第二高調波発光光源 (SHG)等の単色高密度光を用いた走査露 光方式を好ましく用いることができ、さらに KrFエキシマレーザー、 ArFエキシマレー ザ一、 F2レーザー等も用いることができる。システムをコンパクトで、安価なものにす るために、露光は、半導体レーザー、半導体レーザーあるいは固体レーザーと非線 形光学結晶を組み合わせた第二高調波発生光源 (SHG)を用いて行うことがより好 ましい。特にコンパクトで、安価、さらに寿命が長ぐ安定性が高い装置を設計するた めには、露光は半導体レーザーを用いて行うことが最も好まし 、。
露光のエネルギーとしては 100 μ jZcm2以下が好ましぐ 50 μ jZcm2以下がさら に好ましぐ最も好ましくは 40 μ j/cm2以下 4 μ j/cm2以上である。
[0057] レーザー光源としては、具体的には、波長 430nm〜460nmの青色半導体レーザ 一(2001年 3月の第 48回応用物理学関係連合講演会で日亜化学発表)、半導体レ 一ザ一 (発振波長約 1060nm)を導波路状の反転ドメイン構造を有する Li BOの S n 3
HG結晶により波長変換して取り出した約 530nmの緑色レーザー、波長約 685nm の赤色半導体レーザー(日立タイプ no. HL6738MG)、波長約 650nmの赤色半導 体レーザー(日立タイプ No. HL6501MG)などが好ましく用いられる。
[0058] 銀塩含有層をパターン状に露光する方法は、レーザービームによる走査露光が好 ましい。特に特開 2000— 39677号公報記載のキヤプスタン方式のレーザー走査露 光装置が好ましぐさらには該キヤブスタン方式においてポリゴンミラーの回転による ビーム走査の代わりに特開 2004— 1244号公報記載の DMDを光ビーム走査系に 用 、ることも好まし 、。
[0059] 〈現像処理〉
本発明では、乳剤層を露光した後、さらに現像処理が行われる。現像処理は、銀塩 写真フィルムや印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用ェマルジヨンマスク等に 用いられる通常の現像処理の技術を用いることができる。現像液については特に限 定はしないが、 PQ現像液、 MQ現像液、 MAA現像液等を用いることもでき、市販品 では、例えば、富士フィルム社処方の Cn— 16、 CR— 56、 CP45X、 FD— 3、パピト ール、 KODAK社処方の C—41、 E— 6、 RA—4、 D—19、 D— 72などの現像液、 またはそのキットに含まれる現像液を用いることができる。また、リス現像液を用いるこ とちでさる。
リス現像液としては、 KODAK社処方の D85などを用いることができる。本発明で は、上記の露光および現像処理を行うことにより露光部に金属銀部、好ましくはバタ ーン状金属銀部が形成されると共に、未露光部に後述する光透過性部が形成される
[0060] 本発明の積層材料の製造方法においては、上記現像液としてジヒドロキシベンゼン 系現像主薬を用いることができる。ジヒドロキシベンゼン系現像主薬としてはハイド口 キノン、クロロハイドロキノン、イソプロピルハイドロキノン、メチルハイドロキノン、ハイド ロキノンモノスルホン酸塩などが挙げられる力 特にノ、イドロキノンが好ましい。上記ジ ヒドロキシベンゼン系現像主薬と超加成性を示す補助現像主薬としては、 1—フエ- ルー 3—ビラゾリドン類や p ァミノフエノール類が挙げられる。本発明の製造方法に お!、て用いる現像液としては、ジヒドロキシベンゼン系現像主薬と 1 フエ二ルー 3— ビラゾリドン類との組合せ;またはジヒドロキシベンゼン系現像主薬と p -ァミノフエノー ル類との組合せが好ましく用いられる。
[0061] 補助現像主薬として用いられる 1—フエ-ルー 3—ビラゾリドンまたはその誘導体と 組み合わせられる現像主薬としては、具体的に、 1—フエ-ル— 3—ビラゾリドン、 1— フエニル一 4, 4 ジメチル一 3 ピラゾリドン、 1—フエニル一 4—メチル 4 ヒドロキ シメチル一 3—ビラゾリドンなどがある。
上記 P -ァミノフエノール系補助現像主薬としては、 n メチル p ァミノフエノー ル、 p ァミノフエノール、 n—( 13—ヒドロキシェチル) p ァミノフエノール、 n— (4 ーヒドロキシフエ-ル)グリシン等がある力 なかでも n—メチルー p ァミノフエノール が好ましい。ジヒドロキシベンゼン系現像主薬は、通常 0. 05〜0. 8モル/リットルの 量で用いられるのが好ましいが、本発明においては、 0. 23モル Zリットル以上で使 用するのが特に好ましい。さらに好ましくは、 0. 23〜0. 6モル Zリットルの範囲であ る。またジヒドロキシベンゼン類と 1―フエニル 3 ビラゾリドン類若しくは -アミノフ ェノール類との組合せを用いる場合には、前者を 0. 23-0. 6モル/リットル、さらに 好ましくは 0. 23〜0. 5モル Zリットル、後者を 0. 06モル Zリットル以下、さらに好ま しく ίま 0. 03モノレ/リットノレ〜 0. 003モノレ/リットノレの量で用! /、るの力好まし!/ヽ。
[0062] 本発明においては、現像開始液および現像補充液の双方力 「該液 1リットルに 0.
1モルの水酸ィ匕ナトリウムをカ卩えたときの ρΗ上昇が 0. 5以下」である性質を有すること が好ましヽ。使用する現像開始液な ヽし現像補充液がこの性質を有することを確か める方法としては、試験対象の現像開始液ないし現像補充液の ρΗを 10. 5に合わ せ、ついでこの液 1リットルに水酸化ナトリウムを 0. 1モル添カ卩し、この際の液の ρΗ値 を測定し、 ρΗ値の上昇が 0. 5以下であれば上記に規定した性質を有すると判定す る。本発明の製造方法では、特に、上記試験を行った時の ρΗ値の上昇が 0. 4以下 である現像開始液および現像補充液を用いることが好まし 、。
[0063] 現像開始液および現像補充液に上記の性質を与える方法としては、緩衝剤を使用 した方法によることが好ましい。上記緩衝剤としては、炭酸塩、特開昭 62— 186259 号公報に記載のホウ酸、特開昭 60— 93433号公報に記載の糖類 (例えばサッカロ 一ス)、ォキシム類(例えばァセトォキシム)、フエノール類(例えば 5—スルホサリチル 酸)、第 3リン酸塩 (例えばナトリウム塩、カリウム塩)などを用いることができ、好ましく は炭酸塩、ホウ酸が用いられる。上記緩衝剤(特に炭酸塩)の使用量は、好ましくは、 0. 25モノレ/リットノレ以上であり、 0. 25〜: L 5モノレ/リットノレ力特に好まし!/ヽ。
[0064] 本発明においては、上記現像開始液の ρΗが 9. 0〜11. 0であることが好ましぐ 9 . 5〜10. 7の範囲であることが特に好ましい。上記現像補充液の ρΗおよび連続処 理時の現像タンク内の現像液の ρΗもこの範囲である。 ρΗ設定のために用いるアル カリ剤には通常の水溶性無機アルカリ金属塩 (例えば水酸ィ匕ナトリウム、水酸化力リウ ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム)を用いることができる。
[0065] 本発明の積層材料の製造方法において、感光材料 1平方メートルを処理する際に 、現像液中の現像補充液の含有量は 323ミリリットル以下、好ましくは 323ミリリットル 〜30ミリリットノレ、特に 225ミリリットノレ〜 50ミリリットノレである。現像補充液は、現像開 始液と同一の組成を有していてもよい。し、現像で消費される成分について開始液よ りも高 、濃度を有して 、てもよ 、。
[0066] 本発明で感光材料を現像処理する際の現像液 (以下、現像開始液および現像補 充液の双方をまとめて単に「現像液」という場合がある)には、通常用いられる添加剤 (例えば、保恒剤、キレート剤)を含有することができる。上記保恒剤としては亜硫酸 ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸アンモ-ゥム、重亜硫酸ナトリウ ム、メタ重亜硫酸カリウム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどの亜硫酸塩が挙 げられる。該亜硫酸塩は、 0. 20モル Zリットル以上用いられることが好ましぐさらに 好ましくは 0. 3モル Zリットル以上用いられる力 余りに多量添加すると現像液中の 銀汚れの原因になるので、上限は 1. 2モル Zリットルとするのが望ましい。特に好ま しくは、 0. 35〜0. 7モル/リットルである。また、ジヒドロキシベンゼン系現像主薬の 保恒剤として、亜硫酸塩と併用してァスコルビン酸誘導体を少量使用してもよい。ここ でァスコルビン酸誘導体とは、ァスコルビン酸、および、その立体異性体であるエリソ ルビン酸やそのアルカリ金属塩 (ナトリウム、カリウム塩)などを包含する。上記ァスコ ルビン酸誘導体としては、エリソルビン酸ナトリウムを用いることが素材コストの点で好 まし 、。上記ァスコルビン酸誘導体の添カ卩量はジヒドロキシベンゼン系現像主薬に対 して、モノ kb匕で 0. 03〜0. 12の範囲力好ましく、特に好ましく ίま 0. 05〜0. 10の範 囲である。上記保恒剤としてァスコルビン酸誘導体を使用する場合には現像液中に ホウ素化合物を含まな 、ことが好まし 、。
[0067] 上記以外に現像材に用いることのできる添加剤としては、臭化ナトリウム、臭化カリ ゥムの如き現像抑制剤;エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコ ール、ジメチルホルムアミドの如き有機溶剤;ジエタノールァミン、トリエタノールァミン 等のアルカノールァミン、イミダゾールまたはその誘導体等の現像促進剤や、メルカ プト系化合物、インダゾール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾイミダゾ ール系化合物をカプリ防止剤または黒ポッ (black pepper)防止剤として含んでもよい 。上記べンゾイミダゾール系化合物としては、具体的に、 5— -トロインダゾール、 5— p -トロベンゾィルァミノインダゾール、 1ーメチルー 5 -トロインダゾール、 6 -ト ロインダゾール、 3—メチルー 5— -トロインダゾール、 5— -トロべンズイミダゾール、 2—イソプロピル— 5 -トロべンズイミダゾール、 5 -トロべンズトリァゾール、 4—〔 (2 メルカプト 1, 3, 4ーチアジアゾールー 2 ィル)チォ〕ブタンスルホン酸ナトリ ゥム、 5 アミノー 1, 3, 4 チアジアゾールー 2 チオール、メチルベンゾトリァゾー ル、 5 メチルベンゾトリァゾール、 2 メルカプトべンゾトリアゾールなどを挙げること ができる。これらべンゾイミダゾール系化合物の含有量は、通常、現像液 1リットル当り 0. Olmmol〜: LOmmolであり、より好ましくは、 0. lmmol〜2mmolである。
[0068] さらに上記現像液中には、各種の有機 ·無機のキレート剤を併用することができる。
上記無機キレート剤としては、テトラポリリン酸ナトリウム、へキサメタリン酸ナトリウム等 を用いることができる。一方、上記有機キレート剤としては、主に有機カルボン酸、アミ ノポリカルボン酸、有機ホスホン酸、ァミノホスホン酸および有機ホスホノカルボン酸を 用!/、ることができる。
上記有機カルボン酸としては、アクリル酸、シユウ酸、マロン酸、コハク酸、ダルタル 酸、アジピン酸、ピメリン酸、コハク酸、ァシエライン酸、セバチン酸、ノナンジカルボン 酸、デカンジ力ノレボン酸、ゥンデカンジ力ノレボン酸、マレイン酸、ィタコン酸、リンゴ酸 、クェン酸、酒石酸等を挙げることができるがこれらに限定されるものではない。
[0069] 上記アミノポリカルボン酸としては、イミノニ酢酸、二トリ口三酢酸、二トリ口三プロピオ ン酸、エチレンジァミンモノヒドロキシェチル三酢酸、エチレンジァミン四酢酸、グリコ ールエーテル四酢酸、 1, 2—ジァミノプロパン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、 トリエチレンテトラミン六酢酸、 1, 3 ジアミノー 2 プロパノール四酢酸、グリコール エーテルジァミン四酢酸、その他特開昭 52— 25632号、同 55— 67747号、同 57— 102624号の各公報、および特公昭 53— 40900号公報等に記載の化合物を挙げ ることがでさる。
[0070] 有機ホスホン酸としては、米国特許 US第 3214454号、同 3794591号の各明細 書、および西独特許公開 2227639号公報等に記載のヒドロキシアルキリデン—ジホ スホン酸やリサーチ 'ディスクロージャー(Research Disclosure)第 181卷、 Item 18170 (1979年 5月号)等に記載の化合物が挙げられる。
上記アミノホスホン酸としては、アミノトリス (メチレンホスホン酸)、エチレンジアミンテ トラメチレンホスホン酸、アミノトリメチレンホスホン酸等が挙げられる力 その他上記リ サーチ ·ディスクロージャー 18170号、特開昭 57— 208554号、同 54— 61125号、 同 55— 29883号の各公報および同 56 - 97347号公報等に記載の化合物を挙げる ことができる。
[0071] 有機ホスホノカノレボン酸としては、特開日召 52— 102726号、同 53— 42730号、同 5 4— 121127号、同 55— 4024号、同 55— 4025号、同 55— 126241号、同 55— 65 955号、同 55— 65956号等の各公報、および前述のリサーチ 'ディスクロージャー 1 8170号等に記載の化合物を挙げることができる。これらのキレート剤はアルカリ金属 塩やアンモニゥム塩の形で使用してもよ 、。
[0072] これらキレート剤の添カ卩量としては、現像液 1リットル当り好ましくは、 1 X 10_4〜1 X
10—1モル、より好ましくは 1 X 10_3〜1 X 10_2モルである。
[0073] さらに、現像液中に銀汚れ防止剤として、特開昭 56— 24347号、特公昭 56— 465 85号、特公昭 62— 2849号、特開平 4— 362942号の各公報記載の化合物を用い ることができる。また、溶解助剤として特開昭 61— 267759号公報記載の化合物を用 いることができる。さらに現像液には、必要に応じて色調剤、界面活性剤、消泡剤、 硬膜剤等を含んでもよい。現像処理温度および時間は相互に関係し、全処理時間と の関係において決定される力 一般に現像温度は約 20°C〜約 50°Cが好ましぐ 25 °C〜45°Cがさらに好ましい。また、現像時間は 5秒〜 2分が好ましぐ 7秒〜 1分 30秒 力 Sさらに好ましい。
[0074] 現像液の搬送コスト、包装材料コスト、省スペース等の目的から、現像液を濃縮化し 、使用時に希釈して用いるようにする態様も好ましい。現像液の濃縮化のためには、 現像液に含まれる塩成分をカリウム塩ィ匕することが有効である。
[0075] 本発明における現像処理は、未露光部分の銀塩を除去して安定化させる目的で行 われる定着処理を含むことができる。本発明における定着処理は、銀塩写真フィルム や印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用ェマルジヨンマスク等に用いられる定 着処理の技術を用いることができる。
[0076] 上記定着工程で使用する定着液の好ましい成分としては、以下が挙げられる。
すなわち、チォ硫酸ナトリウム、チォ硫酸アンモニゥム、必要により酒石酸、クェン酸 、ダルコン酸、ホウ酸、イミノジ酢酸、 5—スルホサリチル酸、ダルコヘプタン酸、タイ口 ン、エチレンジァミン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、二トリ口三酢酸これらの塩 等を含むことが好ましい。近年の環境保護の観点からは、ホウ酸は含まれない方が 好ましい。本発明に用いられる定着液の定着剤としてはチォ硫酸ナトリウム、チォ硫 酸アンモ-ゥムなどが挙げられ、定着速度の点からはチォ硫酸アンモ-ゥムが好まし いが、近年の環境保護の観点力 チォ硫酸ナトリウムが使われてもよい。これら既知 の定着剤の使用量は適宜変えることができ、一般には約 0. 1モル〜約 2モル Zリット ルである。特に好ましくは、 0. 2モル〜 1. 5モル Zリットルである。定着液には所望に より、硬膜剤 (例えば水溶性アルミニウム化合物)、保恒剤 (例えば、亜硫酸塩、重亜 硫酸塩)、 pH緩衝剤(例えば、酢酸)、 pH調整剤(例えば、アンモニア、硫酸)、キレ ート剤、界面活性剤、湿潤剤、定着促進剤を含むことができる。
[0077] 上記界面活性剤としては、例えば硫酸ィ匕物、スルホンィ匕物などのァニオン界面活 性剤、ポリエチレン系界面活性剤、特開昭 57— 6740号公報記載の両性界面活性 剤などが挙げられる。また、上記定着液には、公知の消泡剤を添加してもよい。
上記湿潤剤としては、例えば、アルカノールァミン、アルキレングリコールなどが挙 げられる。また、上記定着促進剤としては、例えば特公昭 45— 35754号、同 58— 1 22535号、同 58— 122536号の各公報に記載のチォ尿素誘導体;分子内に 3重結 合を持つアルコール;米国特許 US第 4126459号明細書記載のチォエーテル化合 物;特開平 4— 229860号公報記載のメソイオンィ匕合物などが挙げられ、特開平 2— 44355号公報記載の化合物を用いてもよい。また、上記 pH緩衝剤としては、例えば 酢酸、リンゴ酸、こはく酸、酒石酸、クェン酸、シユウ酸、マレイン酸、グリコール酸、ァ ジピン酸などの有機酸や、ホウ酸、リン酸塩、亜硫酸塩などの無機緩衝剤が使用でき る。上記 pH緩衝剤として好ましくは、酢酸、酒石酸、亜硫酸塩が用いられる。ここで p H緩衝剤は、現像液の持ち込みによる定着剤の pH上昇を防ぐ目的で使用され、好 ましくは 0. 01モル〜 1. 0モル Zリットル、より好ましくは 0. 02モル〜 0. 6モル Zリツ卜 ノレ程度用 ヽる。定着液の ρΗίま 4. 0〜6. 5力好ましく、特に好ましく ίま 4. 5〜6. 0の 範囲である。また、上記色素溶出促進剤として、特開昭 64— 4739号公報記載の化 合物を用いることもできる。
[0078] 本発明の定着液中の硬膜剤としては、水溶性アルミニウム塩、クロム塩が挙げられ る。
上記硬膜剤として好ましい化合物は、水溶性アルミニウム塩であり、例えば塩化ァ ルミ-ゥム、硫酸アルミニウム、カリウムミヨウバンなどが挙げられる。上記硬膜剤の好 ましい添カロ量は 0. 01モノレ〜 0. 2モノレ/リットノレであり、さらに好ましくは 0. 03モノレ 〜0. 08モル Ζリットルである。
[0079] 上記定着工程における定着温度は、約 20°C〜約 50°Cが好ましぐさらに好ましく は 25°C〜45°Cである。また、定着時間は 5秒〜 1分が好ましぐさらに好ましくは 7秒 〜50秒である。定着液の補充量は、感光材料の処理量に対して 600mlZm2以下が 好ましぐ 500ml/m2以下がさらに好ましぐ 300ml/m2以下が特に好ましい。
[0080] 現像、定着処理を施した積層材料は、水洗処理や安定化処理を施されるのが好ま しい。
上記水洗処理または安定化処理においては、水洗水量は通常感光材料 lm2当り、 20リットル以下で行われ、 3リットル以下の補充量 (0も含む、すなわちため水水洗)で 行うこともできる。このため、節水処理が可能となるのみならず、自現機設置の配管を 不要とすることができる。水洗水の補充量を少なくする方法としては、古くから多段向 流方式 (例えば 2段、 3段など)が知られている。この多段向流方式を本発明の製造 方法に適用した場合、定着後の感光材料は徐々に正常な方向、即ち定着液で汚れ ていない処理液の方向に順次接触して処理されていくので、さらに効率のよい。水洗 がなされる。また、水洗を少量の水で行う場合は、特開昭 63— 18350号、同 62— 28 7252号各公報などに記載のスクイズローラー、クロスオーバーローラーの洗浄槽を 設けることがより好ましい。また、少量水洗時に問題となる公害負荷低減のためには、 種々の酸化剤添加やフィルター濾過を組み合わせてもよい。さら〖こ、上記方法にお いては、水洗浴または安定ィ匕浴に防黴手段を施した水を、処理に応じて補充するこ とによって生じた水洗浴または安定ィ匕浴からのオーバーフロー液の一部または全部 を、特開昭 60 - 235133号公報に記載されて 、るようにその前の処理工程である定 着能を有する処理液に利用することもできる。
また、少量水洗時に発生し易 、水泡ムラ防止および Zまたはスクイズローラーに付 着する処理剤成分が処理されたフィルムに転写することを防止するために、水溶性 界面活性剤や消泡剤を添加してもよ ヽ。
[0081] また、上記水洗処理または安定化処理においては、感光材料から溶出した染料に よる汚染防止に、特開昭 63— 163456号公報に記載の色素吸着剤を水洗槽に設置 してもよい。また、水洗処理に続いて安定ィ匕処理においては、特開平 2— 201357号 、同 2— 132435号、同 1 102553号、特開日召 46— 44446号の各公報に記載のィ匕 合物を含有した浴を、感光材料の最終浴として使用してもよい。この際、必要に応じ てアンモ-ゥム化合物、 Bi、 A1などの金属化合物、蛍光増白剤、各種キレート剤、膜 pH調節剤、硬膜剤、殺菌剤、防かび剤、アルカノールァミンや界面活性剤を加える こともできる。水洗工程または安定ィ匕工程に用いられる水としては水道水のほか脱ィ オン処理した水やハロゲン、紫外線殺菌灯や各種酸化剤 (オゾン、過酸化水素、塩 素酸塩など)等によって殺菌された水を使用することが好ましい。また、特開平 4— 39 652号、特開平 5— 241309号公報記載の化合物を含む水洗水を使用してもよい。 水洗処理または安定ィ匕温度における浴温度および時間は 0°C〜50°C、 5秒〜 2分で あることが好ましい。
[0082] 本発明に用いられる現像液や定着液等の処理液は、特開昭 61— 73147号公報 に記載された酸素透過性の低い包材で保管することが好ましい。また、補充量を低 減する場合には処理槽の空気との接触面積を小さくすることによって液の蒸発、空気 酸ィ匕を防止することが好まし 、。ローラー搬送型の自動現像機にっ 、ては米国特許 US第 3025779号明細書、同第 3545971号明細書などに記載されており、本明細 書においては単にローラー搬送型プロセッサ一として言及する。また、ローラー搬送 型プロセッサ一は現像、定着、水洗および乾燥の四工程カゝらことが好ましぐ本発明 においても、他の工程 (例えば、停止工程)を除外しないが、この四工程を踏襲する のが最も好ましい。また、水洗工程の代わりに安定工程による四工程でも構わない。
[0083] 上記各工程においては、現像液や定着液の組成から水を除いた成分を固形にして 供給し、使用に当たって所定量の水で溶解して現像液や定着液として使用してもよ い。このような形態の処理剤は固形処理剤と呼ばれる。固形処理剤は、粉末、錠剤、 顆粒、粉末、塊状またはペースト状のものが用いられる。上記処理剤の、好ましい形 態は、特開昭 61— 259921号公報記載の形態或いは錠剤である。該錠剤の製造方 法は、例えば特開昭 51— 61837号、同 54— 155038号、同 52— 88025号の各公 報、英国特許 1, 213, 808号明細書等に記載される一般的な方法で製造できる。さ らに顆粒の処理剤は、 f列えば特開平 2— 109042号、同 2— 109043号、同 3— 397 35号各公報および同 3— 39739号公報等に記載される一般的な方法で製造できる 。また、粉末の処理剤は、例えば特開昭 54— 133332号公報、英国特許 725, 892 号、同 729, 862号各明細書およびドイツ特許 3, 733, 861号明細書等に記載され る一般的な方法で製造できる。
[0084] 上記固形処理剤の嵩密度は、その溶解性の観点と、 0. 5g/cm3〜6. Og/cm3の ものが好ましぐ特に 1. OgZcm3〜5. OgZcm3のものが好ましい。
[0085] 上記固形処理剤を調製するに当たっては、処理剤を構成する物質の中の、少なく とも 2種の相互に反応性の粒状物質を、反応性物質に対して不活性な物質による少 なくとも一つの介在分離層によって分離された層になるように層状に反応性物質を置 き、真空包装可能な袋を包材とし、袋内から排気しシールする方法を採用してもよい 。ここにおいて、「不活性」とは、物質が互いに物理的に接触されたときにパッケージ 内の通常の状態下で反応しな 、こと若しくは何らかの反応があっても著しくな 、ことを 意味する。不活性物質は、二つの相互に反応性の物質に対して不活性であることは 別にして、二つの反応性の物質が意図される使用において不活発であればよい。さ らに不活性物質は二つの反応性物質と同時に用いられる物質である。例えば、現像 液においてハイドロキノンと水酸ィ匕ナトリウムは直接接触すると反応してしまうので、真 空包装においてハイドロキノンと水酸ィ匕ナトリウムの間に分別層として亜硫酸ナトリウ ム等を使うことで、長期間ノ ッケージ中に保存できる。また、ハイド口キノン等をブリケ ットイ匕して水酸ィ匕ナトリウムとの接触面積を減らす事により保存性が向上し混合して用 V、ることもできる。これらの真空包装材料の包材として用いられるのは不活性なプラス チックフィルム、プラスチック物質と金属箔のラミネートから作られたバッグである。 [0086] 現像処理後の露光部に含まれる金属銀の質量は、露光前の露光部に含まれてい た銀の質量に対して 50質量%以上の含有率であることが好ましぐ 80質量%以上で あることがさらに好ま 、。露光部に含まれる銀の質量が露光前の露光部に含まれて V、た銀の質量に対して 50質量%以上であれば、高 、導電性を得ることができるため 好ましい。
[0087] 本発明における現像処理後の階調は、特に限定されるものではないが、 4. 0を超 えることが好ましい。現像処理後の階調が 4. 0を超えると、光透過性部の透明性を高 く保ったまま、導電性金属部の導電性を高めることができる。階調を 4. 0以上にする 手段としては、例えば、前述のロジウムイオン、イリジウムイオンのドープが挙げられる
[0088] (酸化処理)
本発明では、現像処理後の現像銀部の形成後、並びに、後述する導電性金属部 の形成後には、酸化処理を施すことも可能である。酸化処理を行うことにより、例えば 、光透過性部に金属が僅かに沈着していた場合に、該金属を除去し、光透過性部の 透過性をほぼ 100%にすることができる。
酸化処理としては、例えば、 Fe (III)イオン処理など、種々の酸化剤を用いた公知 の方法が挙げられる。上述の通り、酸化処理は、乳剤層の露光および現像処理後、 導電性金属部メツキ処理後に行うことができ、さらに現像処理後とメツキ処理後のそ れぞれで行ってもよい。
[0089] 本発明では、さらに露光および現像処理後の金属銀部を、 Pdを含有する溶液で処 理することもできる。 Pdは、 2価のパラジウムイオンであっても金属パラジウムであって もよ!/、。この処理により無電解メツキまたは物理現像速度を促進させることができる。
[0090] [導電性金属部]
本発明は露光および現像処理により形成された現像銀部に更なる導電性を付与す る目的で導電性金属部を積層させる。本発明では種々の公知な方法で導電性金属 部を積層させることが可能であるが、露光、現像によりパターユングされた現像銀部 上のみに選択的に導電性金属部を積層する方法としてメツキ処理が好適に用いられ る。導電性金属部としては銅、アルミニウム、ニッケルのいずれかを用いることができ る力 銅を用いることが価格及び性能の面力も最も好ま 、。
上記メツキ処理に写真業界で公知の物理現像と呼ばれる方法とを組み合わせるこ とも可能である。物理現像とは、金属や金属化合物の核上に、銀イオンなどの金属ィ オンを還元剤で還元して金属粒子を析出させることをいう。この物理現象は、インスタ ント B&Wフィルム、インスタントスライドフィルムや、印刷版製造等に利用されており、 本発明ではその技術を用いることができる。
また、物理現像は、露光後の現像処理と同時に行っても、現像処理後に別途行つ てもよい。力 メツキ処理による導電性金属部の積層前に行うことが好ましい。
[0091] 本発明にお 、て、導電性金属部を形成するためのメツキ処理は、無電解メツキ (ィ匕 学還元メツキや置換メツキ)、電解メツキ、または無電解メツキと電解メツキの両方を用 いることができる。本発明におけるメツキ処理は、公知のメツキ技術を用いることができ 、例えば、プリント配線板などで用いられている電解および無電解メツキ技術を用いる ことができる力 低コスト及び生産性の面力も電解メツキ法が好適である。
無電解銅メツキ液に含まれる化学種としては、硫酸銅や塩化銅、還元剤として、ホ ルマリンゃグリオキシル酸、銅の配位子として、 EDTA,トリエタノールアミン等、その 他、浴の安定ィ匕ゃメツキ皮膜の平滑性向上の為の添加剤としてポリエチレングリコー ル、黄血塩、ビビリジン等が挙げられる。
電解銅メツキ浴としては、硫酸銅浴やピロリン酸銅浴が挙げられ、無電解銅メツキ液 と同様、種々の配位子、浴の安定化剤、メツキ皮膜の平滑性向上剤等の添加剤を添 加することが可能である。
[0092] 本発明におけるメツキ処理時のメツキ速度は、緩やかな条件で行うことができ、さら に 5 mZhr以上の高速メツキも可能である。メツキ処理において、メツキ液の安定性 を高める観点からは、例えば、 EDTAなどの配位子など種々の添加剤を用いることが できる。
[0093] 本発明の導電性金属部は、透光性電磁波シールド材料としての用途である場合、 正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、菱形、平行 四辺形、台形などの四角形、(正)六角形、(正)八角形などの (正) n角形、円、楕円 、星形などを組み合わせた幾何学図形であることが好ましぐこれらの幾何学図形か らなるメッシュ状であることがさらに好まし 、。 EMIシールド性の観点からは三角形の 形状が最も有効であるが、可視光透過性の観点力もは同一のライン幅なら (正) n角 形の n数が大きいほど開口率が上がり可視光透過性が大きくなるので有利である。モ ァレを生じにくくする観点ではこれらの幾何学模様をランダムに配置したり、ライン幅 を周期性なしに変化させることも好まし 、。
なお、導電性配線材料の用途である場合、前記導電性金属部の形状は特に限定 されず、目的に応じて任意の形状を適宜決定することができる。
[0094] 透光性電磁波シールド材料の用途にお!、て、上記導電性金属部の線幅は 1 μ m 〜50 μ m、好ましくは 5 μ m〜40 μ m、より好ましくは 7 μ m〜30 μ mである。線間隔 は 50 μ m〜500 μ mであること力好ましく、更に好ましくは 200 μ m〜400 μ m、最も 好ましくは 250 m〜350 mである。また、導電性金属部は、アース接続強化など の目的にお 、てはより広 、部分を有して 、てもよ!/、。
[0095] 本発明における導電性金属部は、可視光透過率の点から開口率は 85%以上であ ることが好ましぐ 90%以上であることがさらに好ましぐ 95%以上であることが最も好 ましい。開口率とは、メッシュをなす細線のない部分が全体に占める割合であり、例え ば、線幅 15 μ m、ピッチ 300 μ mの正方形の格子状メッシュの開口率は 90%である
[0096] 本発明における透光性電磁波シールド膜のうち、導電性金属部以外の透明性を有 する部分を光透過性部と呼ぶ。光透過性部における透過率は、前述のとおり、支持 体の光吸収及び反射の寄与を除いた 380ηπ!〜 780nmの波長領域における透過率 の最小値で示される透過率が 90%以上、好ましくは 95%以上、さらに好ましくは 97 %以上である。
[0097] 本発明におけるメッシュパターンは必要サンプルサイズ 1枚ずつでもよ!/、。し、連続 していてもよい。メッシュパターンの連続長が長いほど、前記光学フィルター材料を生 産する場合のロスが低減できるためより好ましい態様であるといえる。一方、連続長が 多いとロール状にした場合にロール径が大きくなる、ロールの重量が重くなる、ロール の中心部の圧力が強くなり接着や変形などの問題を生じ安くなる等の問題もあるため 、 2000m以下であること力 S好ましく、 100111〜1000111カょり好ましく、 200m〜800m が更に好ましい。最も好ましくは 300m〜500mである。
[0098] 本発明にお 、てメッシュは実質的に平行である直線状細線の交差するパターンで あってもよい。実質的に平行である直線状細線の交差するパターンとは、いわゆる格 子模様を意味し、格子を構成し隣り合う直線が平行または平行 ± 2° 以内の場合を いう。
[0099] 該光ビームの走査方法としては、搬送方向に対して実質的に垂直な方向に配列し たライン状の光源または回転ポリゴンミラーによって露光する方法が好ましい。この場 合、光ビームは 2値以上の強度変調を行う必要があり、直線はドットの連続としてバタ 一ユングされる。ドットの連続であるため一ドットの細線の縁は階段状になるが、細線 の太さはくびれた部分の一番狭い長さを意味する。
[0100] 該光ビームの走査方法のもう一つの方式として、格子パターンの傾きに合わせて搬 送方向に対して走査方向を傾力せたビームを走査することも好ましい。この場合、 2 つの走査光ビームを直交するように配列することが好ましく。光ビームは露光面状で は実質的に 1値の強度をとる。
[0101] 本発明においてメッシュパターンは搬送方向に対して 30° から 60° 傾かせること が好ましい。より好ましくは 40° から 50° であり、最も好ましくは 43° から 47° である 。これはメッシュパターンが枠に対して 45° 程度の傾きとなるマスクの作成が一般的 に難しぐムラが出やすい或いは価格が高いなどの問題を生じやすいのに対して、本 方式はむしろ 45° 付近にてムラが出にくいため、本発明の効果がマスク密着露光方 式のフォトリソグラフィーゃスクリーン印刷によるパターユング対してより顕著な効果が ある。
[0102] [黒色部]
本発明における黒色部は、金属光沢を抑えて視認性悪ィ匕を防ぐ役割を持つもので あり、実質的に黒色と認知できるものである。黒色部は現像銀部、導電性金属部上に この順に積層されていることが好ましぐ黒色部はメッシュ細線の導電性金属の上面 及び側面に亘つて覆われている様態とすることで、視認する角度に依存せずに一定 かつ良好な視認性を確保できる。
[0103] 黒色部はニッケル、亜鉛、錫および銅の中力 選択される少なくとも 2種の元素を含 む合金であり、好適な積層方法の例としてメツキ処理法が挙げられる。導電性金属部 積層体の上面及び側面に亘つてより均一に黒色部で覆う構成にするための最も好適 な方法は電解メツキ法である。導電性金属部も電解メツキ法で行う場合は、連続生産 による生産性の向上が可能となる。
[0104] メツキ処理としては公知の黒色メツキと呼ばれるものであれば何でも使用して良ぐ 黒色 Ni— Zn合金メッキ、黒色 Sn— Ni合金メッキ、 Sn— Ni— Cu合金メッキ等が例と して挙げられる。より具体的には、荏原ユージライト (株)の黒色ニッケルメツキ浴 (商品 名、ブラックニッケル GT、 Ni— Zn系)日本ィ匕学産業 (株)製の黒色メツキ浴 (商品名、 ニツカブラック、 Sn—Ni合金系)、等を使用することができ、緩やかな条件であっても 高速メツキであってもよ 、。メツキ厚みは黒色として認知できれば厚みは限定されな ヽ 力 通常メツキ厚みは 10 μ m以下が好ましぐ 5 μ m以下が更に好ましい。本発明の 方法に加えて、染色法等の方法を組み合わせて使用することも可能である。
[0105] [透光性電磁波シールド膜]
本発明の透光性電磁波シールド膜における支持体の厚さは、 5 μ m〜200 μ mで あることが好ましぐ 30 /ζ πι〜150 /ζ πιであることがさらに好ましい。 5 /ζ πι〜200 /ζ πι の範囲であれば所望の可視光の透過率が得られ、かつ取り扱!/、も容易である。
[0106] 導電性金属部積層用メツキ処理前の支持体上に設けられる現像銀部の厚さは、支 持体上に塗布される銀塩含有層用塗料の塗布厚みに応じて適宜決定することがで きる。現像銀部の厚さは、 30 m以下であることが好ましぐ 20 m以下であることが より好ましく、 0. 01 μ m〜9 μ mであること力 Sさらに好ましく、 0. 05 μ m〜5 μ mであ ることが最も好ましい。また、現像銀部はパターン状であることが好ましい。現像銀部 は 1層でもよぐ 2層以上の重層構成であってもよい。現像銀部がパターン状であり、 かつ 2層以上の重層構成である場合、異なる波長に感光できるように、異なる感色性 を付与することができる。これにより、露光波長を変えて露光すると、各層において異 なるパターンを形成することができる。このようにして形成された多層構造のパターン 状現像銀部を含む透光性電磁波シールド膜は、高密度なプリント配線板として利用 することちでさる。
[0107] 導電性金属部の厚さは、ディスプレイの電磁波シールド材の用途としては、薄いほ どディスプレイの視野角が広がるため好ましい。さらに、導電性配線材料の用途とし ては、高密度化の要請力 薄膜ィ匕が要求される。このような観点から、導電性金属部 に担持された導電性金属力もなる層の厚さは、 9 m以下であることが好ましぐ 5 μ m以下であることがより好ましい。
本発明では、上述した銀塩含有層の塗布厚みをコントロールすることにより所望の 厚さの現像銀部を形成し、さらに物理現像及び Z又はメツキ処理により導電性金属 粒子からなる層の厚みを自在にコントロールできるため、 5 μ m以下、好ましくは 3 μ m以下の厚みを有する透光性電磁波シールド膜であっても容易に形成することがで きる。
[0108] なお、従来のエッチングを用いた方法では、金属薄膜の大部分をエッチングで除 去、廃棄する必要があつたが、本発明では必要な量だけの導電性金属を含むパター ンを支持体上に設けることができるため、必要最低限の金属量だけを用いればよぐ 製造コストの削減及び金属廃棄物の量の削減という両面から利点がある。
[0109] く接着剤層〉
本発明に係る透光性電磁波シールド膜は、光学フィルターや、液晶表示板、プラズ マディスプレイパネル、その他の画像表示グラットパネル、あるいは CCDに代表され る撮像用半導体集積回路などに組み込まれる際には、接着層を介して接合される。 接着剤層における接着剤の屈折率は 1. 40〜: L 70のものを使用することが好まし V、。これは本発明で使用するプラスチックフィルム等の透明基材と接着剤の屈折率と の関係で、その差を小さくして、可視光透過率が低下するのを防ぐためであり、屈折 率が 1. 40- 1. 70であると可視光透過率の低下が少なく良好である。
[0110] また、接着剤は、加熱または加圧により流動する接着剤であることが好ましぐ特に 、 200°C以下の加熱または lkgfZcm2 (9. 8N/cm2)以上の加圧により流動性を示 す接着剤である
ことが好ましい。このような接着剤を用いることにより、この接着剤層に導電層が埋設 されている本発明の透光性電磁波シールド膜を被着体であるディスプレイやプラスチ ック板に接着剤層を流動させて接着することができる。流動できるので透光性電磁波 シールド膜を被着体にラミネートや加圧成形、特に加圧成形により、また曲面、複雑 形状を有する被着体にも容易に接着することができる。このためには、接着剤の軟化 温度が 200°C以下であると好ましい。透光性電磁波シールド膜の用途から、使用さ れる環境が通常 80°C未満であるので接着剤層の軟ィ匕温度は、 80°C以上が好ましく 、加工性力も 80°C〜120°Cが最も好ましい。軟化温度は、粘度が 1012ボイズ以下に なる温度のことで、通常その温度では 1秒〜 10秒程度の時間のうちに流動が認めら れる。
上記のような加熱または加圧により流動する接着剤としては、主に以下に示す熱可 塑性榭脂が代表的なものとしてあげられる。たとえば天然ゴム (屈折率 n=l.52)、ポ リイソプレン(n=l.521)、ポリ 1, 2 ブタジエン(n=l.50)、ポリイソブテン(n=l .505〜1.51)、ポリブテン(n=l.513)、ポリー2 へプチルー 1, 3 ブタジエン(n =1.50)、ポリ 2—t ブチルー 1, 3 ブタジエン(n=l.506)、ポリ—1, 3 ブタ ジェン(n=l.515)などの(ジ)ェン類、ポリオキシエチレン(n=l.456)、ポリオキシ プロピレン(n=l.450)、ポリビュルェチルエーテル(n=l.454)、ポリビュルへキシ ルエーテル(n=l.459)、ポリビュルブチルエーテル(n=l.456)などのポリエーテ ル類、ポリビュルアセテート(n=l.467)、ポリビュルプロピオネート(n=l.467)など のポリエステル類、ポリウレタン(n=l.5〜1.6)、ェチルセルロース(n=l.479)、ポ リ塩化ビュル (n=l.54〜1.55)、ポリアクリロニトリル (n=l.52)、ポリメタタリ口-トリ ル(n=l.52)、ポリスルホン(n=l.633)、ポリスルフイド(n=l.6)、フエノキシ榭脂( n=l.5〜1.6)、ポリェチルアタリレート(n=l.469)、ポリブチルアタリレート(n=l. 466)、ポリー2 ェチルへキシルアタリレート(n=l.463)、ポリ t—ブチルアタリレ 一 Hn=l.464)、ポリ一 3 エトキシプロピルアタリレート(n=l.465)、ポリオキシカ ルポ-ルテトラメチレン(n=l.465)、ポリメチルアタリレート(n=l.472〜1.480)、ポ リイソプロピルメタタリレート(n=l.473)、ポリドデシルメタタリレート(n=l.474)、ポリ テトラデシルメタタリレート(n=l.475)、ポリ n—プロピルメタタリレート(n=l.484) 、ポリ一 3, 3, 5 トリメチルシクロへキシルメタタリレート(n=l.484)、ポリェチルメタ タリレート(n=l.485)、ポリ一 2 -トロ一 2—メチルプロピルメタタリレート(n=l.487 )、ポリ 1, 1ージェチルプロピルメタタリレート(n=l.489)、ポリメチルメタタリレート (n=l.489)などのポリ(メタ)アクリル酸エステルが使用可能である。これらのアクリル ポリマーは必要に応じて、 2種以上共重合してもよい。し、 2種類以上をブレンドして 使用することも可能である。
[0112] さらにアクリル榭脂とアクリル以外との共重合榭脂としてはエポキシアタリレート (n= 1. 48〜1. 60)、ウレタンアタリレート(n= l. 5〜1. 6)、ポリエーテルアタリレート(n= l . 48〜1. 49)、ポリエステルアタリレート(n= l. 48〜1. 54)なども使うこともできる。特 に接着性の点から、ウレタンアタリレート、エポキシアタリレート、ポリエーテルアタリレ ートが優れており、エポキシアタリレートとしては、 1、 6—へキサンジオールジグリシジ ルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ァリルアルコールジグリ シジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリシジルエス テル、フタル酸ジグリシジルエステル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、 トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ペン タエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエーテル等の
(メタ)アクリル酸付加物が挙げられる。エポキシアタリレートなどのように分子内に水 酸基を有するポリマーは接着性向上に有効である。これらの共重合榭脂は必要に応 じて、 2種以上併用することができる。これらの接着剤となるポリマーの軟ィ匕温度は、 取扱い性から 200°C以下が好適で、 150°C以下がさらに好ましい。透光性電磁波シ 一ルド膜の用途から、使用される環境が通常 80°C以下であるので接着剤層の軟ィ匕 温度は、加工性から 80°C〜120°Cが最も好ましい。一方、ポリマーの重量平均分子 量 (ゲルパーミエーシヨンクロマトグラフィーによる標準ポリスチレンの検量線を用いて 測定したもの、以下同様)は、 500以上のものを使用することが好ましい。分子量が 5 00以下では接着剤組成物の凝集力が低すぎるために被着体への密着性が低下す るおそれがある。本発明で使用する接着剤には必要に応じて、希釈剤、可塑剤、酸 化防止剤、充填剤、着色剤、紫外線吸収剤や粘着付与剤などの添加剤を配合して もよい。接着剤の層の厚さは、 10 /ζ πι〜80 /ζ πιであることが好ましぐ導電層の厚さ 以上で 20 μ m〜50 μ mとすることが特に好ましい。
[0113] また、幾何学図形を被覆する接着剤は、透明プラスチック基材との屈折率の差が 0 . 14以下とされる。また透明プラスチック基材が接着層を介して導電性材料と積層さ れている場合においては、接着層と幾何学図形を被覆する接着剤との屈折率の差 が 0.14以下とされる。これは、透明プラスチック基材と接着剤の屈折率、または接着 剤と接着層の屈折率が異なると可視光透過率が低下するためであり、屈折率の差が 0. 14以下であると可視光透過率の低下が少なく良好となる。そのような要件を満た す接着剤の材料としては、透明プラスチック基材がポリエチレンテレフタレート (n= 1 .575;屈折率)の場合、ビスフエノール A型エポキシ榭脂ゃビスフエノール F型ェポキ シ榭脂、テトラヒドロキシフエニルメタン型エポキシ榭脂、ノボラック型エポキシ榭脂、レ ゾルシン型エポキシ榭脂、ポリアルコール'ポリグリコール型エポキシ榭脂、ポリオレフ イン型エポキシ榭脂、脂環式やハロゲンィ匕ビスフエノールなどのエポキシ榭脂(いず れも屈折率が 1.55〜1.60)を使うことができる。エポキシ榭脂以外では天然ゴム (n =1.52)、ポリイソプレン(n=l.521)、ポリ 1, 2 ブタジエン(n=l.50)、ポリイソブ テン(n=l.505〜1.51)、ポリブテン(n=l.5125)、ポリー2 へプチルー 1, 3 ブ タジェン(n=l.50)、ポリ 2—t—ブチルー 1, 3 ブタジエン(n=l.506)、ポリー1 , 3 ブタジエン(n=l.515)などの(ジ)ェン類、ポリオキシエチレン(n=l.4563)、 ポリオキシプロピレン(n=l.4495)、ポリビュルェチルエーテル(n=l.454)、ポリビ -ルへキシルエーテル(n=l.4591)、ポリビュルブチルエーテル(n=l.4563)など のポリエーテル類、ポリビュルアセテート(n=l.4665)、ポリビュルプロピオネート(n =1.4665)などのポリエステル類、ポリウレタン(n=l.5〜1.6)、ェチルセルロース( n=l.479)、ポリ塩化ビュル(n=l.54〜1.55)、ポリアクリロニトリル(n=l.52)、ポリ メタタリ口-トリル(n=l.52)、ポリスルホン(n=l.633)、ポリスルフイド(n=l.6)、フ エノキシ榭脂 (n=l.5〜1.6)などを挙げることができる。これらは、好適な可視光透 過率を発現する。
一方、透明プラスチック基材がアクリル榭脂の場合、上記の榭脂以外に、ポリェチ ルアタリレート(n=l.4685)、ポリブチルアタリレート(n=l.466)、ポリ 2 ェチル へキシルアタリレート(n=l.463)、ポリ t—ブチルアタリレート(n=l.4638)、ポリ 3 エトキシプロピルアタリレート(n=l.465)、ポリオキシカルボ二ルテトラメタクリレー ト(n=l.465)、ポリメチルアタリレート(n=l.472〜1.480)、ポリイソプロピルメタタリ レート(n=l.4728)、ポリドデシルメタタリレート(n=l.474)、ポリテトラデシルメタタリ レート(n=l.4746)、ポリ一 n—プロピルメタタリレート(n=l.484)、ポリ一 3, 3, 5— トリメチルシクロへキシルメタタリレート(n= l. 484)、ポリェチルメタタリレート(n= l. 4 85)、ポリ一 2— -トロ一 2—メチルプロピルメタタリレート(n= l. 4868)、ポリテトラカル バニルメタタリレート(n= l. 4889)、ポリ一 1, 1—ジェチルプロピルメタタリレート(n= 1. 4889)、ポリメチルメタタリレート(n= l. 4893)などのポリ(メタ)アクリル酸エステル が使用可能である。これらのアクリルポリマーは必要に応じて、 2種以上共重合しても よい。し、 2種類以上をブレンドして使うこともできる。
[0115] さらにアクリル榭脂とアクリル以外との共重合榭脂としてはエポキシアタリレート、ウレ タンアタリレート、ポリエーテルアタリレート、ポリエステルアタリレートなども使うこともで きる。特に接着性の点から、エポキシアタリレート、ポリエーテルアタリレートが優れて おり、エポキシアタリレートとしては、 1, 6—へキサンジオールジグリシジルエーテル、 ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ァリルアルコールジグリシジルエーテ ル、レゾルシノールジグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリシジルエステル、フタル 酸ジグリシジルエステル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチロー ルプロパントリグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリト 一ルテトラグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエーテル等の(メタ)ァク リル酸付加物が挙げられる。エポキシアタリレートは分子内に水酸基を有するため接 着性向上に有効であり、これらの共重合榭脂は必要に応じて、 2種以上併用すること ができる。接着剤の主成分となるポリマーの重量平均分子量は、 1, 000以上のもの が使われる。分子量が 1, 000以下だと組成物の凝集力が低すぎるために被着体へ の密着性が低下する。
[0116] 接着剤の硬化剤としてはトリエチレンテトラミン、キシレンジァミン、ジアミノジフエ- ルメタンなどのアミン類、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水ドデシルコハク酸、無 水ピロメリット酸、無水ベンゾフヱノンテトラカルボン酸などの酸無水物、ジアミノジフエ ニルスルホン、トリス(ジメチルアミノメチル)フエノール、ポリアミド榭脂、ジシアンジアミ ド、ェチルメチルイミダゾールなどを使うことができる。 これらは単独で用いてもよい。 し、 2種以上混合して用いてもよい。これらの架橋剤の添加量は上記ポリマー 100質 量部に対して 0. 1質量部〜 50質量部、好ましくは 1質量部〜 30質量部の範囲で選 択するのがよい。この添加量力 0. 1質量部未満であると硬化が不十分となり、 50質 量部を越えると過剰架橋となり、接着性に悪影響を与える場合がある。本発明で使用 する接着剤の榭脂組成物には必要に応じて、希釈剤、可塑剤、酸化防止剤、充填剤 や粘着付与剤などの添加剤を配合してもよい。そして、この接着剤の榭脂組成物は、 透明プラスチック基材の表面に導電性材料で描かれた幾何学図形を設けた構成材 料の基材の一部または全面を被覆するために、塗布され、溶媒乾燥、加熱硬化工程 をへたのち、本発明に係る接着フィルムにする。上記で得られた電磁波シ—ルド性と 透明性を有する接着フィルムは、該接着フィルムの接着剤により CRT、 PDP、液晶、 ELなどのディスプレイに直接貼り付け使用したり、アクリル板、ガラス板等の板ゃシー トに貼り付けてディスプレイに使用する。また、この接着フィルムは、電磁波を発生す る測定装置、測定機器や製造装置の内部をのぞくための窓や筐体に上記と同様に して使用する。さらに、電波塔や高圧線等により電磁波障害を受ける恐れのある建造 物の窓や自動車の窓等に設ける。そして、導電性材料で描かれた幾何学図形には アース線を設けることが好ま 、。
[0117] 透明プラスチック基材上の導電性材料が除去された部分は密着性向上のために意 図的に凹凸を有していたり、導電性材料の背面形状を転写したりするためにその表 面で光が散乱され、透明性が損なわれるが、その凹凸面に透明プラスチック基材と 屈折率が近い樹脂が平滑に塗布されると乱反射が最小限に押さえられ、透明性が発 現するよう〖こなる。さらに透明プラスチック基材上の導電性材料で描写された幾何学 図形は、ライン幅が非常に小さいため肉眼で視認されない。またピッチも十分に大き いため見掛け上透明性を発現すると考えられる。一方、遮蔽すべき電磁波の波長に 比べて、幾何学図形のピッチは十分に小さいため、優れたシールド性を発現すると 考えられる。
[0118] 特開 2003— 188576号公報に示すように、透明基材フィルムと金属箔との積層は 、透明基材フィルムとして、熱融着性の高いエチレン 酢酸ビニル共重合榭脂、もし くはアイオノマー榭脂等の熱融着性榭脂のフィルムを単独、または他の榭脂フィルム と積層して使用するときは、接着剤層を設けずに行なうことも可能であるが、通常は、 接着剤層を用いたドライラミネート法等によって積層を行なう。接着剤層を構成する 接着剤としては、アクリル榭脂、ポリエステル榭脂、ポリウレタン榭脂、ポリビニルアル コール榭脂、塩化ビュル Z酢酸ビュル共重合榭脂、もしくはエチレン 酢酸ビュル 共重合榭脂等の接着剤を挙げることができ、これらの他、熱硬化性榭脂ゃ電離放射 線硬化性榭脂 (紫外線硬化性榭脂、電子線硬化性榭脂等)を用いることもできる。
[0119] 一般的には、ディスプレイの表面はガラス製であるので、粘着材を用いて貼り合わ せるのは透明プラスチックフィルムとガラス板となり、その接着面に気泡が生じたり剥 離が生じたりすると画像が歪む、表示色がディスプレイ本来のものと異なって見える 等の問題が発生する。また、気泡および剥離の問題はいずれの場合でも粘着材がプ ラスチックフィルムまたはガラス板より剥離することにより発生する。この現象は、プラス チックフィルム側、ガラス板側ともに発生する可能性が有り、より密着力の弱い側で剥 離が発生する。従って、高温での粘着材とプラスチックフィルム、ガラス板との密着力 が高いことが必要となる。具体的には、透明プラスチックフィルム及びガラス板と粘着 材層との密着力は 80°Cにお 、て lOgZcm以上であることが好まし!/、。 30gZcm以 上であることが更に好ましい。ただし、 2000gZcmを超えるような粘着材は貼り合わ せ作業が困難と成るために好ましくない場合がある。ただし、力かる問題点が発生し ない場合は問題なく使用できる。さらに、この粘着材の透明プラスチックフィルムと面 して 、な 、部分に不必要に他の部分に接触しな 、ように合 、紙 (セパレーター)を設 けることも可會である。
[0120] 粘着材は透明であるものが好ましい。具体的には全光線透過率が 70%以上が好 ましぐ 80%以上が更に好ましぐ 85%〜92%が最も好ましい。さらに、霞度が低い ことが好ましい。具体的には、 0%〜3%が好ましぐ 0%〜1. 5%が更に好ましい。本 発明で用いる粘着材は、ディスプレイ本来の表示色を変化させないために無色であ ることが好ましい。ただし、榭脂自体が有色であっても粘着材の厚みが薄い場合には 実質的には無色とみなすことが可能である。また、後述のように意図的に着色を行な う場合も同様にこの範囲ではない。
[0121] 上記の特性を有する粘着材としては例えば、アクリル系榭脂、 a一才レフイン榭脂、 酢酸ビニル系榭脂、アクリル共重合物系榭脂、ウレタン系榭脂、エポキシ系榭脂、塩 化ビ -リデン系榭脂、塩ィ匕ビ二ル系榭脂、エチレン ビュルアセテート系榭脂、ポリ アミド系榭脂、ポリエステル系榭脂等が挙げられる。これらの内、アクリル系榭脂が好 ましい。同じ榭脂を用いる場合でも、粘着材を重合法により合成する際に架橋剤の添 加量を下げる、粘着性付与材を加える、分子の末端基を変化させるなどの方法によ つて、粘着性を向上させることも可能である。また、同じ粘着材を用いても、粘着材を 貼り合わせる面、すなわち、透明プラスチックフィルムまたはガラス板の表面改質を行 なうことにより密着性を向上させることも可能である。このような表面の改質方法として は、コロナ放電処理、プラズマグロ一処理等の物理的手法、密着性を向上させるため の下地層を形成するなどの方法が挙げられる。
[0122] 透明性、無色性、ハンドリング性の観点から、粘着材層の厚みは、 5 μ m〜50 μ m 程度であることが好ましい。粘着材層を接着剤で形成する場合は、その厚みは上記 範囲内で薄くするとよい。具体的には1 111〜20 111程度でぁる。ただし、上記のよう にディスプレイ自体の表示色を変化させず、透明性も上記の範囲に入って!/ヽる場合 には、厚みが上記範囲を超えてもよい。
[0123] く剥離可能な保護フィルム〉
本発明に係る透過性電磁波シールド膜には、剥離可能な保護フィルムを設けること ができる。
保護フィルムは、必ずしも、電磁波遮蔽用シート 1 (透過性電磁波シールド膜)の両 面に有していなくてもよぐ特開 2003— 188576号公報の(a)に示すように、積層体 10のメッシュ状の金属箔 11 '上に保護フィルム 20を有するのみで、透明基材フィル ム 14側に有していなくてもよい。また、上記公報の (b)に示すように、積層体 10の透 明基材フィルム 14側に保護フィルム 30を有するのみで、金属箔 11 '上に有していな くてもよい。なお、上記公報の図 2および図 1において共通な符号を付した部分は同 じものを示すものである。
[0124] 電磁波遮蔽用シート 1における透明基材フィルム 14、および開孔部が密に配列し たメッシュ状の金属箔 11 '力 なる透明性を有する電磁波遮蔽層とが少なくとも積層 されて構成された積層体の層構成、および積層体の製造プロセスについて、次に上 記公報の図 3 (a)〜(f)を引用しながら説明する。なお、保護フィルム 20または Zおよ び保護フィルム 30の積層については、積層体の製造プロセスの説明の後に、改めて 説明する。 [0125] まず、上記公報の図 3 (a)に示すように、透明基材フィルム 14および金属箔 11が接 着剤層 13を介して積層された積層体を準備する。透明基材フィルム 14としては、ァ クリル樹脂、ポリカーボネート榭脂、ポリプロピレン榭脂、ポリエチレン榭脂、ポリスチレ ン榭脂、ポリエステル榭脂、セルロース系榭脂、ポリサルホン榭脂、もしくはポリ塩ィ匕ビ -ル榭脂等のフィルムを用いることができる。通常は、機械的強度が優れ、透明性が 高いポリエチレンテレフタレート榭脂等のポリエステル榭脂のフィルムを好ましく用い る。
透明基材フィルム 14の厚みは、特に限定されないが、機械的強度があり、折り曲げ に対する抵抗性を大きくする点から、 50 /ζ πι〜200 /ζ πι程度であることが好ましぐさ らに厚みが増してもよい。力 電磁波遮蔽用シート 1を他の透明基板に積層して使用 する場合には、必ずしも、この範囲以上の厚みでなくてもよい。必要に応じ、透明基 材フィルム 14の片面もしくは両面にコロナ放電処理を施したり、あるいは易接着層を 設けるとよい。
[0126] 電磁波遮蔽用シート 1は、後に上記公報の図 4を引用して説明するように、上記の 積層体を赤外線カットフィルタ一層を介する等して基板上に積層したものの表裏に、 さらに、最表面の強化、反射防止性の付与、防汚性の付与等の効果を有するシート を積層して使うものであるので、上記の保護フィルムは、このようなさらなる積層の際 には剥離する必要があり、このため、保護フィルムの金属箔側への積層は、いわゆる 剥離可能に行なうことが望ましい。
[0127] 保護フィルムは金属箔上に積層した際の剥離強度は 5mNZ25mm幅〜 5mNZ2 5mm幅であることが好ましぐより好ましくは 10mNZ25mm幅〜 100mNZ25mm 幅である。下限未満では、剥離が容易過ぎ、取扱い中や不用意な接触により保護フ イルムが剥離する恐れがあり、好ましくなぐまた上限を超えると、剥離のために大きな 力を要する上、剥離の際に、メッシュ状の金属箔が透明基材フィルム (もしくは接着剤 層から)剥離する恐れがあり、やはり好ましくない。
[0128] 電磁波遮蔽用シート 1において、透明基材フィルム 14上に接着剤層 13を介してメ ッシュ状の金属箔が積層された積層体 (黒ィ匕層を伴なつてもよい。)の下面側、即ち、 透明基材フィルム側に積層する保護フィルムは、透明基材フィルムの下面が、取扱い 中や不用意な接触により損傷しないよう、また、金属箔上にレジスト層を設けてエッチ ングする各工程において、特にエッチングの際に透明基材フィルムの露出面が汚染 もしくは侵食を受けないよう、保護するためのものである。
[0129] 前述した保護フィルムの場合と同様、この保護フィルムも、積層体のさらなる積層の 際には剥離する必要があるので、保護フィルムの透明基材フィルム側への積層も、剥 離可能に行なうことが望ましぐ剥離強度としては、保護フィルムと同様、 5mN/25 mm幅〜 5NZ25mm幅であることが好ましぐより好ましくは 10mNZ25mm幅〜 10 OmNZ25mm幅である。下限未満では、剥離が容易過ぎ、取扱い中や不用意な接 触により保護フィルムが剥離する恐れがあり、好ましくなぐまた上限を超えると、剥離 のために大きな力を要するからである。
[0130] 透明基材フィルム側に積層する保護フィルムは、エッチング条件に耐える、例えば 、 50°C程度のエッチング液、特にそのアルカリ成分によって数分間の浸漬中、侵食さ れないものであることが好ましぐあるいは、ドライエッチングの場合には 100°C程度 の温度条件に耐えるものであることが望ましい。また、感光性榭脂層を積層する際に 、積層体をディップコーティング (浸漬コーティング)するときは、コーティング液が積 層体の反対面にも付着するので、エッチング等の工程の際に、感光性榭脂が剥離し てエッチング液の中を漂うことがないよう、感光性榭脂の密着力が得られるものである ことが好ましいし、エッチング液を用いるときは、塩化鉄や塩化銅等を含むエッチング 液による汚染に耐える耐久性、もしくは、アルカリ液等のレジスト除去液による侵食も しくは汚染等に耐える耐久性を有するものであることが好ま 、。
[0131] 上記の各点を満足させるために、保護フィルムを構成するフィルムとしては、ポリオ レフイン系榭脂であるポリエチレン榭脂ゃポリプロピレン榭脂、ポリエチレンテレフタレ 一ト榭脂等のポリエステル榭脂、ポリカーボネート榭脂、もしくはアクリル榭脂等の榭 脂フィルムを用いることが好ましぐまた、上記した観点により、少なくとも、保護フィル ムの、積層体に適用した際に最表面となる側の面にコロナ放電処理を施しておくか、 易接着層を積層しておくことが好ましい。
[0132] また、保護フィルムを構成する粘着材としては、アクリル酸エステル系、ゴム系、もし くはシリコーン系のものを使用することができる。 [0133] 上記した保護フィルム用のフィルムの素材、および粘着材の素材は、金属箔側に適 用する保護フィルムについても、そのまま適用できるので、両保護フィルムとしては、 異なるものを使用してもよい。力 同じ物を、両保護フィルムとすることができる。
[0134] [光学フィルター]
本発明に係る光学フィルタ一は、上記の透光性電磁波シールド膜の他に、複合機 能層を備えた機能性フィルムを有することができる。
く複合機能層〉
ディスプレイは、照明器具等の映り込みによって表示画面が見づらくなつてしまうの で、機能性フィルム (C)は、外光反射を抑制するための反射防止 (AR:アンチリフレ クシヨン)性、または、鏡像の映り込みを防止する防眩 (AG :アンチグレア)性、または その両特性を備えた反射防止防眩 (ARAG)性の 、ずれかの機能を有して 、ること が必要である。光学フィルター表面の可視光線反射率が低いと、映り込み防止だけ ではなぐコントラスト等を向上させることができる。
[0135] 反射防止性を有する機能性フィルム (C)は、反射防止膜を有し、具体的には、可視 域において屈折率が 1. 5以下、好適には 1. 4以下と低い、フッ素系透明高分子榭 脂やフッ化マグネシウム、シリコン系榭脂ゃ酸ィ匕珪素の薄膜等を例えば 1Z4波長の 光学膜厚で単層形成したもの、屈折率の異なる、金属酸化物、フッ化物、ケィ化物、 窒化物、硫ィ匕物等の無機化合物またはシリコン系榭脂ゃアクリル榭脂、フッ素系榭脂 等の有機化合物の薄膜を 2層以上多層積層したものがあるが、これらに限定されるも のではな!/、。反射防止性を有する機能性フィルム(C)の表面の可視光線反射率は 2 %以下、好ましくは 1. 3%以下、さらに好ましくは 0. 8%以下である。
[0136] 防眩性を有する機能性フィルム (C)は、 0. 1 m〜: LO m程度の微少な凹凸の表 面状態を有する可視光線に対して透明な防眩膜を有している。具体的には、アクリル 系榭脂、シリコン系榭脂、メラミン系榭脂、ウレタン系榭脂、アルキド系榭脂、フッ素系 榭脂等の熱硬化型または光硬化型榭脂に、シリカ、有機珪素化合物、メラミン、アタリ ル等の無機化合物または有機化合物の粒子を分散させインキ化したものを、基体上 に塗布、硬化させる。粒子の平均粒径は、 1 μ m〜40 μ mである。または、上記の熱 硬化型または光硬化型榭脂を基体に塗布し、所望のダロス値または表面状態を有す る型を押しつけ硬化することによつても防眩性を得ることができるが、必ずしもこれら 方法に限定されるものではない。防眩性を有する機能性フィルム (C)のヘイズは 0. 5 %以上 20%以下であり、好ましくは 1%以上 10%以下である。ヘイズが小さすぎると 防眩性が不十分であり、ヘイズが大きすぎると透過像鮮明度が低くなる傾向がある。
[0137] 光学フィルターに耐擦傷性を付加させるために、機能性フィルム (C)がハードコート 性を有していることも好適である。ハードコート膜としてはアクリル系榭脂、シリコン系 榭脂、メラミン系榭脂、ウレタン系榭脂、アルキド系榭脂、フッ素系榭脂等の熱硬化型 または光硬化型榭脂等が挙げられるが、その種類も形成方法も特に限定されな ヽ。 これら膜の厚さは、 1 μ m〜50 m程度である。ハードコート性を有する機能性フィル ム(C)の表面硬度は、 JISK— 5400に従った鉛筆硬度が少なくとも H、好ましくは 2H 、さらに好ましくは 3H以上である。ハードコート膜上に反射防止膜および Zまたは防 眩膜を形成すると、耐擦傷性 ·反射防止性および Zまたは防眩性を有する機能性フ イルム(C)が得られ好適である。
[0138] 光学フィルターには、静電気帯電によりホコリが付着しやすぐまた、人体が接触し たときに放電して電気ショックを受けることがあるため、帯電防止処理が必要とされる 場合がある。従って、静電気防止能を付与するために、機能性フィルム (C)が導電性 を有して!/ヽてもよ ヽ。この場合に必要とされる導電性は面抵抗で 1011 Ω ZZsq程度 以下であればよ!ヽ。導電性を付与する方法としてはフィルムに帯電防止剤を含有さ せる方法や導電層を形成する方法が挙げられる。帯電防止剤として具体的には、商 品名ペレスタツト (三洋化成社製)、商品名エレクトロスリッパー (花王社製)等が挙げ られる。導電層としては ITOをはじめとする公知の透明導電膜や ITO超微粒子や酸 ィ匕スズ超微粒子をはじめとする導電性超微粒子を分散させた導電膜が挙げられる。 ハードコート膜や反射防止膜、防弦膜が、導電膜を有していたり導電性微粒子を含 有していると好適である。
[0139] 機能性フィルム (C)表面が防汚性を有して!/、ると、指紋等の汚れ防止や汚れが付 いたときに簡単に取り除くことができるので好適である。防汚性を有するものとしては 、水および Zまたは油脂に対して非濡性を有するものであって、例えばフッ素化合物 やケィ素化合物が挙げられる。フッ素系防汚剤として具体的には商品名ォプツール( ダイキン社製)等が挙げられ、ケィ素化合物としては、商品名タカタクオンタム(日本 油脂社製)等が挙げられる。反射防止膜に、これら防汚性のある層を用いると、防汚 性を有する反射防止膜が得られて好適である。
[0140] 機能性フィルム (C)は、後述する色素や高分子フィルムの劣化等を防ぐ目的で紫 外線カット性を有して 、ることが好ま 、。紫外線カット性を有する機能性フィルム (C )は、後述する上記の高分子フィルムに紫外線吸収剤を含有させることや紫外線吸 収膜を付与する方法が挙げられる。
[0141] 光学フィルタ一は、常温常湿よりも高い温度 ·湿度環境ィ匕で使用されると、フィルム を透過した水分により後述する色素が劣化したり、貼り合せに用いる粘着材中ゃ貼り 合せ界面に水分が凝集して曇ったり、水分による影響で粘着材中の粘着付与剤等 が相分離して析出して曇ったりすることがあるので、機能性フィルム (C)がガスバリア 性を有していると好ましい。このような色素劣化や曇りを防ぐ為には、色素を含有する 層や粘着材層への水分の侵入を防ぐことが肝要であり、機能性フィルム (C)の水蒸 気透過度が lOgZm2 · day以下、好ましくは 5gZm2 · day以下であることが好適であ る。
[0142] 本発明にお 、て、高分子フィルム (A)、導電メッシュ層(B)、機能性フィルム (C)お よび必要に応じて後述する透明成型物 (E)は、可視光線に対して透明な任意の粘 着材または接着剤 (Dl) (D2)を介して貼り合わされる。粘着材または接着剤 (Dl)、
(D2)として具体的にはアクリル系接着剤、シリコン系接着剤、ウレタン系接着剤、ポリ ビニルブチラール接着剤(PVB)、エチレン 酢酸ビニル系接着剤(EVA)等、ポリビ
-ルエーテル、飽和無定形ポリエステル、メラミン榭脂等が挙げられ、実用上の接着 強度があればシート状のものでも液状のものでもよ!ヽ。粘着材は感圧型接着剤でシ ート状のものが好適に使用できる。シート状粘着材貼り付け後または接着材塗布後 に各部材をラミネートすることによって貼り合わせを行う。液状のものは塗布、貼り合 わせ後に室温放置または加熱により硬化する接着剤である。塗布方法としては、ノ 一コート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法等が挙 げられる力 接着剤の種類、粘度、塗布量等から考慮、選定される。層の厚みは、特 に限定されるものではないが、 0. 5 m〜50 μ m、好ましくは 1 μ m〜30 μ mである 。粘着材層を形成される面、貼り合わせられる面は、予め易接着コートまたはコロナ 放電処理などの易接着処理により濡れ性を向上させておくことが好適である。本発明 にお!/ヽては、前述の可視光線に対して透明な粘着材または接着剤を透光性粘着材 と呼ぶ。
[0143] 本発明にお 、ては、導電性メッシュ層(B)上に機能性フィルム (C)を貼り合わせる 際、特に透光性粘着材層 (D1)を用いる。透光性粘着材層 (D1)に用いる透光性粘 着材の具体例としては前記と同じだが、その厚さが導電性メッシュ層(B)の凹部を十 分埋め込むことができることが肝要である。導電性メッシュ層(B)の厚さより薄すぎると 、埋め込み不十分で間隙が出来て凹部に気泡を嚙み込み、濁りのある、透光性の不 足したディスプレイ用フィルタとなってしまう。又、厚すぎると粘着材を作製するコスト がアップしたり部材のハンドリングが悪くなる等の問題が生じる。導電性メッシュ層(B) の厚さが d mの時、透光性粘着材(D1)の厚さは(d— 2) /ζ π!〜(d+ 30) /z mであ ることが好ましい。
[0144] 光学フィルターの可視光線透過率は、 30%〜85%が好ましい。更に好ましくは 35 %〜70%である。 30%未満であると輝度が下がりすぎ視認性が悪くなる。また、ディ スプレイ用フィルタの可視光線透過率が高すぎると、ディスプレイのコントラストを改善 できない。尚、本発明における可視光線透過率は、可視光線領域における透過率の 波長依存性から JISR— 3106に従って計算されるものである。
[0145] また、機能性フィルム (C)を透光性粘着材層 (D1)を介して導電性メッシュ層(B)上 に貼り合せると、凹部に気泡を嚙み込み、濁って透光性が不十分になることがあるが 、この場合、例えば加圧処理すると、貼り合わせ時に部材間に入り込んだ気体を脱 泡または、粘着材に固溶させ、濁りを無くして透光性を向上させることができる。加圧 処理は、 (C) / (Dl) / (B) / (A)の構成の状態で行っても、本発明のディスプレイ 用フィルタの状態で行ってもょ 、。
[0146] 加圧方法としては、平板間に積層体を挟み込みプレスする方法、 -ップロール間を 加圧しながら通す方法、加圧容器内に入れて加圧する方法が挙げられるが、特に限 定はされない。加圧容器内で加圧する方法は、積層体全体に一様に圧力がかかり 加圧のムラが無ぐまた、一度に複数枚の積層体を処理できるので好適である。加圧 容器としてはオートクレープ装置を用いることが出来る。
[0147] 加圧条件としては、圧力が高い程、嚙み込んだ気泡を無くすことが出来、且つ、処 理時間を短くすることが出来るが、積層体の耐圧性、加圧方法の装置上の制限から 、 0. 2MPa〜2MPa程度、好ましくは 0. 4〜1. 3MPaである。また、カロ圧時間は、カロ 圧条件によって変わり特に限定されないが、長くなりすぎると処理時間が力かりコスト アップとなるので、適当な加圧条件における保持時間が 6時間以下であることが好ま しい。特に加圧容器の場合は、設定圧力に到達後、 10分〜 3時間程度保持すること が好適である。
[0148] また、加圧時に同時に加温すると好ましい場合がある。加温することによって、透光 性粘着材の流動性が一時的に上がり嚙み込んだ気泡を脱泡しやすくなつたり、気泡 が粘着材中に固溶しやすくなる。加温条件としては光学フィルターを構成する各部材 の耐熱性により、室温以上 80°C以下程度であるが、特に限定を受けない。
[0149] さらにまた、加圧処理、または、加圧加温処理は、光学フィルターを構成する各部 材間の貼り合わせ後の密着力を向上させることが出来、好適である。
[0150] 本発明の光学フィルタ一は、高分子フィルム (A)の導電性メッシュ層(B)が形成さ れていない他方の主面に透光性粘着材層 (D2)を設ける。透光性粘着材層 (D2)に 用いる透光性粘着材の具体例は前述の通りであり、特に限定はされない。厚みも、 特に限定されるものではないが、 0. 5 m〜50 μ m、好ましくは 1 μ m〜30 μ mであ る。透光性粘着材層(D2)を形成される面、貼り合わせられる面は、予め易接着コー トまたはコロナ放電処理などの易接着処理により濡れ性を向上させておくことが好適 である。
[0151] 透光性粘着材層 (D2)上に離型フィルムが形成されて 、てもよ 、。すなわち、少な くとも機能性フィルム (C) Z透光性粘着材層 (Dl) Z導電性メッシュ層 (B) Z高分子 フィルム (A)Z透光性粘着材層(D2)Z離型フィルムである。離型フィルムは、粘着 材層と接する高分子フィルムの主面上にシリコーン等をコーティングしたものである。 本発明の光学フィルターを後述の透明成形物 (E)の主面に貼り合せる際、または、 ディスプレイ表面、例えばプラズマディスプレイパネルの前面ガラス上に貼り合せる際 には、離型フィルムを剥離して透光性粘着材層 (D2)を露出せしめた後に貼り合わせ る。
[0152] 本発明の光学フィルタ一は、主として各種ディスプレイ力 発生する電磁波を遮断 する目的で用いられる。好ましい例として、プラズマディスプレイ用フィルターが挙げ られる。
[0153] 前述した様にプラズマディスプレイは強度の近赤外線を発生する為、本発明のディ スプレイ用フィルタ一は、実用上問題無 、レベルまで電磁波だけでなく近赤外線も力 ットする必要がある。波長領域 800ηπ!〜 lOOOnmにおける透過率を 25%以下、好 ましくは 15%以下、更に好ましくは 10%以下とすることが必要である。また、プラズマ ディスプレイに用いる光学フィルタ一はその透過色が-ユートラルグレーまたはブル 一グレーであることが要求される。これは、プラズマディスプレイの発光特性およびコ ントラストを維持または向上させる必要があったり、標準白色より若干高めの色温度の 白色が好まれる場合がある力もである。さらにまた、カラープラズマディスプレイはそ の色再現性が不十分と言われており、その原因である蛍光体または放電ガスからの 不要発光を選択的に低減することが好ましい。特に赤色表示の発光スペクトルは、波 長 580nmから 700nm程度までにわたる数本の発光ピークを示しており、比較的強 V、短波長側の発光ピークにより赤色発光がオレンジに近 、色純度の良くな!/、ものと なってしまう問題がある。これら光学特性は、色素を用いることによって制御できる。 つまり、近赤外線カットには近赤外線吸収剤を用い、また、不要発光の低減には不 要発光を選択的に吸収する色素を用いて、所望の光学特性とすることが出来、また、 光学フィルターの色調も可視領域に適当な吸収のある色素を用いて好適なものとす ることがでさる。
[0154] 色素を含有させる方法としては、(1)色素を少なくとも 1種類以上、透明な榭脂に混 鍊させた高分子フィルムまたは榭脂板、(2)色素を少なくとも 1種類以上、榭脂または 榭脂モノマー Z有機系溶媒の榭脂濃厚液に分散'溶解させ、キャスティング法により 作製した高分子フィルムまたは榭脂板、(3)色素を少なくとも 1種類以上を、榭脂バイ ンダ一と有機系溶媒に加え、塗料とし、高分子フィルムまたは榭脂板上にコーティン グしたもの、 (4)色素を少なくとも 1種類以上を含有する透明な粘着材、のいずれか 一つ以上選択できるが、これらに限定されない。本発明でいう含有とは、基材または 塗膜等の層または粘着材の内部に含有されることは勿論、基材または層の表面に塗 布した状態を意味する。
[0155] 上記の色素は可視領域に所望の吸収波長を有する一般の染料または顔料、また は、近赤外線吸収剤であって、その種類は特に限定されるものではないが、例えば アントラキノン系、フタロシアニン系、メチン系、ァゾメチン系、ォキサジン系、ィモニゥ ム系、ァゾ系、スチリル系、クマリン系、ポルフィリン系、ジベンゾフラノン系、ジケトピロ ロピロール系、ローダミン系、キサンテン系、ピロメテン系、ジチオール系化合物、ジィ ミニゥム系化合物等の一般に市販もされている有機色素があげられる。その種類'濃 度は、色素の吸収波長 ·吸収係数、光学フィルターに要求される透過特性 ·透過率、 そして分散させる媒体または塗膜の種類'厚さから決まり、特に限定されるものではな い。
[0156] プラズマディスプレイパネルはパネル表面の温度が高ぐ環境の温度が高いときは 特に光学フィルターの温度も上がるため、色素は、例えば 80°Cで分解等によって顕 著に劣化しない耐熱性を有していることが好適である。また、耐熱性にカ卩えて色素に よっては耐光性に乏しいものもある。プラズマディスプレイの発光や外光の紫外線' 可視光線による劣化が問題になる場合は、紫外線吸収剤を含む部材ゃ紫外線を透 過しない部材を用いることによって、色素の紫外線による劣化を低減すること、紫外 線や可視光線による顕著な劣化がない色素を用いることが肝要である。熱、光にカロ えて、湿度や、これらの複合した環境においても同様である。劣化すると光学フィルタ 一の透過特性が変わってしまい、色調が変化したり近赤外線カット能が低下してしま う。さらには、媒体または塗膜中に分散させるために、適宜の溶媒への溶解性や分散 性も重要である。また、本発明においては異なる吸収波長を有する色素 2種類以上 を一つの媒体または塗膜に含有させてもよい。し、色素を含有する媒体、塗膜を 2つ 以上有していてもよい。
[0157] 上記の色素を含有する方法(1)〜 (4)は、本発明においては、色素を含有する高 分子フィルム (A)、色素を含有する機能性フィルム (C)、色素を含有する透光性粘着 材 (Dl)、 (D2)、その他貼り合わせに用いられる色素を含有する透光性の粘着材ま たは接着剤のいずれ力 1つ以上の形態をもって、本発明の光学フィルターに使用で きる。
[0158] 一般に色素は紫外線で劣化しやすい。光学フィルターが通常使用条件下で受ける 紫外線は、太陽光等の外光に含まれるものである。従って、色素の紫外線による劣 化を防止する為には、色素を含有する層自身および該層より外光を受ける観察者側 の層力 選ばれる少なくとも 1層に、紫外線カット能を有する層を有していることが好 適である。例えば、高分子フィルム (A)が色素を含有する場合、透光性粘着材層 (D 1)および Zまたは機能性フィルム (C)が、紫外線吸収剤を含有したり、紫外線カット 能を有する機能膜を有していれば、外光が含む紫外線から、色素を保護できる。色 素を保護するのに必要な紫外線カット能としては、波長 380nmより短い紫外線領域 の透過率が、 20%以下、好ましくは 10%以下、更に好ましくは 5%以下である。紫外 線カット能を有する機能膜は、紫外線吸収剤を含有する塗膜であっても、紫外線を 反射または吸収する無機膜であってもよい。紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系 やベンゾフヱノン系等、従来公知のものを使用でき、その種類'濃度は、分散または 溶解させる媒体への分散性'溶解性、吸収波長'吸収係数、媒体の厚さ等から決まり 、特に限定されるものではない。尚、紫外線カット能を有する層またはフィルムは、可 視光線領域の吸収が少なぐ著しく可視光線透過率が低下したり黄色等の色を呈す ることがないことが好ましい。色素を含有する機能性フィルム(C)においては、色素を 含有する層が形成されている場合はその層よりも観察者側のフィルムまたは機能膜 が紫外線カット能を有すれば良ぐ高分子フィルムが色素を含有する場合はフィルム より観察者側に紫外線カット能を有する機能膜や機能層を有していればよい。
[0159] 色素は、金属との接触によっても劣化する場合がある。このような色素を用いる場合 、色素は導電メッシュ層(B)と出来るだけ接触しない様に配置することが更に好まし い。
具体的には色素含有層が機能性フィルム (C)、高分子フィルム (A)、透光性粘着 材層(D2)であることが好ましぐ特には透光性粘着材層(D2)であることが好ましい。
[0160] 本発明の光学フィルタ一は、高分子フィルム (A)、導電性メッシュ層(B)、機能性フ イルム (C)、透光性粘着材層 (D1)および透光性粘着材層 (D2)が、 (C) / (D1) / ( B) / (A) / (D2)の順に構成され、好ましくは導電性メッシュ層(B)と高分子フィルム (A)とからなる導電性メッシュフィルムと機能性フィルムとが透光性粘着材層 (D1)で 貼合され、高分子フィルム (A)の導電性メッシュ層(B)とは反対側の主面に透光性粘 着材層(D2)が付されている。
[0161] 本発明の光学フィルターをディスプレイに装着する際には機能性フィルム (C)を観 察者側に、透光性粘着材層 (D2)がディスプレイ側となるように装着する。
[0162] 本発明の光学フィルターを、ディスプレイの前面に設けて使用する方法としては、 後述の透明成形物 (E)を支持体とした前面フィルター板として使用する方法、デイス プレイ表面に透光性粘着材層 (D2)を介して貼り合せて使用する方法がある。前者 の場合、光学フィルターの設置が比較的容易であり、支持体により機械的強度が向 上し、ディスプレイの保護に適している。後者の場合は、支持体が無くなることにより 軽量化'薄化が可能であり、また、ディスプレイ表面の反射を防止することが出来、好 適である。
[0163] 透明成形物 (E)としては、ガラス板、透光性のプラスチック板があげられる。機械的 強度や、軽さ、割れにくさからは、プラスチック板が好ましいが、熱による変形等の少 な ヽ熱的安定性力もガラス板も好適に使用できる。プラスチック板の具体例を挙げる と、ポリメタクリル酸メチル (PMMA)をはじめとするアクリル榭脂、ポリカーボネート榭 脂、透明 ABS榭脂等が使用できるが、これらの榭脂に限定されるものではない。特 に PMMAはその広い波長領域での高透明性と機械的強度の高さから好適に使用 できる。プラスチック板の厚みは十分な機械的強度と、たわまずに平面性を維持する 剛性が得られればよぐ特に限定されるものではないが、通常 lmn!〜 10mm程度で ある。ガラスは、機械的強度を付加するために化学強化加工または風冷強化加工を 行った半強化ガラス板または強化ガラス板が好ましい。重量を考慮すると、その厚み は lmn!〜 4mm程度である事が好ましいが、特に限定されない。透明成形物 (E)は フィルムを貼り合せる前に必要な各種公知の前処理を行うことが出来るし、光学フィ ルター周縁部となる部分に黒色等の有色の額縁印刷を施してもよい。
[0164] 透明成形物 (E)を用いる場合の光学フィルターの構成は、少なくとも機能性フィル ム (C) Z透光性粘着材層 (Dl) Z導電性メッシュ層 (B) Z高分子フィルム (A) Z透 光性粘着材層 (D2) Z透明成形物 (E)である。また、透明成形物 (E)の透光性粘着 材層 (D2)と貼り合せられる面とは反対の主面に、機能性フィルム (C)が透光性粘着 材層を介して設けられてもよい。この場合、観察者側に設けられる機能性フィルム (C )と同じ機能'構成を有する必要は無ぐ例えば、反射防止能を有している場合は、支 持体を有する光学フィルターの裏面反射を低減することができる。同じぐ透明成形 物 (E)の透光性粘着材層 (D2)と貼り合せられる面とは反対の主面に、反射防止膜 等の機能膜 (C2)を形成してもよい。この場合は、機能性膜 (C2)を観察者側にして ディスプレイに設置することもできるが、前述の通り、紫外線カット能を有する層を色 素含有層および色素含有層より観察者側の層に設けることが好ましい。
[0165] 電磁波シールドを必要とする機器には、機器のケース内部に金属層を設けたり、ケ ースに導電性材料を使用して電磁波を遮断する必要がある力 ディスプレイの如く表 示部に透明性が必要である場合には、本発明の光学フィルターの如く透光性の導電 層を有した窓状の電磁波シールドフィルタを設置する。ここで、電磁波は導電層にお いて吸収されたのち電荷を誘起するため、アースをとることによって電荷を逃がさない と、再び光学フィルターがアンテナとなって電磁波を発振し電磁波シールド能が低下 する。従って、光学フィルターとディスプレイ本体のアース部が電気的に接触している 必要がある。そのため、前述の透光性粘着材層(D1)および機能性フィルム (C)は、 外部から導通を取ることが出来る導通部を残して導電性メッシュ層(B)上に形成され ている必要がある。導通部の形状は特に限定しないが、光学フィルターとディスプレ ィ本体の間に、電磁波の漏洩する隙間が存在しないことが肝要である。従って、導通 部は、導電性メッシュ層(B)の周縁部且つ連続的に設けられている事が好適である。 すなわち、ディスプレイの表示部である中心部分を除いて、枠状に、導通部が設けら れている事が好ましい。
[0166] 導通部はメッシュパターン層であっても、パターユングされていない、例えば金属箔 ベタの層であってもよい。 1S ディスプレイ本体のアース部との電気的接触を良好と する為には、金属箔ベタ層のようにパターユングされて ヽな 、導通部であることが好 ましい。
[0167] 導通部が、例えば金属箔ベタのようにパターユングされていない場合、および Zま たは、導通部の機械的強度が十分強い場合は、導通部そのままを電極として使用で きて好適である。
[0168] 導通部の保護のため、および Zまたは、導通部がメッシュパターン層である場合に アース部との電気的接触を良好とするために、導通部に電極を形成することが好まし い場合がある。電極形状は特に限定しないが、導通部をすベて覆うように形成されて いる事が好適である。
電極に用いる材料は、導電性、耐触性および透明導電膜との密着性等の点から、 銀、銅、ニッケル、アルミニウム、クロム、鉄、亜鉛、カーボン等の単体もしくは 2種以 上からなる合金や、合成樹脂とこれら単体または合金の混合物、もしくは、ホウケィ酸 ガラスとこれら単体または合金の混合物力もなるペーストを使用できる。ペーストの印 刷、塗工には従来公知の方法を採用できる。また市販の導電性テープも好適に使用 できる。導電性テープは両面ともに導電性を有するものであって、カーボン分散の導 電性接着剤を用いた片面接着タイプ、両面接着タイプが好適に使用できる。電極の 厚さは、これもまた特に限定されるものではないが、数/ z m〜数 mm程度である。
[0169] 本発明によれば、プラズマディスプレイの輝度を著しく損なわずに、その画質を維 持または向上させることができる、光学特性に優れた光学フィルターを得ることが出 来る。また、プラズマディスプレイ力も発生する健康に害をなす可能性があることを指 摘されている電磁波を遮断する電磁波シールド能に優れ、さらに、プラズマディスプ レイカも放射される 800nm〜1000nm付近の近赤外線線を効率よくカットするため、 周辺電子機器のリモコン、伝送系光通信等が使用する波長に悪影響を与えず、それ らの誤動作を防ぐことができる光学フィルターを得ることができる。さらにまた、耐候性 にも優れた光学フィルターを低コストで提供することが出来る。
実施例
[0170] 以下に本発明の実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。なお、以下の 実施例に示される材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を 逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す 具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
[0171] (ハロゲンィ匕銀乳剤 aの作製)
下記表 1のような溶液を準備した。 [0172] [表 1] ハロゲン化銀乳剤調整用薬品液
Figure imgf000055_0001
[0173] 仕込み漕内に表 1に示す I液を入れて 36°Cに保ち、そこへ表 1の II液と III液を攪拌 しながら 30分間でカ卩えた。この時、 II液と III液の添カ卩量は、添加時間である 30分間の 間の pAgが 8. 88になるよう III液の添力卩量を調整して添カ卩した。その後、常法にした 力 Sつてフロキユレーシヨン法によって水洗した。具体的には、温度を 32°Cに下げ、下 記に示すァ-オン性沈降剤 1を 15g加え、硫酸を用いて pH3. 9±0. 2の範囲に なるよう pH調整を行 、ノヽロゲンィ匕銀を沈降させた。この後ハロゲンィ匕銀含有液の沈 降後上澄み液を除去し、残量が 900mlになるようにした。(第一水洗)。続いて蒸留 水を 1500ml添加して力も攪拌し、ハロゲンィ匕銀の沈降後に上澄み液を除去して残 量が再度 900mlになるようにした。(第二水洗)。最後に蒸留水を 1000ml添加して 力も攪拌し、ハロゲンィ匕銀の沈降後に再度上澄み液を除去して残量が 505mlになる ようにして (第三水洗)、水洗'脱塩行程を終了した。水洗'脱塩後の乳剤に 1規定の 水酸ィ匕ナトリウム水溶液と防腐剤として 3, 4—ベンゾイソチアゾロン一 5 (商品名、プロ キセル、 ICI社製) 300mgをカ卩えて攪拌し、最終的な pHが 6. 1 ±0. 2の範囲になる よう乳剤を調製した。得られたハロゲンィ匕銀乳剤はこの乳剤はヨウ素 2. 3モル%を含 む平均粒子径 0. 05 μ mの沃臭化銀であった。
[0174] [化 1] オン性沈降剤一 1
Figure imgf000056_0001
平均分子量 1 2万
[0175] (ハロゲンィ匕銀乳剤 b〜eの作製)
下記表 2に表す仕込み漕内の温度、 II液及び III液の添加時間を変更すること以外 は同様にしてハロゲンィ匕銀乳剤 b〜eを作製した。なお、この時のァ-オン性沈降剤 1の量は、単位表面積あたりの沈降剤が一定になるように調節した。出来上がった ハロゲン化銀乳剤の平均粒子径と上記ハロゲン化銀乳剤 aの調整条件および平均 粒子径を合わせて表 2に示す。
[0176] [表 2] 表 2 ハロゲン化銀乳剤 a ~ βの仕込み温度及び添加時間
Figure imgf000056_0002
[0177] (感光材料 A〜Eの作製)
上記表 2のハロゲンィ匕銀乳剤を用いて下記表 3のような塗布液を作成し、幅 30cm のポリエチレンテレフタレート(PET)上に、塗布幅が 25cmでハロゲン化銀乳剤中の 銀としての塗布量が 7gZm2となるように 20mZ分で塗布を行った。塗布された部分 の中央部 24cmを残すように両端を 3cmずつ切り落として 24cm幅の感光材料を作 製した。以上のような方法で、ハロゲンィ匕銀乳剤を a〜eまで使用することにより感光 材料 A〜Eを作成した。
[0178] [表 3] / \口ゲン化銀塗布液の組成表
Figure imgf000057_0002
[0179] [化 2] 硬膜剤(1 )
CH2=CHS02CH2CONH(CH2)2NHCOCH2S02CH=CH2 硬膜剤 (2)
CH2=CHS02CH2CONH(CH2)3NHCOCH2S02CH=CH2 界面活性剤 (3)
Figure imgf000057_0001
CH2COOCH2CHC4H9
Na03S - CHCOOCH2CHC4H9
2H5
[0180] (露光)
全ての感光材料の露光は特開 2004— 1244号公報の発明実施形態記載の DMD (デジタル 'ミラー 'デバイス)を用いた露光ヘッドを 25cm幅になるように並べ、感光材 料の乳剤層上にレーザー光が結像するように露光ヘッドおよび露光ステージを湾曲 させて配置して行った。露光の波長は 400nmで、ビーム形は 12 mの略正方形、 およびレーザー光源の出力は 100 Jであった。
[0181] (現像処理)
下記処方の現像液および定着液を用いて、露光済み感光材料 A〜Eを富士フィル ム社製自動現像機 FG— 710PTSを用いて処理条件:現像 35°C 30秒、定着 34 23秒、水洗 流水(5LZmin)の 20秒処理で行った。
•現像液 1L処方
ハイドロキノン 20g
亜硫酸ナトリウム 50g
炭酸カリウム 40g
エチレンジァミン'四酢酸 2g
臭化カリウム 3g
ポジエチレング IJn—ノレ( チ 2000) lg
水酸化カリウム 4g
pH 10. 3に調整
[0182] ,定着液 1L処方
チォ硫酸アンモニゥム液(75%) 300ml
亜硫酸アンモ-ゥム · 1水塩 25g
1, 3—ジァミノプロパン '四酢酸 8g
酢酸 5g
アンモニア水(27%) lg
pH 6. 2に調整
[0183] (導電性金属部用メツキ処理)
下記条件及び処理剤で現像済み材料 A〜Eに導電性金属部メツキ処理を実施した 。すなわち、上記処理で作成した現像後サンプルを図 1に示す電解メツキ漕 10を備 えた電解メツキ装置を用いて、上記サンプルのメッシュ形成面が給電ローラーと接す るように電界メツキ装置に取り付けてメツキ処理を行った。
なお、給電ローラー 12a、 12bとして鏡面仕上げしたステンレス製ローラー(10cm φ )の表面に 0. 1mm厚の電気銅メツキしたものを使用し、ガイドローラー 14およびそ の他の搬送ローラーは銅メツキのない 5cm φのローラーを使用した。ガイドローラー 1 4の高さを調節することでライン速度が違っても一定の液中処理時間が確保されるよ うにした。
[0184] 入り口側の給電ローラー 12aとメッシュ面とが接している面の最下部とメツキ液面と の距離(図 1内の距離 La)を 5cmとした。出口側の給電ローラーとメッシュ形成面が接 して ヽる面の最下部とメツキ液面との距離(図 1内の距離 Lb)を 10cmとした。
[0185] 〔酸洗浄液 1L処方〕
硫酸 190g
塩酸(35%) 0.06mL
純水を加えて 1L
[0186] 〔電解メツキ液 1L処方〕
•電解銅めつき液組成 (補充液も同組成)
硫酸銅五水塩 75gZL
硫酸 190gZL
塩酸(35%) 0.06mL/L
力バーグリーム PCM 5mL/L
(ローム.アンド.ハース電子材料 (株)製)
[0187] 〔電解メツキ処理〕
酸洗浄 35°C 30秒
水洗
電解メツキ 1 35°C 20秒 電圧 15V
電解メツキ 2 35°C 20秒 電圧 14V
電解メツキ 3 35°C 20秒 電圧 13V
電解メツキ 4 35°C 20秒 電圧 11V
電解メツキ 5 35°C 20秒 電圧 10V
電解メツキ 6 35°C 20秒 電圧 8V
電解メツキ 7 35°C 20秒 電圧 7V
電解メツキ 8 35°C 20秒 電圧 6V
電解メツキ 9 35°C 20秒 電圧 4V
電解メツキ 10 35°C 20秒 電圧 3V
水洗
水洗 [0188] (黒色部処理(1) )
導電性金属部までを備えた積層材料 A〜Eに対して、導電性金属部を積層する際 と同様の装置を用い、導電性金属部付き下記処理剤及び処理にて電解メツキを行つ た。
〔黒色部用処理剤(1)〕
硫酸ニッケル 60g pH4. 5
硫酸ニッケノレアンモニゥム 35g 温度 50°C
硫酸亜鉛 20g
チォシアン酸ナトリウム 18g
〔黒色部メツキ処理(1)〕
水洗
電解メツキ 11 50°C 35秒 電圧 3V
電解メツキ 12 50°C 35秒 電圧 3V
電解メツキ 13 50°C 35秒 電圧 2V
水洗
[0189] (黒色部処理(2) )
メツキ処理剤及び処理条件以外は黒色部処理(1)と同様にして電解メツキを行った
〔黒色部用処理剤 (2)〕
塩化 ッケル 60g pH8. 5
塩化第 1錫 6g 温度 35°C
ピロリン酸ナトリウム 200g
グリシン 25g
〔黒色部メツキ処理(2)〕
水洗
電解メツキ 11 35°C 35秒 電圧 3. 5V
電解メツキ 12 35°C 35秒 電圧 3V
電解メツキ 13 35°C 35秒 電圧 2V 水洗
(黒色部処理(3) )
メツキ処理剤及び処理条件以外は黒色部処理(1)と同様にして電解メツキを行った
〔黒色部用処理剤 (3)〕
塩化 ッケル 60g pH9. 0
塩化第 1錫 7. 5g/L 温度 40°C
ピロリン酸ナトリウム 200g/L
メチォニン 1. 5g/L
ポジエチレング IJn—ノレ 2000 0. 05g/L
〔黒色部メツキ処理(3)〕
水洗
電解メツキ 11 35°C 35秒 電圧 3. 5V
電解メツキ 12 35°C 35秒 電圧 3V
電解メツキ 13 35°C 35秒 電圧 2V
水洗
(黒色部処理 (4) )
メツキ処理剤及び処理条件以外は黒色部処理(1)と同様にして電解メツキを行った
〔黒色部用処理剤 (4)〕
塩化 ッケル 40g pH8. 5
塩化第 1錫 19g 温度 40°C
ピロリン酸銅 3g
ピロリン酸カリウム 215g/L
〔黒色部メツキ処理 (4)〕
水洗
電解メツキ 11 35°C 電圧 2V
電解メツキ 12 35°C 電圧 2V 電解メツキ 13 35°C 35秒 電圧 2V
電解メツキ 14 35°C 35秒 電圧 1. 5V
水洗
(黒色部処理(5) )
製品名ブラックニッケル GT (荏原ユージライト (株)製)を用い、下記の処理条件で積 層材料 A〜Eに対して電解メツキを行った。
〔黒色部メツキ処理(5)〕
水洗
電解メツキ 11 45°C 35秒 電圧 3V
電解メツキ 12 45°C 35秒 電圧
O C
電解メツキ 13 45°C 35秒 電圧 2V
>
水洗 <
(黒色部用処理 (6) )
製品名ニツカブラック(日本ィ匕学産業 (株)製)を用い、下記の処理条件で積層材料 A〜Eに対して電解メツキを行った。
〔黒色部メツキ処理 (6)〕
水洗
電解メツキ 11 50°C 35秒 電圧
電解メツキ 12 50°C 35秒 電圧 3V
電解メツキ 13 50°C 35秒 電圧 3V
水洗
(比較黒色部処理 (A— 1) )
下記処理剤を用い、積層材料 A〜Eに対して温度 75°Cで 3分間浸漬されるように 黒色部形成処理を行った。
•比較黒色部処理剤 (A— 1)
亜塩素酸ナトリウム 30gZL
水酸ィ匕ナトリウム 15gZL
リン酸 3ナトリウム 12gZL [0195] 下記表 4のような対応の積層材料を作製した。なお、露光、現像、定着、導電性金 属部用メツキ処理は上述の各処方を全処理共通で用いた。
[0196] [表 4]
表 4 対応表
Figure imgf000064_0001
〔評価〕
(画像故障評価) 出来上がったサンプルのそれぞれを 200mm角に切り取り、画面内の画像故障を 目視およびデジタルマイクロスコープ VHX— 200光学顕微鏡((株) KEYENCE社 製)で観察した。画像故障がないものを〇、画像故障があるものを Xとして結果を表 5 にまとめた。
また、出来上がった各サンプルを 60°C90%環境下にて 100h保存した後の画像故 障も同様に観察した。結果を合わせて表 5にまとめた。
(被覆性評価)
作製したサンプル内細線の表面および断面が観察できるように切削し、走査型電 子顕微鏡 S— 4300SEZN (日立計測器サービス (株)社製)にて観察した。この時、 黒色層が細線の表面及び側面を完全に被覆して導電性金属部が表面に見えない 場合を〇をして評価した。
(視認性評価)
出来上がった各サンプルを PET面を貼り合わせ面にして厚さ 2. 5mm,外形寸法 2 00mm X 200mmのガラス板に透明なアクリル系粘着材を介して貼り合わせ、 PDP 前面に置いて視認性を確認した。なお、視認性確認部分以外の画面は黒紙で 2重 に被覆し、サンプルを 10分間見た時の目の疲れ、チカチカしないかどうかを観察した 。経時前サンプルの画像故障が無い部分を選んで試験試料としたが、どうしても故障 部が入ってしまう場合にはその部分をできるだけ小面積の黒テープで覆って評価し た。得られた結果を表 5に合わせて記した。
[表 5]
性能評価表
処理後サ 被覆性 処理後経 湿熱経時 ンプノレの 時前の視 後の画像 画像故障 認性 故障 実施例 1 〇 〇 〇 〇 実施例 2 〇 〇 〇 〇 実施例 3 〇 〇 〇 〇 実施例 4 〇 〇 〇 〇 実施例 5 〇 〇 〇 〇 実施例 6 〇 〇 〇 〇 実施例 7 〇 〇 〇 〇 実施例 8 〇 〇 〇 〇 実施例 9 〇 〇 〇 〇 実施例 1 0 〇 〇 〇 〇 実施例 1 1 〇 〇 〇 〇 実施例 1 2 〇 〇 〇 〇 実施例 1 3 〇 〇 〇 〇 実施例 1 4 〇 〇 〇 〇 実施例 1 5 〇 〇 〇 〇 実施例 1 6 〇 〇 〇 〇 比較例 1 〇 X X 〇 比較例 2 〇 X X 〇 比較例 3 〇 X X 〇 比較例 4 〇 X X 〇 比較例 5 X 〇 〇 X 比較例 6 X 〇 〇 X 比較例 7 X 〇 〇 X 比較例 8 X 〇 〇 X 比較例 9 X 〇 〇 X 比較例 1 0 X 〇 〇 X 比較例 1 1 X 〇 〇 X 比較例 1 2 X 〇 〇 X 比較例 1 3 X 〇 〇 X 比較例 1 4 X 〇 〇 X 比較例 1 5 X 〇 〇 X 比較例 1 6 〇 〇 〇 X 比較例 1 7 〇 〇 〇 X 比較例 1 8 〇 〇 〇 X 比較例 1 9 X 〇 〇 X 比較例 2 0 X 〇 〇 X [0199] 表 5に示すように本発明の実施例は黒色層で被覆されており、画像故障および視 認性もよぐ更には湿熱経時後の画像故障もない良好な試験試料であることが分か る。比較例 1〜4は黒色部が積層されていないため画像故障はないが、視認性が悪く 本発明の目的を達し得ない。比較例 5〜15、 19および 20は処理後の画像故障の性 能、比較例 16〜18は湿熱経時後の性能を満たしておらず、本発明の目的を達して いないことが分かる。
これらの結果から、視認性が良好で細線欠落等の画像故障がなぐさらには湿熱保 存による劣化が少なぐ透光性が良好な試験試料を提供できることが分力る。
[0200] 本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲 を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明ら かである。
本出願は、 2005年 3月 15日出願の日本特許出願 (特願 2005— 073585)に基づ くものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。

Claims

請求の範囲
[I] 透明支持体上に球相当径 300nm以下のハロゲンィ匕銀粒子を含む乳剤層を有す る感光材料を露光、現像して形成した現像銀部、導電性金属部および黒色部が積 層された積層材料であって、該黒色層がニッケル、亜鉛、錫および銅の中から選択さ れる少なくとも 2種の元素を含む合金を主成分とすることを特徴とする積層材料。
[2] 前記現像銀部、導電性金属部および黒色部の積層体が 1 μ m〜50 μ mのメッシュ 状の細線にパターユングされていることを特徴とする上記 1記載の積層材料。
[3] 前記メッシュ状の細線にパターユングされた現像銀部および導電性金属部積層体 の少なくとも上面及び側面に亘つて黒色部で覆われていることを特徴とする上記 2に 記載の積層材料。
[4] ノターユング後の積層材料のヘイズ値が 10以下であることを特徴とする上記 2〜3 の!、ずれかに記載の積層材料。
[5] 前記導電性金属部が銅、アルミニウム、およびニッケルの少なくとも 、ずれかからな ることを特徴とする上記 1〜4のいずれか〖こ記載の積層材料。
[6] 前記黒色部が電解メツキ処理により形成されたものであることを特徴とする上記 5に 記載の積層材料。
[7] 上記 1〜6の 、ずれかに記載の積層材料を有してなる透光性電磁波シールド膜。
[8] 接着剤層を有する上記 8に記載の透光性電磁波シールド膜。
[9] 剥離可能な保護フィルムを有する上記 7又は 8に記載の透光性電磁波シールド膜。
[10] 赤外線遮蔽性を有する上記 7〜9の 、ずれかに記載の透光性電磁波シールド膜。
[II] ハードコート性、反射防止性、妨眩性、静電気防止性、防汚性、紫外線カット性、ガ スバリア性、表示パネル破損防止性、力 いずれか 1つ以上選ばれる機能を有して いる機能性透明層を有する上記 7〜10のいずれかに記載の透光性電磁波シールド 膜。
[12] 上記 7〜11の 、ずれかに記載の透光性電磁波シールド膜を備えた光学フィルター
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