CN101056827A - 浮抛槽底部用耐火砖及其制造方法 - Google Patents

浮抛槽底部用耐火砖及其制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供浮抛槽底部用耐火砖的制造方法，所述耐火砖作为用于以浮法制造的平板玻璃的浮抛槽底部的耐火砖，可以抑制耐火砖表面的与玻璃中的Na2O的反应，防止片状剥落现象。使用含有30～45质量％Al2O3和50～65质量％SiO2、Na2O的含量在1质量％以下的粘土质原料来制造浮抛槽底部用耐火砖的方法，其特征在于，添加钾化合物，使所制造的浮抛槽底部用耐火砖中的K2O的含量为2～4质量％。

Description

浮抛槽底部用耐火砖及其制造方法
技术领域
本发明涉及平板玻璃的浮法制造中的浮抛槽、即锡浴的底部所使用的耐火砖及其制造方法。
背景技术
平板玻璃的浮法制造工艺中，熔融玻璃从玻璃熔融槽流出而成形为带状的浮抛槽在金属制的外壳上内衬耐火砖而构成，其内部充满熔融锡。在熔融槽中熔融了的玻璃流出到该锡浴的表面，漂浮于锡浴面上，前进的同时形成平滑的板状玻璃。作为通常的建筑用、汽车用等的平板玻璃(钠钙玻璃)，使用含有约15质量％Na2O的玻璃。该玻璃的下表面与熔融锡接触，在该界面上玻璃中的Na2O扩散到锡浴中。作为所述浮抛槽的底部用耐火砖，考虑到特性、实用性、价格等方面，使用主要成分为Al2O3和SiO2、矿物相主要由富铝红柱石(Mullite)和方英石(Cristobalite)构成的熟料类砖。
玻璃中所含的Na2O通过锡浴从浮抛槽底部用耐火砖的表面侵入到内部，生成霞石(Nepheline)，形成与该耐火砖的母相不同的变质相。该变质相随时间推移，其厚度在与锡浴面垂直的方向增加。因为霞石的热膨胀系数为富铝红柱石的约3倍，所以由于变质相的体积膨胀和伴随浮抛槽的温度条件变化的热应力，变质相从母相剥落，产生所谓片状剥落现象。该剥落片的比重比熔融锡小，所以在锡浴中上浮，发生损伤玻璃或产生异物等情况，成为阻碍平板玻璃的顺利制造的重要原因。
以往，关于抑制该片状剥落现象的浮抛槽底部用耐火砖，记载有使用碱金属成分总含量相对于粘土部分在3％以下的砖的技术方案(参照专利文献1)、使用含有1～3质量％0.09mm以下的粒径的碱金属氧化物的硅酸盐材料的技术方案(参照专利文献2)，但具体为含有0.1～0.4％Na2O和0.8～1.2％K2O这2种碱金属氧化物的砖，而不是K2O含量在2％以上的砖。此外，还已知使用粒径90μm以下的使用原料中Na2O和K2O的总量在1质量％以下的砖的技术方案(参照专利文献3)等，并未提及本发明中所示的K2O的效果。
专利文献1：日本专利特开平6-122543号公报
专利文献2：日本专利特开平6-340471号公报
专利文献3：日本专利特开2003-277134号公报
发明的揭示
本发明的目的在于提供可以良好地制造抑制前述的片状剥落现象，能够制造没有损伤、异物等缺陷的平板玻璃的浮抛槽底部用耐火砖的方法。此外，本发明还提供可以抑制前述的片状剥落现象的浮抛槽底部用耐火砖以及使用前述浮抛槽底部用耐火砖的浮抛槽。此外，本发明还提供采用使用前述浮抛槽底部用耐火砖的浮抛槽的玻璃的制造方法。
本发明是为了解决前述课题而完成的发明，提供浮抛槽底部用耐火砖的制造方法，其特征在于，对于以质量百分比表示的以下的氧化物基准含有30～45％Al2O3、50～65％SiO2的粘土质原料，添加钾化合物进行烧结。
此外，本发明还提供使用以质量百分比表示的以下的氧化物基准含有30～45％Al2O3和50～65％SiO2、Na2O的含量在1％以下的粘土质原料来制造浮抛槽底部用耐火砖的方法，其特征在于，添加钾化合物，使所制造的浮抛槽底部用耐火砖中的K2O的含量为2～4％。
此外，本发明还提供对于以质量百分比表示的以下的氧化物基准含有30～45％Al2O3、50～65％SiO2的粘土质原料添加钾化合物，将这些原料混匀、成形、烧结，再粉碎得到粒状耐火原料，将该粒状耐火原料混匀、成形、烧结，从而制造浮抛槽底部用耐火砖的方法，其特征在于，将前述粒状耐火原料中的粒径不到90μm的微粒部分的K2O的含量控制为2～4％，Na2O的含量控制在1％以下。
此外，本发明还提供如前述方法所述的浮抛槽底部用耐火砖的制造方法，其特征在于，相对于前述粒状耐火原料，含有2～4％的K2O、1％以下的Na2O的粒径不到90μm的微粒部分的含量为20～60质量％。
此外，本发明还提供如前述方法所述的浮抛槽底部用耐火砖的制造方法，其特征在于，以质量百分比表示的以下的氧化物基准，前述粒状耐火原料中，粒径90μm～1mm的中粒部分和粒径不到90μm的微粒部分中的K2O的含量控制为2～4％，Na2O的含量控制在1％以下。
此外，本发明还提供如前述方法所述的浮抛槽底部用耐火砖的制造方法，其特征在于，相对于前述粒状耐火原料，粒径90μm～1mm的中粒部分的含量为20～60质量％。
此外，本发明还提供将以质量百分比表示的以下的氧化物基准含有30～45％Al2O3、50～65％SiO2的粘土质原料混匀、成形、烧结，再粉碎得到粒状耐火原料，对于该粒状耐火原料添加粒状的钾化合物，混匀、成形、烧结，从而制造浮抛槽底部用耐火砖的方法，其特征在于，控制所制造的浮抛槽底部用耐火砖中的K2O的含量为2～4％。
此外，本发明还提供浮抛槽底部用耐火砖，其特征在于，浮抛槽底部用耐火砖的组成以质量百分比表示的以下的氧化物基准含有30～45％的Al2O3、50～65％的SiO2、1％以下的Na2O和2～4质量％的K2O。
此外，本发明还提供如前所述的浮抛槽底部用耐火砖，其特征在于，方英石的结晶相在10％以下。
此外，本发明还提供如前所述的浮抛槽底部用耐火砖，其特征在于，富铝红柱石的结晶相在20％以上。
此外，本发明还提供将前述砖用于浮抛槽底部的浮抛槽。
此外，本发明还提供使用前述浮抛槽的平板玻璃的制造方法。
通过本发明制造的浮抛槽底部用耐火砖具有富含K2O的玻璃相。由此，通过锡浴从耐火砖的表面侵入内部的玻璃中的Na2O的侵入得到抑制，霞石的生成得到抑制。另外，该玻璃相吸收生成的霞石变质相的体积膨胀，抑制片状剥落现象。因此，可以延长使用前述浮抛槽底部用耐火砖的浮抛槽的寿命。此外，通过使用前述浮抛槽的平板玻璃制造方法，伴随片状剥落的玻璃缺陷(损伤)变少，可以获得品质和成品率的提高。
附图的简单说明
图1为将例1的成形体在1300℃烧结后的X射线衍射测定结果图。
图2为将例1的成形体在1350℃烧结后的X射线衍射测定结果图。
图3为将例1的成形体在1300℃烧结后的各结晶相的构成比例图。
图4为将例1的成形体在1350℃烧结后的各结晶相的构成比例图。
图5为将例2的成形体在1300℃烧结后的X射线衍射测定结果图。
图6为将例2的成形体在1350℃烧结后的X射线衍射测定结果图。
图7为将例2的成形体在1300℃烧结后的各结晶相的构成比例图。
图8为将例2的成形体在1350℃烧结后的各结晶相的构成比例图。
实施发明的最佳方式
作为本发明的浮抛槽底部用耐火砖的原料，使用以质量百分比表示的以下的氧化物基准含有30～45％Al2O3、50～65％SiO2的粘土质原料。对于浮抛槽底部用耐火砖，为了减少扩散于锡浴中的玻璃的钠成分的侵入，使用Na2O的含量在1％以下的粘土质原料。另外，本发明的组成说明中，没有特别说明的情况下，％的标记表示质量％。
本发明的作为K2O源的添加剂可以使用各种钾化合物，由于价格较低且容易获得，因此较好是使用碳酸钾。若K2O的含量不到2质量％，则方英石的构成比例高，难以抑制通过锡浴向耐火砖侵入的玻璃中的Na2O的侵入速度，难以防止片状剥落现象，是不理想的。另一方面，若K2O的含量超过4质量％，则烧结后的富铝红柱石相少，玻璃相相应增加，存在损害耐火砖的高温物性的倾向，是不理想的。
作为使用含有30～45％Al2O3和50～65％SiO2、Na2O的含量在1％以下的粘土质原料，添加钾化合物，使所制造的浮抛槽底部用耐火砖中的K2O的含量为2～4％的具体方法，可以例举以下的方法等：对于上述含有30～45％Al2O3、50～65％SiO2的粘土质原料添加作为K2O源的钾化合物，将这些原料混匀、成形、烧结，再粉碎得到粒状耐火原料，将该粒状耐火原料混匀，成形为所需的浮抛槽底部用耐火砖的形状，再进行烧结，从而制造浮抛槽底部用耐火砖的方法(以下称为第1制造方法)；或者，对于上述含有30～45％Al2O3、50～65％SiO2的粘土质原料，添加粒状的钾化合物，混匀，成形为所需的浮抛槽底部用耐火砖的形状，再进行烧结，从而制造浮抛槽底部用耐火砖的方法(以下称为第2制造方法)。但是，并不局限于这些方法。
另外，粘土质原料中含有一定量的K2O的情况下，考虑到所含的K2O的含有比例进行调整，添加钾化合物，使所制造的浮抛槽底部用耐火砖中的K2O的含量为2～4％。
浮抛槽底部用耐火砖表面上的与Na2O反应如前所述，通过使用含有2～4％K2O的原料，可以抑制该与Na2O的反应速度，但粒子的比表面积越大，其反应性越高。另一方面，浮抛槽底部用耐火砖通过将用于制造该砖的粒状耐火原料混匀、成形、烧结来制造，根据所制造的耐火砖的特性要求，通常粒状耐火原料使用粒径不到90μm的微粒部分为20～60％、粒径90μm～1mm的中粒部分为20～60％、粒径超过1mm的粗粒部分为20～60％的原料。使用该粒状耐火原料制造的浮抛槽底部用耐火砖中，通常由微粒部分构成的组织部分最容易受到扩散于锡浴中的玻璃的钠成分的侵入，容易发生侵蚀，中粒部分稍好，粗粒部分比较不易受到侵蚀。因此，特别是为了减少上述钠的侵入，较好是使用至少将粒状耐火原料中的粒径不到90μm的微粒部分的K2O的含量控制为2～4％、Na2O的含量控制在1％以下的原料。另外，更好是使用粒径不到90μm的微粒部分和粒径90μm～1mm的中粒部分中的K2O的含量控制为2～4％，Na2O的含量控制在1％以下的原料。此外，最好是使用粒径超过1mm的粗粒部分中的K2O和Na2O的含量为与上述同样比例的原料，即将所有构成粒子中的K2O的含量控制为2～4％，Na2O的含量控制在1％以下。这样通过将微粒部分以该原料构成的耐火砖用于浮抛槽底部，可以抑制其表面的霞石的生成速度，良好地防止片状剥落现象。
第1制造方法中，较好是在含有K2O源的粒状耐火原料混匀、成形、干燥后，将该成形体在1200℃～1400℃的温度范围内进行烧结。若以低于1200℃的温度烧结，则矿物相不稳定；另一方面，若以高于1400℃的温度烧结，则烧结后的富铝红柱石相少，具体即富铝红柱石结晶相的构成比例不到20％，玻璃相相应地过量增加，可能会损害耐火砖的高温物性。将该经烧结的成形体通过粉碎机粉碎，筛分为粒径超过1mm的粗粒、粒径90μm～1mm的中粒、粒径不到90μm的微粒。这样可以获得K2O的含量控制为2～4质量％的浮抛槽底部用耐火砖制造用的原料。接着，将该原料混匀，成形为所需的浮抛槽底部用耐火砖的形状，干燥，在1200℃～1400℃的温度范围内烧结，可获得浮抛槽底部用耐火砖。
第2制造方法中，将粘土质原料混匀、成形、烧结后，进行粉碎，对于得到的粒状耐火原料添加作为K2O源的粒状钾化合物的情况下，由于需要使作为K2O源的添加剂均一地分散在Al2O3-SiO2类粘土质原料中，因此其粒度较好是至少与原料的粒度相同。更理想的是，预先将作为K2O源的添加剂精细粉碎至比原料的微粒部分小的粒度，再与粘土质原料混合。
粘土质原料原来含有所需量的K2O的情况下，即使用以以下的氧化物基准含有30～45％的Al2O3、50～65％的SiO2、1％以下的Na2O和2～4％的K2O的粘土质原料，将制造的浮抛槽底部用耐火砖用于浮抛槽底部，也可以抑制其表面的霞石的生成速度，良好地防止片状剥落现象。
以以下的氧化物基准含有30～45％的Al2O3、50～65％的SiO2、1％以下的Na2O的浮抛槽底部用耐火砖中，如果方英石结晶相的构成比例超过10％，则意味着耐火砖中的玻璃相相对较少，变得难以通过玻璃相吸收由于与通过锡浴侵入耐火砖的玻璃中的Na2O的反应而生成于表面的霞石的体积膨胀，难以防止片状剥落现象，所以是不理想的。
在这里，方英石结晶相的构成比例以方英石的质量/(方英石的质量+富铝红柱石的质量)的百分比表示，方英石的质量、富铝红柱石的质量可以根据通过X射线衍射装置(θ/2θ法，Cu-Ka1线)测定的方英石、富铝红柱石的强度峰用事先测定的校正曲线求得。
采用X射线衍射装置的测定方法中，对粉末化的试样用粉末X射线衍射装置测定强度峰，预先根据事先制成的方英石和富铝红柱石的比例不同的5种试样的强度峰制成校正曲线，与其进行对比，求得构成比例。
另一方面，如果前述的浮抛槽底部用耐火砖中富铝红柱石结晶相的构成比例低于20％，则意味着耐火砖中的玻璃相相对较多，这时存在损害耐火砖的高温物性的倾向，因此是不理想的。
在这里，富铝红柱石结晶相的构成比例以富铝红柱石的质量/(方英石的质量+富铝红柱石的质量)的百分比表示，方英石的质量、富铝红柱石的质量通过前述的使用X射线衍射装置的方法进行测定。
通过油压压制等压制成形制造如浮抛槽底部用耐火砖等大型的砖时，在与加压方向垂直的平面方向可能会生成层状的缺陷(分层)。如果在该缺陷与浮抛槽中的玻璃平行的状态下用于浮抛槽底部，可能会进一步加剧片状剥落，即由于与通过锡浴侵入耐火砖的玻璃中的Na2O的反应生成的霞石因其体积膨胀而从耐火砖表面剥落。因此，考虑到该耐火砖在浮抛槽内的设置方向，压制成形时的加压方向较好是使可能产生分层的方向为与浮抛槽中的玻璃垂直的方向。
为了满足作为结构体的机械强度等，以任意方法制造的浮抛槽底部用耐火砖较好是气孔率在15～20％的范围内，体积比重在2.1～2.3的范围内，压缩强度在30～70MPa的范围内。
此外，使用上述的浮抛槽底部用耐火砖的平板玻璃制造用浮抛槽可以抑制浮抛槽底部用耐火砖的片状剥落的发生，即可以延长浮抛槽底部用耐火砖的寿命，到停止浮抛槽来更换浮抛槽底部用耐火砖为止的期限得到延长，所以浮抛槽的效率提高，而且对于运转期间的更换费用控制得相对较低。
此外，通过采用使用上述的浮抛槽底部用耐火砖的浮抛槽的玻璃制造方法，伴随片状剥落的玻璃缺陷(损伤)变少，品质提升，成品率也提高。因此，玻璃的制造费用控制得较低。
实施例
以下，例举实施例和比较例，对本发明进行更具体的说明。
另外，X射线衍射的测定方法通过飞利浦公司制X Pert-MPD(θ/2θ法，Cu-Ka1线)以粉末作为试样进行测定。事先测定富铝红柱石和方英石的比例为100∶0、75∶25、50∶50、25∶75、0∶100的5种试样，由比例和X射线衍射峰强度求得校正曲线。
例1、2中使用的Al2O3-SiO2类原料的质量百分比表示的各氧化物基准的化学分析值示于表1。原料A的粘土质原料含有1.1质量％K2O，原料B的粘土质原料含有0.3质量％K2O。
[表1]
  原料A   原料B
  SiO2   56.3   62.2
  Al2O3   40.0   33.6
  Fe2O3   1.4   1.1
  TiO2   0.6   1.9
  CaO   0.1   0.3
  MgO   0.5   0.3
  Na2O   0.0   0.1
  K2O   1.1   0.3
  100   100
(例1)
分别对于10g原料A的粘土质原料，添加作为K2O源的碳酸钾到原料A中，使混合后以K2O质量％换算为未添加(1.1％)、2％、3％、4％。在这里，未添加的作为试样1(比较例1)，2％添加的作为试样2(实施例1)，3％添加的作为试样3(实施例1)，4％添加的作为试样4(实施例1)。碳酸钾预先用乳钵粉碎后使用。混匀用乳钵进行。将混匀后的原料加入到模具中，使用挤压机，成形为颗粒状。成形体在1300℃烧结24小时。
将该烧结体粉碎呈粒状后，将该粒状耐火原料混匀，成形为所需的浮抛槽底部耐火砖形状的2个成形体后，进行干燥，分别在1300℃和1350℃进行烧结，得到2种浮抛槽底部耐火砖。上述粒状耐火原料中的粒径不到90μm的微粒部分为30％，粒径90μm～1mm的中粒部分为30％，粒径超过1mm的粗粒部分为40％。这时所制成的砖的组成与原料相同。
对于得到的浮抛槽底部耐火砖的试验片进行X射线衍射测定而得到的结果和各结晶相的构成比例示于图1、图2、图3、图4。图1表示将成形体在1300℃烧结后的试验片的X射线衍射测定结果图，图2表示将成形体在1350℃烧结后的试验片的X射线衍射测定结果图。图3表示将成形体在1300℃烧结后的试验片的各结晶相的构成比例，图4表示将成形体在1350℃烧结后的试验片的各结晶相的构成比例。纵轴为各结晶的峰强度，横轴为K2O的质量％。
由图1、图2可知，与碳酸钾未添加(方英石结晶相的构成比例为11％)的情况(比较例1)相比，确认随着K2O的换算质量％按2％、3％、4％(实施例1)增加，方英石和石英(Quartz)的比例峰强度下降。此外，确认方英石结晶相的构成比例也不断减少。这些现象表明富含K2O的玻璃相增加，由此浮抛槽底部所使用的耐火砖的表面的与Na2O的反应得到抑制。
此外，由图3、图4可知，未添加的情况(比较例1)下，方英石结晶相的构成比例超过10％，添加碳酸钾而K2O的质量％为2％、3％、4％的情况(实施例1)下，方英石结晶相的构成比例不到10％。
因此，可以推断实施例1的浮抛槽底部耐火砖能够抑制片状剥落现象。
(例2)
按照与例1同样的方法，分别对于10g粘土质原料B添加作为K2O源的碳酸钾，使混合后以K2O质量％换算为0.3％(未添加)、2％、3％、4％、6％。在这里，未添加的作为试样5(比较例2)，2％添加的作为试样6(实施例2)，3％添加的作为试样7(实施例2)，4％添加的作为试样8(实施例2)，6％添加的作为试样9(比较例3)。碳酸钾预先用乳钵粉碎后使用。混匀用乳钵进行。将混匀后的原料加入到模具中，使用挤压机，成形为颗粒状。成形体在1300℃烧结24小时。
将该烧结体粉碎呈粒状后，将该粒状耐火原料混匀，成形为所需的浮抛槽底部耐火砖形状的2个成形体后，进行干燥，分别在1300℃和1350℃进行烧结，得到2种浮抛槽底部耐火砖。上述粒状耐火原料中的粒径不到90μm的微粒部分为30％，粒径90μm～1mm的中粒部分为30％，粒径超过1mm的粗粒部分为40％。这时所制成的砖的组成与原料相同。
对于得到的浮抛槽底部耐火砖的试验片进行X射线衍射测定而得到的结果和各结晶相的构成比例示于图5、图6、图7、图8。图5表示将成形体在1300℃烧结后的试验片的X射线衍射测定结果图，图6表示将成形体在1350℃烧结后的试验片的X射线衍射测定结果图。图7表示将成形体在1300℃烧结后的试验片的各结晶相的构成比例，图8表示将成形体在1350℃烧结后的试验片的各结晶相的构成比例。纵轴为各结晶的构成比例，横轴为K2O的质量％。
确认例2的碳酸钾未添加时(比较例2)的方英石和石英(Quartz)的峰强度比例1更高。这表明耐火砖中的玻璃相少，因此无法抑制浮抛槽底部所使用的耐火砖的表面的与Na2O的反应。如果在其中添加碳酸钾而使混合后以K2O质量％换算为2％、3％、4％、6％后进行烧结，2％、3％、4％(实施例2)的情况下，方英石和石英的峰强度减少，例1所记载的与Na2O的反应得到抑制。如果添加碳酸钾而使混合后以K2O质量％换算达到6％(比较例3)后进行烧结，则富铝红柱石的峰强度显著减小，如图7、图8所示，富铝红柱石比例显著减小至20％以下。即，形成玻璃相过剩的状态，耐火砖的高温物性可能受损。因此，可以推断实施例2的浮抛槽底部耐火砖能够抑制片状剥落现象。
产业上利用的可能性
本发明抑制片状剥落现象的效果高，因此可用于制造浮抛槽底部用耐火砖。
另外，在这里引用2004年11月9日提出申请的日本专利申请2004-325473号的说明书、权利要求书、附图和摘要的所有内容作为本发明说明书的揭示。

Claims (12)

1.浮抛槽底部用耐火砖的制造方法，其特征在于，对于以质量百分比表示的以下的氧化物基准含有30～45％Al2O3、50～65％SiO2的粘土质原料，添加钾化合物进行烧结。
2.浮抛槽底部用耐火砖的制造方法，它是使用以质量百分比表示的以下的氧化物基准含有30～45％Al2O3和50～65％SiO2、Na2O的含量在1％以下的粘土质原料来制造浮抛槽底部用耐火砖的方法，其特征在于，添加钾化合物，使所制造的浮抛槽底部用耐火砖中的K2O的含量为2～4％。
3.如权利要求1所述的浮抛槽底部用耐火砖的制造方法，它是对于以质量百分比表示的以下的氧化物基准含有30～45％Al2O3、50～65％SiO2的粘土质原料添加钾化合物，将这些原料混匀、成形、烧结，再粉碎得到粒状耐火原料，将该粒状耐火原料混匀、成形为所需的浮抛槽底部用耐火砖的形状，再进行烧结而制得浮抛槽底部用耐火砖的方法，其特征在于，将前述粒状耐火原料中的粒径不到90μm的微粒部分的K2O的含量控制为2～4％，Na2O的含量控制在1％以下。
4.如权利要求3所述的浮抛槽底部用耐火砖的制造方法，其特征在于，相对于前述粒状耐火原料，含有2～4％的K2O、1％以下的Na2O的粒径不到90μm的微粒部分的含量为20～60质量％。
5.如权利要求3所述的浮抛槽底部用耐火砖的制造方法，其特征在于，以质量百分比表示的以下的氧化物基准，前述粒状耐火原料中，粒径90μm～1mm的中粒部分和粒径不到90μm的微粒部分中的K2O的含量控制为2～4％，Na2O的含量控制在1％以下。
6.如权利要求5所述的浮抛槽底部用耐火砖的制造方法，其特征在于，相对于前述粒状耐火原料，粒径90μm～1mm的中粒部分的含量为20～60质量％。
7.如权利要求1所述的浮抛槽底部用耐火砖的制造方法，它是将以质量百分比表示的以下的氧化物基准含有30～45％Al2O3、50～65％SiO2的粘土质原料混匀、成形、烧结，再粉碎得到粒状耐火原料，对于该粒状耐火原料添加粒状的钾化合物，混匀、成形为所需的浮抛槽底部用耐火砖的形状，再进行烧结而制得浮抛槽底部用耐火砖的方法，其特征在于，控制所制造的浮抛槽底部用耐火砖中的K2O的含量为2～4％。
8.浮抛槽底部用耐火砖，其特征在于，浮抛槽底部用耐火砖的组成以质量百分比表示的以下的氧化物基准含有30～45％的Al2O3、50～65％的SiO2、1％以下的Na2O和2～4％的K2O。
9.如权利要求8所述的浮抛槽底部用耐火砖，其特征在于，方英石的结晶相在10％以下。
10.如权利要求8或9所述的浮抛槽底部用耐火砖，其特征在于，富铝红柱石的结晶相在20％以上。
11.浮抛槽，将权利要求8～10中任一项所述的砖用于浮抛槽底部。
12.平板玻璃的制造方法，其特征在于，使用权利要求11所述的浮抛槽。
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