CN100509823C - 制备有机硅烷的方法 - Google Patents
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- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 title claims abstract description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 17
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 15
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 11
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 9
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 claims description 9
- -1 Phenyl Chemical group 0.000 claims description 8
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- UWGIJJRGSGDBFJ-UHFFFAOYSA-N dichloromethylsilane Chemical compound [SiH3]C(Cl)Cl UWGIJJRGSGDBFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 8
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 150000005826 halohydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 5
- RAABOESOVLLHRU-UHFFFAOYSA-N diazene Chemical compound N=N RAABOESOVLLHRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910000071 diazene Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 abstract 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 abstract 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 abstract 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 6
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 5
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N disilane Chemical compound [SiH3][SiH3] PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 description 3
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- RUGHUJBHQWALKM-UHFFFAOYSA-N 1,2,2-triphenylethylbenzene Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RUGHUJBHQWALKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWUWMCYKGHVNAV-UHFFFAOYSA-N 1,2-dihydrostilbene Chemical compound C=1C=CC=CC=1CCC1=CC=CC=C1 QWUWMCYKGHVNAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006017 1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006043 5-hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRTZUGVCMRMANY-UHFFFAOYSA-N CCCCCC.C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 Chemical compound CCCCCC.C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 XRTZUGVCMRMANY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYRWZUOIHYWCBJ-UHFFFAOYSA-N CN(C)C.[SiH3][SiH3].[Cl+].[Cl+].[Cl+] Chemical compound CN(C)C.[SiH3][SiH3].[Cl+].[Cl+].[Cl+] AYRWZUOIHYWCBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000027418 Wounds and injury Diseases 0.000 description 1
- DESGIDRJCLIWRS-UHFFFAOYSA-N [SiH]Cl Chemical compound [SiH]Cl DESGIDRJCLIWRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005024 alkenyl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005018 aryl alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 1
- QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)Cl QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 1
- 125000000058 cyclopentadienyl group Chemical group C1(=CC=CC1)* 0.000 description 1
- 125000002433 cyclopentenyl group Chemical group C1(=CCCC1)* 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- UVQGVNLXTFRLNL-UHFFFAOYSA-N dicyclohexyldiazene Chemical compound C1CCCCC1N=NC1CCCCC1 UVQGVNLXTFRLNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- GKCPCPKXFGQXGS-UHFFFAOYSA-N ditert-butyldiazene Chemical compound CC(C)(C)N=NC(C)(C)C GKCPCPKXFGQXGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N endo-cyclopentadiene Natural products C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 208000014674 injury Diseases 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000001367 organochlorosilanes Chemical class 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000002769 thiazolinyl group Chemical group 0.000 description 1
- VIPCDVWYAADTGR-UHFFFAOYSA-N trimethyl(methylsilyl)silane Chemical compound C[SiH2][Si](C)(C)C VIPCDVWYAADTGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007306 turnover Effects 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/121—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20
- C07F7/122—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-C linkages
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Abstract
本发明涉及一种制备通式1有机硅烷的方法R3Si-R’ (1)其中通式2的氢硅烷R3Si-H (2)与通式3的卤代烃在有选自烷烃、二氮烯和有机二硅烷的自由基引发剂存在的情况下反应R’-X (3)其中R为单价C1-C18烃基、氢或卤素，R’为单价C1-C18烃基及X为卤素。
Description
技术领域
本发明涉及一种由氢硅烷和卤代烃在自由基引发剂存在下制备有机硅烷的方法。
背景技术
氢硅烷中的氢被烃基置换的方法已公知。
氢硅烷与卤代烃的热诱导反应及在有催化剂存在的情况下的反应记载于例如Organohalosilanes，R.J.H.Voorhoeve，ElsevierPublishing Company，1967，40-48页。
热引发在由氯苯和三氯硅烷或二氯甲基硅烷制备苯基三氯硅烷或苯基甲基二氯硅烷中有更重大的意义。其不利之处在于低温下本方法得到的转换率较低而高温下得到的不想要的副产物比例过高。苯基三氯硅烷和苯基甲基二氯硅烷被用于制备有机聚硅氧烷。
第2132569号德国专利揭示了此类反应可由适当辐射/电磁波引发。
化学摘要84：44345e进一步揭示有机氯硅烷由含氯的芳香物与氢-或有机氢氯硅烷以及作为催化剂的六氯二硅烷反应制得。不利之处在于其所用六氯二硅烷制备成本高且不方便。
本发明的目标在提供一种制备具高空间-时间产率的有机硅烷的方法，该方法所生成的不想要的副产物很少、因碳化和腐蚀对反应器所致的伤害低且避免了在先技术的缺点。
发明内容
本发明提供一种制备通式1有机硅烷的方法
R3Si-R’ (1)
其中通式2的氢硅烷
R3Si-H (2)
与通式3的卤代烃在有选自烷烃、二氮烯和有机二硅烷的自由基引发剂存在的情况下反应，
R’-X (3)
其中
R为单价C1-C18烃基、氢或卤素，
R’为单价C1-C18烃基及
X为卤素。
优选使用在600℃以下3至30秒内、特别是5至15秒内分解的自由基引发剂。
所用的自由基引发剂优选为通式4的烷烃，
其中
R1至R6各自可为烷基或
R1和R4各自可为苯基且R2、R3、R5和R6各自可为氢或烷基或
R1和R4各自可为苯基且R2和R5各自可为苯基或烷基及R3和R6各自可为三烷基硅氧基或
R1、R2、R4和R5各自可为苯基且R3和R6各自可为氢、烷基或三烷基硅氧基，
或通式5的二氮烯
R7-N＝N-R8 (5)
其中R7和R8各自可为C1-C18烃基，
或通式6的有机二硅烷
R9 3Si-SiR3 10 (6)
其中R9和R10各自可为卤素或C1-C18烃基。
该范围内优选的烷基为C1-C6烷基，特别是甲基、乙基或正丙基，优选的三烷基硅氧基为三甲基硅氧基。
R7和R8优选为烷基、芳基或芳烷基。
R9和R10优选为C1-C6烷基，特别是甲基、乙基，或者是氯。
在使用1，2-二苯基乙烷、2，3-二苯基-2，3-二甲基丁烷、1，1，2，2-四苯基乙烷、3，4-二甲基-3，4-二苯基己烷、二环己基二氮烯和二叔丁基二氮烯时，可获得特别好的结果。
R基优选为苯基或C1-C6烷基，特别是甲基或乙基；或者是氯或氢。
R’基优选具有C＝C双键。R’基优选为具有2至6个碳原子的烯基，如乙烯基、烯丙基、甲代烯丙基、1-丙烯基、5-己烯基、乙炔基，丁二烯基、己二烯基、环戊烯基、环戊二烯基、环己烯基，优选为乙烯基和烯丙基；芳基，如苯基；烷芳基、芳烷基、烯基芳基或芳基烯基；苯基烯基。
定义为卤素的X和R优选为氟、氯和溴，特别是氯。
特别地，苯基三氯硅烷和苯基甲基二氯硅烷由通式2的相应氢硅烷通过与氯苯反应制备。
在本发明方法的优选实施方案中，在由氯苯与二氯甲基硅烷反应制备苯基甲基二氯硅烷时，源自二氯二甲基硅烷Rochow合成(W.Noll，硅树脂的化学与技术，学术出版社公司，奥兰多1968，26-28页)蒸馏残渣的组成约为(CH3)2.6Si2Cl3.4的高沸点馏分用作有机二硅烷成份。除主成份三甲基三氯二硅烷和二甲基四氯硅烷外，还存在少量的四甲基二硅烷、二甲基二氯硅烷和沸点范围为150至160℃内的相应硅氧烷。该混合物下文称为可裂二硅烷。
本发明方法优选在300至600℃范围内的温度下实施。优选将氯苯与三氯硅烷或二氯甲基硅烷以摩尔比4：1至1：4反应，特别是1.5：1.0至3.0：1.0反应。基于所用的氯苯和三氯硅烷或二氯甲基硅烷的混合物，作为自由基引发剂的烷烃或二氮烯的使用量优选为0.005至3重量％，特别是自0.01至0.5重量％。当有机二硅烷，特别是可裂二硅烷作为自由基引发剂应用时，基于所用的氯苯和三氯硅烷或二氯甲基硅烷的混合物，优选使用1至15重量％，特别是2至10重量％。
优选在环境大气压、即约1020百帕下实施本发明方法。然而，在需要时也可采用更高的压力。
本发明方法优选在钢制管状反应器中实施，优选以蒸气形式进料通式2的氢硅烷和通式3的卤代烃的混合物，优选为氯苯和三氯硅烷或二氯甲基硅烷的混合物以及自由基引发剂。为此目的，液体成份经过蒸发器，其蒸气随后由热交换器中通过，从而以近似反应温度进入反应器区域。此种布置进一步确保非挥发性引发剂也被送入反应器中。在优选的具体实施方案中，在室温下为固体的自由基引发剂以氯苯溶液的形式应用。反应混合物在反应器中的停留时间优选为2至80秒，特别是5至50秒。
上述通式的全部上述符号各自独立地定义。
具体实施方案
在下述的实拖例中，除非在各例中另有说明，所有量和百分比数据都基于重量，所有压力都是0.10百万帕(绝对)及所有温度都为20℃。
实施例
实施例1至10
在钢制管状反应器中，所述的定量比值的氯苯和三氯硅烷(实施例1至7，表1)或二氯甲基硅烷(实施例8至10，表2)及在各例中特定的自由基引发剂以蒸汽形式进料。该成份通过蒸发器，蒸气随后通过热交换器，从而以接近反应温度进入反应区域。停留时间为5秒。
实施例11-12
在钢制的管状反应器中，以蒸汽形式进料摩尔比值2：1的氯苯和三氯硅烷，并且，在实施例11中，另外以一定量使用含1，2-二苯基乙烷的10％氯苯溶液，使三氯硅烷和氯苯的混合物含有0.02重量％的该自由基引发剂。
该成份通过蒸发器，蒸气随后通过热交换器，从而以接近反应温度进入反应区域。停留时间为20秒，温度为550℃。
实施例11
反应混合物含有33.04重量％的苯基三氯硅烷；不想要的副产物/目标产物的比值为0.41。
实施例12(非本发明，无自由基引发剂)
反应混合物含有22.17重量％的苯基三氯硅烷；不想要的副产物/目标产物的比值为0.48。
Claims (5)
1、一种制备通式1有机硅烷的方法
R3Si-R＇ (1)
其中通式2的氢硅烷
R3Si-H (2)
与通式3的卤代烃在有选自通式4的烷烃和通式5的二氮烯的自由基引发剂存在的情况下反应，
R＇-X (3)
R7-N＝N-R8 (5)
其中
R为单价C1-C18烃基、氢或卤素，
R＇为单价C1-C18烃基及
X为卤素，
R1至R6各自为烷基或
R1和R4各自为苯基且R2、R3、R5和R6各自为氢或烷基或
R1、R2、R4和R5各自为苯基且R3和R6各自为氢或烷基，
R7和R8各自为C1-C18烃基。
2、如权利要求1所述的方法，其中使用在600℃以下于3至30秒内分解的自由基引发剂。
3、如权利要求1或2所述的方法，其中制备苯基三氯硅烷或苯基甲基二氯硅烷。
4、如权利要求3所述的方法，其中氯苯与三氯硅烷或二氯甲基硅烷以摩尔比为4∶1至1∶4反应。
5、如权利要求3所述的方法，其中反应在300至600℃范围内的温度下实施。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE10349286.0 | 2003-10-23 | ||
| DE10349286A DE10349286A1 (de) | 2003-10-23 | 2003-10-23 | Verfahren zur Herstellung von Organosilanen |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN1637003A CN1637003A (zh) | 2005-07-13 |
| CN100509823C true CN100509823C (zh) | 2009-07-08 |
Family
ID=34484929
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CNB2004100859295A Expired - Fee Related CN100509823C (zh) | 2003-10-23 | 2004-10-25 | 制备有机硅烷的方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7211683B2 (zh) |
| JP (1) | JP4177316B2 (zh) |
| CN (1) | CN100509823C (zh) |
| DE (1) | DE10349286A1 (zh) |
| RU (1) | RU2280646C2 (zh) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102009046121A1 (de) | 2009-10-28 | 2011-05-05 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von Organosilanen |
| CN102443021A (zh) * | 2010-09-30 | 2012-05-09 | 浙江开化合成材料有限公司 | 一种苯基氯硅烷的热缩合生产方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2132569C3 (de) | 1970-07-04 | 1975-06-12 | Boris Iosifowitsch Wainstein | Verfahren zur Herstellung von Organochlorsilanen |
| SU491641A1 (zh) * | 1973-12-17 | 1975-11-15 | ||
| DE4431995A1 (de) * | 1994-09-08 | 1996-03-14 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von wasserstoffhaltigen Methylchlorsilanen |
| DE19919337C1 (de) * | 1999-04-27 | 2000-05-18 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Organochlorsilanen |
-
2003
- 2003-10-23 DE DE10349286A patent/DE10349286A1/de not_active Withdrawn
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2004
- 2004-10-20 JP JP2004306121A patent/JP4177316B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2004-10-22 RU RU2004130930/04A patent/RU2280646C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2004-10-22 US US10/971,811 patent/US7211683B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2004-10-25 CN CNB2004100859295A patent/CN100509823C/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE10349286A1 (de) | 2005-05-25 |
| JP4177316B2 (ja) | 2008-11-05 |
| US20050137413A1 (en) | 2005-06-23 |
| US7211683B2 (en) | 2007-05-01 |
| RU2004130930A (ru) | 2006-04-10 |
| JP2005126435A (ja) | 2005-05-19 |
| CN1637003A (zh) | 2005-07-13 |
| RU2280646C2 (ru) | 2006-07-27 |
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